JPH1179831A - 薄壁コージェライト質ハニカム構造体の製造方法 - Google Patents
薄壁コージェライト質ハニカム構造体の製造方法Info
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Abstract
出成形時における成形性(特に、流動性および保形
性)、機械的強度(静水圧破壊強度)、及び触媒担持特
性の向上に寄与できるコージェライト質ハニカム構造体
の製造方法の提供。 【解決手段】 コージェライト化原料に成形助剤を添加
混練して原料バッチとした後、この原料バッチを押出成
形により成形、乾燥し、次いで焼成することにより、結
晶相の主成分がコージェライトであるハニカム構造体を
製造する方法である。コージェライト化原料バッチ中
に、タルク、カオリンおよび水酸化アルミニウムよりな
る結晶水を有する偏平かつ板状のコージェライト化生原
料を65重量%以上含有し、且つコージェライト化生原
料のBET比表面積がそれぞれ、タルクが7〜18m2
/g、カオリンが14〜22m2/g、水酸化アルミニ
ウムが6〜18m2/gである。
Description
ージェライト質ハニカム構造体を押出成形して製造する
方法に関する。
自動車及び産業用の排ガス浄化触媒担体、フィルター、
熱交換体等として利用されている。近年、特に自動車用
排ガス装置に用いるハニカム触媒担体では、触媒担体の
容積の縮小即ち触媒性能の向上、ライトオフ性能の向
上、燃費性能改良およびエンジンの出力向上のための低
圧力損失化、ケーシングへのキヤンニングのコストダウ
ンのための強度向上、更に触媒活性を高めるためにエン
ジン近傍に設置する必要性があるため、耐熱衝撃性の向
上と強度の向上が強く望まれていた。
ム構造体のリブの薄壁化、高セル密度化及び低圧力損失
化のためのセル密度を維持したままでのハニカム構造体
のリブの薄壁化が、従来より検討されてきたが、多孔性
のコージェライト質ハニカム構造体の薄壁化による強度
の低下と、押出成形時の口金スリット幅の減少により使
用原料(特に、マグネシア源原料)を微粒化する必要が
あるため、大幅な熱膨張率の上昇を伴う問題があった。
密化は難しく、特に室温から800℃までの熱膨張係数
が2.0×10-6/℃以下を示すような低膨張性を示す
コージェライト素地では、カルシア、アルカリ、ソーダ
のような融剤となるべき不純物量を極めて少量に限定す
る必要があるため、ガラス相が非常に少なくなり、多孔
質体となる。
て近年使用されているコージェライト質ハニカム構造体
は、室温から800℃までの熱膨張係数が1.5×10
-6/℃以下であることを必要とするため、不純物の少な
い厳選されたタルク、カオリン、アルミナ等の原料を使
用しても、気孔率はせいぜい20〜45%の範囲のもの
に過ぎず、特に気孔率30%以下のハニカム構造体で
は、不純物量の増加、原料の微粒化が必要であり、室温
から800℃までの熱膨張係数が1.0×10-6/℃以
下のものは得られなかった。
質ハニカム構造体においては、乾燥及び焼成工程での収
縮が大きいため、亀裂が発生しやすく、歩留り良く大き
な寸法のハニカム構造体を製造することは困難であっ
た。
0053号公報では、コージェライト質セラミックスの
気孔率を30%以下に緻密化し、セラミック自体を高強
度にする方法が開示されている。これは、押出成形時に
生じるハニカムセルの変形によって、ハニカム構造体の
外壁及び外周方向からの圧縮荷重であるアイソスタティ
ック強度の低下を防止するために、コージェライトセラ
ミックスの気孔率を30%以下にすることにより、セラ
ミック自体を緻密化し、高強度化したものである。
ェライトセラミックスの気孔率が30%以下であるた
め、コージェライト質ハニカム構造体の触媒担持特性の
向上が望めないとともに、コージェライト質ハニカム構
造体の薄壁化及び高セル密度化についても十分であると
はいえなかった。
記した従来の課題に鑑みてなされたものであり、その目
的とするところは、コージェライト質ハニカム構造体の
薄壁化及び高セル密度化することができるとともに、押
出成形時における成形性(特に、流動性および保形
性)、機械的強度(静水圧破壊強度)、及び触媒担持特
