JPS60262833A - Coated synthetic resin material - Google Patents
Coated synthetic resin materialInfo
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- JPS60262833A JPS60262833A JP59118129A JP11812984A JPS60262833A JP S60262833 A JPS60262833 A JP S60262833A JP 59118129 A JP59118129 A JP 59118129A JP 11812984 A JP11812984 A JP 11812984A JP S60262833 A JPS60262833 A JP S60262833A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は表面硬度1耐擦傷性、耐熱性などに優れた被膜
を有する合成樹脂材に関するもので、その被膜が特定の
有機ケイ素と無機硬質物から成り、%に光学材として有
用な合成樹脂材を提供するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a synthetic resin material having a coating having a surface hardness of 1 and excellent scratch resistance, heat resistance, etc. The coating is made of a specific organosilicon and an inorganic hard material, and has an optical The object of the present invention is to provide a synthetic resin material useful as a material.
一般に1合成樹脂は耐溶剤性及び表面硬度が低いために
摩耗し易い、傷つき易いなどの欠点を有する、特に合成
樹脂21光学材においては摩耗、擦傷によって透明性を
損う問題がある。そのため、これらの問題を解決する目
的で、合成樹脂基材の表面に硬質被膜を形成する方法が
行われている。かかる硬質被膜はその構成成分や被膜の
形成方法によって有機系と無機系に大別される。前者は
例えば熱。In general, synthetic resins 1 have drawbacks such as being easily abraded and scratched due to low solvent resistance and surface hardness.In particular, synthetic resins 21 optical materials have the problem of loss of transparency due to abrasion and scratches. Therefore, in order to solve these problems, a method of forming a hard film on the surface of a synthetic resin base material has been used. Such hard coatings are roughly classified into organic type and inorganic type depending on their constituent components and coating method. The former is, for example, fever.
光、放射線などKよって架橋する硬化性物質を主成分と
し、合成樹脂基材に塗布した後、硬化処理が施されて硬
質被膜を形成する。後者は真空蒸着などで形成される金
属酸化物。The main component is a curable substance that crosslinks with K, such as light or radiation, and after being applied to a synthetic resin base material, a hardening treatment is performed to form a hard film. The latter is a metal oxide formed by vacuum evaporation.
フッ化物など無機硬質物の被膜である。%に後者は反射
防止を目的に屈折率の異なる無機化合物を光学的厚みに
単層あるいは多層に被膜を形成するのが一般的である。It is a coating of inorganic hard material such as fluoride. %, the latter is generally formed by forming a single layer or multilayer coating of inorganic compounds with different refractive indexes to an optical thickness for the purpose of antireflection.
しかしながら、無機系の被膜は有機系に比較し−(表面
硬度が劣るばかりでなく、無機硬質物と合成樹脂基材と
の密着性が不十分で、熱あるいは熱水によって被膜の剥
れを発注する欠陥があった。However, compared to organic coatings, inorganic coatings not only have inferior surface hardness, but also have insufficient adhesion between the inorganic hard material and the synthetic resin base material, and the coating may peel off due to heat or hot water. There was a flaw.
本発明者らは上記に鑑み、合成樹脂基材の表面に表面硬
度が高くかつそ着性に優れた無機系の硬質被膜を形成す
る目的で開発を進めた結果、特定したジシラン化合物を
##灰酸成分する有機ケイ素の被膜を先ず該合成樹脂基
材の表面に形成し、次いで真墾蒸着などによって無機系
の被膜を形成することKよって、所期の目的が達成され
ることを知見し、本発明を完成するに至ったものである
、すなわち本発明は合成樹脂基材の表面に1一般式で示
されるジシラン化合物(ただし、Aは主鎖が直鎖状に少
なくとも4個以上の原子から成る2IdIllの炭化水
素基、R及びRは同一または異種のフルキル基またはア
ルコキシフルキル基 R11及びR′ は同一または異
種のフルキル基、を及びmは0または1である)を加水
分解し【得られる成分’I(含む有機ケイ素が被覆され
、さらに該被覆膜上に無機硬質物が被Ijiされて成る
4憤合成−A+1旨材である。In view of the above, the present inventors proceeded with development for the purpose of forming an inorganic hard film with high surface hardness and excellent abrasion properties on the surface of a synthetic resin base material, and as a result, identified a disilane compound. It was discovered that the desired purpose could be achieved by first forming an organic silicon film containing ash on the surface of the synthetic resin base material, and then forming an inorganic film by deep vapor deposition. , the present invention has been completed, that is, the present invention is a disilane compound represented by the general formula 1 on the surface of a synthetic resin base material (where A is a disilane compound having at least 4 or more atoms in a linear main chain). 2IdIll hydrocarbon group consisting of, R and R are the same or different furkyl group or alkoxyfurkyl group, R and R' are the same or different furkyl group, and m is 0 or 1) is hydrolyzed to [ The resulting material is a 4-mer composite-A+1 material which is coated with organosilicon containing component 'I' and further coated with an inorganic hard material on the coating film.
本発明によれば、合成樹Rft誌材の表面と無機硬質物
の被覆膜との間に特定した有機ケイ素の被覆膜を形成す
ることKよって、該無機硬質物の被eIt膜による反射
防止効果などを損うことな(、密着性9表面硬反、耐久
性などに優れた被覆膜を有する合成樹脂材が得られる。According to the present invention, by forming a specified organosilicon coating between the surface of the synthetic tree Rft material and the coating of the inorganic hard material, the reflection by the eIt film of the inorganic hard material is A synthetic resin material having a coating film with excellent adhesion, surface hardness, durability, etc. without impairing the prevention effect etc. can be obtained.
従って、本発明においては有機ケイ素の被覆膜における
特定したジシラン化合物を加水分解して得られる成分が
、合成樹脂基材及び無機硬質物との相互に有効に作用し
て高い表面硬度と密着性が与えられると考えられる。Therefore, in the present invention, the component obtained by hydrolyzing the specified disilane compound in the organosilicon coating film effectively interacts with the synthetic resin base material and the inorganic hard material to achieve high surface hardness and adhesion. is considered to be given.
