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JPS584733A - アルキニル化合物の製造方法 - Google Patents

アルキニル化合物の製造方法

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Publication number
JPS584733A
JPS584733A JP10095481A JP10095481A JPS584733A JP S584733 A JPS584733 A JP S584733A JP 10095481 A JP10095481 A JP 10095481A JP 10095481 A JP10095481 A JP 10095481A JP S584733 A JPS584733 A JP S584733A
Authority
JP
Japan
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formula
sodium
compound
compound represented
sodium acetylide
Prior art date
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Granted
Application number
JP10095481A
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English (en)
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JPS6318926B2 (ja
Inventor
Akira Yamamoto
昭 山本
Toshinobu Ishihara
俊信 石原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP10095481A priority Critical patent/JPS584733A/ja
Publication of JPS584733A publication Critical patent/JPS584733A/ja
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はアルキニル化合物の製造方法に関するものであ
り、特には農薬、医薬1合成香料などの合成中間体とし
て有用とされるアルキニル化合物の有利な合成方法を提
供するものである。
従来、ナトリウムアセチリドとハロゲン化有機化合物と
を反応させアルギン化合物を得る方法としては、例えば
(1)液体アンモニア中でナトリウムアセチリドを合成
し、さらにハロゲン化アルキルと一40℃で反応させる
ことによりアルキン化合物を得る方法(J、Ohem、
Boa、、115  (1950)〕  あるいけ、(
2)キシレン中にてナトリウムアセチリドを合成し、N
 、 N−ジメチルホルムアミドを助溶剤としてハロゲ
ン化アルキルと30℃で反応させることによりアルキン
化合物を得る方法(J、 Org、 Ohem、 、 
24 、840 (1959)〕が知られている。
しかし、前者の(1)の方法による場合は、液体アンモ
ニア中にてナトリウムアセチリドを合成するため、回収
液体アンモニア中にアセチレンが含まれている。このア
セチレンをその液体アンモニアから分離するのは困難で
あるため、このアセチレンを含む回収液体アンモニアは
その貯蔵あるいは再使用の際の安全性に問題がある。ま
た反応温度が一40′Cであるため、強力な冷凍機が必
要となり、したがってこの(1)の方法は必ずしも]二
業的製造法であるとは言えない。一方後者の(2)の方
法による場合は、(])の方法のように強力な冷凍機は
必要としない利点があるが、N、N−ジメチルホルムア
ミドを使用するので、この回収に問題がある。
すなわち、N’、N−ジメチルホルムアミドは水溶性の
有機溶剤であるため、反応終了後反応液を加水分解する
と、N、N−ジメチルホルムアミドはほどんど水層に移
行する。この結果該水層な廃棄するためには、公害防止
の要請から、それに含まれるN、N−ジメチルホルムア
ミドを溶剤抽出法、蒸留回収法等の手段により予め分離
回収する必要があるが、この回収はなかなか大変であり
、したがってこの(2)の方法もまた必ずしも工業的方
法であるとは言えない。
本発明は従来のかかる不利を解決し、目的とするアルキ
ニル化合物の有利な製造方法を提供しようとするもので
、これは(イ)不活性有機溶剤中で。
一般式R’ OミOH(式中のR1は水素原子、アルキ
ル基、アリール基、アルケニル基を示す)で表わされる
アセチレン化合物、または一般式F120)1=O=O
H2(式中のR2はアルキル基を示す)で表わされる1
、2−ジエン化合物と微細分散金属ナトリウムとを反応
させてナトリウムアセチリドを生成させる工程、ついで (ロ)この反応糸に液体アンモニアを加えた後、一般式
R3X(式中のBSは置換もしくは非置換の一価炭化水
累基、Xは臭累またはよう素原子を示す)で表わされる
ハロゲン化有機化合物を加えて前記ナトリウムアセチリ
ドと反応させる工程。
からなることを特徴とするアルキニル化合物の製造方法
に関するものである。
この本発明の方法によれば、■液体アンモニアを加える
際反応系を加圧(アセチレンが含まれていない)にする
ことができ1反応器度を一20℃〜20℃とすることが
できるため、極低温冷凍機は必要なく、普通の冷凍機で
充分である。■アンモニアの分離回収は反応器からの単
蒸留で容易に行われる。■分離回収されたアンモニア中
には不純物は含まれておらず、したがってこのまま再使
用できる、などの利点が与えられる。
本発明の方法を詳しく説明すると、これはますを反応さ
せてナトリウムアセチリドを合成するのであるが、この
具体的方法としては不活性有機溶剤中に金属ナトリウム
を細かく分散させ、これに原料アセチレン化合物または
