JPS60139653A - シクロペンテン誘導体 - Google Patents
シクロペンテン誘導体Info
- Publication number
- JPS60139653A JPS60139653A JP58248712A JP24871283A JPS60139653A JP S60139653 A JPS60139653 A JP S60139653A JP 58248712 A JP58248712 A JP 58248712A JP 24871283 A JP24871283 A JP 24871283A JP S60139653 A JPS60139653 A JP S60139653A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- formula
- amino
- cyclopentene
- acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、式
で表わされる３−アミノ−５−ヒドロキシ−１−シクロ
ペンテン−１−メタノールまたはその水酸基が保護され
た化合物、またはそれらの光学活性体・あ“’４；ｔ＋
ｔｌｔＤ酸付加塩に関す６・式（１）の化合物において
、水酸基が保護された化合物とは有機合成化学の分野で
常用されている保護基により保護された化合物を意味す
る。
ペンテン−１−メタノールまたはその水酸基が保護され
た化合物、またはそれらの光学活性体・あ“’４；ｔ＋
ｔｌｔＤ酸付加塩に関す６・式（１）の化合物において
、水酸基が保護された化合物とは有機合成化学の分野で
常用されている保護基により保護された化合物を意味す
る。
１位のメタノール部の水酸基の保護基としては、たとえ
ば、ホルミル、アセチル、クロロアセチル、トリクロロ
アセチル、トリフルオロアセチル、メトキシカルボニル
、フェノキシカルボニル、トリチルオキシカルボニル、
β−ベンゾイルプロピオニル、ピバロイル、ベンゾイル
などのアシル基、トリチル、メトキシトリチル、ジメト
キシトリチル、トリメトキシトリチルなどのトリチル基
、メトキシメチル基などがあげられる。５位の水酸基の
保護基としては、たとえばホルミル、アセチル、メトキ
シカルボニル、第三ブト□キシカルボニル、ベンゾイル
、ｐ−クロロベンゾイルオキシカルボニルなどのアシル
基、第三ブチル、メトキシメチル、゛α−メトキシエチ
ル、α−エトキシエチルなどのアルキル基、ベンジル、
０−ニトロベンジル、トリチルな、どのアラルキル基、
テ′トラヒドロピラニル、メトキシテトラヒドロピラニ
ルなどのピラニル基、トリメチルシリル、第三ブヂルジ
メチルシリル、第三ブチルジフェニルシリルなどのシリ
。
ば、ホルミル、アセチル、クロロアセチル、トリクロロ
アセチル、トリフルオロアセチル、メトキシカルボニル
、フェノキシカルボニル、トリチルオキシカルボニル、
β−ベンゾイルプロピオニル、ピバロイル、ベンゾイル
などのアシル基、トリチル、メトキシトリチル、ジメト
キシトリチル、トリメトキシトリチルなどのトリチル基
、メトキシメチル基などがあげられる。５位の水酸基の
保護基としては、たとえばホルミル、アセチル、メトキ
シカルボニル、第三ブト□キシカルボニル、ベンゾイル
、ｐ−クロロベンゾイルオキシカルボニルなどのアシル
基、第三ブチル、メトキシメチル、゛α−メトキシエチ
ル、α−エトキシエチルなどのアルキル基、ベンジル、
０−ニトロベンジル、トリチルな、どのアラルキル基、
テ′トラヒドロピラニル、メトキシテトラヒドロピラニ
ルなどのピラニル基、トリメチルシリル、第三ブヂルジ
メチルシリル、第三ブチルジフェニルシリルなどのシリ
。
ル基などがあげられる。また、１位のメタノール部およ