本発明に用いる合成樹脂基材の種類は、目的に応じて異
なり特に制限されない。一般には透明性は高いが、表面
硬度が低く、耐擦傷性及び耐摩耗性に乏しい合成樹脂製
のレンズ。The type of synthetic resin base material used in the present invention varies depending on the purpose and is not particularly limited. Synthetic resin lenses generally have high transparency, but low surface hardness, and poor scratch resistance and abrasion resistance.
プリズム、フラット、シートなどの光学材が主として対
象とされる。このような光学材を対象とする合成樹脂基
材として、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリメ
タクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリ7ク
リレート、ポリメチル7クリレート等のポリ不飽和エス
テル類;ポリスチレン類;ポリ塩化ビニル;エポキシ樹
脂;ポリアミド類;ポリカーボネート;ポリジエチレン
グリコールビス7リルカーホネート等のポリアリルカー
ボネート類;酢酸繊維素プラスチック等の重合体、ある
いはこれらの重合体を形成する七ツマー相互または該七
ツマ−と他のモノマーとの共重合体よりなる成形品が挙
げられる。The main targets are optical materials such as prisms, flats, and sheets. Examples of synthetic resin base materials for such optical materials include polyunsaturated esters such as polymethyl methacrylate, polymethacrylate, polyethylene terephthalate, poly7 acrylate, and polymethyl 7 acrylate; polystyrenes; polyvinyl chloride; epoxy Resin; Polyamides; Polycarbonate; Polyallyl carbonates such as polydiethylene glycol bis-7lyl carbonate; Polymers such as cellulose acetate plastics, or combinations of heptamers forming these polymers with each other or with other monomers. Examples include molded products made of copolymers.
就中、ポリメタクリル酸エステル類、ポリアクリル酸エ
ステル類、ポリカーボネート類。Among them, polymethacrylic esters, polyacrylic esters, and polycarbonates.
ポリ7リルカーボネート類等の重合体よりなる透明性に
優れた成形品を用いることにより不発明は透明性が高く
外観も良好な光学的特性を失うことなく、表面硬度、耐
擦傷性及び耐摩耗性に優れた被覆合成樹脂材が得られる
ため、光学材として極めて好適である。By using highly transparent molded products made of polymers such as poly7lyl carbonates, the invention has high transparency and good appearance, without losing its optical properties, and has excellent surface hardness, scratch resistance, and abrasion resistance. Since a coated synthetic resin material with excellent properties can be obtained, it is extremely suitable as an optical material.
本発明においては、上記した如ぎ合成樹脂基材の表面に
先ず式fl+で示したジシラン化合物を加水分解して得
られる有情ケイAの被膜を形成させることが1袈である
、本発明の一般式(1)で示されるシフう/化合物にお
いて、式中人で表現される2価の炭化水素基の代表的な
具体例は、
(a) CM、CH,CH,CH,、CH8CH,CH
,CHCH,など
リアルキレン基
(b) CH,CH,OCH,CH,、CH,CH,C
H,OCH,CH,CH。In the present invention, one step is to first form a film of A-like substance A obtained by hydrolyzing a disilane compound represented by the formula fl+ on the surface of the synthetic resin base material as described above. In the compound represented by formula (1), typical examples of divalent hydrocarbon groups represented by the characters in the formula are (a) CM, CH, CH, CH,, CH8CH, CH
, CHCH, etc. Real kylene group (b) CH, CH, OCH, CH, , CH, CH, C
H, OCH, CH, CH.
などの一般式(C)f s )p OC(CHs )q
o)r (cHa )p(ただし、p、qは2あるい
は3.rは0あるいは1以上の整数)で表わされるエー
テル基
(ただし、pは2あるいは3)で示されるスピロ基
10)
CH,OH,C00CH,CH−CHCH,0OCCH
,OH,。The general formula (C)f s )p OC(CHs )q
o) r (cHa) ether group represented by p (where p, q are 2 or 3, r is an integer of 0 or 1 or more) (however, p is 2 or 3) spiro group 10) CH, OH, C00CH, CH-CHCH, 0OCCH
,OH,.
などで示されるエポキシ基を含有する基(e)0 1 CM、CH,CH,0COCH,CH,CH,。A group (e) containing an epoxy group represented by 0 1 CM, CH, CH, 0COCH, CH, CH,.
一般式
:
%式%(
8は0〜4の整数である。tはs = 00ときは0で
、i=1〜4のときは1である。)で示されるカーボネ
ート基などである。また弐(11中、R、Rは同一また
は異種のフルキル基またはアルコキシフルキル基であり
、炭素数が1〜6、特に1〜3のアルキル基、または炭
素数が1−6、特に1〜3のフルキル基よりなるアルフ
キシフルキル基が好適で、具体的にはメチル基、エチル
基、プルピル基、メトキシエチル基が例示される。R,
Rは同一または異種のフルキル基であり、炭素数が1〜
4のものが好適で、具体的にはメチル基。General formula: % Formula % (8 is an integer of 0 to 4. t is 0 when s = 00 and 1 when i = 1 to 4), etc. Also, 2 (in 11, R and R are the same or different furkyl group or alkoxyfurkyl group, and are an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, especially 1 to 3 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, especially 1 to 3 carbon atoms. An alkoxyfurkyl group consisting of a furkyl group of 3 is preferable, and specific examples include a methyl group, an ethyl group, a purpyl group, and a methoxyethyl group.R,
R is the same or different furkyl group, and has 1 to 1 carbon atoms;
4 is preferred, specifically a methyl group.
エチル基、プロピル基などが例示される。Examples include ethyl group and propyl group.
上記したジシラン化合物の内でも、一般式f1)におい
て、Aが特にエポキシ基やカーボネート基の親水性基を
含有する2価の炭化水素基である(d) 、 (e)か
ら選ばれた基を構成成分とする有機ケイ素の被覆膜が、
その上く形成される無機硬質物の被覆膜と優れた密着性
や耐久性を発揮するために特に効果的である。Among the above-mentioned disilane compounds, in general formula f1), A is a divalent hydrocarbon group containing a hydrophilic group such as an epoxy group or a carbonate group, in particular, a group selected from (d) and (e). The organosilicon coating film as a constituent component is
It is particularly effective in exhibiting excellent adhesion and durability to the inorganic hard material coating film formed thereon.
