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JPS58224449A - Optical recording medium - Google Patents

Optical recording medium

Info

Publication number
JPS58224449A
JPS58224449A JP57109627A JP10962782A JPS58224449A JP S58224449 A JPS58224449 A JP S58224449A JP 57109627 A JP57109627 A JP 57109627A JP 10962782 A JP10962782 A JP 10962782A JP S58224449 A JPS58224449 A JP S58224449A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
recording medium
recording
optical recording
molecular weight
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP57109627A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akihiko Kuroiwa
黒岩 顕彦
Noriyoshi Nanba
憲良 南波
Shiro Nakagawa
士郎 中川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by TDK Corp filed Critical TDK Corp
Priority to JP57109627A priority Critical patent/JPS58224449A/en
Publication of JPS58224449A publication Critical patent/JPS58224449A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/241Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
    • G11B7/242Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
    • G11B7/244Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only
    • G11B7/245Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only containing a polymeric component

Landscapes

  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain an optical recording medium having improved vanishing performance, improved sensitivity to rewriting and an improved S-N ratio in readout and reducing the deterioration of the vanishing performance, by forming a recording layer contg. a low mol. wt. thermoplastic resin and a light absorber on a reflective substrate. CONSTITUTION:A recording layer having <=70% light transmittance is formed on a reflective substrate. The recording layer contains a thermoplastic resin having <=30,000 number average mol. wt. such as polystyrene and a light adsorber selected from dyes, carbon black, pigments, etc. in accordance with the wavelengths of light for recording. A heat insulating intermediate layer made of a thermoplastic resin, a thermosetting resin, SiO2, MgF2 or the like may be interposed between the substrate and the recording layer to improve the sensitivity to writing. Thus, an optical recording medium enabling heat-mode writing and vanishing by being irradiated with light for recording is obtd. The recording medium has high sensitivity to rewriting after vanishing and a high S-N ratio in readout.

Description

【発明の詳細な説明】 ■ 発明の背景 技術分野 本発明は光記録媒体、特に、消去および再書き込み可能
なヒートモードの光記録媒体に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION BACKGROUND OF THE INVENTION Technical Field The present invention relates to optical recording media, and particularly to erasable and rewritable heat mode optical recording media.

先行技術 光記録媒体は、媒体と書き込みないし読み取りヘッドが
非接触であるので、記録媒体が摩耗劣化しないという特
徴をもち、このため、褌々の光記録媒体の開発研究が行
われている。
Prior art optical recording media have the characteristic that the recording medium does not deteriorate due to wear and tear because there is no contact between the medium and the writing or reading head, and for this reason, a lot of research and development is being carried out on optical recording media.

このような光記録媒体のうち、暗室による画像処理が不
要である等の点で、ヒートモード光記録媒体の開発が活
発罠なっている。
Among such optical recording media, heat mode optical recording media are being actively developed because they do not require image processing in a darkroom.

このようなヒートモードの光記録媒体は、記録光を熱と
して利用する光記録媒体であり、そのうち、レーザー記
録光で媒体の1部を融解、除去等して、ピットと称され
る小穴を形成し、このピットにより、情報を記録し、こ
のピットの有無を読み出し光で検出するものがある。
Such a heat mode optical recording medium is an optical recording medium that uses recording light as heat, and a part of the medium is melted or removed using laser recording light to form small holes called pits. However, there are devices that record information using these pits and detect the presence or absence of these pits using readout light.

このようなピット形成型のヒートモード媒体の1例とし
て、反射性の基体上に、熱可塑性樹脂と光吸収体とから
なる記録層を塗設し、樹脂を融解してピットを形成する
ものが知られている(例えば、特開昭55−16169
0号)。
An example of such a pit-forming heat mode medium is one in which a recording layer made of a thermoplastic resin and a light absorber is coated on a reflective substrate, and pits are formed by melting the resin. known (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 55-16169)
No. 0).

そして、このような媒体は、本発明者らの研究によれば
、一旦形成したピットを消去光ないし熱により消去して
記録層表面を平坦にし、再び再書き込みができることが
確認されている。
According to research conducted by the present inventors, it has been confirmed that in such a medium, the pits once formed can be erased using erasing light or heat to flatten the surface of the recording layer and rewrite can be performed again.

しかし、このような媒体は、消去性能が十分でない。However, such media do not have sufficient erasing performance.

また、消去できたときにも消去のくりかえしにより、書
き込み感度および読み出しS/N比が劣化する消去劣化
が大きい。
Further, even when erasing is possible, repeated erasing causes significant erasure degradation in which write sensitivity and read S/N ratio deteriorate.

また、書き込み感度および読み出しのS/N比も未だ十
分満足できない。
Furthermore, the writing sensitivity and reading S/N ratio are still not fully satisfactory.

■ 発明の目的 本発明は、このような実状に鑑みなされたものであって
、その主たる目的は、反射性基体上に、熱可塑性樹脂と
光吸収体とからなる記録層をもつ、消去および再書き込
み可能なヒートモードの光記録媒体において、消去性能
を向上し、消去劣化を小さくし、書き込み感度、読み出
しS/N比を向上させることにある。
■ Purpose of the Invention The present invention was made in view of the above-mentioned circumstances, and its main purpose is to provide an erasable and replayable recording medium having a recording layer made of a thermoplastic resin and a light absorber on a reflective substrate. The purpose of the present invention is to improve erasing performance, reduce erasing deterioration, and improve writing sensitivity and read S/N ratio in a writable heat mode optical recording medium.

本発明者らは、このような目的につき鋭意研究を行い、
本発明をなすに至った。
The present inventors have conducted intensive research for such purposes,
The present invention has been accomplished.

この出願の第1の発明ヲ大、反射性の基体上に、低分子
量熱可塑性樹脂と、光吸収体とを含む記録層を有するこ
とを特徴とする光記録媒体である。 また、第2の発明
は、上記基体と記録層間に、中間層を設けるものである
The first invention of this application is an optical recording medium characterized by having a recording layer containing a low molecular weight thermoplastic resin and a light absorber on a reflective substrate. In a second aspect of the invention, an intermediate layer is provided between the substrate and the recording layer.

■ 発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。■Specific structure of the invention Hereinafter, a specific configuration of the present invention will be explained in detail.

本発明の光記録媒体は、反射性の基体上に記録層を設置
m してなる。
The optical recording medium of the present invention is formed by disposing a recording layer on a reflective substrate.

記録層は、所定の熱可塑性樹脂を含む。The recording layer contains a predetermined thermoplastic resin.

