JPS6051630A - 光フアイバの製造方法 - Google Patents
光フアイバの製造方法Info
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- JPS6051630A JPS6051630A JP16015683A JP16015683A JPS6051630A JP S6051630 A JPS6051630 A JP S6051630A JP 16015683 A JP16015683 A JP 16015683A JP 16015683 A JP16015683 A JP 16015683A JP S6051630 A JPS6051630 A JP S6051630A
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- preform rod
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
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- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/02—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor
- C03B37/025—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor from reheated softened tubes, rods, fibres or filaments, e.g. drawing fibres from preforms
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- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
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- C03B37/01202—Means for storing or carrying optical fibre preforms, e.g. containers
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光ファイバの製造方法を改良したものに関する
。
。
プリフォームロッドを加熱延伸により紡糸して光ファイ
バを製造するとき、そのプリフォームロッドを紡糸する
ための紡糸炉内を不活性カス雰囲気とするのが一般であ
り、こうすることにより紡糸炉の内壁劣化等が防止でき
る。
バを製造するとき、そのプリフォームロッドを紡糸する
ための紡糸炉内を不活性カス雰囲気とするのが一般であ
り、こうすることにより紡糸炉の内壁劣化等が防止でき
る。
ところで、上記紡糸手段を介して製造された石英系光フ
ァイバの場合、これの実用に際して水素雰囲気中におか
れたりすると、その水素に起因した光ファイバの伝送ロ
ス増が130μm11655μmなどの長波長帯域にお
いて発生することが判明した。
ァイバの場合、これの実用に際して水素雰囲気中におか
れたりすると、その水素に起因した光ファイバの伝送ロ
ス増が130μm11655μmなどの長波長帯域にお
いて発生することが判明した。
以下これについて説明する。
まず、原因となる水素は、元ファイバの被覆材である熱
硬化性樹脂、光硬化性樹脂中において硬化後も残存する
ラジカル基、その他各種の官能基が長期的に水とかOH
基などと反応して発生すると思われる。
硬化性樹脂、光硬化性樹脂中において硬化後も残存する
ラジカル基、その他各種の官能基が長期的に水とかOH
基などと反応して発生すると思われる。
また、被覆光ファイバを構成要素とする光ケーブル中に
は、通常、テンションメンバ、ラップシース用の金属類
が存在し、これら金属がイオン化傾向による電位を発生
し水を分解させて水素を発生させたり、さらに光ケーブ
ル内に存在するシェリー混和物などの各種有機物がmノ
記メカニズムにより水などと反応して水素を発生する場
合がある。
は、通常、テンションメンバ、ラップシース用の金属類
が存在し、これら金属がイオン化傾向による電位を発生
し水を分解させて水素を発生させたり、さらに光ケーブ
ル内に存在するシェリー混和物などの各種有機物がmノ
記メカニズムにより水などと反応して水素を発生する場
合がある。
既知の通り、水素はプラスチックや石英ガラスに対する
拡散係数がきわめて大きく、通常の使用温度下でも石英
系光フアイバ中への拡散によりOH基を形成して前記伝
送ロス増を惹き起こす。
拡散係数がきわめて大きく、通常の使用温度下でも石英
系光フアイバ中への拡散によりOH基を形成して前記伝
送ロス増を惹き起こす。
もちろん、光ファイバのコアにまで拡散した水系すべて
が伝送ロス増をもたらすのではないが、光ファイバの主
