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JPS58143249A - 欠陥検査装置 - Google Patents

欠陥検査装置

Info

Publication number
JPS58143249A
JPS58143249A JP2566882A JP2566882A JPS58143249A JP S58143249 A JPS58143249 A JP S58143249A JP 2566882 A JP2566882 A JP 2566882A JP 2566882 A JP2566882 A JP 2566882A JP S58143249 A JPS58143249 A JP S58143249A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pattern
light
defect
spatial filter
inspected
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2566882A
Other languages
English (en)
Inventor
Akito Iwamoto
岩本 明人
Hidekazu Sekizawa
秀和 関沢
Kiyoshi Yamada
清 山田
Shuzo Miura
秀三 三浦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp, Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP2566882A priority Critical patent/JPS58143249A/ja
Publication of JPS58143249A publication Critical patent/JPS58143249A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/956Inspecting patterns on the surface of objects
    • G01N21/95623Inspecting patterns on the surface of objects using a spatial filtering method

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の属する技術分計〕 欠陥検査装置に関するものである。
〔発明の技術的背景とその問題点〕
コヒーレントな光を用い、レンズの2次元フーリエ変換
作用を利用して、シャドウマスクパターンのような周期
パターン中の非周期成分(欠陥)を検出できることは既
に知られている。
例えば、ICパターンの欠陥がコヒーレント光を用いた
空間フィルタリングにより検出できることが報告され、
あるいは非周期パターンに含まれる欠陥についても空間
フィルタを工夫することにより検出できることが報告さ
れている。
このような光学系を用いた欠陥検査装置は、光学系では
2次元フーリエ変換がレーザのようなコヒーレントな光
源とレンズとの組み合せで容易に実現できることを利用
するものである。
第1図は光学系を用いた従来の欠陥検査装置の一例を示
している。第1図ζこおいて、レーザ11から放射され
たコヒーレントな光は、コリメータ系12で平行光13
に変換される。この平行光13が照射される被検体14
はフーリエ変換用のレンズ15の前側焦点面に置かれて
いる。このようにすると、レンズ15の共役面である後
方焦点面16には被検体14の2次元フーリエ変換パタ
ーンが生成される。
そこで、この後方焦点面16に、欠陥を含まない被検体
14のパターンによるフーリエパターンからの光成分を
透過させない物竺、で形成し、その他の領域は光を透過
させる物質で構成した空間フィルタを設置する。このよ
うにすると、後方焦点面16を通過する光成分は欠陥成
分に起因するものだけになるから、レンズ17で逆フー
リエ変換すること匿より、再結像面18に欠陥パターン
のみを抽出することができる。
フーリエ変換面(後方焦点面16)において。
被検体パターンから欠陥パターンを抽出する演算を行な
うのは、フーリエ変換面においてはパターンの水平方向
の相対的位置合せおよび光軸方向(焦点方向)の調整が
全く不要だという事実に基づいている。
このように欠陥を含まないパターンが既知の場合には、
このパターンのフーリエ変換パターンに起因するスペク
トル成分を吸収等の手段で除去することにより欠陥パタ
ーンのみを抽出することが可能であり、従来この原理に
基づく欠陥検査装置が一般に用いられていた。
hころが、このような従来の欠陥検査装置は比較的大き
な欠陥の検出には適しているが、微細な欠陥の検出は充
分に行ない得ず欠陥検出装置として確実性に欠ける欠点
があった。
〔発明の目的〕
この発明は上記の欠点を除去するためになされたもので
、その目的とするところは被検体パターン中の微細な欠
陥をも精密にしかも確実かつ効率的に検出し得る欠陥検
出装置を提供しようとするものである。
〔発明の概要〕
この発明は、例えばレーザのような光源からの光を被検
体に照射し、この被検体からの回折光を受けるフーリエ
変換用レンズの共役面に空間フィルタを配設し、この空
間フィルタとして被検体の基本パターンと基本パターン
の配列に基づくパターンとの間に生じるモアレパターン
tこ対応した開口を有するものを用いた点に特徴がある
このようにすると1例えば逆フーリエ変換用レンズを介
した再結像面に被検体の欠陥パターンのみを抽出して表
出することができる。
〔発明の効果〕
この発明番こよれば、モアレパターンを利用して被検体
の欠陥の検出を行なうものであるから、微細な欠陥の場
合にもこれを強調して抽出することができ精密にしかも
確実かつ効率的な検査を行ない得る特長がある。したが
って安定でしかも信頼性の高い欠陥検査装置とすること
ができる。
〔発明の実施例〕
以下5図面を参照してこの発明の一実施例をカラーブラ
ウン管用シャドウマスクを対象とするものの場合につい
て説明する。
民生用カラーブラウン管のシャドウマスクには第2図に
示すパターンのものが主に用いられている。第2図にお
いて、21は薄鉄板であり、22は薄鉄板21に規則的
に形成された小判形の開口であり、その数は20〜10
0万個に達している。シャドウマスクの検査においては
、主lこ開口22の形状異常および微小サイズ変化を検
出している。
′M2図のパターンを数式的に記述すれば、このような
規則的パターンは基本パターンと規則的配列パターンと
のコンポリー−ションにより表わすことができる。
いま、基板パターンをf(xtyL配列パターンをd(
X、y)とすれば、第2図のパターンp(xty)p(
xty)=f(x+y)@@ d(xty)  ・−−
−・−11)となる。ここで@のは2次元コンポリ−−
シ田ンを表わしている。
よく知られているフーリエ変換の定理より。
p(X、y)のフーリエ変換像は下式のようζこなる。
P(ξ、η)=F(ξ、η)D(ξ、η)・・・・・・