この樹脂は、熱可塑性樹脂として、記録光照射部分の温
度上昇により、軟化ないし融解して、変形し、表面に記
録ピットを形成するものである。
This resin is a thermoplastic resin that softens or melts and deforms as the temperature rises in the area irradiated with the recording light, thereby forming recording pits on the surface.

本発明において用いる熱可塑性樹脂は低分子量のもので
あり、特に、数平均分子量が3カ以下、より好ましくは
2万以下のものであることが好ましい。
The thermoplastic resin used in the present invention has a low molecular weight, and particularly preferably has a number average molecular weight of 3 or less, more preferably 20,000 or less.

このような低分子蓋の平均分子量とすることにより、書
き込み感度が向上し、読み出しのS/N比が向上する。
By setting the average molecular weight of the low-molecular lid to such a value, the writing sensitivity is improved and the reading S/N ratio is improved.

また、一旦形成したピットを消去する場合、消去温度を
低くでき、あるいは消去光強度を低減でき、消去性能が
向上する。 また、消去光を走査して、線消去を行うよ
うな場合、線消去の線幅をせまくできる。
Further, when erasing pits once formed, the erasing temperature can be lowered or the intensity of the erasing light can be reduced, improving erasing performance. Furthermore, when line erasing is performed by scanning with erasing light, the line width for line erasing can be narrowed.

そして、消去劣化はきわめて小さくなる。Then, erasure degradation becomes extremely small.

また、記録層のピット形成に要する光エネルギーないし
温度に、明瞭なしきい値があられれ、ピットの形成が不
安定となる光強度の領域がせまくなり、記録光の出力変
動によるS/N比の変動も小さくなる。
In addition, there is a clear threshold value in the optical energy or temperature required to form pits in the recording layer, and the region of light intensity where pit formation becomes unstable becomes narrower, resulting in a decrease in the S/N ratio due to fluctuations in the output of the recording light. Fluctuations will also be smaller.

なお、樹脂の分子量分布としては種々のものであってよ
いが、特に、総数の50%以上が、数平均分子量の±5
0%以内の分子量をもつものであることが好ましい。
The molecular weight distribution of the resin may vary, but in particular, 50% or more of the total number is within ±5 of the number average molecular weight.
It is preferable that the molecular weight is within 0%.

これにより、消去性能、感度、S/N比、消去性能、ピ
ット形成の不安定領域、耐熱性、一方、用いる熱可塑性
樹脂としては、棟々のものであってよいが、このうち、
特に好適に用いることができるものには、以下のような
ものがある。
This improves erasing performance, sensitivity, S/N ratio, erasing performance, unstable region of pit formation, and heat resistance.On the other hand, the thermoplastic resin used may be of various types, but among these,
Examples of those that can be particularly suitably used include the following.

i)ポリオレフィン・ ポリエチレン この場合、数平均分子量が、1万以下、特に、350〜
i o、o o oのものが好ましい。
i) Polyolefin/polyethylene In this case, the number average molecular weight is 10,000 or less, especially 350-
io and o oo are preferred.

ポリプロピレン この場合、数平均分子量は、特に400〜10.000
のものがより好ましい。
Polypropylene in this case has a number average molecular weight in particular of 400 to 10,000
is more preferable.

炭素原子数4〜6のポリオレフィン 例えば、ポリブテン、ポリイソブチン、ポリ4−メチル
ペンテン−1など。
Polyolefins having 4 to 6 carbon atoms, such as polybutene, polyisobutyne, poly4-methylpentene-1, and the like.

it)ポリオレフィン共重合体 例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−ア
クリレート共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、
エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−ブテン−1
共重合体、エチレンー無水マレイン酸共重合体、エチレ
ンプロピレンターポリマー(EPT)など。 この場合
、コモノマーの重合比は任意のものとすることができる
it) polyolefin copolymers such as ethylene-vinyl acetate copolymers, ethylene-acrylate copolymers, ethylene-acrylic acid copolymers,
Ethylene-propylene copolymer, ethylene-butene-1
copolymers, ethylene-maleic anhydride copolymers, ethylene propylene terpolymers (EPT), etc. In this case, the polymerization ratio of the comonomers can be arbitrary.

ii)ポリオレフィンハロゲン化物 例えば、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビ
ニル−塩化ビニリデン共重合体、CFQ= CF2. 
CF2= CFCl 、 CH2=cHFcI4:CF
CF2=CFCF3等ノホモボリマーないしコポリマー
であるフッ素樹脂、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプ
ロピレン、プロピレンとハロゲン化オレフィンとの共重
合体など。
ii) Polyolefin halides such as polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, CFQ=CF2.
CF2=CFCl, CH2=cHFcI4:CF
Fluororesins which are homopolymers or copolymers such as CF2=CFCF3, chlorinated polyethylene, chlorinated polypropylene, copolymers of propylene and halogenated olefins, etc.

■)塩化ビニル共重合体 例えば、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体、塩化ビニル
−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−無水マレイン
酸共重合体、アクリル酸エステルないしメタアクリル酸
エステルと塩化ビニルとの共重合体、アクリルニトリル
−塩化ビニル共重合体、塩化ビニル−ビニルエーテル共
重合体、エチレンナイシプロピレンー塩化ビニル共重合
体、エチレン−酢酸ビニル共重合体に塩化ビニルをグラ
フト重合したものなど。
■) Vinyl chloride copolymer For example, vinyl acetate-vinyl chloride copolymer, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, vinyl chloride-maleic anhydride copolymer, acrylic ester or methacrylic ester and vinyl chloride copolymers, acrylonitrile-vinyl chloride copolymers, vinyl chloride-vinyl ether copolymers, ethylene nipropylene-vinyl chloride copolymers, ethylene-vinyl acetate copolymers grafted with vinyl chloride, etc.

この場合、共重合比は任意のものとすることができる。In this case, the copolymerization ratio can be arbitrary.

■)塩化ビニリデン共重合体 塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体、塩化ビニリデン
−塩化ビニルーアクリルニトリル共重合体、塩化ビニリ
ナンーブタジエンーハロゲン化ビニル共重合体など。
(2) Vinylidene chloride copolymer Vinylidene chloride-vinyl chloride copolymer, vinylidene chloride-vinyl chloride-acrylonitrile copolymer, vinylinae chloride-butadiene-vinyl halide copolymer, etc.

