JPH11238256A - 光学記録媒体とその製造方法とこれに用いる光学記録媒体の製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光学記録媒体の小型化を図る。 【解決手段】原盤上に、フォトリソグラフィーにより所
要のパターンを形成してパターンマスク板を形成し、基
板材上に、フォトレジストを塗布し、パターンマスク板
に形成されたパターンを、縮小投影露光装置により、１
／ｎ（１＜ｎ）に縮小して、基板材上にフォトリソグラ
フィーにより縮小露光を行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ディスク型光学記
録媒体とその製造方法およびこれに用いる光学記録媒体
の製造装置に係わる。

【０００２】

【従来の技術】従来、ディスク型光学記録媒体として、
いわゆるコンパクト・ディスク（以下、単にＣＤとい
う）が挙げられる。このＣＤは、寸法が、直径１２ｃ
ｍ、厚さ１．２ｍｍであり、例えばポリカーボネート等
の光透過性のプラスチック基板により形成される。

【０００３】このＣＤには、データ情報、トラッキング
サーボ信号等の記録がなされる位相ピット等の微細凹凸
が形成されている。この微細凹凸のピット列のトラック
ピッチを約１．６μｍ、最短のピット長を約０．８３μ
ｍとすることにより、基板の一主面に６５０ＭＢの容量
のディジタル情報を記録することができる。このＣＤ
は、携帯用の音楽再生装置（いわゆるＣＤプレイヤー）
や、ノート型パーソナルコンピューターのＣＤドライブ
等により、記録情報の再生をすることができる。

【０００４】以下、従来の単層構造の光ディスクの構造
とその製造方法について図を参照して説明する。この光
ディスクは、図１１に示すように、例えばポリカーボネ
ート等の光透過性の樹脂よりなる例えば直径１２ｃｍ、
厚さ１．２ｍｍの基板１０１に微細凹凸１０２を形成
し、この微細凹凸１０２に、反射膜１０３を被着し、情
報記録層１０４を形成し、さらにこの情報記録層１０４
上に保護膜１０５を形成して成る。

【０００５】この微細凹凸１０２を形成する方法の例を
以下に示す。先ず、図１２に示すように、表面を充分に
平滑にしたガラス原盤１１０を回転基台１１１上に載置
し、所定の回転数で回転させた状態で、このガラス原盤
１１０上に、露光することによってアルカリ可溶性とな
るフォトレジスト、いわゆるポジ型フォトレジスト１１
３を、ノズル１１２から供給して塗布する。

【０００６】次に、図１３に示すように、ガラス原盤１
１０を回転させ、フォトレジスト１１３を延伸し、図１
４に示すように、ガラス原盤１１０上にフォトレジスト
の層を全面的に塗布した状態とする。

【０００７】次に、図１５に示すように、変調器Ｍによ
り変調された記録用レーザー光Ｌを、対物レンズ１１４
によってフォトレジスト１１３にで集光させ、このフォ
トレジスト１１３を所定のパターンの露光する。この露
光は、ガラス原盤１１０を回転させながら、記録用レー
ザー光をガラス原盤１１０の半径方向に一回転あたり等
距離ずつ送ることにより、一定のトラックピッチでスパ
イラル状に行う。

【０００８】次に、ガラス原盤１１０をアルカリ現像液
で現像し、露光部を除去する。このようにすると、図１
６Ａに示すように、また、図１６Ｂにその拡大図を示す
ように、ガラス原盤１１０上のフォトレジスト１１３
に、透孔が穿設され、微細凹凸１１５が形成される。

【０００９】図１７に示すように、フォトレジスト１１
３により所定のパターンの微細凹凸１１５を形成した
後、ガラス原盤１１０上に、ニッケルメッキ１１８を施
し、その後、ニッケルメッキ１１８を剥離して、図１８
に示すように、微細凹凸が転写されたスタンパー１１９
が形成される。

【００１０】このようにして、図１１に示す光学記録媒
体を構成する基板１０１上に形成する情報記録層１０４
を構成する微細凹凸１０３を転写するためのスタンパー
が作製される。