成分であるSiOxやドーパントであるG e Oxな
どに格子欠陥特に酸素欠陥があると、これらが侵入して
きた水素を捕獲し、ロス原因のOH基が容易に生成され
ると思われる。
が伝送ロス増をもたらすのではないが、光ファイバの主
成分であるSiOxやドーパントであるG e Oxな
どに格子欠陥特に酸素欠陥があると、これらが侵入して
きた水素を捕獲し、ロス原因のOH基が容易に生成され
ると思われる。
本発明の目的は水素雰囲気中におかれた場合でも伝送ロ
スが増加しがたい長期的に安定な光ファイバの製造方法
を提供することにあり、その特徴とするところは、少な
くともコア部を備えた石英系のブリフォームロ7ドを加
熱延伸により紡糸して光ファイバを製造する方法におい
て、上記プリフォームロットをその紡糸温度よりも低温
のハロゲンガス雰囲気中で加熱することにより前処理し
、当該処理後、そのプリフォームロットを紡糸すること
にある。
スが増加しがたい長期的に安定な光ファイバの製造方法
を提供することにあり、その特徴とするところは、少な
くともコア部を備えた石英系のブリフォームロ7ドを加
熱延伸により紡糸して光ファイバを製造する方法におい
て、上記プリフォームロットをその紡糸温度よりも低温
のハロゲンガス雰囲気中で加熱することにより前処理し
、当該処理後、そのプリフォームロットを紡糸すること
にある。
以下、図面を参照しながら本発明の詳細な説明する。
図において、1はMCvD法、VAD法、PCVD法な
どの母材製造手段を介して製造された石英系のプリフォ
ームロットである。このプリフォームロット1は、紡糸
後プラスチッククラッドを形成するものの場合、石英系
のコア部のみからなるが、通常は石英系のコア部、クラ
ッド部を備えている。
どの母材製造手段を介して製造された石英系のプリフォ
ームロットである。このプリフォームロット1は、紡糸
後プラスチッククラッドを形成するものの場合、石英系
のコア部のみからなるが、通常は石英系のコア部、クラ
ッド部を備えている。
シリコーン系樹脂、弗素系樹脂などの低屈折率プラスチ
ックによりクラッドを形成する光ファイバの場合、これ
の母材すなわちコア部のみのプリフォームロッド1は通
常高純度Sin!からなり、石英系のコア部とクラッド
部とを備えたプリフォームロッド1では必要な屈折率分
布を与えたり、製造性を向上させるため5ins中にG
e%At、 P、 F、 Bなどがドープされている。
ックによりクラッドを形成する光ファイバの場合、これ
の母材すなわちコア部のみのプリフォームロッド1は通
常高純度Sin!からなり、石英系のコア部とクラッド
部とを備えたプリフォームロッド1では必要な屈折率分
布を与えたり、製造性を向上させるため5ins中にG
e%At、 P、 F、 Bなどがドープされている。
上記プリフォームロッド1は後述するようにmj処理炉
2で前処理され、その後紡糸炉3を介して光ファイバに
加工される。
2で前処理され、その後紡糸炉3を介して光ファイバに
加工される。
上下方向にタンデムに配置されている前処理炉2、紡糸
炉3としては抵抗炉、誘導炉などの電気炉が採用され、
図示した前処理炉2、紡糸炉3では、それぞれ炉殻4.
5内に酸化ジルコニウム、酸化マグネシウムなどの耐酸
化耐熱材料からなるリング状のヒータ6.7が内装され
、さらに炉殻4.6には、その内部と連通するガス供給
管8.9が連結されている。
炉3としては抵抗炉、誘導炉などの電気炉が採用され、
図示した前処理炉2、紡糸炉3では、それぞれ炉殻4.
5内に酸化ジルコニウム、酸化マグネシウムなどの耐酸
化耐熱材料からなるリング状のヒータ6.7が内装され
、さらに炉殻4.6には、その内部と連通するガス供給
管8.9が連結されている。
前処理炉2を介してプリフォームロッド1を前処理する
とき、その炉殻4内には雰囲気ガスとしてハロゲンガス
のみか、またはハロゲンガスと、不活性ガス(Ar1
He、 N2など)および/または酸素とによる混合ガ
スがガス供給管8を介し・て供給されるとともに当該炉
2がヒータ6を介して450〜1600℃好ましくは1
000〜1600℃程度の両温に加熱され、これにより
前処理用のハロゲンガス雰囲気10が形成される。
とき、その炉殻4内には雰囲気ガスとしてハロゲンガス
のみか、またはハロゲンガスと、不活性ガス(Ar1
He、 N2など)および/または酸素とによる混合ガ
スがガス供給管8を介し・て供給されるとともに当該炉
2がヒータ6を介して450〜1600℃好ましくは1
000〜1600℃程度の両温に加熱され、これにより
前処理用のハロゲンガス雰囲気10が形成される。
一方、紡糸炉3の炉殻6内にはガス供給管9を介してA
r s He%N2などの不活性ガスが供給され、さ
らにその内部がヒータTにより2000℃程度に加熱さ
れて紡糸用の加熱雰囲気11が形成される。
r s He%N2などの不活性ガスが供給され、さ
らにその内部がヒータTにより2000℃程度に加熱さ
れて紡糸用の加熱雰囲気11が形成される。