この場合、共重合比は、任意のものとすることができる
In this case, the copolymerization ratio can be arbitrary.

vi)ポリスチレン 数平均分子量は、1万以下、特に350〜10,000
であることが好ましい。
vi) Polystyrene number average molecular weight is 10,000 or less, especially 350 to 10,000
It is preferable that

vi)スチレン共重合体 例えば、スチレン−アクリルニトリル共重合体(AS樹
脂)、スチレン−アクリルニトリル−ブタジェン共重合
体(ABS[脂)、スチレン−無水マレイン酸共重合体
(SMA樹脂)、スチレン−アクリルエステル−アクリ
ルアミド共重合体、スチレン−ブタジェン共重合体(S
BR)、スチレン−塩化ビニリデン共重合体、スチレン
−メチルメタアクリレート共重合体など。
vi) Styrene copolymers, such as styrene-acrylonitrile copolymer (AS resin), styrene-acrylonitrile-butadiene copolymer (ABS), styrene-maleic anhydride copolymer (SMA resin), styrene- Acrylic ester-acrylamide copolymer, styrene-butadiene copolymer (S
BR), styrene-vinylidene chloride copolymer, styrene-methyl methacrylate copolymer, etc.

この場合、共重合比は任意のものとすることができる。In this case, the copolymerization ratio can be arbitrary.

vii)スチロール型重合体 例えば、p−メチルスチロール、α−メチルスチロール
、2..5−ジクロルスチロール、α、β−ビニルナフ
タリン、α−ビニルヒリシン、アセナフテン、ビニルア
ントラセンなど、あるいはこれらの共重合体。
vii) Styrene type polymers such as p-methylstyrene, α-methylstyrene, 2. .. 5-dichlorostyrene, α, β-vinylnaphthalene, α-vinylhyricine, acenaphthene, vinylanthracene, etc., or copolymers thereof.

■)クロマン−インデン樹脂 クロマン−インデンの単独または共重合体。■) Chroman-indene resin Chroman-indene homopolymer or copolymer.

数平均分子量は2,000以下であることが好ましい。The number average molecular weight is preferably 2,000 or less.

X)テルペン樹脂ないしピコライト 例えば、α−ピネンから得られるリモネンの重合体であ
るテルペン樹脂やβ−ピネンから得られるピコライト。
X) Terpene resin or picolite For example, terpene resin which is a polymer of limonene obtained from α-pinene, or picolite obtained from β-pinene.

分子量は1,200以下であることが好ましい。The molecular weight is preferably 1,200 or less.

xi)アクリル樹脂・1 特に下記式で示される原子団を含むものが好ましい。xi) Acrylic resin 1 Particularly preferred are those containing an atomic group represented by the following formula.

−011−〇− −Oa 1 上記式において、R□は、水素原子またはアルキル基を
表わし、曵は、置換または非置換のアルギル基を表わす
。 この場合、上記式において、1(□は、水素原子ま
たは炭素原子数1〜4の低級アルキル基、特に水素原子
またはメチル基であることが好ましい。 また、R2に
&置換、非置換いずれのアルギル基であってもよいが、
アルギル基の炭素原子数は1〜4であることが好ましく
、またRQが置換アルキル基であるときには、アルキル
基を置換する置換基は、水酸基、)・ロゲン原子または
アミノ基(特にジアルキルアミノ基)であることが好ま
しい。
-011-〇- -Oa 1 In the above formula, R□ represents a hydrogen atom or an alkyl group, and 曵 represents a substituted or unsubstituted argyl group. In this case, in the above formula, 1 (□) is preferably a hydrogen atom or a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, particularly a hydrogen atom or a methyl group. It may be a base, but
The number of carbon atoms in the argyl group is preferably 1 to 4, and when RQ is a substituted alkyl group, the substituent substituting the alkyl group is a hydroxyl group, ), a rogen atom, or an amino group (especially a dialkylamino group). It is preferable that

このような上記式で示される原子団は、他のくりかえし
原子団とともに、共重合体を形成して各種アクリル樹脂
を構成してもよいが、通常は、−上記式で示される原子
団の1釉または2棟以上をくりかえし単位とする単独重
合体または共重合体を形成してアクリル樹脂を構成する
ことになる。
Such an atomic group represented by the above formula may form a copolymer with other repeating atomic groups to constitute various acrylic resins, but usually - one of the atomic groups represented by the above formula The acrylic resin is formed by forming a glaze or a homopolymer or copolymer having two or more repeating units.

xii)ポリアクリルニトリル −)アクリルニトリル共重合体 例えば、アクリルニトリル−酢酸ビニル共重合体、アク
リルニトリル−塩化ビニル共重合体、アクリルニトリル
−スチレン共重合体、アクリルニトリル−塩化ビニリデ
ン共重合体、アクリルニトリル−ビニルピリジン共重合
体、アクリルニトリル−メタクリル酸メチル共重合体、
アクリルニトリル−ブタジェン共重合体、アクリルニト
リル−アクリル酸ブチル共重合体など。
xii) Polyacrylonitrile-)acrylonitrile copolymer, such as acrylonitrile-vinyl acetate copolymer, acrylnitrile-vinyl chloride copolymer, acrylonitrile-styrene copolymer, acrylonitrile-vinylidene chloride copolymer, acrylic Nitrile-vinylpyridine copolymer, acrylonitrile-methyl methacrylate copolymer,
Acrylonitrile-butadiene copolymer, acrylonitrile-butyl acrylate copolymer, etc.

この場合、共重合比は任意のものとすることができる。In this case, the copolymerization ratio can be arbitrary.

iリポリアクリルアミドないしダイア七トンアクリルア
ミドポリマー ポリアクリルアミドないしアクリルニトリルにアセトン
を作用させたダイア七トンアクリルアミドポリマー。
i-ripolyacrylamide or dia-neptone acrylamide polymer A dia-neptone acrylamide polymer obtained by reacting polyacrylamide or acrylonitrile with acetone.

xy)ポリ酢酸ビニル xvi )酢酸ビニル共重合体 例エバ、アクリル酸エステル、ビニルエーテル、エチレ
ン、塩化ビニル等との共重合体など。
xy) Polyvinyl acetate xvi) Examples of vinyl acetate copolymers Copolymers with Eva, acrylic ester, vinyl ether, ethylene, vinyl chloride, etc.

共重合比は任意のものであってよい。The copolymerization ratio may be arbitrary.

