JPS58113163A - 不飽和ニトリルの製造方法 - Google Patents
不飽和ニトリルの製造方法Info
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- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 title claims abstract description 22
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 7
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 86
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims abstract description 22
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 19
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 17
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 12
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 12
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims description 7
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 6
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical group [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 4
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 54
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 16
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 abstract description 16
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 abstract 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 9
- ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N antimony trioxide Chemical compound O=[Sb]O[Sb]=O ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 4
- NLSCHDZTHVNDCP-UHFFFAOYSA-N caesium nitrate Chemical compound [Cs+].[O-][N+]([O-])=O NLSCHDZTHVNDCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 4
- RXPAJWPEYBDXOG-UHFFFAOYSA-N hydron;methyl 4-methoxypyridine-2-carboxylate;chloride Chemical compound Cl.COC(=O)C1=CC(OC)=CC=N1 RXPAJWPEYBDXOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 4
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 3
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 3
- RLJMLMKIBZAXJO-UHFFFAOYSA-N lead nitrate Chemical compound [O-][N+](=O)O[Pb]O[N+]([O-])=O RLJMLMKIBZAXJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KBJMLQFLOWQJNF-UHFFFAOYSA-N nickel(ii) nitrate Chemical compound [Ni+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O KBJMLQFLOWQJNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 3
- FYWSTUCDSVYLPV-UHFFFAOYSA-N nitrooxythallium Chemical compound [Tl+].[O-][N+]([O-])=O FYWSTUCDSVYLPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 3
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 3
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical compound [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 description 3
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 2
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- APUPEJJSWDHEBO-UHFFFAOYSA-P ammonium molybdate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-][Mo]([O-])(=O)=O APUPEJJSWDHEBO-UHFFFAOYSA-P 0.000 description 2
- 229940010552 ammonium molybdate Drugs 0.000 description 2
- 235000018660 ammonium molybdate Nutrition 0.000 description 2
- 239000011609 ammonium molybdate Substances 0.000 description 2
- -1 antimony metals Chemical class 0.000 description 2
- LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N antimony pentoxide Chemical compound O=[Sb](=O)O[Sb](=O)=O LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- COHDHYZHOPQOFD-UHFFFAOYSA-N arsenic pentoxide Chemical compound O=[As](=O)O[As](=O)=O COHDHYZHOPQOFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001622 bismuth compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229940049676 bismuth hydroxide Drugs 0.000 description 2
- TZSXPYWRDWEXHG-UHFFFAOYSA-K bismuth;trihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Bi+3] TZSXPYWRDWEXHG-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 2
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 2
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 150000002611 lead compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910021514 lead(II) hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005078 molybdenum compound Substances 0.000 description 2
- 150000002752 molybdenum compounds Chemical class 0.000 description 2
- VLAPMBHFAWRUQP-UHFFFAOYSA-L molybdic acid Chemical compound O[Mo](O)(=O)=O VLAPMBHFAWRUQP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N tetraphosphorus decaoxide Chemical compound O1P(O2)(=O)OP3(=O)OP1(=O)OP2(=O)O3 DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003476 thallium compounds Chemical class 0.000 description 2
- HQOJMTATBXYHNR-UHFFFAOYSA-M thallium(I) acetate Chemical compound [Tl+].CC([O-])=O HQOJMTATBXYHNR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- HJTAZXHBEBIQQX-UHFFFAOYSA-N 1,5-bis(chloromethyl)naphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(CCl)=CC=CC2=C1CCl HJTAZXHBEBIQQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DJHGAFSJWGLOIV-UHFFFAOYSA-N Arsenic acid Chemical compound O[As](O)(O)=O DJHGAFSJWGLOIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021503 Cobalt(II) hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101150039979 ENO3 gene Proteins 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-N Metaphosphoric acid Chemical compound OP(=O)=O UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GACUIHAEKGVEIC-UHFFFAOYSA-L [Bi+2]=O.C([O-])([O-])=O Chemical compound [Bi+2]=O.C([O-])([O-])=O GACUIHAEKGVEIC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000001339 alkali metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910001963 alkali metal nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229940058905 antimony compound for treatment of leishmaniasis and trypanosomiasis Drugs 0.000 description 1
