JPS5932472B2 - ２−アルキル−７−アシルアミノ−２（または３）−セフエム−４−カルボン酸類の製造法 - Google Patents
２−アルキル−７−アシルアミノ−２（または３）−セフエム−４−カルボン酸類の製造法Info
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- JPS5932472B2 JPS5932472B2 JP48030719A JP3071973A JPS5932472B2 JP S5932472 B2 JPS5932472 B2 JP S5932472B2 JP 48030719 A JP48030719 A JP 48030719A JP 3071973 A JP3071973 A JP 3071973A JP S5932472 B2 JPS5932472 B2 JP S5932472B2
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Description
【発明の詳細な説明】
この発明は一般式
Ｈ’Ｎ□Ｒ” 。
Ｉ、（式中Ｒ１はアルキル基、Ｘは−５−または−５−
、点線は２または３−セフエムをそれぞれ意味する）で
示される２−アルキルーJメ[アミノ一２（または３）−
セフエム一４−カルボン酸類もしくはそのカルボキシ基
におけるエステルもしくはそれらのアミノ基における反
応性誘導体もしくはそれらの塩類にアシル化剤を作用さ
せて一般式（式中Ｒ１、Ｘおよび点線は前と同じ意味、
Ｒ２はアシルアミノ基を意味する）で示される２−アル
キルーJメ[アシルアミノ一２（または３）−セフエム一
４−カルボン酸類もしくはそのカルボキシ基におけるエ
ステルもしくはそれらの塩類を得ることからなる２−ア
ルキルJメ[アシルアミノ一２（または３）−セフエム４
−カルボン酸類の製造法に関するものである。
、点線は２または３−セフエムをそれぞれ意味する）で
示される２−アルキルーJメ[アミノ一２（または３）−
セフエム一４−カルボン酸類もしくはそのカルボキシ基
におけるエステルもしくはそれらのアミノ基における反
応性誘導体もしくはそれらの塩類にアシル化剤を作用さ
せて一般式（式中Ｒ１、Ｘおよび点線は前と同じ意味、
Ｒ２はアシルアミノ基を意味する）で示される２−アル
キルーJメ[アシルアミノ一２（または３）−セフエム一
４−カルボン酸類もしくはそのカルボキシ基におけるエ
ステルもしくはそれらの塩類を得ることからなる２−ア
ルキルJメ[アシルアミノ一２（または３）−セフエム４
−カルボン酸類の製造法に関するものである。
この発明の原料物質は新規物質であり、例えば２−アル
キル−６−アミノ−２・３−メチレンペナム一３−カル
ボン酸もしくはその１−オキサイドまたはそれらのカル
ボキシ基におけるエステルにルイス酸を作用させること
により製造することができる。上記式の定義におぃて、
Ｒ１におけるアルキル基としては、例えばメチル、エチ
ル、プロピル、ブチル等が挙げられる。
キル−６−アミノ−２・３−メチレンペナム一３−カル
ボン酸もしくはその１−オキサイドまたはそれらのカル
ボキシ基におけるエステルにルイス酸を作用させること
により製造することができる。上記式の定義におぃて、
Ｒ１におけるアルキル基としては、例えばメチル、エチ
ル、プロピル、ブチル等が挙げられる。
また２−アルキルーJメ[アミノ一２（または３）セフエ
ム一４−カルボン酸類（１）のカルボキシ基におけるエ
ステルとしては活性エステル及び非活性エステルのすべ
てを含み、例えば、エステル部分が、メチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、第３級ブチル、シク
ロヘキシル、シクロヘプチル、ビニル、１−プロペニル
、２プロペニル、１・１−ジメチル−２−プロペニル、
３−ブテニル、１・１−ジメチル−２−プロピニル等の
飽和もしくは不飽和アルキル、フエニル、キシリル、ト
リル、ナフチル等のアリール、ベンジル、フエネチル等
のアラルキル、また前記飽和もしくは不飽和アルキルお
よびアラルキルのアルキル部分の炭素原子が硫黄原子、
窒素原子、酸素原子またはカルボニル等でおきかえられ
た、メトキシメチル、エトキシメチル、メチルチオエチ
ル、メチルチオメチル、ジメチルアミノエチル、ジエチ
ルアミノエチル、フエノキシメチル、フエニルチオメチ
ル、メチルスルフエニルメチル、フエニルスルフエニル
メチル、ベンゾイルメチル、トルオイルメチル等、さら
にこれら上記の基が適当な置換分、例えばシアノ、ニト
ロ、フルオル、クロル、ブロム等のハロゲン、メトキシ
、エトキシ、プロポキシ等のアルコキシ、アルカンスル
ホニル、フエニルアゾ等を１個もしくはそれ以上有する
クロロメチル、ブロモメチル、トリクロロエチル、シア
ノメチル、２−シアノ−１・１−ジメチルエチル、Ｐ−
ニトロフエニル、２・４・５−トリクロロフエニル、２
・４・６−トリクロロフエニル、ペンタクロロフエニル
、Ｐ−メタンスルホニルフエニル、４−（フエニルアゾ
）フエニル、２・４ジニトロフエニル、Ｐ−クロロベン
ジル、０ニトロベンジル、Ｐ−メトキシベンジル、Ｐ−
ニトロベンジル、３・４・５−トリメトキシベンジル、
ビス（Ｐ−メトキシフエニル）メチル、ペンタクロロベ
ンジル、トリクロロベンジル、３・５ジ第３級ブチル−
４−ヒドロキシベンジル、Ｐニトロフエニルチオメチル
、Ｐ−クロロフエニルチオメチル、Ｐ−ニトロベンゾイ
ルメチル、Ｐクロロベンゾイルメチル等、その他置換も
しくは非置換チオアルコール、Ｎ−ヒドロキシこはく酸
イミド、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド、テトラヒドロピ
ラノール、１−シクロプロピルエタノール、１−フエニ
ル一３−メチル−５−ピラゾロン、３−ヒドロキシピリ
ジン、２−ヒドロキシメチルピリジン−１−オキサイド
、１−ヒドロキシピペリジン、１−ヒドロキシ−２（１
Ｈ）−ピリドン、ジメチルヒドロキシルアミン、ジエチ
ルヒドロキシルアミン、グリコールアミド、８−ヒドロ
キシキノリン、オキシム、２−ヒドロキシメチルキノリ
ン−１−オキサイド、メトキシアセチレン、エトキシア
セチレン、第３級ブチルエチニルジメチルアミン、第３
級ブチルエチニルジエチルアミン、エチルエチニルジエ
チルアミン、２−エチル−５一（３−スルホフエニル）
イソキサゾリウムヒドロキサイド分子内塩、１・５・９
・９・１０−ペンタクロル一９・１０−ジヒドロアント
ラセン、９・９・１０−トリクロル−９・１０−ジヒド
ロアントラセン、１・８・９・１０・１０−ペンタクロ
ル一９・１０−ジヒドロアントラセン等の９・１０・１
０−トリハロゲノ一９・１０−ジヒドロアントラセン誘
導体等とのエステル。
ム一４−カルボン酸類（１）のカルボキシ基におけるエ
ステルとしては活性エステル及び非活性エステルのすべ
てを含み、例えば、エステル部分が、メチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、第３級ブチル、シク
ロヘキシル、シクロヘプチル、ビニル、１−プロペニル
、２プロペニル、１・１−ジメチル−２−プロペニル、
３−ブテニル、１・１−ジメチル−２−プロピニル等の
飽和もしくは不飽和アルキル、フエニル、キシリル、ト
リル、ナフチル等のアリール、ベンジル、フエネチル等
のアラルキル、また前記飽和もしくは不飽和アルキルお
よびアラルキルのアルキル部分の炭素原子が硫黄原子、
窒素原子、酸素原子またはカルボニル等でおきかえられ
た、メトキシメチル、エトキシメチル、メチルチオエチ
ル、メチルチオメチル、ジメチルアミノエチル、ジエチ
ルアミノエチル、フエノキシメチル、フエニルチオメチ
ル、メチルスルフエニルメチル、フエニルスルフエニル
メチル、ベンゾイルメチル、トルオイルメチル等、さら
にこれら上記の基が適当な置換分、例えばシアノ、ニト
ロ、フルオル、クロル、ブロム等のハロゲン、メトキシ
、エトキシ、プロポキシ等のアルコキシ、アルカンスル
ホニル、フエニルアゾ等を１個もしくはそれ以上有する
クロロメチル、ブロモメチル、トリクロロエチル、シア
ノメチル、２−シアノ−１・１−ジメチルエチル、Ｐ−
ニトロフエニル、２・４・５−トリクロロフエニル、２
・４・６−トリクロロフエニル、ペンタクロロフエニル
、Ｐ−メタンスルホニルフエニル、４−（フエニルアゾ
）フエニル、２・４ジニトロフエニル、Ｐ−クロロベン
ジル、０ニトロベンジル、Ｐ−メトキシベンジル、Ｐ−
ニトロベンジル、３・４・５−トリメトキシベンジル、
ビス（Ｐ−メトキシフエニル）メチル、ペンタクロロベ
ンジル、トリクロロベンジル、３・５ジ第３級ブチル−
４−ヒドロキシベンジル、Ｐニトロフエニルチオメチル
、Ｐ−クロロフエニルチオメチル、Ｐ−ニトロベンゾイ
ルメチル、Ｐクロロベンゾイルメチル等、その他置換も
しくは非置換チオアルコール、Ｎ−ヒドロキシこはく酸
イミド、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド、テトラヒドロピ
ラノール、１−シクロプロピルエタノール、１−フエニ
ル一３−メチル−５−ピラゾロン、３−ヒドロキシピリ
ジン、２−ヒドロキシメチルピリジン−１−オキサイド
、１−ヒドロキシピペリジン、１−ヒドロキシ−２（１
Ｈ）−ピリドン、ジメチルヒドロキシルアミン、ジエチ
ルヒドロキシルアミン、グリコールアミド、８−ヒドロ
キシキノリン、オキシム、２−ヒドロキシメチルキノリ
ン−１−オキサイド、メトキシアセチレン、エトキシア
セチレン、第３級ブチルエチニルジメチルアミン、第３
級ブチルエチニルジエチルアミン、エチルエチニルジエ
チルアミン、２−エチル−５一（３−スルホフエニル）
イソキサゾリウムヒドロキサイド分子内塩、１・５・９
・９・１０−ペンタクロル一９・１０−ジヒドロアント
ラセン、９・９・１０−トリクロル−９・１０−ジヒド
ロアントラセン、１・８・９・１０・１０−ペンタクロ
ル一９・１０−ジヒドロアントラセン等の９・１０・１
０−トリハロゲノ一９・１０−ジヒドロアントラセン誘
導体等とのエステル。
また２−アルキルーJメ[アミノ一２（または３）一セフ
エム一４−カルボン酸類（１）もしくはそのカルボキシ
基におけるエステルの塩類としては、例えば酢酸塩、マ
レイン酸塩、酒石酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエ
ンスルホン酸塩等の有機酸塩、塩酸塩、硫酸塩、燐酸塩
等の無機酸塩等が挙げられる。
エム一４−カルボン酸類（１）もしくはそのカルボキシ
基におけるエステルの塩類としては、例えば酢酸塩、マ
レイン酸塩、酒石酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエ
ンスルホン酸塩等の有機酸塩、塩酸塩、硫酸塩、燐酸塩
等の無機酸塩等が挙げられる。
またこの反応において使用されるアシル化剤としては脂
肪族カルボン酸、芳香族カルボン酸、複素環カルボン酸
または同様なスルホン酸、またはこれらのチオ酸等また
は上記の様な酸の反応性誘導体が挙げられる。
肪族カルボン酸、芳香族カルボン酸、複素環カルボン酸
または同様なスルホン酸、またはこれらのチオ酸等また
は上記の様な酸の反応性誘導体が挙げられる。
反応性誘導体としては酸無水物、活性アミド、活性エス
テル、イソシアネート、チオイソシアネート等があげら
れるが、具体的にはたとえば酸アジド、ジアルキル燐酸
混合無水物、フエニル燐酸混合無水物、ジフエニル燐酸
混合無水物、ジベンジル燐酸混合無水物、ハロゲン化燐
酸混合無水物、ジアルキル亜燐酸混合無水物、亜硫酸混
合無水物、チオ硫酸混合無水物、ハロゲン化水素酸混合
無水物（例えば酸クロライド）、硫酸混合無水物、アル
キル炭酸混合無水物、脂肪族カルボン酸（たとえば酢酸
、ピバリン酸、ペンタン酸、イソペンタン酸、２−エチ
ルブタン酸、トリクロル酢酸）混合無水物、芳香族カル
ボン酸（たとえば安息香酸）混合無水物、対称形酸無水
物等の酸無水物、ピラゾール、イミダゾール、４置換イ
ミダゾール、ジメチルピラゾール、トリアゾール、テト
ラゾール等との酸アミド、ヒドラジツド（酸化剤の存在
下に行なわれる）、シアノメチルエステル、メトキシメ
チルエステル、ビニルエステル、プロパルギルエステル
、Ｐ−ニトロフエニルエステル、２・４−ジニトロフエ
ニルエステル、トリクロロフエニルエステル、ペンタク
ロロフエニルエステル、メタンスルホニルフエニルエス
テル、フエニルアゾフエニルエステル、フエニルチオエ
ステル、Ｐ−ニトロフエニルチオエステル、Ｐ−クレジ
ルチオエステル、カルボキシメチルチオエステル、ピラ
ニルエステル、ピリジルエステル、ピペリジルエステル
、８−キノリルチオエステル、Ｎ−Ｎ−ジメチルヒドロ
キシルアミン、１−ヒドロキシ−２−（１Ｈ）ピリドン
、Ｎ−ヒドロキシサクシンイミドもしくはＮ−ヒドロキ
シフタルイミドとのエステル等のエステル類等があげら
れ、これらは使用する酸の種類に応じて適宜選択される
。この反応でアシル化剤として遊離の酸を使用する場合
には、たとえばＮ−Ｎ−ジシクロヘキシルカルボジイミ
ド、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ′−モルホリノエチルカル
ボジイミド、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ！−（４−ジエチ
ルアミノシクロヘキシル）カルボジイミド、Ｎ−マージ
エチルカルボジイミド、Ｎ−Ｎ７−ジイソプロピルカル
ボジイミド、Ｎエチル−Ｎ″−（３−ジメチルアミノプ
ロピル）カルボジイミド、Ｎ−Ｎ′一カルボニルジ（２
−メチルイミダゾール）、ペンタメチレンケテン一Ｎシ
クロヘキシルイミン、ジフエニルケテン一Ｎシクロヘキ
シルイミン、アルコキシアセチレン、１−アルコキシ−
１−クロロエチレン、亜燐酸トリアルキルエステル、ポ
リ燐酸エチルエステル、ポリ燐酸イソプロピルエステル
、オキシ塩化燐、３塩化燐、塩化チオニル、オキザリル
クロライド、トリフェニルボスイン、２−エチルーJメ
[ヒドロキシベンズイソキサゾリウム塩、２−エチル−
５（ｍ−スルホフエニル）イソキサゾリウムヒドロキサ
イド分子内塩、（クロロメチレン）ジメチルアンモニウ
ムクロライド、２・２・４・４・６・６−ヘキサクロロ
−２・２・４・４・６・６−ヘキサヒトロー１・３・５
・２・４・６−トリアザトリホスホリン、またはトリフ
エニルホスフインと４塩化炭素、４臭化炭素等の４ハロ
ゲン化炭素、塩素、臭素等のハロゲンとの組合せ等の縮
合剤を添加して反応を行なうのが好ましい。
テル、イソシアネート、チオイソシアネート等があげら
れるが、具体的にはたとえば酸アジド、ジアルキル燐酸
混合無水物、フエニル燐酸混合無水物、ジフエニル燐酸
混合無水物、ジベンジル燐酸混合無水物、ハロゲン化燐