新)ポリビニルエーテル 例えば、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルエチル
エーテル、ポリビニルブチルエーテルなど。
New) Polyvinyl ethers such as polyvinyl methyl ether, polyvinyl ethyl ether, polyvinyl butyl ether, etc.

xvii)ポリアミド この場合、ポリアミドとしては、ナイロン6、ナイロン
66、ナ心ロン610. ナイロン612、ナイロン9
、ナイロン11.ナイロン13、ナイロン13等の通常
のホモナイロンの他、ナイロン6/66/610 、ナ
イロン6/66/12、ナイロン6/66/11等の共
重合体や、場合によっては変性ナイロンであってもよい
xvii) Polyamide In this case, the polyamide includes nylon 6, nylon 66, nylon 610. Nylon 612, nylon 9
, nylon 11. In addition to normal homonylons such as nylon 13 and nylon 13, copolymers such as nylon 6/66/610, nylon 6/66/12, nylon 6/66/11, and even modified nylon in some cases. good.

xix)ポリエステル 例えば、シュウ酸、コハク酸、マレイン酸、アジピン酸
、セバステン酸等の脂肪族二塩基酸、あるいはインフタ
ル酸、テレフタル酸等の芳香族二塩基酸などの各種二塩
基酸と、エチレンクリコール、テトラメチレンクリコー
ル、ヘギサメチレングリコール等のグリコール類との縮
合物や、共縮合物が好適である。
xix) Polyesters For example, various dibasic acids such as aliphatic dibasic acids such as oxalic acid, succinic acid, maleic acid, adipic acid, and sebastenic acid, or aromatic dibasic acids such as inphthalic acid and terephthalic acid, and ethylene chloride. Condensates and co-condensates with glycols such as recall, tetramethylene glycol and hegisamethylene glycol are suitable.

そして、これらのうちでは、特に脂肪族二塩基酸とクリ
コール類との縮合物や、クリコール類と脂肪族二塩基酸
と芳香族二塩基酸との共縮合物は、特に好適である。 
さらに、例えば無水レタル酸とグリセリンとの縮合物で
あるグリプタル樹脂を、脂肪e、天然樹脂等でエステル
化変性した変性ダリグタル樹脂等も好適に使用される。
Among these, particularly preferred are condensates of aliphatic dibasic acids and glycols, and cocondensates of glycols, aliphatic dibasic acids, and aromatic dibasic acids.
Furthermore, modified daligtal resin, which is obtained by esterifying and modifying glyptal resin, which is a condensate of retalic anhydride and glycerin, with fat e, natural resin, etc., is also suitably used.

Xx)ポリビニルアルコールまたはポリビニルアセター
ル系樹脂 ポリビニルアルコールの他、これをアセタール化して得
られるポリビニルホルマール、ポリビニルアセトアセタ
ール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアセタール
系樹脂はいずれも好適に使用される。
Xx) Polyvinyl alcohol or polyvinyl acetal resin In addition to polyvinyl alcohol, polyvinyl acetal resins such as polyvinyl formal, polyvinyl acetoacetal, and polyvinyl butyral obtained by acetalizing polyvinyl alcohol are preferably used.

この場合、ポリビニルアセタール系樹脂のアセタール化
度は任意のものとすることができる。
In this case, the degree of acetalization of the polyvinyl acetal resin can be arbitrary.

xxi)ポリウレタン樹脂 ウレタン結合をもつ熱可塑性ポリウレタン樹脂。xxi) Polyurethane resin Thermoplastic polyurethane resin with urethane bonds.

特に、グリコール類と、ジイソシアネート類との縮合に
よって得られるポリウレタン樹脂、就中アルキレングリ
コールとアルキレンジイソシアネートとの縮合によって
得られるポリウレタン樹脂が好適である。
Particularly suitable are polyurethane resins obtained by condensation of glycols and diisocyanates, particularly polyurethane resins obtained by condensation of alkylene glycol and alkylene diisocyanate.

xxii)含窒素ビニル重合体 例えば、より好ましくは数平均分子量 6、OOO以下のポリビニルカルバゾール、ビニルカル
バソールとエチレン、スチレン等とのポリビニルカルバ
ゾール共it合体、より好ましくは数平均分子量1万以
下のポリビニルピリジン、ポリビニルビ01J )”ン
ト酢酸ヒニル等とのポリビニルピロリドン共重合体、ポ
リビニルピリジンなど。
xxii) Nitrogen-containing vinyl polymers For example, more preferably polyvinylcarbazole with a number average molecular weight of 6 or less, OOO or less, polyvinylcarbazole co-It combination of vinylcarbasol and ethylene, styrene, etc., more preferably polyvinyl with a number average molecular weight of 10,000 or less Polyvinylpyrrolidone copolymer with pyridine, polyvinylvinylacetate, etc., polyvinylpyridine, etc.

xxii)ジエン系重合体 例えば、ポリブタジェン、ブタジェン−スチレン共重合
体(SBR)、ニトリルゴム(NBI()、クロロプレ
ン系ゴム、イソプレン系ゴム、インブレン−イソブチレ
ン共重合体など。
xxii) Diene polymers, such as polybutadiene, butadiene-styrene copolymer (SBR), nitrile rubber (NBI), chloroprene rubber, isoprene rubber, inbrene-isobutylene copolymer, etc.

xxiv )ポリエーテル 例えば、より好ましくは数平均分子[1万以下のポリオ
キシメチレン、スチレンポルマリン樹脂、環状アセター
ルの開環重金物、ポリエチレンオキサイドおよびグリコ
ール、 より好ましくは数平均分子量1万以下のポリプロピレン
オキサイドおよびグリコール、プロピレンオキサイド−
エチレンオキサイド共重合体、 ポリフエニレンオキザイド、 より好ましくは数平均分子量1万以下のヒドリンゴム、
テトラメチレンオキザイド、ポリスチレンオキザイド、 塩素化ポリエーテル樹脂、 より好ましくは数平均分子量1万以下のテトラヒトドロ
フラン開環体、ビスフェノールAとエピクロルヒドリン
との組合等によって得られる熱可塑性ビスフェノール系
エポキシドなど。
xxiv) Polyethers, such as, more preferably, polyoxymethylene with a number average molecular weight of 10,000 or less, styrene-pormarine resin, ring-opened heavy metals of cyclic acetals, polyethylene oxide and glycol, more preferably polypropylene with a number average molecular weight of 10,000 or less Oxides and glycols, propylene oxide
Ethylene oxide copolymer, polyphenylene oxide, more preferably hydrin rubber with a number average molecular weight of 10,000 or less,
Tetramethylene oxide, polystyrene oxide, chlorinated polyether resin, more preferably ring-opened tetrahydrofuran with a number average molecular weight of 10,000 or less, thermoplastic bisphenol epoxide obtained by a combination of bisphenol A and epichlorohydrin, etc. .

xxv)ポリカーボネート 例えば、ポリジオキシジフェニルメタンカーボネート、
ポリジオキシジフェニルエタンカーボネート、ジづ7シ
ジフエ=ルプロパンカーボネート等の各棟ホIJ カー
 ホネート。
xxv) polycarbonates such as polydioxydiphenylmethane carbonate,
Polydioxydiphenylethane carbonate, dipropane carbonate, etc. are manufactured in each building.

xxvi)ポリエチレンイミン類 xxvii)セルロース系樹脂 例工ば、アセチルセルロース、アセチルブチリルセルロ
ース、アセチルプロピオニルセルロースなどの早独ない
し混合の有機酸エステル。 この場合、エステル化度は
01〜90%であることが好ましい。
xxvi) Polyethyleneimines xxvii) Cellulose resins Examples include original or mixed organic acid esters such as acetylcellulose, acetylbutyrylcellulose, acetylpropionylcellulose. In this case, the degree of esterification is preferably 01 to 90%.