・・・・・・(2)ただし、ξ、ηはx、y方向に対応
する空間周波数であり、大文字で表わした関数はそれぞ
れ小文字で表わした関数のフーリエ変換量である。
フーリエ変換像P(ξ、η)はこのように一義的に決定
することができる。
一方、第2図に示したパターンを2次元フーリエ変換す
ると第3図のようなパターンを得る。
第3図に示すフーリエパターンの強度分布は第(2)式
で示した量の自乗として与えられ、一般的に分布の包絡
線は開ロバターンに起因するF(ξ、η)により、また
輝点分布は分布パターンに起因するD(ξ、η)により
決定される。
しかし、第3図より明らかなように、シャドウマスクパ
ターンのフーリエ変換パターンでは、上述した解明によ
って予想できない双曲線パターンが生成されていること
を知ることができる。これは、開ロマベクトルF(ξ、
η)と分布スペクトルD(ξ、η)との間で生じるモワ
レ現象に起因している。
すなわち、第2図に示したような小判形の開口22はス
ペクトル解析によると楕円成分を含むことになり、この
楕円スペクトルと分布スペクトルD(ξ、η)に含まれ
る直線成分とが協同してモワレ(ビート)を生じるため
である。
このモワレパターンは解析的に次のようにして導出する
ことができる。
すなわち、ピッチhのξ軸に平行な直線群と楕円スペク
トル群 (Vη)2+(Hg*=kx (k=o、1.2・・・
・・・)・・・・・・・・・(3)とはビートを生じ、
そのパターンは ただしiは整数 となり、双曲線を表わすことになる。
このモワレパターンの暗線部分には正規パターンからの
光エネルギーは回折されない。逆にモワレパターンの暗
線部分に回折される光成分は開口の欠陥からのものであ
る。
したがって、このモワレパターンの暗線に沿って開口を
もつ第4図に示すような空間フィルタ41を作り、これ
を第1図の後方焦点面16の位貨に配設すれば、これに
より欠陥の検出が可能となる。
第4図において42は光透過領域、43は光不透過領域
を示している。
このような空間フィルタ41において、暗線部分は比較
的に高い空間周波数により生じているので、このような
暗線部分に開口をもつ空間フィルタ41を用いて構成し
た欠陥検査装置は微細な欠陥を確実に検出できるもので
ある。なお、他の部分は第1図と同一の構成のものであ
るから詳述しない。
第5図はモアレパターンに基づく空間フィルタとローパ
ス空間フィルタを併用したこの発明の他の実施例を示す
ものである。一般に、欠陥のないパターンに基づく空間
フィルタによる欠陥検査の場合には通常これをローパス
フィルタ化して用いている場合が多い。このようなフィ
ルタを用いた検査手段は比較的大きな欠陥の検出に適し
ている。
そこで、この実施例は前述のモアレパターンに基づくフ
ィルタにローパス空間フィルタを併用することにより、
多岐にわたる広範囲な欠陥を高い信頼性で検出すること
を可能にしたものである。
第5図において、51はレーザのようなコヒーレントな
光を発生する光源であり、この光源51よりの光52の
光路にコリメータ53%移動装置54に載置された被検
体55.ミラー56a、フーリエ変換レンズ57a、そ
の後方焦点位置にモワレパターンに基づく欠陥検査用の
空間フィルタ58a。
光検出用の光電変換器59aを順次配設する。さらにミ
ラー56aにより2分割した光の光路にミラー56b、
フーリエ変換レンズ57b%無欠陥パターンに基づく欠
陥検査用のローパス空間フィルタ58b。
光検出用の光電変換器59bを順次配設する。光電変換
器59aおよび59bの出力端はデータ処理装置60に
導かれ、被検体55の移動装置54はデータ処理装置6
0よりの制御出力により制御される。
第5図の装置において、レーザ51からのコヒーレント
な光52はコリメータ53で平行光に変換され、被検体
55に照射される。被検体55からの回折光はミラー5
6aで2分割されフ41J工変換レンズ57a 、57
bでにより被検体55のフーリエ変換パターンとしてこ
れらの後方焦点位置にそれぞれ集光される。後方焦点位
置にはモワレパターンに基づく空間フィルタ58a、無
欠陥パターンに基づくローパス空間フィルタ58bを設
けられているので、それぞれの空間フィルタ58a 、
58bを通過した欠陥成分が光電変換器59a、 59
bにより電気信号に変換されてデータ処理装置60に入
力される。
データ処理装置60においては光電変換器59a。
59bの出力から欠陥の大きさ1位置等を算出してこれ
を出力する。
この実施例においてはモワレパターンに基づく空間フィ
ルタ58a、無欠陥パターンに基づくローパス空間フィ
ルタ58bを併用しているので、前者により主として微
細な欠陥の検出を、また後者により比較的大きな欠陥の
検出をそれぞれ的確に行なうことができそれぞれの機能
を補い合って広範囲な欠陥の検出を高い信頼性のもとに
行なうことができる。
なお、この発明は上記実施例に限定されるものではなく
要旨を変更しない範囲において種々変形して実施するこ
とができる。
すなわち、上記実施例においては主としてカラーブラウ
ン管のシャドウマスクに含まれる欠陥の検出を行なう場
合について述べたが、この発明は開ロスベクトルに楕円
成分を含む開口が周期的に配列されているパターンのも
のを対象とし同様に実施することができる。このような
開ロバターンを有するものとしては電気カミソリのブレ
ード。
ジューサの歯等を挙げることができる。
さらにこの発明は基本パターンが楕円成分をもつものに
限らず、あるいは基本的バタンか周期的に配列されてい
るものに限ることなく、基本パターンと配列パターンと
の間にモアレ現象を生じるパターンを有するものの場合
に広く適用することができる。
また、光学的な手段によることなく、被検体スペクトル
を得ることも可能であり、そのような系において1本発
明の主旨を変えることなくパターン欠陥と検出すること
を本発明が包含することは云うまでもない。
【図面の簡単な説明】
第1図は光学系を用いた従来の欠陥検査装置の一例の概
略的な構成図、第2図はこの発明の装置の対象となるカ
ラーブラウン管用シャドウマスクの一例の説明図、第3
図は第2図に示したパターンをフーリエ変換したパター
ンの説明図、第4図はこの発明の一実施例において用い
るモワレパターンに基づく空間フィルタの説明図、第5
図はモアレパターンに基づく空間フィルタとローパス空
間フィルタを併用したこの発明の実施例の概略的構成図
である。 11・・・レーザ    12・・・コリメータ系13
・・・平行光     14・・・被検体15・・・フ
ーリエ変換用のレンズ 16・・・後方焦点面 17・・・逆フーリエ変換用のレンズ 18・・・再結像面    21・・・薄鉄板22・・
・開口 41・・・モアレパターンに基づく空間フィルタ42・
・・光透過領域   43・・・光不透過領域51・・
・光源      52・・・光53・・・コリメータ
   54・・・移動装置55・・・被検体 56a、 56b・・・ミラー  57a 57b・・
・フーリエ変換レンズ58a・・・モアレパターンに基
づく空間フィルタ58b・・・無欠陥パターンに基づく
ローパス空間フィルタ 60・・・データ処理装置