【００１１】上述のようにして作製したスタンパー１１
９を用いて、図１９に示すように、基板１０１を射出成
型するか、あるいは基板上に形成すた光硬化性樹脂上に
プレスして露光硬化する２Ｐ法（フォトポリマリゼイシ
ョン法）によって、スタンパー１１９の微細凹凸の転写
を行い、図２０に示すように、スタンパー１１９を剥離
し、基板１０１を作製する。

【００１２】その後、図１１に示すように、微細凹凸１
０２上にＡｌ等の反射膜を積層して情報記録層１０４を
形成する。更に、この情報記録層１０４上に光硬化性樹
脂等により保護膜１０５を形成して目的とする光学記録
媒体を作製することができる。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】近年、携帯用情報機器
の、より小型軽量化が望まれている。これにより、ＣＤ
や、ＣＤと同じディスク型の記録媒体で、情報の記録お
よび再生が可能な、いわゆるミニ・ディスク（以下、単
にＭＤという）等の光磁気ディスクについても、既存の
記録容量を維持したまま、これらの寸法を小型化するこ
とが望まれている。

【００１４】しかしながら、ＣＤを、既存の記録容量す
なわち、基板の一主面に６５０ＭＢの容量のディジタル
情報量を維持したまま、この寸法を従来の１／４、すな
わち、直径３ｃｍ程度の光ディスクとすると、上記微細
凹凸のピット列のトラックピッチを約０．４μｍ、最短
のピット長を約０．２１μｍとすることが必要となる。
このように微細なピットパターンは、従来のＣＤ製造装
置によっては、形成することは難しい。また、ＭＤ等に
ついても上述と同様に、トラッキング・ガイド用のグル
ーブ等の微細凹凸のパターンを、トラックピッチを約
０．４μｍに形成することは、従来のＭＤ製造装置によ
っては難しい。

【００１５】そこで、本発明においては、光ディスクの
容量を維持したまま、光ディスクの小型化を実現するべ
く、記録情報、あるいはトラッキング・ガイドを形成す
る微細凹凸のパターンをより微細に形成した光学記録媒
体と、光学記録媒体の製造方法およびこれに用いる光学
記録媒体の製造装置を提供する。

【００１６】

【課題を解決するための手段】本発明の光学記録媒体
は、基板の少なくとも一主面に、微細凹凸を有する情報
記録層を有し、情報記録層によって情報の記録、あるい
は再生を行うことのできる円板状の光学記録媒体であ
り、外径が直径２０〜４０ｍｍ、トラックピッチが、
０．１〜０．５μｍであるものとする。

【００１７】本発明の光学記録媒体は、原盤上に、フォ
トリソグラフィーにより所要のパターンを形成してパタ
ーンマスク板を形成し、基板材上に、フォトレジストを
塗布し、パターンマスク板に形成されたパターンを、１
／ｎ（１＜ｎ）に縮小して、基板材上にフォトリソグラ
フィーにより転写する縮小露光を行うことにより作製さ
れる。

【００１８】また、上述の本発明の光学記録媒体を作製
するために用いる装置は、光出射装置と、光出射装置か
らの出射光を、原盤上に、フォトリソグラフィーにより
所要のパターンを形成したパターンマスク板に照射する
光照射装置と、パターンマスク板のパターンを被露光体
に縮小投影する縮小レンズを搭載した縮小投影露光装置
とを有するものとする。

【００１９】すなわち、本発明においては、縮小露光に
よって従来の光学記録媒体よりも、ピット、グルーブの
微細凹凸のパターンをより微細に形成するものであっ
て、従来の記録容量を確保したまま、小型の光学記録媒
体を作製する。

【００２０】更に、本発明では、縮小投影露光装置の縮
小投影装置からの露光光の集光スポットと、基板材との
相対的な位置関係を、変化させて、基板材の所定の位置
に、それぞれパターン露光を行って、多数の光学記録媒
体の基板を作製することができるため、一枚の基板材か
ら、複数の光学記録媒体を作製する。

