JPH1138341A - マルチビーム走査装置およびマルチビーム走査装置の走査結像光学系 - Google Patents
マルチビーム走査装置およびマルチビーム走査装置の走査結像光学系Info
- Publication number
- JPH1138341A JPH1138341A JP19541697A JP19541697A JPH1138341A JP H1138341 A JPH1138341 A JP H1138341A JP 19541697 A JP19541697 A JP 19541697A JP 19541697 A JP19541697 A JP 19541697A JP H1138341 A JPH1138341 A JP H1138341A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- scanning
- optical system
- image forming
- sub
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Laser Beam Printer (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】マルチビーム走査装置固有の走査線曲がりを有
効に補正・軽減させる。 【解決手段】少なくとも副走査対応方向において、光軸
の片側に偏倚した複数の発光部１０１，１０２を持つ光
源１０側からの複数ビームを光偏向器３０により偏向さ
せ、走査結像光学系４１，４２，４３により被走査面５
０上に副走査対応方向に分離した複数の光スポットとし
て集光させ、複数ラインを同時に光走査するマルチビー
ム走査装置の走査結像光学系であって、マルチビーム走
査装置固有の走査線曲がりを補正する補正屈折面を有
し、該補正屈折面に入射する複数ビームのうちの少なく
とも１ビームの入射位置における、該補正屈折面の、副
走査断面内の傾きが該ビームの上記走査線曲がりを補正
するように、上記入射位置に応じて定められている。
効に補正・軽減させる。 【解決手段】少なくとも副走査対応方向において、光軸
の片側に偏倚した複数の発光部１０１，１０２を持つ光
源１０側からの複数ビームを光偏向器３０により偏向さ
せ、走査結像光学系４１，４２，４３により被走査面５
０上に副走査対応方向に分離した複数の光スポットとし
て集光させ、複数ラインを同時に光走査するマルチビー
ム走査装置の走査結像光学系であって、マルチビーム走
査装置固有の走査線曲がりを補正する補正屈折面を有
し、該補正屈折面に入射する複数ビームのうちの少なく
とも１ビームの入射位置における、該補正屈折面の、副
走査断面内の傾きが該ビームの上記走査線曲がりを補正
するように、上記入射位置に応じて定められている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明はマルチビーム走査
装置およびマルチビーム走査装置の走査結像光学系に関
する。
装置およびマルチビーム走査装置の走査結像光学系に関
する。
【０００２】
【従来の技術】デジタルの複写機や光プリンタ等の画像
形成装置に関連して知られた光走査装置において、複数
のビーム（この明細書において光ビームを意味する）に
より被走査面を複数ライン同時に光走査する「マルチビ
ーム走査装置」が提案され、実用化が意図されている。
マルチビーム走査装置における重要な問題の１に「走査
線曲がり」の問題がある。光走査装置では一般に、光源
側からのビームを光偏向器により偏向させ、走査結像光
学系により被走査面上に光スポットとして集光させて被
走査面の光走査を行う。偏向されるビームが単一ビーム
の場合は、これを走査結像光学系の光軸を含む平面内で
偏向させるので、走査線曲がりは原理的に発生しない。
しかし、マルチビーム走査装置の場合には、複数ビーム
の一部は不可避的に走査結像光学系の光軸を外れた部分
で偏向されることになり、このようなビームは走査線曲
がりを発生させてしまう。
形成装置に関連して知られた光走査装置において、複数
のビーム（この明細書において光ビームを意味する）に
より被走査面を複数ライン同時に光走査する「マルチビ
ーム走査装置」が提案され、実用化が意図されている。
マルチビーム走査装置における重要な問題の１に「走査
線曲がり」の問題がある。光走査装置では一般に、光源
側からのビームを光偏向器により偏向させ、走査結像光
学系により被走査面上に光スポットとして集光させて被
走査面の光走査を行う。偏向されるビームが単一ビーム
の場合は、これを走査結像光学系の光軸を含む平面内で
偏向させるので、走査線曲がりは原理的に発生しない。
しかし、マルチビーム走査装置の場合には、複数ビーム
の一部は不可避的に走査結像光学系の光軸を外れた部分
で偏向されることになり、このようなビームは走査線曲
がりを発生させてしまう。
【０００３】このように、ビームが「走査結像光学系の
光軸を外れた部分」で偏向されることに起因して発生す
る走査線曲がりは、マルチビーム走査装置の光学配置に
固有の特性として発生するものであるので、これをこの
明細書中に於いては「マルチビーム走査装置固有の走査
線曲がり」と呼ぶ。
光軸を外れた部分」で偏向されることに起因して発生す
る走査線曲がりは、マルチビーム走査装置の光学配置に
固有の特性として発生するものであるので、これをこの
明細書中に於いては「マルチビーム走査装置固有の走査
線曲がり」と呼ぶ。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】この発明は、マルチビ
ーム走査装置固有の走査線曲がりを有効に補正・軽減さ
せることを課題とする。
ーム走査装置固有の走査線曲がりを有効に補正・軽減さ
せることを課題とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この発明の走査結像光学
系は「少なくとも副走査対応方向において、光軸の片側
に偏倚した複数の発光部を持つ光源側からの複数ビーム
を光偏向器により偏向させ、走査結像光学系により被走
査面上に副走査対応方向に分離した複数の光スポットと
して集光させ、複数ラインを同時に光走査するマルチビ
ーム走査装置の走査結像光学系」であって、以下の特徴
を有する（請求項１）。即ち、走査結像光学系は「マル
チビーム走査装置固有の走査線曲がりを補正する補正屈
折面」を有する。この補正屈折面は「補正屈折面に入射
する複数ビームのうちの少なくとも１ビームの入射位置
