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JPS607636B2 - N−アシルアミノ−α−アリ−ルアセトアミド セフアロスポリン類の製法 - Google Patents

N−アシルアミノ−α−アリ−ルアセトアミド セフアロスポリン類の製法

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JPS607636B2
JPS607636B2 JP6259377A JP6259377A JPS607636B2 JP S607636 B2 JPS607636 B2 JP S607636B2 JP 6259377 A JP6259377 A JP 6259377A JP 6259377 A JP6259377 A JP 6259377A JP S607636 B2 JPS607636 B2 JP S607636B2
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acid
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JP6259377A
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博忠 山田
廣作 岡村
久雄 戸引
紀彦 丹野
孝三 島児
孟也 中込
敏昭 小松
昭雄 井沢
浩 野口
健二 入江
靖子 江田
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Sumitomo Chemical Co Ltd
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Sumitomo Chemical Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規なセフアロスポリン類の製法に関し、詳し
くは下記一般式(1)(式中、Aはピリジン環を示し、
HO−A一はこのピリジン環に水酸基が置換されている
ことを表わす。
Aで表わされたピリジン壕はさらに低級アルキル基で置
換されていてもよい。Rは水酸基置換フェニル基を、H
etは無置換または炭素数1〜4の低級アルキル基で置
換された1・3・4ーチアジァゾール基を表わす)で示
される新規なセフアロスポリン類およびその非毒性塩の
製法に関する。
さらに、一般式(1)の構造について詳述する。
一般式(1)において、Aはピリジン環を示し「HO−
A−とは、ピリジン環に水酸基が置換されていることを
表わし、このピリジン環は低級アルキル基で置換されて
いてもよい。
また、一般式(1)において、Hetは、無置換または
炭素数1〜4の低級アルキル基置換の1・314ーチア
ジアゾールをあらわす。
前記一般式(1)の非議性塩の例として、たとえばナト
リウ塩、カリウム塩「カルシウム塩、マグネシウム塩、
トリェチルアミン塩、ジェタノールアミン塩、モルホリ
ン塩、プロカイン塩、L−アルギニン塩、Lーリジン塩
などがあげられる。
一般式(1)における7位側鎖のQ−炭素(フェニルグ
リ′シン部分)は不斉炭素原子である。従って光学的に
活性な二つの異性体が存在する。本発明はこれら二つの
異性体(DージアステレオマーとL−ジァステレオマー
)及び、DL一体を包含するが好ましい化合物はD一体
である。現在、グラム陽性菌あるいはグラム陰性菌によ
る感染症の治療薬として、セフアロチン、セフアゾリン
のようなセフアロスポリン系化合物がひじように有効で
あり、広く用いられている。
しかしこれらのセフアロスポリン系化合物は近年増加し
つつあり、しかもいよいよ難治性疾患であるところの緑
膿菌感染症に対しては無効である。緑膿菌感染症に有効
なセフアロスポリン化合物はいまだ市販されていない。
本発明によって得られる一般式(1)で示される新規な
化合物はグラム腸性菌、およびグラム陰性菌に対して強