- 150000001463 antimony compounds Chemical class 0.000 description 1
- FAPDDOBMIUGHIN-UHFFFAOYSA-K antimony trichloride Chemical compound Cl[Sb](Cl)Cl FAPDDOBMIUGHIN-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- QEZIKGQWAWNWIR-UHFFFAOYSA-N antimony(3+) antimony(5+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[O--].[O--].[O--].[Sb+3].[Sb+5] QEZIKGQWAWNWIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940000488 arsenic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000001495 arsenic compounds Chemical class 0.000 description 1
- GOLCXWYRSKYTSP-UHFFFAOYSA-N arsenic trioxide Inorganic materials O1[As]2O[As]1O2 GOLCXWYRSKYTSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHXKRIRFYBPWGE-UHFFFAOYSA-K bismuth chloride Chemical compound Cl[Bi](Cl)Cl JHXKRIRFYBPWGE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910000416 bismuth oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940036359 bismuth oxide Drugs 0.000 description 1
- GLQBXSIPUULYOG-UHFFFAOYSA-M bismuth oxychloride Chemical compound Cl[Bi]=O GLQBXSIPUULYOG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JJNDBASMJMGLOD-UHFFFAOYSA-L bismuth;dihydroxide;nitrate Chemical compound [OH-].[OH-].[Bi+3].[O-][N+]([O-])=O JJNDBASMJMGLOD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910021446 cobalt carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001869 cobalt compounds Chemical class 0.000 description 1
- UFMZWBIQTDUYBN-UHFFFAOYSA-N cobalt dinitrate Chemical compound [Co+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O UFMZWBIQTDUYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001981 cobalt nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000428 cobalt oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- ZOTKGJBKKKVBJZ-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+);carbonate Chemical compound [Co+2].[O-]C([O-])=O ZOTKGJBKKKVBJZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ASKVAEGIVYSGNY-UHFFFAOYSA-L cobalt(ii) hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Co+2] ASKVAEGIVYSGNY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N cobalt(ii) oxide Chemical compound [Co]=O IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- XAYGUHUYDMLJJV-UHFFFAOYSA-Z decaazanium;dioxido(dioxo)tungsten;hydron;trioxotungsten Chemical compound [H+].[H+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.[O-][W]([O-])(=O)=O.[O-][W]([O-])(=O)=O.[O-][W]([O-])(=O)=O.[O-][W]([O-])(=O)=O.[O-][W]([O-])(=O)=O.[O-][W]([O-])(=O)=O XAYGUHUYDMLJJV-UHFFFAOYSA-Z 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N dibismuth;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Bi+3].[Bi+3] TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- XJUNRGGMKUAPAP-UHFFFAOYSA-N dioxido(dioxo)molybdenum;lead(2+) Chemical compound [Pb+2].[O-][Mo]([O-])(=O)=O XJUNRGGMKUAPAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 229940093920 gynecological arsenic compound Drugs 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- PIJPYDMVFNTHIP-UHFFFAOYSA-L lead sulfate Chemical compound [PbH4+2].[O-]S([O-])(=O)=O PIJPYDMVFNTHIP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910000476 molybdenum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002816 nickel compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000008 nickel(II) carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- ZULUUIKRFGGGTL-UHFFFAOYSA-L nickel(ii) carbonate Chemical compound [Ni+2].[O-]C([O-])=O ZULUUIKRFGGGTL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BFDHFSHZJLFAMC-UHFFFAOYSA-L nickel(ii) hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ni+2] BFDHFSHZJLFAMC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000002829 nitrogen Chemical class 0.000 description 1
- 150000002903 organophosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- OGCYGKRWXWQOAK-UHFFFAOYSA-N oxobismuthanyl nitrate Chemical compound [O-][N+](=O)O[Bi]=O OGCYGKRWXWQOAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N oxomolybdenum Chemical compound [Mo]=O PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHRLEVQXOMLTIM-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid;trioxomolybdenum Chemical compound O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.OP(O)(O)=O DHRLEVQXOMLTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,7-diazaspiro[4.5]decane-7-carboxylate Chemical compound C1N(C(=O)OC(C)(C)C)CCCC11CNCC1 ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- YTQVHRVITVLIRD-UHFFFAOYSA-L thallium sulfate Chemical compound [Tl+].[Tl+].[O-]S([O-])(=O)=O YTQVHRVITVLIRD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940119523 thallium sulfate Drugs 0.000 description 1
- 229910000374 thallium(I) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003658 tungsten compounds Chemical class 0.000 description 1
- CMPGARWFYBADJI-UHFFFAOYSA-L tungstic acid Chemical compound O[W](O)(=O)=O CMPGARWFYBADJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000002747 voluntary effect Effects 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C253/00—Preparation of carboxylic acid nitriles
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- C07C253/26—Preparation of carboxylic acid nitriles by ammoxidation of hydrocarbons or substituted hydrocarbons containing carbon-to-carbon multiple bonds, e.g. unsaturated aldehydes