び５位の水酸基は１ 、 、ｊ、 ３．、．３−テトラ
イソプロピルジシロキサン−１，３−ジイル基などで同
時に保護されていてもよい。
び５位の水酸基は１ 、 、ｊ、 ３．、．３−テトラ
イソプロピルジシロキサン−１，３−ジイル基などで同
時に保護されていてもよい。
本発明の化合物には、１位および５位の水酸基の両方が
保護された化合物ばかりでなく、一方が保護された化合
物も包含される。
保護された化合物ばかりでなく、一方が保護された化合
物も包含される。
本発明の化合物（１）は、一般式
（式中、Ｒはホルミル、カルバモイル、メトキシカルボ
ニル、第三ブトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボ
ニル等のアミノ基の保護基を示す、）で表わされる化合
物を、好ましくは、Ｊ、 Ｃｈｅｍ。
ニル、第三ブトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボ
ニル等のアミノ基の保護基を示す、）で表わされる化合
物を、好ましくは、Ｊ、 Ｃｈｅｍ。
Ｒｅｓ、、１９７９． ２４〜２５または同１９７９゜
１８１〜１９７に記載されているように、適当な゛ 有
機溶媒中、アミンの存在下に、１．３−ジクロＣｌ−１
，１，３，−テトライソプロピルジシロキサンと反応さ
せて、１位のメタノール曹の水酸基と５位の水酸基とを
保護して、得られる一般式−（式中、ｉＰｒはイソプロ
ピルを示し、Ｒは前記と同義である。） で表わされる化合物とＮ、Ｎ’−チオカルボニルジイミ
ダゾール、アルキルキサンテート、アリールキサンテー
トまたは、ピリジルキサンテートとをベンゼンなどの有
機溶媒中にて反応さセて、一般式 ％式％） （式中、Ｒ１は１−イミダゾリル、メチルチオＪフェニ
ルチオ、２−ピリジルチオなどを示し、Ｒ２１Ｐｒは前
記と同義である。） で表わされる化合物を得、これをベンゼン、トルエンな
どの有機溶媒中、加熱下、好ましくは、α。
１８１〜１９７に記載されているように、適当な゛ 有
機溶媒中、アミンの存在下に、１．３−ジクロＣｌ−１
，１，３，−テトライソプロピルジシロキサンと反応さ
せて、１位のメタノール曹の水酸基と５位の水酸基とを
保護して、得られる一般式−（式中、ｉＰｒはイソプロ
ピルを示し、Ｒは前記と同義である。） で表わされる化合物とＮ、Ｎ’−チオカルボニルジイミ
ダゾール、アルキルキサンテート、アリールキサンテー
トまたは、ピリジルキサンテートとをベンゼンなどの有
機溶媒中にて反応さセて、一般式 ％式％） （式中、Ｒ１は１−イミダゾリル、メチルチオＪフェニ
ルチオ、２−ピリジルチオなどを示し、Ｒ２１Ｐｒは前
記と同義である。） で表わされる化合物を得、これをベンゼン、トルエンな
どの有機溶媒中、加熱下、好ましくは、α。
α′−アゾビスイソブチロニトリルなどのラジカル開始
剤を触媒として用いて水素化トリブチル錫などでラジカ
ル的に還元して、一般式 （式中４ Ｒ＋ ｉ Ｐ ｒは前記と同義である。）で
表わされる化合物を得、次いで、たとえばフッ化テトラ
ブチルアンモニウムによりシリル基を脱離し、さらにア
ミノ基保護基をも脱離することによって製造される。
１ このようにして得られる目的化合物は、シリカゲル、吸
着樹脂などの吸着剤に吸着させて溶出するカラムクロマ
トグラフィーやイオン交換樹脂を用いる方法などにより
分離精製することができる。
剤を触媒として用いて水素化トリブチル錫などでラジカ
ル的に還元して、一般式 （式中４ Ｒ＋ ｉ Ｐ ｒは前記と同義である。）で
表わされる化合物を得、次いで、たとえばフッ化テトラ
ブチルアンモニウムによりシリル基を脱離し、さらにア
ミノ基保護基をも脱離することによって製造される。