【００２１】

【発明の実施の形態】本発明の光学記録媒体は、基板の
少なくとも一主面に、光学記録媒体の情報記録層を構成
するピット、グルーブの微細凹凸を有するものであっ
て、光学的ピックアップ、磁気ヘッド、あるいはそれら
の複合された光学ヘッドで情報の記録、あるいは再生を
行うことのできる円板状の光学記録媒体であり、外径が
直径２０〜４０ｍｍであり、ピットまたはグルーブのト
ラックピッチが、０．１〜０．５μｍの範囲にあるもの
である。

【００２２】この光学記録媒体は、原盤上に、フォトリ
ソグラフィーにより所要のパターンを形成してパターン
マスクを形成する工程と、パターンマスクのパターン
を、１／ｎに縮小して、基板材上にフォトリソグラフィ
ーにより転写する工程により、作製することができる。

【００２３】以下においては、光照射により情報の記
録、再生、書換えを行うことのできる光ディスクを得る
場合について説明するが、本発明はこの例に限定される
ものではなく、再生専用の光ディスク、その他各種光学
記録媒体に適用することができる。以下、本発明の光学
記録媒体とその製造方法を一例を挙げて説明するが、本
発明は、以下に示す光学記録媒体やその製造方法に限定
されるものではない。

【００２４】以下の例においては、基板の一主面に光学
記録媒体の情報記録層を構成するピット、グルーブの微
細凹凸を有し、情報の記録、あるいは再生を行うことの
できる円板状の光学記録媒体であって、外径が直径３０
ｍｍであり、厚さが１．２ｍｍで、ピットまたはグルー
ブのトラックピッチが０．４μｍに形成された光学記録
媒体を作製する場合について説明するが、光学記録媒体
の直径については、２０〜４０ｍｍの大きさのものを適
宜作製することができ、また、光学記録媒体の厚さにつ
いても同様の各種寸法を選定することができ、本発明
は、以下に示す寸法の光ディスクを得る場合に限定され
るものではない。また、ピットまたはグルーブのトラッ
クピッチについても、以下に説明する縮小露光工程にお
ける縮小倍率や、投影するトラックピッチの大きさによ
って０．１〜０．５μｍの範囲で適宜調整が可能であっ
て、以下に示す縮小倍率や、投影するトラックピッチの
大きさに限定されるものではない。

【００２５】図１に示すように、例えば円形、あるいは
正方形に成型された、例えば石英ガラスの原盤１０上
に、例えばクロム等の金属膜１１を成膜する。この金属
膜１１上には、例えば従来のＣＤ（Ｃｏｍｐａｃｔ Ｄ
ｉｓｃ）、ＤＶＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｖｅｒｓａｔｉｌ
ｅ Ｄｉｓｃ）等の光ディスクの作製に適用することが
できるレーザービームレコーダーから出射されるレーザ
ー光の露光波長、すなわち、波長が４１３ｎｍ、３５１
ｎｍのレーザー光に対して露光されるフォトレジスト１
２を成膜する。

【００２６】図２に示すように、レーザービームレコー
ダー１３から、所定の波長、例えば４１３ｎｍ、３５１
ｎｍのレーザー光Ｌ₁ を出射し、ミラー１４によりレー
ザー光Ｌ₁ の方向を調整して、対物レンズ１５によりフ
ォトレジスト１２上に集光させ、フォトリソグラフィー
により、ピット、グルーブ状の、所要のパターンの潜像
を形成する。次に、例えばアルカリ現像液により現像を
行い、フォトレジスト１２を所定のパターンに形成す
る。

【００２７】前述のようにフォトレジスト１２に所定の
パターンを形成した後、このフォトレジストのパターン
をマスクとして、金属膜１１のエッチングを行う。その
後、フォトレジストを除去し、図３に示すように、原盤
１０上に、金属膜のパターン１１ａが形成されたパター
ンマスク板２０を形成する。この、金属膜のパターン１
１ａは、原盤１０の半径２４〜５８ｍｍに範囲に、トラ
ックピッチを例えば１．６μｍ程度に形成する。