1.2−ジエン化合物を加熱下に徐々に加えて反応させ
ナトリウムアセチリドを生成させればよい。ここに使用
される不活性有機溶剤としてはトルエン、キシレンなど
のような芳香族炭化水素、ヘキサン、ヘプタン、オクタ
ンなどのような脂肪族炭化水累、ジブチルエーテル、ジ
フェニルエーテルなどのようt「エーテル類が例示され
る。この不活M:有機溶剤の使用量は金属ナトリウム1
モルに対して100〜1000y−(好ましくは2()
0〜400.P)とすることがよく、また分散金属ナト
リウムの粒子径は1000μm以下(特には100μn
1以下)であることが堕ましい。
−1この微細分散金−ナトリウムと反応される原料アセ
チレン化合物もしくは1,2−ジエン化合物としてはそ
れぞれ前記一般式で示したものであり、このアセチレン
化合物にはアセチレン、メチルアセチレン、エチルアー
レチレンなどのアルキルアセチレン、フェニルアセチレ
ンなどのアリールアセチレン、4−ヘキセン−1−イン
などのアリールアセチレン等が、また1、2−ジエン化
合物には1,2−ブタジェン、1,2−ペンタジェンな
どのアルギル−1,2−ジエン等がそれぞれ例示される
上記原料化合物と前記金属ナトリウムとを反応させるモ
ル比は、これらアセチレン化合物または1.2−ジエン
化合物の1モル当り金属ナトリウムを1〜0.3モル(
好ましくは0.7〜0.5モル)とすればよい。また反
応温度は温度が低いと反応速度が遅くなるし、一方13
0℃を越すと生成ナトリウムアセチリドが分解するよう
になるので、これは80〜130℃(好ましくは95〜
115℃)の濡ス範囲とすることがよく、通常は金属ナ
トリウムの融点(97℃)以上で行うことがよい。
つぎに、上記のようにして反応させることによりナトリ
ウムアセチリドが生成した反応系に、液体アンモニアを
加えた後前記一般式R3Xで示したハロゲン化有機化合
物を加えて該ナトリウムアセチリドと反応させるのであ
るが、この際の液体アンモニアの添加智は、この液体ア
ンモニアを加えることにより不活性有機溶剤との混合溶
媒系を形成することが目的であるので、不活性有機溶剤
lに対し液体アンモニアを0.5〜2(容量比)の割合
となる範囲で加えることが好ましい。
液体アンモニアが加えられた後に添加される原木」ハロ
ゲン化有機化合物は前記一般式で示されるもので、式中
のR3は置換もしくは非置換の一価炭化水素基を示1−
1これにはアルキル基、アルケニル基、アリール基、お
よびハロゲン原子、エーテル基、エステル基、シリル基
などの官能基を持ったアルキル基、アルケニル基、アリ
ール基が包含され、またXは臭累またはよう素原子を示
す。
このようなハロゲン化有機化合物としてはエチルプロミ
ド、ブチルイオダイド、1−クロロ−3−ブロモプロパ
ン、1−クロロ−4−ブロモブタン、1.4−ジブロモ
ブタン、フェニルプロミド、6−プロモヘギシルビラニ
ルエーテル、6−70モヘキシル酢酸エステル、2−ブ
テニルプロミド、】−ブロモ−4−トリメチルシリルブ
タンなどである。
」二記へロゲン化有機化合物と前記ナトリウムアセチリ
ドとの反応モル比け、ナトリウム原子1モル当りハロゲ
ン化有機化合物を08〜1.2モルとすればよい。また
反応温度は−2()℃〜20℃の範囲とすることがよ<
:、−20℃よりも低いと反応速度が遅くまた工業的に
製造する場合には極低温冷凍機を装備する必要があり、
経済的にも操作的にも不利となり、また20℃よりも高
いと反応圧力が高くなり装置的にも操作的にも不利とな
る。
反応終了後はアンモニアを回収し、水洗後有機層を蒸留
(必要に応じ減圧蒸留)することにより目的とするアル
キニル化合物が収得される。
本発明の方法により、例えば農薬、医薬、合成香料など
を合成する際の中間体として有用とされるアルキニル化
合物を有利に得ることができる。
例工ばペンチルアセチレンを出発原料とし、本発明の方
法にしたがってこれに金属ナトリウムを反応させてナト
リウムへブチニリドを得、ついでブロモクロロプロパン
を反応させることにより1−クロロ−4−デシンが關収
率で得られる。この1−クロロ−4−デシンからは米国
内の森林での害虫として知られている“Douglas
−firtussook moth ”  の性フェロ
モンである“Z−6−ヘンエイコセン−11−:tン“
ヲ高収率で誘導することができ、最近、この性フェロモ
ンを用いて該害虫の防除を行う研冗が行われている。
つぎに具体的実施例をあげる。
実施例 l 内容M 500−のフラスコに250y−のキシレンお
よび20μ以下に分散された金属ナトリウムを仕込み、
反応温度100〜110℃にてアセチレンガスなli/
分の流速でこの反応系に1時間吹き込んだところ、ナト
リウムアセチリドが金属ナトリウムに対し定量的に得ら
れた。このナトリウムアセチリドのキシレン分散液を内
容積2ノのオートクレーブに仕込み、さらに液体アンモ
ニアを600 y−加え、反応温度−1θ℃〜−5℃に
て171.57の1−クロロ−4−ブロモブタンを1時
間要して滴下した。このときの反応圧力は3.5〜4 
Kf/crrf Gであった。滴下終了後、−5℃にて
2時間かくはんした後、この反応系よりアンモニアを蒸
留回収した。反応残さな20%塩酸水溶液200d中に
注ぎ、分液して有機層を減圧蒸留したところ、6−クロ
ロ−1−ヘキシンが93y−得られた。収率は金属ナト
リウムに対し80%であった。
実施例 2 実施例1において、アセチレンガスの代わりに1.2−
ブタジェンガスを使用したほかは、同例に示した条件と
ほぼ同様にして反応させたところ、1−クロロ−5−オ
クチンが115ノ得られた。
収率は金舅ナトリウムに対し79.6%であった。
実施例 3 実施例1において、アセチレンガスの代わりにフェニル
アセチレンl 537を滴下したほがは、同例に準じて
反応させたところ、1−クロロ−6−フェニル−5−ヘ
キシンが13!M’得られた。
収率は金属ナトリウムに対し70%であった。
特許用1願人 信越化学工業株式会社 代理人 弁理士 山本亮−