１ このようにして得られる目的化合物は、シリカゲル、吸
着樹脂などの吸着剤に吸着させて溶出するカラムクロマ
トグラフィーやイオン交換樹脂を用いる方法などにより
分離精製することができる。
また、常法により塩酸、臭化水素酸、”ノン酸、硝酸、
硫酸などの無機酸またはｐ−トルエンスルホン酸、メタ
ンスルホン酸、クエン酸、乳酸、マレイン酸、フマール
酸、コハク酸、酒石酸などの有機酸で処理することによ
り、対応する酸付加塩にすることができる。 、 、 上記の原料化合物（Ｉ［）は、シクロペンタジェンとア
セチレンジカルボン酸ジメチル生から３段階で得られる
式 、 で表わされる化合物を、一方のエステル基のみを選択的
に不斉加水分解しうる能力を有するエステラーゼまたは
微生物の培養液、菌体もしくは菌体処理物で処理して得
られるモノエステル化合物より製造することができる。
硫酸などの無機酸またはｐ−トルエンスルホン酸、メタ
ンスルホン酸、クエン酸、乳酸、マレイン酸、フマール
酸、コハク酸、酒石酸などの有機酸で処理することによ
り、対応する酸付加塩にすることができる。 、 、 上記の原料化合物（Ｉ［）は、シクロペンタジェンとア
セチレンジカルボン酸ジメチル生から３段階で得られる
式 、 で表わされる化合物を、一方のエステル基のみを選択的
に不斉加水分解しうる能力を有するエステラーゼまたは
微生物の培養液、菌体もしくは菌体処理物で処理して得
られるモノエステル化合物より製造することができる。
すなわち、シクロペンタジェンとアセチレンジカルボン
酸ジメチルとをディールス・アルダ−反応に付して得た
ビシクロ（２，２，１）へブタ−２，５−ジエン−２，
３−ジカルボン酸ジメチルを四酸化オスミウムで酸化し
、得られた５、６−ジヒドロキシ（２，２゜１〕ヘプタ
−２−エン−２，３−ジカルボン酸ジメチルのヒドロキ
シ基をイソプロピリデン基で保護して毎られる化合物（
Ｖｌ）をブタ肝臓由来エステラーゼで不斉加水分解して
モノメチルエステル体とし、これをオゾン酸化して２．
３−ジメチルメチレンジオキシ−４−メトキサツルシク
ロペンクン−１−カルボン酸を得、これを順次２，３−
・ジメチルメチレンジオキシ−４−ホルミルシクロペン
クン−１−カルボン酸、６．７−シメチルメチレンジオ
キシー３−オキサビシクロ（３，２゜１〕オクタン−２
−オン、２，３−ジメチルメチレンジオキシ−４−フェ
ニルセレノメチルシクロペンクン−１−カルボン酸に変
換し、次いで、クルチウス反応によりイソシアネート化
した後、２゜３−ジメチルメチレンジオキシ−４−フェ
ニルセレノメチルシクロペンタン−１−カルバミン酸メ
チルを得、これをエキソメチレン化して、２．３−ジメ
チルメチレンジオキシ−４−メチレンシクロペンクン−
１−カルバミン酸メチルを得、これをエポキシ化して６
．７−シメチルメチレンジオキシー１−オキサスピロ（
２，４）へブタン−５−カルバミン酸メチルを得、これ
を２．３−ジメチルメチレンジオキシ−４−ヒドロキシ
−４−シクロペンテン−１−カルバミン酸メチルに変換
し、次いで、ジメチルメチレン基を常法により脱離する
ことにより得られる。
酸ジメチルとをディールス・アルダ−反応に付して得た
ビシクロ（２，２，１）へブタ−２，５−ジエン−２，
３−ジカルボン酸ジメチルを四酸化オスミウムで酸化し
、得られた５、６−ジヒドロキシ（２，２゜１〕ヘプタ
−２−エン−２，３−ジカルボン酸ジメチルのヒドロキ
シ基をイソプロピリデン基で保護して毎られる化合物（
Ｖｌ）をブタ肝臓由来エステラーゼで不斉加水分解して
モノメチルエステル体とし、これをオゾン酸化して２．
３−ジメチルメチレンジオキシ−４−メトキサツルシク
ロペンクン−１−カルボン酸を得、これを順次２，３−