【００２８】次に、パターンマスク板２０のパターン
を、縮小投影露光装置により、１／ｎに縮小して、光学
記録媒体を構成する基板の元となる基板材上にフォトリ
ソグラフィーにより転写する。図４に、本発明の光学記
録媒体の製造装置の要部である縮小投影露光装置５０の
概略図を示す。この縮小投影露光装置５０は、例えば、
ＫｒＦエキシマレーザーを出射する光出射装置２１と、
出射レーザー光をパターンマスク板２０に照射する光照
射装置２２と、例えば開口数Ｎ．Ａ．が０．６５、フィ
ールドサイズが、直径３０ｍｍのレンズである縮小レン
ズ（図示せず）を搭載した縮小投影装置２３と、被露光
体である基板材３０を載置する基台２４より成る。この
基台２４は、パターンマスク板２０と、露光光の集光ス
ポットと、基板材３０との相対位置を調整することがで
きるように、基台２４の面方向および法線方向のいずれ
にも移動することができるようにされている。

【００２９】図４に示した縮小投影露光装置５０を用い
て、パターンマスク板２０のパターンを縮小して、基板
材上にフォトリソグラフィーにより転写する工程を、以
下に説明する。

【００３０】先ず、例えば直径が２００ｍｍ（８イン
チ）、厚さが０．５〜２ｍｍ、例えば１．２ｍｍの円板
状の、例えばシリコンよりなる基板材３０上に、露光光
の波長に対して好適なフォトレジスト３１を、例えば
０．１μｍ程度の厚さに均一に塗布する。

【００３１】その後、基板材３０を基台２４上に載置す
る。この基板材３０のパターンマスク板２０との相対的
な位置関係は、基台２４を上下方向、あるいは面方向に
移動させることにより調整する。

【００３２】光出射装置２１から、例えば、波長２４８
ｎｍのＫｒＦエキシマレーザー光Ｌ₂ を出射し、光照射
装置２２により、パターンマスク板２０に照射する。

【００３３】所定のパターンが形成されたパターンマス
ク板２０を通過したレーザー光Ｌ₂は、縮小投影装置２
３を介して基板材３０上に集光させる。すなわち、パタ
ーンマスク板２０に形成されたパターンが、基板材３０
上のフォトレジスト３１に、所定の倍率、例えば１／４
に縮小して投影され、露光が行われる。このように、１
／４に縮小して投影露光を行うと、パターンマスク板２
０に形成された所定のパターンのトラックピッチを１．
６μｍ程度とすると、基板材３０上には、トラックピッ
チが、０．４μｍ程度の微細なパターンを形成すること
ができる。

【００３４】次に、図５に示すように、基台２４を基板
材３０の面方向に移動させることにより、露光光の集光
スポットと、基板材３０との相対位置を順次変化させ、
基板材３０上のフォトレジスト３１に、パターンマスク
板２０に形成されたパターンを例えば１／４に縮小し
て、複数のパターンを順次投影させ、それぞれ露光を行
う。このとき、上述のように、直径は２００ｍｍの基板
材３０を用いて、ここから例えば直径３０ｍｍの光ディ
スク用の基板を作製する場合、例えば約１９回投影する
ことができる。

【００３５】前述したように、フォトレジスト３１を露
光した後、例えばアルカリ現像液により現像を行い、図
６に示すようにフォトレジスト３１により所定にパター
ンを形成する。

【００３６】次に、図７に示すように、フォトレジスト
のパターンをマスクとして、ドライエッチングを行い、
所望の深さ、例えば０．０３〜０．３μｍの深さの微細
凹凸３２のパターンを基板材３０に形成し、その後フォ
トレジスト３１を除去する。これにより、例えば直径２
００ｍｍのシリコンの基板材３０に、複数の、例えば直
径３０ｍｍの光学記録媒体の基板が形成される。