これら一般式(1)で示されるジシラン化合物は、従来
公知のl々の方法で合成することができる。すなわち、
その両末端に付加可能な二重結合を有する置換基を有す
る化合物に、白金触媒下で
で示されるアルコキシシランを付加反応させることによ
って合成できる。または、アルコキシシラー/の代わり
に、
で示されるりqoジシラン付加反応させ、次いでROH
あるいはROMで示されるフルフールでアルコキシ化す
ればよい。上記の反応条件は特に制限されないが、一般
に常圧または加圧下で−20〜160”Cの温度下に、
必要によりベンゼン、トルエン、ジメチルエーテル等の
極性非水溶媒中で上記反応を行えばよい。また、白金触
媒として白金黒を用いることが無色透明な生成物を得る
ことができ好ましい。例えば、ジエチレングリコールビ
スアリルカーボネートに白金触媒下でトリエトキシシラ
ンを反応させることによって
1
(E!to) 、S ICH8CH,CH,0COCH
,CH,OCH,CH,01
COCH,CH,CH,S I (OEt )、が得ら
れる。These disilane compounds represented by the general formula (1) can be synthesized by various conventionally known methods. That is,
It can be synthesized by subjecting a compound having a substituent having an addable double bond to both ends of the compound to an addition reaction with an alkoxysilane shown below under a platinum catalyst. Alternatively, instead of an alkoxysiler/, the following or qo disilane addition reaction is carried out, and then ROH
Alternatively, it may be alkoxylated with furfur shown in ROM. The above reaction conditions are not particularly limited, but generally at a temperature of -20 to 160"C under normal pressure or increased pressure,
If necessary, the above reaction may be carried out in a polar nonaqueous solvent such as benzene, toluene, dimethyl ether, or the like. Further, it is preferable to use platinum black as the platinum catalyst since a colorless and transparent product can be obtained. For example, by reacting diethylene glycol bisallyl carbonate with triethoxysilane under a platinum catalyst, 1 (E!to), SICH8CH,CH,0COCH
, CH, OCH, CH, 01 COCH, CH, CH, S I (OEt) are obtained.
本発明において、有機ケイ素の良好な被膜を形成するた
めには、上記したジシラン化合物を合成樹脂基材の表面
にコーティングするに先立って、該ジシラン化合物を加
水分解さらKは部分的に縮重合した形態、で使用するこ
とが好ましい。一般にジシラン化合物を適当な溶媒に溶
解し、塩酸、硫酸などの無機酸あるいは蟻鐵、酢酸など
の有機酸を含む弱酸性水溶液を添加、攪拌して加水分解
することKより調製すればよい。このようKして、コー
ト液は上記の加水分解により副生するフルフール、フル
フキジアルコール、未反応の水あるいは溶媒を含んでい
てもよいが、加水分解した後に加熱及び/または減圧下
で上記成分を留出させるとと−によって除去し、その後
に適当な溶媒を加えることもできる。そして、最終的に
ジシラン化合物を構成成分とするコート液は、該ジシラ
ン化合物が完全に加水分解して縮重合した状態に換算し
たときの濃度(以下、換算一度という)で20〜40重
量%に111!整することKより、合成mBk基材の浅
凹に有機ケイ業の均一な被膜を良好に形成することがで
きる6上記の濃度が20ム址%以下では形成されるコー
)Mについて充分な耐擦傷性、耐阜耗性が得に((,4
0憲量%以上では粘性が大きくなり、被コート面に均一
に塗布することが困難となる。なお、上記の好適な醪媒
としては、炭素数1〜4のメタノール、エタノールウプ
ロパツール、ブタノール等の低Mフルコール類;酢酸、
i)酸メチル等の低級カルボン酸類あるいはそのアルキ
ルニスデル;セルンルプ等やジオキサン等のエーテル類
;7セトン等のケトン類;メチレンクロライド婢のハp
ゲ/化炭化水素類;ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化
水素類等の1種あるいは23以上である。In the present invention, in order to form a good organosilicon film, prior to coating the surface of the synthetic resin base material with the disilane compound described above, the disilane compound is hydrolyzed and K is partially condensed and polymerized. It is preferable to use the form. Generally, it can be prepared by dissolving a disilane compound in a suitable solvent, adding a weakly acidic aqueous solution containing an inorganic acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid, or an organic acid such as acetic acid or acetic acid, followed by stirring and hydrolysis. In this way, the coating liquid may contain furfur, furfurukidial alcohol, unreacted water, or solvent produced as a by-product of the above hydrolysis, but after hydrolysis, the above components are heated and/or under reduced pressure. It is also possible to remove by distillation and then add a suitable solvent. Finally, the coating solution containing the disilane compound as a component has a concentration of 20 to 40% by weight when converted into a state in which the disilane compound is completely hydrolyzed and polycondensed (hereinafter referred to as "converted once"). 111! 6. If the above concentration is less than 20%, it is possible to form a uniform film of organic silicon on the shallow depressions of the synthetic mBk substrate. Excellent scratch resistance and abrasion resistance ((,4
If the amount is 0% or more, the viscosity increases and it becomes difficult to apply the coating uniformly to the surface to be coated. In addition, as the above-mentioned suitable mortar, low M flucols such as methanol, ethanol, and butanol having 1 to 4 carbon atoms; acetic acid,
i) Lower carboxylic acids such as methyl acid or their alkylnisdales; ethers such as Serunlup and dioxane; ketones such as 7-setone; methylene chloride derivatives;
Hydrocarbons: One or more aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene.