・ジメチルメチレンジオキシ−４−ホルミルシクロペン
クン−１−カルボン酸、６．７−シメチルメチレンジオ
キシー３−オキサビシクロ（３，２゜１〕オクタン−２
−オン、２，３−ジメチルメチレンジオキシ−４−フェ
ニルセレノメチルシクロペンクン−１−カルボン酸に変
換し、次いで、クルチウス反応によりイソシアネート化
した後、２゜３−ジメチルメチレンジオキシ−４−フェ
ニルセレノメチルシクロペンタン−１−カルバミン酸メ
チルを得、これをエキソメチレン化して、２．３−ジメ
チルメチレンジオキシ−４−メチレンシクロペンクン−
１−カルバミン酸メチルを得、これをエポキシ化して６
．７−シメチルメチレンジオキシー１−オキサスピロ（
２，４）へブタン−５−カルバミン酸メチルを得、これ
を２．３−ジメチルメチレンジオキシ−４−ヒドロキシ
−４−シクロペンテン−１−カルバミン酸メチルに変換
し、次いで、ジメチルメチレン基を常法により脱離する
ことにより得られる。
本発明の化合物のうち、光学活性体、特に上記のように
して得られる（−）異性体が有用である。
して得られる（−）異性体が有用である。
すなわち、本発明の化合物の（−）異性体は、たとえば
次に示すようにＬ５１７８Ｙ細胞に対し生育阻害作用を
示す２′−デオキシネプラノシンＡ（特開昭５７−１０
２．８８９号）の合成中間体と−して有用である。
次に示すようにＬ５１７８Ｙ細胞に対し生育阻害作用を
示す２′−デオキシネプラノシンＡ（特開昭５７−１０
２．８８９号）の合成中間体と−して有用である。
Ｉ
以下、参考例および実施例により本発明を具体的に説明
するが、本発明はそれらに限定されるもので、はない。
するが、本発明はそれらに限定されるもので、はない。
参考例＝２．３−ジヒドロキシ−゛４−ヒドロキシメチ
ル−４−シクロペンテン−１−力ルハミン酸メチルの製
造 特願昭５８−１１６１５１号に記載した参考例（ａ）〜
（ｉ）と同様にして、５．６−シメチルメチレンジオキ
シビシクロ［２，２，１３へブタ−２−エン−２，３−
ジカルボン酸ジメチルから製造される融点１３９〜１４
０℃で〔α〕＋５−−−６７．２° （Ｃ＝ ０．５
、クロロホルム）を示す２゜３−ジメチルメチレンジオ
キシ−４−ヒドロキシメチル−４−シクロペンテン−１
−カルバミン酸メチル７５ｍｇを５０％合水酢酸に溶か
し、５０℃で５時間攪拌する０反応後、溶媒を完全に留
去し、残液を塩化メチレンとメタノールの９：ｘ繰合溶
媒を展開溶媒としてシリカゲルカラムクロマトにより精
製すると、結晶６２．ｊｇが得られる。これ−１９ をアセトンとへキ号ンの３＝１混合溶媒から再結晶する
と、融点１２６．５〜１２８℃の標記化合物が白色結晶
として得られる。
ル−４−シクロペンテン−１−力ルハミン酸メチルの製
造 特願昭５８−１１６１５１号に記載した参考例（ａ）〜
（ｉ）と同様にして、５．６−シメチルメチレンジオキ
シビシクロ［２，２，１３へブタ−２−エン−２，３−
ジカルボン酸ジメチルから製造される融点１３９〜１４
０℃で〔α〕＋５−−−６７．２° （Ｃ＝ ０．５
、クロロホルム）を示す２゜３−ジメチルメチレンジオ
キシ−４−ヒドロキシメチル−４−シクロペンテン−１
−カルバミン酸メチル７５ｍｇを５０％合水酢酸に溶か
し、５０℃で５時間攪拌する０反応後、溶媒を完全に留
去し、残液を塩化メチレンとメタノールの９：ｘ繰合溶
媒を展開溶媒としてシリカゲルカラムクロマトにより精
製すると、結晶６２．ｊｇが得られる。これ−１９ をアセトンとへキ号ンの３＝１混合溶媒から再結晶する
と、融点１２６．５〜１２８℃の標記化合物が白色結晶
として得られる。
実施例
２．３−ジヒドロキシ−４−ヒドロキシメチル−４−シ
クロペンテン−１−カルバミン酸メチル７２−ｇを無水