酸混合無水物、ジアルキル亜燐酸混合無水物、亜硫酸混
合無水物、チオ硫酸混合無水物、ハロゲン化水素酸混合
無水物（例えば酸クロライド）、硫酸混合無水物、アル
キル炭酸混合無水物、脂肪族カルボン酸（たとえば酢酸
、ピバリン酸、ペンタン酸、イソペンタン酸、２−エチ
ルブタン酸、トリクロル酢酸）混合無水物、芳香族カル
ボン酸（たとえば安息香酸）混合無水物、対称形酸無水
物等の酸無水物、ピラゾール、イミダゾール、４置換イ
ミダゾール、ジメチルピラゾール、トリアゾール、テト
ラゾール等との酸アミド、ヒドラジツド（酸化剤の存在
下に行なわれる）、シアノメチルエステル、メトキシメ
チルエステル、ビニルエステル、プロパルギルエステル
、Ｐ−ニトロフエニルエステル、２・４−ジニトロフエ
ニルエステル、トリクロロフエニルエステル、ペンタク
ロロフエニルエステル、メタンスルホニルフエニルエス
テル、フエニルアゾフエニルエステル、フエニルチオエ
ステル、Ｐ−ニトロフエニルチオエステル、Ｐ−クレジ
ルチオエステル、カルボキシメチルチオエステル、ピラ
ニルエステル、ピリジルエステル、ピペリジルエステル
、８−キノリルチオエステル、Ｎ−Ｎ−ジメチルヒドロ
キシルアミン、１−ヒドロキシ−２−（１Ｈ）ピリドン
、Ｎ−ヒドロキシサクシンイミドもしくはＮ−ヒドロキ
シフタルイミドとのエステル等のエステル類等があげら
れ、これらは使用する酸の種類に応じて適宜選択される
。この反応でアシル化剤として遊離の酸を使用する場合
には、たとえばＮ−Ｎ−ジシクロヘキシルカルボジイミ
ド、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ′−モルホリノエチルカル
ボジイミド、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ！−（４−ジエチ
ルアミノシクロヘキシル）カルボジイミド、Ｎ−マージ
エチルカルボジイミド、Ｎ−Ｎ７−ジイソプロピルカル
ボジイミド、Ｎエチル−Ｎ″−（３−ジメチルアミノプ
ロピル）カルボジイミド、Ｎ−Ｎ′一カルボニルジ（２
−メチルイミダゾール）、ペンタメチレンケテン一Ｎシ
クロヘキシルイミン、ジフエニルケテン一Ｎシクロヘキ
シルイミン、アルコキシアセチレン、１−アルコキシ−
１−クロロエチレン、亜燐酸トリアルキルエステル、ポ
リ燐酸エチルエステル、ポリ燐酸イソプロピルエステル
、オキシ塩化燐、３塩化燐、塩化チオニル、オキザリル
クロライド、トリフェニルボスイン、２−エチルーJメ
[ヒドロキシベンズイソキサゾリウム塩、２−エチル−
５（ｍ−スルホフエニル）イソキサゾリウムヒドロキサ
イド分子内塩、（クロロメチレン）ジメチルアンモニウ
ムクロライド、２・２・４・４・６・６−ヘキサクロロ
−２・２・４・４・６・６−ヘキサヒトロー１・３・５
・２・４・６−トリアザトリホスホリン、またはトリフ
エニルホスフインと４塩化炭素、４臭化炭素等の４ハロ
ゲン化炭素、塩素、臭素等のハロゲンとの組合せ等の縮
合剤を添加して反応を行なうのが好ましい。
またこの反応は２−アルキルーJメ[アミノ一２（または
３）セフエム一４−カルボン酸類（１）もしくはそのカ
ルボキシ基におけるエステルに、例えば３塩化燐、５塩
化燐、オキシ塩化燐、ハロ燐酸エステル、ハロ亜燐酸エ
ステル等を予め作用させて、アミノ基を活性化してその
反応性誘導体にしてから反応を行なつてもよい。上記ア
シル化剤によりアミノ基に導入されるアシル基としては
、脂肪族アシル、芳香環を含むアシルまたは複素環を含
むアシルのすべてを意味し、具体的には例えば次のよう
なものが例示される。
３）セフエム一４−カルボン酸類（１）もしくはそのカ
ルボキシ基におけるエステルに、例えば３塩化燐、５塩
化燐、オキシ塩化燐、ハロ燐酸エステル、ハロ亜燐酸エ
ステル等を予め作用させて、アミノ基を活性化してその
反応性誘導体にしてから反応を行なつてもよい。上記ア
シル化剤によりアミノ基に導入されるアシル基としては
、脂肪族アシル、芳香環を含むアシルまたは複素環を含
むアシルのすべてを意味し、具体的には例えば次のよう
なものが例示される。
脂肪族アシルとしては飽和もしくは不飽和アル力ノイル
であつて側鎖を有しあるいは環状になつてもよく、例え
ばホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソ
ブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、アク
リロイル、クロトノイル、２−メチルアクリロイル、シ
クロペンチルカルボニル、シクロヘキシルカルボニル、
シクロヘプチルカルボニル、サクシニル、シクロペンチ
ルアセチル、シクロヘキシルアセチル、シクロヘプチル
アセチル、シクロヘキシルプロピオニル、シクロヘプチ
ルプロピオニル、ジヒドロベンゾイル、２・４・６−シ
クロヘプタトリエニルアセチル、ジヒドロフエニルアセ
チル等が挙げられ、またこれらの飽和もしくは不飽和ア
ルカノイルは酸素原子または硫黄原子で中断されていて
もよく、この様な基としては、例えばメトキシアセチル
、メチルチオアセチル、２−プロペニルチオアセチル、
シクロヘキシルチオアセチル、シクロヘキシルオキシア
セチル、ジヒドロフエノキシアセチル、ジヒドロフエニ
ルチオアセチル、メトキシカルボニル、エトキシカルボ
ニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、第
３級ブトキシカルボニル、シクロペンチルオキシカルボ
ニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、ジヒドロフエ
ノキシカルボニル、シクロヘプチルオキシカルボニル等
が挙げられる。また芳香環を含むアシルとしてはベンゾ
イル、トルオイル、ナフトール、α−メチルナフトール
、プタロール、テトラヒドロナフトール等のアリロイル
、ベンゼンスルホニル、トシル等のアリールスルホニル
およびフエニルアセチル、フエニルプロピオニル、フエ
ニルブチリル、トリルアセチル、キシリルアセチル、ナ
フチルアセチル、テトラヒドロナフチルアセチル等のア
ラルカノイル等を含み、またこのアラルカノイルのアル
キル部分の炭素原子は酸素原子または硫黄原子で置き変
えられていてもよく、この様な基としては例えばフエノ
キシアセチル、フエニルチオアセチル、ベンジルオキシ
カルボニル、キシリルオキシカルボニル、ナフトキシカ
ルボニル、フエノキシカルボニル、２−フエノキシプロ
ピオニル ２−フエノキシブチリル等が挙げられる。
であつて側鎖を有しあるいは環状になつてもよく、例え
ばホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソ
ブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、アク
リロイル、クロトノイル、２−メチルアクリロイル、シ
クロペンチルカルボニル、シクロヘキシルカルボニル、
シクロヘプチルカルボニル、サクシニル、シクロペンチ
ルアセチル、シクロヘキシルアセチル、シクロヘプチル
アセチル、シクロヘキシルプロピオニル、シクロヘプチ
ルプロピオニル、ジヒドロベンゾイル、２・４・６−シ
クロヘプタトリエニルアセチル、ジヒドロフエニルアセ
チル等が挙げられ、またこれらの飽和もしくは不飽和ア
ルカノイルは酸素原子または硫黄原子で中断されていて
もよく、この様な基としては、例えばメトキシアセチル
、メチルチオアセチル、２−プロペニルチオアセチル、
シクロヘキシルチオアセチル、シクロヘキシルオキシア
セチル、ジヒドロフエノキシアセチル、ジヒドロフエニ
ルチオアセチル、メトキシカルボニル、エトキシカルボ
ニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、第
３級ブトキシカルボニル、シクロペンチルオキシカルボ
ニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、ジヒドロフエ
ノキシカルボニル、シクロヘプチルオキシカルボニル等
が挙げられる。また芳香環を含むアシルとしてはベンゾ
イル、トルオイル、ナフトール、α−メチルナフトール
、プタロール、テトラヒドロナフトール等のアリロイル
、ベンゼンスルホニル、トシル等のアリールスルホニル
およびフエニルアセチル、フエニルプロピオニル、フエ
ニルブチリル、トリルアセチル、キシリルアセチル、ナ
フチルアセチル、テトラヒドロナフチルアセチル等のア
ラルカノイル等を含み、またこのアラルカノイルのアル
キル部分の炭素原子は酸素原子または硫黄原子で置き変
えられていてもよく、この様な基としては例えばフエノ
キシアセチル、フエニルチオアセチル、ベンジルオキシ
カルボニル、キシリルオキシカルボニル、ナフトキシカ
ルボニル、フエノキシカルボニル、２−フエノキシプロ
ピオニル ２−フエノキシブチリル等が挙げられる。
さらに複素環を含むアシルとしては、酸素原子、硫黄原
子、窒素原子その他のヘテロ原子を少なくとも１個もし
くはそれ以上含む飽和もしくは不飽和複素単環もしくは
複素多環残基、例えばチエニル、ベンゾチエニル、フリ
ル、ピラニル、５・６ジヒトロー２Ｈ−ピラニル、イソ
ベンゾフラニル、クロメニル、キサンテニル、２Ｈ−ピ
ロリル、３Ｈ−ピロリル、ピロリル、イミダゾリル、ピ
ラゾリル、ピリジル、ピリミジニル、ピラジニル、ピリ
ダジニル、イソインドリル、インドリル、インタゾリル
、キノリル、イソキノリル、イソキサゾリル、イソチア
ゾリル、オキサジアゾリル、ピロリジニル、ピロリニル
、イミダゾリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、ジ
アゾリル、トリアゾリル、オキサゾリル、チアゾリル、
チアジアゾリル、テトラゾリル、ベンズオキサゾリル、
ベンズオキサジアゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンズチ
アジアゾリル、ベンゾトリアゾリル、ベンズイミダゾリ
ル、シドノニル等の複素環を含む複素環カルボニルおよ
び前記複素環もしくは複素環置換オキシもしくは複素環
置換チオもしくは複素環置換アミノもしくはＮ−アルキ
ル複素環置換アミノ等の基を置換分として有するアセチ
ル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル
、イソバレリル、ピバロイル、アクリロイル、クロトノ
イル、２−メチルアクリロイル等のアルカノイル、例え
ば１Ｈ（もしくは２Ｈ）−テトラゾリルアセチル、チエ
ニルアセチル、チエニルプロピオニル、フリルアセチル
、ピペラジニルアセチル、ピロリジニルアセチル、ピロ
リジニルプロピオニル、ベンゾチアゾリルアセチル、オ
キサゾリルアセチル、ベンズオキサゾリルアセチル等が
挙げられ、またこの複素環を置換分として有するアルカ
ノイルのアルキル部分の炭素原子は酸素原子または硫黄
原子で置きかえられていてもよく、この様な基としては
、例えばピリジルメトキシカルボニル、２フリルオキシ
カルボニル ８−キノリルオキシカルボニル等が挙げら
れる。
子、窒素原子その他のヘテロ原子を少なくとも１個もし
くはそれ以上含む飽和もしくは不飽和複素単環もしくは
複素多環残基、例えばチエニル、ベンゾチエニル、フリ
ル、ピラニル、５・６ジヒトロー２Ｈ−ピラニル、イソ
ベンゾフラニル、クロメニル、キサンテニル、２Ｈ−ピ
ロリル、３Ｈ−ピロリル、ピロリル、イミダゾリル、ピ
ラゾリル、ピリジル、ピリミジニル、ピラジニル、ピリ
ダジニル、イソインドリル、インドリル、インタゾリル
、キノリル、イソキノリル、イソキサゾリル、イソチア
ゾリル、オキサジアゾリル、ピロリジニル、ピロリニル
、イミダゾリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、ジ
アゾリル、トリアゾリル、オキサゾリル、チアゾリル、
チアジアゾリル、テトラゾリル、ベンズオキサゾリル、
ベンズオキサジアゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンズチ
アジアゾリル、ベンゾトリアゾリル、ベンズイミダゾリ
ル、シドノニル等の複素環を含む複素環カルボニルおよ
び前記複素環もしくは複素環置換オキシもしくは複素環
置換チオもしくは複素環置換アミノもしくはＮ−アルキ
ル複素環置換アミノ等の基を置換分として有するアセチ
ル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル
、イソバレリル、ピバロイル、アクリロイル、クロトノ
イル、２−メチルアクリロイル等のアルカノイル、例え
ば１Ｈ（もしくは２Ｈ）−テトラゾリルアセチル、チエ
ニルアセチル、チエニルプロピオニル、フリルアセチル
、ピペラジニルアセチル、ピロリジニルアセチル、ピロ
リジニルプロピオニル、ベンゾチアゾリルアセチル、オ
キサゾリルアセチル、ベンズオキサゾリルアセチル等が
挙げられ、またこの複素環を置換分として有するアルカ
ノイルのアルキル部分の炭素原子は酸素原子または硫黄
原子で置きかえられていてもよく、この様な基としては
、例えばピリジルメトキシカルボニル、２フリルオキシ
カルボニル ８−キノリルオキシカルボニル等が挙げら
れる。
さらにこれらの脂肪族アシル、芳香環を含むアシルまた
は複素環を含むアシルはその任意の位置に適当な置換分
を１個もしくはそれ以上有していてもよく、この様な置
換分としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル
、１−プロペニル、２−プロペニル、シクロプロピル、
シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル等の
アルキル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロ
ポキシ等のアルコキシ、メチルチオ、エチルチオ等のア
ルキルチオ、フエニル、キシリル、トリル等のアリール
ベンジル、フエネチル等のアラルキル、アミノ、メル
カプト、ニトロ、アジド、クロル、フルオル、ブロム等
のハロゲン、カルボキシ、スルホ、ヒドロキシ、ヒドロ
キシアミノ、モノ（もしくはジ）メチルアミノ、モノ（
もしくはジ）エチルアミノ、モノ（もしくはジ）プロピ
ルアミノ、モノ（もしくはジ）イソプロピルアミノ等の
モノ（もしくはジ）アルキルアミノ基、モノ（もしくは
ジ）フエニルアミノ、モノ（もしくはジ）トリルアミノ
等のモノ（もしくはジ）アリールアミノ、モノ（もしく
はジ）ベンジルアミノ、モノ（もしくはジ）フエネチル
アミノ等のモノ（もしくはジ）アラルキルアミノ等が挙
げられ、さらにこの様な置換分を有する脂肪族アシル、
芳香族を含むアシルまたは複素環を含むアシルとして、
例えばトリクロロエトキシカルボニル、トリブロモエト