不発明の上記した式(1)で示されるジシラン化合物に
は、得られる被膜の表111i&度を向上させるために
、さらに他の特定した化合物を添加することも肩効であ
る。かかる添加剤としては、飼えば
(”)ht
、I
R−8t(OR)8−n ・・自・・・・・・・・・・
・・+21で示されるオルガノアルコキシシラン化合物
(ただし、Rはビニル基、メタクリpキシ基、メルカプ
ト基、エポキシ基及びアミノ基のうちひとつを官能基と
して有する炭化水素基あるいはアルキル基またはアリー
ル基 RCIはフルキル基で、nは0または1、R7は
アルキル基またはアルコキシフルキル基である)を加水
分解して得られる成分、
81(OR)4 ・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・(3)で示されるテトラフルフキジシラン化合
物(ただし、Rはアルキル基またはアルコキシフルキル
基である)を加水分解して得られる成分、コロイドシリ
カ、エポキシ化合物及びメラミン誘導体より選ばれた少
なくとも一種が推奨される。It is also effective to add other specified compounds to the uninvented disilane compound represented by the above formula (1) in order to improve the surface resistance of the resulting film. Such additives include: ('')ht, IR-8t(OR)8-n...self......
...Organoalkoxysilane compound represented by +21 (where R is a hydrocarbon group, an alkyl group, or an aryl group having one of a vinyl group, a methacripoxy group, a mercapto group, an epoxy group, and an amino group as a functional group) A component obtained by hydrolyzing a furkyl group, n is 0 or 1, and R7 is an alkyl group or an alkoxyfurkyl group, 81 (OR) 4 ...... ...
...A component obtained by hydrolyzing the tetraflufukidisilane compound shown in (3) (wherein R is an alkyl group or an alkoxyfurkyl group), colloidal silica, an epoxy compound, and a melamine derivative. At least one type is recommended.
上bdの一般式(2)で示されるオルガノアルコキシシ
ラン化合物は、特にR6の炭素数が1〜4、Rの炭素数
が1〜4のものが一般に使用される。具体的には、メチ
ルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、メ
チルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、
フェニルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラ
ン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシ
ラン、ビニルトリフ七ト、キシシラン、ビニルトリスメ
トキシエトキシシラン、γ−グリシドキシプpピルトリ
メトキシシラン、γ−グリシドキシプpピルメチルンメ
トキシシラン、γ−メタクリロキシプpピルトリメトキ
シシラン、r−メルカプドブ−ピルトリメトキシシラン
、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリ
メトキシシラン、γ−アミツブpピルトリエトキシシラ
/等が挙げられる。また、一般式(3)で示されるテト
ラフルフキジシラン化合物はRの炭素数が1〜4のもの
が一般に使用される。具体的には、テトラメトキシシラ
ン、テトラエトキシシラン、テトラプpボキシシラン、
テトラブトキシシラン等が挙げられる1また、コロイド
シリカとしては、従来公知の種々の方法で製造されてい
る粒径l〜100mμのシリカ微粉体をそのままあるい
はこれを極性溶媒に分散させたコロイド溶液の状態で使
用可能である。本発明の組成物としては、該コロイドシ
リカを極性溶媒、例えば水やメタノール、インプロパツ
ール等のフルフール系溶媒に分散させたフロイド溶液は
、弱酸性に調整したものが好ましい。エポキシ化合物と
しては、従来公知の種々の方法で製造されているポリオ
レフィン系エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、エポキ
シノボラック樹脂、多価フルフールのポリグリシジルエ
ーテルなどが挙げられる。メラミン誘導体としては、市
販されているヘキサメトキシメチルメラミンなどのフル
キルエーテル化メチp−ルメラミンの硝化綿との混合物
、あるいは1,4−ブタンジオールなどの多価アルコー
ルとの予備縮合物が従来公知の方法により調製され使用
できる。Among the organoalkoxysilane compounds represented by the general formula (2) of bd above, those in which R6 has 1 to 4 carbon atoms and R has 1 to 4 carbon atoms are generally used. Specifically, methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane,
Phenyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltrifate, xysilane, vinyltrismethoxyethoxysilane, γ-glycidoxypyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypylmethoxysilane , γ-methacryloxypyltrimethoxysilane, r-mercapdobu-pyltrimethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, γ-pyltrimethoxysilane, and the like. Further, the tetraflufukidisilane compound represented by the general formula (3) is generally used when R has 1 to 4 carbon atoms. Specifically, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrap-boxysilane,
Examples of colloidal silica include silica fine powder with a particle size of 1 to 100 mμ, which is produced by various conventionally known methods, as it is, or in the form of a colloidal solution obtained by dispersing it in a polar solvent. Available in For the composition of the present invention, a Freud's solution prepared by dispersing the colloidal silica in a polar solvent, such as water, methanol, or a furfur solvent such as impropatol, is preferably adjusted to be weakly acidic. Examples of the epoxy compound include polyolefin epoxy resins, alicyclic epoxy resins, epoxy novolak resins, and polyglycidyl ethers of polyvalent furfur, which are manufactured by various conventionally known methods. Examples of melamine derivatives include commercially available mixtures of furkyl etherified methyl p-lumamine such as hexamethoxymethyl melamine with nitrified cotton, or precondensates with polyhydric alcohols such as 1,4-butanediol, which are conventionally known. It can be prepared and used according to the method.
E記した如き添加剤は、その総量が(ジシラン化合物、
オルガノアルコキシシラン化合物及びテトラアルコキシ
シラン化合物においては元金に加水分解して縮重合した
状態に換算したときの重量で)ジシラン化合物に対して
10〜1000重量部、特に50〜200重量部を用い
ることが好ましい。The total amount of additives as described in E is (disilane compound,
For organoalkoxysilane compounds and tetraalkoxysilane compounds, use 10 to 1000 parts by weight, especially 50 to 200 parts by weight, based on the disilane compound (based on the weight converted to the state obtained by hydrolyzing into the base metal and condensation polymerization). is preferred.
