JPS6058238A - 紫外線洗浄方法 - Google Patents
紫外線洗浄方法Info
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- JPS6058238A JPS6058238A JP58165149A JP16514983A JPS6058238A JP S6058238 A JPS6058238 A JP S6058238A JP 58165149 A JP58165149 A JP 58165149A JP 16514983 A JP16514983 A JP 16514983A JP S6058238 A JPS6058238 A JP S6058238A
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- Japan
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- cleaned
- ultraviolet
- ultraviolet rays
- chamber
- vibrators
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B7/00—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass
- B08B7/0035—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass by radiant energy, e.g. UV, laser, light beam or the like
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B7/00—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass
- B08B7/0035—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass by radiant energy, e.g. UV, laser, light beam or the like
- B08B7/0057—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass by radiant energy, e.g. UV, laser, light beam or the like by ultraviolet radiation
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は紫外線による洗浄方法に関するものである。
紫外線ラングより発生するオゾンを利用して汚染物を分
解洗浄することが行われているが、この紫外線う／ブ、
例えば低圧水、銀ラングを点灯する線が外部に放出され
、従として１８５ｎｍの紫外線が、更には他の波長のも
のがわずかに放出される。
解洗浄することが行われているが、この紫外線う／ブ、
例えば低圧水、銀ラングを点灯する線が外部に放出され
、従として１８５ｎｍの紫外線が、更には他の波長のも
のがわずかに放出される。
そして、波長１８５ ｎｍの紫外線によってオゾンが生
成し、次にこのオゾンが波長２５４ｎｍにより分解され
て発生基の酸素が生成し、この発生基の酸素が有機汚染
物を分解してカス状態で飛散させることが知られている
。
成し、次にこのオゾンが波長２５４ｎｍにより分解され
て発生基の酸素が生成し、この発生基の酸素が有機汚染
物を分解してカス状態で飛散させることが知られている
。
この紫外線洗浄方法は各種の被洗浄体に適用されるが、
その一つに水晶振動子がある。水晶振動子はその共鳴周
波数を利用して時間の基準を定めるものであり、いろい
ろな曲品に利用されているが、水晶振動子の表面が汚染
されると共鳴周波数に狂いが生じる。従ってその表面は
７Ｒ浄でなければならないが、紫外線で洗浄することに
より高い清浄度が得られ、また、後工程で蒸着される金
用膜の密着性を向上させることができる。
その一つに水晶振動子がある。水晶振動子はその共鳴周
波数を利用して時間の基準を定めるものであり、いろい
ろな曲品に利用されているが、水晶振動子の表面が汚染
されると共鳴周波数に狂いが生じる。従ってその表面は
７Ｒ浄でなければならないが、紫外線で洗浄することに
より高い清浄度が得られ、また、後工程で蒸着される金
用膜の密着性を向上させることができる。
ところで従来は、被洗浄体は金網やステンレス、マｎ−
５−１−もＬ″卯射餉ル上４昌１肴り好ｆｔ禍、叙り入
古持具で支持さ７していた。この様な支持具で支持され
ていても、紫外線ランプの照射室の上面に設置されＣ１
被洗浄体の上面のみを洗浄する場合はとくに支障はない
。しかし、被洗浄体の両面を洗浄する必委があるときは
、紫外線ランプが照射室の上面にのみ設置されていると
