JPH11160717A - Liquid crystal cell and production thereof - Google Patents
Liquid crystal cell and production thereofInfo
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- JPH11160717A JPH11160717A JP33037197A JP33037197A JPH11160717A JP H11160717 A JPH11160717 A JP H11160717A JP 33037197 A JP33037197 A JP 33037197A JP 33037197 A JP33037197 A JP 33037197A JP H11160717 A JPH11160717 A JP H11160717A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、反強誘電性液晶や
強誘電性液晶等のスメクチック液晶或いはネマチック液
晶等の各種の液晶を用いた液晶セル及びその製造方法に
関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal cell using various liquid crystals such as a smectic liquid crystal such as an antiferroelectric liquid crystal or a ferroelectric liquid crystal, or a nematic liquid crystal, and a method of manufacturing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、反強誘電性液晶や強誘電性液晶を
用いた液晶セルは、その広視野角特性や高速応答性等に
着目して、表示装置への応用が検討されている。当該液
晶セルは、互いに対向する両電極基板間の1μm乃至2
μmのギャップ(以下、セルギャップという)内に、反
強誘電性液晶を注入して形成されている。2. Description of the Related Art In recent years, application of a liquid crystal cell using an antiferroelectric liquid crystal or a ferroelectric liquid crystal to a display device has been studied by focusing on its wide viewing angle characteristics and high-speed response. The liquid crystal cell has a distance between 1 μm and 2 μm between both electrode substrates facing each other.
It is formed by injecting an antiferroelectric liquid crystal into a μm gap (hereinafter referred to as a cell gap).
【0003】ここで、液晶の配向欠陥を少なくする構造
を実現するため、複数のストライプ状スペーサが、両電
極基板の間にてこれら両電極基板の一方の複数のストラ
イプ状透明電極の長手方向に沿い形成されている。ま
た、上記一方の電極基板の各透明電極の配線抵抗を小さ
くするために、これら各透明電極にはその長手方向に沿
い接する状態にて、アルミニウム等の金属からなる補助
電極がそれぞれ形成されている(特公平6−68589
号公報参照)。Here, in order to realize a structure for reducing alignment defects of the liquid crystal, a plurality of stripe-shaped spacers are provided between the two electrode substrates in the longitudinal direction of one of the plurality of stripe-shaped transparent electrodes of the two electrode substrates. It is formed along. Further, in order to reduce the wiring resistance of each transparent electrode of the one electrode substrate, an auxiliary electrode made of a metal such as aluminum is formed on each of the transparent electrodes so as to be in contact with each other along the longitudinal direction. (Tokuhei 6-68589
Reference).
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記液晶セ
ルにおいては、各補助電極が、各透明電極の幅方向ー側
端部上に形成されている。そして、各スペーサが、配向
膜を介し、各補助電極に重なるように、隣り合う各両透
明電極間に対応して形成されている。一方、各スペーサ
及び各補助電極の形成にあたっては、フォトリソグラフ
ィ法を用いて、感光性樹脂であるフォトレジストの塗布
露光工程を実施する必要がある。By the way, in the above-mentioned liquid crystal cell, each auxiliary electrode is formed on the widthwise side end of each transparent electrode. Each spacer is formed between the adjacent transparent electrodes so as to overlap with each auxiliary electrode via the alignment film. On the other hand, when forming each spacer and each auxiliary electrode, it is necessary to perform a step of applying and exposing a photoresist as a photosensitive resin using a photolithography method.
【0005】従って、上記液晶セルの場合、各透明電極
のパターン形成をも含めると、最低、三回のレジスト塗
布露光工程の実施が必要となる。しかし、フォトレジス
トの塗布及び露光には、共に、装置コストが大きくかか
る上、上記塗布露光工程による実施回数が多い程、装置
の台数が増大し、その設置面積も増大するという不具合
が生ずる。Therefore, in the case of the above-mentioned liquid crystal cell, it is necessary to perform at least three times of the resist coating and exposing steps including the formation of the pattern of each transparent electrode. However, the application and exposure of the photoresist both increase the cost of the apparatus, and the more the number of times of performing the above-mentioned application and exposure process, the more the number of apparatuses and the installation area increase.
【0006】そこで、本発明は、以上のようなことに対
処するため、液晶セル及びその製造方法において、複数
のストライプ状スペーサ等の構成部材を有効に活用する
ことで、液晶の配向や補助電極の役割を適正に維持しつ
つ、液晶セルの製造に必要なパターニング処理回数を必
要最小限に抑制することを目的とする。In order to address the above-mentioned problems, the present invention effectively utilizes a plurality of constituent members such as a plurality of stripe-shaped spacers in a liquid crystal cell and a method of manufacturing the same, thereby providing a liquid crystal alignment and an auxiliary electrode. The purpose of the present invention is to minimize the number of times of patterning processing required for manufacturing a liquid crystal cell while maintaining the role of properly.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】上記の課題の解決にあた
り、請求項1に記載の発明によれば、両電極基板のうち
少なくとも一方の複数の電極(22)にその長手方向に
沿い接するように当該複数の電極のうち互いに隣り合う
各両電極間の各間隙(25)に形成された複数のストラ
イプ状金属製補助電極(27a、27b)と、これら複
数の補助電極と他方の電極基板(10)との間にて複数
の補助電極の長手方向に沿い形成されて当該複数の補助
電極と共に両電極基板間のセルギャップを保持する複数
のストライプ状スペーサ(28a、28b)とを備える
液晶セルが提供される。In order to solve the above problem, according to the first aspect of the present invention, at least one of the two electrode substrates (22) is in contact with the plurality of electrodes (22) in the longitudinal direction thereof. Among the plurality of electrodes, a plurality of stripe-shaped metal auxiliary electrodes (27a, 27b) formed in each gap (25) between both electrodes adjacent to each other, and the plurality of auxiliary electrodes and the other electrode substrate (10 And a plurality of stripe-shaped spacers (28a, 28b) formed along the longitudinal direction of the plurality of auxiliary electrodes and holding the cell gap between the two electrode substrates together with the plurality of auxiliary electrodes. Provided.
【0008】上述のように、複数のスペーサの各々は、
各補助電極に積層して形成されている。従って、各補助
電極の形成は、形成済みの複数のスペーサをマスクとし
て利用したパターニング処理でもって可能となる。従っ
て、各補助電極の形成にあたり、例えば、新たにフォト
レジストを用いてフォトリソグラフィ法によりパターニ
ングするというが不要となる。[0008] As described above, each of the plurality of spacers is
It is formed so as to be laminated on each auxiliary electrode. Therefore, each auxiliary electrode can be formed by patterning using a plurality of formed spacers as a mask. Therefore, in forming each auxiliary electrode, for example, it is not necessary to newly pattern by photolithography using a photoresist.
【0009】よって、液晶セルの製造にあたり必要なパ
ターニング処理回数を必要最小限に抑制でき、液晶セル
の製造コストの低減に役立つ。また、上述のように、各
補助電極は一方の電極基板の各電極にその長手方向に沿
い接するように形成されているから、一方の電極基板の
各電極の抵抗を低くすることができる。なお、補助電極
とスペーサとの積層構造を介して両電極基板の重ね合わ
せがなされるので、両電極基板間のセルギャップを均一
に保持できるのは勿論である。Therefore, the number of times of patterning required for manufacturing a liquid crystal cell can be suppressed to a necessary minimum, which helps to reduce the manufacturing cost of the liquid crystal cell. Further, as described above, since each auxiliary electrode is formed so as to be in contact with each electrode of one electrode substrate along its longitudinal direction, the resistance of each electrode of one electrode substrate can be reduced. In addition, since the two electrode substrates are overlapped via the laminated structure of the auxiliary electrode and the spacer, it is needless to say that the cell gap between the two electrode substrates can be maintained uniformly.
【0010】また、上述のように、複数のスペーサの各
々が、補助電極と共に、一方の電極基板の各両電極間の
各間隙に積層して形成されているので、スペーサや補助
電極が一方の電極基板の電極を覆うことがない。このた
め、液晶セルの表示領域における両電極基板の各対向電
極の部分間の間隔にばらつきが発生せず、液晶の均一な
配向と均一な表示を確保できる。これと同時に、液晶セ
ルを通る光の透過率(即ち、開口率)も、スペーサや補
助電極で電極を部分的に覆う構成の液晶セルに比べて増
大し、高輝度の表示を良好に確保できる。Further, as described above, since each of the plurality of spacers is formed together with the auxiliary electrode in the gap between the two electrodes on one electrode substrate, the spacer and the auxiliary electrode are formed on one side of the electrode substrate. It does not cover the electrodes of the electrode substrate. For this reason, there is no variation in the distance between the portions of the counter electrodes on both electrode substrates in the display region of the liquid crystal cell, and uniform alignment of the liquid crystal and uniform display can be ensured. At the same time, the transmittance of light passing through the liquid crystal cell (that is, the aperture ratio) is increased as compared with a liquid crystal cell in which the electrodes are partially covered with spacers and auxiliary electrodes, and a high-luminance display can be reliably secured. .
【0011】また、請求項2に記載の発明によれば、両
電極基板のうち少なくとも一方の複数の電極(22)の
各液晶側表面にその長手方向に沿い接するように形成し
た各金属製補助電極(27a)と、当該各補助電極と他
方の電極基板(10)との間にて各補助電極の長手方向
に沿い挟持されるように形成されて当該各補助電極と共
に両電極基板間のセルギャップを保持する各ストライプ
状スペーサ(28a)とを備える液晶セルが提供され
る。According to the second aspect of the present invention, each metal auxiliary member formed on each liquid crystal side surface of at least one of the plurality of electrodes (22) of the two electrode substrates so as to be in contact with the longitudinal direction thereof. A cell is formed between the electrode (27a) and each of the auxiliary electrodes and the other electrode substrate (10) so as to be sandwiched along the longitudinal direction of each of the auxiliary electrodes. There is provided a liquid crystal cell comprising each stripe-shaped spacer (28a) for maintaining a gap.
【0012】このように、複数のスペーサの各々が、補
助電極と共に、一方の電極基板の各電極に積層されてい
ても、各補助電極の形成は、形成済みの複数のスペーサ
をマスクとして利用したパターニング処理でもって可能
となる。従って、各補助電極の形成にあたり、例えば、
新たにフォトレジストを用いてフォトリソグラフィ法に
よりパターニングするというが不要となる。As described above, even when each of the plurality of spacers is laminated on each electrode of one of the electrode substrates together with the auxiliary electrode, the formation of each auxiliary electrode uses the formed spacer as a mask. This is made possible by the patterning process. Therefore, in forming each auxiliary electrode, for example,
It becomes unnecessary to newly pattern by photolithography using a photoresist.
【0013】よって、液晶セルの製造にあたり必要なパ
ターニング処理回数を必要最小限に抑制でき、液晶セル
の製造コストの低減に役立つ。また、上述のように、各
補助電極は一方の電極基板の各電極にその長手方向に沿
い接するように形成されているから、一方の電極基板の
各電極の抵抗を低くすることができる。なお、補助電極
とスペーサとの積層構造を介して両電極基板の重ね合わ
せがなされるので、両電極基板間のセルギャップを均一
に保持できるのは勿論である。Therefore, the number of times of patterning required for manufacturing a liquid crystal cell can be suppressed to a necessary minimum, which helps to reduce the manufacturing cost of the liquid crystal cell. Further, as described above, since each auxiliary electrode is formed so as to be in contact with each electrode of one electrode substrate along its longitudinal direction, the resistance of each electrode of one electrode substrate can be reduced. In addition, since the two electrode substrates are overlapped via the laminated structure of the auxiliary electrode and the spacer, it is needless to say that the cell gap between the two electrode substrates can be maintained uniformly.
【0014】また、請求項3に記載の発明によれば、両
電極基板のうち少なくとも一方の複数の電極(22)の
うち互いに隣り合う各両電極間の各間隙(25)に設け
られた各一対の金属製補助電極であって各両電極の各対
向側壁にその長手方向に沿い接するように形成した各一
対の金属製補助電極(27a、27b)と、当該各一対
の補助電極と他方の電極基板(10)との間にて各一対
の補助電極の長手方向に沿い挟持されるように形成され
て当該各一対の補助電極と共に両電極基板のセルギャッ
プを保持する各一対のスペーサ(28a、28b)とを
備える液晶セルが提供される。According to the third aspect of the present invention, each of the plurality of electrodes (22) of at least one of the two electrode substrates is provided in each of the gaps (25) between the two adjacent electrodes. A pair of metal auxiliary electrodes (27a, 27b) formed so as to be in contact with the opposing side walls of both electrodes along the longitudinal direction thereof, and the pair of metal auxiliary electrodes and the other of the pair of metal auxiliary electrodes; Each pair of spacers (28a) formed between the electrode substrate (10) so as to be sandwiched along the longitudinal direction of each pair of auxiliary electrodes and holding the cell gap between both electrode substrates together with each pair of auxiliary electrodes. , 28b).
【0015】このように、請求項1に記載の発明にて述
べたスペーサと補助電極との上記間隙における積層構造
に代えて、上記間隙におけるスペーサと補助電極からな
る一対の積層構造を採用しても、請求項1と同様の作用
効果を達成できる。また、請求項4及び5に記載の発明
によれば、第1電極基板(10)は、その配向膜(1
7)の内側にて複数のストライプ状の第1電極基板側透
明電極(15)を有している。Thus, instead of the laminated structure in the gap between the spacer and the auxiliary electrode described in the first aspect of the present invention, a pair of laminated structures composed of the spacer and the auxiliary electrode in the gap is adopted. Can achieve the same effect as the first aspect. According to the fourth and fifth aspects of the present invention, the first electrode substrate (10) includes the alignment film (1).
A plurality of stripe-shaped first electrode substrate-side transparent electrodes (15) are provided inside 7).
【0016】また、第2電極基板(20)は、透明基板
(21)と、複数の第1電極基板側透明電極と交差する
ように透明基板の液晶側表面に形成された複数のストラ
イプ状の第2電極基板側透明電極であってその互いに隣
り合う各両透明電極の間にそれぞれ間隙を形成する複数
のストライプ状の第2電極基板側透明電極(22)と、
透明基板の液晶側表面のうち各間隙に対応する各表面部
から当該各間隙を通り延出して第1及び第2の電極基板
間のセルギャップを保持する各隔壁(20a、20b)
と、当該各隔壁及び各第2電極基板側透明電極を介し透
明基板の液晶側表面に形成された配向膜(24)とを備
え、各隔壁は、各表面部に設けた補助電極(27a、2
7b)と、これら各補助電極と第1電極基板の液晶側表
面との間に設けたスペーサ(28a、28b)とを備え
ており、各補助電極は各第2電極基板側透明電極の前記
各間隙側一側壁に接続されている。The second electrode substrate (20) includes a transparent substrate (21) and a plurality of stripes formed on the liquid crystal side surface of the transparent substrate so as to intersect the plurality of first electrode substrate side transparent electrodes. A plurality of stripe-shaped second electrode substrate-side transparent electrodes (22), each of which is a second electrode substrate-side transparent electrode and forms a gap between each adjacent transparent electrode;
Each partition (20a, 20b) extending from each surface portion corresponding to each gap among the liquid crystal side surfaces of the transparent substrate through the gaps and holding a cell gap between the first and second electrode substrates.
And an alignment film (24) formed on the liquid crystal side surface of the transparent substrate via the respective partition walls and the respective second electrode substrate side transparent electrodes. Each partition wall has an auxiliary electrode (27a, 2
7b), and a spacer (28a, 28b) provided between each of the auxiliary electrodes and the liquid crystal side surface of the first electrode substrate. It is connected to one side wall on the gap side.
【0017】これにより、請求項1に記載の発明と同様
の作用効果を達成できる。ここで、請求項5に記載の発
明によれば、各隔壁は、その補助電極にて、透明基板の
各表面部に各間隙内で接触金属部(26a、26b)を
介し積層されている。また、各接触金属部は、各第2電
極基板側透明電極の各間隙側一側壁とオーミック接触す
ることで、各補助電極を各第2電極基板側透明電極に接
続してなる。Thus, the same function and effect as the first aspect can be achieved. According to the fifth aspect of the present invention, each partition is laminated on each surface portion of the transparent substrate by the auxiliary electrode in each gap via the contact metal portions (26a, 26b). Further, each contact metal portion makes ohmic contact with one side wall of each gap side of each second electrode substrate side transparent electrode, thereby connecting each auxiliary electrode to each second electrode substrate side transparent electrode.
【0018】これにより、複数の補助電極の各々は、そ
の長手方向の全体に亘り、各接触電極部を介し第2電極
基板の透明電極と良好な電気的接続状態におかれる。そ
の結果、第2電極基板の透明電極の配線抵抗の低減を良
好に確保できる。このようなことは、液晶セルの大型化
や高精細化において特に著しい。また、請求項6及び7
に記載の発明によれば、第1電極基板は、その配向膜
(17)の内側にて複数のストライプ状の第1電極基板
側透明電極(15)を有している。Thus, each of the plurality of auxiliary electrodes is in a good electrical connection state with the transparent electrode of the second electrode substrate through each contact electrode portion over the entire length of the auxiliary electrode. As a result, a reduction in the wiring resistance of the transparent electrode of the second electrode substrate can be satisfactorily ensured. Such a phenomenon is particularly remarkable in increasing the size and definition of the liquid crystal cell. Claims 6 and 7
According to the invention described in (1), the first electrode substrate has a plurality of stripe-shaped first electrode substrate-side transparent electrodes (15) inside the alignment film (17).
【0019】第2電極基板は、透明基板(21)と、複
数の第1電極基板側透明電極と交差するように透明基板
の液晶側表面に形成された複数のストライプ状の第2電
極基板側透明電極であってその互いに隣り合う各両透明
電極間にそれぞれ間隙(25)を形成する複数のストラ
イプ状の第2電極基板側透明電極(22)と、透明基板
の液晶側表面のうち各間隙に対応する各表面部から当該
各間隙を通り延出して第1及び第2の電極基板間のセル
ギャップを保持する各一対の隔壁(20a、20b)
と、これら各一対の隔壁及び各第2電極基板側透明電極
を介し透明基板の液晶側表面に形成された配向膜(2
4)とを備え、各一対の隔壁は、その対毎に、前記各間
隙内で互いに間隔をおいて位置しており、当該各一対の
隔壁は、隔壁毎に、各表面部に設けた補助電極(27
a、27b)と、これら各補助電極と第1電極基板の液
晶側表面との間に設けたスペーサ(28a、28b)と
を備えており、各補助電極は各第2電極基板側透明電極
の各間隙側一側壁に接続されている。The second electrode substrate includes a transparent substrate (21) and a plurality of stripe-shaped second electrode substrate sides formed on the liquid crystal side surface of the transparent substrate so as to intersect the plurality of first electrode substrate side transparent electrodes. A plurality of stripe-shaped second electrode substrate-side transparent electrodes (22), each of which forms a gap (25) between each of the transparent electrodes adjacent to each other, and each gap of the liquid crystal side surface of the transparent substrate; A pair of partition walls (20a, 20b) extending from the respective surface portions corresponding to the above and extending through the respective gaps to maintain the cell gap between the first and second electrode substrates.
And an alignment film (2) formed on the liquid crystal side surface of the transparent substrate via the pair of partition walls and the second electrode substrate side transparent electrode.
4), wherein each pair of partition walls is located at an interval from each other in each of the gaps for each pair, and each pair of partition walls is provided with an auxiliary Electrodes (27
a, 27b) and spacers (28a, 28b) provided between each of the auxiliary electrodes and the liquid crystal side surface of the first electrode substrate. Each gap side is connected to one side wall.
【0020】これによっても、請求項3に記載の発明と
同様の作用効果を達成できる。ここで、請求項7に記載
の発明によれば、各一対の隔壁は、その隔壁毎に、その
補助電極にて、透明基板の各表面部に各間隙内で接触金
属部(26a、26b)を介して積層されている。ま
た、各接触金属部は、各第2電極基板側透明電極の各間
隙側一側壁とオーミック接触することで、各補助電極を
各第2電極基板側透明電極に接続してなる。According to this, the same operation and effect as the invention described in claim 3 can be achieved. According to the seventh aspect of the present invention, each pair of partition walls is provided with a contact metal portion (26a, 26b) in each gap between each partition wall and each surface portion of the transparent substrate by the auxiliary electrode. Are laminated through. Further, each contact metal portion makes ohmic contact with one side wall of each gap side of each second electrode substrate side transparent electrode, thereby connecting each auxiliary electrode to each second electrode substrate side transparent electrode.
【0021】これにより、請求項5に記載の発明と同様
の作用効果を達成できる。また、請求項8及び9に記載
の発明によれば、第1電極基板は、その配向膜(17)
の内側にて複数のストライプ状の第1電極基板側透明電
極(15)を有している。第2電極基板は、透明基板
(21)と、複数の第1電極基板側透明電極と交差する
ように透明基板の液晶側表面に形成された複数のストラ
イプ状第2電極基板側透明電極(22)と、これら第2
電極基板側透明電極の各液晶側表面と第1電極基板の液
晶側表面との間に設けられて第1及び第2の電極基板間
のセルギャップを保持する各隔壁(20a、20b)
と、当該各隔壁及び各第2電極基板側透明電極を介し透
明基板の液晶側表面に形成された配向膜(24A)とを
備え、各隔壁は、各第2電極基板側透明電極の液晶側表
面に設けた補助電極(27a)と、これら各補助電極と
第1電極基板の液晶側表面との間に設けたスペーサ(2
8a)とを備えている。Thus, the same function and effect as the fifth aspect of the invention can be achieved. Further, according to the invention described in claims 8 and 9, the first electrode substrate has the alignment film (17).
And a plurality of stripe-shaped first electrode substrate-side transparent electrodes (15) inside. The second electrode substrate includes a transparent substrate (21) and a plurality of stripe-shaped second electrode substrate-side transparent electrodes (22) formed on the liquid crystal side surface of the transparent substrate so as to intersect the plurality of first electrode substrate-side transparent electrodes. ) And these second
Each partition (20a, 20b) provided between each liquid crystal side surface of the electrode substrate side transparent electrode and the liquid crystal side surface of the first electrode substrate to maintain a cell gap between the first and second electrode substrates.
And an alignment film (24A) formed on the liquid crystal side surface of the transparent substrate via the respective partition walls and the respective second electrode substrate side transparent electrodes, and each partition wall is formed on the liquid crystal side of the respective second electrode substrate side transparent electrode. An auxiliary electrode (27a) provided on the surface and a spacer (2) provided between each auxiliary electrode and the liquid crystal side surface of the first electrode substrate.
8a).
【0022】これによっても、請求項2に記載の発明と
同様の作用効果を達成できる。ここで、請求項9に記載
の発明によれば、各隔壁は、その補助電極にて、第2電
極基板側透明電極の前記液晶側表面に各接触金属部(2
6a)を介し積層されている。また、各接触金属部は、
各第2電極基板側透明電極の液晶側表面とオーミック接
触することで、各補助電極を各第2電極基板側透明電極
に接続してなる。According to this, the same operation and effect as the invention described in claim 2 can be achieved. According to the ninth aspect of the present invention, each of the partition walls is provided with a contact metal part (2) on the liquid crystal side surface of the second electrode substrate side transparent electrode at its auxiliary electrode.
6a). Also, each contact metal part is
Each auxiliary electrode is connected to each second electrode substrate side transparent electrode by making ohmic contact with the liquid crystal side surface of each second electrode substrate side transparent electrode.
【0023】請求項5に記載の発明と同様の作用効果を
達成できる。また、請求項11乃至16に記載の発明に
よれば、電極基板形成工程は、両電極基板のうち一方の
複数の電極(22)及びこれら電極のうち互いに隣り合
う各両電極の間の各間隙(25)に亘り補助金属膜
(A)を形成する補助金属膜形成工程(S4)と、補助
金属膜にフォトレジスト膜(R)を積層するレジスト膜
積層工程(S4)と、フォトレジスト膜にパターニング
処理を施して複数のストライプ状スペーサ(28a、2
8b)を前記補助金属膜に沿い形成するスペーサ形成工
程(S5、S6)と、補助金属膜に複数のスペーサをマ
スクとしてパターニング処理を施して一方の電極基板の
複数の電極にその長手方向に接しかつ複数のスペーサと
共に複数のストライプ状隔壁(20a、20b)を構成
するように複数のストライプ状補助電極(27a、27
b)を形成する補助電極形成工程(S7)とを有してい
る。The same function and effect as the invention described in claim 5 can be achieved. According to the eleventh to sixteenth aspects of the present invention, in the electrode substrate forming step, one of the plurality of electrodes (22) of the two electrode substrates and each of the gaps between the two adjacent electrodes among the electrodes are formed. (25) an auxiliary metal film forming step (S4) for forming an auxiliary metal film (A), a resist film laminating step (S4) for laminating a photoresist film (R) on the auxiliary metal film, A plurality of stripe-shaped spacers (28a, 2
8b) along the auxiliary metal film in a spacer forming step (S5, S6), and patterning the auxiliary metal film using a plurality of spacers as a mask to contact the plurality of electrodes of one electrode substrate in the longitudinal direction. In addition, a plurality of stripe-shaped auxiliary electrodes (27a, 27b) are formed so as to form a plurality of stripe-shaped partition walls (20a, 20b) together with a plurality of spacers.
b) forming an auxiliary electrode forming step (S7).
【0024】また、重ね合わせ工程において、両電極基
板の重ね合わせを複数のストライプ状隔壁を介して行
う。上述のように、複数のストライプ状補助電極の形成
のための補助金属膜のパターニング処理にあたり、複数
のスペーサをそのままマスクとして利用する。従って、
複数のストライプ状補助電極の形成にあたり、新たにフ
ォトレジストを用いてフォトリソグラフィ法によりパタ
ーニング処理を行うという工程が不要となる。In the overlapping step, the two electrode substrates are overlapped with each other via a plurality of stripe-shaped partition walls. As described above, in patterning the auxiliary metal film for forming a plurality of stripe-shaped auxiliary electrodes, the plurality of spacers are used as they are as masks. Therefore,
In forming the plurality of stripe-shaped auxiliary electrodes, a step of performing patterning by photolithography using a new photoresist is not required.
【0025】よって、液晶セルの製造にあたり必要なパ
ターニング処理回数を必要最小限に抑制できる。その結
果、フォトリソグラフィ法の実施に要する設備の数を減
少させることができて、液晶セルの製造コストの低減に
役立つ。また、上述のように、各補助電極は一方の電極
基板の各電極にその長手方向に沿い接するように形成さ
れているから、一方の電極基板の各電極の抵抗を低くす
ることができる。なお、補助電極とスペーサとの積層構
造からなる複数のストライプ状隔壁を介して両電極基板
の重ね合わせがなされるので、両電極基板間のセルギャ
ップを均一に保持できるのは勿論である。Therefore, the number of patterning processes required for manufacturing a liquid crystal cell can be suppressed to a minimum. As a result, the number of facilities required for performing the photolithography method can be reduced, which helps to reduce the manufacturing cost of the liquid crystal cell. Further, as described above, since each auxiliary electrode is formed so as to be in contact with each electrode of one electrode substrate along its longitudinal direction, the resistance of each electrode of one electrode substrate can be reduced. In addition, since the two electrode substrates are overlapped via a plurality of stripe-shaped partition walls having a laminated structure of the auxiliary electrode and the spacer, it is needless to say that the cell gap between the two electrode substrates can be maintained uniformly.
【0026】ここで、請求項12に記載の発明によれ
ば、スペーサ形成工程において、フォトレジスト膜のパ
ターニング処理を、複数のストライプ状スペーサの各々
が一方の電極基板の複数の電極のうち互いに隣り合う各
両透明電極の間に対応して位置するように行い、補助電
極形成工程において、補助金属膜のパターニング処理
を、複数のストライプ状補助電極の各々が各両電極の一
方の電極の各間隙側一側壁に接するように行う。According to the twelfth aspect of the present invention, in the spacer forming step, the patterning process of the photoresist film is performed by making each of the plurality of stripe-shaped spacers adjacent to each other among the plurality of electrodes of one electrode substrate. In the auxiliary electrode forming step, the patterning of the auxiliary metal film is performed so that each of the plurality of stripe-shaped auxiliary electrodes is formed in the gap between one of the two electrodes. It is performed so as to be in contact with one side wall.
【0027】このように、補助電極が各両電極の一方の
電極の各間隙側一側壁に接するように位置するため、液
晶セルのセルギャップの減少を招くことなく、当該電極
の厚さ分だけ補助電極の厚さを増大させることができ
る。その結果、セルギャップの減少により生じがちな両
電極基板の絶縁破壊や表示上に線欠陥を伴うことなく、
補助電極による低抵抗化をより一層向上させ得る。As described above, since the auxiliary electrode is located so as to be in contact with one side wall on each gap side of one electrode of each of the two electrodes, the cell gap of the liquid crystal cell is not reduced and the auxiliary electrode is provided by the thickness of the electrode. The thickness of the auxiliary electrode can be increased. As a result, without causing dielectric breakdown of both electrode substrates and line defects on the display, which are likely to occur due to the reduction of the cell gap,
The resistance reduction by the auxiliary electrode can be further improved.
【0028】従って、補助電極による低抵抗化の度合い
を従来と同様にする場合、補助電極の厚さの増大分だけ
幅を減少させることができる。よって、液晶セルとして
の開口率が増大して高輝度の表示が可能となる。また、
請求項13に記載の発明によれば、スペーサ形成工程に
おいて、フォトレジスト膜のパターニング処理を、複数
のストライプ状スペーサの各々が一方の電極基板の複数
の電極にその長手方向に対応して位置するように行い、
補助電極形成工程において、補助金属膜のパターニング
処理を、各補助電極が一方の電極基板の各電極上にその
長手方向に接するように行う。Therefore, when the degree of resistance reduction by the auxiliary electrode is made the same as in the conventional case, the width can be reduced by the increase in the thickness of the auxiliary electrode. Therefore, the aperture ratio of the liquid crystal cell is increased, and high-luminance display can be performed. Also,
According to the thirteenth aspect, in the spacer forming step, the patterning process of the photoresist film is performed such that each of the plurality of stripe-shaped spacers is located on the plurality of electrodes of one electrode substrate in the longitudinal direction. Do so,
In the auxiliary electrode forming step, patterning of the auxiliary metal film is performed such that each auxiliary electrode is in contact with each electrode of one electrode substrate in the longitudinal direction.
【0029】このように、複数のスペーサの各々が、各
補助電極と共に一方の電極基板の各電極上に積層形成さ
れても、請求項11に記載の発明と実質的に同様の作用
効果を達成できる。また、請求項14に記載の発明によ
れば、電極基板形成工程は、他方の電極基板の内表面外
周部に沿い帯状シール(30)をコ字状に形成するシー
ル形成工程(S13)を有し、重ね合わせ工程におい
て、複数の隔壁がシールの両並行シール部(30a、3
0b)の間にてこれら両並行シール部に沿いかつシール
の両並行シール部に対する直交シール部(30c)と直
角となるように両電極基板の重ね合わせを行って両並行
シール部の各先端部、各隔壁の先端部及び両電極基板の
各内表面により複数の開口部(31a)からなる液晶注
入口(31)を形成し、液晶注入工程において、液晶の
注入を液晶注入口を通して行う。As described above, even if each of the plurality of spacers is formed on each electrode of one electrode substrate together with each auxiliary electrode, substantially the same operation and effect as the invention according to claim 11 can be achieved. it can. According to the fourteenth aspect of the present invention, the electrode substrate forming step includes a seal forming step (S13) of forming a belt-shaped seal (30) in a U shape along the outer peripheral portion of the inner surface of the other electrode substrate. Then, in the overlapping step, a plurality of partition walls are used to seal both parallel seal portions (30a, 3a).
0b), the two electrode substrates are overlapped along the two parallel seal portions and at right angles to the orthogonal seal portion (30c) with respect to the two parallel seal portions of the seal. A liquid crystal injection port (31) comprising a plurality of openings (31a) is formed by the tip of each partition and each inner surface of both electrode substrates, and in the liquid crystal injection step, liquid crystal is injected through the liquid crystal injection port.
【0030】これにより、両電極基板間における液晶注
入口の各開口部の開口形状が、両並行シール部の各先端
部に加え、これら両並行シール部の間に位置する各隔壁
の先端部でもって特定される。このため、各開口部は、
その開口形状にて、互いに隣合う各両隔壁間の領域にて
その長手方向断面内に形成される形状と同一形状に維持
された状態で、各両隔壁間の領域と一様に連通する。Thus, the opening shape of each opening of the liquid crystal injection port between the two electrode substrates can be adjusted not only by each tip of the two-sided seal portion but also by the tip of each partition located between these two-sided seal portions. Specified by. For this reason, each opening is
In the shape of the opening, the region between the two partitions adjacent to each other is uniformly communicated with the region between the two partitions while maintaining the same shape as that formed in the longitudinal section.
【0031】従って、液晶の液晶注入口から両電極基板
間への注入が、液晶注入口側から両電極基板間の奥側に
かけて、各隔壁の長手方向に沿い均一な速度にて円滑に
なされる。その結果、液晶の液晶層に不連続な部分が生
ずることがなく、液晶全体の配向が均一になされ、液晶
セルの表示領域全体に亘り良好な表示を均一に確保でき
る。このような作用効果は、液晶としてスメクチック液
晶を用いた場合に特に著しい。Accordingly, the liquid crystal is smoothly injected from the liquid crystal injection port to between the two electrode substrates at a uniform speed along the longitudinal direction of each partition from the liquid crystal injection port side to the back side between the two electrode substrates. . As a result, there is no discontinuous portion in the liquid crystal layer of the liquid crystal, the orientation of the entire liquid crystal is made uniform, and good display can be uniformly secured over the entire display area of the liquid crystal cell. Such an effect is particularly remarkable when a smectic liquid crystal is used as the liquid crystal.
【0032】また、請求項15に記載の発明によれば、
スペーサ形成工程において、フォトレジスト膜のパター
ニング処理を、複数のストライプ状スペーサの各々が液
晶セルの外部回路との各接続端子部(29)に対応する
位置まで延出するように行い、液晶注入工程後におい
て、各スペーサのうち各接続端子部に対する対応部の直
下に位置する各補助電極の電極部分を各接続端子部とす
るように、各スペーサのうち各接続端子部に対する対応
部を除去する。According to the fifteenth aspect of the present invention,
In the spacer forming step, a patterning process of the photoresist film is performed so that each of the plurality of stripe-shaped spacers extends to a position corresponding to each connection terminal portion (29) with an external circuit of the liquid crystal cell. Thereafter, the corresponding portions of the spacers corresponding to the respective connection terminal portions are removed such that the electrode portions of the respective auxiliary electrodes located immediately below the corresponding portions corresponding to the respective connection terminal portions are used as the respective connection terminal portions.
【0033】これにより、接続端子部となる補助電極の
電極部分が、液晶の注入後、即ち、外部回路との接続前
までスペーサの接続端子部に対する対応部により覆われ
て保護される。従って、外部回路の接続前までの工程に
おいて、接続端子部となる補助電極の電極部分に傷を付
けたり断線を招く等による不良率の低減を図り、歩留り
を向上させ得る。Thus, the electrode portion of the auxiliary electrode serving as the connection terminal portion is covered and protected by the corresponding portion of the spacer to the connection terminal portion after the liquid crystal is injected, that is, before connection with the external circuit. Therefore, in a process before connection of an external circuit, a defect rate due to scratching or disconnection of an electrode portion of an auxiliary electrode serving as a connection terminal portion can be reduced, and yield can be improved.
【0034】また、請求項16に記載の発明によれば、
電極基板形成工程は、一方の電極基板の形成にあたり、
基板の内表面に導電膜(I1)を形成する導電膜形成工
程(S1)と、導電膜に沿い複数のストライプ状保護膜
(23)をパターニング形成する保護膜形成工程(S
2)と、導電膜に複数のストライプ状保護膜をマスクと
してパターニング処理を施し複数の電極(22)を形成
する電極形成工程(S3)とを備える。According to the sixteenth aspect of the present invention,
In the electrode substrate forming step, in forming one of the electrode substrates,
A conductive film forming step (S1) for forming a conductive film (I1) on the inner surface of the substrate; and a protective film forming step (S) for patterning and forming a plurality of stripe-shaped protective films (23) along the conductive film.
2) and an electrode forming step (S3) of forming a plurality of electrodes (22) by patterning the conductive film using the plurality of stripe-shaped protective films as masks.
【0035】このように、複数のストライプ状電極の形
成のための導電膜のパターニング処理にあたり、複数の
保護膜をそのままマスクとして利用する。従って、複数
のストライプ状電極の形成にあたり、新たにフォトレジ
ストを用いてフォトリソグラフィ法によりパターニング
処理を行うという工程が不要となる。As described above, in patterning the conductive film for forming a plurality of striped electrodes, the plurality of protective films are used as they are as masks. Therefore, in forming a plurality of striped electrodes, a step of performing a patterning process by photolithography using a new photoresist is not required.
【0036】その結果、液晶セルの製造にあたり必要な
パターニング処理回数をさらに抑制でき、液晶セルの製
造コストの低減をより一層促進する。As a result, the number of patterning processes required for manufacturing a liquid crystal cell can be further suppressed, and the cost of manufacturing a liquid crystal cell can be further reduced.
【0037】[0037]
【発明の実施の形態】以下、本発明の各実施形態を図面
に基づいて説明する。 (第1実施形態)図1乃至図3は、本発明に係る液晶セ
ルの一実施形態を示している。この液晶セルは、カラー
フィルタ基板である上側電極基板10と、対向基板であ
る下側電極基板20とを対向させて、これら両電極基板
10、20の間にシール30を介し反強誘電性液晶40
を封入して構成されている。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. (First Embodiment) FIGS. 1 to 3 show one embodiment of a liquid crystal cell according to the present invention. In this liquid crystal cell, an upper electrode substrate 10 as a color filter substrate and a lower electrode substrate 20 as a counter substrate are opposed to each other, and an antiferroelectric liquid crystal is interposed between the two electrode substrates 10 and 20 via a seal 30. 40
Is enclosed.
【0038】電極基板10は、透明のガラス基板11の
内表面に複数のストライプ状カラーフィルタ12(R
層、G層、B層からなる)、遮光膜13、オーバーコー
ト膜14、複数のストライプ状透明電極15、透明の絶
縁膜16及び透明の配向膜17を順次積層して形成され
ている。また、ガラス基板11の外表面には、偏光板1
1Aが貼着されている。The electrode substrate 10 has a plurality of striped color filters 12 (R) on the inner surface of a transparent glass substrate 11.
Layer, a G layer, and a B layer), a light shielding film 13, an overcoat film 14, a plurality of stripe-shaped transparent electrodes 15, a transparent insulating film 16, and a transparent alignment film 17 are sequentially laminated. The polarizing plate 1 is provided on the outer surface of the glass substrate 11.
1A is stuck.
【0039】一方、電極基板20は、透明のガラス基板
21、複数のストライプ状の透明電極22及び複数の透
明のストライプ状絶縁膜23を備えている。複数のスト
ライプ状の透明電極22は、複数のストライプ状透明電
極15に対し平行にかつ直角に位置するように、ガラス
基板21の内表面に等角度間隔にて形成されている。こ
れにより、各透明電極22は各透明電極15及び反強誘
電性液晶40と共に複数のマトリクス状の画素を形成す
る。On the other hand, the electrode substrate 20 includes a transparent glass substrate 21, a plurality of striped transparent electrodes 22, and a plurality of transparent striped insulating films 23. The plurality of stripe-shaped transparent electrodes 22 are formed at equal angular intervals on the inner surface of the glass substrate 21 so as to be positioned parallel to and perpendicular to the plurality of stripe-shaped transparent electrodes 15. Thereby, each transparent electrode 22 forms a plurality of matrix-shaped pixels together with each transparent electrode 15 and the antiferroelectric liquid crystal 40.
【0040】また、複数の透明のストライプ状絶縁膜2
3は、それぞれ、各透明電極22に沿いその内表面に積
層形成されており、これら各絶縁膜23は、各対応の透
明電極22と共に積層部Sをそれぞれ構成する。また、
電極基板20は、複数対のストライプ状隔壁20a、2
0bと、配向膜24とを備えている。A plurality of transparent striped insulating films 2
3 are formed along the respective transparent electrodes 22 on the inner surface thereof, and the respective insulating films 23 together with the corresponding transparent electrodes 22 constitute the stacked portions S, respectively. Also,
The electrode substrate 20 includes a plurality of pairs of striped partition walls 20a,
0b and an alignment film 24.
【0041】複数対の隔壁20a、20bは、各々、直
方体状のもので、これら複数対の隔壁20a、20b
は、その対毎に、互いに隣合う各両積層部S間の間隙2
5内におけるガラス基板21の内表面にそれぞれ立設さ
れている。これにより、複数対の隔壁20a、20b
は、ガラス基板21の内表面と配向膜17の内表面との
間の間隔(即ち、両電極基板10、20間のセルギャッ
プ)を配向膜24を介し一様にかつ適正に保持してい
る。Each of the plurality of pairs of partition walls 20a and 20b has a rectangular parallelepiped shape.
Is a gap 2 between each of the adjacent stacked portions S for each pair.
5 is provided on the inner surface of the glass substrate 21. Thereby, a plurality of pairs of partition walls 20a, 20b
Maintains the gap between the inner surface of the glass substrate 21 and the inner surface of the alignment film 17 (that is, the cell gap between the two electrode substrates 10 and 20) uniformly and appropriately via the alignment film 24. .
【0042】ここで、隔壁20aは、間隙25内の図1
にて図示左側部に位置しており、一方、隔壁20bは、
間隙25内の図1にて図示右側部に、隔壁20aに対し
間隔をおいて位置している。隔壁20aは、接触金属部
26aと、この接触金属部26a上に形成した低抵抗電
極27aと、この低抵抗電極27a上に形成したレジス
ト部28aとにより構成されている。Here, the partition wall 20a is formed in the gap 25 shown in FIG.
Is located on the left side in the figure, while the partition wall 20b is
In FIG. 1, the gap 25 is located on the right side in FIG. 1 at a distance from the partition wall 20a. The partition wall 20a includes a contact metal part 26a, a low resistance electrode 27a formed on the contact metal part 26a, and a resist part 28a formed on the low resistance electrode 27a.
【0043】そして、接触金属部26aは、その図1の
図示左側面にて対応透明電極22の図1の図示右側面及
び対応低抵抗電極27aの下面にオーミック接触してい
る。また、低抵抗電極27aは、アルミニウム等の低抵
抗金属材料により形成されており、この低抵抗電極27
aは、その下面にて接触金属部26aを介しこの接触金
属部26aの図1の図示左側面に位置する対応透明電極
22の図示右側面に電気的に接続されている。これによ
り、低抵抗電極27aは、対応透明電極22の補助電極
としての役割を果たす。The contact metal part 26a is in ohmic contact with the corresponding transparent electrode 22 on the right side in FIG. 1 and the lower surface of the corresponding low-resistance electrode 27a on the left side in FIG. The low-resistance electrode 27a is formed of a low-resistance metal material such as aluminum.
a is electrically connected at the lower surface thereof to the corresponding right side surface of the corresponding transparent electrode 22 located on the left side surface of FIG. 1 of the contact metal portion 26a via the contact metal portion 26a. Thereby, the low-resistance electrode 27a plays a role as an auxiliary electrode of the corresponding transparent electrode 22.
【0044】また、隔壁20bも隔壁20aと同様に形
成されており、この隔壁20bは、接触金属部26a、
低抵抗電極27a及びレジスト部28aにぞれぞれ対応
する接触金属部26b、低抵抗電極27b及びレジスト
部28bを有する。そして、接触金属部26bは、その
図1の図示右側面にて対応透明電極22の図1の図示左
側面及び対応低抵抗電極27bの下面にオーミック接触
している。また、低抵抗電極27bは、低抵抗電極27
aと同様の材料により形成されており、この低抵抗電極
27bは、その下面にて接触金属部26bを介しこの接
触金属部26bの図1の図示右側面に位置する対応透明
電極22の図示左側面に電気的に接続されている。これ
により、低抵抗電極27bは、対応透明電極22の補助
電極としての役割を果たす。The partition 20b is also formed in the same manner as the partition 20a.
It has a contact metal part 26b, a low resistance electrode 27b and a resist part 28b respectively corresponding to the low resistance electrode 27a and the resist part 28a. The contact metal portion 26b is in ohmic contact with the corresponding transparent electrode 22 on the left side in FIG. 1 and the lower surface of the corresponding low-resistance electrode 27b on the right side in FIG. Further, the low-resistance electrode 27b is
The low resistance electrode 27b is formed on the lower surface of the corresponding transparent electrode 22 located on the right side in FIG. 1 of the contact metal portion 26b via the contact metal portion 26b on the lower surface thereof. It is electrically connected to the surface. Thereby, the low-resistance electrode 27b plays a role as an auxiliary electrode of the corresponding transparent electrode 22.
【0045】また、複数対の隔壁20a、20bにおい
て、その対毎に、接触金属部26a、26b及び低抵抗
電極27a、27bは、図2及び図3にて示すように、
シール30の後述する液晶注入口31から外方へ、それ
ぞれ互いに一体となり延出端部26、27として延出し
ている。ここで、各延出端部26、27は、ガラス基板
21のガラス基板11からの延出板部上にて、外部回路
に接続される接続端子部29を形成している。In each of the plurality of pairs of partition walls 20a and 20b, the contact metal portions 26a and 26b and the low-resistance electrodes 27a and 27b are provided, as shown in FIGS.
The seals 30 extend outward from a liquid crystal injection port 31, which will be described later, integrally with each other as extension ends 26 and 27. Here, each extension end portion 26, 27 forms a connection terminal portion 29 connected to an external circuit on the extension plate portion of the glass substrate 21 from the glass substrate 11.
【0046】配向膜24は、図1にて示すごとく、各絶
縁膜23の内表面及び各一対の隔壁20a、20bの表
面のうち各積層部Sとの非接触部分に沿い形成されてい
る。但し、各一対の隔壁20a、20bの間は、配向膜
24により埋められている。なお、ガラス基板21の外
表面には、偏光板21Aが貼着されている。シール30
は、図2にて示すごとく、ガラス基板11の内表面にて
配向膜17の外周に沿いコ字状に形成されており、この
シール30は、その液晶注入口31にて、封止材32に
より封止されている。As shown in FIG. 1, the alignment film 24 is formed along the inner surface of each insulating film 23 and the surface of each of the pair of partition walls 20a and 20b that is not in contact with each laminated portion S. However, the space between each pair of partition walls 20a and 20b is filled with the alignment film 24. Note that a polarizing plate 21A is attached to the outer surface of the glass substrate 21. Seal 30
As shown in FIG. 2, the seal 30 is formed in a U-shape along the outer periphery of the alignment film 17 on the inner surface of the glass substrate 11. Is sealed.
【0047】ここで、シール30は、両並行シール部3
0a、30bと、これら両並行シール部30a、30b
に直交する直交シール部30cとにより構成されてい
る。そして、両並行シール部30a、30bは、各一対
の隔壁20a、20bの長手方向に沿って位置してお
り、直交シール部30cは、各一対の隔壁20a、20
bに対し液晶注入口31とは反対側にて直角に対向して
いる。Here, the seal 30 is a double parallel seal portion 3.
0a, 30b and these two parallel seal portions 30a, 30b
And an orthogonal seal portion 30c that is orthogonal to. The two parallel seal portions 30a, 30b are located along the longitudinal direction of each pair of partition walls 20a, 20b, and the orthogonal seal portion 30c is each pair of partition walls 20a, 20b.
b is opposite to the liquid crystal injection port 31 at a right angle.
【0048】また、液晶注入口31は、図3(b)にて
例示するごとく、各一対の隔壁20a、20bと、両並
行シール部30a、30bと、両電極基板10、20の
各内表面との間にて形成される複数の開口部31aによ
り構成されている。次に、上記液晶セルの製造方法につ
き図4乃至図7に基づいて説明する。まず、図4にて示
す対向基板側ITOスパッタリング工程S1において、
ガラス基板21の内表面にIndium−Tin−Ox
ide(以下、ITOという)をスパッタリング法によ
り膜厚1500ÅのITO膜I1として成膜する(図5
(a)参照)。As shown in FIG. 3B, the liquid crystal injection port 31 has a pair of partition walls 20a and 20b, both parallel seal portions 30a and 30b, and inner surfaces of both electrode substrates 10 and 20. And a plurality of openings 31a formed between them. Next, a method for manufacturing the liquid crystal cell will be described with reference to FIGS. First, in the counter substrate side ITO sputtering step S1 shown in FIG.
Indium-Tin-Ox on the inner surface of the glass substrate 21
Ide (hereinafter referred to as ITO) is formed as a 1500-nm-thick ITO film I1 by a sputtering method (FIG. 5).
(A)).
【0049】次に、絶縁膜印刷・焼成工程S2におい
て、絶縁膜材料(シリカ系の無機コート材料)をスクリ
ーン印刷により膜厚1500ÅにてITO膜I1の内表
面に印刷することで、複数のストライプ状絶縁膜23を
形成する(図5(b)参照)。具体的には、図6にて示
すごとく、複数のストライプ状透明電極22に対応する
複数のストライプ状開口部51を所定間隔(100μ
m)にて形成したマスク版50を準備する。ここで、各
開口部51は開口幅300μm及び透明電極22と同一
の長さを有する。Next, in the insulating film printing / firing step S2, a plurality of stripes are formed by printing an insulating film material (silica-based inorganic coating material) on the inner surface of the ITO film I1 with a film thickness of 1500 ° by screen printing. An insulating film 23 is formed (see FIG. 5B). Specifically, as shown in FIG. 6, a plurality of stripe-shaped openings 51 corresponding to a plurality of stripe-shaped transparent electrodes 22 are formed at a predetermined interval (100 μm).
The mask plate 50 formed in m) is prepared. Here, each opening 51 has an opening width of 300 μm and the same length as the transparent electrode 22.
【0050】そして、スクリーン印刷機の印刷台上にI
TO膜I1を上にしてガラス基板21を置き、ITO膜
I1上にマスク版50を載せる。このような状態にて、
上記絶縁膜材料(図6にて符号Fにより示す)をスキー
ジ50aを用いてマスク版50を介しITO膜I1上に
塗布することで、複数のストライプ状絶縁膜23をパタ
ーニング形成する。Then, I is placed on the printing table of the screen printing machine.
The glass substrate 21 is placed with the TO film I1 facing upward, and the mask plate 50 is placed on the ITO film I1. In such a state,
The above-mentioned insulating film material (indicated by reference numeral F in FIG. 6) is applied on the ITO film I1 through the mask plate 50 using a squeegee 50a, whereby a plurality of stripe-shaped insulating films 23 are formed by patterning.
【0051】然る後、このように各絶縁膜23を形成し
たITO膜I1及びガラス基板21を、オーブン内で3
00℃にて加熱することで、各絶縁膜23を焼成する。
ついで、ITOエッチング工程S3において、絶縁膜2
3を焼成したITO膜I1及びガラス基板21を、塩酸
と塩化第2鉄の混合液に浸して、ITO膜I1のうち各
絶縁膜23間から露出する部分をエッチングにより除去
することで、複数のストライプ状透明電極22をパター
ニング形成する(図5(c)参照)。After that, the ITO film I1 and the glass substrate 21 on which the respective insulating films 23 are formed are removed in an oven for 3 hours.
By heating at 00 ° C., each insulating film 23 is baked.
Next, in the ITO etching step S3, the insulating film 2
3 is immersed in a mixed solution of hydrochloric acid and ferric chloride, and a portion of the ITO film I1 exposed from between the insulating films 23 is removed by etching to thereby obtain a plurality of films. The stripe-shaped transparent electrode 22 is formed by patterning (see FIG. 5C).
【0052】この場合、印刷焼成された各絶縁膜23を
マスクとして活用することで、ITO膜I1のエッチン
グ処理をするので、従来のように、各絶縁膜23の印刷
前に、フォトリソグラフィ法により各透明電極22をパ
ターニング形成するという処理が不要となる。換言すれ
ば、絶縁膜23の印刷の前に、ITO膜I1の内表面全
体にフォトレジストをスピンナー等により塗布してフォ
トレジスト膜を形成し、このフォトレジスト膜のうち露
光現像により各透明電極22に対応しない部分を除去
し、残りのフォトレジスト膜の部分をベーク後、ITO
膜I1のうち各透明電極22に対応する部分以外の部分
をエッチングにより除去し、その後、上記残りのフォト
レジスト膜の部分をアルカリ液により除去するという工
程が不要となる。In this case, the etching process of the ITO film I1 is performed by utilizing the printed and baked insulating films 23 as a mask. The process of patterning and forming each transparent electrode 22 becomes unnecessary. In other words, before printing the insulating film 23, a photoresist is applied to the entire inner surface of the ITO film I1 with a spinner or the like to form a photoresist film, and each transparent electrode 22 is exposed and developed in the photoresist film. After removing the portions that do not correspond to the above, baking the remaining photoresist film portions,
The step of removing the portion of the film I1 other than the portion corresponding to each transparent electrode 22 by etching, and then removing the remaining portion of the photoresist film with an alkali solution becomes unnecessary.
【0053】このため、各透明電極22のパターニング
形成が簡単となり、かつ、フォトリソグラフィ法により
形成するための設備が不要となる。その結果、コストの
低減を確保できる。次に、接触金属部・低抵抗電極スパ
ッタリング工程S4において、チタンを、1500Åの
厚さにて、ガラス基板21の内表面の露出部分及び各透
明電極22の内表面並びに各絶縁膜23の内表面上にス
パッタリング法によりチタン膜Tとして形成する(図5
(d)参照)。さらに、アルミニウムを、3000Åの
厚さにて、チタン膜Tの内表面にスパッタリング法によ
りアルミニウム膜Aとして形成する(図5(d)参
照)。なお、チタン膜Tに代えて、クロムやモリブデン
の膜を採用してもよい。Therefore, the patterning and formation of each transparent electrode 22 is simplified, and equipment for forming by the photolithography method is not required. As a result, cost reduction can be ensured. Next, in the contact metal part / low-resistance electrode sputtering step S4, titanium was deposited at a thickness of 1500 ° to expose the inner surface of the glass substrate 21, the inner surface of each transparent electrode 22, and the inner surface of each insulating film 23. A titanium film T is formed thereon by sputtering (FIG. 5
(D)). Further, aluminum is formed as an aluminum film A with a thickness of 3000 ° on the inner surface of the titanium film T by a sputtering method (see FIG. 5D). Note that a film of chromium or molybdenum may be used instead of the titanium film T.
【0054】この工程後、フォトレジスト塗布・プリベ
ーク工程S5において、フォトレジストを、1.35μ
mの厚さにて、アルミニウム膜Aの表面に塗布してフォ
トレジスト膜Rを形成する(図5(e)参照)。なお、
上記1.35μmの厚さは液晶セルのセルギャップを
1.5μmにするように選定されている。また、フォト
レジスト膜Rのうち透明電極22と重なる部分は、後述
する基板加熱加圧工程S16の処理で潰れるので、セル
ギャップには影響しない。After this step, in a photoresist application / pre-bake step S5, the photoresist is removed to 1.35 μm.
A photoresist film R is formed by applying a thickness of m to the surface of the aluminum film A (see FIG. 5E). In addition,
The thickness of 1.35 μm is selected so that the cell gap of the liquid crystal cell is 1.5 μm. Further, the portion of the photoresist film R that overlaps the transparent electrode 22 is crushed in the later-described substrate heating / pressing step S16, and thus does not affect the cell gap.
【0055】また、フォトレジスト膜Rの形成材料とし
ては、ノボラック、ポリイミド、アクリルやゴム等があ
る。また、フォト材料でなく、印刷用材料で印刷形成す
るようにしてもよい。上述のようにフォトレジスト膜R
を形成してなるアルミニウム膜A、チタン膜T、絶縁膜
23、透明電極22及びガラス基板21をオーブン内に
収納し、フォトレジスト膜Rをプリベークする。As a material for forming the photoresist film R, there are novolak, polyimide, acrylic, rubber and the like. Further, the printing material may be formed by printing instead of the photo material. As described above, the photoresist film R
The aluminum film A, the titanium film T, the insulating film 23, the transparent electrode 22, and the glass substrate 21 are formed in an oven, and the photoresist film R is pre-baked.
【0056】ついで、露光・現像・ポストベーク工程S
6において、フォトレジスト膜Rのうち各絶縁膜23の
内表面上の部分及び各一対の隔壁20a、20bの間に
対応する部分を露光及び現像の過程を経て除去し、各一
対のレジスト部28a、28bをパターニング形成する
(図5(f)参照)。ここで、複数対の隔壁20a、2
0bにおいて、その対毎に、接触金属部26a、26
b、低抵抗電極27a、27b及びレジスト部28a、
28bは、図3にて示すように、シール30の液晶注入
口31から外方へ、それぞれ互いに一体となり延出端部
26、27、28として延出形成される(図5(g)参
照)。Next, exposure, development and post-baking steps S
In 6, the portion of the photoresist film R on the inner surface of each insulating film 23 and the portion corresponding to between the pair of partition walls 20a and 20b are removed through exposure and development, and the pair of resist portions 28a are removed. , 28b are formed by patterning (see FIG. 5F). Here, a plurality of pairs of partition walls 20a, 2
0b, the contact metal parts 26a, 26
b, low resistance electrodes 27a and 27b and resist portion 28a,
As shown in FIG. 3, 28b extend outwardly from the liquid crystal injection port 31 of the seal 30 as extending ends 26, 27 and 28 integrally with each other (see FIG. 5 (g)). .
【0057】その後、各一対のレジスト部28a、28
bを形成したアルミニウム膜A、チタン膜T、絶縁膜2
3、透明電極22及びガラス基板21をオーブン内に収
納し、140℃にて各一対のレジスト部28a、28b
をポストベークする。そして、接触金属部・低抵抗電極
エッチング工程S7において、アルミニウム膜Aのうち
各一対のレジスト部28a、28bから露出している部
分をリン酸でエッチングする。ついで、チタン膜Tのう
ち各一対のレジスト部28a、28bから露出している
部分を、アンモニア水と過酸化水素水の混合液でエッチ
ングする。Thereafter, each pair of resist portions 28a, 28
b formed aluminum film A, titanium film T, insulating film 2
3. The transparent electrode 22 and the glass substrate 21 are housed in an oven, and at 140 ° C., a pair of resist portions 28a and 28b
To post-bake. Then, in the contact metal portion / low resistance electrode etching step S7, portions of the aluminum film A that are exposed from the pair of resist portions 28a and 28b are etched with phosphoric acid. Next, portions of the titanium film T that are exposed from the pair of resist portions 28a and 28b are etched with a mixed solution of ammonia water and hydrogen peroxide solution.
【0058】これにより、接触金属部26a、低抵抗電
極27a及びレジスト部28aを積層した隔壁20a
と、接触金属部26b、低抵抗電極27b及びレジスト
部28bを積層した隔壁20bとが、複数対、パターニ
ング形成される(図5(g)(h)参照)。この場合、
低抵抗電極27a及び接触金属部26aはレジスト部2
8aをマスクとして活用し、また、低抵抗電極27b及
び接触金属部26bは、レジスト部28bをマスクとし
て活用することで、上述のようにエッチングによりパタ
ーニング形成される。Thus, the partition wall 20a in which the contact metal portion 26a, the low resistance electrode 27a, and the resist portion 28a are laminated.
And a plurality of pairs of the partition wall 20b in which the contact metal part 26b, the low resistance electrode 27b, and the resist part 28b are laminated (see FIGS. 5G and 5H). in this case,
The low resistance electrode 27a and the contact metal part 26a are in the resist part 2
8a is used as a mask, and the low-resistance electrode 27b and the contact metal portion 26b are patterned by etching as described above by using the resist portion 28b as a mask.
【0059】従って、ITOエッチング工程S3におけ
る各透明電極22のパターニング形成の場合と同様に、
フォトリソグラフィ法に依存することなく、接触金属部
26a、26b及び低抵抗電極27a、27bのパター
ニング形成がなされる。よって、このパターニング形成
が省工程及び低コストにて簡単に達成され得る。また、
フォトリソグラフィ法によりパターニング形成するため
の設備が少量で済み、これによるコストの低減も確保で
きる。Therefore, similarly to the case of patterning formation of each transparent electrode 22 in the ITO etching step S3,
The patterning of the contact metal portions 26a and 26b and the low-resistance electrodes 27a and 27b is performed without depending on the photolithography method. Therefore, this patterning formation can be easily achieved with a reduced number of steps and a lower cost. Also,
A small amount of equipment for patterning and forming by photolithography is required, and the cost can be reduced.
【0060】また、低抵抗電極27a、27bは、それ
ぞれ、オーミック接続するための接触金属部26a、2
6bを介し各対応の透明電極22と接続されるので、各
透明電極22の抵抗を低減できる。その後、配向膜印刷
・焼成工程S8では、配向膜24を、ポリイミド等の配
向膜材料により、各絶縁膜23の内表面及び各一対の隔
壁20a、20bの外壁に沿い塗布した後、焼成する。The low-resistance electrodes 27a and 27b are respectively connected to contact metal portions 26a and 2m for ohmic connection.
Since each of the transparent electrodes 22 is connected to the corresponding transparent electrode 22 via 6b, the resistance of each transparent electrode 22 can be reduced. Thereafter, in the orientation film printing / firing step S8, the orientation film 24 is applied along the inner surface of each insulating film 23 and the outer walls of each of the pair of partition walls 20a, 20b with an orientation film material such as polyimide, and then fired.
【0061】なお、配向膜24をスクリーン印刷により
パターン印刷することで、各一対の隔壁20a、20b
の先端部が配向膜24により覆わないようにして、電極
基板10の配向膜17と各一対の隔壁20a、20bの
先端部との接着を強化するようにしてもよい。ついで、
ラビング工程S9において、配向膜24にラビング処理
を施し、スクライブ分断工程S10において、ガラス基
板21を分断する。これにより、電極基板20が形成さ
れる。The patterning of the alignment film 24 by screen printing allows the pair of partition walls 20a, 20b to be printed.
May not be covered with the alignment film 24 so that the adhesion between the alignment film 17 of the electrode substrate 10 and the front ends of the pair of partition walls 20a and 20b may be strengthened. Then
In the rubbing step S9, a rubbing process is performed on the alignment film 24, and in the scribe cutting step S10, the glass substrate 21 is cut. Thereby, the electrode substrate 20 is formed.
【0062】一方、カラーフィルタ基板側の配向膜印刷
までの工程S11においては、ガラス基板11の内表面
に複数のストライプ状カラーフィルタ12、遮光膜1
3、オーバーコート膜14、複数のストライプ状透明電
極15、透明の絶縁膜16及び透明の配向膜17を順次
積層して形成する。そして、ラビング工程S12では、
配向膜17をラビング処理する。On the other hand, in step S 11 up to printing of the alignment film on the color filter substrate side, a plurality of stripe-shaped color filters 12 and the light shielding film 1 are formed on the inner surface of the glass substrate 11.
3. An overcoat film 14, a plurality of stripe-shaped transparent electrodes 15, a transparent insulating film 16, and a transparent alignment film 17 are sequentially laminated and formed. Then, in the rubbing step S12,
The alignment film 17 is rubbed.
【0063】ついで、シール印刷工程S13において、
シール30を、エポキシ樹脂により、配向膜17の外周
に沿いガラス基板11の内表面にスクリーン印刷にでも
って形成する。これにより、電極基板10が形成され
る。この形成後、重ね合わせ工程S14において、図1
及び図2にて示す状態となるように、電極基板10をシ
ール30を介し電極基板20に重ね合わせ、空セルを形
成する。Next, in the seal printing step S13,
The seal 30 is formed by screen printing on the inner surface of the glass substrate 11 along the outer periphery of the alignment film 17 using epoxy resin. Thereby, the electrode substrate 10 is formed. After this formation, in a superposition step S14, FIG.
Then, the electrode substrate 10 is overlaid on the electrode substrate 20 via the seal 30 so as to be in the state shown in FIG. 2 to form an empty cell.
【0064】そして、基板加熱加圧工程S15にて、上
記空セルは、図7にて示す加熱加圧装置60を用い、次
のようにして、加熱加圧処理される。即ち、上記空セル
を、図7(a)にて示すごとく、加熱加圧装置60のコ
字状の両加圧壁61、62の間に収容する。そして、両
加圧壁61、62を、図7(b)にて示すごとく、開孔
65を通して両加圧壁61、62の内部を減圧して両加
圧壁61、62を重ね合わせることで上記空セルに加圧
するとともに、各加熱器63、64により当該空セルを
200℃にて加熱する。Then, in the substrate heating / pressing step S15, the empty cell is subjected to a heating / pressing treatment using the heating / pressing device 60 shown in FIG. 7 as follows. That is, as shown in FIG. 7A, the empty cell is accommodated between both U-shaped pressing walls 61 and 62 of the heating and pressing device 60. Then, as shown in FIG. 7 (b), the pressure inside the pressure walls 61, 62 is reduced through the opening 65 so that the pressure walls 61, 62 are overlapped. While the empty cell is pressurized, the empty cell is heated at 200 ° C. by the heaters 63 and 64.
【0065】なお、上記減圧に代えて、両加圧壁61、
62内に開孔65を通し空気圧を付与するようにしても
よく、また、両加圧壁61、62に外部から加圧力を付
与するようにしてもよい。然る後、スクライブ・分断工
程S16において、上記空セルのガラス基板のスクライ
ブ処理及び分断処理を行う。そして、液晶注入工程S1
7において、上記空セル内に液晶注入口31を通して反
強誘電性液晶40を注入し、対向基板端子部レジスト除
去工程S18において、ガラス基板21の延出板部上に
延出する各一対の隔壁20a、20bの延出部からレジ
スト部28a、28bを除去する。これにより、各接続
端子部29を形成する(図3(b)参照)。It is to be noted that both the pressure walls 61,
An air pressure may be applied through the opening 65 in the inside 62, and a pressing force may be applied to both the pressing walls 61 and 62 from the outside. Thereafter, in a scribe / cutting step S16, a scribe process and a cut process of the glass substrate of the empty cell are performed. Then, the liquid crystal injection step S1
7, the antiferroelectric liquid crystal 40 is injected into the empty cell through the liquid crystal injection port 31, and in the counter substrate terminal portion resist removing step S18, each pair of partition walls extending on the extension plate portion of the glass substrate 21 is formed. The resist portions 28a and 28b are removed from the extended portions of 20a and 20b. Thereby, each connection terminal portion 29 is formed (see FIG. 3B).
【0066】具体的には、液晶セルの表示領域をステン
レス膜等により保護した状態で、複数対の隔壁20a、
20bの各延出部(接触金属部26a、26bの延出部
26、低抵抗電極27a、27bの延出部27及びレジ
スト部28a、28bの延出部28)のうち、レジスト
部28a、28bの延出部28を、平行板からなるプラ
ズマアッシング装置内にて、アルゴンガス及び酸素の混
合ガスでもって除去する。More specifically, with the display area of the liquid crystal cell protected by a stainless film or the like, a plurality of pairs of partition walls 20a,
Among the extending portions 20b (the extending portions 26 of the contact metal portions 26a and 26b, the extending portions 27 of the low-resistance electrodes 27a and 27b, and the extending portions 28 of the resist portions 28a and 28b), the resist portions 28a and 28b Is removed with a mixed gas of argon gas and oxygen in a plasma ashing apparatus comprising a parallel plate.
【0067】これにより、各接続端子部29が、ガラス
基板21の延出板部上にて、各一対の延出端部26、2
7により形成される(図3(b)参照)。この場合、現
段階まで、各接続端子部29がレジスト部28a、28
bにより覆われているから、各接続端子部29がその形
成に至るまでの工程において断線等から確実に保護され
得る。As a result, each of the connection terminal portions 29 is placed on the extension plate portion of the glass substrate 21 so that each of the pair of extension end portions 26, 2
7 (see FIG. 3B). In this case, up to the present stage, each connection terminal portion 29 is connected to the resist portions 28a, 28
Since the connection terminal portions 29 are covered with b, each connection terminal portion 29 can be reliably protected from disconnection and the like in the process up to its formation.
【0068】その後、封止工程S19において、液晶注
入口31を封止材32により封止し、偏光板貼着工程S
20において、両ガラス基板11、21の各外表面に偏
光板11A、21Aを貼着する。このようにして製造し
た液晶セルにおいては、レジスト部28a、28bの高
さを1.35μmとしてセルギャップを1.5μmに固
定するが、隔壁20a、20bが、間隙25内に位置し
て、電極基板10とガラス基板21との間に挟持され
る。Thereafter, in a sealing step S19, the liquid crystal injection port 31 is sealed with a sealing material 32, and a polarizing plate attaching step S19 is performed.
At 20, the polarizing plates 11A and 21A are attached to the outer surfaces of both glass substrates 11 and 21, respectively. In the liquid crystal cell manufactured in this manner, the height of the resist portions 28a and 28b is 1.35 μm and the cell gap is fixed at 1.5 μm. However, the partition walls 20a and 20b are located in the gap 25 and the electrode It is sandwiched between the substrate 10 and the glass substrate 21.
【0069】従って、低抵抗電極27a、27bと電極
基板10との間の耐圧を十分に確保し得るのは勿論のこ
と、レジスト部28a、28bを透明電極22と電極基
板10との間に形成する場合に比べ、低抵抗電極27
a、27bの高さを増大させることができる。このた
め、各透明電極22の抵抗をより一層低減することがで
きる。よって、各透明電極22に加わる電圧になまりが
発生することなく、良好な表示を確保できる。Therefore, the resist portions 28a and 28b can be formed between the transparent electrode 22 and the electrode substrate 10 as well as a sufficient withstand voltage between the low resistance electrodes 27a and 27b and the electrode substrate 10 can be ensured. Compared to the case where the
The height of a, 27b can be increased. Therefore, the resistance of each transparent electrode 22 can be further reduced. Therefore, good display can be ensured without causing dullness in the voltage applied to each transparent electrode 22.
【0070】また、上記内容により理解されるように、
両電極基板10、20間において反強誘電性液晶40
が、両並行シール部30a、30b、複数対の隔壁20
a、20bを構成するレジスト部28a、28b及び低
抵抗電極27a、27bにより区画される。このため、
この区画形状でもって、液晶注入口31の開口形状が特
定される。これにより、上記液晶注入工程S17におけ
る反強誘電性液晶40の上記空セルへの注入が均一な速
度にて当該空セルの全体に行き亘る。As understood from the above description,
An antiferroelectric liquid crystal 40 is provided between the electrode substrates 10 and 20.
The two parallel seal portions 30a, 30b, a plurality of pairs of partition walls 20
a, 20b are defined by resist portions 28a, 28b and low resistance electrodes 27a, 27b. For this reason,
The shape of the opening of the liquid crystal injection port 31 is specified by this section shape. As a result, the injection of the antiferroelectric liquid crystal 40 into the empty cell in the liquid crystal injection step S17 spreads over the entire empty cell at a uniform speed.
【0071】従って、隔壁20a、20bの液晶注入口
31側端部が、この液晶注入口31から分離して当該液
晶注入口31よりも液晶セルの内方に位置する場合に生
じがちな種々の不具合が解消され得る。即ち、上述のよ
うに隔壁20a、20bの液晶注入口31側端部が、こ
の液晶注入口31よりも液晶セルの内方に位置する場合
には、液晶注入口31近傍領域とそれ以外の領域とで反
強誘電性液晶40の注入速度に違いが生じたり、隔壁2
0a、20bの液晶注入口31側端部で反強誘電性液晶
40の層構造が不連続となって配向の欠陥のばらつきが
生じる。その結果、表示不良を招く。Accordingly, various ends which are likely to occur when the ends of the partition walls 20a and 20b on the side of the liquid crystal injection port 31 are separated from the liquid crystal injection port 31 and located inside the liquid crystal cell with respect to the liquid crystal injection port 31. The defect can be eliminated. That is, as described above, when the ends of the partition walls 20a and 20b on the side of the liquid crystal injection port 31 are located inside the liquid crystal cell with respect to the liquid crystal injection port 31, the area near the liquid crystal injection port 31 and the other area May cause a difference in the injection speed of the antiferroelectric liquid crystal 40,
The layer structure of the antiferroelectric liquid crystal 40 becomes discontinuous at the end of the liquid crystal injection port 31 at 0a and 20b, causing variations in alignment defects. As a result, display defects are caused.
【0072】これに対し、本実施形態では、上述のごと
く、上記区画形状でもって、液晶注入口31の開口形状
が特定されるから、反強誘電性液晶40の配向が液晶セ
ルの表示領域全体に亘り均一となる。その結果、均一な
表示が得られる。また、上述のように、複数対のスペー
サ28a、28bが、各対毎に、一対の補助電極27
a、27b及び一対の接触金属部26a、26bと共
に、電極基板20の各両電極22間の各間隙25に積層
して形成されているので、スペーサや補助電極が各電極
22を覆うことがない。On the other hand, in the present embodiment, as described above, the opening shape of the liquid crystal injection port 31 is specified by the partition shape, so that the orientation of the antiferroelectric liquid crystal 40 is controlled over the entire display area of the liquid crystal cell. To be uniform. As a result, a uniform display can be obtained. Further, as described above, a plurality of pairs of spacers 28a and 28b
a, 27b and a pair of contact metal parts 26a, 26b are laminated and formed in each gap 25 between both electrodes 22 of the electrode substrate 20, so that the spacers and auxiliary electrodes do not cover each electrode 22. .
【0073】このため、液晶セルの表示領域における両
電極基板10、20の各対向電極の部分間の間隔にばら
つきが発生せず、反強誘電性液晶の均一な配向と均一な
表示を確保できる。これと同時に、液晶セルを通る光の
透過率(即ち、開口率)も、スペーサや補助電極で電極
を部分的に覆う構成の液晶セルに比べて増大し、高輝度
の表示を良好に確保できる。Therefore, there is no variation in the distance between the opposing electrodes of the two electrode substrates 10 and 20 in the display area of the liquid crystal cell, and uniform orientation and uniform display of the antiferroelectric liquid crystal can be ensured. . At the same time, the transmittance of light passing through the liquid crystal cell (that is, the aperture ratio) is increased as compared with a liquid crystal cell in which the electrodes are partially covered with spacers and auxiliary electrodes, and a high-luminance display can be reliably secured. .
【0074】(第2実施形態)次に、本発明の第2実施
形態につき図8及び図9を参照して説明する。この第2
実施形態では、電極基板20Aが、図8にて示すごと
く、上記第1実施形態にて述べた電極基板20に代え
て、採用されている。電極基板20Aは、上記第1実施
形態にて述べた電極基板20において、複数対の隔壁2
0a、20bのうち各隔壁20bを廃止し、絶縁膜23
及び配向膜24に代えて、絶縁膜23A及び配向膜24
Aを採用した構成を有する。(Second Embodiment) Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. This second
In the embodiment, as shown in FIG. 8, an electrode substrate 20A is employed instead of the electrode substrate 20 described in the first embodiment. The electrode substrate 20A is different from the electrode substrate 20 described in the first embodiment in that a plurality of pairs of partition walls 2 are provided.
0a and 20b, each partition 20b is eliminated, and the insulating film 23
And the orientation film 24, instead of the insulating film 23A and the orientation film 24.
A is adopted.
【0075】各隔壁20aは、図8にて示すごとく、各
透明電極22の内表面の幅方向中央上に立設して、各透
明電極22と配向膜17との間に挟持されている。絶縁
膜23Aは、各透明電極22及び各隔壁20aを介し、
ガラス基板21の内表面に形成されている。また、配向
膜24Aは、絶縁膜23Aの内表面に形成されている。As shown in FIG. 8, each partition 20 a is provided upright on the center of the inner surface of each transparent electrode 22 in the width direction, and is sandwiched between each transparent electrode 22 and the alignment film 17. The insulating film 23A is formed via each transparent electrode 22 and each partition 20a,
It is formed on the inner surface of the glass substrate 21. The alignment film 24A is formed on the inner surface of the insulating film 23A.
【0076】なお、配向膜24A及び絶縁膜23Aは、
共に、各隔壁20aの先端面に対応する部分にて除去さ
れている。その他の構成は上記第1実施形態と同様であ
る。このように構成した液晶セルの製造方法について図
9を参照して説明する。本第2実施形態においては、上
記絶縁膜・印刷焼成工程S2の処理を行うことなく、上
記第1実施形態と同様にITOエッチング工程S3にお
ける処理を行う。The orientation film 24A and the insulating film 23A are
Both are removed at a portion corresponding to the tip end surface of each partition 20a. Other configurations are the same as those of the first embodiment. A method for manufacturing the liquid crystal cell thus configured will be described with reference to FIG. In the second embodiment, the processing in the ITO etching step S3 is performed in the same manner as in the first embodiment, without performing the processing in the insulating film / printing and firing step S2.
【0077】そして、この処理の終了後、接触金属部・
低抵抗電極スパッタリング工程S4aにおいては、上記
接触金属部・低抵抗電極スパッタリング工程S4とは異
なり、チタン膜の形成が、ガラス基板21の内表面の露
出部分及び各透明電極22の内表面上になされる。さら
に、このように形成したチタン膜の内表面にアルミニウ
ム膜の形成が上記第1実施形態と同様になされる。After the completion of this process, the contact metal part
In the low-resistance electrode sputtering step S4a, unlike the contact metal part / low-resistance electrode sputtering step S4, the titanium film is formed on the exposed portion of the inner surface of the glass substrate 21 and on the inner surface of each transparent electrode 22. You. Further, an aluminum film is formed on the inner surface of the titanium film thus formed in the same manner as in the first embodiment.
【0078】その後、上記第1実施形態と同様に、フォ
トレジスト塗布・プリベーク工程S5の処理をする。つ
いで、上記露光・現像・ポストベーク工程S6に代わる
露光・現像・ポストベーク工程S6aにおいて、フォト
レジスト塗布・プリベーク工程S5で形成したフォトレ
ジスト膜のうち各隔壁20aに対応する部分以外の部分
を露光及び現像の過程を経て除去し、各レジスト部28
aをパターニング形成する。Thereafter, similarly to the first embodiment, the process of the photoresist application / pre-bake step S5 is performed. Next, in the exposure / development / post-bake step S6a instead of the exposure / development / post-bake step S6, portions of the photoresist film formed in the photoresist coating / pre-bake step S5 other than the portions corresponding to the respective partition walls 20a are exposed. And through the process of development, each resist part 28
a is formed by patterning.
【0079】その後、各レジスト部28aをパターニン
グ形成した上記アルミニウム膜、上記チタン膜及びガラ
ス基板21をオーブン内に収納し、140℃にて各レジ
スト部28aをポストベークする。そして、上記接触金
属部・低抵抗電極エッチング工程S7に代わる接触金属
部・低抵抗電極エッチング工程S7aにおいて、上記ア
ルミニウム膜及びチタン膜のうち各レジスト部28aか
ら露出している各部分を、上記接触金属部・低抵抗電極
エッチング工程S7における処理と同様にしてエッチン
グする。Thereafter, the aluminum film, the titanium film, and the glass substrate 21 on which the respective resist portions 28a are formed by patterning are housed in an oven, and the respective resist portions 28a are post-baked at 140.degree. Then, in the contact metal part / low resistance electrode etching step S7a instead of the contact metal part / low resistance electrode etching step S7, each part of the aluminum film and the titanium film exposed from each resist part 28a is contacted with the contact part. Etching is performed in the same manner as the processing in the metal part / low resistance electrode etching step S7.
【0080】これにより、接触金属部26a、低抵抗電
極27a及びレジスト部28aを積層した各隔壁20a
が、各透明電極22の幅方向中央上にパターニング形成
される。この場合、低抵抗電極27a及び接触金属部2
6aはレジスト部28aをマスクとして活用すること
で、上述のようにエッチングによりパターニング形成さ
れている。As a result, each partition wall 20a on which the contact metal portion 26a, the low resistance electrode 27a and the resist portion 28a are laminated is formed.
Are formed on the center of each transparent electrode 22 in the width direction by patterning. In this case, the low resistance electrode 27a and the contact metal part 2
6a is patterned by etching as described above by using the resist portion 28a as a mask.
【0081】従って、上記第1実施形態にて述べた絶縁
膜印刷・焼成工程S2における場合と同様に、フォトリ
ソグラフィ法による処理1回にて、各隔壁20aの形成
がなされる。よって、接触金属部26a及び低抵抗電極
27aの形成が簡単となり、かつ、フォトリソグラフィ
法により形成するための設備が少量にて済む。その結
果、コストの低減を確保できる。Therefore, as in the case of the insulating film printing / firing step S2 described in the first embodiment, each partition 20a is formed by one process using the photolithography method. Therefore, the formation of the contact metal portion 26a and the low-resistance electrode 27a is simplified, and a small amount of equipment for forming the contact metal portion 26a and the photolithography method is required. As a result, cost reduction can be ensured.
【0082】また、各隔壁20aでは、低抵抗電極27
aが、オーミック接続するための接触金属部26aを介
し対応の透明電極22と接続されるので、各透明電極2
2の抵抗を低減できる。次に、絶縁膜印刷・焼成工程S
7bにおいて、上記第1実施形態にて述べた絶縁膜印刷
・焼成工程S2の処理と同様にして、絶縁膜23Aを、
各透明電極22の内表面及び各透明電極22の間並びに
各隔壁20aの表面に亘り印刷形成する。In each partition 20a, the low resistance electrode 27
a is connected to the corresponding transparent electrode 22 via the contact metal part 26a for ohmic connection,
2 can be reduced. Next, the insulating film printing / firing step S
7b, the insulating film 23A is formed in the same manner as in the processing of the insulating film printing / firing step S2 described in the first embodiment.
Printing is performed over the inner surface of each transparent electrode 22, between each transparent electrode 22, and over the surface of each partition wall 20a.
【0083】ついで、配向膜印刷・焼成工程S8に代わ
る配向膜印刷・焼成工程S8aにおいて、配向膜24A
を、上記配向膜24の場合と実質的に同様の処理にて、
絶縁膜23Aの内表面に形成する。その後、配向膜・絶
縁膜研磨工程S8bにおいて、絶縁膜23A及び配向膜
24Aの各隔壁20aの先端面に対応する部分を全面研
磨処理により除去して、各隔壁20aの先端面を剥き出
しにする。これにより、配向膜17と各隔壁20aの先
端面との接着が強化され得る。Next, in the alignment film printing / firing step S8a instead of the alignment film printing / firing step S8, the alignment film 24A
By substantially the same processing as in the case of the alignment film 24,
It is formed on the inner surface of the insulating film 23A. After that, in the alignment film / insulating film polishing step S8b, the portions of the insulating film 23A and the alignment film 24A corresponding to the leading end surfaces of the respective partition walls 20a are removed by polishing the entire surface, thereby exposing the leading end surfaces of the respective partition walls 20a. Thereby, the adhesion between the alignment film 17 and the tip surface of each partition 20a can be strengthened.
【0084】その他の工程は、上記第1実施形態と同様
である。これにより、上記第1実施形態と同様の作用効
果を達成できる。図10は、上記第2実施形態の変形例
を示している。この変形例では、上記第2実施形態にて
述べた絶縁膜23Aが廃止されるとともに、配向膜24
Aが、各透明電極22の内表面及び各透明電極22の間
並びに各隔壁20aの外表面に亘り印刷形成されてい
る。その他の構成は上記第2実施形態と同様である。The other steps are the same as in the first embodiment. Thereby, the same function and effect as the first embodiment can be achieved. FIG. 10 shows a modification of the second embodiment. In this modification, the insulating film 23A described in the second embodiment is abolished and the alignment film 24A is removed.
A is printed and formed on the inner surface of each transparent electrode 22, between the transparent electrodes 22, and on the outer surface of each partition 20a. Other configurations are the same as those of the second embodiment.
【0085】この変形例のように、絶縁膜23Aを廃止
しても、上記第2実施形態と同様の作用効果を達成でき
る。なお、本発明の実施にあたり、カラーフィルタ付き
基板を有する液晶セルに限ることなく、カラーフィルタ
のない電極基板を用いる液晶セルに本発明を適用して実
施してもよい。As in this modification, even if the insulating film 23A is eliminated, the same operation and effect as in the second embodiment can be achieved. The present invention is not limited to a liquid crystal cell having a substrate with a color filter, but may be applied to a liquid crystal cell using an electrode substrate without a color filter.
【0086】また、本発明の実施にあたり、透明電極の
加工は、ウエットエッチングやドライエッチングによっ
てもよく、また、絶縁膜は、マスクスパッタリングによ
って形成してもよい。また、本発明の実施にあたり、液
晶セルの液晶としては、反強誘電性液晶に限ることな
く、強誘電性液晶等のスメクチック液晶やネマチック液
晶等の各種の液晶を採用して実施してもよい。In the practice of the present invention, the processing of the transparent electrode may be performed by wet etching or dry etching, and the insulating film may be formed by mask sputtering. Further, in carrying out the present invention, the liquid crystal of the liquid crystal cell is not limited to an antiferroelectric liquid crystal, and may be implemented by adopting various liquid crystals such as a smectic liquid crystal such as a ferroelectric liquid crystal or a nematic liquid crystal. .
【0087】また、本発明の実施にあたり、上記第1実
施形態にて述べた各一対の隔壁20a、20bは、その
各対の一方の隔壁を廃止して実施してもよく、また、そ
の各対の接触金属部26a、26bを廃止して実施して
もよい。In implementing the present invention, each pair of partitions 20a and 20b described in the first embodiment may be implemented by eliminating one partition of each pair. The pair of contact metal portions 26a and 26b may be omitted to be implemented.
【図1】図2にて1−1線の沿う断面図である。FIG. 1 is a sectional view taken along line 1-1 in FIG.
【図2】本発明に係る液晶セルの第1実施形態を示す平
面図である。FIG. 2 is a plan view showing a first embodiment of a liquid crystal cell according to the present invention.
【図3】(a)は、図2の液晶セルの部分拡大平面図で
あり、(b)は、図3(a)にて3b−3b線に沿う断
面図である。3 (a) is a partially enlarged plan view of the liquid crystal cell of FIG. 2, and FIG. 3 (b) is a cross-sectional view taken along line 3b-3b in FIG. 3 (a).
【図4】図1の液晶セルの製造方法を示す工程図であ
る。FIG. 4 is a process chart showing a method for manufacturing the liquid crystal cell of FIG.
【図5】(a)乃至(g)は、図4の主要な工程におけ
る処理状態を示す図であり、(h)は、図5(g)にて
5h−5h線に沿う断面図である。5 (a) to 5 (g) are views showing processing states in main steps in FIG. 4, and FIG. 5 (h) is a cross-sectional view along line 5h-5h in FIG. 5 (g). .
【図6】ITO膜I1をスクリーン印刷機によりスクリ
ーン印刷する状態を示す斜視図である。FIG. 6 is a perspective view showing a state where an ITO film I1 is screen-printed by a screen printer.
【図7】(a)は、空セルを加圧加熱装置に収容した状
態を示す模式的断面図であり、(b)は、空セルを加圧
加熱装置により加圧加熱する状態を示す模式的断面図で
ある。FIG. 7A is a schematic cross-sectional view showing a state where an empty cell is accommodated in a pressurizing and heating device, and FIG. 7B is a schematic diagram showing a state where an empty cell is pressurized and heated by a pressurizing and heating device. FIG.
【図8】本発明に係る液晶セルの第2実施形態の要部を
示す断面図である。FIG. 8 is a sectional view showing a main part of a second embodiment of the liquid crystal cell according to the present invention.
【図9】上記第2実施形態の製造方法を示す要部工程図
である。FIG. 9 is a main part process view showing the manufacturing method of the second embodiment.
【図10】上記第2実施形態の変形例を示す要部断面図
である。FIG. 10 is a cross-sectional view of a principal part showing a modification of the second embodiment.
10、20…電極基板、11、21…ガラス基板、1
5、22…透明電極、17、24、24A…配向膜、1
4、23、23A…絶縁膜、20a、20b…隔壁、2
6a、26b…接触金属部、27a、27b…低抵抗電
極、28a、28b…レジスト部、29…接続端子部、
30…シール、31…液晶注入口。10, 20: electrode substrate, 11, 21: glass substrate, 1
5, 22: transparent electrode, 17, 24, 24A: alignment film, 1
4, 23, 23A: insulating film, 20a, 20b: partition, 2
6a, 26b: contact metal part, 27a, 27b: low resistance electrode, 28a, 28b: resist part, 29: connection terminal part,
30: seal, 31: liquid crystal injection port.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 服部 正 愛知県刈谷市昭和町1丁目1番地 株式会 社デンソー内 (72)発明者 尾崎 正明 愛知県刈谷市昭和町1丁目1番地 株式会 社デンソー内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Tadashi Hattori 1-1-1, Showa-cho, Kariya-shi, Aichi Prefecture Inside Denso Corporation (72) Inventor Masaaki Ozaki 1-1-1, Showa-cho, Kariya-shi, Aichi Prefecture Denso Corporation Inside
Claims (16)
プ状電極(15、22)をそれぞれ有する両電極基板
(10、20)と、 これら両電極基板間に設けた液晶(40)とを備える液
晶セルであって、 前記両電極基板のうち少なくとも一方の複数の電極(2
2)にその長手方向に沿い接するように当該複数の電極
のうち互いに隣り合う各両電極間の各間隙(25)に形
成された複数のストライプ状金属製補助電極(27a、
27b)と、 これら複数の補助電極と他方の電極基板(10)との間
にて前記複数の補助電極の長手方向に沿い形成されて当
該複数の補助電極と共に前記両電極基板間のセルギャッ
プを保持する複数のストライプ状スペーサ(28a、2
8b)とを備える液晶セル。1. A liquid crystal comprising: two electrode substrates (10, 20) each having a plurality of stripe-shaped electrodes (15, 22) positioned intersecting each other; and a liquid crystal (40) provided between the two electrode substrates. A plurality of electrodes (2) of at least one of the two electrode substrates.
2) A plurality of stripe-shaped metal auxiliary electrodes (27a, 27a, 22b) formed in the respective gaps (25) between the two adjacent electrodes among the plurality of electrodes so as to be in contact with the longitudinal direction.
27b), formed between the plurality of auxiliary electrodes and the other electrode substrate (10) along the longitudinal direction of the plurality of auxiliary electrodes, and together with the plurality of auxiliary electrodes, a cell gap between the two electrode substrates is formed. The plurality of striped spacers (28a, 2
8b).
プ状電極(15、22)をそれぞれ有する両電極基板
(10、20)と、 これら両電極基板間に設けた液晶(40)とを備える液
晶セルであって、 前記両電極基板のうち少なくとも一方の複数の電極(2
2)の各前記液晶側表面にその長手方向に沿い接するよ
うに形成した各金属製補助電極(27a)と、 当該各補助電極と他方の電極基板(10)との間にて前
記各補助電極の長手方向に沿い挟持されるように形成さ
れて当該各補助電極と共に前記両電極基板間のセルギャ
ップを保持する各ストライプ状スペーサ(28a)とを
備える液晶セル。2. A liquid crystal comprising: two electrode substrates (10, 20) each having a plurality of striped electrodes (15, 22) positioned intersecting each other; and a liquid crystal (40) provided between the two electrode substrates. A plurality of electrodes (2) of at least one of the two electrode substrates.
2) each metal auxiliary electrode (27a) formed so as to be in contact with each liquid crystal side surface in the longitudinal direction thereof, and each auxiliary electrode between each auxiliary electrode and the other electrode substrate (10). A liquid crystal cell comprising: a plurality of stripe-shaped spacers (28a) formed so as to be sandwiched along the longitudinal direction of the device and holding a cell gap between the electrode substrates together with the auxiliary electrodes.
プ状電極(15、22)をそれぞれ有する両電極基板
(10、20)と、 これら両電極基板間に設けた液晶(40)とを備える液
晶セルであって、 前記両電極基板のうち少なくとも一方の複数の電極(2
2)のうち互いに隣り合う各両電極間の各間隙(25)
に設けられた各一対の金属製補助電極であって前記各両
電極の各対向側壁にその長手方向に沿い接するように形
成した各一対の金属製補助電極(27a、27b)と、 当該各一対の補助電極と他方の電極基板(10)との間
にて前記各一対の補助電極の長手方向に沿い挟持される
ように形成されて当該各一対の補助電極と共に前記両電
極基板のセルギャップを保持する各一対のスペーサ(2
8a、28b)とを備える液晶セル。3. A liquid crystal comprising: two electrode substrates (10, 20) each having a plurality of striped electrodes (15, 22) positioned intersecting each other; and a liquid crystal (40) provided between the two electrode substrates. A plurality of electrodes (2) of at least one of the two electrode substrates.
2) Each gap between both electrodes adjacent to each other (25)
A pair of metal auxiliary electrodes (27a, 27b) formed so as to be in contact with the opposing side walls of the two electrodes along the longitudinal direction thereof. Between the auxiliary electrode and the other electrode substrate (10) along the longitudinal direction of the pair of auxiliary electrodes, and together with the pair of auxiliary electrodes, reduce the cell gap between the two electrode substrates. Each pair of spacers (2
8a, 28b).
(10、20)と、 これら第1及び第2の電極基板間に設けた液晶(40)
とを備える液晶セルであって、 前記第1電極基板(10)は、その配向膜(17)の内
側にて複数のストライプ状の第1電極基板側透明電極
(15)を有しており、 前記第2電極基板(20)は、 透明基板(21)と、 前記複数の第1電極基板側透明電極と交差するように前
記透明基板の前記液晶側表面に形成された複数のストラ
イプ状の第2電極基板側透明電極であってその互いに隣
り合う各両透明電極の間にそれぞれ間隙を形成する複数
のストライプ状の第2電極基板側透明電極(22)と、 前記透明基板の前記液晶側表面のうち前記各間隙に対応
する各表面部から当該各間隙を通り延出して前記第1及
び第2の電極基板間のセルギャップを保持する各隔壁
(20a、20b)と、 当該各隔壁及び前記各第2電極基板側透明電極を介し前
記透明基板の前記液晶側表面に形成された配向膜(2
4)とを備え、 前記各隔壁は、前記各表面部に設けた補助電極(27
a、27b)と、これら各補助電極と前記第1電極基板
の前記液晶側表面との間に設けたスペーサ(28a、2
8b)とを備えており、 前記各補助電極は前記各第2電極基板側透明電極の前記
各間隙側ー側壁に接続されている液晶セル。4. A first and a second electrode substrate facing each other, and a liquid crystal provided between the first and the second electrode substrates.
Wherein the first electrode substrate (10) has a plurality of stripe-shaped first electrode substrate-side transparent electrodes (15) inside the alignment film (17); The second electrode substrate (20) includes a transparent substrate (21), and a plurality of stripe-shaped first electrodes formed on the liquid crystal side surface of the transparent substrate so as to intersect with the plurality of first electrode substrate side transparent electrodes. A plurality of stripe-shaped second electrode substrate-side transparent electrodes (22), each of which is a two-electrode substrate-side transparent electrode and forms a gap between each adjacent transparent electrode; and the liquid crystal-side surface of the transparent substrate Among the partition walls (20a, 20b) extending from the respective surface portions corresponding to the respective gaps and extending through the respective gaps and holding the cell gap between the first and second electrode substrates; Via each second electrode substrate side transparent electrode Alignment film formed on the liquid crystal side surface of said transparent substrate (2
4), and each of the partition walls is provided with an auxiliary electrode (27) provided on each of the surface portions.
a, 27b) and spacers (28a, 2b, 2b) provided between each of these auxiliary electrodes and the liquid crystal side surface of the first electrode substrate.
8b), wherein each of the auxiliary electrodes is connected to each of the gap side and the side wall of each of the second electrode substrate side transparent electrodes.
透明基板の前記各表面部に前記各間隙内で接触金属部
(26a、26b)を介し積層されており、 前記各接触金属部は、前記各第2電極基板側透明電極の
前記各間隙側一側壁とオーミック接触することで、前記
各補助電極を前記各第2電極基板側透明電極に接続して
なることを特徴とする請求項4に記載の液晶セル。5. Each of said partition walls is laminated on said respective surface portions of said transparent substrate via said contact metal portions (26a, 26b) by said auxiliary electrodes in said respective gaps. Wherein each of the auxiliary electrodes is connected to each of the second electrode substrate-side transparent electrodes by making ohmic contact with each of the gap-side one side walls of each of the second electrode substrate-side transparent electrodes. Item 6. A liquid crystal cell according to item 4.
(10、20)と、これら第1及び第2の電極基板間に
設けた液晶(40)とを備える液晶セルであって、 前記第1電極基板は、その配向膜(17)の内側にて複
数のストライプ状の第1電極基板側透明電極(15)を
有しており、 前記第2電極基板は、 透明基板(21)と、 前記複数の第1電極基板側透明電極と交差するように前
記透明基板の前記液晶側表面に形成された複数のストラ
イプ状の第2電極基板側透明電極であってその互いに隣
り合う各両透明電極間にそれぞれ間隙(25)を形成す
る複数のストライプ状の第2電極基板側透明電極(2
2)と、 前記透明基板の前記液晶側表面のうち前記各間隙に対応
する各表面部から当該各間隙を通り延出して前記第1及
び第2の電極基板間のセルギャップを保持する各一対の
隔壁(20a、20b)と、 これら各一対の隔壁及び前記各第2電極基板側透明電極
を介し前記透明基板の前記液晶側表面に形成された配向
膜(24)とを備え、 前記各一対の隔壁は、その対毎に、前記各間隙内で互い
に間隔をおいて位置しており、 当該各一対の隔壁は、隔壁毎に、前記各表面部に設けた
補助電極(27a、27b)と、これら各補助電極と前
記第1電極基板の前記液晶側表面との間に設けたスペー
サ(28a、28b)とを備えており、 前記各補助電極は前記各第2電極基板側透明電極の前記
各間隙側一側壁に接続されている液晶セル。6. A liquid crystal cell comprising: first and second electrode substrates (10, 20) facing each other; and a liquid crystal (40) provided between the first and second electrode substrates. The first electrode substrate has a plurality of stripe-shaped first electrode substrate-side transparent electrodes (15) inside the alignment film (17), and the second electrode substrate has a transparent substrate (21) and a transparent electrode. A plurality of stripe-shaped second electrode substrate-side transparent electrodes formed on the liquid crystal side surface of the transparent substrate so as to intersect with the plurality of first electrode substrate-side transparent electrodes; A plurality of stripe-shaped second electrode substrate-side transparent electrodes (2) each forming a gap (25) between the electrodes.