あるいは、例えば、メチルセルロース、エチルセルロー
ス、ヒドロキシエチルセルロース、カルボギゾメチルセ
ルロース、メチルヒドロキシエナルセルロース、エチル
ヒドロキシエチルセルロース、メチルヒドロキシプロピ
オニルセルロース、シアノエチルセルロース、ベンジル
セルロースナトのセルロースエーテル。
Alternatively, for example, cellulose ethers of methylcellulose, ethylcellulose, hydroxyethylcellulose, carbogyzomethylcellulose, methylhydroxyenalcellulose, ethylhydroxyethylcellulose, methylhydroxypropionylcellulose, cyanoethylcellulose, and benzylcellulose.

この場合、エーテル化度は、03〜60%であることが
好ましい。
In this case, the degree of etherification is preferably 03 to 60%.

このような、セルロース蒋導体は、その2種以上のエス
テル基、またはエーテル基をもつ混合訪導体であっても
よく、また、さらに他の置換基をもつものであってもよ
X、′−8 xxvii)上記i ) 〜xxvii )の2棟以上
のブレンド体、またはその他の熱可塑性樹脂とのブレン
ド体。
Such a cellulose conductor may be a mixed conductor having two or more types of ester groups or ether groups, or may have other substituents. 8 xxvii) A blend of two or more of the above i) to xxvii), or a blend with other thermoplastic resins.

このような各種樹脂は、通常の公知の方法で製造され、
これを必要に応じ分子量分別して用いる。 あるいは市
販のものを必要に応じ分別して用いてもよい。
These various resins are manufactured by ordinary known methods,
This is used after being separated by molecular weight as necessary. Alternatively, commercially available products may be separated and used as necessary.

一方、記録層には、このような熱可塑性樹脂とともに、
光吸収体が含有される。
On the other hand, in the recording layer, along with such thermoplastic resin,
A light absorber is contained.

この光吸収体は、記録光に対して、大きな光吸収率を示
し、照射部における温度上昇を可能にするためのもので
ある。
This light absorber exhibits a large light absorption rate with respect to recording light, and is intended to enable temperature rise in the irradiation section.

従って、記録光の波長に応じ、一般に400〜850 
nmの波長光を吸収する、種々の公知の染料ヤ、カーボ
ンブラックや、レーキ顔料等の種々の公知の無機ないし
有機の顔料や、金属ないし酸化物の超微粉や、錯体等を
用いることができる。
Therefore, depending on the wavelength of recording light, generally 400 to 850
Various known dyes, carbon black, various known inorganic or organic pigments such as lake pigments, ultrafine powders of metals or oxides, complexes, etc. that absorb wavelength light of nm can be used. .

このような記録JWirは、その読み出し光に対する透
過率が25%、より好ましくは65%以下となるように
されることが好ましい。
It is preferable that such a recording JWir has a transmittance of 25%, more preferably 65% or less for the reading light.

また、その厚さは、0.007〜7μS、より好ましく
は0.01〜4μ常とすることが好ましい。
Further, the thickness thereof is preferably 0.007 to 7 μS, more preferably 0.01 to 4 μS.

これにより、書き込み感度および読み出しS/N比が向
上する、また、消去性能が向上し、さらに消去劣化が減
少し、加えて、記録層の成膜性が良好となる。
This improves the writing sensitivity and the read S/N ratio, improves the erasing performance, reduces erasing deterioration, and improves the film formation properties of the recording layer.

なお、記録層中に含有される熱可塑性樹脂と、光吸収体
との含有量比は、樹脂1重蓋部に対し、一般に、0.0
02〜200重量部程度の範囲内で広範囲に選択するこ
とができる。
In addition, the content ratio of the thermoplastic resin contained in the recording layer and the light absorber is generally 0.0 with respect to the resin single-layer lid part.
It can be selected from a wide range of about 0.02 to about 200 parts by weight.

このような記録層は、通常、スピンナー、コーター等の
公知の種々の方法で基体上に塗布設層される。
Such a recording layer is usually coated onto a substrate using various known methods such as a spinner or a coater.

なお、このような記録層中には、上記の熱可塑性樹脂と
光吸収体以外に、他の添加物が含有されていてもよい。
Note that such a recording layer may contain other additives in addition to the above-mentioned thermoplastic resin and light absorber.

このような添加物の1例としては、各種オリゴマーない
しポリマーがある。 この場合ポリマーないしオリゴマ
ーは、熱可塑性樹脂に対し、概ね30重i:%以下の範
囲で含有させ、支持体との接着性を向上させたり、塗布
性を向−ヒさせたり、軟化温度を変化させたりすること
ができる。
Examples of such additives include various oligomers and polymers. In this case, the polymer or oligomer is contained in the thermoplastic resin in an amount of approximately 30 wt. You can also do so.

この他、各種可塑剤、界面活性剤、帯電防止剤、滑剤、
難燃剤、安定剤、分散剤、レベリング剤、ブリード防止
剤、紫外線吸収剤、色素移行防止剤、はつ水剤、溶解性
向上剤、乳化剤、消泡剤、つや出し剤、ブロッキング防
止剤、柔軟剤、スリップ向上剤、ピンホール防止剤、ゆ
ず肌等防止剤等が含有されていてもよい。
In addition, various plasticizers, surfactants, antistatic agents, lubricants,
Flame retardant, stabilizer, dispersant, leveling agent, bleed prevention agent, ultraviolet absorber, dye migration inhibitor, water repellent, solubility improver, emulsifier, antifoaming agent, polishing agent, antiblocking agent, softener , a slip improver, a pinhole prevention agent, an orange peel prevention agent, etc. may be contained.