さらに、本発明におけるジシラン化合物を構成成分とす
るコート液には、得られる被膜の平滑性を向上させ、次
の無機硬質物の均一な被膜を形成させるためにシリコン
系やフッ素系の界面活性剤を加えることが可能である。Furthermore, in the coating liquid containing a disilane compound in the present invention, a silicone-based or fluorine-based surfactant is added to improve the smoothness of the resulting film and to form a uniform film on the next inorganic hard material. It is possible to add
また、その他の各種添加剤、例えば紫外線威収剤、酸化
防止剤、染料や顔料あるいはゲル化防止剤として蟻酸、
酢酸等の有機カルボン酸類も使用可能である。さらKま
た、コート液には、必要により被膜の硬化温度の低下や
硬化時間の短縮を図るため、硬化触媒として公知の化合
物、例えば塩酸、硫酸、酢酸/酢酸ナトリウム混合物、
塩化錫、過塩素酸、過塩素酸アンモニワム、過塩素酸亜
鉛、過塩素酸マグネシウムなどの過塩素陵塩、フルミュ
ウム7セチル7セトナート等の7セチルアセトナート金
属塩、ナフテン酸金属塩、p−トルエンスルホン酸、安
息香酸、リン酸アルカリ金属塩、チオシアン酸ナトリウ
ム等を使用することが好ましい。その使用量は、被膜形
成の成分量に対して0.01〜5重量%で充分である。In addition, various other additives such as ultraviolet ray absorbing agents, antioxidants, dyes and pigments, and formic acid as anti-gelling agents,
Organic carboxylic acids such as acetic acid can also be used. In addition, the coating liquid may contain compounds known as curing catalysts, such as hydrochloric acid, sulfuric acid, acetic acid/sodium acetate mixtures, in order to lower the curing temperature and shorten the curing time of the coating, if necessary.
Perchlorine salts such as tin chloride, perchloric acid, ammonium perchlorate, zinc perchlorate, magnesium perchlorate, 7cetylacetonate metal salts such as flumium 7cetyl 7cetonate, naphthenic acid metal salts, p-toluene Preferably, sulfonic acid, benzoic acid, alkali metal phosphate, sodium thiocyanate, etc. are used. The amount used is 0.01 to 5% by weight based on the amount of components for film formation.
本発明において、合成樹脂基材の表面に有機ケイ素の被
膜を形成する方法は特に制限されず、一般に公知の方法
に準じてジシラン化合物を構成成分とするコート液を該
合成樹脂基材の表面に塗布する方法が採用される。例え
ば合成樹脂基材をコート液中に浸漬して塗布する方法、
コート液を合成樹脂基材の表面にスプレー、ハケ、−−
ラー等で塗布する方法等が一般に採用され、塗布を行っ
た後、乾燥空気あるいは空気c15で風乾して通常加熱
処理することによって硬化し被膜が形成される。In the present invention, the method of forming an organosilicon film on the surface of a synthetic resin base material is not particularly limited, and a coating liquid containing a disilane compound as a constituent component is applied to the surface of the synthetic resin base material according to a generally known method. A coating method is adopted. For example, a method of coating a synthetic resin base material by dipping it in a coating solution,
Spray the coating liquid onto the surface of the synthetic resin base material, brush,
Generally, a method of coating with a roller or the like is employed, and after coating, it is air-dried with dry air or air C15 and usually heat-treated to cure and form a film.
加熱温度は合成樹脂の種類によって異なるが50℃以上
好ましくは70℃以上ないしは該合成樹脂基材が熱変化
を生じない温度、一般には1.50℃以下が好適である
。硬化時間は加熱温度が130℃で約1時間、70〜8
0℃で約2〜4時間が一応の目安となる。硬化して形成
される有機ケイ素被膜は0.1μ〜50μ程度の厚みと
することが可能であるが、1μ〜20μの厚みが所望の
効果を得るために特に好適である。なお、合成樹脂基材
はその表面の状態が得られるコート膜の性状に大いに影
響するので、溶剤などによって脱脂洗浄することによっ
てその表面を清浄にすることが好ましい。また、合成樹
脂生地によって、本発明の有機ケイ素被膜でも密着性が
不十分な場合、例えばポリカーボネート類、スチレン系
ポリマー等のプラスチック成形品にお(・ては、水酸化
ナトリウム水溶液1重りpム酸カリウム/M酸溶液等に
よる試薬処理、プラズマ等による放電処理、あるいはプ
ライマー塗装等の公知の方法が合成樹脂生地と有機ケイ
素被膜との密着性を向上させるので効果的である。また
、上記放電処理された面は、合成樹脂生地を実質的に溶
解しない溶剤で該処理によって変性された層を溶解する
ことが更に好ましい。また、合成樹脂基材は、有機ケイ
素の被膜用コート液を途布する前に分散染料等で染色し
てもよいし、またジシリル化合物を含む有機ケイ素の被
膜は分散染料等によって染色できるので、該有機ケイ素
被膜を形成し、無機化合物層を形成する曲に染色しても
よい。The heating temperature varies depending on the type of synthetic resin, but is preferably 50°C or higher, preferably 70°C or higher, or a temperature at which the synthetic resin base material does not undergo thermal change, generally 1.50°C or lower. The curing time is approximately 1 hour at a heating temperature of 130℃, 70~8
A rough guideline is approximately 2 to 4 hours at 0°C. The organosilicon coating formed by curing can have a thickness of about 0.1 μm to 50 μm, but a thickness of 1 μm to 20 μm is particularly suitable for obtaining the desired effect. Note that since the surface condition of the synthetic resin base material greatly affects the properties of the resulting coated film, it is preferable to clean the surface by degreasing and washing with a solvent or the like. In addition, if the adhesion of the organosilicon coating of the present invention is insufficient depending on the synthetic resin fabric, for example, for plastic molded products such as polycarbonates and styrene polymers (for example, apply 1 part of sodium hydroxide aqueous solution and 1 weight particulate acid). Known methods such as reagent treatment with a potassium/M acid solution, discharge treatment with plasma, etc., or primer coating are effective because they improve the adhesion between the synthetic resin fabric and the organosilicon coating. It is further preferable that the layer modified by the treatment be dissolved on the treated surface using a solvent that does not substantially dissolve the synthetic resin fabric.Also, the synthetic resin base material is coated with an organosilicon coating solution. The organosilicon film containing a disilyl compound can be dyed with a disperse dye etc. beforehand, and the organosilicon film containing the disilyl compound can be dyed with a disperse dye etc., so the organosilicon film is formed and the inorganic compound layer is formed by dyeing. Good too.