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- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/16—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of arsenic, antimony, bismuth, vanadium, niobium, tantalum, polonium, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, technetium or rhenium
- B01J23/24—Chromium, molybdenum or tungsten
- B01J23/28—Molybdenum
-
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/16—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of arsenic, antimony, bismuth, vanadium, niobium, tantalum, polonium, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, technetium or rhenium
- B01J23/24—Chromium, molybdenum or tungsten
- B01J23/31—Chromium, molybdenum or tungsten combined with bismuth
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- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/70—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper
- B01J23/76—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper combined with metals, oxides or hydroxides provided for in groups B01J23/02 - B01J23/36
- B01J23/84—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper combined with metals, oxides or hydroxides provided for in groups B01J23/02 - B01J23/36 with arsenic, antimony, bismuth, vanadium, niobium, tantalum, polonium, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, technetium or rhenium
- B01J23/85—Chromium, molybdenum or tungsten
- B01J23/88—Molybdenum
- B01J23/882—Molybdenum and cobalt
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/70—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper
- B01J23/76—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper combined with metals, oxides or hydroxides provided for in groups B01J23/02 - B01J23/36
- B01J23/84—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper combined with metals, oxides or hydroxides provided for in groups B01J23/02 - B01J23/36 with arsenic, antimony, bismuth, vanadium, niobium, tantalum, polonium, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, technetium or rhenium
- B01J23/85—Chromium, molybdenum or tungsten
- B01J23/88—Molybdenum
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B01J27/00—Catalysts comprising the elements or compounds of halogens, sulfur, selenium, tellurium, phosphorus or nitrogen; Catalysts comprising carbon compounds
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、オレフィン、例えばプロピレン。
イソブチレンなどを触媒の存在下に高温気相でアンモ酸
化して相当する不飽和ニトリル、例えばアクリロニトリ
ル、メタクリロニトリルなどを製造する方法に関するも
のである。
化して相当する不飽和ニトリル、例えばアクリロニトリ
ル、メタクリロニトリルなどを製造する方法に関するも
のである。
オレフィンを触媒の存在下に高温気相でアンモ酸化して
相当する不飽和ニトリルを製造する方法はよく知られて
おり、その際に使用する触媒についてもすでに多数提案
されている。
相当する不飽和ニトリルを製造する方法はよく知られて
おり、その際に使用する触媒についてもすでに多数提案
されている。
例えば、米国特許第2,904,580号明細書(特公
昭36−5870号公報)にはMo −Bi−(P)系
触媒、米国特許第6,688,002号明細書(特公昭
47−8526号公報)にはB15b04とPbMo
04とからなる触媒、特公昭51−6649号公報には
Tt−(P) −Mo−Fe−Bi −X−(Y) [
X= Ni+ Mf+ Co、 Mn+ Y=Be、
Ca、 Zn、 Elr+ ca、 Sn。
昭36−5870号公報)にはMo −Bi−(P)系
触媒、米国特許第6,688,002号明細書(特公昭
47−8526号公報)にはB15b04とPbMo
04とからなる触媒、特公昭51−6649号公報には
Tt−(P) −Mo−Fe−Bi −X−(Y) [
X= Ni+ Mf+ Co、 Mn+ Y=Be、
Ca、 Zn、 Elr+ ca、 Sn。
Or、 Pb )系触媒、特開昭54−110997号
公報にはMo−W−Bi−Pb系触媒々どが開示されて
おり。
公報にはMo−W−Bi−Pb系触媒々どが開示されて
おり。
米国特許第4,212,776号明細書、米国特許第4
,148,757号明細書などにはMO−Bi系の多成
分酸化物錯体触媒の製造方法が開示されている。
,148,757号明細書などにはMO−Bi系の多成
分酸化物錯体触媒の製造方法が開示されている。
しかしながら一般的に不飽和二) IJルへの選択性が
すぐれた触媒でも選択率を高い値に維持するだめにはオ
レフィンの反応率を低くおさえて反応を行なう必要があ
り2反応率を高い値に維持しようとすると不飽和ニトリ
ルの選択率が低下する傾向がある。
すぐれた触媒でも選択率を高い値に維持するだめにはオ
レフィンの反応率を低くおさえて反応を行なう必要があ
り2反応率を高い値に維持しようとすると不飽和ニトリ
ルの選択率が低下する傾向がある。
また従来提案されている触媒のなかには比較的高い選択
率で不飽和ニトリルを製造できる触媒もあるが2反応率
を非常に高い値9例えば100係に近い値に高めても不
飽和ニトリルを高選択率で製造できる触媒についての提
案は少なく、オレフィン価格の高騰とあいまって工業的
見地から近年は反応率を高い値に維持しても高選択率で
不飽和ニトリルを収率よく製造することができる触媒の
開発が強く望まれている。
率で不飽和ニトリルを製造できる触媒もあるが2反応率
を非常に高い値9例えば100係に近い値に高めても不
飽和ニトリルを高選択率で製造できる触媒についての提
案は少なく、オレフィン価格の高騰とあいまって工業的
見地から近年は反応率を高い値に維持しても高選択率で
不飽和ニトリルを収率よく製造することができる触媒の
開発が強く望まれている。
また従来鉛を触媒成分として含む不飽和ニトリル製造用
触媒についての提案は比較的少ないが。
触媒についての提案は比較的少ないが。
前記特開昭54−110997号公報には、MO−W−
Bi−Pb系触媒が開示されており、同公報実施例の記
載によると、100%に近い反応率でアクリロニトリル
の選択率が80%程度を示している。
Bi−Pb系触媒が開示されており、同公報実施例の記
載によると、100%に近い反応率でアクリロニトリル
の選択率が80%程度を示している。
また特公昭51−6649号公報にはT4−P−Mo−
F e −B i −N i −P b系触媒でプロピ
レンの反応率99%、アクリロニトリルの選択率76係
(同公報実施例5)を示している。また米国特許第3,
688,002号明細書には+ BiS’b04とP
bMoO4とから々る触媒でプロピレンの反応率46.
1%、アクリロニトリルの選択率88.8 % (同明
細書実施例40)を示している。
F e −B i −N i −P b系触媒でプロピ
レンの反応率99%、アクリロニトリルの選択率76係
(同公報実施例5)を示している。また米国特許第3,
688,002号明細書には+ BiS’b04とP
bMoO4とから々る触媒でプロピレンの反応率46.
1%、アクリロニトリルの選択率88.8 % (同明
細書実施例40)を示している。
この発明者らは2反応率を高い値に維持しても高選択率
で不飽和ニトリルを収率よく製造することができる触媒
を開発することを目的として鋭意研究を行なった結果、
Mo−Bi−Pb−TA系の特定の触媒によって、
従来の鉛を触媒成分として含む触媒よりもより高い選択
率で、高い反応率を維持しながら不飽和ニドIJルを高
収率で製造することができ、この触媒系にさらに特定の
元素を触媒成分として加えると一層触媒性能が向上する
ことを知シ、この発明に到った。
で不飽和ニトリルを収率よく製造することができる触媒
を開発することを目的として鋭意研究を行なった結果、
Mo−Bi−Pb−TA系の特定の触媒によって、
従来の鉛を触媒成分として含む触媒よりもより高い選択
率で、高い反応率を維持しながら不飽和ニドIJルを高
収率で製造することができ、この触媒系にさらに特定の
元素を触媒成分として加えると一層触媒性能が向上する
ことを知シ、この発明に到った。
この発明は、オレフィンを触媒の存在下に高温気相でア
ンモ酸化して相当する不飽和二) IJルを製造する方
法において、触媒として次の一般組成式。
ンモ酸化して相当する不飽和二) IJルを製造する方
法において、触媒として次の一般組成式。
MOaBlbPboTtdXoAfBgOh〔この式で
、 Moモリブデン、B1はビスマス、 Pbは鉛、
Ttはタリウム、Xはリン、ヒ素およびアンチモンより
なる群から選択される1種以上の元素。
、 Moモリブデン、B1はビスマス、 Pbは鉛、
Ttはタリウム、Xはリン、ヒ素およびアンチモンより
なる群から選択される1種以上の元素。
Aはアルカリ金属、Bはニッケル、コバルトおよびタン
グステンよりなる群から選択される1種以上の元素、お
よびOは酸素を示し、添字のa−hは原子数を示し、a
=10とすると、b=0.1〜10、好ましくは1〜6
. c==0.1〜10.好ましくは1〜8.cl=
0.01〜1.好ましくは0.03〜0.5.e−0〜
10.好ましくは0.01〜7゜f=o〜1.好ましく
はo、o’i〜0.5.g=o〜10、好ましくは0.
01〜5で、hは酸素以外の前記元素の原子価からおの
ずと定まる値で2通常31.5〜112の値をとる。〕 で表わされる組成物を使用することを特徴とする不飽和
ニトリルの製造方法に関するものである。
グステンよりなる群から選択される1種以上の元素、お
よびOは酸素を示し、添字のa−hは原子数を示し、a
=10とすると、b=0.1〜10、好ましくは1〜6
. c==0.1〜10.好ましくは1〜8.cl=
0.01〜1.好ましくは0.03〜0.5.e−0〜
10.好ましくは0.01〜7゜f=o〜1.好ましく
はo、o’i〜0.5.g=o〜10、好ましくは0.