【００３７】次に、図８に示すように、基板材３０上に
形成された微細凹凸３２上に、相変化材料を含む記録再
生可能な光ディスクに適用される材料膜４０を順次積層
して情報記録層７０を形成する。材料膜４０は、図８に
示す反射膜３３，第１の誘電体保護層３４，相変化膜３
５，第２の誘電体保護層３６よりなるものとする。すな
わち、微細凹凸３２上に順次、反射膜３３例えばＡｌ，
第１の誘電体保護層３４例えばＺｎＳ−ＳｉＯ₂ ，相変
化膜３５例えばＧｅＳｂＴｅ，第２の誘電体保護膜３６
例えばＺｎＳ−ＳｉＯ₂ を、それぞれスパッタリングに
より積層形成して光学記録媒体の情報記録層７０を形成
する。

【００３８】次に、図９に示すように、材料膜４０上
に、例えば液状光硬化性樹脂により、保護膜３７を材料
膜４０を保護し、また高Ｎ．Ａ．の記録再生用光学ピッ
クアップに対応して好適な厚さに、例えば５０μｍの厚
さに形成する。

【００３９】次に、図１０に示すように、例えば直径２
００ｍｍのシリコンの基板材３０から、直径３０ｍｍの
光学記録媒体６０を切り出す。その後、光学記録媒体の
端面の処理を行い、側面を滑らかにし、最終的に目的と
する記録再生可能な直径３０ｍｍの小型の相変化型の光
ディスクを作製することができる。なお、このようにし
て作製された光学記録媒体の記録又は再生は、上記保護
膜３７を通じて、高Ｎ．Ａ．の光学ピックアップにより
行われる。

【００４０】上述のようにして作製した記録と再生の双
方可能な光ディスクの記録容量を、ＤＶＤ−ＲＡＭ（Ｒ
ａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）を基準にし
て比較する。ＤＶＤ−ＲＡＭは、ＧｅＳｂＴｅ系の相変
化膜を有し、波長が６５０ｎｍの赤色半導体レーザーに
より記録、再生が可能な光ディスクである。このＤＶＤ
−ＲＡＭには、直径１２０ｍｍのディスクに２．６ＧＢ
の記録情報が収められている。また、トラックピッチは
０．７４μｍであり、情報記録部を構成する微細凹凸の
ランド、グルーブの双方に記録可能な構成を有してい
る。また、最短のマーク長は０．６１μｍである。光学
ピックアップのレーザー光の波長λは６５０ｎｍで、対
物レンズの開口数Ｎ．Ａ．は０．６であり、光ディスク
上の集光スポットサイズをλ／Ｎ．Ａ．により近似する
と、１．０８μｍとなる。

【００４１】これに対し、上述した実施例における本発
明の光学記録媒体であって、相変化型の光ディスクにお
いては、ＤＶＤ−ＲＡＭと同様にランド、グルーブの双
方に記録可能な構成とすると、トラックピッチは約０．
２μｍである。また、将来実現される光学ピックアップ
の短波長化、および高Ｎ．Ａ．化を見込んで、例えば光
学ピックアップのレーザー光の波長λを４００ｎｍと
し、Ｎ．Ａ．を０．９０とすると、集光スポットサイズ
は０．４４μｍとなる。ＤＶＤ−ＲＡＭのマーク長から
単純にこのサイズ比の分だけ最短マーク長が縮小される
とすると、最短マーク長は０．２５μｍとなる。

【００４２】上述したように、トラックピッチおよび最
短マーク長を従来のものと比較すると、上述した実施例
における本発明の光ディスクは、ＤＶＤ−ＲＡＭに比べ
て約９．１倍の面密度を有することになる。また、上述
した実施例における本発明の光ディスクは、直径３０ｍ
ｍであり、従来の光ディスクを１／４に縮小したもので
あるから、面積比では１／１６となる。このことから、
上述した実施例における本発明の光ディスクの記録容量
は、〔２．６（ＧＢ）×９．１〕／１６＝約１．５（Ｇ
Ｂ）となる。

【００４３】一方、再生専用の光ディスクについては、
従来のＤＶＤ−ＲＯＭ（ＲｅａｄＯｎｌｙ Ｍｅｍｏｒ
ｙ）を基準にして比較する。ＤＶＤ−ＲＯＭは、波長が
６５０ｎｍの赤色半導体レーザーにより再生が可能な光
ディスクである。このＤＶＤ−ＲＯＭは、トラックピッ
チは０．７４μｍであり、最短のピット長は０．４μｍ
で、直径１２０ｍｍのディスクに４．７ＧＢの記録容量
を有する。