次いで、本発明は合成樹脂基材の表面に形成した有様ケ
イ素の被膜上忙、無機硬質物の被膜を形成させることが
重要である。無機硬質物の被膜を形成する方法は公知の
方法が特に制限なく使用される。例えば、真空蒸着法。Next, in the present invention, it is important to form a hard inorganic material film on the silicon film formed on the surface of the synthetic resin base material. Any known method can be used without particular limitation as a method for forming a coating of an inorganic hard material. For example, vacuum evaporation method.
イオンブレーティング法、スパッタリング法等のドライ
ブレーティング法が一般的である。Dry brating methods such as ion brating method and sputtering method are common.
無機硬質物の被膜の厚みは、目的に応じて異なるため特
に限定されないが、一般に0.1μ〜10μがある。本
発明の被膜を形成する無機硬質物としては、一般に上記
した如きドライブレーティング法で合成樹脂基材の表面
に析出させることができる無機物質が制限なく使用でき
、その目的に応じて適宜選択すればよい。例えば耐擦傷
性を付与するためには酸化ケイ素(SjOx、x=1〜
2 ) 、m化アルミニウム等が一般に使用される。ま
た反射防止性を付与するためKは、低屈折率物を単層に
あるいは低屈折率物と高屈折率物とを交互に光学的厚み
に積層すればよい。このような反射防止膜の構成する無
機硬質の物質としては例えば酸化ケイ素、酸化アルミニ
ウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化マグネシウ
ム、酸化セリウム、酸化イレンラム、酸化タンタル、酸
化ハフニウム等の金属酸化物:フッ化マグネシウム、フ
ッ化セリウム、フン化リチウム、フン化ランタン、フッ
化ナトリウム、フッ化ネオジウム等の金属フッ化物がφ
げられる。その他に、アルミニウム、金、銀。The thickness of the inorganic hard coating is not particularly limited as it varies depending on the purpose, but it is generally 0.1 μm to 10 μm. As the inorganic hard substance forming the coating of the present invention, any inorganic substance that can be deposited on the surface of a synthetic resin base material by the above-mentioned dry brating method can be used without any restriction, and it can be selected as appropriate depending on the purpose. good. For example, to impart scratch resistance, silicon oxide (SjOx, x=1~
2), aluminum chloride, etc. are generally used. Further, in order to impart antireflection properties, K may be a single layer of a low refractive index material, or a low refractive index material and a high refractive index material may be alternately laminated to an optical thickness. Examples of inorganic hard substances constituting such an antireflection film include metal oxides such as silicon oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, titanium oxide, magnesium oxide, cerium oxide, yrene oxide, tantalum oxide, and hafnium oxide: fluoride Metal fluorides such as magnesium, cerium fluoride, lithium fluoride, lanthanum fluoride, sodium fluoride, and neodymium fluoride are
can be lost. Other materials include aluminum, gold, and silver.
クロム等の金属、そして硫化亜鉛等の上記以外の無機化
合物も本発明の有機ケイ素被膜上に密着性の良好な被膜
が形成できる。なお、無機硬質物の被膜と有機ケイ素の
被膜との密着性が不充分の場合は、有機ケイ素の被膜を
形成した後に1予め該被膜をプラズマ等の放電処理をし
て無機化合物層を形成する方法が無機硬質物の被膜と有
機ケイ素の被膜との密着性を向上させるのに効果的であ
る。Metals such as chromium and inorganic compounds other than those mentioned above, such as zinc sulfide, can also form films with good adhesion on the organosilicon film of the present invention. In addition, if the adhesion between the inorganic hard material coating and the organosilicon coating is insufficient, after forming the organosilicon coating, 1) preliminarily subject the coating to plasma discharge treatment to form an inorganic compound layer. This method is effective in improving the adhesion between the inorganic hard material coating and the organosilicon coating.
このよう圧して得られる本発明の被核合成樹脂材は、合
成樹脂基材と無機硬質物の被膜との間に、中間層として
ジシリル化合物を加水分解して得られる成分の有機ケイ
素の被膜を形成することによって、該有機ケイ素の被膜
が存在しない場合に比べ、表面硬度や耐擦傷性、耐熱性
、耐熱水性に優れている。以下本発明を具体的に説明す
るために、実施例及び比較例を示すが、本発明はこれら
実施例に限定されるものではない。The nucleated synthetic resin material of the present invention obtained by pressing in this manner has an organic silicon coating obtained by hydrolyzing a disilyl compound as an intermediate layer between the synthetic resin base material and the inorganic hard coating. By forming the organosilicon film, the surface hardness, scratch resistance, heat resistance, and hot water resistance are superior to the case where the organosilicon film is not present. EXAMPLES Examples and comparative examples will be shown below to specifically explain the present invention, but the present invention is not limited to these examples.
なお、合成樹脂基材の表面に形成される被膜の性能評価
は下記の方法によって実施した。The performance of the coating formed on the surface of the synthetic resin base material was evaluated by the following method.
(11密着性試験
°先端が鋭利なカッターナイフで試料の表面に1111
1 X l 11のマス目を100個つけた後、市販の
セロテープを貼り付けて、次いで素早く剥した時の被膜
の剥れ状態により剥れの全くないものを○、一部が剥れ
たものをΔ、全金部剥れたものを×と表示した。(11 Adhesion test ° 1111 on the surface of the sample with a sharp cutter knife
1 X l After 100 squares of 11 were attached, commercially available cellophane tape was attached and then quickly peeled off.The film was marked as ○, with no peeling at all, and with some parts peeling off. A case where the metal part was completely peeled off was indicated as Δ, and a case where all the metal parts were peeled off was indicated as ×.