01〜5で、hは酸素以外の前記元素の原子価からおの
ずと定まる値で2通常31.5〜112の値をとる。〕 で表わされる組成物を使用することを特徴とする不飽和
ニトリルの製造方法に関するものである。
この発明で使用する触媒は、モリブデン、ビスマス、鉛
およびタリウムが主触媒成分であり、触媒性能はこれら
触媒成分の量と密接に関連しているが、一般にモリブデ
ン10グラム原子に対して。
およびタリウムが主触媒成分であり、触媒性能はこれら
触媒成分の量と密接に関連しているが、一般にモリブデ
ン10グラム原子に対して。
ビスマスが少なすぎたり多すぎたりするとオレフィンの
反応率および不飽和ニトリルの選択率が低下し、鉛が少
なすぎたり多すぎたりすると特にオレフィンの反応率が
低下し、不飽和ニトリルの収率も低下する。オレフィン
の反応率を高い値に維持しても高選択率で収率よく不飽
和ニトリルを製造することができる触媒は前記−膜組成
式で表わされるものであるが、なかでも特に好適な触媒
は。
反応率および不飽和ニトリルの選択率が低下し、鉛が少
なすぎたり多すぎたりすると特にオレフィンの反応率が
低下し、不飽和ニトリルの収率も低下する。オレフィン
の反応率を高い値に維持しても高選択率で収率よく不飽
和ニトリルを製造することができる触媒は前記−膜組成
式で表わされるものであるが、なかでも特に好適な触媒
は。
モリブデン10グラム原子に対してビスマスと鉛との合
計が8〜12グラム原子で、かつ鉛とビスマスとの原子
比(pb/B1)が2〜5の範囲にあるものである。ま
たタリウムは2%に不飽和ニトリルの選択率を向上させ
る作用があるが、少なすぎるとその効果が小さく、多す
ぎると選択率は向上するが、高い選択率を維持するため
にはオレフィンの反応率を低くおさえる必要が生じ、不
飽和二) IJルの収率が低下するので、タリウムの量
は前記範囲にする必要がある。
計が8〜12グラム原子で、かつ鉛とビスマスとの原子
比(pb/B1)が2〜5の範囲にあるものである。ま
たタリウムは2%に不飽和ニトリルの選択率を向上させ
る作用があるが、少なすぎるとその効果が小さく、多す
ぎると選択率は向上するが、高い選択率を維持するため
にはオレフィンの反応率を低くおさえる必要が生じ、不
飽和二) IJルの収率が低下するので、タリウムの量
は前記範囲にする必要がある。
この発明で使用する触媒は、前記−膜組成式で表わされ
るが、X成分元素、A成分元素およびB成分元素を含む
触媒は、これらを含まない触媒よりも若干ではあるが高
い不飽和ニトリル収率を示すので特に好適である。なお
工業的見地から不飽和ニトリルの収率が若干でも向上す
るということは非常に重要なことである。A成分元素の
アルカリ金属としては、カリウム、セシウム、ルビジウ
ム、ナトリウムなどが好適に使用される。触媒中に存在
させるX成分元素、A成分元素およびB成分元素の量は
、モリブデン10グラム原子に対して、X成分元素が0
,01〜7グラム原子、A成分元素が0.01〜0.5
グラム原子およびB成分元素が0.01〜5グラム原子
であるのが好ましい。
るが、X成分元素、A成分元素およびB成分元素を含む
触媒は、これらを含まない触媒よりも若干ではあるが高
い不飽和ニトリル収率を示すので特に好適である。なお
工業的見地から不飽和ニトリルの収率が若干でも向上す
るということは非常に重要なことである。A成分元素の
アルカリ金属としては、カリウム、セシウム、ルビジウ
ム、ナトリウムなどが好適に使用される。触媒中に存在
させるX成分元素、A成分元素およびB成分元素の量は
、モリブデン10グラム原子に対して、X成分元素が0
,01〜7グラム原子、A成分元素が0.01〜0.5
グラム原子およびB成分元素が0.01〜5グラム原子
であるのが好ましい。
この発明で使用する触媒は、従来公知の酸化触媒の調製
法(調製操作)によって調製することができる。
法(調製操作)によって調製することができる。
例えば各触媒成分元素の塩、酸化物などの所定量を水の
存在下で混合してスラリー状ないしペースト状にし2次
いで乾燥し、焼成することによって、また各元素の塩、
酸化物などの所定量を水の存在下で混合した混合溶液ま
たは懸濁液を蒸発乾固しだ後、乾固物を焼成することに
よって、あるいは上記混合溶液から各元素を含有する共
沈澱物を生成させて、これを分離、乾燥した後、焼成す
ることによって触媒を調製することができる。焼成は、
一般には空気雰囲気下で行なうのが便利であり、焼成時
間は一般には0.5〜20時間、好ましくけ2〜15時
間が適当である。焼成温度は400〜700℃、好まし
くは500〜670℃が適当である。焼成温度が低すぎ
ると不飽和ニトリルの選択率が低い値を示す触媒となっ
てしまい。
存在下で混合してスラリー状ないしペースト状にし2次
いで乾燥し、焼成することによって、また各元素の塩、
酸化物などの所定量を水の存在下で混合した混合溶液ま
たは懸濁液を蒸発乾固しだ後、乾固物を焼成することに
よって、あるいは上記混合溶液から各元素を含有する共
沈澱物を生成させて、これを分離、乾燥した後、焼成す
ることによって触媒を調製することができる。焼成は、
一般には空気雰囲気下で行なうのが便利であり、焼成時
間は一般には0.5〜20時間、好ましくけ2〜15時
間が適当である。焼成温度は400〜700℃、好まし
くは500〜670℃が適当である。焼成温度が低すぎ
ると不飽和ニトリルの選択率が低い値を示す触媒となっ
てしまい。
また高すぎるとれフイ″″反応率が低“値を示
jす触媒に々ってしまうので、触媒調製時の焼成源
1j!1 度は上記範囲の温度が適当である。
jす触媒に々ってしまうので、触媒調製時の焼成源
1j!1 度は上記範囲の温度が適当である。
この発明で使用する触媒の調製において、触媒調製の出
発原料として使用する各成分元素を含有する化合物とし
ては2例えばモリブデン酸、モリブデン酸アンモニウム
、酸化モリブデン々どのモリブデン化合物、硝酸ビスマ
ス、塩化ビスマス。
発原料として使用する各成分元素を含有する化合物とし
ては2例えばモリブデン酸、モリブデン酸アンモニウム