これに対し、このような記録J−を設層支持する基体は
、反射性のものである。
On the other hand, the substrate on which such recordings J- are layered and supported is reflective.

基体に反射性を付与するためには、基体自体を反射性に
してもよいが、□′特に、基体表面に反射層を設け、こ
の反射j−上に記録層を形成することが好ましい。
In order to impart reflectivity to the substrate, the substrate itself may be made reflective, but it is particularly preferable to provide a reflective layer on the surface of the substrate and form a recording layer on this reflective layer.

そして、この好ましい態様において表面に反射層をもつ
反射性の基体は、その読み出し光に対する表面反射率が
90%以上であることが好ましい。
In this preferred embodiment, the reflective substrate having a reflective layer on its surface preferably has a surface reflectance of 90% or more with respect to readout light.

このような反射層は、金属等の反射性材質から、例えば
真空蒸着、スパッタリング、イオンブレーティング等の
気相被着法やメッキ等により形成すればよい。 そして
、その厚さは、反射性を有するかぎりにおいて任意のも
のとすることができる。
Such a reflective layer may be formed from a reflective material such as metal by, for example, a vapor phase deposition method such as vacuum deposition, sputtering, or ion blasting, or plating. The thickness can be arbitrary as long as it has reflective properties.

この場合、反射層を設層する基体材質においては特に制
限はないが、熱伝導度、表面性、機械的強度、吸湿性、
ソリなどの点では、通常、各種ガラス、各種強化ガラス
、各種セラミクス、あるいはポリメタクリル樹脂、ポリ
アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、フェノール樹脂
、エポキシ樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ポリエステ
ル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルケトンオン、ポ
リエーテルケトン、メチルペンテンポリマー、ボリアレ
ート樹脂、ポリオレノイン、ポリフェニレンザルファイ
ド、ナイロン、フッ素系樹脂等の各種樹脂等を用いるこ
とが好ましい。
In this case, there are no particular restrictions on the substrate material on which the reflective layer is formed, but thermal conductivity, surface properties, mechanical strength, hygroscopicity,
In terms of warpage, we usually use various types of glass, various types of tempered glass, various ceramics, or polymethacrylic resin, polyacrylic resin, polycarbonate resin, phenol resin, epoxy resin, diallyl phthalate resin, polyester resin, polyimide resin, polyether ketone resin, etc. It is preferable to use various resins such as polyetherketone, methylpentene polymer, polyalate resin, polyolenoin, polyphenylene sulfide, nylon, and fluororesin.

また、基体の形状や寸法は、用いる用途に応じ、ディス
ク、テープ、ベル]・、ドラム等種々のものとすること
ができる。
Further, the shape and dimensions of the base body can be varied depending on the intended use, such as a disk, tape, bell, drum, etc.

この場合、第1の発明においては、上記したような反射
性の基体上に記録層を設層する。
In this case, in the first invention, a recording layer is provided on the reflective substrate as described above.

また、第2の発明においては、反射性の基体と、記録層
との間に、中間層を介在させる。
Moreover, in the second invention, an intermediate layer is interposed between the reflective substrate and the recording layer.

介在させる中間層は、記録層の昇温に際して、断熱効果
をもち、この断熱作用により、特に書き込み感度が向上
する。
The intervening intermediate layer has a heat insulating effect when the temperature of the recording layer increases, and this heat insulating effect particularly improves the writing sensitivity.

このような断熱中間層は、上記した反射層ないし全体を
反射性とした基体よりも熱伝導度の低いものであればよ
く、種々の材質から形成することができる。
Such a heat insulating intermediate layer may be made of a variety of materials as long as it has lower thermal conductivity than the above-described reflective layer or the entire reflective substrate.

このため、種々の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、あるい
は紫外線ないし電子線硬化型樹脂等からなるか、これら
を主成分とするコーティング層、プラズマ重合層等は、
いずれも好適に使用できる。
For this reason, coating layers, plasma polymerized layers, etc. that are made of various thermoplastic resins, thermosetting resins, ultraviolet ray or electron beam curable resins, etc., or that have these as their main components,
Any of them can be suitably used.

あるいは、酸化ケイ素、フッ化マグネシウム、酸化スズ
、酸化インジウム等の気相被着膜であってもよい。
Alternatively, it may be a vapor phase deposited film of silicon oxide, magnesium fluoride, tin oxide, indium oxide, or the like.

このような断熱中間層は、読み出し光、記録光に対し、
透明であっても、吸収をもつものであってもよい。
Such a heat insulating intermediate layer protects read light and recording light from
It may be transparent or absorbent.

そして、その厚さは、通常、0.001〜20μ講特に
、0005〜5μm程度とされる。
The thickness thereof is usually about 0.001 to 20 μm, particularly about 0.005 to 5 μm.

このような層厚において、断熱効果が生じ、書き込み感
度が向上する。
At such a layer thickness, a heat insulating effect occurs and the writing sensitivity improves.

このように構成される第1および第2の発明において、
記録層は反射性の基体上に直接、あるいは上記した中間
層を介して設層されるものであるが、第1および第2の
発明においては、反射性の基体の一面上に記録層を有す
′るものであってもよく、その両面に記録層を有するも
のであってもよい。 また、反射性基体の一面上に記録
ノーを塗設したものを2つ用い、それらを記録層が向か
いあうようにして、所定の間隙をもって対向させ、それ
を密閉したりして、ホコリやキズがつかないよ5にする
こともできる。
In the first and second inventions configured in this way,
The recording layer is provided directly on the reflective substrate or via the above-mentioned intermediate layer, but in the first and second inventions, the recording layer is provided on one surface of the reflective substrate. The recording layer may have a recording layer on both sides. In addition, two reflective substrates with a recording mark coated on one side are used, and the recording layers are placed facing each other with a predetermined gap between them, and they are sealed to prevent dust and scratches. You can also set it to 5.

また、記録層上には、各種保護層、ノ・−7ミラ一層な
どを設けることもできる。
Moreover, various protective layers, a -7-mirror layer, etc. can also be provided on the recording layer.

さらに、無反射構造としてもよい。Furthermore, it may have a non-reflective structure.

■ 発明の具体的作用 本発明の媒体は、一般に、走行下において、記録層側か
ら所定の記録光をパルス状に照射する。 このとき、記
録層中の光吸収体の発熱により、熱可塑性樹脂が融解し
、ビットが形成される。
(2) Specific Effects of the Invention In general, the medium of the present invention is irradiated with predetermined recording light in a pulsed manner from the recording layer side while running. At this time, the thermoplastic resin is melted by the heat generated by the light absorber in the recording layer, and a bit is formed.