(2) 耐擦傷性試験
福田機械工業株式会社製の耐擦傷性試験器に:#000
0のスチールウールを取り付け、l Kpの荷重下で試
料表面を10回往復させた後の表面の傷つき度合を目視
により観察し、全く傷つかなかった状態をA、そしてポ
リメチルメタクリレート生地の非常に傷つき易い状態な
Eとして、A−Eの5段階で評価した。(2) Scratch resistance test Scratch resistance tester manufactured by Fukuda Machinery Co., Ltd.: #000
0 steel wool was attached and the sample surface was reciprocated 10 times under a load of 1 Kp, and the degree of damage on the surface was visually observed. Evaluation was made on a five-point scale from A to E, with E being an easy condition.
(3)耐熱水性試験
沸謄水中(ただし、ポリメチルメタクリレー)Kついて
は80℃の温水を使用した)lc2時間放置し、被膜の
外観を目視により観察した。被膜にひび、剥れ、ふくれ
。(3) Hot water resistance test The film was left in boiling water (80°C warm water was used for polymethyl methacrylate K) for 2 hours, and the appearance of the film was visually observed. Cracks, peeling, and blisters on the film.
白化などがなくて一外観の良好な場合は○。If there is no whitening and the appearance is good, mark it as ○.
不良な場合は×とした。また、上記の密着性試験を行い
、同じ規準で評価した。If it was defective, it was marked as ×. In addition, the adhesion test described above was conducted and evaluated using the same criteria.
実施例 1
合成樹脂光学材として、注m重合により製造したポリ7
リルジ工チレングリコールカーボネート板状体を用いた
。まず、前処理として該板状体を7七トンで洗浄し【充
分に風乾し清澄な状態とした後、5%NaQl(水溶液
に5分間浸漬し、充分に水洗して再び風乾した。Example 1 Poly7 produced by injection polymerization as a synthetic resin optical material
A plate-like body of lylded ethylene glycol carbonate was used. First, as a pretreatment, the plate-shaped body was washed with 77 tons of water, thoroughly air-dried to a clear state, immersed in a 5% NaQl (aqueous solution) for 5 minutes, thoroughly rinsed with water, and air-dried again.
上記処理した板状体を第1表に示す組成から成るコート
液に浸漬し、室温で充分に風乾後120℃で3時間加熱
硬化して2〜3μの有機ケイ素被膜を得た。次に、上記
の有機ケイ素を被膜したポリ7リルンヱチレングリコー
ルカーボネートの板状体を市販の真空蒸着装置を使用し
て、10 Torrの条件下に真空蒸着を行い0.2〜
03μの酸化ケイ素の被膜を形成させた。被膜の評価結
果を第1表に幼せて示す。The treated plate was immersed in a coating solution having the composition shown in Table 1, thoroughly air-dried at room temperature, and then heated and cured at 120 DEG C. for 3 hours to obtain an organosilicon coating with a thickness of 2 to 3 .mu.m. Next, the organosilicon-coated poly-7-lylene glycol carbonate plate was vacuum-deposited using a commercially available vacuum evaporation apparatus under conditions of 10 Torr.
A silicon oxide film of 0.03 μm was formed. The evaluation results of the coatings are shown in Table 1.
有機ケイ素の被成用コート液は第1表に示す組成物が換
算量にして30重量%になるように溶媒のイソプロピル
フルコールに各相当量を混合溶解し、次いで上記組成の
フルフキシ基の加水分解に必要な当量の005規定塩酸
を室温で添加して1日放置熟成した後、硬化触媒として
酢酸ナトリウム/酢el (1/l。The organosilicon coating solution is prepared by mixing and dissolving the compositions shown in Table 1 in equivalent amounts in the solvent isopropylfluorol so that the equivalent amount is 30% by weight, and then hydrolyzing the flufoxy group of the above composition. After adding the required equivalent amount of 005N hydrochloric acid at room temperature and aging for one day, sodium acetate/acetic acid el (1/l) was added as a curing catalyst.
重量比)を換算量に対して2重量%を加えて調製した。(weight ratio) was prepared by adding 2% by weight to the converted amount.
なお、フルイドシリカは触媒化成製08CAL(商品名
: 8102 301KM%。The fluid silica is 08CAL (product name: 8102 301KM%) manufactured by Catalysts and Chemicals.
粒径10〜20mμ 、溶媒インプロピルフルフール)
を使用したー、
実施例 2
実施例1の/I65において、ジシラン化合物として第
2表の化合物を用いた以外は同様にして被膜を形成させ
た。該被膜の評価結果を第2表に併せて示す。Particle size 10-20 mμ, solvent inpropyl furfur)
EXAMPLE 2 A film was formed in the same manner as in Example 1 for /I65 except that the compound shown in Table 2 was used as the disilane compound. The evaluation results of the coating are also shown in Table 2.
以下余白
実施例 3
実施例1 、/I65において酸化ケイ素を酸化アルミ
ニウムに代えた以外は同様にして被膜を形成させた。該
被膜の性能は、初期密着性O1耐擦傷性A、耐熱水性(
外観、密着性ともK)Oであった。A coating was formed in the same manner as in Example 3 and /I65 except that silicon oxide was replaced with aluminum oxide. The performance of the film is as follows: initial adhesion O1, scratch resistance A, hot water resistance (
Both appearance and adhesion were rated K)O.
実施例 4
実施例Iにおいて、合成樹脂光学材として市販のポリメ
チルメタクリレート板状体を使用し、まずメタノールで
洗浄して充分に風乾し清澄な状態とした後、第1表/I
65に示す組成のコート液に浸漬し、加熱硬化を80℃
で4時間行った以外は同様にして被膜を形成させた。該
被膜の性能は、初期密着性○、耐擦傷性B、耐熱水性(
外観、密着性ともに)○であった。Example 4 In Example I, a commercially available polymethyl methacrylate plate was used as the synthetic resin optical material, first washed with methanol and thoroughly air-dried to a clear state, and then prepared as shown in Table 1/I.
65, and heat cured at 80°C.
A film was formed in the same manner except that the treatment was carried out for 4 hours. The performance of the film is as follows: initial adhesion ○, scratch resistance B, hot water resistance (
Both appearance and adhesion were ○.