性の向上に寄与することができるコージェライト質ハニ
カム構造体の製造方法を提供するものである。
れば、コージェライト化原料に成形助剤を添加混練して
原料バッチとした後、この原料バッチを押出成形により
成形、乾燥し、次いで焼成することにより、結晶相の主
成分がコージェライトであるハニカム構造体を製造する
方法において、コージェライト化原料バッチ中に、タル
ク、カオリン、水酸化アルミニウムよりなる結晶水を有
する偏平かつ板状のコージェライト化生原料を65重量
%以上含有し、且つ該コージェライト化生原料のBET
比表面積がそれぞれ、タルクが7〜18m2/g、カオ
リンが14〜22m2/g、水酸化アルミニウムが6〜
18m2/gであることを特徴とする薄壁コージェライ
ト質ハニカム構造体の製造方法が提供される。
造体の平均壁厚が110μm以下であり、また、本発明
で得られるコージェライト質ハニカム構造体の流路方向
の40〜800℃間における熱膨張係数が0.8×10
-6/℃以下であるとともに、気孔率が24〜38%、ア
イソスタティック強度が10kg/cm2以上であるこ
とが好ましい。
比表面積は、タルクが10〜18m2/g、カオリンが
16〜20m2/g、水酸化アルミニウムが10〜18
m2/gであることがさらに好ましい。
カム構造体の製造方法は、押出成形用のコージェライト
化原料バッチ中に、タルク、カオリン、水酸化アルミニ
ウムよりなる結晶水を有する偏平かつ板状のコージェラ
イト化生原料を65重量%以上含有することにその特徴
を有する。これにより、押出成形時における押出圧力が
低くても良好な押出坏土の流動性及び押出成形後の保形
性を向上することができる。
質ハニカム構造体の製造方法では、コージェライト化生
原料としてタルク、カオリン、水酸化アルミニウムの3
種の生原料を同時に使用するとともに、粒子表面の相互
作用、特に偏平表面の表面エネルギーを強化するため
に、コージェライト化生原料の形状が偏平かつ板状であ
ることが重要である。また、コージェライト化原料バッ
チ中のコージェライト化生原料の含有量が65重量%以
上、特に70重量%以上であることが、押出成形時の押
出圧力の上昇を防止し、押出成形後の保形性を向上させ
るために好ましい。更に、仮焼タルク、仮焼カオリン、
アルミナの増量は、坏土の流動性を著しく劣化させる原
因となるため、必要最小限にすることが好ましい。
は、セル変形の無い薄壁ハニカム構造体を押出成形する
には好適であるが、コージェライト質セラミックハニカ
ム構造体の焼成クラックの発生の原因となる。
ニカム構造体の製造方法では、コージェライト化生原料
のBET比表面積がそれぞれ、タルクが7〜18m2/
g、より好ましくは10〜18m2/g、カオリンが1
4〜22m2/g、より好ましくは16〜22m2/g、
水酸化アルミニウムが6〜18m2/g、より好ましく
は10〜18m2/gになるように規定している。これ
は、コージェライト化生原料のBET比表面積がそれぞ
れ、タルクが7m2/g未満、カオリンが14m2/g未
満、水酸化アルミニウムが6m2/g未満では、押出成
形時の流動性が悪く、原料粒子間の相互作用が小さいた
め、押出成形後の保形性が悪く、セル変形を生じて十分
なアイソスタティック強度(10kg/cm2以上)を
得ることができないからである。一般に、微粒であって
もBET比表面積の小さい原料粒子のアスペクト比は小
さく、偏平度に劣るため、流動性が悪く、且つハニカム
ネットワーク形成能力に劣る。一方、コージェライト化
生原料のBET比表面積がそれぞれ、タルクが18m2
/g、カオリンが22m2/g、水酸化アルミニウムが
18m2/gを超過する場合は、焼成収縮が大きくなる
ため、焼成過程でのクラック防止が困難となる。
して用いたタルクは、結晶子(単結晶)の小さいマイク
ロタルクであることが好ましい。また、カオリンは、ラ
ミネート層が人工的又は天然条件下で剥離、薄層化した
デラミネーションカオリンが好ましいが、押出成形時に
板状となるハロイサイト等の管状のカオリンであっても
よい。更に、水酸化アルミニウムは、バイヤー法にて、
結晶析出後、薄層化のため、粉砕処理された高BET比
表面積であるものが好ましい。