はじめ、プリフォームロッド1は上記前処理炉2のハロ
ゲンガス雰囲気10中に低速状態で挿入され、ここで前
処理された後、つぎの紡糸炉3内へと進入する。
ゲンガス雰囲気10中に低速状態で挿入され、ここで前
処理された後、つぎの紡糸炉3内へと進入する。
紡糸炉3の加熱雰囲気11中へ進入した前処段により延
伸されて光ファイバ12となり、こうして製造された光
ファイバ12の外周には紡糸炉3の下位に配置された図
示しないコーテイング機、被覆硬化炉を介して所定の被
覆層が形成される。
伸されて光ファイバ12となり、こうして製造された光
ファイバ12の外周には紡糸炉3の下位に配置された図
示しないコーテイング機、被覆硬化炉を介して所定の被
覆層が形成される。
例えば光ファイバ12がコアのみからなるとき、上記被
覆手段を介して少なくともプラスチッククラッドが形成
され、さらに光ファイバ12がコア、クラッドからなる
とき、上記被覆手段を介して熱峻化性樹脂、光硬化性樹
脂などによる1次コート、バッファコートのいずれか一
方。
覆手段を介して少なくともプラスチッククラッドが形成
され、さらに光ファイバ12がコア、クラッドからなる
とき、上記被覆手段を介して熱峻化性樹脂、光硬化性樹
脂などによる1次コート、バッファコートのいずれか一
方。
または両方が形成される。
本発明ではプリフォームロッド1を加熱延伸により紡糸
して光ファイバ12を製造するとき、ハロケンガス雰囲
気10中でプリフォームロッド1を加熱することにより
前処理し、その後該ロッド1を紡糸するようにしたから
、前処理用ノハロケンガス雰囲気10においてハロゲン
ガスがプリフォームロッド1すなわち石英ガラス中に拡
散することとなり、その石英ガラスの組成である5if
tやに e Oxなどに格子欠陥があるとしてもハロゲ
ンガスがこれら格子欠陥に侵入してこれを埋め、その格
子欠陥を著しく減少させる。
して光ファイバ12を製造するとき、ハロケンガス雰囲
気10中でプリフォームロッド1を加熱することにより
前処理し、その後該ロッド1を紡糸するようにしたから
、前処理用ノハロケンガス雰囲気10においてハロゲン
ガスがプリフォームロッド1すなわち石英ガラス中に拡
散することとなり、その石英ガラスの組成である5if
tやに e Oxなどに格子欠陥があるとしてもハロゲ
ンガスがこれら格子欠陥に侵入してこれを埋め、その格
子欠陥を著しく減少させる。
したがってハロゲンガス雰囲気1oでの加熱により前処
理されたプリフォームロッド1を紡糸して得た光ファイ
バ12の場合、その後、水素雰囲気中におかれても水素
を捕獲してOH基を形成するといったことがほとんどな
くなり、それ故伝送ロス増が生じがたく、長期にわたっ
て伝送特性の安定した光ファイバ12となる。
理されたプリフォームロッド1を紡糸して得た光ファイ
バ12の場合、その後、水素雰囲気中におかれても水素
を捕獲してOH基を形成するといったことがほとんどな
くなり、それ故伝送ロス増が生じがたく、長期にわたっ
て伝送特性の安定した光ファイバ12となる。
なお、ハロゲンガス雰囲気10中におけるハロゲンガス
に関して、これはできるだけ多いほどよく、該ハロゲン
ガス雰囲気10中での望ましいハロゲンガス含有量は5
0〜10 o体&%であるが、それ以下のハロゲンガス
含有量例えば5体積%以上でも応分の効果が期待できる
。
に関して、これはできるだけ多いほどよく、該ハロゲン
ガス雰囲気10中での望ましいハロゲンガス含有量は5
0〜10 o体&%であるが、それ以下のハロゲンガス
含有量例えば5体積%以上でも応分の効果が期待できる
。
ハロでンガス中では弗素系ガス力カラス中への拡散が速
いため望ましく、その弗素系ガスとしてはS Fg、C
Fa、C*Fs、C*Fa、 N Fsなどがあげられ
る。
いため望ましく、その弗素系ガスとしてはS Fg、C
Fa、C*Fs、C*Fa、 N Fsなどがあげられ
る。
またハロゲンガス雰囲気10中のハロゲンガス含有量が
100体積%未満であるとき、その残部はA r *
He 、Nlなどの不活性ガス、または酸素のいずれか
一方あるいは両方とする。
100体積%未満であるとき、その残部はA r *
He 、Nlなどの不活性ガス、または酸素のいずれか
一方あるいは両方とする。
具体例として直径20〜25IIIII+の石英系プリ
フォーAGIIツド1によりコア(S i Os G
e Ot)の直径が50μm1 クラッド(Sins)
の直径125μm1比屈折率差が1%のGl型光ファイ
バ12を製造するとき、前処理炉2内のハロゲンガス雰
囲気1oの温度を1450℃、前処理時間を3時間、該
雰囲気10に送入する雰囲気ガス(’SFε/ A r
)の総流量を15t/馴とし。
フォーAGIIツド1によりコア(S i Os G
e Ot)の直径が50μm1 クラッド(Sins)
の直径125μm1比屈折率差が1%のGl型光ファイ
バ12を製造するとき、前処理炉2内のハロゲンガス雰
囲気1oの温度を1450℃、前処理時間を3時間、該