【００４４】本発明の実施例における光ディスクにおい
ては、トラックピッチ０．４μｍ、最短ピット長を０．
２μｍに形成することができるため、ＤＶＤ−ＲＯＭに
比べて約３．７倍の面密度を有することになる。また、
上述した実施例における本発明の光ディスクは、直径３
０ｍｍであり、従来の光ディスクを１／４に縮小したも
のであるから、面積比では１／１６となる。このことか
ら、上述した実施例における本発明の光ディスクの記録
容量は、〔４．７（ＧＢ）×３．７〕／１６＝約１（Ｇ
Ｂ）となる。

【００４５】上述したように、本発明の本実施例におい
ては、記録、再生が可能な記録容量が１．５ＧＢの光デ
ィスク、および再生専用で記録容量が１ＧＢの光ディス
クを得ることができる。

【００４６】上述の実施例においては、所定のパターン
が形成されたパターンマスク板２０を通過したレーザー
光Ｌ₂ が、縮小投影装置２３を介して基板材３０上に集
光して、パターンマスク板２０に形成されたパターンの
縮小投影を行う場合について説明したが、本発明はこの
例に限定されるものではなく、更に半導体リソグラフィ
で実用化されつつある位相シフトマスク技術、例えばレ
ベンソン型位相シフト方式を適用すれば、さらに微細な
パターンの縮小投影露光することが可能となる。すなわ
ち、パターンマスク板２０と、所定のパターンを形成し
た位相シフトマスクを積層して、これにより縮小露光を
行う場合についても適用できる。この場合、位相シフト
マスクによる光の干渉を利用することができ、この影響
により上記実施例の、パターンマスク板２０のみを使用
した場合よりも更に１／２以下程度微細化されたパター
ンの縮小投影露光が可能となる。すなわち、上述した実
施例においては、トラックピッチを０．１μｍ〜０．２
μｍ程度にすることができる。これにより、従来の光学
記録媒体の情報記録層を構成するピット、グルーブの微
細凹凸をより微細化して形成することができるので、従
来の記録容量を保持したまま、より小型の光学記録媒体
を得ることができる。

【００４７】上述の実施例においては、図９に示すよう
に、光学記録媒体を構成する基板上に形成された微細凹
凸のパターンに、相変化材料を含む材料膜４０を形成し
た構成の、いわゆる記録と再生が可能な光学記録媒体を
得る場合について説明したが、本発明はこの例に限定さ
れるものではなく、あらかじめ記録情報を構成するピッ
トの上記微細凹凸として形成させ、この上にＡｌ等の金
属を蒸着させて反射膜を形成した構成の、いわゆる再生
専用の光ディスクを得る場合についても適用することが
でき、上述した実施例と同様に、従来の光学記録媒体の
有する記録容量を保持したまま、小型の光学記録媒体を
作製することができる。この場合、従来の光ディスクに
おいては、最短ピット長は０．８μｍ程度に形成される
ため、本発明の本実施例の縮小投影露光を行うことによ
り、最短ピット長を、１／４程度の縮小することがで
き、０．２μｍ程度に形成することができる。

【００４８】また、本発明の光学記録媒体は、材料膜と
して相変化材料を形成する場合に限定されることなく、
ＧｄＦｅＣｏ系材料、ＰｔＣｏ系材料等、光磁気材料膜
を形成することによって、記録と再生が可能な光磁気デ
ィスクを作製する場合についても適用することができ
る。

【００４９】上述の実施例においては、微細凹凸を有す
る情報記録層が１層形成されているいわゆる単層構造の
光学記録媒体を作製する場合について説明したが、本発
明はこの実施例に限定されるものではなく、本発明方法
により作製することができる基板を２層以上積層した構
造の、多層構造の光学記録媒体を作製する場合について
も適用することができる。