キシカルボニル、１−シクロプロピルエトキシカルボニ
ル、クロロアセチル、２−クロロプロピオニル、トリフ
ルオロアセチル、アミノアジポイル、α−アミノフエニ
ルアセチル、カルバモイル、フエニルカルバモイル、α
−ヒドロキシフエニルアセチル、Ｐ−ニトロベンジルオ
キシカルボニル、０−ブロモペンシルオキシカルボニル
、Ｏ−ニトロベンジルオキシカルボニル、Ｐメトキシベ
ンジルオキシカルボニル、３・４−ジメトキシベンジル
オキシカルボニル、Ｐ−ヒドロキシフエニルアセチル、
２−アミノ−２−（５・６−ジヒトロー２Ｈ−ピラン一
３−イル）アセチル、２−アミノ−２−（Ｐ−ヒドロキ
シフエニル）アセチル、２・６−ジメトキシベンゾイル
、Ｐアセトアミドベンゼンスルホニル、３−フエニル５
−メチル−４−オキサゾリルカルボニル、３（２−クロ
ロフエニル）−５−メチル−４−オキサゾリルカルボニ
ル、３−（２・６−ジクロロフエニル）−５−メチル−
４−オキサゾリルカルボニル、３−（２−クロロ−６−
フルオロフエニル）−５−メチル−４−オキサゾリルカ
ルボニル等が挙げられる。
は複素環を含むアシルはその任意の位置に適当な置換分
を１個もしくはそれ以上有していてもよく、この様な置
換分としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル
、１−プロペニル、２−プロペニル、シクロプロピル、
シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル等の
アルキル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロ
ポキシ等のアルコキシ、メチルチオ、エチルチオ等のア
ルキルチオ、フエニル、キシリル、トリル等のアリール
ベンジル、フエネチル等のアラルキル、アミノ、メル
カプト、ニトロ、アジド、クロル、フルオル、ブロム等
のハロゲン、カルボキシ、スルホ、ヒドロキシ、ヒドロ
キシアミノ、モノ（もしくはジ）メチルアミノ、モノ（
もしくはジ）エチルアミノ、モノ（もしくはジ）プロピ
ルアミノ、モノ（もしくはジ）イソプロピルアミノ等の
モノ（もしくはジ）アルキルアミノ基、モノ（もしくは
ジ）フエニルアミノ、モノ（もしくはジ）トリルアミノ
等のモノ（もしくはジ）アリールアミノ、モノ（もしく
はジ）ベンジルアミノ、モノ（もしくはジ）フエネチル
アミノ等のモノ（もしくはジ）アラルキルアミノ等が挙
げられ、さらにこの様な置換分を有する脂肪族アシル、
芳香族を含むアシルまたは複素環を含むアシルとして、
例えばトリクロロエトキシカルボニル、トリブロモエト
キシカルボニル、１−シクロプロピルエトキシカルボニ
ル、クロロアセチル、２−クロロプロピオニル、トリフ
ルオロアセチル、アミノアジポイル、α−アミノフエニ
ルアセチル、カルバモイル、フエニルカルバモイル、α
−ヒドロキシフエニルアセチル、Ｐ−ニトロベンジルオ
キシカルボニル、０−ブロモペンシルオキシカルボニル
、Ｏ−ニトロベンジルオキシカルボニル、Ｐメトキシベ
ンジルオキシカルボニル、３・４−ジメトキシベンジル
オキシカルボニル、Ｐ−ヒドロキシフエニルアセチル、
２−アミノ−２−（５・６−ジヒトロー２Ｈ−ピラン一
３−イル）アセチル、２−アミノ−２−（Ｐ−ヒドロキ
シフエニル）アセチル、２・６−ジメトキシベンゾイル
、Ｐアセトアミドベンゼンスルホニル、３−フエニル５
−メチル−４−オキサゾリルカルボニル、３（２−クロ
ロフエニル）−５−メチル−４−オキサゾリルカルボニ
ル、３−（２・６−ジクロロフエニル）−５−メチル−
４−オキサゾリルカルボニル、３−（２−クロロ−６−
フルオロフエニル）−５−メチル−４−オキサゾリルカ
ルボニル等が挙げられる。
またこの様なアシル基中に遊離のアミノ基、ヒドロキシ
基、メルカプト基、カルボキシ基、スルホ基等がある場
合には、この様なアミノ基、ヒドロキシ基、メルカプト
基、カルボキシ基、スルホ基等が保護基で保護された場
合も本発明の範囲に含まれるものである。
基、メルカプト基、カルボキシ基、スルホ基等がある場
合には、この様なアミノ基、ヒドロキシ基、メルカプト
基、カルボキシ基、スルホ基等が保護基で保護された場
合も本発明の範囲に含まれるものである。
ここにおいてアミノ基の保護基としては通常アミノ保護
基として使用しうるすべての基を含み、例えばトリクロ
ロエトキシカルボニル、トリブロモエトキシカルボニル
、ベンジルオキシカルボニル、Ｐ−トルエンスルホニル
、Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル、Ｏ−ブロモベ
ンジルオキシカルボニル、Ｏ−ニトロフエニルスルフエ
ニル、クロロアセチル、トリフルオロアセチル、ホルミ
ル、α−ピコリニル、ビニルオキシカルボニル、第３級
ブトキシカルボニル、Ｐ一メトキシベンジルオキシカル
ボニル、３・４ジメトキシベンジルオキシカルボニル、
４−（フエニルアゾ）ベンジルオキシカルボニル、４（
メトキシフエニルアゾ）ベンジルオキシカルボニル、ピ
リジン−１−オキサイド−２−メトキシカルボニル、２
−ピリジルメトキシカルボニル、２−フリルオキシカル
ボニル、ジフエニルメトキシカルボニル、１・１−ジメ
チルプロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル
、１−シクロプロピルエトキシカルボニル、２−シアノ
−１・１ジメチルエトキシカルボニル、プタロール、サ
クシニル、１−アダマンチルオキシカルボニル、８−キ
ノリンオキシカルボニル、イソボルニルオキシカルボニ
ル、９−フルオレニルメトキシカルボニル等のアシル基
が挙げられ、さらに、例えば、トリチル、２−ニトロフ
エニルチオ、２・４−ジニトロフエニルチオ、ベンジリ
デン、４−ニトロベンジリデン、２−ヒドロキシベンジ
リデン、２ヒドロキシ−５−クロロベンジリデン、２−
ヒドロキシ−１−ナフチルメチレン、３−ヒドロキシ−
４−ピリジルメチレン、ｌ−メトキシカルボニル−２−
プロピリデン、１−エトキシカルボニル−２−プロピリ
デン、３−エトキシカルボニル２−ブチリデン、１−ア
セチル−２−プロピリデン、１−ベンゾイル一２−プロ
ピリデン、１｛Ｎ−（２−メトキシフエニル）カルバモ
イル｝２−プロピリデン、１−｛Ｎ−（４−メトキシフ
エニル）カルバモイル｝−２−プロピリデン、２−エト
キシカルボニルシクロヘキシリデン、２エトキシカルボ
ニルシクロペンチリデン、２アセチルシクロヘキシリデ
ン、３・３−ジメチル５−オキソシクロヘキシリデン等
の脱離しやすい基（これらのうち例えば１−メトキシカ
ルボニル−２−プロピリデンは１−メトキシカルボニル
一１−プロペン−２−イルと表わされることがあり、ま
た例えば２−エトキシカルボニルシクロヘキシリデンは
２−エトキシカルボニル１−シクロヘキセニルと表わさ
れることもある）、またジもしくはトリアルキルシリル
等のアシル基以外のアミノ基の保護基が挙げられ、また
ヒドロキシ基およびメルカプト基の保護基としては通常
ヒドロキシ基およびメルカプト基の保護基として使用し
得るすべての基を含み、例支ばホルミル、アセチル、ベ
ンジルオキシカルボニル、４−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル、４−ブロモベンジルオキシカルボニル、４−
メトキシベンジルオキシカルボニル、３・４−ジメトキ
シベンジルオキシカルボニル、４−（フエニルアゾ）ベ
ンジルオキシカルボニル、４−（４−メトキシフエニル
アゾ）ベンジルオキシカルボニル、第３級ブトキシカル
ボニル、１・１−ジメチルプロポキシカルボニル、イソ
プロポキシカルボニル、ジフエニルメトキシカルボニル
２−ピリジルメトキシカルボニル、２・２・２−トリ
クロロエトキシカルボニル、２・２・２−トリブロモエ
トキシカルボニル、３−ヨードプロポキシカルボニル、
２−フルフリルオキシカルボキル、１−アダマンチルオ
キシカルボニル、１−シクロプロピルエトキシカルボニ
ル、３−キノリルオキシカルボニル、トリフルオロアセ
チル等のアシル基のほか、ベンジル、トリチル、メトキ
シメチル、２−ニトロフエニルチオ、２・４−ジニトロ
フエニルチオ等の基が挙げられ、さらにカィレボキシ基
の保護基としては、通常のカルボキシ基の保護基として
使用し得るすべての基を含み、例えばそのエステル部分
がメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、第３級ブ
チル、ブチル、ベンジル、ジフエニルメチル、トリフエ
ニルメチル、Ｐ−ニトロベンジル、Ｐ−メトキシベンジ
ル、ベンゾイルメチル、アセチルメチル、Ｐニトロベン
ゾイルメチル、Ｐ−ブロモベンゾイルメチル、Ｐ−メタ
ンスルホニルベンゾイルメチル、フタルイミドメチル、
トリクロロエチル、トリブロモエチル、１・１−ジメチ
ル−２−プロピニル、アセトキシメチル、プロピオニル
オキシメチル、ピバロイルオキシメチル、１・１−ジメ
チルプロピル、１・１−ジメチル−２−プロペニル、３
−メチル−３−ブテニル、サクシンイミドメチル、１−
シクロプロピルエチル、３・５−ジ第３級ブチル−４−
ヒドロキシベンジル、メチルスルフエニルメチル、フエ
ニルスルフエニルメチル、メチルチオメチル、フエニル
チオメチル、ジメチルアミノメチル、ピリジン−１−オ
キサイド−２メチル、キノリン−１−オキサイド−２−
メチル、メチルスルフイニルメチル、ジ（Ｐ−メトキシ
フエニル）メチル、２−シアノ−１・１−ジメチルエチ
ル等であるエステル、さらに特開昭４６７０７３号公報
およびオランダ国公開公報第７１０５２５９号に記載さ
れている例えばジメチルジクロロシランの如きシリル化
合物またはドイツ国公開公報第２０６２９２５号に記載
されている例えば、４塩化チタンの如き非金属化合物で
カルボキシ基が保護されている場合等を例示される。こ
の反応は通常、溶媒中で行なわれる。溶媒としては水・
アセトン、ジオキサン、アセトニトリル、クロロホルム
、ジクロロメタン、ジクロロエタン、テトラヒドロフラ
ン、酢酸エチル、ジメチルホルムアミド、ピリジンまた
はその他の反応に関与しない一般有機溶媒があげられ、
これらのうち、親水性の溶媒は水と混合して使用するこ
ともできる。またこの反応は炭酸アルカリ金属、トリメ
チルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ
−メチルモルホリン、Ｎ−メチルピペリジン等のトリア
ルキルアミン、Ｎ−Ｎ−ジアルキルアニリン、Ｎ−Ｎ−
ジアルキルベンジルアミン、ピリジン、ピコリン、ルチ
ジン、１・５−ジアザビシクロ〔４・３・Ｏ〕ノン−５
−エン、１・４−ジアザビシクロ〔２・２・２〕オクタ
ン、１・８ジアザビシクロ〔５・４・Ｏ〕ウンデセンー
７等の塩基の存在下に行なうことができ、塩基もしくは
前述の縮合剤のうち液体のものは溶媒を兼ねて使用する
ことができる。
基として使用しうるすべての基を含み、例えばトリクロ
ロエトキシカルボニル、トリブロモエトキシカルボニル
、ベンジルオキシカルボニル、Ｐ−トルエンスルホニル
、Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル、Ｏ−ブロモベ
ンジルオキシカルボニル、Ｏ−ニトロフエニルスルフエ
ニル、クロロアセチル、トリフルオロアセチル、ホルミ
ル、α−ピコリニル、ビニルオキシカルボニル、第３級
ブトキシカルボニル、Ｐ一メトキシベンジルオキシカル
ボニル、３・４ジメトキシベンジルオキシカルボニル、
４−（フエニルアゾ）ベンジルオキシカルボニル、４（
メトキシフエニルアゾ）ベンジルオキシカルボニル、ピ
リジン−１−オキサイド−２−メトキシカルボニル、２
−ピリジルメトキシカルボニル、２−フリルオキシカル
ボニル、ジフエニルメトキシカルボニル、１・１−ジメ
チルプロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル
、１−シクロプロピルエトキシカルボニル、２−シアノ
−１・１ジメチルエトキシカルボニル、プタロール、サ
クシニル、１−アダマンチルオキシカルボニル、８−キ
ノリンオキシカルボニル、イソボルニルオキシカルボニ
ル、９−フルオレニルメトキシカルボニル等のアシル基
が挙げられ、さらに、例えば、トリチル、２−ニトロフ
エニルチオ、２・４−ジニトロフエニルチオ、ベンジリ
デン、４−ニトロベンジリデン、２−ヒドロキシベンジ
リデン、２ヒドロキシ−５−クロロベンジリデン、２−
ヒドロキシ−１−ナフチルメチレン、３−ヒドロキシ−
４−ピリジルメチレン、ｌ−メトキシカルボニル−２−
プロピリデン、１−エトキシカルボニル−２−プロピリ
デン、３−エトキシカルボニル２−ブチリデン、１−ア
セチル−２−プロピリデン、１−ベンゾイル一２−プロ
ピリデン、１｛Ｎ−（２−メトキシフエニル）カルバモ
イル｝２−プロピリデン、１−｛Ｎ−（４−メトキシフ
エニル）カルバモイル｝−２−プロピリデン、２−エト
キシカルボニルシクロヘキシリデン、２エトキシカルボ
ニルシクロペンチリデン、２アセチルシクロヘキシリデ
ン、３・３−ジメチル５−オキソシクロヘキシリデン等
の脱離しやすい基（これらのうち例えば１−メトキシカ
ルボニル−２−プロピリデンは１−メトキシカルボニル
一１−プロペン−２−イルと表わされることがあり、ま
た例えば２−エトキシカルボニルシクロヘキシリデンは
２−エトキシカルボニル１−シクロヘキセニルと表わさ
れることもある）、またジもしくはトリアルキルシリル
等のアシル基以外のアミノ基の保護基が挙げられ、また
ヒドロキシ基およびメルカプト基の保護基としては通常
ヒドロキシ基およびメルカプト基の保護基として使用し
得るすべての基を含み、例支ばホルミル、アセチル、ベ
ンジルオキシカルボニル、４−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル、４−ブロモベンジルオキシカルボニル、４−
メトキシベンジルオキシカルボニル、３・４−ジメトキ
シベンジルオキシカルボニル、４−（フエニルアゾ）ベ
ンジルオキシカルボニル、４−（４−メトキシフエニル
アゾ）ベンジルオキシカルボニル、第３級ブトキシカル
ボニル、１・１−ジメチルプロポキシカルボニル、イソ
プロポキシカルボニル、ジフエニルメトキシカルボニル
２−ピリジルメトキシカルボニル、２・２・２−トリ
クロロエトキシカルボニル、２・２・２−トリブロモエ
トキシカルボニル、３−ヨードプロポキシカルボニル、
２−フルフリルオキシカルボキル、１−アダマンチルオ
キシカルボニル、１−シクロプロピルエトキシカルボニ
ル、３−キノリルオキシカルボニル、トリフルオロアセ
チル等のアシル基のほか、ベンジル、トリチル、メトキ
シメチル、２−ニトロフエニルチオ、２・４−ジニトロ
フエニルチオ等の基が挙げられ、さらにカィレボキシ基
の保護基としては、通常のカルボキシ基の保護基として