このように形成されたビットは、媒体の走行下、読み出
し光の反射光を検出することにより読み出される。
The bits formed in this manner are read by detecting the reflected light of the read light while the medium is running.

他方、消去は、媒体の全体ないし一部を加熱してもよく
、あるいは全体ないし一部に消去光を照射してもよい。
On the other hand, erasing may be performed by heating the whole or a part of the medium, or by irradiating the whole or a part of the medium with erasing light.

 また、消去光を、媒体走行下、走査して線消去するこ
ともできる。
It is also possible to perform line erasing by scanning the erasing light while the medium is running.

このような加熱ないし消去光の照射により、ビット形成
部の記録j−は平坦化し、再び書き込みおよび読み出1
−がμ■能となる。
By such heating or irradiation with erasing light, the recording j- in the bit forming area is flattened, and writing and reading can be performed again.
− becomes μ ■ ability.

■ 発明の具体的効果 さらに、一旦形成したビットを消去した後、再書き込み
を行う場合に、熱消去温度を低くでき、あるいは消去光
強度を低減でき、消去性能が向上する。 また、消去光
を走査して、線消去を行うような場合、線消去の線幅を
せまくできる。
(2) Specific Effects of the Invention Furthermore, when rewriting is performed after erasing once formed bits, the thermal erasing temperature can be lowered or the erasing light intensity can be reduced, and erasing performance is improved. Furthermore, when line erasing is performed by scanning with erasing light, the line width for line erasing can be narrowed.

そして、消去のくりかえしによる消去劣化はきわめて小
さくなる。
Then, the deterioration of erasing due to repeated erasing becomes extremely small.

また、記録層の(ット形成に要する光エネルギーないし
温度に、明瞭なしきい値があられね、ビットの形成が不
安定となる光強度の領域がせまくなり、記録光の出力変
動によるS/N比の変動も少なくなる。
In addition, there is no clear threshold value for the optical energy or temperature required to form bits in the recording layer, and the region of light intensity where bit formation becomes unstable becomes narrow, and the S/N ratio due to fluctuations in the output of the recording light increases. Fluctuations in the ratio will also be reduced.

本発明者らは、本発明の効果を確認するため種々実験を
行つな。 以下にその1例を示す。
The inventors conducted various experiments to confirm the effects of the present invention. An example is shown below.

実験例1 下記表1に示される数平均分子量をもつポリスチレン(
psBを分子量分別して得た。
Experimental Example 1 Polystyrene (
psB was obtained by molecular weight fractionation.

この場合、各ポリスチレンの分子量分布は、総数の50
%以上が数平均分子量の±30%以内にあるようにした
In this case, the molecular weight distribution of each polystyrene is 50
% or more was within ±30% of the number average molecular weight.

一方、光吸収体としては、アントラキノン系色素のカヤ
セットブルー814(日本化薬株式会社製)を用いた。
On the other hand, as a light absorber, Kayaset Blue 814 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), an anthraquinone dye, was used.

これらをポリスチレン対色素の重量比が5:1となるよ
うに、トルエン中に溶解し、表面に100OAのAt反
射層をもつ30cInφのアクリル基板上に、表1に示
される厚さの記録層を塗設した。
These were dissolved in toluene so that the weight ratio of polystyrene to dye was 5:1, and a recording layer with the thickness shown in Table 1 was formed on a 30 cInφ acrylic substrate with a 100 OA At reflective layer on the surface. Painted.

なお、各試料のHe −Ne光に対する透過率は70%
以下であった。
The transmittance of each sample to He-Ne light is 70%.
It was below.

次いで、各試料を回転しながら、8mWのHe −Ne
レーサーを、1μ漢に集光し、パルス照射した。 パル
ス中を変更し、記録層表面にビットが形成されるパルス
中を測定し、書き込み感度の逆数(μ5ec)とした。
Then, 8 mW of He-Ne was applied while rotating each sample.
The laser beam was focused on a 1μ beam and pulsed. The duration of the pulse was changed, and the duration of the pulse during which bits were formed on the surface of the recording layer was measured, and the value was determined as the reciprocal of the writing sensitivity (μ5ec).

  結果を表1に示す。The results are shown in Table 1.

次に、上記レーザーのパルス中を1μSee Ic固定
し、書き込みを行った。
Next, writing was performed by fixing 1 μSee Ic in the pulse of the laser.

コノ後、1mWのlie −Neレーザーを、上記と同
じ光学系にて1μ摸φに集光し、0,5μsec 、く
りかえし周波数50 Hzにて照射し、その反射光をフ
ォトダイオードで検出し、読み出しを行い、S/N比(
dB)を算出した。 この場合、アンプ系は、10 M
Hz帯域のものを用い、また、ノイズは)1MS値(実
効値)を用いた。 結果を表1に示す。
After that, a 1 mW lie-Ne laser was focused to 1 μm diameter using the same optical system as above, and irradiated for 0.5 μsec at a repetition frequency of 50 Hz. The reflected light was detected by a photodiode and read out. and the S/N ratio (
dB) was calculated. In this case, the amplifier system is 10M
Hz band was used, and for noise, 1MS value (effective value) was used. The results are shown in Table 1.

さらに、赤外線ヒーターにより、各媒体を120℃、2
0秒間加熱して、消去を行った。
Furthermore, an infrared heater heated each medium to 120°C, 2
Erasing was performed by heating for 0 seconds.

消去ができたか否かをOおよびXにてilに示す。Whether the erasure was successful or not is indicated by O and X in il.

表1に示される結果から、本発明の効果があきらかであ
る。
From the results shown in Table 1, the effects of the present invention are clear.

実験例2 実験例1の媒体/Vi1〜4において、At反射層と記
録層との間に、紫外線硬化型の樹脂(フォトレジスト、
シップレイ社製AZ 1350J)を07μm岸にて設
層して、媒体/169〜12を作製し、書き込み感度の
逆数を測定した。  °結果を表2に示す。
Experimental Example 2 In the medium/Vi1 to Vi4 of Experimental Example 1, an ultraviolet curing resin (photoresist,
AZ 1350J (manufactured by Shipley) was layered at a thickness of 07 μm to prepare media/169 to 12, and the reciprocal of the writing sensitivity was measured. °The results are shown in Table 2.

なお、読み出しのS/N比は、はぼ同等であり、また、
各媒体とも良好に消去することができた。
Note that the readout S/N ratio is approximately the same, and
Good erasing was possible with each medium.