、−面を洗浄した後に反転して他面を洗浄しなければな
らず、操作が煩雑で、洗浄時間が長くなり、また反転操
作の最中に洗浄の終った一面が他面の汚染物などのため
に再び汚染されるなどの問題点がある。従って、紫外線
ランプを照射室の上下両面や左右両側面に設置して被洗
浄体の両面を同時に照射することが考えられるが、この
場合に支持具が前述の通りの紫外線を透過しない材質か
らなると、支持具をどの様な形状にしても、被洗浄体の
ある部分は支持具によって遮ぎられて紫外線が完全には
照射されず、その部分の洗浄が不完全となる不具合があ
った。
５−１−もＬ″卯射餉ル上４昌１肴り好ｆｔ禍、叙り入
古持具で支持さ７していた。この様な支持具で支持され
ていても、紫外線ランプの照射室の上面に設置されＣ１
被洗浄体の上面のみを洗浄する場合はとくに支障はない
。しかし、被洗浄体の両面を洗浄する必委があるときは
、紫外線ランプが照射室の上面にのみ設置されていると
、−面を洗浄した後に反転して他面を洗浄しなければな
らず、操作が煩雑で、洗浄時間が長くなり、また反転操
作の最中に洗浄の終った一面が他面の汚染物などのため
に再び汚染されるなどの問題点がある。従って、紫外線
ランプを照射室の上下両面や左右両側面に設置して被洗
浄体の両面を同時に照射することが考えられるが、この
場合に支持具が前述の通りの紫外線を透過しない材質か
らなると、支持具をどの様な形状にしても、被洗浄体の
ある部分は支持具によって遮ぎられて紫外線が完全には
照射されず、その部分の洗浄が不完全となる不具合があ
った。
そこで本発明は、被洗浄体の両面を確実に洗浄できる紫
外線洗浄方法を提供することを目的とし、その構成は、
紫外線ランプの光でオゾンを発生させ、このオゾンの分
解により生成される発生基の酸素により被洗浄体の表面
に付着する有機汚染物などを分解して洗浄する紫外線洗
浄方法であって、紫外線透過性物質よシなる支持具に支
持された被洗浄体に紫外線を照射する工程を含むことを
特徴とする。
外線洗浄方法を提供することを目的とし、その構成は、
紫外線ランプの光でオゾンを発生させ、このオゾンの分
解により生成される発生基の酸素により被洗浄体の表面
に付着する有機汚染物などを分解して洗浄する紫外線洗
浄方法であって、紫外線透過性物質よシなる支持具に支
持された被洗浄体に紫外線を照射する工程を含むことを
特徴とする。
以下に図面に基いて本発明の一実施例を具体的に説明す
る。
る。
第１図は本発明の実施例に使用される装置の断面図を示
すが、装置箱１には照射箱２が内蔵されて二重構造をな
し、発生したオゾンが外部に漏洩しないようになってい
る。照射箱２の内部が照射室６であるが、この照射室６
の上方と下方にはそれぞれ紫外線ランプ４としてＵ字状
の６５０Ｗ高出力低圧水銀灯が２本づつ配設されている
。上下の紫外線ランプ４の背後にはそれぞれミラー５が
配置され、紫外線ランプ４の光は上下両方から照射室５
の中央に向けて照射される。照射箱２の上面と下面には
冷却水路６が固着されて冷却されている。被洗浄体７は
直径７障程度の水晶振動子であり、支持具８上に多数配
列されて照射室６の中央部に支持されるが、支持具８は
石英ガラス製であシ、第２図に示す様に水晶振動子の大
きさに相応する孔８ａがあけられ、孔周縁の爪８ｂによ
って水晶振動子が支持される。支持具８の材質は石英ガ
ラスに限られるものではなく、サファイヤ、テフロン、
ＬｉＦ、ＭｇＦなどの如く紫外線を透過させる性質を有
するものであればよく、形状も図例に限られるものでは
なく、単に板状をなすものでもよい。そして照射箱２の
側方にけ酸素を含むガスを照射室５に供給する吸入孔９
と、内部のガスを分解された汚染物とともに排出する排
気孔１０解室で処理された後に大気中に放出される。
すが、装置箱１には照射箱２が内蔵されて二重構造をな
し、発生したオゾンが外部に漏洩しないようになってい
る。照射箱２の内部が照射室６であるが、この照射室６
の上方と下方にはそれぞれ紫外線ランプ４としてＵ字状
の６５０Ｗ高出力低圧水銀灯が２本づつ配設されている
。上下の紫外線ランプ４の背後にはそれぞれミラー５が
配置され、紫外線ランプ４の光は上下両方から照射室５
の中央に向けて照射される。照射箱２の上面と下面には
冷却水路６が固着されて冷却されている。被洗浄体７は
直径７障程度の水晶振動子であり、支持具８上に多数配
列されて照射室６の中央部に支持されるが、支持具８は
石英ガラス製であシ、第２図に示す様に水晶振動子の大
きさに相応する孔８ａがあけられ、孔周縁の爪８ｂによ
って水晶振動子が支持される。支持具８の材質は石英ガ
ラスに限られるものではなく、サファイヤ、テフロン、
ＬｉＦ、ＭｇＦなどの如く紫外線を透過させる性質を有
するものであればよく、形状も図例に限られるものでは
なく、単に板状をなすものでもよい。そして照射箱２の
側方にけ酸素を含むガスを照射室５に供給する吸入孔９
と、内部のガスを分解された汚染物とともに排出する排
気孔１０解室で処理された後に大気中に放出される。