使用し得るすべての基を含み、例えばそのエステル部分
がメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、第３級ブ
チル、ブチル、ベンジル、ジフエニルメチル、トリフエ
ニルメチル、Ｐ−ニトロベンジル、Ｐ−メトキシベンジ
ル、ベンゾイルメチル、アセチルメチル、Ｐニトロベン
ゾイルメチル、Ｐ−ブロモベンゾイルメチル、Ｐ−メタ
ンスルホニルベンゾイルメチル、フタルイミドメチル、
トリクロロエチル、トリブロモエチル、１・１−ジメチ
ル−２−プロピニル、アセトキシメチル、プロピオニル
オキシメチル、ピバロイルオキシメチル、１・１−ジメ
チルプロピル、１・１−ジメチル−２−プロペニル、３
−メチル−３−ブテニル、サクシンイミドメチル、１−
シクロプロピルエチル、３・５−ジ第３級ブチル−４−
ヒドロキシベンジル、メチルスルフエニルメチル、フエ
ニルスルフエニルメチル、メチルチオメチル、フエニル
チオメチル、ジメチルアミノメチル、ピリジン−１−オ
キサイド−２メチル、キノリン−１−オキサイド−２−
メチル、メチルスルフイニルメチル、ジ（Ｐ−メトキシ
フエニル）メチル、２−シアノ−１・１−ジメチルエチ
ル等であるエステル、さらに特開昭４６７０７３号公報
およびオランダ国公開公報第７１０５２５９号に記載さ
れている例えばジメチルジクロロシランの如きシリル化
合物またはドイツ国公開公報第２０６２９２５号に記載
されている例えば、４塩化チタンの如き非金属化合物で
カルボキシ基が保護されている場合等を例示される。こ
の反応は通常、溶媒中で行なわれる。溶媒としては水・
アセトン、ジオキサン、アセトニトリル、クロロホルム
、ジクロロメタン、ジクロロエタン、テトラヒドロフラ
ン、酢酸エチル、ジメチルホルムアミド、ピリジンまた
はその他の反応に関与しない一般有機溶媒があげられ、
これらのうち、親水性の溶媒は水と混合して使用するこ
ともできる。またこの反応は炭酸アルカリ金属、トリメ
チルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ
−メチルモルホリン、Ｎ−メチルピペリジン等のトリア
ルキルアミン、Ｎ−Ｎ−ジアルキルアニリン、Ｎ−Ｎ−
ジアルキルベンジルアミン、ピリジン、ピコリン、ルチ
ジン、１・５−ジアザビシクロ〔４・３・Ｏ〕ノン−５
−エン、１・４−ジアザビシクロ〔２・２・２〕オクタ
ン、１・８ジアザビシクロ〔５・４・Ｏ〕ウンデセンー
７等の塩基の存在下に行なうことができ、塩基もしくは
前述の縮合剤のうち液体のものは溶媒を兼ねて使用する
ことができる。
反応温度は特に限定されないが、通常冷却下ないしは室
温で行なわれることが多ぃ。この反応において、反応中
もしくは反応の後処理中にカルボキシ基がそのエステル
に転じる場合、カルボキシ基におけるエステルが遊離の
カルボキシ基に転じる場合等はすべてこの発明の範囲に
包含される。
温で行なわれることが多ぃ。この反応において、反応中
もしくは反応の後処理中にカルボキシ基がそのエステル
に転じる場合、カルボキシ基におけるエステルが遊離の
カルボキシ基に転じる場合等はすべてこの発明の範囲に
包含される。
またこの反応において、２−アルキルJメ[アミノ一２（
または３）−セフエム一４カルボン酸類（１）もしくは
そのカルボキシ基におけるエステルもしくはそれらのア
ミノ基における反応性誘導体もしくはそれらの塩類とし
て、２一セフエム体、３−セフエム体および３−セフエ
ム体の２位における立体異性体を単独で、あるいは混合
物のいずれの状態でも使用することができるが、それら
が反応中あるいは後処理中に転位した目的化合物が得ら
れる場合があるが、いずれの場合もこの発明の範囲に包
含される。またこの反応で、これらの異性体が混在して
生成する場合には、必要に応じて夫々を再結晶等の常法
により単離することができる。この発明により得られる
２−アルキルーJメ[アシルアミノ一２（または３）−セ
フエム一４−カルボン酸類（）もしくはそのカルボキシ
基におけるエステルは抗菌活性を有し、医薬として有用
であり、また他の抗菌性物質を製造する中間体として有
用である。
または３）−セフエム一４カルボン酸類（１）もしくは
そのカルボキシ基におけるエステルもしくはそれらのア
ミノ基における反応性誘導体もしくはそれらの塩類とし
て、２一セフエム体、３−セフエム体および３−セフエ
ム体の２位における立体異性体を単独で、あるいは混合
物のいずれの状態でも使用することができるが、それら
が反応中あるいは後処理中に転位した目的化合物が得ら
れる場合があるが、いずれの場合もこの発明の範囲に包
含される。またこの反応で、これらの異性体が混在して
生成する場合には、必要に応じて夫々を再結晶等の常法
により単離することができる。この発明により得られる
２−アルキルーJメ[アシルアミノ一２（または３）−セ
フエム一４−カルボン酸類（）もしくはそのカルボキシ
基におけるエステルは抗菌活性を有し、医薬として有用
であり、また他の抗菌性物質を製造する中間体として有
用である。
次にこの発明を実施例により説明する。
実施例 １
クロル義酸エチルエステル０．６７７を無水ジクロルメ
タン１５ｍ′に溶解し、この溶液に−１０℃でＮ−（１
−シクロプロピルエトキシカルボニル）フエニルグリシ
ン１．６３７、トリエチルアミン０，６０７およびジメ
チルベンジルアミン２滴を無水ジクロルメタン１０ｍ１
に溶解した溶液を滴下し、１時間攪拌する。
タン１５ｍ′に溶解し、この溶液に−１０℃でＮ−（１
−シクロプロピルエトキシカルボニル）フエニルグリシ
ン１．６３７、トリエチルアミン０，６０７およびジメ
チルベンジルアミン２滴を無水ジクロルメタン１０ｍ１
に溶解した溶液を滴下し、１時間攪拌する。
のち−１０〜−１５℃に冷却し、この溶液に２−メチル
ーJメ[アミノ一３−セフエム一４−カルボン酸の２・２
・２−トリクロロエチルエステルの塩酸塩２，２７およ
びトリエチルアミン０．５５７を無水ジクロルメタン２
０ｍ１に溶解した溶液を１０分間で滴下し、のち同温度
で２．５時間攪拌する。反応後、反応液を水、２％塩酸
、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム
水溶液の順に洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。乾
燥後、溶媒を減圧下に留去し、残渣にイソプロピルエー
テルを加えて粉末化し、沢取した後乾燥するとＭｐｌ６
５〜１６７．５℃の２−メチルーJヨ黶oＮ−（１−シク
ロプロピルエトキシ）カルボニルフエニルグリシル｝ア
ミノ−３−セフエム一４−カルボン酸の２・２・２−ト
リクロロエチルエステル３．０ｙ（９１％）を得る。赤
外線吸収スペクトル（′；＜ジヨール）３３００、１７
９５、１７４５、１７１０、１６７５？−１核磁気共鳴
吸収スペクトル（ＣＤＣｌ３、τ）９．９４〜９．００
（５Ｈ，．ｍ）８．７７（３Ｈ．ｄ．Ｊ−７Ｈｚ） ８．５７（３Ｈ，．ｄ，．Ｊ−７．５Ｈｚ）６．４４（
１Ｈ，．ｍ）５。
ーJメ[アミノ一３−セフエム一４−カルボン酸の２・２
・２−トリクロロエチルエステルの塩酸塩２，２７およ
びトリエチルアミン０．５５７を無水ジクロルメタン２
０ｍ１に溶解した溶液を１０分間で滴下し、のち同温度
で２．５時間攪拌する。反応後、反応液を水、２％塩酸
、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム
水溶液の順に洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。乾
燥後、溶媒を減圧下に留去し、残渣にイソプロピルエー
テルを加えて粉末化し、沢取した後乾燥するとＭｐｌ６
５〜１６７．５℃の２−メチルーJヨ黶oＮ−（１−シク
ロプロピルエトキシ）カルボニルフエニルグリシル｝ア
ミノ−３−セフエム一４−カルボン酸の２・２・２−ト
リクロロエチルエステル３．０ｙ（９１％）を得る。赤
外線吸収スペクトル（′；＜ジヨール）３３００、１７
９５、１７４５、１７１０、１６７５？−１核磁気共鳴
吸収スペクトル（ＣＤＣｌ３、τ）９．９４〜９．００
（５Ｈ，．ｍ）８．７７（３Ｈ．ｄ．Ｊ−７Ｈｚ） ８．５７（３Ｈ，．ｄ，．Ｊ−７．５Ｈｚ）６．４４（
１Ｈ，．ｍ）５。
７４（１Ｈ，．ｍ）
５．１２（２Ｈ，．ｓ）
５．０７（１Ｈ，．ｄ，．Ｊ＝４Ｈｚ）
４．６０（１Ｈ，．ｄ，．Ｊ−７Ｈｚ）
４．００（１Ｈ，．ｄｄ，．Ｊ＝４Ｈｚ）３．３２（１
Ｈ．ｄ．．Ｊ−６Ｈｚ） ２．６５（５Ｈ，．ｓ） 実施例 ２ ピバリン酸クロリド１．２０７を無水ジクロルメタン２
０ｍ１に溶解し、−１０℃に冷却下、この溶液にテトラ
ゾール酢酸１．０８ｙ、トリエチルアミン０．９６ｙお
よびジメチルベンジルアミン２滴を無水ジクロルメタン
１０ｍ１に溶解した溶液を１０分間で滴下し、同温度で
１時間攪拌する。
Ｈ．ｄ．．Ｊ−６Ｈｚ） ２．６５（５Ｈ，．ｓ） 実施例 ２ ピバリン酸クロリド１．２０７を無水ジクロルメタン２
０ｍ１に溶解し、−１０℃に冷却下、この溶液にテトラ
ゾール酢酸１．０８ｙ、トリエチルアミン０．９６ｙお
よびジメチルベンジルアミン２滴を無水ジクロルメタン
１０ｍ１に溶解した溶液を１０分間で滴下し、同温度で
１時間攪拌する。
ついで２−メチルーJメ[アミノ一３−セフエム一４−カ
ルボン酸の２・２・２−トリクロロエチルエステルの塩
酸塩３．０５ｙおよびトリエチルアミン０．８７を無水
ジクロルメタン２０ｍ１に溶解した溶液を１０分間で滴
下し、のち３時間攪拌する。反応後、反応液を水、５％
塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化ナトリ
ウム水溶液の順に洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する
。乾燥後溶媒を留去し、得られる残渣をエーテルで洗浄
し、沢取するとＭｐｌ６８〜１７０℃の２−メチルーJ
ヨ黶o２（１Ｈ−テトラゾール−１−イル）アセトアミ
ド｝−３−セフエム一４−カルボン酸の２・２・２−ト
リクロロエチルエステルの無色結晶２．３４７（６４％
）を得る。赤外線吸収スペクトル（ＫＢｒ錠剤法） １７８５、１７４０１１７００ｃ１ｎ−１核磁気共鳴吸
収スペクトル（Ｄ６−ジメチルスルホキサイド、 τ）
８。
ルボン酸の２・２・２−トリクロロエチルエステルの塩
酸塩３．０５ｙおよびトリエチルアミン０．８７を無水
ジクロルメタン２０ｍ１に溶解した溶液を１０分間で滴
下し、のち３時間攪拌する。反応後、反応液を水、５％
塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化ナトリ
ウム水溶液の順に洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する
。乾燥後溶媒を留去し、得られる残渣をエーテルで洗浄
し、沢取するとＭｐｌ６８〜１７０℃の２−メチルーJ
ヨ黶o２（１Ｈ−テトラゾール−１−イル）アセトアミ
ド｝−３−セフエム一４−カルボン酸の２・２・２−ト
リクロロエチルエステルの無色結晶２．３４７（６４％
）を得る。赤外線吸収スペクトル（ＫＢｒ錠剤法） １７８５、１７４０１１７００ｃ１ｎ−１核磁気共鳴吸
収スペクトル（Ｄ６−ジメチルスルホキサイド、 τ）
８。
５５（３Ｈ，．ｄ，．Ｊ−７．５Ｈｚ）６。
００（１Ｈ，．ｍ）
４．９４（２Ｈ．ｓ）
４．８４（１Ｈ．ｄ，．Ｊ−５Ｈｚ）
４．６４（２Ｈ，．ｓ）
４．１０（１Ｈ．ｄｄ，．Ｊ−５．０Ｈｚ１８．０Ｈｚ
）３．２２（１Ｈ．ｄ，．Ｊ＝６Ｈｚ）０．３４（１Ｈ
，．ｓ） ０．１３（１Ｈ．ｄ．Ｊ−８Ｈｚ） 実施例 ３ ２−メチルーJメ[アミノ一３−セフエム一４カルボン酸
の２・２・２−トリクロロエチルエステルの塩酸塩３，
０７を無水ジクロルメタン５０ｍｊに懸濁し、−１５℃
に冷却下、トリエチルアミン０．７２ｙおよびジメチル
アニリン１．９７を加えて溶解する。
）３．２２（１Ｈ．ｄ，．Ｊ＝６Ｈｚ）０．３４（１Ｈ
，．ｓ） ０．１３（１Ｈ．ｄ．Ｊ−８Ｈｚ） 実施例 ３ ２−メチルーJメ[アミノ一３−セフエム一４カルボン酸
の２・２・２−トリクロロエチルエステルの塩酸塩３，
０７を無水ジクロルメタン５０ｍｊに懸濁し、−１５℃
に冷却下、トリエチルアミン０．７２ｙおよびジメチル
アニリン１．９７を加えて溶解する。
同温に冷却攪拌下（２−チエニル）アセチルクロライド
２．０ｙを無水ジクロルメタン１０ｍ１に溶解した溶液
を滴下し、同温で１．５時間攪拌する。反応後、反応液
は５％塩酸、水、５％炭酸水素ナトリウム水溶液、つい
で水で洗浄し、乾燥する。乾燥後、溶媒を留去し、残渣
にエーテルを加えて溶解後、放冷し、析出する結晶を沢
取した後乾燥するとＭｐｌ６ｌ〜１６２℃（分解）の２
−メチルーJヨ黶o２−（２−チエニル）アセトアミド｝
−３−セフエム一４−カルボン酸の２・２・２−トリク
ロロエチルエステルの結晶３．２７を得る。赤外線吸収
スペクトル（ヌジヨール） ３３００１１７９５、１７４８、１６７５、１６３０？
−１核磁気共鳴吸収スペクトル（ＣＤＣｌ３、τ）８．
５０（３Ｈ．ｄ．Ｊ−７Ｈｚ）６．２６（１Ｈ．．ｍ） ６．１５（２Ｈ，．ｓ） ５．１２（２Ｈ．．ｓ） ５．０２（１Ｈ．ｄ．Ｊ−４Ｈｚ） ４．０５（１Ｈ，．ｄｄ，．Ｊ−４．８Ｈｚ）３．２９
（１Ｈ．ｄ，．Ｊ−６Ｈｚ）３．０３〜２．６７（３Ｈ
，．ｍ） 実施例 ４ ２−メチルーJメ[アミノ一３−セフエム一４カルボン酸
の２・２・２−トリクロロエチルエステルの塩酸塩３．
０ｙを無水ジクロルメタン５０ｍ１に懸濁し、−１５℃
に冷却下これにトリエチルアミン０．７２７およびジメ
チルアニリン１．９７を加え溶解する。
２．０ｙを無水ジクロルメタン１０ｍ１に溶解した溶液
を滴下し、同温で１．５時間攪拌する。反応後、反応液
は５％塩酸、水、５％炭酸水素ナトリウム水溶液、つい
で水で洗浄し、乾燥する。乾燥後、溶媒を留去し、残渣
にエーテルを加えて溶解後、放冷し、析出する結晶を沢
取した後乾燥するとＭｐｌ６ｌ〜１６２℃（分解）の２
−メチルーJヨ黶o２−（２−チエニル）アセトアミド｝
−３−セフエム一４−カルボン酸の２・２・２−トリク
ロロエチルエステルの結晶３．２７を得る。赤外線吸収
スペクトル（ヌジヨール） ３３００１１７９５、１７４８、１６７５、１６３０？
−１核磁気共鳴吸収スペクトル（ＣＤＣｌ３、τ）８．
５０（３Ｈ．ｄ．Ｊ−７Ｈｚ）６．２６（１Ｈ．．ｍ） ６．１５（２Ｈ，．ｓ） ５．１２（２Ｈ．．ｓ） ５．０２（１Ｈ．ｄ．Ｊ−４Ｈｚ） ４．０５（１Ｈ，．ｄｄ，．Ｊ−４．８Ｈｚ）３．２９
（１Ｈ．ｄ，．Ｊ−６Ｈｚ）３．０３〜２．６７（３Ｈ
，．ｍ） 実施例 ４ ２−メチルーJメ[アミノ一３−セフエム一４カルボン酸
の２・２・２−トリクロロエチルエステルの塩酸塩３．
０ｙを無水ジクロルメタン５０ｍ１に懸濁し、−１５℃
