JPS588051A - 新規ジペプチド化合物およびその製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、一般式 〔式中、Ｒ１およびＲ２は同一もしくは異なってインド
リル基で置換されていても よいアルキル基を示し、Ｙは置換基を 有するアリールまたは置換基を有する かもしくは有しないアル−低級アルケ ニル基を示し、Ｚは水素原子、塩形成 陽イオンまたはカルボキシル保護基を 示す。〕 で表わされるｉｉ＋、＆ジペプチド化合物およびその製
造法に関する。

Ｉ＊瘍扛人およびｗＪ物に−めて頻繁に見られる医病で
、とれを治療する薬剤の１つのタイプとしてに米からい
くつかの胃液分泌抑制剤が知られている。しかし、これ
らの薬剤はそｏｎ波分泌抑制作用が十分と拡いえず、し
かもそＯはとんどが抗コリン作用に基づくものであル、
抗コリン作用に由来する弊害が指摘されていた。

このような背景下において、本発明者が鋭意研究した結
果、一般式（１）で擬わされるジペプチド化合物が優れ
た胃蓼分話抑制作用を有し、抗コリン作用に由来する１
作用もなく、極めて安全性の為い化合物であることを知
得すると共に、そｏｐ造法を見出し本発明を完成した３
以下、本発明なり１＝脱する。

一般式（１）で表わされる本発明化合物においてＲ１お
よびＲ３のアルキｈｊ＆としては、例えば、ＣＮ直鎖ま
たは分枝状アルキル基が挙けられ、それらの中でとシわ
けメチルおよびイソブチル五が好ましく、インドリル基
でＩｌ線されている場會祉３−インドリルメチル基が好
ましい。

またＹのアリール基としては、例えに１７エ二ルまたは
す７チル勢の基が挙げられ、７声−低級アルケニル基と
しては、例えと、ステリル。

３−７エ具ルー２−プロペｇ−ル、３−フェニル−１−
７’　ａ　ヘニル、２−フェニルー２−７’ロペエル、
２−フェニ）−１−プロペニル、１−７二二に−ｆｌ−
プロペニル、１−７エ二に−１−プロペニル（なおこれ
らの基にシスまた紘トヲンス派の規伺異性が存在する場
合は、そのいずれも本発明に含まれる）等が４ｉｔｌｊ
’られ、これらの＆に基として株、例えば、塩嵩、臭＊
　ｅ　ｙツ累、ヨウ素等のハロゲン原子、メチル、エチ
ル。

プロピル、ブチル、ペンチル勢のＣＩ’！ｌアルキル基
、メトキシ、ニドキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペント
キシ咎の０１Ｍアルコキシ基、ヒト四キシル基また紘ア
セトキシ、グロビオニルオキシ、ブチリルオキシ、バレ
リルオキシ勢のＣｔ−Ｓアシルオキシ基が挙けられ、こ
れら社則Ｓ［また祉二社以上の基が任意の位置に置換し
ていてもよい。

また２における塩形成陽イオンとしては、通常轟駄分動
において使用され得るものであれによく、例えに、Ｎａ
”　、　Ｋ”　、　Ｍｇ′、　Ｃｍ”＋およびＩ＋蝮が
鯖けられ、またカルボキシル保１基としては、通常ペプ
チド合成で用いられるもの１例えは、メチル、エチル、
ｎ−プロピル、ｍ−ブチル、　ｔｅｒｔ、−ブチル等の
アルキル１．ｔた拡ニトロ、メトキシ、エトキシ、ドデ
シルオキシ等のフルコキシ、クロ四、フロモ勢のハロゲ
ン、メチル、エチに勢のアルキに＆でＩｌ＊されてｉて
もよいベンジル尋のアルアルキル基が挙けられる。

そして、一般式（１）で表わされる化合物＃１２餉Ｏ不
整炭嵩原子を有しているが、それらＯＤ。

Ｌ＆よびＤＩ、体のいずれも本発羽に含まれる。

次に本発明化合物の製造法についてＷｔ！する。

に）一般式 ％式％（１） で表わされる化合物と、一般式 Ｙ　−Ｃ００Ｈ（Ｌ） で表わされるカルボン酸Ｏ反応性誘導体を反応させ一＊
＊、次いで新１ｍ１Ｋよ）撫影威反応に付す方法＜ａ＃
＆＞。