【００５０】上述の実施例においては、シリコン基板材
３０上にフォトレジスト３１を塗布し、この基板材３０
上に、所定のパターンを縮小露光した後、これを現像
し、所定のパターンの微細凹凸を形成して、この微細凹
凸上に材料膜４０を形成し、この材料膜４０上に保護膜
３７を形成し、その後、このシリコン基板材３０から所
要の大きさに切り出して最終的に目的とする小型の光デ
ィスクを作製する場合について説明したが、本発明は、
この例に限定されるものではない。

【００５１】すなわち、上述の実施例において、図４お
よび図５に示して説明したように、基板材３０上に所定
のパターンを縮小露光した後、図６に示すように現像を
行い、その後、図７に示すようにエッチングを行い、そ
の後フォトレジスト３１の除去を行って、微細凹凸３２
の形成を行った後、この基板材３０に形成した微細凹凸
３２上に、例えばニッケルメッキを施して、ニッケルス
タンパーを形成し、この所定のパターンが形成されたス
タンパーを用いて、ポリカーボネート等の光透過性樹脂
の射出成型や、フォトポリマリゼーション法いわゆる２
Ｐ法により、所定のパターンの微細凹凸を転写して、そ
の後、上述と同様の方法により、光学記録媒体を切り出
して作製する場合についても適用することができる。こ
の場合も、上述した実施例と同様に、従来の光学記録媒
体の情報記録層を構成するピット、グルーブの微細凹凸
をより微細化して形成することができるので、従来の記
録容量を保持したまま、より小型の光学記録媒体を得る
ことができる。

【００５２】上述の実施例においては、光学記録媒体を
構成する基板の材料としてシリコンを使用したが、本発
明はこの例に限定されるものではなく、ガラス、Ａｌ，
Ｃｕ，Ｎｉ等の金属材料、その他、ポリカーボネート等
の各種プラスチック等の有機系樹脂も同様に適用するこ
とができる。

【００５３】

【発明の効果】本発明の光学記録媒体および本発明の光
学記録媒体の製造方法によれば、光学記録媒体の情報記
録層を構成する微細凹凸のパターンを、縮小露光を行っ
て形成するものとしたため、より微細に形成することが
でき、これにより、従来の光学記録媒体が有する記録容
量を確保したまま、小型の光学記録媒体を作製すること
ができた。

【００５４】また、本発明の光学記録媒体および本発明
の光学記録媒体の製造装置を用いた光学記録媒体の製造
方法によれば、従来の光ディスクに比して小型の光ディ
スクが得られるため、基板の反り等の変形の低減化を図
ることができ、これにより、回転による面振れを低減す
ることができ、安定した情報の再生あるいは記録を行う
ことができた。また、光ディスクの小型化を図ることが
できたため、携帯用情報機器の一層の小型化、コンパク
ト化、軽量化を図ることができた。

【００５５】また、本発明の光学記録媒体の製造方法に
よれば、一枚の基板材上に、露光光のスポットと、基板
材との相対的な位置関係を変化させることにより、複数
回パターン露光を行って、多数の光学記録媒体の基板を
作製することができるため、光学記録媒体の製造工程の
円滑化を図ることができ、これにより光学記録媒体の生
産性の向上を図ることができた。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一例の光学記録媒体の製造工程図を示
す。