ジメチルホルムアミド２ｍｌに熔かし、これにイミダゾ
ール１０６１１ｇを加え、室温にて攪拌しながら、１，
３−ジクロロ−１，１，３，３−テトライソプロピルジ
シロキサン１２２鵬８を滴下する。Ｍ温にて２時間攪拌
し、飽和食塩水に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。酢酸エ
チル層を水洗し、芒硝で乾燥後、減圧下に溶媒を留去す
る。得られた残渣をヘキサンと酢酸エチルとの３：ｌ混
合溶媒を展開溶媒としてシリカゲルカラムクロマトにて
精製すると、３位の水酸基と４位のメタノール部の水酸
基が１．１，３．３−テトライソプロピルジシロキサン
−１，３−ジイル基で保護された化合物８７−Ｒが得ら
れる。
クロペンテン−１−カルバミン酸メチル７２−ｇを無水
ジメチルホルムアミド２ｍｌに熔かし、これにイミダゾ
ール１０６１１ｇを加え、室温にて攪拌しながら、１，
３−ジクロロ−１，１，３，３−テトライソプロピルジ
シロキサン１２２鵬８を滴下する。Ｍ温にて２時間攪拌
し、飽和食塩水に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。酢酸エ
チル層を水洗し、芒硝で乾燥後、減圧下に溶媒を留去す
る。得られた残渣をヘキサンと酢酸エチルとの３：ｌ混
合溶媒を展開溶媒としてシリカゲルカラムクロマトにて
精製すると、３位の水酸基と４位のメタノール部の水酸
基が１．１，３．３−テトライソプロピルジシロキサン
−１，３−ジイル基で保護された化合物８７−Ｒが得ら
れる。
プロトン核磁気共鳴スペクトル（重クロロホルふ／ＴＭ
Ｓ）δ＋１．０７ （２８Ｈ’、・ｄ、 Ｊ ＝ ４１
１ｚ） ＋３．１４ （ＩＮ、、ｄ、Ｊ−５Ｈｚ） ；
３．７０ （３Ｈ，ｓ、） ＋ ３．９９ （Ｉ Ｈ，
’ｄｄｄ、Ｊ ＝２．５−、、 ５Ｈｚ）＋４．３６
（２Ｈ，ｓ）＋４．５６ （ＬＨ，ｂｒ）；４．９９
（１１（、ｄ、Ｊ＝５１１ｚ） ；５．６４ （ＩＨ。
Ｓ）δ＋１．０７ （２８Ｈ’、・ｄ、 Ｊ ＝ ４１
１ｚ） ＋３．１４ （ＩＮ、、ｄ、Ｊ−５Ｈｚ） ；
３．７０ （３Ｈ，ｓ、） ＋ ３．９９ （Ｉ Ｈ，
’ｄｄｄ、Ｊ ＝２．５−、、 ５Ｈｚ）＋４．３６
（２Ｈ，ｓ）＋４．５６ （ＬＨ，ｂｒ）；４．９９
（１１（、ｄ、Ｊ＝５１１ｚ） ；５．６４ （ＩＨ。
ｂｒａ ）
質量スペクトル（ｍ／ｅ）＋ ４４５ （Ｍ”）＋４２
８ （Ｍ” −０Ｈ） ； ４０３この化合物３５−ｇ
を無水ベンゼン３ｍｌに溶かし、アルゴン気流下にＮ、
Ｎ’−チオカルボニルジイミダゾール２８−ｇを加え、
５時間攪拌還流する。
８ （Ｍ” −０Ｈ） ； ４０３この化合物３５−ｇ
を無水ベンゼン３ｍｌに溶かし、アルゴン気流下にＮ、
Ｎ’−チオカルボニルジイミダゾール２８−ｇを加え、
５時間攪拌還流する。
冷却後、溶媒を留去し、ヘキサンと酢酸エチルの２：１
混合溶媒を用いてシリカゲルカラムクロマトを行い、次
いでヘキサンから結晶化させると、融点１０７．５〜１
０８．５℃の白色結晶が得られる。
混合溶媒を用いてシリカゲルカラムクロマトを行い、次
いでヘキサンから結晶化させると、融点１０７．５〜１
０８．５℃の白色結晶が得られる。
この白色結晶２７ｍｇを無水トルエン１細１に溶かし、
α、α′−アゾビスイソブチロニトリル８ｍｇを加え、
７０℃に加熱攪拌する。これに水素化トリブチル錫２０
ｔｔｌｌを加え、３時間攪拌しながら還流する。冷後、
溶媒を留去して得られる残渣をヘキサンと酢酸エチルの
４：ｌ混合溶媒を展開溶媒としてシリカゲルカラムクロ
マトにより精製すると、融点１０４〜１０６℃の式 で表わされる化合物が得られる。
α、α′−アゾビスイソブチロニトリル８ｍｇを加え、