［相］一般式 ％式％（） で表わされる化合物また紘そのカルボキシル基における
反応性誘導体と、一般式 ％式％ で表わされる化合物を反応させ、次いで慶馨・・・カル
ボ中シル保−基０説離反応に付し、さらに次いで所ｌ１
ｌＫよル塩形成反応に付す方法（ｂ法）。

一般式ＣＩ）で表わされる本発明化合物紘上述の（尋お
よび−）法のいずれによっても得られる。

とζで一般式（１）　ｏ反応性誘導体として株、過賞の
ア宿ド化反応で使用されるもＯ″Ｃあればよく、例えと
、酸クロリド等Ｏ酸ハ關グニド類。

り冒し炭酸メチル、りａｎ縦酸エチル、／ａ−巌酸イン
エチル岬のり００＊酸アルキル勢との混合酸無、２に４
１ｉ！が挙げられる。

また、一般式（Ｖ）におけるＲａのペプチド合成に用い
られるカルボキシル保護基としてれ、ｚで挙ぜたと同様
のものを示す。

（ＩＩＯ法にようて本発明化合物を製造する場合、水酸
化ナトリウム、炭峻ナトシ？Ａ勢Ｏ無機塩基、ピリジン
、トリエチルアミン勢Ｏ有機塩基Ｏ脱酸剤の存在下ま友
紘不存在下、ジエチルエーテル、テトラヒドキフフン４
ＩＯエーテに類。

塩化メチレン等のハロゲン化炭化水嵩また＃ｉＮ。

Ｎ−ジメチに本ルムアミド勢のアミド餉４１０旙謀中で
反応を行う。このとき、一般式（１）で表わされるカル
ボン酸の反応性誘導体および脱酸剤拡、それぞれ一般式
（１）で表わされる化合物に対して尚モル以上、好まし
く紘ＬＯ５〜Ｌ２倍峰身程夏使用し、室温〜１０Ｑｃの
温度にて１０分〜５時間反応を実施すれはよい。

（ｂ）法によって本発明化合物を製造する場合、一般式
〔バ〕と（Ｖ）で表わされる化合物を通常ペプチド合成
で用いられる混合酸無水物法またはカルボジイミド法勢
の条件を適用して縮合させることによって得ることがで
きる。例えニミ混合級無水物法によって本発明化合物を
製造する勧せ、一般式〔ｌｖ〕で表わされる化合物とク
ロロＲ酸エチル等のクロロ炭酸アルキル類、オキシ塩化
リン、硫＃１１等の無機酸類また祉酢酸勢の有機ｔｍ類
等との混合酸無水物に、一般式（Ｖ）で表わされる化合
物またＬその酸性塩（例えは、塩酸塩叫）を脱酸剤の存
在下に反応させれはよい。

ここで使用される溶媒としては、反応に患影◆を及ばさ
ないものであれはよく、例えに、塩化メチレン、クロロ
ホルム尋のハロゲン化炭化水素類、テトラヒドロ７″）
ン、ジオキサν等のエーテル類、トルエン等の芳香族炭
化水素類および酢酸エチル−岬のエステル−が挙がられ
る。また脱酸剤としては、例えば、ピリジン、ト・リエ
チルアミン、）’Ｊ−ｎ−ブチルアミン等０有機籐３ア
ミンが皐けられる。具体的には、一般式（Ｖ）で表わさ
れる化合物また抹そＯ＃ＩＩＩＬ性塩および脱酸剤を、
それぞれ一般式（ＩＤで表わされる化合物の混合酸無水
物に対して、蟲モル以上好ましく祉１．０５〜Ｌ１餡モ
ル稚表使用し、−１５〜５℃で１０分〜５時間反応を負
施すれによい。