【図２】本発明の一例の光学記録媒体の製造工程図を示
す。

【図３】本発明の一例の光学記録媒体の製造工程図を示
す。

【図４】本発明の一例の光学記録媒体の製造に適用する
縮小投影露光装置の概略図を示す。

【図５】縮小投影露光を順次行う状態の概略図を示す。

【図６】本発明の一例の光学記録媒体の製造工程図を示
す。

【図７】本発明の一例の光学記録媒体の製造工程図を示
す。

【図８】本発明の一例の光学記録媒体の製造工程図を示
す。

【図９】本発明の一例の光学記録媒体の製造工程図を示
す。

【図１０】本発明の一例の光学記録媒体を、基板材から
切り出す状態の概略図を示す。

【図１１】従来の単層構造の光学記録媒体の概略断面図
を示す。

【図１２】光学記録媒体の原盤の作製工程図を示す。

【図１３】光学記録媒体の原盤の作製工程図を示す。

【図１４】光学記録媒体の原盤の作製工程図を示す。

【図１５】光学記録媒体の原盤の作製工程図を示す。

【図１６】Ａ 露光後の原盤の概略斜視図を示す。 Ｂ 露光後の原盤に形成された微細凹凸の拡大図を示
す。

【図１７】露光後の原盤にニッケルメッキを施した状態
の概略断面図を示す。

【図１８】スタンパーの概略断面図を示す。

【図１９】光学記録媒体の基板にスタンパーにより微細
凹凸を転写する状態図を示す。

【図２０】スタンパーにより微細凹凸を転写した基板の
概略断面図を示す。

【符号の説明】

１０…原盤、１１…金属膜、１２…フォトレジスト、１
３…レーザービームレコーダー、１４…ミラー、１５…
対物レンズ、１１ａ…金属膜パターン、２０…パターン
マスク板、２１…光出射装置、２２…光照射装置、２３
…縮小投影装置、２４…基台、３０…基板材、３１…フ
ォトレジスト、３２…微細凹凸、３３…反射膜、３４…
第１の誘電体保護層、３５…相変化膜、３６…第２の誘
電体保護層、３７…保護膜、４０…材料膜、５０…縮小
投影露光装置、６０…光学記録媒体、７０…情報記録
層、１０１…基板、１０２…微細凹凸、１０３…反射
膜、１０４…情報記録層、１０５…保護膜、１１０…ガ
ラス原盤、１１１…回転基台、１１２…ノズル、１１３
…フォトレジスト、１１４…対物レンズ、１１５…微細
凹凸、１１８…ニッケルメッキ、１１９…スタンパー、
１２５…微細凹凸

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板の少なくとも一主面に、微細凹凸を
   有する情報記録層が形成され、 上記情報記録層によって情報の記録、あるいは再生を行
   うことのできる円板状の光学記録媒体であって、 外径が直径２０〜４０ｍｍであり、 トラックピッチが、０．１〜０．５μｍであることを特
   徴とする光学記録媒体。
2. 【請求項２】 原盤上に、フォトリソグラフィーにより
   所要のパターンを形成してパターンマスク板を形成する
   工程と、 基板材上に、フォトレジストを塗布する工程と、 上記パターンマスク板に形成されたパターンを、１／ｎ
   （１＜ｎ）に縮小して、基板材上にフォトリソグラフィ
   ーにより転写する縮小露光工程とを有することを特徴と
   する光学記録媒体の製造方法。
3. 【請求項３】 光出射装置と、 該光出射装置からの出射光を、原盤上に、フォトリソグ
   ラフィーにより所要のパターンを形成したパターンマス
   ク板に照射する光照射装置と、 上記パターンマスク板のパターンを被露光体に縮小投影
   する縮小レンズを搭載した縮小投影露光装置とを有する
   ことを特徴とする光学記録媒体の製造装置。
4. 【請求項４】 上記パターンマスク板上に位相シフトマ
   スクを積層して、上記縮小露光工程を行うことを特徴と
   する請求項２に記載の光学記録媒体の製造方法。
5. 【請求項５】 上記ｎが、ｎ＝４であることを特徴とす
   る請求項２に記載の光学記録媒体の製造方法。
6. 【請求項６】 上記縮小露光工程後、上記基板材上のフ
   ォトレジストを現像し、エッチングを行ってパターン化
   する工程と、 上記基板材上に材料膜を成膜する工程とを有することを
   特徴とする請求項２に記載の光学記録媒体の製造方法。
7. 【請求項７】 上記縮小露光工程後、上記基板材上のフ
   ォトレジストを現像し、エッチングを行ってパターン化
   する工程と、 上記基板材上に、ニッケルメッキを施し、これを剥離し
   てスタンパーを形成する工程と、 上記スタンパーに形成されたパターンを光透過性樹脂に
   転写する工程とを有することを特徴とする請求項２に記
   載の光学記録媒体の製造方法。