における、副走査断面内の傾きが、該ビームの上記走査
線曲がり（マルチビーム走査装置固有の走査線曲がり）
を補正するように、上記入射位置に応じて定められてい
る」のである。「副走査対応方向」は、光源から被走査
面に至る光路上で副走査方向に対応する方向であり、上
記光路上で主走査方向に対応する方向を「主走査対応方
向」と呼ぶ。「光偏向器」としては、回転多面鏡を初
め、回転単面鏡や回転２面鏡を用いることができる。
系は「少なくとも副走査対応方向において、光軸の片側
に偏倚した複数の発光部を持つ光源側からの複数ビーム
を光偏向器により偏向させ、走査結像光学系により被走
査面上に副走査対応方向に分離した複数の光スポットと
して集光させ、複数ラインを同時に光走査するマルチビ
ーム走査装置の走査結像光学系」であって、以下の特徴
を有する（請求項１）。即ち、走査結像光学系は「マル
チビーム走査装置固有の走査線曲がりを補正する補正屈
折面」を有する。この補正屈折面は「補正屈折面に入射
する複数ビームのうちの少なくとも１ビームの入射位置
における、副走査断面内の傾きが、該ビームの上記走査
線曲がり（マルチビーム走査装置固有の走査線曲がり）
を補正するように、上記入射位置に応じて定められてい
る」のである。「副走査対応方向」は、光源から被走査
面に至る光路上で副走査方向に対応する方向であり、上
記光路上で主走査方向に対応する方向を「主走査対応方
向」と呼ぶ。「光偏向器」としては、回転多面鏡を初
め、回転単面鏡や回転２面鏡を用いることができる。
【０００６】「走査結像光学系が、光源側からの複数ビ
ームを被走査面上に複数の光スポットとして集光する」
とは、走査結像光学系の機能が、光偏向器への直前の複
数の入射ビームおよび複数の偏向ビームに対して作用す
る場合、および複数の偏向ビームにのみ作用する場合を
含む。特開平６−７５１６２号公報には、偏向反射面に
一体化され、偏向反射面への入射面と、反射ビームが射
出する射出面とを屈折面とした「回転レンズ鏡」が開示
されている。この回転レンズ鏡は、その機能が「光偏向
器への直前の入射ビームおよび偏向ビームに対して作用
する」ものである。この発明における「走査結像光学
系」は、このような回転レンズ鏡を含んで構成すること
もでき、そのような場合、上記「入射面および／または
射出面」を「補正屈折面」とすることもできる。
ームを被走査面上に複数の光スポットとして集光する」
とは、走査結像光学系の機能が、光偏向器への直前の複
数の入射ビームおよび複数の偏向ビームに対して作用す
る場合、および複数の偏向ビームにのみ作用する場合を
含む。特開平６−７５１６２号公報には、偏向反射面に
一体化され、偏向反射面への入射面と、反射ビームが射
出する射出面とを屈折面とした「回転レンズ鏡」が開示
されている。この回転レンズ鏡は、その機能が「光偏向
器への直前の入射ビームおよび偏向ビームに対して作用
する」ものである。この発明における「走査結像光学
系」は、このような回転レンズ鏡を含んで構成すること
もでき、そのような場合、上記「入射面および／または
射出面」を「補正屈折面」とすることもできる。
【０００７】補正屈折面は、走査結像光学系に含まれる
レンズの１つの面として形成しても良いし、２以上の面
として形成し、２以上の面のそれぞれによる補正効果を
合わせて所望の走査線曲がり補正を実現するようにして
も良い。
レンズの１つの面として形成しても良いし、２以上の面
として形成し、２以上の面のそれぞれによる補正効果を
合わせて所望の走査線曲がり補正を実現するようにして
も良い。
【０００８】「副走査断面」は、光偏向器よりも被走査
面側に位置する屈折面に関しては、「当該屈折面に近い
位置で主走査対応方向に直交する平断面」を意味する。
また、走査結像光学系が回転レンズ鏡を含む場合、回転
レンズ鏡の入射面に関しては「光源側からの入射ビーム
の主光線と副走査対応方向とに平行な平断面」を副走査
断面とし、射出側面に関しては「射出光束における主光
線と副走査対応方向とに平行な平断面」を副走査断面と
する。
面側に位置する屈折面に関しては、「当該屈折面に近い
位置で主走査対応方向に直交する平断面」を意味する。
また、走査結像光学系が回転レンズ鏡を含む場合、回転
レンズ鏡の入射面に関しては「光源側からの入射ビーム
の主光線と副走査対応方向とに平行な平断面」を副走査
断面とし、射出側面に関しては「射出光束における主光
線と副走査対応方向とに平行な平断面」を副走査断面と
する。
【０００９】「マルチビーム走査装置固有の走査線曲が
り」は前述の如く、ビームの偏向が走査結像光学系の光
軸を外れた部分で行われることに起因して発生する走査
線曲がりであり、別言すれば、走査結像光学系に「補正
屈折面による走査線曲がり補正機能」を持たせずにマル
チビーム走査装置を設計した場合に設計上で生じる走査
線曲がりを言う。即ち、マルチビーム走査装置固有の走
査線曲がりは、マルチビーム走査装置の設計により決定
されるものであり、それゆえに、このような走査線曲が
りを補正するような補正屈折面を設計的に決定できるの
である。
り」は前述の如く、ビームの偏向が走査結像光学系の光
軸を外れた部分で行われることに起因して発生する走査
線曲がりであり、別言すれば、走査結像光学系に「補正
屈折面による走査線曲がり補正機能」を持たせずにマル
チビーム走査装置を設計した場合に設計上で生じる走査
線曲がりを言う。即ち、マルチビーム走査装置固有の走
査線曲がりは、マルチビーム走査装置の設計により決定
されるものであり、それゆえに、このような走査線曲が
りを補正するような補正屈折面を設計的に決定できるの
である。
【００１０】走査結像光学系は、補正屈折面を含む種々
の構成が可能であるが、「光偏向器と被走査面との間に
配備される２枚のレンズと、これら２枚のレンズよりも
被走査面側に設けられる１枚の長尺レンズとを構成要素
とし、偏向ビームを被走査面上に光スポットとして集光
する機能を持つ」ように構成することができる（請求項
２）。勿論、光偏向器と被走査面との間には、このよう
な走査結像光学系の他にマルチビーム走査装置の光学系
レイアウトに応じて「光路折り曲げ用の平面鏡」を適宜
に有することができる（請求項２）。
の構成が可能であるが、「光偏向器と被走査面との間に
配備される２枚のレンズと、これら２枚のレンズよりも
被走査面側に設けられる１枚の長尺レンズとを構成要素
とし、偏向ビームを被走査面上に光スポットとして集光
する機能を持つ」ように構成することができる（請求項