また、カルボジイミド法にて本発明化合物を製造する場
合、溶媒として反応に悪影譬を及はさないもの、例えは
、塩化メチレン、りｐμ本ルム勢のハロゲン化災化水１
ｇ類、テトラヒト四７ラン、ジオΦサン勢のエーテル鎮
、アセト具）Ｖｋ等０Ｊ−）νｋＩＩＩｉｉ畳が使用さ
れ、カルボジイミド類としてＬｌ例え扛、Ｎ、Ｎ−ジシ
クーへ中ジルカルボジイミドが挙けられる。具体的には
、一般式（Ｖ）で表わされる化合物およびカルボジイミ
ド類を、それぞれ一般式Ｉ〕で表わされる化合物に対し
て当モル以上、好ましく拡１．０５〜Ｌ２＠モル程度使
用し、０〜１０℃の温度にて通常１〜５蒔間反応を実施
すればよい。なお、この反応を実施する前に一般式（ｍ
Ｖ）で表わされる化合物を、Ｎ−オキシコハク酸イミド
ｔ　ｐ−二トロフェノール、Ｌ４．５−）リニ）ｔｌフ
ェノ−ｆｉ−等で活性エステル化して反応に用いてもよ
い。

次いで拳−・・・、カルボキシル保譲基を脱離反応に付
す場合、通常のペプチド合成にシけるカルボキシル保論
基の除去法と同じような条件、例えに１−が低級アルキ
ル基の場合は加水分解によるが、必要に応じて水酸化ナ
トリウムまたは水酸化カリウムによるアルカリ加水分解
。

塩酸または硫酸による酸加水分解で除去することができ
る。この場合アルカリまたは酸は原料化合物に対して当
モ羨以上使用し、済謀としては、ジオキサン、アセトン
、　Ｎ、Ｎ−ジメチル本ルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、ピリジン。

メタノール−水またはエタノール−水等が使用でき、室
温下で３０分〜畝時閾で反応は＃３　ｉｔ”終了する。

また、Ｒ３がｔｅｒｔ、−ブチル基である場合ａ、酢酸
エチル、酢酸、エタノール、ベンゼン。

ジオキサン等の溶媒中で、原料化合物に対して数倍〜士
数倍モルの臭化水嵩または塩イヒ水素を作用させてもよ
く、この場合、反応は富温イヒにて３０分〜数時間で龜
は終了する。また、Ｒｓがベンジル基また線置換ベンジ
に基でるる場合は、溶績として氷酢酸、ジオキサン、　
二）Ｗメタン。

四塩化炭素、トリフルオロ酢酸等を使用し、原料化合物
に対してＷ！ｉ、ｇ！１〜土数倍モルＯ蟲イヒ水嵩を室
温下にて数分〜数時間作用させれはよく、または５〜２
０％ノくラジウム−炭ｌＡま、たはパラジウム黒の触媒
を基質に対して数Ｘ（重量）を［７１、Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルホにムアミド、氷酢酸ｔたはメタノール、エタノール
％ｌＯアルコーＡ系＊ｍ中で１＆触遺元させてもよい。

一般式（１）で懺わされる化合物Ｏ塩を得るには、Ｓ常
の塩形成反応に付せはよく、例えは、一般式（１）　＜
　ｚが水素原子）で表わされる化合物をメタノールまた
はイソプロパツール等のアルコール系溶賑に註解し、こ
れにナトリウムメトキシド等のナトリウムアルコキシド
−アルコール溶液またはアルミニウムイソプロポキシド
寺のアルミニウムアルコキシド−アルコール溶液を加え
れは、それぞれＮａ塩またはＭ塩が得られ、また水酸化
カリウム等を用いてに塩を得、またＣａ塩、′Ｍｇ塩を
得るには、上で得られたＮａ塩を含む水溶液にＣａおよ
び鳩の無機塩をＮａ塩に対して過剰（ＩＯＸ）に加えて
塩交換することによシ得ることができる。

次に本発明化合物の胃液分泌抑制作用および急性毒性に
ついて説明する。

Ｌ胃液分液抑制効果 ２４時間絶食させたＷｔｓｔｅｒ系２ット（６゜体］ｋ
１８０〜２００Ｆ、−に８匹）Ｃ）−門を結紮し、同時
に本発明化合物を皮下投与した。

一方、対照群には同量の生理食塩水を投与した。６時間
後に胃液を採集し、その分泌量を糊定し、抑制率を求め
た。その結果を表−１に示す。

２急性毒性 ｄｄＹ系！ウス（♂９体重ｚ±２ｒ、一群Ｗ匹）に本発
明化合物を経口投与して急性毒性値（ＬＤａｅ）を求め
た。その結果を弐−１に示す。

（ニス下泉臼） ＼ 表　　−１ 上の結果から明らかなように、本発明化合物紘低毒性で
かつ強い胃液分泌抑制作用を有していることがわかる。

次に本発明化合物の夫施例について述べるが・本発明は
とれらに限定されるものではない。

製造例１゜ Ｎ−（Ｎ−（３，４，５−）リヒドロキシベンゾイル）
−■−ロイシル）−（Ｉｎ−ロイシンＯｌｌ造（１）　
　（ト）−四イシルー倶−ロイシン２．４ｆおよびλ４
５−トリアセトキシ安息香酸クロリドＬ６ｔをテトラヒ
ドロフラン園−に濠解させ、２時間加熱１１流させる。

次いで、減圧下に１！緘を留去し、践ｗ物に水５０−を
加え酢酸エチル１０Ｇ−で抽出し、有機層を布塩酸圓−
および飽和食塩水５０−で順次洗浄した後１、無水硫酸
マグネシウムで転線し、減圧下に溶媒を留去すれば、Ｎ
−（Ｎ−（３，４，５−）リアセトキシベンゾイル）−
一一ロイシル〕−山−ロイシン２．５ｔを得る。

上と同様の操作によって下の化合物が得られる 融点　１７５〜１７８℃ ＩＲ（ＮＧ３ｒ）ｃｍ　”　；３３００，２９５０，１
７３０，１６３０，１５００゜１２６０．１１８０，１
０３０，８５０融点　１７１〜１７４℃ ＩＲ（ｌＧ３ｒ　）ｃｍ−”；３３００　、２９５０　
、１７２０　、１６２０．１５００　。

１２８０．１０２０．７６０ 融点　１９５〜１９８ｃ ＩＲ（ＫＢｒ　）３−’；３３００　、２９４０　、１
７２０　、１６３０．１５７０　。

１２０ 融点　２１０〜２１２℃ ＩＲ（ＫＢｒ）ａｍ　”；３２５０，２９５０，１７０
０，１６４０，１６００゜１５３０．１３３０，１２１
０．９６０融点　１１３〜１１５℃ ＩＲ（ＫＩ３ｒ）ｚ　　；３３５０，２９５０，１６５
０，１６００，１５００゜１２５０．１０５０，８００ 融点　１４０〜１４２℃ ＩＲ（ＫＢｒ）ｚ−’　：３３００，２９５０，１７２
０，１６２０，１５０５゜１２８０．１１３０，１００
０，８３０融点　１４９〜１５２℃ ＩＲ（ＫＢｒ％−’　：３３００，１７．２０，１６３
０，１４９５，１２３５゜１１２５．７６０ 融点　１８６〜１８９℃ ＩＲ（ＫＢｒ）ａｍ　　；３３００，１７１０，１６３
０，１４９５，１２４０゜１１３０．７６０ 融点　２０８−２１１℃ ＩＲ（ＫＢｒ）国　；３３００ｅ１７１０−１６２５−
１４９０−１２３Ｓｅ１１２５．７４５ 融点　２１９〜２２１℃ ＩＲ（ＫＢｒ）ｗ−’　：３３０Ｇ、１７２０，１６２
０，１４９０，１２３５゜１１２３．７４５ （２）　　Ｎ　−（Ｎ　−（３，４，５−）リアセトキ
シベンゾイル）−（ト）−ロイシル〕−■−ロイシン２
．５Ｆヲメタノール１００ＷｔＫ溶解させ、ｆｊ１素気
流下、５〜１０℃で重炭酸ナトリウムＬ、７ｆおよび水
１００−から成る溶液を滴下する。次いで、１．５時間
攪拌した後、希塩酸を加え反応准をＰ）１３〜４に駒整
し、減圧下に濃縮する。この濃縮液に酪酸エチＡ−５０
−を加え、有ＩａＮＩｉを分取し、無水硫酸！グネシウ
ムで乾燥した後、減圧下に溶媒を留去し、得られた粗結
晶をア七トン−ジエチルエーテルよ）再結晶すれは、Ｎ
−（Ｎ−（３゜４．５−）リヒドμキシベンゾイル）Ｉ
Ｊ−ロイシル〕−（ト）−ロイシン１．６ｆ（８４％）
を得す。

融点　１２４〜１２７℃ ＩＲ（ＫＢｒ％＝　：３３００，２９５０，１７１０，
１６００，１５００゜１３３０．１２００ 上の製造法１−（１）および（２）とｆｉＩＩ＆ＫＪｉ
応処理し次の化合物を得た。

融点　１４９〜１５１℃ ＩＲ（ＩＣＢｒ　％　”　＊　３３００　＃　２９５０
−　ｉ　７００　＃　１６００．１５００−１３２０．
１２００ 製造例２ Ｎ　−（Ｎ−（３，４，５−）リメト命シベンゾイｋ）
−Ｑ−一イシル〕−■−ロイシンｏａｉｎ（１）　　Ｎ
−（３，４，５−）リメト中シペンゾイＡ−）−■−Ｅ
ｌ（シン１ｔＪ　ｔを塩化メチレンｔｏｏ−ｇｉｌｊｌ
させ、−１０〜−５℃にてトリエチルアミンｌＩおよび
クロロ炭酸エチル３．６　ｆ　’！に滴下する。次いで
、ロイシンメチルエステル塩酸塩５．６Ｆおよびトリエ
チルアミン３ｔを塩化メチレン５０−に溶解させた浴液
を滴下する。水冷下、２時間攪拌して反応させた後、反
応液を希塩酸５０−９水ω−および飽和重炭酸ナトリク
ム水溶液５０ｍで順次洗浄し、無水硫酸！グネシウムで
乾燥した後、減圧下に済媒を留去すれは、Ｎ−〔Ｎ−（
３，４５−）９メトキシベンゾイル）−〜−Ｕイシル〕
−■−ロイシンメチルエステル１１．３ｆ’ｔ’Ｗル。

融点　１５７〜１６１℃ 、　　（２）　Ｎ−（Ｎ−（祝４，５−）リメトキシベ
ンゾイル）−ａ＞−ロイシル〕−（ト）−ロイシンメチ
ルエステル１１．３　Ｆをメタノール７０ｍｇに溶解さ
せ、劃−水酸化ナトリウム水溶液３５１１ｔを加え、宸
温で３時間攪拌する。反応終了後、反応液を減圧下に′
ＩＩ＆紬し、塩酸酸性となし、析出油状物を酢酸エチル
で抽出すれは、Ｎ−（Ｎ−（８，４５−）リメトキシベ
ンゾイル）−（ト）−ロイシル）−（ＩＪ−ロイシン８
ｔを得る。

融点　１９５〜１９８℃ ＩＲ（ＫＢｒ）ａ″：３３００，２９４０，１７！０，
１６３０，１５７０゜１２０ 上と同様の操作によって下の化食物が得られた。

融点　１７５〜１７８℃ ＩＲ（ＫＢｒ％−”　：３３Ｑ０，２９５０，１７３Ｑ
、１６３０．１５００゜１２６０．１１８０．１０３０
．８５０融点　１７１〜１７４℃ ＩＲ（ＫＢｒ　）ａＩ′″’　：３３００，２９５０，
１７！Ｑ、１・２０，１り００゜１２８０．１０２０，
７６０ 融点　２１０〜２１２ｃ ＩＲ（ＩＧ３ｒ）ａｍ　”　：３２５０．２９５０　、
１７００　、１６４０．１６００　。

１５３０．１３３０，１２１０，９６０融点　１１３〜
１１５℃ ＩＲ（ＫＢｒ）ｓ″；３３５０．２９５０，１６５０，
１６００，１５００゜１２５０．１０５０，８００ 融点　１４０〜１４２℃ ＩＲ（ＫＢｒ　）ａ″：３３００．２９５０，１７２０
　、１６２０　、１５Ｇ８゜１２８０．１１３０，１０
００．８３０製造例λ Ｎ−（Ｎ−（３，４５−）リメトキシベンゾイル）−（
ト）−ロイシル〕−■−アクニンの製造（１３Ｎ−（３
，４，５−）リメトキシベンゾイＪｋ）　−■−μイシ
ンｘ３ｔ　、　（Ｉｊ−アク二ンメチルエステル塩酸塩
５．６Ｆ、）リエチルアミン５．６ｔおよびＮ−オキシ
；ハク戚イミド４．６ｔを塩化メチレン１２０５ｇに濠
解させ、水冷下Ｎ、Ｎ’−ジシク一へキシルカルボジイ
ミド８．３ｆを加える。富温下で２時間攪拌した後、析
出するジシ／ａへ中シル尿素な一去し、Ｐ献を１に植鹸
ＩＱＱｍ、飽和重嶽酸ナトリクム水旙液１１００ａｌｌ
１および水１（１−で願次洗扮した後、無水硫酸マグネ
シウムでｔｉｉ、燥し、次いで減圧下に法線を留去すれ
ば、Ｎ−（Ｎ−（３，４，５−）リメトキシベンゾイル
）−（ト）−ロイシル〕−（ト）−アラニンメチルエス
テル１３５ｆを得る。

（２）　　Ｎ−〔Ｎ−（３，４，５−）リメトキシベン
ゾイル）−（ＩＪ−ｏ（シル〕−（ト）−アラニンメチ
ルエステル１３−５　ｆをメタノール１００−に溶解さ
せ、ＩＮ−水酸化ナトリウム水浴液５０ｆＩｔを加え、
室温で２時間攪拌する。次いで、反応液から減圧下に治
縁を留去し、水５０−およびジエチルエーテル１００ｍ
を加える。

水層を分取し、塩酸酸性とした後、酢酸工ｉル１５０−
で抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した溶“液を無水
硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒な留去すれは
、Ｎ−（Ｎ−（３，４，５−トリメトキシベンゾイル）
−ＣＩＪ−Ｅ−イシル〕−（ト）−アラニン８，３ｆが
得られる。

融点　１４９〜１５２℃ ＩＲ（ＫＢｒ）ａｇ−’　；３３００．１７２０，１６
３０，１４９５．１２＄８゜１１２５．７６０ 製造例表 Ｎ−（Ｎ−（３，４，５−）リメトキシペンゾイｋ）−
山−７ラニル〕−〜−ロイジノの製造（１）　　Ｎ−（
３，４，５−）リフト中ジベンゾイル）−（ト）−アラ
ニンＳＡＰ、（１）−ａ４シンメチルエステル塩酸塩５
．４Ｆ、）リエチルアミン４．２ｆおよびＮ−オキシス
クシンインドＬ４ｔを塩化メチレン９０−に溶解し、Ｎ
、Ｎ’−ジシクロへ中シルカＪｋｄｌジイミド６−１ｆ
を水冷下に加え、室温にてＬ５時間攪拌する。以下、製
造例λの（１）とＦｌｌｌｌに＃ｌｉｌ理して、Ｎ−（
Ｎ−（３，４５−）リメトキシベンゾイル）−働一７２
ニル〕−山−四イシンメチルエステル９．１１を得、次
いで、製造例３．−（２）と同様に処理すれ［、Ｎ−（
Ｎ−（３，４，５−）リメトキシベンゾイル）−４Ｊ−
７クール）　−Ｃ［Ｊ−ロイシン６．５ｆが得られる。

融点　１８６〜１８９℃ ＩＲ（ＫＢｒ殖−；３３００，１７１０，１６３０，１
４９５，１２４０゜１１３０、７６０ ＩＱ造例５゜ Ｎ−（Ｎ−（３，４，５−）リメトキシベンゾイル）−
■−トリプトフイ羨）−（ＩＪ−ロイシンの製造 Ｎ−（３，４，５−）リメＦキシベンゾイル）−山一ト
リプトファン５ｔ、■−ロイシンメチルエステル塩酸塩
４．８ｆ、）リエチルアミｙ３．７ｔ。

Ｎ−オキシスクシンイミド３ｔおよびＮ、Ｎ’−ジシク
ロへキシルカルボジイミド５．４ｔＶｔ＠造例１−（１
）と同様１ｃ　Ｍ　ｆｆｉ処理シ、Ｎ−（Ｎ−（３ＬＬ
！＄−トリメトキシベンゾイル）−山一トリプトフイル
〕−（ト）−ロイシンメチルエステルヲ得、次いで製造
例λ−（２）と同様にして加水分解すれに、Ｎ−（Ｎ−
（３，４，５−）リメトキシペンゾイル）−（ト）−ト
リプトフィル）−ＱＪ−ロイシン＆８Ｆが得られる。

融点　２０８−２１１℃ ＩＲ（ＫＢｒ）ｍ　”　：３３００，１７１０，１６２
５．１４９０，１２３５゜１１２５、７４５ Ｎ−（Ｎ−（本４５−トリメト中ジベンゾイル）−Ｑ−
ロイシル〕−（ト）−トリプトファｙＯ製造 Ｎ−（３，４，５−トリメトキシベンシイｋ）−山一目
イシン４ｆ、（ト）−トリプト７アンメテルエステル塩
酸塩３．２Ｆ、）リエチルアミン１．７ｆ。

Ｎ−ヒト日キシスクシンイミド１．７ｖおよびＮ、Ｎ’
−ジシクロへキシルカルボジイミド２．６ｆｔ−製造例
３．−（１）と同様に反応処理し、Ｎ−（Ｎ−（λ４．
５−）リメトキシベンゾイル）−山一ロイシル）−Ｗ−
）す７）７アンメチルエステルヲ得、次いで製造例３．
−　（２）と同様に加水分解すれば、Ｎ　−（Ｎ　−（
３，４，５−）リメトキシベンゾイル）−（ト）２−ロ
イシル）−ＣＩＪ−トリプトファン３．６　Ｆ　カ得ら
れる。

融点　２１９−２２１℃ ＩＲ（ＫＢｒ％−”　：３３００，１７２０，１６２０
，１４９０，１２３５゜１１２３、７４５ 上と同様の操作で下の化合物を得た。

融点　１２４〜１２７℃ ＩＲ（ＫＢｒ％−”　；３３００，２９！ｓＯ，１７１
０，１６００，１５００゜１３３０．１２００ 融点　１４９〜１５１Ｃ ＩＲ（ＫＢｒ　）ａ＋−１：３３００　ｍ　２９５０　
、１７０Ｑ　、　１６００　、１５００　。

１３２０．１２００ 特許出願人　富山化学工業株式会社

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）一般式 〔式中、Ｒ１およびＲ２は同一もしくは異なってインド
   リル基で置換されていても よいアルキル基を示し、Ｙは置換基を 有するアリールまたは置換基を有する かもしくは有しないアル−低級アルケ ニル基を示し、Ｚは水素原子、塩形成 陽イオンまたはカルボキシル保護基を 示す。〕 で表わされるジペプチド化合物。 （２）　Ｒ１および１ｇが同一４Ｌ＜ＩＩｉ異なってメ
   チル。 イソブチルまたは３−インドリルメチル基である特許請
   求の範囲第（１）よ記載のジペプチド化金物。 （２）Ｙがｌｆａ以上Ｏアル−キシもしくはヒト胃キシ
   ル基で置換されている７エエ身ま大紘スチリル１である
   特許請求Ｏ範＃Ｍ＠　（１）積ま良は無（２）現記ＩＫ
   Ｏジペプチド化合物。 （４）一般式 で表わされる化合物に、一般式 −ＣＯＯＨ で表わされるカルｌン＠０反応性帥導体を反応畜（、次
   −で所ｍＫよル塩影威反応に付すことを％徴とする、一
   般式 ＭＩ　　　　　Ｒ” Ｙ−Ｃ０Ｎｋ（Ｃ１（ＣＯＮ）ｉｃｌｉｃＯＯＺで表わ
   されるジペプチド化合物の製造法。 （５）一般式 ％式％） でｈわされる化合物またはそのカルボキシルＭｉにおけ
   る反応性誘導体を、一般式 〔式中、Ｒ２はインドリル基で置換されていてもよいア
   ルキル基を示し、Ｒ３はペプチド合成において用いられ
   るカルボ キシル保護基を示す。〕 で表わされる化食物と反応させ、次いで所望によルカル
   ボキシル保酸基４０ｍ！離反応に付し、さらに次いで所
   望にょ）塩形成反応に付すことを特徴とする、一般式 〔式中、Ｒ１、Ｒ２およびＹは上記した意味を有し、Ｚ
   は水素原子、塩形成陽イオ ンまたはカルボキシル保護基を示す。〕で表わされるジ
   ペプチド化合物の製造法。