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)はぼコヒーレントな光を発生する光源と、この光
    源よりの光により照射される被検体と、こ基づく欠陥検
    査用の空間フィルタと、このフィルタを通過した光を受
    光する受光器とを備えたことを特徴とする欠陥検査装置
    。 f2)  被検体は基本パターンの開口が規則的パター
    ンにより配列されていることを特徴とする特許る特許請
    求第1項または第2項記載の欠陥検査装置。 (4)欠陥検査用の空間フィルタはモアレパターンの暗
    線に沿った開口をもつものであることを特徴とする特許
    請求の範囲第1項ないし第3項のいずれか番こ記載され
    た欠陥検査装置。 (5)欠陥検査用の空間フィルタはモアレパターンに基
    づく空間フィルタの他に無欠陥基本パターンに基づくロ
    ーパス空間フィルタを併用することを特徴とする特許請
    求の範囲第1項ないし第4項のいずれかに記載された欠
    陥検査装置。
JP2566882A 1982-02-19 1982-02-19 欠陥検査装置 Pending JPS58143249A (ja)

Priority Applications (1)

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JP2566882A JPS58143249A (ja) 1982-02-19 1982-02-19 欠陥検査装置

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JP2566882A JPS58143249A (ja) 1982-02-19 1982-02-19 欠陥検査装置

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JPS58143249A true JPS58143249A (ja) 1983-08-25

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ID=12172160

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JP2566882A Pending JPS58143249A (ja) 1982-02-19 1982-02-19 欠陥検査装置

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JP (1) JPS58143249A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61256241A (ja) * 1985-05-09 1986-11-13 Dainippon Printing Co Ltd 色分解フイルタの検査装置
JPS6318245A (ja) * 1986-07-10 1988-01-26 Rion Co Ltd 微粒子計測装置

Cited By (4)

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