、酸化モリブデン々どのモリブデン化合物、硝酸ビスマ
ス、塩化ビスマス。
酸化ビスマス、水酸化ビスマス、水酸化硝酸ビスマス、
酸化炭酸ビスマス、酸化硝酸ビスマス、酸化塩化ビスマ
スなどのビスマス化合物、硝酸鉛。
酸化炭酸ビスマス、酸化硝酸ビスマス、酸化塩化ビスマ
スなどのビスマス化合物、硝酸鉛。
硫酸鉛、水酸化鉛などの鉛化合物、硝酸タリウム。
酢酸タリウム、硫酸タリウム々どのタリウム化合物、正
すン酸、メタリン酸、亜すン酸、無水リン酸、各種有機
リン化合物などのリン化合物やリン。
すン酸、メタリン酸、亜すン酸、無水リン酸、各種有機
リン化合物などのリン化合物やリン。
ヒ酸、三酸化ヒ素、五酸化ヒ素などのヒ素化合物やヒ素
、三酸化アンチモン、五酸化アンチモン。
、三酸化アンチモン、五酸化アンチモン。
塩化アンチモンなどのアンチモン化合物や金属アンチモ
ン、ナトリウム、カリウム、ルビジウム。
ン、ナトリウム、カリウム、ルビジウム。
セシウムなどアルカリ金属の硝酸塩、塩化物、硫酸塩な
どのアルカリ金属化合物、硝酸ニッケル。
どのアルカリ金属化合物、硝酸ニッケル。
炭酸ニッケル、水酸化ニッケル、酸化ニッケルなどのニ
ッケル化合物、硝酸コバルト、炭酸コバルト、水酸化コ
バノにト、酸化コバルトナトのコバルト化合物、および
パラタングステン酸アンモニウム、タングステン酸など
のタングステン化合物を挙げることができ、一般には水
、アンモニア水あるいは硝酸に可溶なアンモニウム塩、
硝酸塩、酸化物などを触媒調製の出発原料として使用す
るのが便利である。また触媒調製の出発原料としてモリ
ブデン酸鉛、リンモリブデン酸、アンチモン酸ビスマス
などの複数の成分元素を含有する化合物を使用してもよ
い。
ッケル化合物、硝酸コバルト、炭酸コバルト、水酸化コ
バノにト、酸化コバルトナトのコバルト化合物、および
パラタングステン酸アンモニウム、タングステン酸など
のタングステン化合物を挙げることができ、一般には水
、アンモニア水あるいは硝酸に可溶なアンモニウム塩、
硝酸塩、酸化物などを触媒調製の出発原料として使用す
るのが便利である。また触媒調製の出発原料としてモリ
ブデン酸鉛、リンモリブデン酸、アンチモン酸ビスマス
などの複数の成分元素を含有する化合物を使用してもよ
い。
この発明で使用する触媒は、前記調製法で調製すること
ができるが、より触媒性能のすぐれた触媒を調製するた
めには次の調製法に従うのが望ましい。
ができるが、より触媒性能のすぐれた触媒を調製するた
めには次の調製法に従うのが望ましい。
水に可溶なモリブデン化合物1例えばモリブデン酸、モ
リブデン酸アンモニウム々どを希アンモニア水に溶解さ
せ、これにX成分元素を含有する化合物2例えば三酸化
アンチモンを加えて混合する(A液)。
リブデン酸アンモニウム々どを希アンモニア水に溶解さ
せ、これにX成分元素を含有する化合物2例えば三酸化
アンチモンを加えて混合する(A液)。
硝酸に可溶々ビスマス化合物1例えば硝酸ビスマス、水
酸化ビスマス々どを硝酸水溶液に溶解させ、これに硝酸
鉛、水酸化鉛などの鉛化合物、硝酸タリウム、酢酸タリ
ウムなどのタリウム化合物。
酸化ビスマス々どを硝酸水溶液に溶解させ、これに硝酸
鉛、水酸化鉛などの鉛化合物、硝酸タリウム、酢酸タリ
ウムなどのタリウム化合物。
アルカリ金属の硝酸塩2例えば硝酸セシウムおよびB成
分元素を含有する化合物2例えば硝酸ニッケルを加えて
混合、溶解させる(B液)。なおり成分元素を含有する
化合物が、(パラ)タングステン酸アンモニウムの場合
はA液に加える。
分元素を含有する化合物2例えば硝酸ニッケルを加えて
混合、溶解させる(B液)。なおり成分元素を含有する
化合物が、(パラ)タングステン酸アンモニウムの場合
はA液に加える。
A液に、B液を攪拌下に滴下混合してスラリー秋ないし
ペースト状の混合液にする。必要に応じてA液とB液の
混合液に担体2例えばシリカ(シリカゾル)、チタニア
など加えて混合する。
ペースト状の混合液にする。必要に応じてA液とB液の
混合液に担体2例えばシリカ(シリカゾル)、チタニア
など加えて混合する。
混合液は、そのpHを2例えば硝酸水溶液を使用して2
以下、好ましくは約1.5以下に調整した後、攪拌下に
0.5〜5時間、室温〜50℃で熟成する。
以下、好ましくは約1.5以下に調整した後、攪拌下に
0.5〜5時間、室温〜50℃で熟成する。
pHを調整し、熟成させた混合液は、これを蒸発乾固あ
るいは噴霧乾燥によって乾燥し、酸素含有ガス雰囲気下
2例えば空気雰囲気下に400〜700℃、好ましくは
500〜670℃で、0.5〜20時間、好ましくは2
〜15時間焼成する。
るいは噴霧乾燥によって乾燥し、酸素含有ガス雰囲気下
2例えば空気雰囲気下に400〜700℃、好ましくは
500〜670℃で、0.5〜20時間、好ましくは2
〜15時間焼成する。
好ましい結果を与える触媒を得るためには、上記A液と
B液とを混合し、混合液のpHを低い値に調整して熟成
し、乾燥、焼成するのがよい。
B液とを混合し、混合液のpHを低い値に調整して熟成
し、乾燥、焼成するのがよい。
焼成によって目的とする触媒が得られる。
この発明において、触媒はこれを担体に担持させて使用
しても、′−また担体に担持させずに使用してもよい。
しても、′−また担体に担持させずに使用してもよい。
担体としては従来オレフィンのアンモ酸化用触媒の担体
として公知のものがいずれも使用でき2例えばンリカ、
チタニア、アルミナ、シリカ−アルミナ、ジルコニア、
けいそう土、シリコンカーバイド、各種ケイ酸塩などを
挙げることができる。触媒を担体に担持させる場合の担
体の量は特に制限されないが、一般には触媒1グに対は
使用条件に応じて適宜成形、整粒するのがよい。
として公知のものがいずれも使用でき2例えばンリカ、
チタニア、アルミナ、シリカ−アルミナ、ジルコニア、
けいそう土、シリコンカーバイド、各種ケイ酸塩などを
挙げることができる。触媒を担体に担持させる場合の担
体の量は特に制限されないが、一般には触媒1グに対は
使用条件に応じて適宜成形、整粒するのがよい。