７０℃に加熱攪拌する。これに水素化トリブチル錫２０
ｔｔｌｌを加え、３時間攪拌しながら還流する。冷後、
溶媒を留去して得られる残渣をヘキサンと酢酸エチルの
４：ｌ混合溶媒を展開溶媒としてシリカゲルカラムクロ
マトにより精製すると、融点１０４〜１０６℃の式 で表わされる化合物が得られる。
プロトン核磁気共鳴スペクトル（重クロロホルム／ＴＭ
Ｓ）δ：１．０６ （２８Ｈ，ｂｒｓ） ；２．１．４
（２Ｈ，ｍ） ；３．６７ （３Ｈ，ａ） ＋４．３
５ （２Ｈ，ｓ）＋４．１２ （２Ｈ，ｂｒ）；５．１
５ （ＩＮ、ｔｏｆｄｄ）；５．６０ （ＩＨ，Ｉ）質
量スペクトル（ｍ／ｅ） ： ４２９ （Ｍ” ） １
３８６ （Ｍ” −ＣＯ（ＣＨｓ）２）このようにして
得られた化合物７２驕ｇを無、水テトラヒドロフラン５
ｍｌに溶かし、アルゴン気流■に室温で攪拌しながら、
°１モルのフン化テトラブチルアンモニウムのテト？ヒ
ドロフラン溶液ｏ、装置１を滴下する。室温にて３０分
間攪拌し、溶媒を留去する。残留した油状物をシリカゲ
ルに吸着させ、展開溶媒として酢酸エチル、次いてテト
ラヒドロフランを用いてドライシリカゲルカラムクロマ
トにて精製すると、３−ヒドロキシ−４−ヒドロキシメ
チル−４−シクロペンテン−１−カルバミン酸メチル３
１ｍｇ（定量的）がシロップとして得られる。
Ｓ）δ：１．０６ （２８Ｈ，ｂｒｓ） ；２．１．４
（２Ｈ，ｍ） ；３．６７ （３Ｈ，ａ） ＋４．３
５ （２Ｈ，ｓ）＋４．１２ （２Ｈ，ｂｒ）；５．１
５ （ＩＮ、ｔｏｆｄｄ）；５．６０ （ＩＨ，Ｉ）質
量スペクトル（ｍ／ｅ） ： ４２９ （Ｍ” ） １
３８６ （Ｍ” −ＣＯ（ＣＨｓ）２）このようにして
得られた化合物７２驕ｇを無、水テトラヒドロフラン５
ｍｌに溶かし、アルゴン気流■に室温で攪拌しながら、
°１モルのフン化テトラブチルアンモニウムのテト？ヒ
ドロフラン溶液ｏ、装置１を滴下する。室温にて３０分
間攪拌し、溶媒を留去する。残留した油状物をシリカゲ
ルに吸着させ、展開溶媒として酢酸エチル、次いてテト
ラヒドロフランを用いてドライシリカゲルカラムクロマ
トにて精製すると、３−ヒドロキシ−４−ヒドロキシメ
チル−４−シクロペンテン−１−カルバミン酸メチル３
１ｍｇ（定量的）がシロップとして得られる。
Ｒｆ値−Ｊ、１５（塩化メチレン：メタノール−９：■
） 赤外線吸収スペクトル（ｃｓ −’ 、液膜法）：３３
５０ （ＯＨ）； １６９０〜１７１Ｇ （Ｃｏ２ＣＨ
。
） 赤外線吸収スペクトル（ｃｓ −’ 、液膜法）：３３
５０ （ＯＨ）； １６９０〜１７１Ｇ （Ｃｏ２ＣＨ
。
）；１４６０；１０６Ｇ
プロトン核磁気共鳴スペクトル（重クロロホルム、重メ
タノール／ＴＮｓ）δ１．１０（２１（。
タノール／ＴＮｓ）δ１．１０（２１（。
ｍ、ＣＨ２）＋ ３．６０ （３Ｈ，ｓ、Ｃｏ＞ ＣＨ
３）； ４．０’０ （２Ｈ，ｓ、０）（）； ４．２
ｌ （２Ｈ。
３）； ４．０’０ （２Ｈ，ｓ、０）（）； ４．２
ｌ （２Ｈ。
ｓ、Ｃ旦２０Ｈ）ｉ４．８０ （２１（、ｂｒ、ＱＣ旦
。
。
ＮＣＨ）；５．６Ｂ （ＩＨ，ｓ、：：Ｃ＝Ｃ１１−）
；６．９６ （ＩＨ，ａ、ＮＨ） 、質量スペクトル（ｍ／ｓ）’： １６９ （Ｍ” −Ｈ２０） このカルバミン酸メチル化合物３１−ｇを無水テトラヒ
ドロフランに溶かし、ジイソプロピルエチルアミン０．
２ｍｌを加え、水冷下にメトキシメチルクロライド０．
１ｍｌを滴下する。室温にて１日攪拌し、溶媒を留去し
て酢酸エチルにて抽出する。酢酸エチル層を常法により
処理した後、残留した油状物を展開溶媒として酢酸エチ
ルとへキサンの１：２混合溶媒を用いて精製すると、３
−メトキシメトキシ−４−メトキシメトキシメチル−４
−シクロペンテン−１−力ルバミン酸メチル３８−ｇ（