雰囲気10に送入する雰囲気ガス(’SFε/ A r
)の総流量を15t/馴とし。
ただし具体例1ではS F=/ A rを体積%でt
o olo、具体例2ではS Fa/ A rを体11
[%で5 o15 Qとし、さらに紡糸炉3内の加熱雰
囲気11の温度は2050℃とし、該雰囲気11内へ送
入する不活性ガス(ただしAr)の総流量を15η−1
紡糸速度を50 m1mとした。
o olo、具体例2ではS Fa/ A rを体11
[%で5 o15 Qとし、さらに紡糸炉3内の加熱雰
囲気11の温度は2050℃とし、該雰囲気11内へ送
入する不活性ガス(ただしAr)の総流量を15η−1
紡糸速度を50 m1mとした。
また、上記光ファイバ12の外周に1次コートを兼ねる
外径400μm程度のバッファコートを形成するとき、
2液性常温架橋型のシリコーン樹脂を塗布ならびに加熱
硬化させた。
外径400μm程度のバッファコートを形成するとき、
2液性常温架橋型のシリコーン樹脂を塗布ならびに加熱
硬化させた。
これら具体例1.2の各光ファイバ100℃、1気圧の
水素雰囲気中に4時間保持し、その後の損失増加量Cd
BA幅)を波長13μmイ、波長1.55μm口で測定
したところ、具体例1ではイ、口とも損失増加量が00
5≧であり、具体例2ではイの場合が0.05≧、口の
場合が008であった。
水素雰囲気中に4時間保持し、その後の損失増加量Cd
BA幅)を波長13μmイ、波長1.55μm口で測定
したところ、具体例1ではイ、口とも損失増加量が00
5≧であり、具体例2ではイの場合が0.05≧、口の
場合が008であった。
比較例として具体例と同様の、ただし前処理しない光フ
ァイバの損失増加量(dB/Km)を上記と同じ条件で
測定したところ、イの場合が0.31、口の場合が+0
56にもなった。
ァイバの損失増加量(dB/Km)を上記と同じ条件で
測定したところ、イの場合が0.31、口の場合が+0
56にもなった。
以上説明した通り、本発明方法によるときは、水素雰囲
気中におかれた場合でも、伝送ロスが増加しがたい長期
的に安定な光ファイバが製造できる。
気中におかれた場合でも、伝送ロスが増加しがたい長期
的に安定な光ファイバが製造できる。
図面は本発明方法の1実施例を略示した断面図である。
1・・■やプリフォームロンド
2・・・・・前処理炉
3・・・・・紡糸炉
1o・000.ハロゲンガス雰囲気
11・・・・・紡糸用加熱雰囲気
1210・光ファイバ
特許出願人
代理人 弁理士 井 藤 誠
手続補正書(方式)
昭和58年12月−3日
1、事件の表示 特願昭58−1601562、発明の
名称 光ファイバの製造方法3、補正をする者 事件との関係 特 許 出願人 古河電気工業株式会社 4、代理人〒100 住 所 東京都千代IJ(区有楽町1丁目6番6号小谷
ビル5、補11:、命令の1−1付昭和58年11月2
9i]6 補正の対象 委任状及び明細書全文 7、補正の内容
名称 光ファイバの製造方法3、補正をする者 事件との関係 特 許 出願人 古河電気工業株式会社 4、代理人〒100 住 所 東京都千代IJ(区有楽町1丁目6番6号小谷
ビル5、補11:、命令の1−1付昭和58年11月2
9i]6 補正の対象 委任状及び明細書全文 7、補正の内容
Claims (4)
- (1)少なくともコア部を備えた石英系のプリフォーム
ロッドを加熱延伸により紡糸して光ファイバを製造する
方法において、上記プリフォームロッドをその紡糸温度
よりも低温のハロゲンガス雰囲気中で加熱することによ
り前処理し、当該前処理後、そのプリフォームロッドを
紡糸する光ファイバの製造方法。 - (2) −・ロゲンガス雰囲気が弗素系ガスにより形成
されている特許請求の範囲第1項記載の光ファイバの製
造方法。 - (3) ハロゲンガス雰囲気中のハロゲンガス含有量が
50体積%以上である特許請求の範囲第1項または第2
項記載の光ファイバの製造方法。 - (4) ハロゲンガス雰囲気が弗素系ガスと不活性ガス
および/または酸素との混合ガスにより形成されている
特許請求の範囲第1項ないし第3項いずれかに記載の光
ファイバの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58160156A JPH0717399B2 (ja) | 1983-08-31 | 1983-08-31 | 光フアイバの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58160156A JPH0717399B2 (ja) | 1983-08-31 | 1983-08-31 | 光フアイバの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6051630A true JPS6051630A (ja) | 1985-03-23 |
JPH0717399B2 JPH0717399B2 (ja) | 1995-03-01 |
Family