に冷却下これにトリエチルアミン０．７２７およびジメ
チルアニリン１．９７を加え溶解する。
ついで攪拌下この溶液にフエニルチオアセチルクロライ
ド２．２７を無水ジクロルメタン１０ｍ１に溶解した溶
液を滴下し、同温度で１。５時間攪拌する。
ド２．２７を無水ジクロルメタン１０ｍ１に溶解した溶
液を滴下し、同温度で１。５時間攪拌する。
反応後、反応液は５％塩酸、水、５％炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、水の順に洗浄し、乾燥する。乾燥後、溶媒を
留去し、残渣にエーテルを加え、析出する結晶を沢取し
た後乾燥するとＭｐｌ４Ｏ〜１４２℃の２−メチルーJ
ヨ黶i２フエニルチオアセトアミド）−３−セフエム一
４−カルボン酸の２・２・２−トリクロロエチルエステ
ル３．４０ｙを得る。赤外線吸収スペクトル（ヌジヨー
ル） ３２７０、１７９８、１７３８、１６７２１６２３０ｆ
！Ｌ−１ 核磁気共鳴吸収スペクトル（ＣＤＣｌ３、τ）８，５５
（３Ｈ，．ｄ，．Ｊ−７Ｈｚ）６．３７（２Ｈ，．ｓ） ６．３５（１Ｈ．ｍ） ５．１７（２Ｈ，．ｓ） ５．０８（１Ｈ．ｄ．Ｊ−４Ｈｚ） ４．１２（１Ｈ．ｄｄ．Ｊ−４Ｈｚ、８Ｈｚ）３．３７
（１Ｈ．ｄ．Ｊ＝６Ｈｚ）２．７８（６Ｈ，．ｍ） 実施例 ５ ク曜レ義酸ベンジルエステル２．２ｙを無水ジクロルメ
タン１０ｍ１に溶解し、−１５℃に冷却下、この溶液に
２−メチルーJメ[アミノ一３−セフエム一４−カルボン
酸の２・２・２−トリクロロエチルエステルの塩酸塩３
．０７、トリエチルアミン０．７２７およびジメチルア
ニリン１．９ｙを無水ジクロルメタン５０ｍ１に溶解し
た溶液を１．５時間を要して滴下し、のち同温度で１時
間攪拌する。
ム水溶液、水の順に洗浄し、乾燥する。乾燥後、溶媒を
留去し、残渣にエーテルを加え、析出する結晶を沢取し
た後乾燥するとＭｐｌ４Ｏ〜１４２℃の２−メチルーJ
ヨ黶i２フエニルチオアセトアミド）−３−セフエム一
４−カルボン酸の２・２・２−トリクロロエチルエステ
ル３．４０ｙを得る。赤外線吸収スペクトル（ヌジヨー
ル） ３２７０、１７９８、１７３８、１６７２１６２３０ｆ
！Ｌ−１ 核磁気共鳴吸収スペクトル（ＣＤＣｌ３、τ）８，５５
（３Ｈ，．ｄ，．Ｊ−７Ｈｚ）６．３７（２Ｈ，．ｓ） ６．３５（１Ｈ．ｍ） ５．１７（２Ｈ，．ｓ） ５．０８（１Ｈ．ｄ．Ｊ−４Ｈｚ） ４．１２（１Ｈ．ｄｄ．Ｊ−４Ｈｚ、８Ｈｚ）３．３７
（１Ｈ．ｄ．Ｊ＝６Ｈｚ）２．７８（６Ｈ，．ｍ） 実施例 ５ ク曜レ義酸ベンジルエステル２．２ｙを無水ジクロルメ
タン１０ｍ１に溶解し、−１５℃に冷却下、この溶液に
２−メチルーJメ[アミノ一３−セフエム一４−カルボン
酸の２・２・２−トリクロロエチルエステルの塩酸塩３
．０７、トリエチルアミン０．７２７およびジメチルア
ニリン１．９ｙを無水ジクロルメタン５０ｍ１に溶解し
た溶液を１．５時間を要して滴下し、のち同温度で１時
間攪拌する。
反応後、反応液は５％塩酸、水、５％炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、水の順に洗浄し乾燥する。乾燥後、溶媒を留
去し、残渣をエタノールに溶解後、析出する結晶を▲取
した後乾燥すると、Ｍｐｌ４３〜１４４℃の２−メチル
ーJメ[ベンジルオキシカルボキサミド一３−セフエム一
４−カルボン酸の２・２・２−トリクロロエチルエステ
ルの結晶３．２７を得る。赤外線吸収スペクトル（ヌジ
ヨール） ３３４０１１７９７、１７３３、１７２１、１６３０？
−１核磁気共鳴吸収スペクトル（Ｄ６−ジメチルスルホ
キサイド、τ）８．５０（３Ｈ．ｄ．Ｊ−７Ｈｚ） ６．０８（１Ｈ，．ｍ） ４．９３（２Ｈ，．ｓ） ４．８５（２Ｈ，．ｓ） ４．８５（１Ｈ，．ｄ，．Ｊ−４Ｈｚ） ４．３０（１Ｈ，．ｄｄ，．Ｊ−４Ｈｚ１８Ｈｚ）３．
２３（１Ｈ，．ｄ，．Ｊ−６Ｈｚ）２．６２（５Ｈ，．
ｓ） 実施例 ６ クロル義酸イソブチルエステル３３０ηを無水ジクロル
メタン１０ｍ１に溶解し、−１５〜−１０℃に冷却下、
この溶液に３−（Ｎ一第３級ブトキシカルボニルアミノ
）−３−（２−チエニル）プロピオン酸７９５〜および
トリエチルアミン２４０ηをジクロルメタン１０ｍ１に
溶解した溶液を約２０分を要して滴下し、のち同温度で
１時間攪拌することにより混合酸無水物の溶液を製する
。
ム水溶液、水の順に洗浄し乾燥する。乾燥後、溶媒を留
去し、残渣をエタノールに溶解後、析出する結晶を▲取
した後乾燥すると、Ｍｐｌ４３〜１４４℃の２−メチル
ーJメ[ベンジルオキシカルボキサミド一３−セフエム一
４−カルボン酸の２・２・２−トリクロロエチルエステ
ルの結晶３．２７を得る。赤外線吸収スペクトル（ヌジ
ヨール） ３３４０１１７９７、１７３３、１７２１、１６３０？
−１核磁気共鳴吸収スペクトル（Ｄ６−ジメチルスルホ
キサイド、τ）８．５０（３Ｈ．ｄ．Ｊ−７Ｈｚ） ６．０８（１Ｈ，．ｍ） ４．９３（２Ｈ，．ｓ） ４．８５（２Ｈ，．ｓ） ４．８５（１Ｈ，．ｄ，．Ｊ−４Ｈｚ） ４．３０（１Ｈ，．ｄｄ，．Ｊ−４Ｈｚ１８Ｈｚ）３．
２３（１Ｈ，．ｄ，．Ｊ−６Ｈｚ）２．６２（５Ｈ，．
ｓ） 実施例 ６ クロル義酸イソブチルエステル３３０ηを無水ジクロル
メタン１０ｍ１に溶解し、−１５〜−１０℃に冷却下、
この溶液に３−（Ｎ一第３級ブトキシカルボニルアミノ
）−３−（２−チエニル）プロピオン酸７９５〜および
トリエチルアミン２４０ηをジクロルメタン１０ｍ１に
溶解した溶液を約２０分を要して滴下し、のち同温度で
１時間攪拌することにより混合酸無水物の溶液を製する
。
２−メチルーJメ[アミノ一３−セフエム一４−カルボン
酸の２・２・２−トリクロロエチルエステルの塩酸塩７
６０ｍ９をジクロルメタンに溶解し、この溶液にトリエ
チルアミン１６０ｍクおよびジメチルアニリン５０ηを
加えることにより製した溶液を上記の酸無水物の溶液に
−１５〜−１０℃で加え、同温度で３時間、のち室温で
３時間攪拌する。
酸の２・２・２−トリクロロエチルエステルの塩酸塩７
６０ｍ９をジクロルメタンに溶解し、この溶液にトリエ
チルアミン１６０ｍクおよびジメチルアニリン５０ηを
加えることにより製した溶液を上記の酸無水物の溶液に
−１５〜−１０℃で加え、同温度で３時間、のち室温で
３時間攪拌する。
反応後、ジクロルメタンを留去し、残渣を酢酸エチル１
５０ｍ１に溶解後、５％塩酸２０ｍ１１５％炭酸水素ナ
トリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液の順に洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥する。乾燥後、溶媒を減圧
下に留去するとＭｐｌ８８〜１９２℃の２−メチルーJ
ヨ黶o３−（Ｎ第３級ブトキシカルボニルアミノ）−３
−（２チエニル）プロピオンアミド｝−３−セフエム一
４−カルボン酸の２・２・２−トリクロロエチルエステ
ル１．１７ｙ（９４％）を得る。赤外線吸収スペクトル
（ヌジヨール） ３３２５、１７７０Ｊ１７３０、１６８０、１６５０？
−１核磁気共鳴吸収スペクトル（Ｄ６−ジメチルスルホ
キサイド、τ）８．６２（９Ｈ１８） ８．７０〜８．４６（３Ｈ） ７．２４（２Ｈ，．ｄ，．Ｊ−７Ｈｚ） ６．２４〜５．８５（１Ｈ，．ｍ） ４．９１（２Ｈ，．ｓ） ５．００〜４．８０（１Ｈ） ４．２（１Ｈ．ｍ） ３．２３（１Ｈ，．ｄ，．Ｊ−６Ｈｚ） ３．１４〜２．６０（４Ｈ） １．１０（１Ｈ，．ｄ，．Ｊ−６Ｈｚ） 実施例 ７ ２−メチルーJメ[アミノ一３−セフエム一４−カルボン
酸の２・２・２−トリクロロエチルエステルの塩酸塩３
．８２ｙを無水ジクロルメタン８０ｍ１に懸濁し、これ
にトリエチルアミン０．９ｙおよびジメチルアニリン０
．１５７をジクロルメタン２０ｍ１に溶解した溶液を氷
冷攪拌下に加え、ついでシアノ酢酸０．８５７およびシ
ンクロヘキシルカルボジイミド２．２５ｙを加え氷冷下
１時間攪拌する。
５０ｍ１に溶解後、５％塩酸２０ｍ１１５％炭酸水素ナ
トリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液の順に洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥する。乾燥後、溶媒を減圧
下に留去するとＭｐｌ８８〜１９２℃の２−メチルーJ
ヨ黶o３−（Ｎ第３級ブトキシカルボニルアミノ）−３
−（２チエニル）プロピオンアミド｝−３−セフエム一
４−カルボン酸の２・２・２−トリクロロエチルエステ
ル１．１７ｙ（９４％）を得る。赤外線吸収スペクトル
（ヌジヨール） ３３２５、１７７０Ｊ１７３０、１６８０、１６５０？
−１核磁気共鳴吸収スペクトル（Ｄ６−ジメチルスルホ
キサイド、τ）８．６２（９Ｈ１８） ８．７０〜８．４６（３Ｈ） ７．２４（２Ｈ，．ｄ，．Ｊ−７Ｈｚ） ６．２４〜５．８５（１Ｈ，．ｍ） ４．９１（２Ｈ，．ｓ） ５．００〜４．８０（１Ｈ） ４．２（１Ｈ．ｍ） ３．２３（１Ｈ，．ｄ，．Ｊ−６Ｈｚ） ３．１４〜２．６０（４Ｈ） １．１０（１Ｈ，．ｄ，．Ｊ−６Ｈｚ） 実施例 ７ ２−メチルーJメ[アミノ一３−セフエム一４−カルボン
酸の２・２・２−トリクロロエチルエステルの塩酸塩３
．８２ｙを無水ジクロルメタン８０ｍ１に懸濁し、これ
にトリエチルアミン０．９ｙおよびジメチルアニリン０
．１５７をジクロルメタン２０ｍ１に溶解した溶液を氷
冷攪拌下に加え、ついでシアノ酢酸０．８５７およびシ
ンクロヘキシルカルボジイミド２．２５ｙを加え氷冷下
１時間攪拌する。
ついで５％塩酸５０ｍ１を加え、３０分間攪拌したのち
、有機層を分取し、５％塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液の順に洗浄後、硫酸
マグネシウムで乾燥する。乾燥後、溶媒を留去すると、
Ｍｐｌ６Ｏ〜１６５℃（分解）の２−メチルーJヨ黶i２
−シアノアセトアミド）−３−セフエム一４−カルボン
酸の２・２・２−トリクロロエチルエステルの無色粉末
３．５７（８５．５％）を得る。赤外線吸収スペクトル
（ヌジヨール） ３３１０、２２５０１１７７３、１７３５、１６６５、
１６３０ｃＴＬ−１核磁気共鳴吸収スペクトル（ＣＤＣ
ｌ３、τ）８．４６（３Ｈ．．ｄ，．Ｊ−７Ｈｚ）６．
４８（２Ｈ．ｓ） ６．３０（１Ｈ，．ｍ） ５．１０（２Ｈ．ｓ） ４．９９（１Ｈ．ｄ．Ｊ−５Ｈｚ） ４．０６（１Ｈ，．ｄｄ．Ｊ−５Ｈｚ、９Ｈｚ）３．２
７（１Ｈ．ｄ．Ｊ−６Ｈｚ）実施例 ８ ２−メチルーJメ[アミノ一３−セフエム一４カルボン酸
の２・２・２−トリクロロエチルエステルの塩酸塩３．
８２ｙをジクロルメタン３０ｍ１に懸濁し、トリエチル
アミン０．９ｙおよびジメチルアニリン０．１７を加え
溶解後、氷冷攪拌下にフエニルイソシアネート１．２ｙ
を加えたのち５時間攪拌する。
、有機層を分取し、５％塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液の順に洗浄後、硫酸
マグネシウムで乾燥する。乾燥後、溶媒を留去すると、
Ｍｐｌ６Ｏ〜１６５℃（分解）の２−メチルーJヨ黶i２
−シアノアセトアミド）−３−セフエム一４−カルボン
酸の２・２・２−トリクロロエチルエステルの無色粉末
３．５７（８５．５％）を得る。赤外線吸収スペクトル
（ヌジヨール） ３３１０、２２５０１１７７３、１７３５、１６６５、
１６３０ｃＴＬ−１核磁気共鳴吸収スペクトル（ＣＤＣ
ｌ３、τ）８．４６（３Ｈ．．ｄ，．Ｊ−７Ｈｚ）６．
４８（２Ｈ．ｓ） ６．３０（１Ｈ，．ｍ） ５．１０（２Ｈ．ｓ） ４．９９（１Ｈ．ｄ．Ｊ−５Ｈｚ） ４．０６（１Ｈ，．ｄｄ．Ｊ−５Ｈｚ、９Ｈｚ）３．２
７（１Ｈ．ｄ．Ｊ−６Ｈｚ）実施例 ８ ２−メチルーJメ[アミノ一３−セフエム一４カルボン酸
の２・２・２−トリクロロエチルエステルの塩酸塩３．
８２ｙをジクロルメタン３０ｍ１に懸濁し、トリエチル
アミン０．９ｙおよびジメチルアニリン０．１７を加え
溶解後、氷冷攪拌下にフエニルイソシアネート１．２ｙ
を加えたのち５時間攪拌する。
ついで反応液に１０％塩酸を加え１０分間攪拌後ｆ過し
、沢液からジクロルメタン層を分取し飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液、ついで飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄
後、硫酸マグネシウムで乾燥する。乾燥後、溶媒を留去
するとＭｐｌ７２〜１７４℃の２−メチルーJヨ黶i３−
フエニルウレイド）−３−セフエム一４−カルボン酸の
２・２・２−トリクロロエチルエステル４．２ｙを得る
。ｌン 赤外線吸収スペクトル ３３２０、１７８６、１７４２？−１ 核磁気共鳴吸収スペクトル（ＣＤＣｌ３、τ）８．５４
（３Ｈ．ｄ．Ｊ＝７Ｈｚ）６．４５（１Ｈ．ｍ） ５．１５（２Ｈ，．ｓ） ５．０５（１Ｈ．ｄ．Ｊ−４．２Ｈｚ） ４．０２（１Ｈ，．ｄｄ，．Ｊ−９Ｈｚ、４．２ＨＺ）
３．６０（１Ｈ．ｄ．Ｊ−９Ｈｚ）３．８（５Ｈ，．ｍ
） ３．３２（１Ｈ，．ｄ，．Ｊ−５．５Ｈｚ）２．３８（
ＩＨ．ｓ）実施例 ９ ２−メチルーJメ[アミノ一３−セフエム一４−カルボン
酸の２・２・２−トリクロロエチルエステルの塩酸塩３
．８２７を無水ジクロルメタン８０ｍ′に懸濁し、これ
にトリエチルアミン０．９７およびジメチルアニリン０
．１５ｙをジクロルメタン２０ｍ１に溶解した溶液を氷
冷攪拌下に加えて溶解する。
、沢液からジクロルメタン層を分取し飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液、ついで飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄
後、硫酸マグネシウムで乾燥する。乾燥後、溶媒を留去
するとＭｐｌ７２〜１７４℃の２−メチルーJヨ黶i３−
フエニルウレイド）−３−セフエム一４−カルボン酸の
２・２・２−トリクロロエチルエステル４．２ｙを得る
。ｌン 赤外線吸収スペクトル ３３２０、１７８６、１７４２？−１ 核磁気共鳴吸収スペクトル（ＣＤＣｌ３、τ）８．５４
（３Ｈ．ｄ．Ｊ＝７Ｈｚ）６．４５（１Ｈ．ｍ） ５．１５（２Ｈ，．ｓ） ５．０５（１Ｈ．ｄ．Ｊ−４．２Ｈｚ） ４．０２（１Ｈ，．ｄｄ，．Ｊ−９Ｈｚ、４．２ＨＺ）
３．６０（１Ｈ．ｄ．Ｊ−９Ｈｚ）３．８（５Ｈ，．ｍ
） ３．３２（１Ｈ，．ｄ，．Ｊ−５．５Ｈｚ）２．３８（
ＩＨ．ｓ）実施例 ９ ２−メチルーJメ[アミノ一３−セフエム一４−カルボン
酸の２・２・２−トリクロロエチルエステルの塩酸塩３
．８２７を無水ジクロルメタン８０ｍ′に懸濁し、これ
にトリエチルアミン０．９７およびジメチルアニリン０
．１５ｙをジクロルメタン２０ｍ１に溶解した溶液を氷
冷攪拌下に加えて溶解する。
この溶液に氷冷攪拌下、（１・３・４−チアジアゾ―ル
一２−イルチオ）酢酸１．８ｙおよびシンクロヘキシル