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、(イ)不活性有機溶剤中で、一般式R’ O三〇H
    (式中のR1は水素原子、アルキル基、アルケニル基、
    アリール基を示す)で表わされるアセチレン化合物、ま
    たは一般式 R0M−0−OH2(式中のR2はアルキル基を示す)
    で表わされる1、2−ジエン化合物と微細分散金属ナト
    リウムとを反応させてナトリウムアセチリドを生成させ
    る工程、ついで (ロ)この反応系に液体アンモニアを加えた後、一般式
    R3X(式中のR3は置換もしくは非置換の一価炭化水
    累基、Xは臭素またはよう素原子を示す)で表わされる
    へロゲン化有機化合物を加えて前記ナトリウムアセチリ
    ドと反応させる工程、 からなることを特徴とするアルキニル化合物の製造方法
    。 2、特許請求の範囲第1項記載の方法において、R1が
    水素原子である式R”O’EO)T  で示さで示され
    るアルキニル化合物の製造方法。 3 特許請求の範囲第1項記載の方法において、R2が
    メチル基である式0H30H,0三OR”で示されるア
    ルキニル化合物の製造方法。 4、特許請求の範囲@1項記載の方法においC5Rがフ
    ェニル基である式 06H,C二ORで示されるアルキ
    ニル化合物の製造方法。 5 特許請求の範囲第1項記載の方法において、R1が
    炭素数1〜10個の直鎖状アルキル基である式R” O
    三0 R”  で示されるアルキニル化合物の製造方法
JP10095481A 1981-06-29 1981-06-29 アルキニル化合物の製造方法 Granted JPS584733A (ja)

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JPS6318926B2 JPS6318926B2 (ja) 1988-04-20

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6151990A (ja) * 1984-08-22 1986-03-14 株式会社日立製作所 表面を金属化した絶縁基板の製造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6151990A (ja) * 1984-08-22 1986-03-14 株式会社日立製作所 表面を金属化した絶縁基板の製造方法
JPH046116B2 (ja) * 1984-08-22 1992-02-04 Hitachi Ltd

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