実施例 5
合成樹脂光学材として注型重合により製造される2、2
1−ビス(4−(2−メタクリルキシ)−エトキシ−3
,5−ジブρモフェニル〕プロパン(以下、TBと略す
)とスチレンとの共重合板状体(TB/スチレンの重量
比が2/3である)を用い、前処理として該板状体を7
七トンで洗浄して充分に風乾し清澄な状態とした後、プ
ラズマ処理装置中でアルゴン/酸素の混合ガス(流量3
0d/騙/1゜1/騙)圧力0.7tom、出力200
W、処理時間1分の条件で処理し、次いで7セトンを溶
剤として超音波洗浄機を用いて5分間洗浄し再び風乾し
た。実施例Iにおいて、第1表/165の組成で示され
るコート液を使用して、上記処理した板状体を用いた以
外は同様にして被膜を形成した。該被膜の性能は、初期
密着性○、耐擦傷性A、耐熱水性(外観、密着性ともに
)Oであった。Example 5 2, 2 manufactured by cast polymerization as a synthetic resin optical material
1-bis(4-(2-methacryloxy)-ethoxy-3
, 5-dibu-ρmophenyl]propane (hereinafter abbreviated as TB) and styrene (the weight ratio of TB/styrene is 2/3).
After washing with 7 tons of water and thoroughly air-drying it to a clear state, a mixed gas of argon/oxygen (flow rate of 3
0d/deception/1゜1/deduction) Pressure 0.7tom, output 200
W, for a treatment time of 1 minute, and then washed for 5 minutes using an ultrasonic cleaner using 7 setone as a solvent, and air-dried again. In Example I, a coating was formed in the same manner as in Example I except that the coating liquid shown in Table 1/165 was used and the plate-shaped body treated as described above was used. The performance of the film was: initial adhesion ○, scratch resistance A, and hot water resistance (both appearance and adhesion) O.
実施例 6
実施例1の第1表−/I65において
の代わりに、ポリエチレングリコールジグリシジルエー
テル(共栄社油脂製、エボライト200E)あるいはへ
キサメトキシメチルメラミン50重量部と、1.4−ブ
タンジオール−50蚕賃部とからなる予備線金物を同量
添加したコート液を調製し、それ以外は同様にして被膜
を形成した。被膜の性能は、初期密着性O1耐擦傷性A
、耐熱水性(外観、密着性)○であった。Example 6 Instead of Table 1-/I65 of Example 1, 50 parts by weight of polyethylene glycol diglycidyl ether (Evolite 200E, manufactured by Kyoeisha Yushi) or hexamethoxymethylmelamine, and 50 parts by weight of 1,4-butanediol A coating solution was prepared in which the same amount of the preliminary wire hardware consisting of the silkworm part was added, and a coating was formed in the same manner as above. The performance of the film is initial adhesion O1 scratch resistance A
, hot water resistance (appearance, adhesion) was ○.
比較例 1
合成樹脂光学材として注型重合により製造したポリジエ
チレングリフールビス7リルカーボネート板状体とTB
/スチレンの共重合板状体とKついて、それぞれ7セト
ンで洗浄して充分に風乾し消溌な状態とした後、実施例
1と同じ真空蒸着装置を使用し同様の条件下で0.2〜
0.3μの酸化ケイ素の被膜を得た。Comparative Example 1 Polydiethylene glyfur bis7lyl carbonate plate and TB produced by cast polymerization as a synthetic resin optical material
/Styrene copolymer plate and K were each washed with 7 setsone and sufficiently air-dried to a quenchable state, and then 0.2 ~
A 0.3μ silicon oxide coating was obtained.
該被膜の性能はいずれの場合も、初期密着性○、耐擦傷
性り、耐熱水性(外y、VB着性ともK)Xであった。In all cases, the properties of the coatings were as follows: initial adhesion was good, scratch resistance was good, and hot water resistance was good (K for both external and VB adhesion).
比較例 2
比較列1において酸化ケイ素の代わりKh化アルミニウ
ムを用いた以外は同様にして酸化アルミニウム被膜を得
た。該被膜の性能はいずれの板状体の場合も、初期密着
性○、耐擦傷性り、耐熱水性(外観、密着性ともK)×
であった。Comparative Example 2 An aluminum oxide coating was obtained in the same manner as in Comparative Row 1 except that aluminum chloride was used instead of silicon oxide. The performance of the film is as follows: initial adhesion ○, scratch resistance, hot water resistance (both appearance and adhesion K)
Met.
特許出願人 徳山曹達株式会社patent applicant Tokuyama Soda Co., Ltd.
Claims (4)
子から成る2価の炭化水素基 R1及びRB は同一ま
たは異種のフルキル基またはアルコキシフルキル基、R
及びRは同一または異種のフルキル基、を及びmは0ま
たは1である)で表わされるジシラン化合物を加水分解
して得られる有機ケイ素化合物が被覆され、さらに該被
覆膜上に無機硬質物が被覆されて成ることを特徴とする
被膜を有する合成樹脂材(1) On the surface of the synthetic resin base material, a general formula (where A is a divalent hydrocarbon group whose main chain is linear and has at least 4 atoms, R1 and RB are the same or different furkyl groups or Alkoxyfurkyl group, R
and R are the same or different furkyl groups, and m is 0 or 1). Synthetic resin material having a coating characterized by being coated
水素基である特許請求の範囲第1項記載の被膜を有する
合成樹脂材(2) A synthetic resin material having a coating according to claim 1, wherein in the general formula, A is a hydrocarbon group containing an epoxy group.
炭化水素基である特許請求の範囲第1項記載の被膜を有
する合成樹脂材(3) A synthetic resin material having a coating according to claim 1, wherein in the general formula, A is a hydrocarbon group containing a carbonate group.
被膜を有する合成樹脂材(4) Synthetic resin material having a coating according to claim 1 used as an optical material
Priority Applications (1)
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JPH0129376B2 JPH0129376B2 (en) | 1989-06-09 |
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