収率８３％）がシロップとして得られる。
；６．９６ （ＩＨ，ａ、ＮＨ） 、質量スペクトル（ｍ／ｓ）’： １６９ （Ｍ” −Ｈ２０） このカルバミン酸メチル化合物３１−ｇを無水テトラヒ
ドロフランに溶かし、ジイソプロピルエチルアミン０．
２ｍｌを加え、水冷下にメトキシメチルクロライド０．
１ｍｌを滴下する。室温にて１日攪拌し、溶媒を留去し
て酢酸エチルにて抽出する。酢酸エチル層を常法により
処理した後、残留した油状物を展開溶媒として酢酸エチ
ルとへキサンの１：２混合溶媒を用いて精製すると、３
−メトキシメトキシ−４−メトキシメトキシメチル−４
−シクロペンテン−１−力ルバミン酸メチル３８−ｇ（
収率８３％）がシロップとして得られる。
Ｒｆ値−０，６４（酢酸エチル）
赤外線吸収スペクトル（ｃｓ −’ 、液膜法）：３３
３０ （ＮＨ）ｉｌ？００〜１７２０ （Ｃｏ２ＣＨ＋
）；１５３０ プロトン核磁気共鳴スペクトル（重クロロホルム／ＴＭ
Ｓ）δ： １．９４ （ＩＨ，ｄｄｄ、Ｊ−４，３゜７
．１４Ｈｚ、ＣＨ）；２．３Ｂ （ＩＨ，ｄｄｄ、３゜
７．１４Ｈ３ＣＨ） ；３．３８ （６Ｈ，ａ。
３０ （ＮＨ）ｉｌ？００〜１７２０ （Ｃｏ２ＣＨ＋
）；１５３０ プロトン核磁気共鳴スペクトル（重クロロホルム／ＴＭ
Ｓ）δ： １．９４ （ＩＨ，ｄｄｄ、Ｊ−４，３゜７
．１４Ｈｚ、ＣＨ）；２．３Ｂ （ＩＨ，ｄｄｄ、３゜
７．１４Ｈ３ＣＨ） ；３．３８ （６Ｈ，ａ。
（ＯＣＨ３） ２ ） ｓ ３．６７ （３Ｈ，、ｓ。
ＣＯ２ＣＨａ ） ； ４．１ Ｂ （２Ｈ，Ｓ、 Ｃ
且２０Ｈ）＋４．６６ （４Ｈ，ｓ、（ＯＣＨ２０）２
） ；４．８０ ＜３Ｈ，ｍ、ＮＣＲ，（ＯＣＲ）２
） ｉ ５．８４（ＩＨ，ｔｌ、 ′：；Ｃ＝Ｃ旦−） 質量スペクトル（ｍ／ｅ） ： ２４４ （Ｍ” −０
ＣＨ３） ；２１３ （Ｍ” （ＯＣＨ３）２）こうし
て得られた０−メトキシメチル化合物３８−ｇをメタノ
ール５４１に熔かし、２．５規定水酸化カリウム水溶液
４ｍｌを加え、１２時間攪拌還流する。冷後、溶媒を留
去し、クロロホルムにて数回抽出する。クロロホルム層
を常法にて処理すると、粗油状物として３−メトキシメ
トキシ−４−メトキシメトキシメチル−４−シクロペン
テン−１−アミンが得られる。
且２０Ｈ）＋４．６６ （４Ｈ，ｓ、（ＯＣＨ２０）２
） ；４．８０ ＜３Ｈ，ｍ、ＮＣＲ，（ＯＣＲ）２
） ｉ ５．８４（ＩＨ，ｔｌ、 ′：；Ｃ＝Ｃ旦−） 質量スペクトル（ｍ／ｅ） ： ２４４ （Ｍ” −０
ＣＨ３） ；２１３ （Ｍ” （ＯＣＨ３）２）こうし
て得られた０−メトキシメチル化合物３８−ｇをメタノ
ール５４１に熔かし、２．５規定水酸化カリウム水溶液
４ｍｌを加え、１２時間攪拌還流する。冷後、溶媒を留
去し、クロロホルムにて数回抽出する。クロロホルム層
を常法にて処理すると、粗油状物として３−メトキシメ
トキシ−４−メトキシメトキシメチル−４−シクロペン
テン−１−アミンが得られる。
赤外線吸収スペクトル（ａｍ−’、液膜法）＝３３５０
１９４０；２８６０＋１１９０；１０８０プロトン核磁
気共鳴スペクトル（重クロロホルム／ＴＭＳ）δ＋ ２
．００． ２．３０ （２Ｈ，ｍ。
１９４０；２８６０＋１１９０；１０８０プロトン核磁
気共鳴スペクトル（重クロロホルム／ＴＭＳ）δ＋ ２
．００． ２．３０ （２Ｈ，ｍ。
ＣＨ２）：３．３Ｂ （６Ｈ，ａ、（ＯＣＨａ）２）＋
４．０６ （ｂｒ、ＮＨ２） ｉ４．２Ｇ （２Ｈ，ｓ
。
４．０６ （ｂｒ、ＮＨ２） ｉ４．２Ｇ （２Ｈ，ｓ
。
ＣＨ２０）’＋４．６６ （４Ｈ，ｓ、（ＯＣＨ２０）
２） ； ４．７０〜４．８０ （２Ｂ、 ｍ、 ＯＣ
Ｈ，Ｃ，ＩＬＮ） ＋５．９０ （ＩＨ，ｓ、 ′；Ｃ
−Ｃ且−）質量スペクトル（ｍ／ｅ） ＋ １８６ （