力な抗菌活性を有し、しかも緑膿菌、インドール腸性プ
ロテゥス菌、ェンテロバクタ−ェロゲネス菌、セラチア
菌といったこれまでのセフアロスポリン系化合物がほと
んど無効であった菌に対しても強力な抗菌活性を有して
いる。さらに、一般式(1)のフヱニル環に少なくとも
1つの水酸基で置換された化合物は置換基のない化合物
に比べて、血中濃度の上昇、尿中排他の増加等、生体内
挙動を著しく増加させ副作用の少ない、人、家きん、家
畜を含む動物における感染症に対する治療剤としてきわ
めて価値ある化合物である。本発明の目的はかかる有用
な新規セファロスポリン系化合物の合成法を提供するこ
とにある。
次にこの新規なセフアロスポリン類の製法について詳述
する。すなわち本発明は一般式(0)HO−A−COO
日(0)(式中、Aは前述に同じ) で表わされるカルボン酸またはその反応性誘導体と一般
式(m)(式中、R、×は−OCOCH3または無置換
または炭素数1〜4の低級アルキル基で置換された1・
3・4ーチアジアゾール基を表わす)で表わされる化合
物、またはその塩、またはその誘導体と反応させること
を特徴とする一般式(1>(式中、A、R、Xは前述に
同じ) で表わされる化合物またはその非議性塩の製法であり、
×が一OCOCH3であるときは、さらにHS−Het
(Hetは前述に同じ)を作用させて×を−S−Het
に変換させることも包含する。
さらに詳述すれば一般式(□)と(m)の反応に使用さ
れる不活性な溶媒としては、ジクロルメタン、クロロホ
ルム、アセトン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ア
セトニトリル、メチルイソブチルケトン、エチルアルコ
ールおよびジメチルホルムアミドといった極性溶媒また
はベンゼン、トルェン、石油エーテル、n−へキサンと
いった非極性溶媒またはそれらの混合溶媒が使用される
場合によってはそれらの含水温合溶媒も使用することが
できる。一般式(ロ)の反応性誘導体は、カルボキシル
基の反応性誘導体を意味する。
たとえば、酸ハラィド、酸無水物、酸アゾリド、活性ェ
ステル、酸アジド等があげられる。さらにその一部を詳
述すればジアルキルリン酸、フェニルリン酸、ジフェニ
ルリン酸、ジベンジルリン酸、ハロゲン化リン酸、ジア
ルキル亜リン酸、硫酸、メタンスルホン酸、トルェンス
ルホン酸、ナフタレンスルホン酸、アルキル炭酸、脂肪
族カルボン酸(たとえばピバリン酸、ベンタン酸、ィソ
ベンタン酸、2−エチルブタン酸)、芳香族カルポン酸
の如き酸との混合酸無水物あるいは対称形酸無水物、あ
るいはィミダゾール、置換ィミダゾール、ジメチルピラ
ゾール、トリアゾール、テトラゾール等との酸アゾリド
、シアノメチルエステル、メトキシメチルエステル、ビ
ニルエステル、プロパルギルエステル、p−ニトロフエ
ニルエステル、2・4ージニトロフエニルエステル、ト
リクロルフエニルエステル、ベンタクロルフエニルエス
テル、メタンスルホニルフエニルエステル、フエニルア
ゾフエニルヱステル、フエニルチオフエニルエステル、
pーニトロフエニルチオエステル、/ぐラクレジルチオ
エステル、力ルポキシメチルチオエステル、ピラニルエ
ステル、ピリジルエステル、ピベリジルエステル、8−
キノリルチオエステル、またはN・N′−ジメチルヒド
ロキシルアミン、1−ヒドロキシ−2(IH)ーピリト
ン、NーヒドロキシサクシンイミドもしくはNーヒドロ
キシフタルィミドとのェステル等の如き活性ヱステル類
があげられる。又一般式(0)が遊離酸(もしくはその
塩)の状態で使用する際はたとえばN・N′ージシクロ
ヘキシルカルボジイミド、NーシクロヘキシルーN−モ
′レホリノエチルカルボジイミド、Nーシク。
へキシルーN−(4−ジエチルアミノシクロヘキシル)
力ルポジイミド、N・N′ージエチルカルポジイミド、
N・N′ージイソプロピルカルボジイミド、Nーエチル
ーN一(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド
、N・N′−カルボニルジ(2ーメチルイミダゾール)
、ベンタメチレンケテン−N−シクロヘキシルイミン、
ジフエニルケテン−N−シクロヘキシルイミン、アルコ
キシアセチレン、1−アルコキシ−1−クロルエチレン
、亜リン酸トリアルキルェステル、ポリリン酸エチルェ
ステル、ポリリン酸ィソプロピルェステル、オキシ塩化
リン、三塩化リン、塩化チオニル、オキサリルクロライ
ド、トリフエニルホスフイン、2ーエチルー7ーヒド0
キシベンズイソキサゾリウム塩、2−エチル−5−(m
−スルホニル)インキサゾ1′ゥムヒドロキサィト分子
内塩、(クロロメチレン)ジメチルアンモニウムクロラ
ィド等の結合剤の存在下に行なうことが有利である。こ
の様に一般にべプチド化学またはペニシリン、セフアロ
スポリン化学の分野において使用されるアミド化剤が本
発明では使用される。
一般式(m)の化合物の塩としては一般式(m)で表わ
される酸のナトリウム、カリウム、カルシウムといった
アルカリ金属もしくはアルカリ士類金属との塩、トリメ
チルアミン、トリェチルアミン、キノリン塩、コリジン
塩といった有機塩基との塩、トルェンスルホン酸、ナフ
タレンスルホン酸、テトラリンスルホン酸の如き有機ス
ルホン酸塩があげられ、一般式(m)の化合物の誘導体
としては、ェステル化、またはアミド化されたカルポキ
シル基、または無水物の形にあるカルボキシル基のよう
に保護されたカルポキシル誘導体があげられる。
保護されたカルボキシル誘導体はアシル化反応後容易に
分裂してカルボン酸を与えるような基、例えば酸性また
は弱アルカリ性媒質中で如溶媒分解、例えば加水分解ま
たはアルコーリシス、水素添加分解、還元、酸化、親核
的置換、光反応、または酵素反応によって遊離のカルポ
ン酸を与えるような基がのぞましい。そのような保護さ
れたカルボキシル基誘導体としては、シリルェステル、
有機スズェステル、トルェンスルホニルエチルエステル
、/ぐラニトロベンジルエステル、ベンジルエステル、
フエナシルエステル、2一フリルメチルエステル、ジフ
ヱニルメチルエステル、置換ジフェニルメチルェステル
・P−メトキシベンジルエステル、トリチルエステル、
ベンゾイルオキシメチルェステル、低級アルカノィルオ
キシメチルエステル、ジメチルメチレンアミノエステル
、/fラニトロフエニルヱステル、メチルスルホニルフ
エニルエステル、メチルチオフエニルエステル、t−ブ
チルエステル、4−ピコリルエステル、ヨードエチルエ
ステル、トリクロルヱチルエステル、フタルイミドメチ
ルエステル、3・4山ジメトキシ、または、3・5−ジ
メトキシベンジルオキシカルボニル基、2ーニトロベン
ジルオキシカルボニル基、2・2−ジニトロベンジルオ
キシカルボニル基、、アセチルオキシカルボニル基、ト
リクロルアセチルオキシカルボニル基、あるいは(R′
はアルキル、アリール基を示す)など、ベプチド化学の
分野あるいはペニシリン、セフアロスポリンの化学の分
野で使用されるカルボン酸の保護基があげられる。
またこれらの一般式(m)の譲導体の場合、その塩酸塩
、トルェンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸塩、テ
トラリンスルホン酸塩の如き塩も使用できる。またシリ
ルェステルの際にはシリル化することが可能な他の部位
則ち、水酸基、アミノ基等がシリル化されていてもよい
このような前述の如き一般式(0)で示される酸または
その反応性誘導体と一般式(m)で示される7ーアミノ
ーアシルアミドセフアロスポリン類またはその誘導体と
の反応温度は任意の温度で反応できるが、通常は50o
o以下で行なう。
また一般式(1)の他の製法としては次の方法があげら
れる。すなわち一般式(N)(式中、A、Rは前述に同
じ) で示されるアシルアミノカルボン酸またはその反応性誘
導体と一般式(V)(式中、×は前述に同じ) で示される化合物またはその誘導体とを反応させ×が−
OCOC比であるときは得られた化合物を式HS−He
t(Hetは前述に同じ)の異項環チオールと反応させ
て、一般式(1)を製造する方法である。
一般式(血)の化合物のあるものは既に公知である。
たとえば7一〔Qーアミノーアリールアセトアミド〕セ
フアロスボラン酸(アリール基として水酸基置換フェニ
ル基を示す)の特許としては日本特許公報昭46一23
071、カナダ国特許第87総6計旨明細書、米国特許
第3634416号明細書、日本公開特許公報昭50−
8208飴等‘こ記載されている。またセフアロスポリ
ンの3ーアセトキシ基が種々の求核試薬で置換され7−
ァミノ基が水酸基置換フェニルグリシル基でアシル化さ
れた化合物はたとえばオランダ国特許公開第70/05
51計号明細書(ファルマドック誌8018服)、米国
特許第3634416号明細書、米国特許第36344
18号明細書、日本公開特許公報昭47−12579、
日本公開特許公報昭49−31689、日本公開特許公
報昭49一54393、日本公開特許公報昭49−49
984に記載されている。次に本発明の態様を具体的に
実施例をもって説明するが、本発明は実施例のみに限定
されるものではない。
参考例 1 7一〔D−Q−(4ーヒドロキシピリジン−3ーカルボ
ンアミド)−Q一pーヒロキシフエニルアセトアミド〕
セフアロスポラン酸の製法7一〔D一Qーアミノ−Q一
pーヒドロキシフェニルアセトアミド〕セフアロスポラ
ン酸4.21夕、ジクロルメタン60の上、トリエチル
アミン2.02夕を氷冷下で櫨拝しつつ、4ーヒドロキ
シピリジン−3ーカルボン酸Nーヒドロキシサクシンィ
ミドエステル2.36夕、ジメチルホルムアミド30の
Zを加え、同温度で30分間燈拝した。
さらに室温で2時間蝿拝反応させた後ナトリウム2一エ
チルヘキサノェート1.66夕を加え、1び分後にジク
ロルメタン200の‘、エーテル100泌を加えて結晶
化させ、析出晶を炉取し、エーテルにて洗浄した。この
ものを水に溶解し、氷冷下鷹拝しつつ、洲−Hclにて
pH2とし、析出する結晶を炉取し、水洗後、五酸化リ
ン上減圧乾燥して2.1夕の掲題の化合物を得た。さら
にこの遊離酸をジメチルホルムアミド13私にとり、モ
ル比で1.1倍量のナトリウム2一エチルヘキサノヱー
トを加え、ジクロルメタン、アセトンを加えて結晶化さ
せて、掲題の化合物のナトリウム塩1.9夕を得た。実
施例 1 7一〔D一Q一(4ーヒドロキシピリジン一3−力ルボ
ンアミド)一Q一pーヒドロキシフエニルアセトアミド
〕一3一(2ーメチルー1.3・4−チアジアゾール−
5−イル)チオメチルー3−セフェム−4ーカルボン酸
の製法7一(D一Qーアミノ−Q一p−ヒドロキシフエ
ニルアセトアミド)一3一(2ーメチルー113・4ー
チアジアゾールー5ーイル)チオメチルー3ーセフェム
ー4−カルボン酸4.93夕、トリェチルアミン2.0
2夕、ジメチルホルムアミド80の‘を氷冷下で燈拝し
つつ、4−ヒドロキシピリジンー3−カルボン酸N−ヒ
ドロキシサクシンィミドェステル2.36夕を加え、同
温度で30分間婿拝した。
さらに室温で2時間燈梓反応させた後、ナトリウム2−
エチルヘキサノェート1.66夕を加え、10分後にア
セトン200柵、エーテルloo似を加えて結晶を析出
させた。結晶を炉取し、エーテルにて洗浄した。さらに
このケーキを水に溶解し、氷冷下が一日CIにてPH2
とし、析出する結晶を炉取し、水洗した後、五酸化リン
上減圧乾燥して、2.6夕の掲題の化合物を得た。さら
に参考例1と同様にしてナトリウム塩を得た。ナトリウ
ム塩の融点は225〜235oo(分解)であった。実
施例 2 7−(D−Q−アミノ−Q一p−ヒドロキシフエニルア
セトアミド)一3−(2−メチル−1.3・4−チアジ
アゾールー5ーイル)チオメチル−3ーセフェム−4−
カルボン酸4.93夕、トリェチルアミン2.02夕、
ジメチルスルホキシド80の‘を室温で欄拝し、4−ヒ
ドロキシピリジン−3ーカルボン酸−N−ヒドロキシサ