この発明の方法は、固定床、流動床などいずれの反応様
式で行なってもよい。流動床で反応を行なう場合は、触
媒調整時にシリカゾルのような担体成分を加えて噴霧乾
燥し、30〜100μ程度の粉末状粒子の触媒を調製し
て使用するのがよい。
式で行なってもよい。流動床で反応を行なう場合は、触
媒調整時にシリカゾルのような担体成分を加えて噴霧乾
燥し、30〜100μ程度の粉末状粒子の触媒を調製し
て使用するのがよい。
この発明を実施するにあだシ、オレフィン、酸素および
アンモニア以外に、アンモ酸化反応に対して実質的に不
活性なガスを希釈ガスとして混合して使用することがで
きる。希釈ガスとしては。
アンモニア以外に、アンモ酸化反応に対して実質的に不
活性なガスを希釈ガスとして混合して使用することがで
きる。希釈ガスとしては。
例えば水蒸気、窒素ガス、炭酸ガスなどを挙げることが
でき、なかでも水蒸気は不飽和ニトリルの選択率を向上
させたり、触媒活性を持続させたシする作用があるので
、特に固定床で反応を行なう場合は、水蒸気を添加して
反応を行なうのが好ましい。水蒸気の添加量はオレフィ
ン1モルに対して0.1〜5モル、好ましくは0.5〜
4モルが適当である。なお流動床で反応を行なう場合は
2反応ことかできる。
でき、なかでも水蒸気は不飽和ニトリルの選択率を向上
させたり、触媒活性を持続させたシする作用があるので
、特に固定床で反応を行なう場合は、水蒸気を添加して
反応を行なうのが好ましい。水蒸気の添加量はオレフィ
ン1モルに対して0.1〜5モル、好ましくは0.5〜
4モルが適当である。なお流動床で反応を行なう場合は
2反応ことかできる。
この発明において2反応圧力は普通常圧であるが、低度
の加圧または減圧下でもよい。また反応温度は350〜
550℃、好ましくは420〜500℃が適当である。
の加圧または減圧下でもよい。また反応温度は350〜
550℃、好ましくは420〜500℃が適当である。
また接触時間は1.5〜20秒、好ましくは2〜10秒
が適当である。この発明の方法においては450℃程度
の反応温度。
が適当である。この発明の方法においては450℃程度
の反応温度。
4秒程度の接触時間で最も良い結果が得られる。
この発明で使用するオレフィンとしては、プロピレン、
イソブチレン、メチルスチレンなどが挙げられるが、な
かでもプロピレン、イソブチレンなどが好適である。ま
だオレフィンは必ずしも高純度である必要はなく、アン
モ酸化反応に対して実質的に不活性な炭化水素2例えば
メタン、エタン、プロパンなどが若干混入していても差
支えない。不活性な炭化水素の混入量はオレフィン1モ
ルに対して0.5モル以下、望ましくは0.1モル以下
におさえるのがよく9反応条件下で実質的に活アンモ酸
化反応に使用する酸素は純酸素ガスを使用してもよいが
、これも特に高純度である必要はないので一般には空気
を使用するのが経済的で便利である。
イソブチレン、メチルスチレンなどが挙げられるが、な
かでもプロピレン、イソブチレンなどが好適である。ま
だオレフィンは必ずしも高純度である必要はなく、アン
モ酸化反応に対して実質的に不活性な炭化水素2例えば
メタン、エタン、プロパンなどが若干混入していても差
支えない。不活性な炭化水素の混入量はオレフィン1モ
ルに対して0.5モル以下、望ましくは0.1モル以下
におさえるのがよく9反応条件下で実質的に活アンモ酸
化反応に使用する酸素は純酸素ガスを使用してもよいが
、これも特に高純度である必要はないので一般には空気
を使用するのが経済的で便利である。
この発明において、オレフィンに対して供給する酸素の
割合はオレフィン1モルに対して1〜4モル、好ましく
は1.2〜3モルが適当であり、オレフィンに対して供
給するアンモニアの割合はオレフィン1モルニ対シて0
.5〜2モル、好tt、<は0.8〜1.2モルが適当
である。また触媒層に供給スる原料ガス(オレフィン、
酸素・アンモニアおよび不活性ガスなど)中のオンフィ
ン濃度は1〜20容量係、好ましくは2〜10容量俸が
適当である。
割合はオレフィン1モルに対して1〜4モル、好ましく
は1.2〜3モルが適当であり、オレフィンに対して供
給するアンモニアの割合はオレフィン1モルニ対シて0
.5〜2モル、好tt、<は0.8〜1.2モルが適当
である。また触媒層に供給スる原料ガス(オレフィン、
酸素・アンモニアおよび不活性ガスなど)中のオンフィ
ン濃度は1〜20容量係、好ましくは2〜10容量俸が
適当である。
次に実施例および比較例を示す。
各側において、オレフィンの反応率部)、不飽和ニトリ
ルの選択率@)および不飽和ニトリルの収率@)は、そ
れぞれ次の定義に従う。
ルの選択率@)および不飽和ニトリルの収率@)は、そ
れぞれ次の定義に従う。
実施例1
パラモリブデン酸アンモニウム[(NH4)6MO70
24・4 N20 〕58.21 fを50℃の2.5
係アンモニア水600m1に溶解させ、これに三酸化ア
ンチモン(lEb203) 14.4 S’を加えて懸
濁溶液を得た。一方硝酸鉛CPb(NOa)3,181
.B y、硝酸タリウム[TtNO3]0.449 +
硝酸セシウム[C!eNO3] 0.327および硝
酸ニッケル〔N1(NO3)2・6 H2C1) 9.
597を50℃の温水250m/+に溶解した溶液と、
硝酸ビスマス[Bi(NO3)35 N20 ) 39
.97 pを15酸アンモニウムと三酸化アンチモンを
含む懸濁溶液に攪拌しながら滴下して、スラリー状の混
合溶液を得た。さらに、この溶液にろo%シリカゾル
良200グを加えた後、15%硝酸水溶液に
てスラ )リー状の溶液のpHを1.5に調
節し、攪拌しながらろ時間、60℃で熟成した。
24・4 N20 〕58.21 fを50℃の2.5
係アンモニア水600m1に溶解させ、これに三酸化ア
ンチモン(lEb203) 14.4 S’を加えて懸
濁溶液を得た。一方硝酸鉛CPb(NOa)3,181
.B y、硝酸タリウム[TtNO3]0.449 +
硝酸セシウム[C!eNO3] 0.327および硝
酸ニッケル〔N1(NO3)2・6 H2C1) 9.