r,Emett及びTellerの気体吸着理論(BET等温式)よ
り求めた固体の単位質量当りの表面積をいい、多分子層
の面積を計算して表面積を決定する方法である。
イト質ハニカム構造体の40〜800℃間の熱膨張係数
が、流路方向において0.8×10-6/℃以下であるこ
とが好ましい。これは、熱膨張係数[CTE](ハニカ
ム焼成体の流路方向)が0.8×10-6/℃を超える
と、直径100mm程度の円筒形状のハニカム構造体で
耐熱衝撃性[Esp]が700℃を下回り、自動車用排
ガス触媒担体の使用に耐えられないからである。
ム構造体の製造方法を詳細に説明する。コージェライト
質ハニカム構造体のコージェライト化原料バッチは、主
成分の化学組成が、SiO2:42〜56重量%、Al2
O3:30〜45重量%、MgO:12〜16重量%に
なるように、タルク、カオリン、水酸化アルミニウムよ
りなるコージェライト化生原料を65重量%以上、残部
を仮焼カオリン、アルミナ、シリカ、仮焼タルク等で調
合したものである。このコージェライト化原料バッチ
に、水、メチルセルロース等の有機結合剤及び可塑剤を
加え、混合・混練後、押出成形を用いてハニカム成形体
を成形する。次に、ハニカム成形体を乾燥させ、135
0〜1440℃の温度で焼成することにより、コージェ
ライト質ハニカム構造体を得ることができる。
ンの結晶水脱水温度領域での昇温速度は、コージェライ
ト質ハニカム構造体のクラック発生を防止するために、
50℃/Hr以下に抑制することが好ましく、焼成前に
脱バインダー処理を行っても有効である。
質ハニカム構造体の製造方法は、押出成形時の流動性に
優れ、且つ押出成形後の自重変形に対する保形性も兼ね
備えた高BET比表面積のコージェライト化生原料を見
出したことに起因してなされたものであり、壁厚40〜
110μmの薄壁ハニカム構造体を製造するにあたり、
成形後のセル変形及び焼成後の熱膨張係数が極めて小さ
く、気孔率が24〜38%におけるアイソスタティック
強度を10kg/cm2以上にすることができるととも
に、気孔率が30%以上の場合、触媒担持特性も向上さ
せることができる。
に説明するが、本発明はこれらの実施例に限られるもの
ではない。尚、各例によって得られたコージェライト化
原料、ハニカム成形体及びハニカム焼成体は、以下に示
す方法により性能を評価した。
社製セディグラフ(X線沈降法)で測定した。
リティック社製フローソーブII2300で測定した
(He[30%]/N2[70%]ガスを吸着ガスとし
て使用した)。
測定した。
容積から気孔率を換算した(このとき、コージェライト
真比重を2.52とした)。
ハニカム構造体(ハニカム焼成体)を投入し、30分保
持後、再度室温に取り出した時、破壊があるかどうかを
打音判定により測定した(600℃から50℃ステップ
アップ、安全温度[℃]を表示)。
レキシブルチューブ内にハニカム構造体(ハニカム焼成
体)を挿入し、水圧による均等圧を掛け、部分破壊を生
じた圧力(kg/cm2)を測定した(10個の試料の
平均値)。アイソスタティック強度は、金属ケーシング
へのハニカム触媒の把持、実走行時の振動などの耐久性
の評価尺度となるものである。
ェライト化原料として表1に示す粒度、BET比表面
積、化学分析値の原料を用いて、表2〜3に示す調合割
合に従ってそれぞれ調合し、原料100重量%に対して
メチルセルロース4重量%と添加水を加え、混練し、押
出成形可能な坏土とした。また、ここでの使用原料は、
全て44μm篩を通過したものを用いた。なお、図1は
タルクAの粒子構造を示すSEM写真、図2はタルクB
の粒子構造を示すSEM写真、図3はカオリンAの粒子
構造を示すSEM写真、図4はカオリンBの粒子構造を
示すSEM写真、図5は水酸化アルミニウムAの粒子構
造を示すSEM写真、図6は水酸化アルミニウムBの粒
子構造を示すSEM写真である。
バッチである坏土を公知の押出成形法にて、壁厚:76
μm、セル数:62個/cm2の四角セル形状を有する
直径:103mm、高さ:120mmの円筒形ハニカム
構造体(ハニカム成形体)を成形後、乾燥させ、表4〜
5に示す焼成条件でそれぞれ焼成した(実施例1〜1