2) and a pair of the liquid crystal side surfaces of the transparent substrate extending from the respective surface portions corresponding to the respective gaps and extending through the respective gaps to maintain a cell gap between the first and second electrode substrates. Partition walls (20a, 20b), and an alignment film (24) formed on the liquid crystal side surface of the transparent substrate via the pair of partition walls and the second electrode substrate side transparent electrode. Are located at intervals in each of the gaps for each pair, and each pair of the partitions is provided with an auxiliary electrode (27a, 27b) provided on each surface portion for each partition. And a spacer (28a, 28b) provided between each of these auxiliary electrodes and the liquid crystal side surface of the first electrode substrate, wherein each of the auxiliary electrodes is formed of the second electrode substrate side transparent electrode. Liquid crystal cells connected to one side wall on each gap side.
の補助電極にて、前記透明基板の各表面部に前記各間隙
内で接触金属部(26a、26b)を介して積層されて
おり、 前記各接触金属部は、前記各第2電極基板側透明電極の
前記各間隙側一側壁とオーミック接触することで、前記
各補助電極を前記各第2電極基板側透明電極に接続して
なることを特徴とする請求項6に記載の液晶セル。7. Each of the pair of partition walls is laminated on each surface portion of the transparent substrate via the contact metal portions (26a, 26b) in each of the gaps by the auxiliary electrode at each surface portion of the transparent substrate. The contact metal portions are in ohmic contact with the gap side walls of the respective second electrode substrate side transparent electrodes, thereby connecting the respective auxiliary electrodes to the respective second electrode substrate side transparent electrodes. The liquid crystal cell according to claim 6, wherein:
(10、20)と、 これら第1及び第2の電極基板間に設けた液晶(40)
とを備える液晶セルであって、 前記第1電極基板は、その配向膜(17)の内側にて複
数のストライプ状の第1電極基板側透明電極(15)を
有しており、 前記第2電極基板は、 透明基板(21)と、 前記複数の第1電極基板側透明電極と交差するように前
記透明基板の前記液晶側表面に形成された複数のストラ
イプ状第2電極基板側透明電極(22)と、 これら第2電極基板側透明電極の各前記液晶側表面と前
記第1電極基板の前記液晶側表面との間に設けられて第
1及び第2の電極基板間のセルギャップを保持する各隔
壁(20a、20b)と、 当該各隔壁及び前記各第2電極基板側透明電極を介し前
記透明基板の前記液晶側表面に形成された配向膜(24
A)とを備え、 前記各隔壁は、前記各第2電極基板側透明電極の前記液
晶側表面に設けた補助電極(27a)と、これら各補助
電極と前記第1電極基板の前記液晶側表面との間に設け
たスペーサ(28a)とを備えている液晶セル。8. A first and second electrode substrate (10, 20) facing each other, and a liquid crystal (40) provided between the first and second electrode substrates.
Wherein the first electrode substrate has a plurality of stripe-shaped first electrode substrate-side transparent electrodes (15) inside the alignment film (17); The electrode substrate includes: a transparent substrate (21); and a plurality of stripe-shaped second electrode substrate-side transparent electrodes formed on the liquid crystal side surface of the transparent substrate so as to intersect with the plurality of first electrode substrate-side transparent electrodes. 22), provided between each liquid crystal side surface of the second electrode substrate side transparent electrode and the liquid crystal side surface of the first electrode substrate to maintain a cell gap between the first and second electrode substrates. Partition walls (20a, 20b) to be formed, and an alignment film (24) formed on the liquid crystal side surface of the transparent substrate via the respective partition walls and the respective second electrode substrate side transparent electrodes.
A), wherein each of the partition walls includes an auxiliary electrode (27a) provided on the liquid crystal side surface of each of the second electrode substrate side transparent electrodes, and each of these auxiliary electrodes and the liquid crystal side surface of the first electrode substrate. And a spacer (28a) provided between the liquid crystal cell and the liquid crystal cell.
第2電極基板側透明電極の前記液晶側表面に各接触金属
部(26a)を介し積層されており、 前記各接触金属部は、前記各第2電極基板側透明電極の
前記液晶側表面とオーミック接触することで、前記各補
助電極を前記各第2電極基板側透明電極に接続してなる
ことを特徴とする請求項8に記載の液晶セル。9. Each of said partition walls is laminated on said liquid crystal side surface of said second electrode substrate side transparent electrode via said contact metal part (26a) by an auxiliary electrode thereof, and said each said contact metal part is 9. The method according to claim 8, wherein each of the auxiliary electrodes is connected to each of the second electrode substrate-side transparent electrodes by making ohmic contact with the liquid crystal side surface of each of the second electrode substrate-side transparent electrodes. The liquid crystal cell of the above.
らなり、 前記液晶はスメクチック液晶であることを特徴とする請
求項1乃至9のいずれか一つに記載の液晶セル。10. The liquid crystal cell according to claim 1, wherein each of the spacers comprises a photoresist portion, and the liquid crystal is a smectic liquid crystal.
2)をそれぞれ有する両電極基板(10、20)を形成
する電極基板形成工程(S1乃至S9、S11乃至S1
3)と、 前記各複数のストライプ状電極が互いに交差するように
前記両電極基板を重ね合わせる重ね合わせ工程(S1
4)と、 当該両電極基板の間に液晶(40)を注入する液晶注入
工程(S17)とを備える液晶セルの製造方法であっ
て、 前記電極基板形成工程は、 前記両電極基板のうち一方の複数の電極(22)及びこ
れら電極のうち互いに隣り合う各両電極の間の各間隙
(25)に亘り補助金属膜(A)を形成する補助金属膜
形成工程(S4)と、 前記補助金属膜にフォトレジスト膜(R)を積層するレ
ジスト膜積層工程(S4)と、 前記フォトレジスト膜にパターニング処理を施して複数
のストライプ状スペーサ(28a、28b)を前記補助
金属膜に沿い形成するスペーサ形成工程(S5、S6)
と、 前記補助金属膜に前記複数のスペーサをマスクとしてパ
ターニング処理を施して前記一方の電極基板の複数の電
極にその長手方向に接しかつ前記複数のスペーサと共に
複数のストライプ状隔壁(20a、20b)を構成する
ように複数のストライプ状補助電極(27a、27b)
を形成する補助電極形成工程(S7)とを有しており、 前記重ね合わせ工程において、前記両電極基板の重ね合
わせを前記複数のストライプ状隔壁を介して行うように
した液晶セルの製造方法。11. A plurality of striped electrodes (15, 2).
Electrode substrate forming steps (S1 to S9, S11 to S1) for forming both electrode substrates (10, 20) each having 2)
3) and a superposing step (S1) of superposing the two electrode substrates so that the plurality of stripe-shaped electrodes cross each other.
4) and a liquid crystal cell injection step (S17) of injecting a liquid crystal (40) between the two electrode substrates, wherein the electrode substrate formation step includes one of the two electrode substrates. An auxiliary metal film forming step (S4) of forming an auxiliary metal film (A) over the plurality of electrodes (22) and the gaps (25) between each of the electrodes adjacent to each other; A resist film laminating step (S4) for laminating a photoresist film (R) on the film; and a spacer for patterning the photoresist film to form a plurality of stripe-shaped spacers (28a, 28b) along the auxiliary metal film. Forming process (S5, S6)
Patterning the auxiliary metal film using the plurality of spacers as a mask, and making contact with the plurality of electrodes of the one electrode substrate in the longitudinal direction thereof, and a plurality of stripe-shaped partitions (20a, 20b) together with the plurality of spacers. To form a plurality of stripe-shaped auxiliary electrodes (27a, 27b).
And an auxiliary electrode forming step (S7) of forming a liquid crystal cell. The method of manufacturing a liquid crystal cell, comprising: in the overlapping step, overlapping the two electrode substrates via the plurality of striped partition walls.
フォトレジスト膜のパターニング処理を、前記複数のス
トライプ状スペーサの各々が前記一方の電極基板の複数
の電極のうち互いに隣り合う各両透明電極の間に対応し
て位置するように行い、 前記補助電極形成工程において、前記補助金属膜のパタ
ーニング処理を、前記複数のストライプ状補助電極の各
々が前記各両電極の一方の電極の前記各間隙側一側壁に
接するように行うようにした請求項11に記載の液晶セ
ルの製造方法。12. The method of patterning the photoresist film in the spacer forming step, wherein each of the plurality of stripe-shaped spacers is disposed between two adjacent transparent electrodes among the plurality of electrodes of the one electrode substrate. In the auxiliary electrode forming step, the auxiliary metal film is patterned so that each of the plurality of stripe-shaped auxiliary electrodes is one side wall of one of the two electrodes on the gap side. The method for manufacturing a liquid crystal cell according to claim 11, wherein the method is performed so as to be in contact with the liquid crystal cell.
フォトレジスト膜のパターニング処理を、前記複数のス
トライプ状スペーサの各々が前記一方の電極基板の複数
の電極にその長手方向に対応して位置するように行い、 前記補助電極形成工程において、前記補助金属膜のパタ
ーニング処理を、前記各補助電極が前記一方の電極基板
の各電極上にその長手方向に接するように行うようにし
た請求項11に記載の液晶セルの製造方法。13. In the step of forming a spacer, the patterning of the photoresist film is performed such that each of the plurality of stripe-shaped spacers is positioned on a plurality of electrodes of the one electrode substrate in a longitudinal direction thereof. The method according to claim 11, wherein, in the auxiliary electrode forming step, the auxiliary metal film is patterned such that the auxiliary electrodes are in contact with the respective electrodes of the one electrode substrate in the longitudinal direction. A method for manufacturing a liquid crystal cell.
0)をコ字状に形成するシール形成工程(S13)を有
し、 前記重ね合わせ工程において、前記複数の隔壁が前記シ
ールの両並行シール部(30a、30b)の間にてこれ
ら両並行シール部に沿いかつ前記シールの前記両並行シ
ール部に対する直交シール部(30c)と直角となるよ
うに前記両電極基板の重ね合わせを行って前記両並行シ
ール部の各先端部、前記各隔壁の先端部及び前記両電極
基板の各内表面により複数の開口部(31a)からなる
液晶注入口(31)を形成し、 前記液晶注入工程において、前記液晶の注入を前記液晶
注入口を通して行うようにした請求項11乃至13のい
ずれか一つに記載の液晶セルの製造方法。14. An electrode substrate forming step, wherein a band-shaped seal (3) is formed along the outer peripheral portion of the inner surface of the other electrode substrate.
0) in a U-shape (S13), and in the overlapping step, the plurality of partition walls are located between the parallel seal portions (30a, 30b) of the seal. The two electrode substrates are overlapped so as to be at right angles to the orthogonal seal portion (30c) of the seal with respect to the two parallel seal portions along the portion, and each tip of the two parallel seal portions and the tip of each partition wall are overlapped. A liquid crystal injection port (31) comprising a plurality of openings (31a) is formed by the portion and the inner surfaces of both electrode substrates, and in the liquid crystal injection step, the liquid crystal is injected through the liquid crystal injection port. A method for manufacturing a liquid crystal cell according to claim 11.
フォトレジスト膜のパターニング処理を、前記複数のス
トライプ状スペーサの各々が液晶セルの外部回路との各
接続端子部(29)に対応する位置まで延出するように
行い、 前記液晶注入工程後において、前記各スペーサのうち前
記各接続端子部に対する対応部の直下に位置する前記各
補助電極の電極部分を前記各接続端子部とするように、
前記各スペーサのうち前記各接続端子部に対する対応部
を除去するようにしたことを特徴とする請求項11乃至
14のいずれか一つに記載の液晶セルの製造方法。15. In the spacer forming step, the patterning process of the photoresist film is extended to a position where each of the plurality of stripe-shaped spacers corresponds to each connection terminal portion (29) with an external circuit of the liquid crystal cell. After the liquid crystal injecting step, an electrode portion of each of the auxiliary electrodes located immediately below a corresponding portion of each of the spacers with respect to each of the connection terminal portions is set as each of the connection terminal portions.
The method according to any one of claims 11 to 14, wherein a portion corresponding to each of the connection terminal portions in each of the spacers is removed.
基板の形成にあたり、 基板の内表面に導電膜(I1)を形成する導電膜形成工
程(S1)と、 前記導電膜に沿い複数のストライプ状保護膜(23)を
パターニング形成する保護膜形成工程(S2)と、 前記導電膜に前記複数のストライプ状保護膜をマスクと
してパターニング処理を施し前記複数の電極(22)を
形成する電極形成工程(S3)とを備えることを特徴と
する請求項11乃至15のいずれか一つに記載の液晶セ
ルの製造方法。16. The electrode substrate forming step includes: forming one electrode substrate; forming a conductive film (I1) on an inner surface of the substrate; and forming a plurality of stripes along the conductive film. Forming a protective film (23) by patterning a protective film (23); and forming an electrode (22) by patterning the conductive film using the plurality of stripe-shaped protective films as a mask. The method of manufacturing a liquid crystal cell according to any one of claims 11 to 15, comprising: (S3).
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33037197A JPH11160717A (en) | 1997-12-01 | 1997-12-01 | Liquid crystal cell and production thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33037197A JPH11160717A (en) | 1997-12-01 | 1997-12-01 | Liquid crystal cell and production thereof |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11160717A true JPH11160717A (en) | 1999-06-18 |
Family
ID=18231865
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP33037197A Pending JPH11160717A (en) | 1997-12-01 | 1997-12-01 | Liquid crystal cell and production thereof |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11160717A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100504569B1 (en) * | 1999-12-31 | 2005-08-01 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Liquid Crystal Display Device with Electrode on Barrier Rib And Fabricating Method Thereof |
-
1997
- 1997-12-01 JP JP33037197A patent/JPH11160717A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100504569B1 (en) * | 1999-12-31 | 2005-08-01 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Liquid Crystal Display Device with Electrode on Barrier Rib And Fabricating Method Thereof |
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