カルボジイミド２．２５７を加え、氷冷下、１時間攪拌
する。ついで反応液に５％塩酸５０ｍ１を加え、３０分
攪拌後、有機層を分取し、５％塩酸、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液の順に洗浄し
、硫酸マグネシウムで乾燥する。乾燥後、溶媒を留去す
るとＭｐｌ３Ｏ〜１４０℃（分解）の２−メチルー７｛
２−（１・３・４−チアジアゾール一２−イルチオ）ア
セトアミド｝−３−セJャGム一４−カルボン酸の２・２
・２−トリクロロエチルエステルの淡かつ色粉末４．５
７（９０％）を得る。核磁気共鳴吸収スペクトル（ＣＤ
Ｃｌ３、τ）８．５２（３Ｈ．ｄ，．Ｊ−７Ｈｚ）６．
２５（１Ｈ．ｍ） ５．８２（２Ｈ） ５．１２（２Ｈ，．ｓ） ５．０１（１Ｈ，．ｄ．．Ｊ−５Ｈｚ） ４．０４（１Ｈ．．ｄｄ，．Ｊ−５Ｈｚ１９Ｈｚ）３．
２６（１Ｈ，．ｄ，．Ｊ＝６Ｈｚ）１．７３（１Ｈ，．
ｄ，．Ｊ−９Ｈｚ） ０．９０（１Ｈ，．ｓ） 実施例 １０ ｛Ｎ一第３級ブトキシカルボニル一２−（２チエニル）
｝グリシン９３０ＴＩ！９を無水ジクロルメタン１５ｍ
ｊに加え、ついでトリエチルアミン３６０ηを加えて溶
液とし、この溶液に−１０〜１５℃に冷却攪拌下、ピバ
リン酸クロリド４００ηをジクロルメタン１ｍ１に溶解
した溶液を滴下し、同温度で２時間攪拌して混合酸無水
物の溶液を製する。
一２−イルチオ）酢酸１．８ｙおよびシンクロヘキシル
カルボジイミド２．２５７を加え、氷冷下、１時間攪拌
する。ついで反応液に５％塩酸５０ｍ１を加え、３０分
攪拌後、有機層を分取し、５％塩酸、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液の順に洗浄し
、硫酸マグネシウムで乾燥する。乾燥後、溶媒を留去す
るとＭｐｌ３Ｏ〜１４０℃（分解）の２−メチルー７｛
２−（１・３・４−チアジアゾール一２−イルチオ）ア
セトアミド｝−３−セJャGム一４−カルボン酸の２・２
・２−トリクロロエチルエステルの淡かつ色粉末４．５
７（９０％）を得る。核磁気共鳴吸収スペクトル（ＣＤ
Ｃｌ３、τ）８．５２（３Ｈ．ｄ，．Ｊ−７Ｈｚ）６．
２５（１Ｈ．ｍ） ５．８２（２Ｈ） ５．１２（２Ｈ，．ｓ） ５．０１（１Ｈ，．ｄ．．Ｊ−５Ｈｚ） ４．０４（１Ｈ．．ｄｄ，．Ｊ−５Ｈｚ１９Ｈｚ）３．
２６（１Ｈ，．ｄ，．Ｊ＝６Ｈｚ）１．７３（１Ｈ，．
ｄ，．Ｊ−９Ｈｚ） ０．９０（１Ｈ，．ｓ） 実施例 １０ ｛Ｎ一第３級ブトキシカルボニル一２−（２チエニル）
｝グリシン９３０ＴＩ！９を無水ジクロルメタン１５ｍ
ｊに加え、ついでトリエチルアミン３６０ηを加えて溶
液とし、この溶液に−１０〜１５℃に冷却攪拌下、ピバ
リン酸クロリド４００ηをジクロルメタン１ｍ１に溶解
した溶液を滴下し、同温度で２時間攪拌して混合酸無水
物の溶液を製する。
この溶液に２−メチルーJメ[アミノ一３−セフエム一４
−カルボン酸の２・２・２一トリクロロエチルエステル
の塩酸塩をジクロルメタン１０ｍ１に懸濁し、ついで氷
冷攪拌下に２・６−ルチジン０．６４７を加え数分間攪
拌して溶解後、−１０℃に冷却して製した溶液を一時に
加え、−１５℃で１．５時間、室温で０．５時間攪拌す
る。反応後、反応液を減圧下に濃縮し、残渣に酢酸エチ
ルおよび２〜３％硫酸を加え酢酸エチル層を抽出したの
ち、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順に洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥する。乾燥後、溶媒を減圧
下に留去し、残渣にエーテル・石油エーテルの混液を加
えて粉末化し、沢取した後乾燥すると２−メチルーJヨ
黶iＮ一第３級ブトキシカルボニル一２−チエニルグリ
シル）アミノ−３−セフエム一４−カルボン酸の２・２
・２トリクロロエチルエステル１．７７ｙを得る。赤外
線吸収スペクトル（ヌジヨール）３３２０、１７９０、
１７４０１１７１０１１６９０、１６８０１１６３２ｃ
ｍ−１核磁気共鳴吸収スペクトル（ＣＤＣｌ３、τ）６
．６〜６．１（１Ｈ，．ｍ）５．１２（２Ｈ，．ｓ） ５．０６（ｄ） ｝（１Ｈ．Ｊ−５Ｈｚ） ５。
−カルボン酸の２・２・２一トリクロロエチルエステル
の塩酸塩をジクロルメタン１０ｍ１に懸濁し、ついで氷
冷攪拌下に２・６−ルチジン０．６４７を加え数分間攪
拌して溶解後、−１０℃に冷却して製した溶液を一時に
加え、−１５℃で１．５時間、室温で０．５時間攪拌す
る。反応後、反応液を減圧下に濃縮し、残渣に酢酸エチ
ルおよび２〜３％硫酸を加え酢酸エチル層を抽出したの
ち、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順に洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥する。乾燥後、溶媒を減圧
下に留去し、残渣にエーテル・石油エーテルの混液を加
えて粉末化し、沢取した後乾燥すると２−メチルーJヨ
黶iＮ一第３級ブトキシカルボニル一２−チエニルグリ
シル）アミノ−３−セフエム一４−カルボン酸の２・２
・２トリクロロエチルエステル１．７７ｙを得る。赤外
線吸収スペクトル（ヌジヨール）３３２０、１７９０、
１７４０１１７１０１１６９０、１６８０１１６３２ｃ
ｍ−１核磁気共鳴吸収スペクトル（ＣＤＣｌ３、τ）６
．６〜６．１（１Ｈ，．ｍ）５．１２（２Ｈ，．ｓ） ５．０６（ｄ） ｝（１Ｈ．Ｊ−５Ｈｚ） ５。
０２（ｄ）
４．３７（１Ｈ．ｓ）
４，６〜３．９（２Ｈ，．ｍ）
３．３２（１Ｈ．ｄ．Ｊ−６Ｈｚ）
３．２〜２．５（３Ｈ，．ｍ）
実施例 １１
（５−メチル−１・３・４−チアジアゾール２−イルオ
キシ）酢酸３．１３ｙおよびトリエチルアミン１．８０
７を無水ジクロルメタン５０ｍ１に溶解し、−１５℃に
冷却攪拌下この溶液にピバリン酸クロリド２．０ｙをジ
クロルメタン５ｍｅに溶解した溶液を滴下し、のち同温
度で２時間攪拌して混合酸無水物の溶液を製する。
キシ）酢酸３．１３ｙおよびトリエチルアミン１．８０
７を無水ジクロルメタン５０ｍ１に溶解し、−１５℃に
冷却攪拌下この溶液にピバリン酸クロリド２．０ｙをジ
クロルメタン５ｍｅに溶解した溶液を滴下し、のち同温
度で２時間攪拌して混合酸無水物の溶液を製する。
この溶液に２−メチルーJメ[オミノ一３−セフエム一４
−カルボン酸の２・２・２−トリクロロエチルエステル
の塩酸塩５．７５７をジクロルメタン４０ｍ１に懸濁し
、氷冷下この溶液に２・６−ルチジン２．０ｙを加え、
１０〜２０分間攪拌し、溶解後−１５℃に冷却して製し
た溶液を一時に加え、同温度で１．５時間、ついで室温
で３０分間攪拌する。反応後、反応液を５％硫酸、水、
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順に洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥する。乾燥後、減圧下に溶媒を留去
すると無色無晶形の２−メチルーJヨ黶o２−（５−メチ
ル−１・３・４−チアジアゾール！２−イルオキシ）ア
セトアミド｝−３−セフエム一４−カルボン酸の２・２
・２−トリクロロエチルエステル７．２３ｙ（９６％）
を得る。赤外線吸収スペクトル（クロロホルム） ３４２０、１７９０、１７４０、１７００、１６３５（
１−１核磁気共鳴吸収スペクトル（ＣＤＣｌ３、τ）８
．４６（３Ｈ．ｄ．Ｊ−７Ｈｚ）７．３８（３Ｈ，．ｓ
） ６，５〜６．０（１Ｈ，．ｍ） ５．１０（２Ｈ，．ｓ） ４．９５（１Ｈ，．ｄ．．Ｊ−４．５Ｈｚ）４．９０（
２Ｈ，．ｓ）３．９７（１Ｈ．ｄｄ，．Ｊ−４．５Ｈｚ
１８．５Ｈｚ）３．２６（１Ｈ，．ｄ，．Ｊ−５．５Ｈ
ｚ）２．３７（１Ｈ，．ｄ，．Ｊ−８．５Ｈｚ）実施例
１２｛３−（２−クロロフエニル）−５−メチルイソ
キサゾール−４−イル｝カルボン酸８５５ＴＩ１９にチ
オニルクロライド５ｍ１を加え２時間加熱環流後、チオ
ニルクロライドを減圧下に留去することにより製した｛
３−（２−クロロフエニル）−５−メチルイソオキサゾ
ール−４−イル）カルボン酸クロライドを、無水ジクロ
ルメタン３〜４ｍ１に溶解する。
−カルボン酸の２・２・２−トリクロロエチルエステル
の塩酸塩５．７５７をジクロルメタン４０ｍ１に懸濁し
、氷冷下この溶液に２・６−ルチジン２．０ｙを加え、
１０〜２０分間攪拌し、溶解後−１５℃に冷却して製し
た溶液を一時に加え、同温度で１．５時間、ついで室温
で３０分間攪拌する。反応後、反応液を５％硫酸、水、
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順に洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥する。乾燥後、減圧下に溶媒を留去
すると無色無晶形の２−メチルーJヨ黶o２−（５−メチ
ル−１・３・４−チアジアゾール！２−イルオキシ）ア
セトアミド｝−３−セフエム一４−カルボン酸の２・２
・２−トリクロロエチルエステル７．２３ｙ（９６％）
を得る。赤外線吸収スペクトル（クロロホルム） ３４２０、１７９０、１７４０、１７００、１６３５（
１−１核磁気共鳴吸収スペクトル（ＣＤＣｌ３、τ）８
．４６（３Ｈ．ｄ．Ｊ−７Ｈｚ）７．３８（３Ｈ，．ｓ
） ６，５〜６．０（１Ｈ，．ｍ） ５．１０（２Ｈ，．ｓ） ４．９５（１Ｈ，．ｄ．．Ｊ−４．５Ｈｚ）４．９０（
２Ｈ，．ｓ）３．９７（１Ｈ．ｄｄ，．Ｊ−４．５Ｈｚ
１８．５Ｈｚ）３．２６（１Ｈ，．ｄ，．Ｊ−５．５Ｈ
ｚ）２．３７（１Ｈ，．ｄ，．Ｊ−８．５Ｈｚ）実施例
１２｛３−（２−クロロフエニル）−５−メチルイソ
キサゾール−４−イル｝カルボン酸８５５ＴＩ１９にチ
オニルクロライド５ｍ１を加え２時間加熱環流後、チオ
ニルクロライドを減圧下に留去することにより製した｛
３−（２−クロロフエニル）−５−メチルイソオキサゾ
ール−４−イル）カルボン酸クロライドを、無水ジクロ
ルメタン３〜４ｍ１に溶解する。
この溶液を２−メチルーJメ[アミノ一３−セフエム一４
−カルボン酸の２・２・２−トリクロロエチルエステル
の塩酸塩１。１５ｙをジクロルメタン１０ｍｊに懸濁し
、トリエチルアミン２５０ηおよび２・６−ルチジン０
．６４７を加えて溶解し、氷冷した溶液に滴下し、のち
氷冷下１時間攪拌する。
−カルボン酸の２・２・２−トリクロロエチルエステル
の塩酸塩１。１５ｙをジクロルメタン１０ｍｊに懸濁し
、トリエチルアミン２５０ηおよび２・６−ルチジン０
．６４７を加えて溶解し、氷冷した溶液に滴下し、のち
氷冷下１時間攪拌する。
反応後、反応液を減圧下に濃縮し、残渣に酢酸エチルお
よび２％硫酸を加え、酢酸エチルで抽出し、抽出液は水
、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順に洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥する。乾燥後、減圧下に溶媒を留
去すると無晶形の２−メチルーJヨ黶o３−（２−クロロ
フエニル）−５−メチルイソキサゾール−４−イル｝カ
ルポキサミド一３−セフエム一４−カルボン酸の２・２
・２−トリクロロエチルエステル１．８２ｙを得る。赤
外線吸収スペクトル（ヌジヨール） ３３４０１１７９０１１７４０１１６７５１１核磁気共
鳴吸収スペクトル（ＣＤＣｌ３、τ）８，５２（３Ｈ．
ｄ，．Ｊ−７．５Ｈｚ）７．２２（３Ｈ，．ｓ） ６．４０（１Ｈ，．ｍ） ５．１１（２Ｈ，．ｓ） ５．１０（１Ｈ，．ｄ） ４．１〜３．９（２Ｈ．ｍ） ３．３２（１Ｈ，．ｄ，．Ｊ−６Ｈｚ） ２．７〜２．５（４Ｈ，．ｍ） 実施例 １３ メチルチオ酢酸０．４２７をチオニルクロライド５ｍ１
に加え、室温で４０分間、４０〜５０℃で５分間放置し
たのちチオニルクロライドを減圧下に留去し、残留物に
ベンゼン５ｍ１を加え、さらに減圧下に留去するとメチ
ルチオアセチルクロライド０．４７７を得る。
よび２％硫酸を加え、酢酸エチルで抽出し、抽出液は水
、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順に洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥する。乾燥後、減圧下に溶媒を留
去すると無晶形の２−メチルーJヨ黶o３−（２−クロロ
フエニル）−５−メチルイソキサゾール−４−イル｝カ
ルポキサミド一３−セフエム一４−カルボン酸の２・２
・２−トリクロロエチルエステル１．８２ｙを得る。赤
外線吸収スペクトル（ヌジヨール） ３３４０１１７９０１１７４０１１６７５１１核磁気共
鳴吸収スペクトル（ＣＤＣｌ３、τ）８，５２（３Ｈ．
ｄ，．Ｊ−７．５Ｈｚ）７．２２（３Ｈ，．ｓ） ６．４０（１Ｈ，．ｍ） ５．１１（２Ｈ，．ｓ） ５．１０（１Ｈ，．ｄ） ４．１〜３．９（２Ｈ．ｍ） ３．３２（１Ｈ，．ｄ，．Ｊ−６Ｈｚ） ２．７〜２．５（４Ｈ，．ｍ） 実施例 １３ メチルチオ酢酸０．４２７をチオニルクロライド５ｍ１
に加え、室温で４０分間、４０〜５０℃で５分間放置し
たのちチオニルクロライドを減圧下に留去し、残留物に
ベンゼン５ｍ１を加え、さらに減圧下に留去するとメチ
ルチオアセチルクロライド０．４７７を得る。
この様にして製したメチルチオアセチルクロライド０．
３８７を２−メチルーJ■■２−トリクロロエチルエス
テルの塩酸塩０．７６４７をジクロルメタン８ｍ１に懸
濁し、−３０℃に冷却下、トリエチルアミン０．１８７
をジクロルメタン２ｍ１に溶解した溶液およびジメチル
アニリン０．２６６７をジクロルメタン２ｍｊに溶解し
た溶液を加えて製した溶液に−３０℃で加え、同温度で
３０分攪拌し、のち攪拌しながら徐々に温度を上げ１時
間後には−１０℃とする。反応後、反応液を５％塩酸、
水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順に
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。乾燥後、溶媒を
留去して得られた結晶０．８１７をエタノールから再結
晶するとＭｐｌ５ｌ〜１５３℃の無色針状晶として２−
メチルJヨ黶o（２−メチルチオ）アセトアミド｝−３セ
フエム一４−カルボン酸の２・２・２−トリクロロエチ
ルエステル０．６２７（７１．７％）を得る。赤外線吸
収スペクトル（ヌジヨール） ３３２０１１７８０、１７３２、１６６８礪−１核磁気
共鳴吸収スペクトル（ＣＤＣｌ３、τ）８．４７（３Ｈ
．ｄ．Ｊ−８Ｈｚ）７．８３（３Ｈ，．ｓ） ６．７５（２Ｈ．ｓ） ６．２７（１Ｈ，．ｍ） ５．１０（２Ｈ．．ｓ） ４．９２（１Ｈ．ｄ） ４．０（１Ｈ，．ｄｄ．．Ｊ−５Ｈｚ１１０Ｈｚ）３．
２７（１Ｈ．ｄ．Ｊ−６Ｈｚ）２．４０（１Ｈ，．ｄ，
．Ｊ−１０Ｈｚ）元素分析：Ｃｌ３Ｈｌ，Ｎ２Ｏ４Ｓ２
Ｃｌ３計算値：Ｃ３６．ＯＯ．Ｈ３．４９、Ｎ６．４６