7、比較例1〜7)。得られたハニカム焼成体(ハニカ
ム構造体)の40〜800℃における熱膨張係数(ハニ
カム構造体の流路方向)、気孔率、耐熱衝撃性及びアイ
ソスタティック強度の測定結果を表4〜5に示す。な
お、図7は実施例12のハニカム構造体の端面構造であ
るセラミック材料の組織を示す写真で、図8は比較例1
のハニカム構造体の端面構造であるセラミック材料の組
織を示す写真である。
〜7の結果から明らかなように、原料バッチ中のタル
ク、カオリン、および水酸化アルミニウムよりなるコー
ジェライト化生原料の含有割合が65重量%以上で、タ
ルク、カオリン、水酸化アルミニウムそれぞれのBET
比表面積が本発明の特定範囲内の場合には、その範囲外
の場合に比して、熱膨張係数、気孔率が所定のものとな
り、しかも耐熱衝撃性及びアイソスタティック強度に優
れることがわかる。
例12及び比較例1で用いたコージェライト化原料バッ
チの坏土を公知の押出成形法にて、表6に示すセル構造
を有する直径:103mm、高さ:120mmの円筒形
ハニカム構造体(ハニカム成形体)を成形後、乾燥さ
せ、表6に示す焼成条件で焼成した(実施例18〜2
1、比較例8〜9)。次に、得られたハニカム焼成体
(ハニカム構造体)のアイソスタティック強度の測定結
果を表6に示す。表6の結果から、同じ壁厚、セル密度
のハニカム構造体を作製しても、本発明のように、原料
バッチ中のタルク、カオリン、および水酸化アルミニウ
ムよりなるコージェライト化生原料の含有割合が65重
量%以上の場合と、65重量%未満の場合とでは、アイ
ソスタティック強度が極端に相違し、本発明の範囲外
(65重量%未満)では、アイソスタティック強度が実
使用で問題となる10kg/cm2未満となることがわ
かる。
ェライト質ハニカム構造体の製造方法によれば、コージ
ェライト質ハニカム構造体をより薄壁化及び高セル密度
化することができるとともに、押出成形時における成形
性(特に、流動性および保形性)、機械的強度(静水圧
破壊強度)及び触媒担持特性を向上することができる。
る。
る。
る。
る。
M写真である。
M写真である。
るセラミック材料の組織を示す写真である。
セラミック材料の組織を示す写真である。
Claims (6)
- 【請求項1】 コージェライト化原料に成形助剤を添加
混練して原料バッチとした後、この原料バッチを押出成
形により成形、乾燥し、次いで焼成することにより、結
晶相の主成分がコージェライトであるハニカム構造体を
製造する方法において、コージェライト化原料バッチ中
に、タルク、カオリンおよび水酸化アルミニウムよりな
る結晶水を有する偏平かつ板状のコージェライト化生原
料を65重量%以上含有し、且つ該コージェライト化生
原料のBET比表面積がそれぞれ、タルクが7〜18m
2/g、カオリンが14〜22m2/g、水酸化アルミニ
ウムが6〜18m2/gであることを特徴とする薄壁コ
ージェライト質ハニカム構造体の製造方法。 - 【請求項2】 ハニカム構造体の平均壁厚が、110μ
m以下である請求項1記載の薄壁コージェライト質ハニ
カム構造体の製造方法。 - 【請求項3】 ハニカム構造体の流路方向の40〜80
0℃間における熱膨張係数が0.8×10-6/℃以下で
あるとともに、気孔率が24〜38%、アイソスタティ
ック強度が10kg/cm2以上である請求項1記載の
薄壁コージェライト質ハニカム構造体の製造方法。 - 【請求項4】 該コージェライト化生原料のBET比表
面積がそれぞれ、タルクが10〜18m2/g、カオリ
ンが16〜20m2/g、水酸化アルミニウムが10〜
18m2/gである請求項1記載の薄壁コージェライト
質ハニカム構造体の製造方法。 - 【請求項5】 コージェライト化原料バッチ中に、タル
ク、カオリンおよび水酸化アルミニウムよりなる結晶水
を有する偏平かつ板状のコージェライト化生原料を70
重量%以上含有する請求項1記載の薄壁コージェライト
質ハニカム構造体の製造方法。 - 【請求項6】 ハニカム構造体の気孔率が30〜38%
である請求項3記載の薄壁コージェライト質ハニカム構
造体の製造方法。
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