597を50℃の温水250m/+に溶解した溶液と、
硝酸ビスマス[Bi(NO3)35 N20 ) 39
.97 pを15酸アンモニウムと三酸化アンチモンを
含む懸濁溶液に攪拌しながら滴下して、スラリー状の混
合溶液を得た。さらに、この溶液にろo%シリカゾル
良200グを加えた後、15%硝酸水溶液に
てスラ )リー状の溶液のpHを1.5に調
節し、攪拌しながらろ時間、60℃で熟成した。
次いでこのスラリー状の溶液をドラム乾燥機により均一
な触媒組成物になるように乾燥した。得られた粉末は、
空気雰囲気下に230℃で16時間熱処理した後、14
メツシユ以下に整粒した。
な触媒組成物になるように乾燥した。得られた粉末は、
空気雰囲気下に230℃で16時間熱処理した後、14
メツシユ以下に整粒した。
さらに、この粉末を5關φX 5 fi Hのタブレッ
トに成形し、空気雰囲気下で550℃で5時間焼成して
触媒を調製した。
トに成形し、空気雰囲気下で550℃で5時間焼成して
触媒を調製した。
この触媒の組成は+ Mo10 Bi2.5 Pb7
.5 TtO,o5S’b3C80,05Ni1(酸素
は除(、5i0230重量係含有)であった。
.5 TtO,o5S’b3C80,05Ni1(酸素
は除(、5i0230重量係含有)であった。
このようにして調製した触媒20vtlを内径16閣φ
のガラス製U字型反応管に充填し、これにプの流量で流
し2反応温度440℃、接触時間6.0秒でプロピレン
のアンモ酸化反応を性力っだ。
のガラス製U字型反応管に充填し、これにプの流量で流
し2反応温度440℃、接触時間6.0秒でプロピレン
のアンモ酸化反応を性力っだ。
2時間経過したのちのアンモ酸化反応の結果(以下同様
)は第1表の通りであった。
)は第1表の通りであった。
寸だこの触媒を10バツチ調製したところ第1表に示す
性能とほぼ同程度の触媒を再現性よく得ることができた
。
性能とほぼ同程度の触媒を再現性よく得ることができた
。
実施例2〜8
実施例1の触媒調製法に準じて、触媒組成が第1表に記
載の触媒を調製した。こうして得られた触媒を使用し、
実施例1と同様の反応条件でプロピレンのアンモ酸化反
応を行なった。
載の触媒を調製した。こうして得られた触媒を使用し、
実施例1と同様の反応条件でプロピレンのアンモ酸化反
応を行なった。
アンモ酸化反応の結果は第1表に示す。
第 1 表
※(担体510260重量係含有)
比較例1
三酸化アンチモン、硝酸タリウム、硝酸セシウムおよび
硝酸第二鉄を使用しなかったほかは、実施例1と同様に
して、触媒組成(酸素は除く。
硝酸第二鉄を使用しなかったほかは、実施例1と同様に
して、触媒組成(酸素は除く。
5i0230重量多含有)が2M○1o Bi2.5
Pb7.5の触媒を調製し、実施例1と同様の反応
条件でプロピレンのアンモ酸化反応を行なった。
Pb7.5の触媒を調製し、実施例1と同様の反応
条件でプロピレンのアンモ酸化反応を行なった。
その結果、プロピレンの反応率は98.5%、アクリロ
ニトリルの選択率は77.5%で、アクリロニトリルの
収率は76.3%であった。
ニトリルの選択率は77.5%で、アクリロニトリルの
収率は76.3%であった。
実施例9〜18
実施例1の触媒調製法に準じて、触媒組成が第2表に記
載の触媒を調製した。なおリン、ヒ素おとれらは二酸化
アンチモンと同様にパラモリブデン酸アンモニウムの溶
液に加えた。ナトリウム。
載の触媒を調製した。なおリン、ヒ素おとれらは二酸化
アンチモンと同様にパラモリブデン酸アンモニウムの溶
液に加えた。ナトリウム。
カリウム、ルビジウムおよびコバルトの各出発原料につ
いては、それぞれ硝酸塩を使用し、これらは硝酸ビスマ
スを硝酸水溶液に溶解させた硝酸酸このようにして得ら
れた触媒を使用し2反応温度を第2表に記載の温度にか
えたほかは実施例1と同様の反応条件でプロピレンのア
ンモ酸化反応を行なった。゛ アンモ酸化反応の結果は第2表に示す。
いては、それぞれ硝酸塩を使用し、これらは硝酸ビスマ
スを硝酸水溶液に溶解させた硝酸酸このようにして得ら
れた触媒を使用し2反応温度を第2表に記載の温度にか
えたほかは実施例1と同様の反応条件でプロピレンのア
ンモ酸化反応を行なった。゛ アンモ酸化反応の結果は第2表に示す。
第 2 表
実施例19
実施例1と同様の触媒を使用し、実施例1のプロピレン
をインブチレンに2反応温度を420℃にかえたほかは
実施例1と同様の反応条件でイソブチレンのアンモ酸化
反応を行なった。
をインブチレンに2反応温度を420℃にかえたほかは
実施例1と同様の反応条件でイソブチレンのアンモ酸化
反応を行なった。
その結果、イソブチレンの反応率は97.9%。
メタクリロニトリルの選択率は82.5 %で、メタク
リロニトリルの収率は80.8 %であった。
リロニトリルの収率は80.8 %であった。
比較例2
比較例1と同様の触媒を使用し、実施例19と同様の反
応条件手インブチレンのアンモ酸化反応を行なった。そ
の結果、インブチレンの反応率は99.2%、メタクリ
ロニトリルの選択率は77.0チで、メタクリロニトリ
ルの収率は76.4%であった0 実施例20 実施例1のスラリー状の混合溶液に、実施例1のシリカ
ゾルの量2001i’にかえて、シリカゾル380グを
加えた後、15q6硝酸水溶液でスラリー状の溶液のp
Hを1.5に調整し、2時間攪拌しながら30℃で熟成
させた。
応条件手インブチレンのアンモ酸化反応を行なった。そ
の結果、インブチレンの反応率は99.2%、メタクリ
ロニトリルの選択率は77.0チで、メタクリロニトリ
ルの収率は76.4%であった0 実施例20 実施例1のスラリー状の混合溶液に、実施例1のシリカ
ゾルの量2001i’にかえて、シリカゾル380グを
加えた後、15q6硝酸水溶液でスラリー状の溶液のp
Hを1.5に調整し、2時間攪拌しながら30℃で熟成
させた。
次いでこのスラリー状の溶液をホモジナイザーにより均
一化して回転円盤型噴霧乾燥装置を用い。
一化して回転円盤型噴霧乾燥装置を用い。
常法によシ噴霧乾燥して微小粒子にした後、260℃で
16時間乾燥し2次いで焼成炉で空気雰囲気下、100
℃/hrの昇温速度で加熱し、540℃で10時間焼成
して平均粒径60μの表面に細孔を有する触媒を得た。
16時間乾燥し2次いで焼成炉で空気雰囲気下、100
℃/hrの昇温速度で加熱し、540℃で10時間焼成
して平均粒径60μの表面に細孔を有する触媒を得た。
なお、この触媒は触媒組成は、実施例1のそれと同じで
あるが担体としてシリカを45重量係含んでいる。
あるが担体としてシリカを45重量係含んでいる。
次いでこのようにして得られた触媒150m#を内径6
6閣φの流動床反応器に投入し、プロピレン:アンモニ
ア:空気 水蒸気≦1:1.14:12.06 : 1
(モル比)の混合ガスを1922.3gJ/minの
流量で流し、接触時間4.68秒2反応温度470℃で
プロピレンのアンモ酸化反応を行なった。その結果、プ
ロピレンの反応率は99.1係、アクリロニトリルの選
択率は87.2%で、アクリロニトリルの収率は86.