実験値：Ｃ３６．２３、Ｈ３．４５、Ｎ６．４ｌ実施例
１４２−メチルーJメ[アミノ一３−セフエム一４−カ
ルボン酸の２・２・２−トリクロロエチルエステルの塩
酸塩０．７６４７を無水ジクロルメタン８ｍ１に懸濁し
、この液にトリエチルアミン０．１８７をジクロルメタ
ン２ｍ′に溶解した液を−３０℃で滴下し、ついでジメ
チルアニリン０．２７７をジクロルメタン２ｍ′に溶解
した溶液を同温度で滴下する。
３８７を２−メチルーJ■■２−トリクロロエチルエス
テルの塩酸塩０．７６４７をジクロルメタン８ｍ１に懸
濁し、−３０℃に冷却下、トリエチルアミン０．１８７
をジクロルメタン２ｍ１に溶解した溶液およびジメチル
アニリン０．２６６７をジクロルメタン２ｍｊに溶解し
た溶液を加えて製した溶液に−３０℃で加え、同温度で
３０分攪拌し、のち攪拌しながら徐々に温度を上げ１時
間後には−１０℃とする。反応後、反応液を５％塩酸、
水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順に
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。乾燥後、溶媒を
留去して得られた結晶０．８１７をエタノールから再結
晶するとＭｐｌ５ｌ〜１５３℃の無色針状晶として２−
メチルJヨ黶o（２−メチルチオ）アセトアミド｝−３セ
フエム一４−カルボン酸の２・２・２−トリクロロエチ
ルエステル０．６２７（７１．７％）を得る。赤外線吸
収スペクトル（ヌジヨール） ３３２０１１７８０、１７３２、１６６８礪−１核磁気
共鳴吸収スペクトル（ＣＤＣｌ３、τ）８．４７（３Ｈ
．ｄ．Ｊ−８Ｈｚ）７．８３（３Ｈ，．ｓ） ６．７５（２Ｈ．ｓ） ６．２７（１Ｈ，．ｍ） ５．１０（２Ｈ．．ｓ） ４．９２（１Ｈ．ｄ） ４．０（１Ｈ，．ｄｄ．．Ｊ−５Ｈｚ１１０Ｈｚ）３．
２７（１Ｈ．ｄ．Ｊ−６Ｈｚ）２．４０（１Ｈ，．ｄ，
．Ｊ−１０Ｈｚ）元素分析：Ｃｌ３Ｈｌ，Ｎ２Ｏ４Ｓ２
Ｃｌ３計算値：Ｃ３６．ＯＯ．Ｈ３．４９、Ｎ６．４６
実験値：Ｃ３６．２３、Ｈ３．４５、Ｎ６．４ｌ実施例
１４２−メチルーJメ[アミノ一３−セフエム一４−カ
ルボン酸の２・２・２−トリクロロエチルエステルの塩
酸塩０．７６４７を無水ジクロルメタン８ｍ１に懸濁し
、この液にトリエチルアミン０．１８７をジクロルメタ
ン２ｍ′に溶解した液を−３０℃で滴下し、ついでジメ
チルアニリン０．２７７をジクロルメタン２ｍ′に溶解
した溶液を同温度で滴下する。
この溶液に、アリル（Ａｌｌｙｌ）チオ酢酸０．５２８
７をチオニルクロライド５ｍ１に加え、室温で２０分間
、５０℃で５分間放置したのちチオニルクロライドを減
圧留去し、さらにベンゼン少量を加えて減圧留去するこ
とにより製したアリルチオアセチルクロライド０．５２
７７のうちの０．４５２７をジクロルメタン３ｍｅに溶
解した溶液を−３０℃で５分間を要して滴下し、のち−
２０℃で１時間攪拌する。反応後、反応液を５％塩酸で
２回、水で１回、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で２回
、ついで飽和塩化ナトリウム水溶液で１回洗浄後、硫酸
マグネシウムで乾燥する。乾燥後、溶媒を留去し、残渣
（０．８２ｙ）をエーテル・イソプロピルエーテルの混
液から再結晶するとＭｐ９６℃の２−メチルーJヨ黶i２
−アリル（Ａｌｌｙｌ）チオアセトアミド）−３−セフ
エム一４−カルボン酸の２●２・２−トリクロロエチル
エステル０．７１７（７６．６％）を得る。赤外線吸収
スペクトル（ヌジヨール） ３３００１１８００１１７４５、１６７０ｃＴｎ−１核
磁気共鳴吸収スペクトル（ＣＤＣｌ３、τ）８．４７（
３Ｈ．ｄ，．Ｊ−７．５Ｈｚ）６．８０（２Ｈ，．ｄ．
．Ｊ−６Ｈｚ） ６．７８（２Ｈ，．ｓ） ６．５〜６．０（１Ｈ，．ｍ） ５．１０（２Ｈ．ｓ） ４．９７（１Ｈ．．ｄ，．Ｊ−５Ｈｚ） ５，０〜３．８（４Ｈ．ｍ） ３．２４（１Ｈ．．ｄ，．Ｊ−６Ｈｚ） ２．４７（１Ｈ，．ｂｒ０ａｄｄ，．Ｊ−９Ｈｚ）元素
分析：Ｃｌ５Ｈｌ７Ｎ２Ｏ２Ｓ２Ｃｌ３計算値：Ｃ３９
．ｌ９、Ｈ３．７３、Ｎ６．Ｏ９、Ｓｌ３．９５実験値
：Ｃ３９，Ｏ８、Ｈ３．６３、Ｎ６．ｌＯｌＳｌ３．９
７実施例 １５ （２−ホルミルオキシ）フエニル酢酸０．８６４７をテ
トラヒドロフラン１５ｍ１に溶解し、この溶液に−２０
℃に冷却攪拌下、シンクロヘキシルカルボジイミド０．
９９７をテトラヒドロフラン５ｍ１に溶解した溶液を滴
下し、のち同温度で３０分間攪拌する。
７をチオニルクロライド５ｍ１に加え、室温で２０分間
、５０℃で５分間放置したのちチオニルクロライドを減
圧留去し、さらにベンゼン少量を加えて減圧留去するこ
とにより製したアリルチオアセチルクロライド０．５２
７７のうちの０．４５２７をジクロルメタン３ｍｅに溶
解した溶液を−３０℃で５分間を要して滴下し、のち−
２０℃で１時間攪拌する。反応後、反応液を５％塩酸で
２回、水で１回、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で２回
、ついで飽和塩化ナトリウム水溶液で１回洗浄後、硫酸
マグネシウムで乾燥する。乾燥後、溶媒を留去し、残渣
（０．８２ｙ）をエーテル・イソプロピルエーテルの混
液から再結晶するとＭｐ９６℃の２−メチルーJヨ黶i２
−アリル（Ａｌｌｙｌ）チオアセトアミド）−３−セフ
エム一４−カルボン酸の２●２・２−トリクロロエチル
エステル０．７１７（７６．６％）を得る。赤外線吸収
スペクトル（ヌジヨール） ３３００１１８００１１７４５、１６７０ｃＴｎ−１核
磁気共鳴吸収スペクトル（ＣＤＣｌ３、τ）８．４７（
３Ｈ．ｄ，．Ｊ−７．５Ｈｚ）６．８０（２Ｈ，．ｄ．
．Ｊ−６Ｈｚ） ６．７８（２Ｈ，．ｓ） ６．５〜６．０（１Ｈ，．ｍ） ５．１０（２Ｈ．ｓ） ４．９７（１Ｈ．．ｄ，．Ｊ−５Ｈｚ） ５，０〜３．８（４Ｈ．ｍ） ３．２４（１Ｈ．．ｄ，．Ｊ−６Ｈｚ） ２．４７（１Ｈ，．ｂｒ０ａｄｄ，．Ｊ−９Ｈｚ）元素
分析：Ｃｌ５Ｈｌ７Ｎ２Ｏ２Ｓ２Ｃｌ３計算値：Ｃ３９
．ｌ９、Ｈ３．７３、Ｎ６．Ｏ９、Ｓｌ３．９５実験値
：Ｃ３９，Ｏ８、Ｈ３．６３、Ｎ６．ｌＯｌＳｌ３．９
７実施例 １５ （２−ホルミルオキシ）フエニル酢酸０．８６４７をテ
トラヒドロフラン１５ｍ１に溶解し、この溶液に−２０
℃に冷却攪拌下、シンクロヘキシルカルボジイミド０．
９９７をテトラヒドロフラン５ｍ１に溶解した溶液を滴
下し、のち同温度で３０分間攪拌する。
ついでこの溶液に、２−メチルーJ■■２−トリクロロ
エチルエステルの塩酸塩１．５３７をジクロルメタン２
０ｍ１に加え、−２０゜Ｃでトリエチルアミン０．４ｙ
を加えて製した溶液を−２０℃で滴下し、のち攪拌下に
徐々に温度を上昇させ、１．５時間後にＯ℃とする。さ
らにＯ℃で１．５時間攪拌後、析出物を沢去し、沢液は
減圧濃縮乾固したのち残渣に少量の酢酸エチルを加えて
、不溶物を沢去し、ついで沢液を５％塩酸、水、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液の
順に洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥する。乾燥後、約
２７のシリカゲルを通して沢過し、溶媒を留去したのち
エーテルを加えて粉末化し、沢取した後乾燥すると、Ｍ
ｐｌ４２〜１４７℃の２メチルーJヨ黶i２−ホルミルオ
キシ−２−フエニルアセトアミド）−３−セフエム一４
−カルボン酸の２・２・２−トリクロロエチルエステル
１，７２ｙ（８７．５％）を得る。赤外線吸収スペクト
ル ３３５０１１７９７、１７４５、１７３０１１６９０（
１−JモV１−１核磁気共鳴吸収スペクトル（ＣＤＣｌ３
、τ）８．５０（１Ｈ，．ｄ，．Ｊ−７Ｈｚ）６．７〜
６．１（１Ｈ，．ｍ） ５．１３（２Ｈ，．ｓ） ５．０３（１Ｈ，．ｄ．．Ｊ−５Ｈｚ） ４．０８（１Ｈ．．ｄｄ，．Ｊ−５Ｈｚ１８Ｈｚ）３．
７４（１Ｈ．．ｄ．．Ｊ−１Ｈｚ）３．３２（１Ｈ，．
ｄ，．Ｊ−６Ｈｚ） ２．８５〜２．３５（５Ｈ．．ｍ） １．８２（１Ｈ．．ｄ．Ｊ−１Ｈｚ） 実施例 １６ ２−メチルーJメ[アミノ一３−セフエム一４−カルボン
酸の２・２・２−トリクロロエチルエステルの塩酸塩１
．９２７を−１０℃に冷却下にテトラヒドロフラン２０
ｍｅにけんだくした液に、トリエチルアミン１．０２ｙ
を加えて激しく攪拌する。
エチルエステルの塩酸塩１．５３７をジクロルメタン２
０ｍ１に加え、−２０゜Ｃでトリエチルアミン０．４ｙ
を加えて製した溶液を−２０℃で滴下し、のち攪拌下に
徐々に温度を上昇させ、１．５時間後にＯ℃とする。さ
らにＯ℃で１．５時間攪拌後、析出物を沢去し、沢液は
減圧濃縮乾固したのち残渣に少量の酢酸エチルを加えて
、不溶物を沢去し、ついで沢液を５％塩酸、水、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液の
順に洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥する。乾燥後、約
２７のシリカゲルを通して沢過し、溶媒を留去したのち
エーテルを加えて粉末化し、沢取した後乾燥すると、Ｍ
ｐｌ４２〜１４７℃の２メチルーJヨ黶i２−ホルミルオ
キシ−２−フエニルアセトアミド）−３−セフエム一４
−カルボン酸の２・２・２−トリクロロエチルエステル
１，７２ｙ（８７．５％）を得る。赤外線吸収スペクト
ル ３３５０１１７９７、１７４５、１７３０１１６９０（
１−JモV１−１核磁気共鳴吸収スペクトル（ＣＤＣｌ３
、τ）８．５０（１Ｈ，．ｄ，．Ｊ−７Ｈｚ）６．７〜
６．１（１Ｈ，．ｍ） ５．１３（２Ｈ，．ｓ） ５．０３（１Ｈ，．ｄ．．Ｊ−５Ｈｚ） ４．０８（１Ｈ．．ｄｄ，．Ｊ−５Ｈｚ１８Ｈｚ）３．
７４（１Ｈ．．ｄ．．Ｊ−１Ｈｚ）３．３２（１Ｈ，．
ｄ，．Ｊ−６Ｈｚ） ２．８５〜２．３５（５Ｈ．．ｍ） １．８２（１Ｈ．．ｄ．Ｊ−１Ｈｚ） 実施例 １６ ２−メチルーJメ[アミノ一３−セフエム一４−カルボン
酸の２・２・２−トリクロロエチルエステルの塩酸塩１
．９２７を−１０℃に冷却下にテトラヒドロフラン２０
ｍｅにけんだくした液に、トリエチルアミン１．０２ｙ
を加えて激しく攪拌する。
ついでこれに、クロル義酸１−シクロプロピルエチルエ
ステル５．５ミリモルを含むテトラヒドロフラン２０ｍ
１溶液を約１０分間を要して滴下した後、１．５時間同
温度で攪拌する。反応終了後反応液を沢過し、沢液を室
温以下で濃縮する。残留物を酢酸エチル３０ｍ１に溶解
し、５％塩酸、炭酸水素ナトリウム水溶液ついで飽和塩
化ナトリウム水溶液の順に洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥した後溶媒を留去する。残留物に少量のイソプロピ
ルエーテルを加え粉末化し、沢取した後乾燥するとＭｐ
ｌ８ｌ〜１８３℃の２−メチルーJヨ黶i１−シクロプロ
ピルエトキシ）カルボキサミド一３−セフエム一４−カ
ルボン酸の２・２・２−トリクロロエチルエステル１．
４７を得る。赤外線吸収スペクトル ３２５０、１７８０、１７３０１１６９０？−１核磁気
共鳴吸収スペクトル（ＣＤＣｌ３、τ）９．９４〜９．
００（５Ｈ，．ｍ）８．７５（３Ｈ，．ｄ．．Ｊ−６Ｈ
ｚ） ８．５２（３Ｈ，．ｄ，．Ｊ−７Ｈｚ） ６．３０（１Ｈ．．ｍ） ５．７９（１Ｈ．ｍ） ５．１４（２Ｈ．．ｓ） ５．０５（１Ｈ．．ｄ，．Ｊ−４．５Ｈｚ）５４．３０
（１Ｈ，．ｄｄ．Ｊ−４．５Ｈｚ、８Ｈｚ）３．３２（
１Ｈ，．ｄ．．Ｊ−６Ｈｚ）同様にして次の化合物を得
る。
ステル５．５ミリモルを含むテトラヒドロフラン２０ｍ
１溶液を約１０分間を要して滴下した後、１．５時間同
温度で攪拌する。反応終了後反応液を沢過し、沢液を室
温以下で濃縮する。残留物を酢酸エチル３０ｍ１に溶解
し、５％塩酸、炭酸水素ナトリウム水溶液ついで飽和塩
化ナトリウム水溶液の順に洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥した後溶媒を留去する。残留物に少量のイソプロピ
ルエーテルを加え粉末化し、沢取した後乾燥するとＭｐ
ｌ８ｌ〜１８３℃の２−メチルーJヨ黶i１−シクロプロ
ピルエトキシ）カルボキサミド一３−セフエム一４−カ
ルボン酸の２・２・２−トリクロロエチルエステル１．
４７を得る。赤外線吸収スペクトル ３２５０、１７８０、１７３０１１６９０？−１核磁気
共鳴吸収スペクトル（ＣＤＣｌ３、τ）９．９４〜９．
００（５Ｈ，．ｍ）８．７５（３Ｈ，．ｄ．．Ｊ−６Ｈ
ｚ） ８．５２（３Ｈ，．ｄ，．Ｊ−７Ｈｚ） ６．３０（１Ｈ．．ｍ） ５．７９（１Ｈ．ｍ） ５．１４（２Ｈ．．ｓ） ５．０５（１Ｈ．．ｄ，．Ｊ−４．５Ｈｚ）５４．３０
（１Ｈ，．ｄｄ．Ｊ−４．５Ｈｚ、８Ｈｚ）３．３２（
１Ｈ，．ｄ．．Ｊ−６Ｈｚ）同様にして次の化合物を得
る。
（１） ２−メチルーJヨ黶i２−フエニルアセトアミド
）−３−セフエム一４−カルボン酸の２・２・２−トリ
クロロエチルエステル（Ｍｐｌ７５〜１７８℃））．）
２−メチルーJヨ黶i２−フエニルアセトアミド）−２
−セフエム一４−カルボン酸の２・２・２−トリクロロ
エチルエステル（Ｍｐｌ３６〜１３７℃）｛） ２−メ
チルーJヨ黶o２−（３−クロロフエニル）アセトアミド
｝−３−セフエム一４−カルボン酸の２・２・２−トリ
クロロエチルエステル｛Ｍｐｌ４４〜１４４．５℃（分
解）｝１） ２−メチルーJヨ黶o２−（１・２・５−チ
アジアゾール一３−イル）アセトアミド｝−３セフエム
一４−カルボン酸の２・２・２−トリクロロエチルエス
テル｛Ｍｐｌ８Ｏ〜１８５℃（分解）｝−）） ２−メ
チルーJヨ黶i２−フエノキシアセトアミド）−３−セフ
エム一４−カルボン酸のメチルエステル（油状）３）
２−メチルーJヨ黶i２−フエノキシアセトアミド）−３
−セフエム一４−カルボン酸の２・２・２−トリクロロ
エチルエステル（Ｍｐｌｌ８〜１２０℃） １） ２−メチルーJヨ黶i２−フエニルアセトアミド）
−３−セフエム一４−カルボン酸の１−オキサイドの２
・２・２−トリクロロエチルエステル（Ｍｐｌ７３〜１
７５℃）′，） ２−メチルーJヨ黶oＮ−（１−シクロ
プロピルエトキシ）カルボニルフエニルグリシル｝アミ
ノ−３−セフエム一４−カルボン酸（Ｍｐｌ６８〜１６
９℃））） ２−メチルーJヨ黶o２−（１Ｈ−テトラゾ
ール−１−イル）アセトアミド｝−３−セフエム４−カ
ルボン酸｛Ｍｐ２Ｏ２〜２０３℃（分解）｝０） ２−
メチルーJヨ黶o２−（２−チエニル）アセトアミド｝−
３−セフエム一４−カルボン酸｛Ｍｐｌ７５℃（分解）
｝０２−メチルーJメ[ベンジルオキシカルボキサミド一
３−セフエム一４−カルボン酸｛Ｍｐｌ６７〜１６９℃
（分解）｝２） ２−メチルーJヨ黶i２−フエニルチオ
アセトアミド）−３−セフエム一４−カルボン酸｛Ｍｐ
ｌ６８〜１７ＦＣ（分解）｝
）−３−セフエム一４−カルボン酸の２・２・２−トリ