表  2 9 0.01 0.1 10 0.6  0.1 11 1.2  0.2 12 3  0.2 表2に示される結果から、この出願の第2の発明の効果
があきらかである。
Table 2 9 0.01 0.1 10 0.6 0.1 11 1.2 0.2 12 3 0.2 From the results shown in Table 2, the effect of the second invention of this application is clear.

実験例3 実験例1において、熱可塑性樹脂の種類と数平均分子量
とを下記表3に示されるようにかえ、さらに、色素を1
:2型金属錯塩染料のアイゼンスピロンブラックRLH
スペシャル(保土谷化学株式会社製)にかえた他は、同
様にして媒体413〜18を作製した。
Experimental Example 3 In Experimental Example 1, the type and number average molecular weight of the thermoplastic resin were changed as shown in Table 3 below, and the dye was changed to 1.
: Type 2 metal complex dye Eizenspiron Black RLH
Mediums 413 to 18 were produced in the same manner except that Special (manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.) was used.

この場合、記録層厚は08μmとした。 また、各樹脂
の分子量分布としては、総数の50%以上が、平均分子
量の±50%以内であるようにし、樹脂対色素の重量比
は、3ニアとした。
In this case, the recording layer thickness was 08 μm. Further, the molecular weight distribution of each resin was such that 50% or more of the total number was within ±50% of the average molecular weight, and the weight ratio of resin to dye was 3 nia.

なお、表3中、VAは、酢酸ビニルであり。In addition, in Table 3, VA is vinyl acetate.

ポリエステル(PEs)としては、コノ・り酸とテトラ
メチレングリコールとの縮合を行い、分子量分別したも
のを用い、セルロースアセテートブチレー)(CAB)
は、アセチル化度2%、ブチリル化度53%、ヒドロキ
シル化度1.5%のものを用いた。
The polyester (PEs) was obtained by condensation of cono-phosphoric acid and tetramethylene glycol and the molecular weight was fractionated.
used had a degree of acetylation of 2%, a degree of butyrylation of 53%, and a degree of hydroxylation of 1.5%.

さらに、媒体A13.15.17につき、実験例2にお
ける中間層を介在させ、媒体、%19〜21を作製した
Furthermore, for medium A13.15.17, the intermediate layer in Experimental Example 2 was interposed to produce a medium of %19 to 21.

これら、媒体/1613〜21の特性を実験例1と同様
に測定した。
The characteristics of these media/1613 to 21 were measured in the same manner as in Experimental Example 1.

結果を表3に示す。The results are shown in Table 3.

表3に示される結果から、この出願の第1および第2の
発明の効果があぎらかである。
From the results shown in Table 3, the effects of the first and second inventions of this application are obvious.

なお、他の熱可塑性樹脂や、他の光吸収体を用いるとき
にも、このよちな効果は、同等に再現することが確認さ
れている。
Note that it has been confirmed that this uneven effect can be equally reproduced even when other thermoplastic resins or other light absorbers are used.

出願人  東京電気化学工業株式会社 代理人 升埋士  石 井 陽 −Applicant: Tokyo Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd. Agent Masu Burier Yo Ishii -

Claims (1)

【特許請求の範囲】 10反射性の基体上に、低分子量熱可塑性樹脂と、光吸
収体とを含む記録層を有することを特徴とする光記録媒
体。 2、低分子量熱可塑性樹脂の数平均分子量が3万以下で
ある特許請求の範囲第1項に記載の光記録媒体。 3、記録光の読み出し光に対する透過率が70%以下で
ある特許請求の範囲第1項または第2項に記載の光記録
媒体。 5、基体が、表面に反射層をもつ特許請求の範囲第1項
ないし第4項のいずれかに記載の光記録媒体。 6、記録光の照射により、記録層を変形せしめて、熱ま
たは光によって消去することのできるピットを形成して
記録を行う特許請求の範囲第1項ないし第5項のいずれ
かに記載の光記録媒体。 7、 反射性の基体上に、中間層を有し、この中間層上
に、低分子量熱可塑性樹脂と、光吸収体とを含む記録層
を有することを特徴とする光記録媒体。 8、低分子量熱可塑性樹脂の数平均分子量が3万以下で
ある特許請求の範囲第7項に記載の光記録媒体。 9、記録層の絖み出し光に対する透過率が70%以下で
ある時Iff請求の範囲第7項または第8項に記載の光
記録媒体。 10、記録l−の厚さが0.007〜7μ鴨である特許
請求の範囲第7項ないし第9項のいずれかに記載の光記
録媒体。 11、基体が表面に反射層をもつ特許請求の範囲第7項
ないし第10項のいずれかに記載の光記録媒体。 12、中間層の厚さが0.001〜20μmでアル%許
請求の範囲第7項ないし第11項のいずれかに記載の光
記録媒体。 13、記録光の照射により、記録層を変形せしめて、熱
または光によって消去することのできるピットを形成し
て記録を行う特許請求の範囲第7項ないし第12項のい
ずれかに記載の光記録媒体。
[Scope of Claims] 10. An optical recording medium comprising a recording layer containing a low molecular weight thermoplastic resin and a light absorber on a reflective substrate. 2. The optical recording medium according to claim 1, wherein the low molecular weight thermoplastic resin has a number average molecular weight of 30,000 or less. 3. The optical recording medium according to claim 1 or 2, wherein the transmittance of the recording light to the reading light is 70% or less. 5. The optical recording medium according to any one of claims 1 to 4, wherein the substrate has a reflective layer on its surface. 6. The light according to any one of claims 1 to 5, which performs recording by deforming the recording layer by irradiating the recording light to form pits that can be erased by heat or light. recoding media. 7. An optical recording medium comprising an intermediate layer on a reflective substrate, and a recording layer containing a low molecular weight thermoplastic resin and a light absorber on the intermediate layer. 8. The optical recording medium according to claim 7, wherein the low molecular weight thermoplastic resin has a number average molecular weight of 30,000 or less. 9. The optical recording medium according to claim 7 or 8, when the transmittance of the recording layer to the protruding light is 70% or less. 10. The optical recording medium according to any one of claims 7 to 9, wherein the recording layer has a thickness of 0.007 to 7 μm. 11. The optical recording medium according to any one of claims 7 to 10, wherein the substrate has a reflective layer on its surface. 12. The optical recording medium according to any one of claims 7 to 11, wherein the thickness of the intermediate layer is 0.001 to 20 μm and the Al% is allowed. 13. The light according to any one of claims 7 to 12, which performs recording by deforming the recording layer by irradiating the recording light to form pits that can be erased by heat or light. recoding media.
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