4 %であった。
6閣φの流動床反応器に投入し、プロピレン:アンモニ
ア:空気 水蒸気≦1:1.14:12.06 : 1
(モル比)の混合ガスを1922.3gJ/minの
流量で流し、接触時間4.68秒2反応温度470℃で
プロピレンのアンモ酸化反応を行なった。その結果、プ
ロピレンの反応率は99.1係、アクリロニトリルの選
択率は87.2%で、アクリロニトリルの収率は86.
4 %であった。
比較例3〜13
実施例1の調製法に準じて、触媒組成が第3表に記載の
触媒(担体5i0230重量%含有)を調製した。これ
らの触媒を使用して実施例1と同様の反応条件でプロピ
レンのアンモ酸化反応を行々った。
触媒(担体5i0230重量%含有)を調製した。これ
らの触媒を使用して実施例1と同様の反応条件でプロピ
レンのアンモ酸化反応を行々った。
アンモ酸化反応の結果は第3表に示す。
第 3 表
特許出願人 宇部興産株式会社
(23)
手続補正書
昭和57年 q月〃日
特許庁長官 殿
1、 事件の表示
特願昭56−209950号
2 発明の名称
不飽和ニトリルの製造方法
ろ 補正をする者
事件との関係 特許出願人
郵便番号 755
山口県宇部市西本町1丁目12番32号電話 03(5
81)3311
:f4、補正命令の日付 補正命令はない(自発補正)。
81)3311
:f4、補正命令の日付 補正命令はない(自発補正)。
5、補正の対象
明細書の発明の詳細な説明の欄
6、補正の内容
(1)第20ページ、第2表の最右欄の[アクリロニト
リルの選択率@)」の記載を「アクリロニトリルの収率
@)」に補正する。
リルの選択率@)」の記載を「アクリロニトリルの収率
@)」に補正する。
以 上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 オレフィンを触媒の存在下に高温気相でアンモ酸化して
相当する不飽和ニトリルを製造する方法において、触媒
として次の一般組成式。 MOaBibPboTtdX8AfBgOh〔この式で
、 Moはモリブデン、B1はビスマス、Pbは鉛、
Ttはタリウム、又はリン、ヒ素およびアンチモンより
なる群から選択される1種以上の元素。 Aはアルカリ金属、Bはニッケル、コバルトおよびタン
グステンより々る群から選択される1種以上の元素、お
よびOは酸素を示し、添字のa −hは原子数を示し+
a”” 10とすると、b=o、’1〜10、
c= 0.1〜10. d=0.01〜1 、 e
=0〜10.f=o〜1.g=Q〜10で、hは酸素以
外の前記元素の原子価からおのずと定まる値で。 通常61.5〜112の値をとる。〕 で表わされる組成物を使用することを特徴とする不飽和
ニトリルの製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56209950A JPS58113163A (ja) | 1981-12-28 | 1981-12-28 | 不飽和ニトリルの製造方法 |
EP82306791A EP0083189A3 (en) | 1981-12-28 | 1982-12-20 | Process for preparation of acrylonitrile or methacrylonitrile |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56209950A JPS58113163A (ja) | 1981-12-28 | 1981-12-28 | 不飽和ニトリルの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58113163A true JPS58113163A (ja) | 1983-07-05 |
JPS6113701B2 JPS6113701B2 (ja) | 1986-04-15 |
Family
ID=16581346
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56209950A Granted JPS58113163A (ja) | 1981-12-28 | 1981-12-28 | 不飽和ニトリルの製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0083189A3 (ja) |
JP (1) | JPS58113163A (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61204038A (ja) * | 1985-03-07 | 1986-09-10 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 触媒組成物 |
US4769357A (en) * | 1986-02-27 | 1988-09-06 | Mitsubishi Petrochemical Company Limited | Process for producing composite oxide catalyst |
CN1009340B (zh) * | 1986-03-24 | 1990-08-29 | 三菱油化株式会社 | 含钼-铋的复合氧化物催化剂的制法 |
JPS62234548A (ja) * | 1986-03-24 | 1987-10-14 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | 複合酸化物触媒の製造法 |
JPH02256732A (ja) * | 1989-03-29 | 1990-10-17 | Natl House Ind Co Ltd | 片持梁の連結構造 |
JP5011176B2 (ja) | 2008-03-14 | 2012-08-29 | ダイヤニトリックス株式会社 | アクリロニトリル合成用触媒およびアクリロニトリルの製造方法 |
CN109225279B (zh) * | 2018-10-24 | 2021-02-26 | 华北水利水电大学 | 硅藻土负载镧掺杂纳米氯氧化铋复合材料、制备方法及应用 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4087382A (en) * | 1976-11-24 | 1978-05-02 | Halcon International, Inc. | Catalyst |
GB2033775B (en) * | 1978-10-13 | 1983-02-09 | Asahi Chemical Ind | Catalysts and process for the production of methacrolein catalysts |
EP0032618B1 (en) * | 1979-12-17 | 1983-06-15 | Monsanto Company | Oxidation and ammoxidation catalysts and their uses |
US4341659A (en) * | 1980-07-22 | 1982-07-27 | Mitsubishi Chemical Industries, Limited | Catalytic composition |
-
1981
- 1981-12-28 JP JP56209950A patent/JPS58113163A/ja active Granted
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1982
- 1982-12-20 EP EP82306791A patent/EP0083189A3/en not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0083189A2 (en) | 1983-07-06 |
JPS6113701B2 (ja) | 1986-04-15 |
EP0083189A3 (en) | 1984-05-02 |
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