しかして、紫外線ランプ４を点灯すると水晶振動子の上
下両面に紫外線が照射されるが、照射室６内に酸素を含
むガスが供給されているので、発生基の酸素が上下両面
の近傍で生成され、これによって汚染物は分解されるが
、支持具８が紫外線透過性物質でおる石英ガラスよυな
るため、紫外線ランプ４よりの光はこれに遮ぎられるこ
となく、水晶振動子の表面に万遍なく照射されて一様に
洗浄される。従って清浄度は向上し、共鳴周波数はより
正確となるとともに、後工程で蒸−１１される金属膜の
密着力も大きくなる。
下両面に紫外線が照射されるが、照射室６内に酸素を含
むガスが供給されているので、発生基の酸素が上下両面
の近傍で生成され、これによって汚染物は分解されるが
、支持具８が紫外線透過性物質でおる石英ガラスよυな
るため、紫外線ランプ４よりの光はこれに遮ぎられるこ
となく、水晶振動子の表面に万遍なく照射されて一様に
洗浄される。従って清浄度は向上し、共鳴周波数はより
正確となるとともに、後工程で蒸−１１される金属膜の
密着力も大きくなる。
そして、被洗浄体Ｚ自体が紫外線透過性の場合は、第６
図〜第６図に示すように、水平ないし傾斜状態で１ｋ１
１隔をあけ、紫外線透過性物質からなる支持具８で支持
してもよく、更には垂直状態に並べて支持してもよい。
図〜第６図に示すように、水平ないし傾斜状態で１ｋ１
１隔をあけ、紫外線透過性物質からなる支持具８で支持
してもよく、更には垂直状態に並べて支持してもよい。
これらの場合も紫外線が支椋ｂｌ ａ ｌ／ 薔ｖＬ
手＋ ７− ？ ｂ ｈど話路ａ ｌｋ ７にＩＩＨ１
ｔ、ｆ ’Ｘれ、一様に洗浄することができる。
手＋ ７− ？ ｂ ｈど話路ａ ｌｋ ７にＩＩＨ１
ｔ、ｆ ’Ｘれ、一様に洗浄することができる。
以上説明した様に、本発明の紫外線洗浄方法は、紫外線
透過性物質よシなる支持具に支持された被洗浄体に紫外
線を照射する工程を含むため、支持具に遮ぎられること
なく紫外線が一様に照射されるので、本発明に従えば、
被洗浄体の両面を確実に洗浄できる紫外線洗浄方法を提
供することができる。
透過性物質よシなる支持具に支持された被洗浄体に紫外
線を照射する工程を含むため、支持具に遮ぎられること
なく紫外線が一様に照射されるので、本発明に従えば、
被洗浄体の両面を確実に洗浄できる紫外線洗浄方法を提
供することができる。
第１図は本発明の実施例に使用される装置の断面図、第
２図は支持具の要部斜視図、第６図は被洗浄体の支持態
様を示す正面図、第４図は同じく平面図、第５図は他の
支持態様を示す正面図、第６図は同じく平面図である。 １・・・装置箱 ２・・・照射箱 ５・・・照射室４・
・・紫外線ランプ ５・・・ミラー ６・・・冷却水路
７・・・被洗浄体（水晶振動子） ８・・・支持具９・
・・吸入孔 １０・・・排気孔
２図は支持具の要部斜視図、第６図は被洗浄体の支持態
様を示す正面図、第４図は同じく平面図、第５図は他の
支持態様を示す正面図、第６図は同じく平面図である。 １・・・装置箱 ２・・・照射箱 ５・・・照射室４・
・・紫外線ランプ ５・・・ミラー ６・・・冷却水路
７・・・被洗浄体（水晶振動子） ８・・・支持具９・
・・吸入孔 １０・・・排気孔
Claims (1)
- 紫外線ラングの光でオゾンを発生させ、このオゾンの分
解により生成される発生基の酸素により被洗浄体の表面
に付着する有機汚染物などを分解して洗浄する紫外線洗
浄方法であって、紫外線透過性物質よりなる支持具に支
持された被洗浄体に紫外線を照射する工程を含む紫外線
洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58165149A JPS6058238A (ja) | 1983-09-09 | 1983-09-09 | 紫外線洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58165149A JPS6058238A (ja) | 1983-09-09 | 1983-09-09 | 紫外線洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6058238A true JPS6058238A (ja) | 1985-04-04 |
| JPS6235811B2 JPS6235811B2 (ja) | 1987-08-04 |
Family
ID=15806808
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58165149A Granted JPS6058238A (ja) | 1983-09-09 | 1983-09-09 | 紫外線洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6058238A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63121A (ja) * | 1987-06-17 | 1988-01-05 | Wakomu:Kk | 蒸気乾燥洗浄装置 |