クシンイミドェステル2.36夕を加え、30分間燈拝
した。
反応液にナトリウム2−エチルヘキサノエート1.66
夕を加え、10分後にアセトン2.0夕に加え、結晶を
析出させた。結晶を炉取しアセトン、エーテルにて洗浄
後、五酸化リン上減圧乾燥して5.2夕の実施例1と同
一化合物のナトリウム塩を得た。実施例 3 7−〔D−Q一(4−ヒドロキシピリジンー3ーカルボ
キシアミド)一Q−(p−ヒドロキシフエニル)アセト
アミド〕一3−(2ーメチルー1・3・4−チアジアゾ
ール−5−イルチオメチル)−3ーセフェム−4ーカル
ボン酸の製法7−〔D一Q一(4ーヒドロキシピリジン
−3−力ルボキシアミド)一Q−(pーヒドロキシフェ
ニル)アセトアミド〕セフアロスポラン酸ナトリウム塩
0.564夕、2ーメチル−5−メルカプトー103・
4−チアジアゾール0.18夕、重曹0.10夕、pH
6.0リン酸緩衝液20奴の溶液を内溢60〜65℃で
7時間反応させた。
若干の不溶物を炉去し、炉液を氷冷し、州−HCIにて
PH2.0とした。析出晶を炉取し、水洗、ヱーテル洗
いした後、五酸化IJ上減圧乾燥して0.50夕の掲題
の化合物を得た。実施例 4実施例1と同様にして次の
化合物を合成した。
7一〔D−Q−(4−ヒドロキシ−6ーメチルピリジン
ー3−力ルボキシアミド)一Q−(p−ヒドロキシフエ
ニル)アセトアミド〕一3一(2−メチル一1・3・4
ーチアジアゾール−5ーイルチオメチル)−3ーセフェ
ムー4ーカルボン酸ナトリウム塩mP230〜23び○
(分解) 次に実施例化合物の抗菌試験結果を示す。
次に l 口 の九 声川′。
を不す。(注)スタフィロコッヵス・ァゥレゥスFS2
89は、ペニシリン耐性株CEG:セフアログリシンC
ET:セフアロチン CEZ:セフアゾリン

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 HO−A−COOH (式中、Aはピリジン環を示し、HO−A−はこのピリ
    ジン環に水酸基が置換されていることを表わす。 Aで表わされたピリジン環はさらに低級アルキル基で置
    換されていてもよい。)で示されるカルボン酸またはそ
    の反応性誘導体と一般式▲数式、化学式、表等がありま
    す▼(式中、Rは水酸基置換フエニル基を、Hetは、
    無置換または炭素数1〜4の低級アルキル基で置換され
    た1・3・4−チアジアゾール基を表わす。 )で示される化合物、またはその塩、またはその誘導体
    とを反応させることを特徴とする一般式▲数式、化学式
    、表等があります▼(式中、A、R、Hetは前述と同
    じ。 )で示されるN−アシルアミノ−α−アリールアセトア
    ミドセフアロスポリン類の製法。 2 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Aはピリジン環を示し、HO−A−はこのピリ
    ジン環に水酸基が置換されていることを表わす。 Aで表わされたピリジン環はさらに低級アルキル基で置
    換されていてもよい。Rは水酸基置換フエニル基を表わ
    す。)で示されるN−アシルアミノ−α−アリールアセ
    トアミドセフアロスポリンと一般式HS−Het (式中、−Hetは無置換または炭素数1〜4の低級ア
    ルキル基で置換された1・3・4−チアジアゾール基を
    表わす。 )のチオールとを反応させることを特徴とする一般式▲
    数式、化学式、表等があります▼ (式中、A、R、Hetは前述と同じ。 )で示されるN−アシルアミノ−α−アリールアセトア
    ミドセフアロスポリン類の製法。
JP6259377A 1977-05-26 1977-05-26 N−アシルアミノ−α−アリ−ルアセトアミド セフアロスポリン類の製法 Expired JPS607636B2 (ja)

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