ID=15709079
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58160156A Expired - Lifetime JPH0717399B2 (ja) | 1983-08-31 | 1983-08-31 | 光フアイバの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0717399B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01275444A (ja) * | 1988-04-28 | 1989-11-06 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光ファイバの製造方法 |
FR2773795A1 (fr) * | 1998-01-22 | 1999-07-23 | Alsthom Cge Alcatel | Procede de fibrage semi-continu de preformes comportant une etape de prechauffage |
EP0963356A1 (en) * | 1996-10-25 | 1999-12-15 | Corning Incorporated | Apparatus and method for reducing breakage of fibers drawn from blanks |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5879835A (ja) * | 1981-11-06 | 1983-05-13 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光フアイバプリフオ−ムの表面処理方法 |
JPS6011250A (ja) * | 1983-06-28 | 1985-01-21 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光伝送用フアイバならびにその製造方法 |
-
1983
- 1983-08-31 JP JP58160156A patent/JPH0717399B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5879835A (ja) * | 1981-11-06 | 1983-05-13 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光フアイバプリフオ−ムの表面処理方法 |
JPS6011250A (ja) * | 1983-06-28 | 1985-01-21 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光伝送用フアイバならびにその製造方法 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH01275444A (ja) * | 1988-04-28 | 1989-11-06 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光ファイバの製造方法 |
EP0963356A1 (en) * | 1996-10-25 | 1999-12-15 | Corning Incorporated | Apparatus and method for reducing breakage of fibers drawn from blanks |
EP0963356A4 (en) * | 1996-10-25 | 2000-06-14 | Corning Inc | DEVICE AND METHOD FOR REDUCING THE BREAKAGE OF FIBERS DRAWN FROM PREFORMS |
FR2773795A1 (fr) * | 1998-01-22 | 1999-07-23 | Alsthom Cge Alcatel | Procede de fibrage semi-continu de preformes comportant une etape de prechauffage |
EP0931770A1 (fr) * | 1998-01-22 | 1999-07-28 | Alcatel | Procédé de fibrage semi-continu de préformes pour fibres optiques comportant une étape de préchauffage |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0717399B2 (ja) | 1995-03-01 |
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