２）。勿論、光偏向器と被走査面との間には、このよう
な走査結像光学系の他にマルチビーム走査装置の光学系
レイアウトに応じて「光路折り曲げ用の平面鏡」を適宜
に有することができる（請求項２）。
【００１１】この請求項２記載のマルチビーム走査装置
の走査結像光学系において「長尺レンズにおける一方の
面を補正屈折面とし、補正屈折面の副走査断面内におけ
る曲率中心を主走査対応方向に連ねた曲率中心線が３次
元的な曲線となる」ように構成できる（請求項３。「３
次元的な曲線」は、同一平面内にない曲線を言う）。
の走査結像光学系において「長尺レンズにおける一方の
面を補正屈折面とし、補正屈折面の副走査断面内におけ
る曲率中心を主走査対応方向に連ねた曲率中心線が３次
元的な曲線となる」ように構成できる（請求項３。「３
次元的な曲線」は、同一平面内にない曲線を言う）。
【００１２】上記請求項１〜３の任意の１に記載の走査
結像光学系は「光偏向器が等角速度的に偏向させる複数
ビームによる光走査を等速化する機能（走査結像光学系
がｆθレンズであるときは「ｆθ機能」）を持つことが
でき（請求項４）、さらに、請求項１〜４の任意の１に
記載の走査結像光学系は「光偏向器による偏向の起点近
傍と被走査面位置とを、副走査対応方向に関して幾何光
学的な共役関係とする機能」を持つことができる（請求
項４）。
結像光学系は「光偏向器が等角速度的に偏向させる複数
ビームによる光走査を等速化する機能（走査結像光学系
がｆθレンズであるときは「ｆθ機能」）を持つことが
でき（請求項４）、さらに、請求項１〜４の任意の１に
記載の走査結像光学系は「光偏向器による偏向の起点近
傍と被走査面位置とを、副走査対応方向に関して幾何光
学的な共役関係とする機能」を持つことができる（請求
項４）。
【００１３】請求項６記載のマルチビーム走査装置は
「少なくとも副走査対応方向において、光軸の片側に偏
倚した複数の発光部を持つ光源側からの複数ビームを光
偏向器により偏向させ、走査結像光学系により被走査面
上に副走査対応方向に分離した複数の光スポットとして
集光させ、複数ラインを同時に光走査するマルチビーム
走査装置」であって、走査結像光学系として、上記請求
項１〜５の任意の１に記載の走査結像光学系を用いるこ
とを特徴とする。
「少なくとも副走査対応方向において、光軸の片側に偏
倚した複数の発光部を持つ光源側からの複数ビームを光
偏向器により偏向させ、走査結像光学系により被走査面
上に副走査対応方向に分離した複数の光スポットとして
集光させ、複数ラインを同時に光走査するマルチビーム
走査装置」であって、走査結像光学系として、上記請求
項１〜５の任意の１に記載の走査結像光学系を用いるこ
とを特徴とする。
【００１４】請求項７記載のマルチビーム走査装置は
「少なくとも副走査対応方向において、光軸の片側に偏
倚した複数の発光部を持つ光源側からの複数ビームを光
偏向器により等角速度的に偏向させ、走査結像光学系に
より被走査面上に副走査対応方向に分離した複数の光ス
ポットとして集光させ、複数ラインを同時に光走査する
マルチビーム走査装置」であって、走査結像光学系とし
て、上記請求項４記載の走査結像光学系を用いることを
特徴とする。
「少なくとも副走査対応方向において、光軸の片側に偏
倚した複数の発光部を持つ光源側からの複数ビームを光
偏向器により等角速度的に偏向させ、走査結像光学系に
より被走査面上に副走査対応方向に分離した複数の光ス
ポットとして集光させ、複数ラインを同時に光走査する
マルチビーム走査装置」であって、走査結像光学系とし
て、上記請求項４記載の走査結像光学系を用いることを
特徴とする。
【００１５】請求項８記載のマルチビーム走査装置は
「少なくとも副走査対応方向において、光軸の片側に偏
倚した複数の発光部を持つ光源側からの複数ビームを、
光偏向器の偏向反射面近傍に主走査対応方向に長い複数
の線像として結像させ、上記光偏向器により等角速度的
に偏向させ、走査結像光学系により被走査面上に副走査
対応方向に分離した複数の光スポットとして集光させ、
複数ラインを同時に光走査するマルチビーム走査装置」
であって、走査結像光学系として、上記請求項５記載の
走査結像光学系で、光偏向器が等角速度的に偏向させる
複数ビームによる光走査を等速化する機能を持つものを
用いることを特徴とする。
「少なくとも副走査対応方向において、光軸の片側に偏
倚した複数の発光部を持つ光源側からの複数ビームを、
光偏向器の偏向反射面近傍に主走査対応方向に長い複数
の線像として結像させ、上記光偏向器により等角速度的
に偏向させ、走査結像光学系により被走査面上に副走査
対応方向に分離した複数の光スポットとして集光させ、
複数ラインを同時に光走査するマルチビーム走査装置」
であって、走査結像光学系として、上記請求項５記載の
走査結像光学系で、光偏向器が等角速度的に偏向させる
複数ビームによる光走査を等速化する機能を持つものを
用いることを特徴とする。
【００１６】これら請求項６または７または８記載のマ
ルチビーム走査装置において「光源における発光部の数
を２個」とすることができる（請求項９）。
ルチビーム走査装置において「光源における発光部の数
を２個」とすることができる（請求項９）。
【００１７】
【発明の実施の形態】図１は、この発明のマルチビーム
走査装置の実施の１形態を説明するための図である。 （ａ）はマルチビーム走査装置の光学配置を副走査対応
方向から見た状態を示している。（ａ）において、光源
１０から放射されるビームは、カップリングレンズ１５
により以後の光学系にカップリングされる。カップリン
グレンズ１５のカップリング作用は、カップリングレン
ズ１５を透過したビームが「平行光束」になるようにす
ることもできるし「弱い発散性もしくは弱い集束性の光
束」となるようにすることもできる。
走査装置の実施の１形態を説明するための図である。 （ａ）はマルチビーム走査装置の光学配置を副走査対応
方向から見た状態を示している。（ａ）において、光源
１０から放射されるビームは、カップリングレンズ１５
により以後の光学系にカップリングされる。カップリン
グレンズ１５のカップリング作用は、カップリングレン
ズ１５を透過したビームが「平行光束」になるようにす
ることもできるし「弱い発散性もしくは弱い集束性の光
束」となるようにすることもできる。
【００１８】カップリングされたビームは、アパーチュ
ア２０の開口部を通過することにより光束周辺部を遮断
され、適当なビーム断面形状に「ビーム整形」される。
ビーム整形されたビームはシリンドリカルレンズ２５に
より、副走査対応方向（図１（ａ）において図面に直交
する方向）に集光され、光路折り曲げミラー２７により
光路を折り曲げられて「光偏向器」であるポリゴンミラ
ー３０の偏向反射面位置近傍に主走査対応方向に長い線
像として結像する。偏向反射面による反射ビームは、ポ
リゴンミラー３０の等速回転に伴い、等角速度的に偏向
し、レンズ４１，４２，４３を透過し、これらレンズの
作用により被走査面（実体的には光導電性感光体の感光
面）５０上に光スポットとして集光し、被走査面５０を
光走査する。図１の実施の形態においてはレンズ４１，
４２，４３が「走査結像光学系」を構成する。レンズ４
３は「長尺トロイダルレンズ」である。
ア２０の開口部を通過することにより光束周辺部を遮断
され、適当なビーム断面形状に「ビーム整形」される。
ビーム整形されたビームはシリンドリカルレンズ２５に
より、副走査対応方向（図１（ａ）において図面に直交
する方向）に集光され、光路折り曲げミラー２７により
光路を折り曲げられて「光偏向器」であるポリゴンミラ
ー３０の偏向反射面位置近傍に主走査対応方向に長い線
像として結像する。偏向反射面による反射ビームは、ポ
リゴンミラー３０の等速回転に伴い、等角速度的に偏向
し、レンズ４１，４２，４３を透過し、これらレンズの
作用により被走査面（実体的には光導電性感光体の感光
面）５０上に光スポットとして集光し、被走査面５０を
光走査する。図１の実施の形態においてはレンズ４１，
４２，４３が「走査結像光学系」を構成する。レンズ４
３は「長尺トロイダルレンズ」である。
【００１９】図１（ｂ）は、（ａ）における光源１０と
カップリングレンズ１５との関係を示している。光源１
０は、モノリシックな構造の半導体レーザアレイであ
り、発光部を２個有し、これら２個の発光部１０１，１
０２は、カップリングレンズ１５の「光軸」に対し、副
走査対応方向（図１（ｂ）における上下方向）において
光軸の片側に偏倚して位置するように配備されている。
図示の都合上、発光部１０１，１０２の配置は、副走査
対応方向において拡大した状態で示している。このよう
に光源１０からは２ビームが放射されるので、被走査面
５０上には２つの光スポットが集光形成されるが、発光
部１０１，１０２は副走査対応方向に互いにずれている
ので、光スポットも副走査方向に分離して形成される。
カップリングレンズ１５との関係を示している。光源１
０は、モノリシックな構造の半導体レーザアレイであ
り、発光部を２個有し、これら２個の発光部１０１，１
０２は、カップリングレンズ１５の「光軸」に対し、副
走査対応方向（図１（ｂ）における上下方向）において
光軸の片側に偏倚して位置するように配備されている。
図示の都合上、発光部１０１，１０２の配置は、副走査
対応方向において拡大した状態で示している。このよう
に光源１０からは２ビームが放射されるので、被走査面
５０上には２つの光スポットが集光形成されるが、発光
部１０１，１０２は副走査対応方向に互いにずれている
ので、光スポットも副走査方向に分離して形成される。
【００２０】カップリングレンズ１５からレンズ４３に
至る光路において、カップリングレンズ１５、シリンド
リカルレンズ２５、レンズ４１は互いに「光軸合わせ」
されているが、レンズ４２，４３は、後述するように副
走査対応方向へ「シフト」されている。図１（ｂ）に示
したように、光源１０における発光部１０１，１０２は
カップリングレンズ１５の光軸に対し、副走査対応方向
へ偏倚しているので、発光部１０１，１０２から放射さ
れる各ビームとも、ポリゴンミラー３０により偏向され
ると、レンズ４１，４２，４３により構成される走査結
像光学系の「光軸を含み主走査対応方向に平行な断面」
と離れた部分を透過することになるから「走査結像光学
系に補正屈折面が含まれていない」とすれば、どちらの
ビームに対してもマルチビーム走査装置固有の走査線曲
がり（以下、「固有の走査線曲がり」と略記する）が発
生することになる。そこで、走査結像光学系をレンズ４
１，４２，４３のレンズ面の何れかを補正屈折面とし、
該補正屈折面に入射する複数ビームのうちの少なくとも
１ビームの入射位置における、該補正屈折面の「副走査
断面内の傾き」を調整し、該ビームの走査線曲がりを補
正するのである（請求項１）。図１に示す実施の形態に
おいては、長尺トロイダルレンズであるレンズ４３の入
射側面が「補正屈折面」である（請求項３）。上記副走
査断面内における「補正屈折面の形状を非円弧形状とす
れば」、２つのビームのそれぞれに対して走査線曲がり
を補正するようにすることもできる。
至る光路において、カップリングレンズ１５、シリンド
リカルレンズ２５、レンズ４１は互いに「光軸合わせ」
されているが、レンズ４２，４３は、後述するように副
走査対応方向へ「シフト」されている。図１（ｂ）に示
したように、光源１０における発光部１０１，１０２は
カップリングレンズ１５の光軸に対し、副走査対応方向
へ偏倚しているので、発光部１０１，１０２から放射さ
れる各ビームとも、ポリゴンミラー３０により偏向され
ると、レンズ４１，４２，４３により構成される走査結
像光学系の「光軸を含み主走査対応方向に平行な断面」
と離れた部分を透過することになるから「走査結像光学
系に補正屈折面が含まれていない」とすれば、どちらの
ビームに対してもマルチビーム走査装置固有の走査線曲
がり（以下、「固有の走査線曲がり」と略記する）が発
生することになる。そこで、走査結像光学系をレンズ４
１，４２，４３のレンズ面の何れかを補正屈折面とし、
該補正屈折面に入射する複数ビームのうちの少なくとも
１ビームの入射位置における、該補正屈折面の「副走査
断面内の傾き」を調整し、該ビームの走査線曲がりを補
正するのである（請求項１）。図１に示す実施の形態に
おいては、長尺トロイダルレンズであるレンズ４３の入
射側面が「補正屈折面」である（請求項３）。上記副走
査断面内における「補正屈折面の形状を非円弧形状とす
れば」、２つのビームのそれぞれに対して走査線曲がり
を補正するようにすることもできる。
【００２１】レンズ４１，４２，４３で構成される「走
査結像光学系」は、光偏向器３０と被走査面５０との間
に配備される２枚のレンズ４１，４２と、これら２枚の
レンズよりも被走査面５０側に設けられる１枚の長尺レ
ンズ４３とにより構成され、偏向ビームを被走査面上に
光スポットとして集光する機能を持つ（請求項２）。走
査結像光学系は、光偏向器３０が等角速度的に偏向させ
る複数ビームによる光走査を等速化する機能を持ち（請
求項４）、なお且つ、光偏向器３０による偏向の起点
（偏向ビームの主光線がレンズ４１の光軸と副走査対応
方向において合致するときの反射点位置）近傍と被走査
面５０位置とを、副走査対応方向に関して幾何光学的な
共役関係とする機能を持つ（請求項５）。
査結像光学系」は、光偏向器３０と被走査面５０との間
に配備される２枚のレンズ４１，４２と、これら２枚の
レンズよりも被走査面５０側に設けられる１枚の長尺レ
ンズ４３とにより構成され、偏向ビームを被走査面上に
光スポットとして集光する機能を持つ（請求項２）。走
査結像光学系は、光偏向器３０が等角速度的に偏向させ
る複数ビームによる光走査を等速化する機能を持ち（請
求項４）、なお且つ、光偏向器３０による偏向の起点
（偏向ビームの主光線がレンズ４１の光軸と副走査対応
方向において合致するときの反射点位置）近傍と被走査
面５０位置とを、副走査対応方向に関して幾何光学的な
共役関係とする機能を持つ（請求項５）。
【００２２】また、図１のマルチビーム走査装置は「少
なくとも副走査対応方向において、光軸の片側に偏倚し
た複数の発光部１０１，１０２を持つ光源１０側からの
複数ビームを光偏向器３０により偏向させ、走査結像光
学系４１，４２，４３により被走査面５０上に、副走査
対応方向に分離した複数の光スポットとして集光させ、
複数ラインを同時に光走査するマルチビーム走査装置で
あり、請求項１〜５の任意の１に記載の「走査結像光学
系」を有するもの（請求項６）であり、光偏向器３０が
等角速度的に偏向させる各ビームを、走査結像光学系４
１，４２，４３により被走査面５０上に副走査対応方向
に分離した複数の光スポットとして集光させ、複数ライ
ンを同時かつ等速的に光走査するマルチビーム走査装置
であり（請求項７）、光源側からの複数ビームを、光偏
向器３０の偏向反射面近傍に主走査対応方向に長い複数
の線像として結像させ、光偏向器３０により等角速度的
に偏向させ、走査結像光学系４１，４２，４３により被
走査面５０上に副走査対応方向に分離した複数の光スポ
ットとして集光させ、複数ラインを同時かつ等速的にに
光走査するマルチビーム走査装置であり（請求項８）、
光源１０は２個の発光部１０１，１０２を有する（請求
項９）。
なくとも副走査対応方向において、光軸の片側に偏倚し
た複数の発光部１０１，１０２を持つ光源１０側からの
複数ビームを光偏向器３０により偏向させ、走査結像光
学系４１，４２，４３により被走査面５０上に、副走査
対応方向に分離した複数の光スポットとして集光させ、
複数ラインを同時に光走査するマルチビーム走査装置で
あり、請求項１〜５の任意の１に記載の「走査結像光学
系」を有するもの（請求項６）であり、光偏向器３０が
等角速度的に偏向させる各ビームを、走査結像光学系４
１，４２，４３により被走査面５０上に副走査対応方向
に分離した複数の光スポットとして集光させ、複数ライ
ンを同時かつ等速的に光走査するマルチビーム走査装置
であり（請求項７）、光源側からの複数ビームを、光偏
向器３０の偏向反射面近傍に主走査対応方向に長い複数
の線像として結像させ、光偏向器３０により等角速度的
に偏向させ、走査結像光学系４１，４２，４３により被
走査面５０上に副走査対応方向に分離した複数の光スポ
ットとして集光させ、複数ラインを同時かつ等速的にに
光走査するマルチビーム走査装置であり（請求項８）、
光源１０は２個の発光部１０１，１０２を有する（請求
項９）。
【００２３】
【実施例】図１に示した実施の形態を、以下のように具
体的な実施例として構成した。光源１０として、発光部
１０１，１０２の間隔：２．５μｍ、発光波長：７８０
ｎｍの「モノリシックな半導体レーザアレイ」を用い、
発光部１０１，１０２の配列方向を副走査対応方向と
し、発光部１０１（カップリングレンズ１５の光軸に近
い側の発光部）を、カップリングレンズ１５の光軸から
−２．５μｍ（−０．００２５ｍｍ）だけ副走査対応方
向（負号は、図１（ｂ）において光軸の下方への偏倚を
意味する）に偏倚するようにした。従って、発光部１０
２は、上記光軸から副走査対応方向へ−５．０μｍ偏倚
していることになる。光偏向器であるポリゴンミラー３
０は、偏向反射面数：６、偏向反射面の内接円半径：１
８ｍｍのものであり、光路折り曲げミラー２７の側から
ポリゴンミラー２７に入射するビームの入射方向と走査
結像光学系のレンズ４１の光軸とが成す角は６０度であ
る。
体的な実施例として構成した。光源１０として、発光部
１０１，１０２の間隔：２．５μｍ、発光波長：７８０
ｎｍの「モノリシックな半導体レーザアレイ」を用い、
発光部１０１，１０２の配列方向を副走査対応方向と
し、発光部１０１（カップリングレンズ１５の光軸に近
い側の発光部）を、カップリングレンズ１５の光軸から
−２．５μｍ（−０．００２５ｍｍ）だけ副走査対応方
向（負号は、図１（ｂ）において光軸の下方への偏倚を
意味する）に偏倚するようにした。従って、発光部１０
２は、上記光軸から副走査対応方向へ−５．０μｍ偏倚
していることになる。光偏向器であるポリゴンミラー３
０は、偏向反射面数：６、偏向反射面の内接円半径：１
８ｍｍのものであり、光路折り曲げミラー２７の側から
ポリゴンミラー２７に入射するビームの入射方向と走査
結像光学系のレンズ４１の光軸とが成す角は６０度であ
る。
【００２４】光源１０からポリゴンミラー３０に至る光
路上の光学系を「第１群」、ポリゴンミラー３０から被
走査面５０に至る光路上の光学系を「第２群」とする。
光源１０である「半導体レーザアレイユニット」のカバ
ーガラス、偏向反射面、各レンズのレンズ面の曲率半径
(円弧形状でないものについては近軸曲率半径)を主走査
対応方向に関してＲm、副走査対応法方向に関してＲｓ
とし、光軸上の間隔をＤ、材質の屈折率をＮとする。
「長さの次元」を有する量は「ｍｍ」単位とする。
路上の光学系を「第１群」、ポリゴンミラー３０から被
走査面５０に至る光路上の光学系を「第２群」とする。
光源１０である「半導体レーザアレイユニット」のカバ
ーガラス、偏向反射面、各レンズのレンズ面の曲率半径
(円弧形状でないものについては近軸曲率半径)を主走査
対応方向に関してＲm、副走査対応法方向に関してＲｓ
とし、光軸上の間隔をＤ、材質の屈折率をＮとする。
「長さの次元」を有する量は「ｍｍ」単位とする。
【００２５】 第１群データ： 面番号 Ｒm Ｒｓ Ｄ Ｎ ０ 4.29 発光部 １ ∞ ∞ 0.30 1.511 カバーガラス ２ ∞ ∞ 2.00 ３ ∞ ∞ 2.50 1.675 カップリングレンズ ４ -5.3856 -5.3856 26.55 ５ ∞ 61.86 3.00 1.511 シリンドリカルレンズ ６ ∞ ∞ 123.66 。
【００２６】カップリングレンズの射出側面（上記面番
号：４）は「共軸非球面」であり、カップリングされた
光束は「実質的な平行光束」となる。即ち、上記共軸非
球面は、光軸方向をＸ軸、光軸直交方向をＹ軸とする周
知の非球面の式において、近軸曲率半径：Ｒ、円錐定
数：Ｋ、Ｙに関する４次、６次、８次、１０次の非球面
係数をＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄとするとき、これらは以下の値を
持つ。 Ｒ＝−５．３８５６，Ｋ＝−０．００７４，Ａ＝４．７Ｅ−４， Ｂ＝ １．２７Ｅ−５，Ｃ＝ ２．９４Ｅ−７，Ｄ＝ ９．３５Ｅ−９ 。 なお、「Ｅ−４」等は「べき乗」を示す。例えば上記
「Ｅ−４」は「１０~4」を意味し、この値がその直前の
数値に掛かる。
号：４）は「共軸非球面」であり、カップリングされた
光束は「実質的な平行光束」となる。即ち、上記共軸非
球面は、光軸方向をＸ軸、光軸直交方向をＹ軸とする周
知の非球面の式において、近軸曲率半径：Ｒ、円錐定
数：Ｋ、Ｙに関する４次、６次、８次、１０次の非球面
係数をＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄとするとき、これらは以下の値を
持つ。 Ｒ＝−５．３８５６，Ｋ＝−０．００７４，Ａ＝４．７Ｅ−４， Ｂ＝ １．２７Ｅ−５，Ｃ＝ ２．９４Ｅ−７，Ｄ＝ ９．３５Ｅ−９ 。 なお、「Ｅ−４」等は「べき乗」を示す。例えば上記
「Ｅ−４」は「１０~4」を意味し、この値がその直前の
数値に掛かる。
【００２７】第２群において、Ｚは、光軸の副走査対応
方向へのシフト量（図１（ｂ）における光軸の上方への
シフトを「正」とする）を表す。 第２群データ： 面番号 Ｒm Ｒs Ｄ Ｎ Ｚ ０ ∞ ∞ 32.81 − ポリゴンミラー １ -137.015 -137.015 18.00 1.5721 − レンズ４１ ２ -112.155 -112.155 17.00 ３ ∞ ∞ 23.50 1.5721 ＋0.6 レンズ４２ ４ -148.565 -148.565 110.50 5 -700 -44.3 3.00 1.5721 ＋0.6 レンズ４３ ６ -700 -20.32 86.77 レンズ４１の両面は「共軸球面」、レンズ４２の射出側
面（上記面番号：４）も「共軸球面」である。レンズ４
２とレンズ４３とは、その光軸を、レンズ４１の光軸位
置に対し副走査対応方向へ「＋０．６ｍｍ」シフトさせ
ている。＋は図１（ｂ）における上方へのシフトを意味
する。
方向へのシフト量（図１（ｂ）における光軸の上方への
シフトを「正」とする）を表す。 第２群データ： 面番号 Ｒm Ｒs Ｄ Ｎ Ｚ ０ ∞ ∞ 32.81 − ポリゴンミラー １ -137.015 -137.015 18.00 1.5721 − レンズ４１ ２ -112.155 -112.155 17.00 ３ ∞ ∞ 23.50 1.5721 ＋0.6 レンズ４２ ４ -148.565 -148.565 110.50 5 -700 -44.3 3.00 1.5721 ＋0.6 レンズ４３ ６ -700 -20.32 86.77 レンズ４１の両面は「共軸球面」、レンズ４２の射出側
面（上記面番号：４）も「共軸球面」である。レンズ４
２とレンズ４３とは、その光軸を、レンズ４１の光軸位
置に対し副走査対応方向へ「＋０．６ｍｍ」シフトさせ
ている。＋は図１（ｂ）における上方へのシフトを意味
する。
【００２８】上記第２群における面番号：５の面、即ち
「長尺トロイダルレンズ」であるレンズ４３の光偏向器
側の面の副走査断面内における曲率：Ｃｓ(５)は、主走
査対応方向の座標をＹ（レンズ４１の光軸位置を原点と
する）として Ｃｓ(５)＝（１／Ｒs(５)）＋Σｂj・Ｙ＊＊ｊ（ｊ＝１，２，３．．．） で表される式において、Ｒs(５)（光軸を含む副走査断
面内の近軸曲率半径）と係数：ｂjを与えて特定され
る。「Ｙ＊＊ｊ」はＹのｊ乗を表す。 Ｒs(５)＝−４４．３，ｂ2＝−３．６５Ｅ−７，ｂ4＝−５．３３Ｅ−１２， ｂ6＝−４．５９Ｅ−１６，ｂ8＝ ６．６９Ｅ−２０， ｂ10＝−５．４２Ｅ−２４，ｂ12＝ １．４７Ｅ−２８ Ｙの奇数次の項の係数：ｂj（ｊ＝１，３，５，
７，．．）は全て０であり、従って、副走査断面内の曲
率の、主走査対応方向における変化は座標：Ｙに関して
原点対称である。なお、レンズ４３の射出側面は通常の
トロイダル面である。
「長尺トロイダルレンズ」であるレンズ４３の光偏向器
側の面の副走査断面内における曲率：Ｃｓ(５)は、主走
査対応方向の座標をＹ（レンズ４１の光軸位置を原点と
する）として Ｃｓ(５)＝（１／Ｒs(５)）＋Σｂj・Ｙ＊＊ｊ（ｊ＝１，２，３．．．） で表される式において、Ｒs(５)（光軸を含む副走査断
面内の近軸曲率半径）と係数：ｂjを与えて特定され
る。「Ｙ＊＊ｊ」はＹのｊ乗を表す。 Ｒs(５)＝−４４．３，ｂ2＝−３．６５Ｅ−７，ｂ4＝−５．３３Ｅ−１２， ｂ6＝−４．５９Ｅ−１６，ｂ8＝ ６．６９Ｅ−２０， ｂ10＝−５．４２Ｅ−２４，ｂ12＝ １．４７Ｅ−２８ Ｙの奇数次の項の係数：ｂj（ｊ＝１，３，５，
７，．．）は全て０であり、従って、副走査断面内の曲
率の、主走査対応方向における変化は座標：Ｙに関して
原点対称である。なお、レンズ４３の射出側面は通常の
トロイダル面である。
【００２９】以上のデータにより特定される光学配置を
「設計基準」と称する。この設計基準は「補正屈折面が
走査線曲がり補正機能を持たない光学系」であり、この
時に発生する走査線曲がりが「マルチビーム走査装置固
有の走査線曲がり」であり、このとき、発光部１０１か
らのビームに対する「固有の走査線曲がり」を、図２
（ａ）に符号２−１’により示し、発光部１０２からの
ビームに対する「固有の走査線曲がり」を、図２（ｂ）
に符号２−２’で示す。
「設計基準」と称する。この設計基準は「補正屈折面が
走査線曲がり補正機能を持たない光学系」であり、この
時に発生する走査線曲がりが「マルチビーム走査装置固
有の走査線曲がり」であり、このとき、発光部１０１か
らのビームに対する「固有の走査線曲がり」を、図２
（ａ）に符号２−１’により示し、発光部１０２からの
ビームに対する「固有の走査線曲がり」を、図２（ｂ）
に符号２−２’で示す。
【００３０】この実施例においては、レンズ４３の光偏
向器側の面（第２群の上記第５面）を補正屈折面とし、
発光部１０１からのビームの各入射位置において、副走
査断面内の傾きを、主走査対応方向の座標：Ｙに応じて
以下のように設定した。
向器側の面（第２群の上記第５面）を補正屈折面とし、
発光部１０１からのビームの各入射位置において、副走
査断面内の傾きを、主走査対応方向の座標：Ｙに応じて
以下のように設定した。
【００３１】
【００３２】勿論、主走査対応方向全体での上記傾き角
の変化は、上記変化を滑らかにつなげて得られ、必要と
あれば、これを多項式等で解析的に表現することもでき
る。このような副走査断面内の傾きのため、補正屈折面
における副走査断面内の曲率中心を連ねた「曲率中心
線」は３次元的な曲線になる（請求項３）。
の変化は、上記変化を滑らかにつなげて得られ、必要と
あれば、これを多項式等で解析的に表現することもでき
る。このような副走査断面内の傾きのため、補正屈折面
における副走査断面内の曲率中心を連ねた「曲率中心
線」は３次元的な曲線になる（請求項３）。
【００３３】「補正屈折面による補正後の走査線曲が
り」は、発光部１０１からのビームにあっては、図２
（ａ）に「符号２−１で示すごときもの」となり、発光
部１０２からのビームにあっては、図２（ｂ）に「符号
２−２で示す如きもの」となる。発光部１０１からのビ
ームに対し、走査線曲がりは実質的に完全に補正され、
発光部１０２からのビームに対しても「走査線曲がり量
は最大で０．００５ｍｍである」から極めて有効に補正
・軽減されている。従って、走査線曲がりを極めて良好
に補正された２つの光スポットによるマルチビーム走査
を実現できる。なお、実施例における等速特性（ｆθ特
性）は、図３に示す如く良好である。
り」は、発光部１０１からのビームにあっては、図２
（ａ）に「符号２−１で示すごときもの」となり、発光
部１０２からのビームにあっては、図２（ｂ）に「符号
２−２で示す如きもの」となる。発光部１０１からのビ
ームに対し、走査線曲がりは実質的に完全に補正され、
発光部１０２からのビームに対しても「走査線曲がり量
は最大で０．００５ｍｍである」から極めて有効に補正
・軽減されている。従って、走査線曲がりを極めて良好
に補正された２つの光スポットによるマルチビーム走査
を実現できる。なお、実施例における等速特性（ｆθ特
性）は、図３に示す如く良好である。
【００３４】
【発明の効果】以上に説明したように、この発明によれ
ば新規なマルチビーム走査装置およびマルチビーム走査
装置用の走査結像光学系を実現できる。この発明の走査
結像光学系は、マルチビーム走査装置固有の走査線曲が
りを補正する補正屈折面を有するので、マルチビーム走
査装置の設計上不可避的に発生する走査線曲がりを有効
に補正・軽減させることができる（請求項１〜５）。ま
た請求項４記載の走査結像光学系は等角速度的に偏向す
る複数ビームによる光走査を等速化する機能を持ち、請
求項５記載の走査結像光学系は「光偏向器における面倒
れを補正する機能」を有する。また、この発明のマルチ
ビーム走査装置は、上記走査結像光学系を用いるので、
マルチビーム走査装置固有の走査線曲がりを極めて良好
に補正・軽減して、良好なマルチビーム走査を実現でき
る。
ば新規なマルチビーム走査装置およびマルチビーム走査
装置用の走査結像光学系を実現できる。この発明の走査
結像光学系は、マルチビーム走査装置固有の走査線曲が
りを補正する補正屈折面を有するので、マルチビーム走
査装置の設計上不可避的に発生する走査線曲がりを有効
に補正・軽減させることができる（請求項１〜５）。ま
た請求項４記載の走査結像光学系は等角速度的に偏向す
る複数ビームによる光走査を等速化する機能を持ち、請
求項５記載の走査結像光学系は「光偏向器における面倒
れを補正する機能」を有する。また、この発明のマルチ
ビーム走査装置は、上記走査結像光学系を用いるので、
マルチビーム走査装置固有の走査線曲がりを極めて良好
に補正・軽減して、良好なマルチビーム走査を実現でき
る。
【図１】この発明のマルチビーム走査装置の実施の１形
態を説明するための図である。
態を説明するための図である。
【図２】実施例における２つのビームの固有の走査線曲
がりと、走査線曲がり補正効果を説明するための図であ
る。
がりと、走査線曲がり補正効果を説明するための図であ
る。
【図３】実施例の等速特性であるｆθ特性を示す図であ
る。
る。
１０ 光源（半導体レーザアレイ） １０１，１０２ 発光部 １５ コリメートレンズ ２５ シリンドリカルレンズ ３０ 光偏向器（ポリゴンミラー） ４１，４２，４３ 走査結像光学系を構成するレン
ズ ５０ 被走査面
ズ ５０ 被走査面
Claims (9)
- 【請求項１】少なくとも副走査対応方向において、光軸
の片側に偏倚した複数の発光部を持つ光源側からの複数
ビームを光偏向器により偏向させ、走査結像光学系によ
り被走査面上に副走査対応方向に分離した複数の光スポ
ットとして集光させ、複数ラインを同時に光走査するマ
ルチビーム走査装置の走査結像光学系であって、 マルチビーム走査装置固有の走査線曲がりを補正する補
正屈折面を有し、 該補正屈折面に入射する複数ビームのうちの少なくとも
１ビームの入射位置における、該補正屈折面の、副走査
断面内の傾きが、該ビームの上記走査線曲がりを補正す
るように、上記入射位置に応じて定められていることを
特徴とするマルチビーム走査装置の走査結像光学系。 - 【請求項２】請求項１記載のマルチビーム走査装置の走
査結像光学系において、 走査結像光学系は、光偏向器と被走査面との間に配備さ
れる２枚のレンズと、これら２枚のレンズよりも被走査
面側に設けられる１枚の長尺レンズとにより構成され、
偏向ビームを被走査面上に光スポットとして集光する機
能を持つことを特徴とするマルチビーム走査装置の走査
結像光学系。 - 【請求項３】請求項２記載のマルチビーム走査装置の走
査結像光学系において、 長尺レンズにおける一方の面が補正屈折面であり、補正
屈折面の副走査断面内における曲率中心を主走査対応方
向に連ねた曲率中心線が３次元的な曲線となることを特
徴とするマルチビーム走査装置の走査結像光学系。 - 【請求項４】請求項１〜３の任意の１に記載のマルチビ
ーム走査装置の走査結像光学系において、 光偏向器が等角速度的に偏向させる複数ビームによる光
走査を等速化する機能を持つことを特徴とするマルチビ
ーム走査装置の走査結像光学系。 - 【請求項５】請求項１〜４の任意の１に記載のマルチビ
ーム走査装置の走査結像光学系において、光偏向器によ
る偏向の起点近傍と被走査面位置とを、副走査対応方向
に関して幾何光学的な共役関係とする機能を持つことを
特徴とするマルチビーム走査装置の走査結像光学系。 - 【請求項６】少なくとも副走査対応方向において、光軸
の片側に偏倚した複数の発光部を持つ光源側からの複数
ビームを光偏向器により偏向させ、走査結像光学系によ
り被走査面上に副走査対応方向に分離した複数の光スポ
ットとして集光させ、複数ラインを同時に光走査するマ
ルチビーム走査装置であって、 走査結像光学系として、請求項１〜５の任意の１に記載
の走査結像光学系を用いることを特徴とするマルチビー
ム走査装置。 - 【請求項７】少なくとも副走査対応方向において、光軸
の片側に偏倚した複数の発光部を持つ光源側からの複数
ビームを光偏向器により等角速度的に偏向させ、走査結
像光学系により被走査面上に副走査対応方向に分離した
複数の光スポットとして集光させ、複数ラインを同時に
光走査するマルチビーム走査装置であって、 走査結像光学系として、請求項４記載の走査結像光学系
を用いることを特徴とするマルチビーム走査装置。 - 【請求項８】少なくとも副走査対応方向において、光軸
の片側に偏倚した複数の発光部を持つ光源側からの複数
ビームを、光偏向器の偏向反射面近傍に主走査対応方向
に長い複数の線像として結像させ、上記光偏向器により
等角速度的に偏向させ、走査結像光学系により被走査面
上に副走査対応方向に分離した複数の光スポットとして
集光させ、複数ラインを同時に光走査するマルチビーム
走査装置であって、 走査結像光学系として、請求項５記載の走査結像光学系
で、光偏向器が等角速度的に偏向させる複数ビームによ
る光走査を等速化する機能を持つものを用いることを特
徴とするマルチビーム走査装置。 - 【請求項９】請求項６または７または８記載のマルチビ
ーム走査装置において、 光源における発光部が２個であることを特徴とするマル
チビーム走査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19541697A JPH1138341A (ja) | 1997-07-22 | 1997-07-22 | マルチビーム走査装置およびマルチビーム走査装置の走査結像光学系 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19541697A JPH1138341A (ja) | 1997-07-22 | 1997-07-22 | マルチビーム走査装置およびマルチビーム走査装置の走査結像光学系 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1138341A true JPH1138341A (ja) | 1999-02-12 |
Family
ID=16340732
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19541697A Pending JPH1138341A (ja) | 1997-07-22 | 1997-07-22 | マルチビーム走査装置およびマルチビーム走査装置の走査結像光学系 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1138341A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100392563B1 (ko) * | 1999-10-08 | 2003-07-28 | 가부시키가이샤 오크세이사꾸쇼 | 주변노광장치의 광학계 |
-
1997
- 1997-07-22 JP JP19541697A patent/JPH1138341A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100392563B1 (ko) * | 1999-10-08 | 2003-07-28 | 가부시키가이샤 오크세이사꾸쇼 | 주변노광장치의 광학계 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3072061B2 (ja) | 光走査装置 | |
| JP3337510B2 (ja) | 光走査装置 | |
| JPH06118325A (ja) | 光走査装置 | |
| JPH06265810A (ja) | 反射型走査光学系 | |
| JP3467193B2 (ja) | 屈折／反射型ｆθ光学素子、および走査光学系 | |
| JPH0643370A (ja) | 光走査装置 | |
| KR0184650B1 (ko) | 양측에 비구면을 갖고 있는 렌즈를 포함하는 광학 스캐닝 장치 | |
| US6075638A (en) | Scanning and imaging lens and optical scanning device | |
| JPH07199109A (ja) | ラスタースキャニングシステム | |
| JPH1138348A (ja) | 走査結像光学系および光走査装置 | |
| KR100335624B1 (ko) | 레이저빔주사장치 | |
| JP5269169B2 (ja) | 走査光学装置及びそれを有するレーザービームプリンタ | |
| JPH07174998A (ja) | 走査レンズ及び光走査装置 | |
| US6670980B1 (en) | Light-scanning optical system | |
| JP2956169B2 (ja) | 走査光学装置 | |
| JP2000267030A (ja) | 光走査装置 | |
| JP4219429B2 (ja) | マルチビーム走査結像光学系における結像ミラーの製造方法 | |
| JPH1138341A (ja) | マルチビーム走査装置およびマルチビーム走査装置の走査結像光学系 | |
| JPH0968664A (ja) | 光ビーム走査用光学系 | |
| JPH05127077A (ja) | シリンドリカルレンズ系 | |
| JP3558837B2 (ja) | 走査結像光学系および光走査装置 | |
| JP3558847B2 (ja) | マルチビーム走査装置 | |
| JP3680871B2 (ja) | 自己増幅偏向走査光学系 | |
| JPH112769A (ja) | 光走査装置 | |
| JP3069281B2 (ja) | 光走査光学系 |