Ｍ” −０ＣＨａ ）； １７２ （Ｍ＋−ＯＣＨａ
０ＣＨａ ）＋ １５５ （Ｍ” （ＯＣＨＩ）２）こ
の粗油状物を常法によりメトキシメチル基を脱離させ、
次いで塩酸塩とすることにより、目的とする３−アミノ
−５−ヒドロキシ−１−シクロペンテン−１−メタノー
ル塩酸塩が結晶として得られる。
２） ； ４．７０〜４．８０ （２Ｂ、 ｍ、 ＯＣ
Ｈ，Ｃ，ＩＬＮ） ＋５．９０ （ＩＨ，ｓ、 ′；Ｃ
−Ｃ且−）質量スペクトル（ｍ／ｅ） ＋ １８６ （
Ｍ” −０ＣＨａ ）； １７２ （Ｍ＋−ＯＣＨａ
０ＣＨａ ）＋ １５５ （Ｍ” （ＯＣＨＩ）２）こ
の粗油状物を常法によりメトキシメチル基を脱離させ、
次いで塩酸塩とすることにより、目的とする３−アミノ
−５−ヒドロキシ−１−シクロペンテン−１−メタノー
ル塩酸塩が結晶として得られる。
特許出願人 吉富製薬株式会社
東洋醸造株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 式 で表わされる３−アミノ−５−ヒドロキシ−１−シクロ
ペンテン−１−メタノール、またはその水酸基が保護さ
れた化合物またはそれらの光学活性体、あるいはそれら
の酸付加塩。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58248712A JPS60139653A (ja) | 1983-12-27 | 1983-12-27 | シクロペンテン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58248712A JPS60139653A (ja) | 1983-12-27 | 1983-12-27 | シクロペンテン誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60139653A true JPS60139653A (ja) | 1985-07-24 |
| JPH0477739B2 JPH0477739B2 (ja) | 1992-12-09 |
Family
ID=17182213
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58248712A Granted JPS60139653A (ja) | 1983-12-27 | 1983-12-27 | シクロペンテン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60139653A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6392085B2 (en) * | 1992-02-25 | 2002-05-21 | Smithkline Beecham Corporation | Therapeutic nucleosides |
-
1983
- 1983-12-27 JP JP58248712A patent/JPS60139653A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6392085B2 (en) * | 1992-02-25 | 2002-05-21 | Smithkline Beecham Corporation | Therapeutic nucleosides |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0477739B2 (ja) | 1992-12-09 |
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