クロロエチルエステル（Ｍｐｌ７５〜１７８℃））．）
２−メチルーJヨ黶i２−フエニルアセトアミド）−２
−セフエム一４−カルボン酸の２・２・２−トリクロロ
エチルエステル（Ｍｐｌ３６〜１３７℃）｛） ２−メ
チルーJヨ黶o２−（３−クロロフエニル）アセトアミド
｝−３−セフエム一４−カルボン酸の２・２・２−トリ
クロロエチルエステル｛Ｍｐｌ４４〜１４４．５℃（分
解）｝１） ２−メチルーJヨ黶o２−（１・２・５−チ
アジアゾール一３−イル）アセトアミド｝−３セフエム
一４−カルボン酸の２・２・２−トリクロロエチルエス
テル｛Ｍｐｌ８Ｏ〜１８５℃（分解）｝−）） ２−メ
チルーJヨ黶i２−フエノキシアセトアミド）−３−セフ
エム一４−カルボン酸のメチルエステル（油状）３）
２−メチルーJヨ黶i２−フエノキシアセトアミド）−３
−セフエム一４−カルボン酸の２・２・２−トリクロロ
エチルエステル（Ｍｐｌｌ８〜１２０℃） １） ２−メチルーJヨ黶i２−フエニルアセトアミド）
−３−セフエム一４−カルボン酸の１−オキサイドの２
・２・２−トリクロロエチルエステル（Ｍｐｌ７３〜１
７５℃）′，） ２−メチルーJヨ黶oＮ−（１−シクロ
プロピルエトキシ）カルボニルフエニルグリシル｝アミ
ノ−３−セフエム一４−カルボン酸（Ｍｐｌ６８〜１６
９℃））） ２−メチルーJヨ黶o２−（１Ｈ−テトラゾ
ール−１−イル）アセトアミド｝−３−セフエム４−カ
ルボン酸｛Ｍｐ２Ｏ２〜２０３℃（分解）｝０） ２−
メチルーJヨ黶o２−（２−チエニル）アセトアミド｝−
３−セフエム一４−カルボン酸｛Ｍｐｌ７５℃（分解）
｝０２−メチルーJメ[ベンジルオキシカルボキサミド一
３−セフエム一４−カルボン酸｛Ｍｐｌ６７〜１６９℃
（分解）｝２） ２−メチルーJヨ黶i２−フエニルチオ
アセトアミド）−３−セフエム一４−カルボン酸｛Ｍｐ
ｌ６８〜１７ＦＣ（分解）｝
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＿１はアルキル基、Ｘは−Ｓ−または▲数式、
化学式、表等があります▼、点線は２または３−セフエ
ムをそれぞれ意味する）で示される２−アルキル−７−
アミノ−２−（または３）−セフエム−４−カルボン酸
類もしくはそのカルボキシ基におけるエステルもしくは
それらのアミノ基における反応性誘導体もしくはそれら
の塩類にアシル化剤を作用させて一般式▲数式、化学式
、表等があります▼ （式中Ｒ＿１、Ｘおよび点線は前と同じ意味、Ｒ＿２は
アシルアミノ基を意味する）で示される２−アルキル−
７−アシルアミノ−２（または３）−セフエム−４−カ
ルボン酸類もしくはそのカルボキシ基におけるエステル
もしくはそれらの塩類を得ることを特徴とする２−アル
キル−７−アシルアミノ−２（または３）−セフエム−
４−カルボン酸類の製造法。
Priority Applications (28)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP48030719A JPS5932472B2 (ja) | 1973-03-15 | 1973-03-15 | ２−アルキル−７−アシルアミノ−２（または３）−セフエム−４−カルボン酸類の製造法 |
| AR257159A AR207341A1 (es) | 1973-03-15 | 1974-01-01 | Un procedimiento para la preparacion de derivados de acido 2-alquil-2 o 3-cefem-4-carboxilico |
| AR252770A AR208283A1 (es) | 1973-03-15 | 1974-01-01 | Un procedimiento para la preparacion de derivados de acido 2-alquil-2-o 3-fefem-4-carboxilico |
| HUFU324A HU167602B (ja) | 1973-03-15 | 1974-03-11 | |
| SE7403302A SE428802B (sv) | 1973-03-15 | 1974-03-12 | Forfarande for framstellning av cefalosporinderivat |
| BE141963A BE812250A (fr) | 1973-03-15 | 1974-03-13 | Procedes de preparation de derives d'acide alkyl inferieur-2 ou3-cephem-4-carboxylique |
| OA55150A OA04690A (fr) | 1973-03-15 | 1974-03-13 | Procédés de préparation de dérivés d'acide alkyl inférieur - 2 ou 3 -cephem-4-carboxylique, nouveaux produits ainsi obtenus et leur utilisation comme produits à activité antimicrobienne. |
| CH1033477A CH602755A5 (ja) | 1973-03-15 | 1974-03-14 | |
| IE547/74A IE39343B1 (en) | 1973-03-15 | 1974-03-14 | 2-lower alkyl-2-or 3 cephem 4-carboxylic acid derivatives and processes for preparation thereof |
| FR7408678A FR2221124B1 (ja) | 1973-03-15 | 1974-03-14 | |
| NL7403442A NL7403442A (ja) | 1973-03-15 | 1974-03-14 | |
| CH1033377A CH602754A5 (en) | 1973-03-15 | 1974-03-14 | 2-Alkyl-2(or 3)-cephem-4-carboxylic acid derivs |
| CH359374A CH596221A5 (ja) | 1973-03-15 | 1974-03-14 | |
| ES74424290A ES424290A1 (es) | 1973-03-15 | 1974-03-14 | Un procedimiento para la preparacion de nuevos derivados deacido 2-alquil (inferior)-2 o 3-cefem-4-carboxilico. |
| AU66734/74A AU487614B2 (en) | 1973-03-15 | 1974-03-15 | 2-lower alkyl-2 or 3-cephem-4-carboxylic acid derivatives and processes for preparation thereof |
| DE2412513A DE2412513C2 (de) | 1973-03-15 | 1974-03-15 | 2-Methyl-2- oder -3-cephem-4-carbonsäurederivate, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung bei der Bekämpfung bakterieller Infektionen |
| GB1196474A GB1469876A (en) | 1973-03-15 | 1974-03-18 | 2-lower alkyl-2-or 3-cephem-4-carboxylic acid derivatives and process for preparation thereof |
| AR257160A AR208533A1 (es) | 1973-03-15 | 1974-12-30 | Un procedimiento para la preparacion de derivados de acido 2-aluqil-2 o 3-cefem-4-carboxilico |
| AR257161A AR208534A1 (es) | 1973-03-15 | 1974-12-30 | Un procedimiento para la preparacion de derivados de acido 2-alquil-2 o 3-cefem-4-carboxilico |
| AR257158A AR203060A1 (es) | 1973-03-15 | 1974-12-30 | Procedimiento para la preparacion de derivados de acido 2-alquil-2 o 3-cefem-4-carboxilico |
| NO751338A NO751338L (ja) | 1973-03-15 | 1975-04-15 | |
| AT405175A AT334527B (de) | 1973-03-15 | 1975-05-27 | Verfahren zur herstellung von neuen 2-nied. alkyl-2- oder 3-cephem-4-carbonsaurederivaten |
| US05/640,910 US4113940A (en) | 1973-03-15 | 1975-12-15 | 7-amino 2-lower alkyl-2 or 3-cephem-4-carboxylic acid derivatives and processes for preparation thereof |
| ES446132A ES446132A1 (es) | 1973-03-15 | 1976-03-16 | Un procedimiento para la preparacion de nuevos derivados de acido 2-alquil (inferior)-2 o 3-cefem-4-carboxilico. |
| SE7613500A SE434402B (sv) | 1973-03-15 | 1976-12-01 | Forfarande for framstellning av nya cefalosporinderivat |
| US05/915,872 US4308380A (en) | 1973-03-15 | 1978-06-15 | 2-Lower alkyl-2 or 3-cephem-4-carboxylic acid derivatives |
| FI803205A FI803205A (fi) | 1973-03-15 | 1980-10-09 | Foerfarande foer framstaellning av antimikroba 2-laegre alkyl-2 eller 3-kefem-4-karboxylsyraderivat och deras ogiftiga salter |
| US06/213,359 US4385176A (en) | 1973-03-15 | 1980-12-05 | Process for preparation of 2-lower alkyl-2 or 3-cephem-4-carboxylic acid derivatives |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP48030719A JPS5932472B2 (ja) | 1973-03-15 | 1973-03-15 | ２−アルキル−７−アシルアミノ−２（または３）−セフエム−４−カルボン酸類の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS49116089A JPS49116089A (ja) | 1974-11-06 |
| JPS5932472B2 true JPS5932472B2 (ja) | 1984-08-09 |
Family
ID=12311440
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP48030719A Expired JPS5932472B2 (ja) | 1973-03-15 | 1973-03-15 | ２−アルキル−７−アシルアミノ−２（または３）−セフエム−４−カルボン酸類の製造法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5932472B2 (ja) |
| ES (1) | ES446132A1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6183975U (ja) * | 1984-11-07 | 1986-06-03 | ||
| JPS62185077U (ja) * | 1986-05-17 | 1987-11-25 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FI771866A (ja) * | 1976-06-28 | 1977-12-29 | Fujisawa Pharmaceutical Co | |
| IT1192287B (it) * | 1977-11-14 | 1988-03-31 | Fujisawa Pharmaceutical Co | Derivati di acido cefalosporanico ad azione farmaceutica e relativo procedimento di preparazione |
-
1973
- 1973-03-15 JP JP48030719A patent/JPS5932472B2/ja not_active Expired
-
1976
- 1976-03-16 ES ES446132A patent/ES446132A1/es not_active Expired
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6183975U (ja) * | 1984-11-07 | 1986-06-03 | ||
| JPS62185077U (ja) * | 1986-05-17 | 1987-11-25 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ES446132A1 (es) | 1977-06-16 |
| JPS49116089A (ja) | 1974-11-06 |
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