| JPS63202921A (ja) * | 1987-02-18 | 1988-08-22 | Nec Kyushu Ltd | 半導体基板洗浄装置 |
| EP0661110A1 (en) * | 1993-11-26 | 1995-07-05 | Ushiodenki Kabushiki Kaisha | Process for oxidation of an article surface |
| WO1999044760A1 (en) * | 1998-03-03 | 1999-09-10 | Applied Materials, Inc. | In situ cleaning of the surface inside a vacuum processing chamber |
| SG96163A1 (en) * | 1995-10-30 | 2003-05-23 | Towa Corp | Resin sealing/molding apparatus sealing electronic parts |
| WO2003076086A1 (de) * | 2002-03-12 | 2003-09-18 | Carl Zeiss Smt Ag | Verfahren und vorrichtung zur dekontamination optischer oberflächen |
| CN104259128A (zh) * | 2014-08-01 | 2015-01-07 | 苏州普京真空技术有限公司 | 一种晶振片清洗方法 |
| CN112718692A (zh) * | 2020-12-09 | 2021-04-30 | 四川富乐德科技发展有限公司 | 一种OLED坩埚部品LiF结晶物的清洗方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109482577A (zh) * | 2018-12-19 | 2019-03-19 | 烟台和锦电子有限公司 | 一种石英晶体谐振器管壳除油清洗装置及其使用方法 |
-
1983
- 1983-09-09 JP JP58165149A patent/JPS6058238A/ja active Granted
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63202921A (ja) * | 1987-02-18 | 1988-08-22 | Nec Kyushu Ltd | 半導体基板洗浄装置 |
| JPS63121A (ja) * | 1987-06-17 | 1988-01-05 | Wakomu:Kk | 蒸気乾燥洗浄装置 |
| EP0661110A1 (en) * | 1993-11-26 | 1995-07-05 | Ushiodenki Kabushiki Kaisha | Process for oxidation of an article surface |
| SG96163A1 (en) * | 1995-10-30 | 2003-05-23 | Towa Corp | Resin sealing/molding apparatus sealing electronic parts |
| WO1999044760A1 (en) * | 1998-03-03 | 1999-09-10 | Applied Materials, Inc. | In situ cleaning of the surface inside a vacuum processing chamber |
| US6098637A (en) * | 1998-03-03 | 2000-08-08 | Applied Materials, Inc. | In situ cleaning of the surface inside a vacuum processing chamber |
| WO2003076086A1 (de) * | 2002-03-12 | 2003-09-18 | Carl Zeiss Smt Ag | Verfahren und vorrichtung zur dekontamination optischer oberflächen |
| CN104259128A (zh) * | 2014-08-01 | 2015-01-07 | 苏州普京真空技术有限公司 | 一种晶振片清洗方法 |
| CN112718692A (zh) * | 2020-12-09 | 2021-04-30 | 四川富乐德科技发展有限公司 | 一种OLED坩埚部品LiF结晶物的清洗方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6235811B2 (ja) | 1987-08-04 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |