JPS5879546A - 触媒およびその製造法 - Google Patents
触媒およびその製造法Info
- Publication number
- JPS5879546A JPS5879546A JP56177602A JP17760281A JPS5879546A JP S5879546 A JPS5879546 A JP S5879546A JP 56177602 A JP56177602 A JP 56177602A JP 17760281 A JP17760281 A JP 17760281A JP S5879546 A JPS5879546 A JP S5879546A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst
- amorphous
- producing
- catalyst carrier
- carrier
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 title claims abstract description 55
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 19
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 9
- 230000001788 irregular Effects 0.000 claims abstract description 7
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims abstract description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 10
- 239000005300 metallic glass Substances 0.000 claims description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 6
- 229910000808 amorphous metal alloy Inorganic materials 0.000 claims description 4
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 abstract description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 6
- 239000000969 carrier Substances 0.000 abstract description 4
- 239000002131 composite material Substances 0.000 abstract description 2
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 abstract description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 abstract 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 241000264877 Hippospongia communis Species 0.000 description 4
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910018487 Ni—Cr Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- 229910018104 Ni-P Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018536 Ni—P Inorganic materials 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010380 TiNi Inorganic materials 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 description 1
- 230000001877 deodorizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 239000008262 pumice Substances 0.000 description 1
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 1
- 229910052704 radon Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 salt compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は触媒およびその製造法に係り、詳しくのべる
と、金属または合金あるいはセラミックスよりなる触媒
担体の表面に非晶質金属あるいは非晶質合金を担持させ
九触媒ならびKその製造法に関するものである。
と、金属または合金あるいはセラミックスよりなる触媒
担体の表面に非晶質金属あるいは非晶質合金を担持させ
九触媒ならびKその製造法に関するものである。
各種の化学反応を利用した化学工業において触媒は必要
欠くことのできない材料である。
欠くことのできない材料である。
そして化学反応に対して有効な選択性をもち、副反応を
伴なわない、しかも寿命の長い触媒の開発が盛んに進め
られている。
伴なわない、しかも寿命の長い触媒の開発が盛んに進め
られている。
特に最近では、公害防止関係の触媒、例えば自動車排ガ
スの浄化、有機溶剤を含む悪臭ガスの無臭化などに使用
する触媒の開発はめざましい。
スの浄化、有機溶剤を含む悪臭ガスの無臭化などに使用
する触媒の開発はめざましい。
触媒は一般に粒状、錠剤状などに形成された担。
体とよばれる多孔質材料例えば軽石、けい藻土、シリカ
ゲル、アルミナ等よりなる担体に活性を有する触媒金属
例えばニッケル、白金等を含浸付着させて使用している
。
ゲル、アルミナ等よりなる担体に活性を有する触媒金属
例えばニッケル、白金等を含浸付着させて使用している
。
工業約には上記触媒を反応筒内に充填し、この充填触媒
層中を反応物質が流動通過する間に化学反応を行わせる
ものである。
層中を反応物質が流動通過する間に化学反応を行わせる
ものである。
従って充填触媒層としては、反応物質としての気体ある
いは液体の流れがよく圧力損失を少なくすることと触媒
との接触を密に行なわせることかどの条件を満足させる
ことが必要である。
いは液体の流れがよく圧力損失を少なくすることと触媒
との接触を密に行なわせることかどの条件を満足させる
ことが必要である。
触媒担体としては、これまでにも触媒反応工学的な面か
ら粒状物、ハニカム構造など各種の形状の材料が検討さ
れ、実用化されている。
ら粒状物、ハニカム構造など各種の形状の材料が検討さ
れ、実用化されている。
活性を有する触媒金属としてtiNi、Goなどの遷移
金属やAg、Pt、Pd、Rnなどの貴金属元素が、そ
れらの塩化合物の水溶液として用いられ、該水溶液を多
孔質触媒担体の孔部に含浸したのち乾燥、焙焼、還元等
の工程を経て製造される。
金属やAg、Pt、Pd、Rnなどの貴金属元素が、そ
れらの塩化合物の水溶液として用いられ、該水溶液を多
孔質触媒担体の孔部に含浸したのち乾燥、焙焼、還元等
の工程を経て製造される。
従って触媒担体に担持された活性金属は結晶質である。
金属は一般11Ud結晶構造を有するが、最近結晶構造
を有しない金属いわゆるアモルファス金属が注目され、
高耐食性材料、磁性材料などへの応用が検討されている
。
を有しない金属いわゆるアモルファス金属が注目され、
高耐食性材料、磁性材料などへの応用が検討されている
。
このアモルファス金14#i結晶形を有しない即ち非晶
質なため表面活性が高く、このことから活性な触媒材料
として期待されている。
質なため表面活性が高く、このことから活性な触媒材料
として期待されている。
このようなアモルファス金属は、溶融状態の金属を10
″〜106℃/secg度の冷却速度で超急速で冷却す
る方法で製造される。
″〜106℃/secg度の冷却速度で超急速で冷却す
る方法で製造される。
そしてlO6℃/s e c程度の冷却速度を得るため
に1一般には冷却された回転ロールの表面に金属溶湯を
流下させて厚み1klOμのリボン状態のアモルファス
金属が製造されてはいるが、連続状態で容易に製造でき
ないという欠点がある。
に1一般には冷却された回転ロールの表面に金属溶湯を
流下させて厚み1klOμのリボン状態のアモルファス
金属が製造されてはいるが、連続状態で容易に製造でき
ないという欠点がある。
さらに触媒として利用するためKは、粒状、ハニカム状
、網状などの形状を呈する触媒担体に担持させる必要が
あるが、上記したような金属溶湯急冷法では不可能であ
る。
、網状などの形状を呈する触媒担体に担持させる必要が
あるが、上記したような金属溶湯急冷法では不可能であ
る。
本発明者らはアモルファス金属の表面活性に着目し、こ
のアモルファス金属を各種形状の触媒担体に担持させた
触媒を得るべく鋭意検討を行った結果、この発明に至つ
九ものである。
のアモルファス金属を各種形状の触媒担体に担持させた
触媒を得るべく鋭意検討を行った結果、この発明に至つ
九ものである。
卸ちこの発明は金属またけセラミックスの平板状、粒状
、ハニカム状、網状等の触媒担体表面に、Fe−Ni合
金にリンまたは硼素を含む合金を例えばイオンスパッタ
リング法にて被覆させることにより、Fe−Ni合金の
非晶質体を担体表面に担持しうることを見出したのであ
る。
、ハニカム状、網状等の触媒担体表面に、Fe−Ni合
金にリンまたは硼素を含む合金を例えばイオンスパッタ
リング法にて被覆させることにより、Fe−Ni合金の
非晶質体を担体表面に担持しうることを見出したのであ
る。
そして、このようなFe−Ni非晶質体を担持した触媒
を用いてCOガスとH,ガスを反応させてCH。
を用いてCOガスとH,ガスを反応させてCH。
を合成する反応を300℃で行なったところ、Fe−N
i、結晶質の触媒では殆んど反応が進行しなかったもの
が数10倍の反応活性を示すことが認められた。
i、結晶質の触媒では殆んど反応が進行しなかったもの
が数10倍の反応活性を示すことが認められた。
また、Ni−Cr合金よシなる連通気孔を有する三次元
網状多孔材を真空容器中に籠き、対極KFe−Ni−P
合金板を対置させてアルゴン(Ar )ガスを10To
rr#I入し、高周波イオンブレーティングを行ってN
i合金よりなる三次元網状多孔体の骨格表面をFe−N
iよりなるアモルファス金属にて被覆したアモルファス
触媒を製造した。
網状多孔材を真空容器中に籠き、対極KFe−Ni−P
合金板を対置させてアルゴン(Ar )ガスを10To
rr#I入し、高周波イオンブレーティングを行ってN
i合金よりなる三次元網状多孔体の骨格表面をFe−N
iよりなるアモルファス金属にて被覆したアモルファス
触媒を製造した。
この担体は多孔率が95%ですべての孔が連通している
ため、ガスの流通抵抗や圧力損失が小さくて工業用触媒
として過していることが纒められた。
ため、ガスの流通抵抗や圧力損失が小さくて工業用触媒
として過していることが纒められた。
なお、Ni−Cr合金担体の耐蝕性、耐熱性を高めるた
めNi−Cr合金よりなる三次元不規則網状構造体の骨
格表面K At20g−5fogよりなるホーロー質ヤ
ラミックスを塗布焼結した担体を用いてFe−カーボニ
ル、Ni−カーボニル、およヒリンのガスを真空容器中
に導入し、外部より高周波を加えて導入ガスをプラズマ
状零にして高周波プラズマCVD(Chemical
Vapor Deposition )法でFe −N
i非晶質金属を金属−セラミックス複合担体の表面に担
持させた。得られた触媒は耐蝕性、耐熱性に良好であっ
た。
めNi−Cr合金よりなる三次元不規則網状構造体の骨
格表面K At20g−5fogよりなるホーロー質ヤ
ラミックスを塗布焼結した担体を用いてFe−カーボニ
ル、Ni−カーボニル、およヒリンのガスを真空容器中
に導入し、外部より高周波を加えて導入ガスをプラズマ
状零にして高周波プラズマCVD(Chemical
Vapor Deposition )法でFe −N
i非晶質金属を金属−セラミックス複合担体の表面に担
持させた。得られた触媒は耐蝕性、耐熱性に良好であっ
た。
次にフレタンフオームの骨格K At20g −5i0
2よりなるセラミックスのスラリーを塗布し、焼結した
At、0.セラミックスよ抄なる連通気孔を有する三次
元不規則網状多孔体の表面にイオンスパッタリング法に
て白金(Pt)の非晶質体を被覆して触媒を得た。
2よりなるセラミックスのスラリーを塗布し、焼結した
At、0.セラミックスよ抄なる連通気孔を有する三次
元不規則網状多孔体の表面にイオンスパッタリング法に
て白金(Pt)の非晶質体を被覆して触媒を得た。
この触媒を用いて800℃で酢酸エチル有機ガスの酸化
反応を行なわせたところ反応率は100%であった。
反応を行なわせたところ反応率は100%であった。
結晶1XPtt″用いた触媒では同一条件で70〜75
11Iであり、非晶質Piの活性が非常に為いことがわ
かった。
11Iであり、非晶質Piの活性が非常に為いことがわ
かった。
以上のように、この発明によれが従来の金JIl&溶湯
の超急冷法によらずイオンブレーティング法、イオンス
パッタリング法、−周波プラズマCVD −法などの
物理的表面担持法によって容易に各種形状および性状の
触媒担体に非晶負金属あるいは非晶質合金を担持させた
高活性触媒を製造することができるのである。
の超急冷法によらずイオンブレーティング法、イオンス
パッタリング法、−周波プラズマCVD −法などの
物理的表面担持法によって容易に各種形状および性状の
触媒担体に非晶負金属あるいは非晶質合金を担持させた
高活性触媒を製造することができるのである。
セして担体としては金属またはセラミックスの平板状、
粒状、ハニカム状あるいは連通気孔含有する三次元不規
則網状構造など各種の形状および性状のものが使用でき
るが、圧力損失、ガスの接触効率、反応効率などの点か
ら案用的に#i連透過気孔有する三次元不規則網状構造
の多孔体がのぞましい。
粒状、ハニカム状あるいは連通気孔含有する三次元不規
則網状構造など各種の形状および性状のものが使用でき
るが、圧力損失、ガスの接触効率、反応効率などの点か
ら案用的に#i連透過気孔有する三次元不規則網状構造
の多孔体がのぞましい。
なお、非晶質金属あるいは合金を担持させる時のm度社
500℃以上では非晶質金属が結晶化するおそれがある
ため500℃以下が適当である。
500℃以上では非晶質金属が結晶化するおそれがある
ため500℃以下が適当である。
273
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1) 金属または合金あるいはセラミックスよりな
る触媒担体の*WiK非晶質金属あるいは非晶質合金を
担持させたことを特徴とする触媒。 (2) 触媒担体が粒状であることを特徴とする特許
請求の範囲第(1)項記載の触Il&。 (s> 触媒担体がハニカム構造を有することを特徴
とする特許請求の範囲第(1)項記載の触媒。 (4) 触媒担体が連通気孔を有する三次元の不規則
網状立体構造を有することを特徴とする特許請求の範囲
@ (1)項記載の触媒。 (5) 金Xまたは合金あるいはセラミックスよりな
る触媒担体の*向に非晶質金属ま九は非晶質合金を物理
的手段によシ担持させることを特徴とする触媒の製造法
。 (6)触媒担体が粒状であることを特徴とする特許lI
求の範囲第(6)項記載の触媒の製造法。 □(7
) 触媒担体がハニカム構造を有することを特徴とす
る特許a求の範囲IN (5)項記載の触媒の製造法。 (8)触媒担体が連通気孔を有する三次元の不規則網状
立体構造を有することを特徴とする特許請求の範囲第(
5)項記載の触媒の製造法。 (9) 表面担持法がイオンブレーティング法である
ことを特徴とする特奸ii!末の範囲第(5)項記載の
触媒の製造法。 DI 表面担持法がイオンスパッタリング法であるこ
とを特徴とする特許M、tの範囲第(5)項記載の触媒
の製造法。 (2)表面担持法が化学的気相析出法であることを特徴
とする特許ta求の範囲第(j)項の記載の触媒の製造
法。 (2)表面担持法によって非晶賃金Xまたは非晶質合金
を触媒担体表面に担持させる時の湿度が500℃以下で
あることを特徴とする特許請求の範囲! (5)項記載
の触媒の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56177602A JPS5879546A (ja) | 1981-11-04 | 1981-11-04 | 触媒およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56177602A JPS5879546A (ja) | 1981-11-04 | 1981-11-04 | 触媒およびその製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5879546A true JPS5879546A (ja) | 1983-05-13 |
Family
ID=16033862
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56177602A Pending JPS5879546A (ja) | 1981-11-04 | 1981-11-04 | 触媒およびその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5879546A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017532189A (ja) * | 2014-08-11 | 2017-11-02 | ニューサウス・イノベーションズ・ピーティーワイ・リミテッド | 触媒アセンブリ |
-
1981
- 1981-11-04 JP JP56177602A patent/JPS5879546A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017532189A (ja) * | 2014-08-11 | 2017-11-02 | ニューサウス・イノベーションズ・ピーティーワイ・リミテッド | 触媒アセンブリ |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS61245848A (ja) | 廃ガス浄化用触媒の製造方法 | |
JP5103386B2 (ja) | 白金、銅および鉄を含有する改善された高選択酸化触媒 | |
JPS62155937A (ja) | 金および金系複合酸化物を担持した触媒体を製造する方法 | |
US4422961A (en) | Raney alloy methanation catalyst | |
JPS61500600A (ja) | 耐摩耗性触媒製造用担体 | |
GB2210284A (en) | Catalyst having a silicaceous support, and preparation thereof | |
AU736817B2 (en) | Catalytic distillation | |
JPS5879546A (ja) | 触媒およびその製造法 | |
Xue et al. | Amorphous Ni–B alloy membrane: preparation and application in ethanol dehydrogenation | |
CN109513445A (zh) | 三元金属氧化物薄膜催化剂及其制备方法 | |
Jun et al. | Preparation of palladium membranes from the reaction of Pd (C3H3)(C5H5) with H2: wet-impregnated deposition | |
US6033458A (en) | Coated materials | |
US5169508A (en) | Graphite electrode | |
CN105873678A (zh) | 用于氨氧化的催化剂 | |
JPS5919732B2 (ja) | 水−水素交換反応用触媒 | |
JP2897958B2 (ja) | 排気ガス清浄化用アモルフアス合金触媒 | |
EP0667808A1 (en) | CATALYTIC SYSTEM WITH STRUCTURE. | |
Liu et al. | Amorphous alloy/ceramic composite membrane: preparation, characterization and reaction studies | |
US4623532A (en) | Catalysts for synthesis of ammonia | |
JPH0899039A (ja) | NOx分解用アモルファス合金触媒 | |
JP2001511485A (ja) | 薄いセラミックコーティング | |
CA1133680A (en) | Catalytic process for synthesis of ammonia | |
RU1825654C (ru) | Способ получени катализатора дл синтеза и разложени аммиака | |
JPH05177137A (ja) | ルテニウム触媒の製造方法及び製造装置 | |
RU2052287C1 (ru) | Катализатор очистки воздуха от кислородсодержащих примесей и способ его приготовления |