JPH1084056A - Manufacture of ceramic board - Google Patents
Manufacture of ceramic boardInfo
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- JPH1084056A JPH1084056A JP8257409A JP25740996A JPH1084056A JP H1084056 A JPH1084056 A JP H1084056A JP 8257409 A JP8257409 A JP 8257409A JP 25740996 A JP25740996 A JP 25740996A JP H1084056 A JPH1084056 A JP H1084056A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はセラミック基板の製
造方法に関し、より詳細には半導体素子等を搭載するた
めのICパッケージ等に用いられるセラミック基板の製
造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a ceramic substrate, and more particularly, to a method for manufacturing a ceramic substrate used for an IC package for mounting a semiconductor element or the like.
【0002】[0002]
【従来の技術】半導体素子を保護すると同時に、マザー
ボード上に形成された配線との接続を図るために、前記
半導体素子は種々のパッケージに実装される。これらパ
ッケージの中でも、セラミックパッケージ(セラミック
基板)は熱伝導性、耐湿性、耐熱性等に優れるために信
頼性が高く、多くの分野で使用されている。2. Description of the Related Art In order to protect a semiconductor device and at the same time to connect with a wiring formed on a motherboard, the semiconductor device is mounted on various packages. Among these packages, ceramic packages (ceramic substrates) have high reliability because of their excellent thermal conductivity, moisture resistance, heat resistance, and the like, and are used in many fields.
【0003】近年、半導体素子の高集積化に伴い、電子
機器の高性能化や小型化が急速に進展しており、前記半
導体素子をパッケージに実装する方法も、従来のワイヤ
ボンディングによる実装方法から、マルチチップ化や高
密度実装に適したフリップチップボンディングによる実
装方法等に変わってきている。また、電子機器の制御速
度及び信号処理速度の高速化に伴い、スイッチングの際
のノイズが問題となってきており、このスイッチングノ
イズを吸収するためにコンデンサが配設されたセラミッ
ク基板が使用されている。[0003] In recent years, with high integration of semiconductor elements, the performance and miniaturization of electronic devices have been rapidly progressing, and the method of mounting the semiconductor elements in a package has been changed from the conventional mounting method by wire bonding. The mounting method by flip chip bonding, which is suitable for multi-chip and high-density mounting, has been changed. Also, with the increase in control speed and signal processing speed of electronic devices, noise at the time of switching has become a problem, and ceramic substrates provided with capacitors have been used to absorb the switching noise. I have.
【0004】上記用途に使用される基板として、低温で
焼成可能なガラスを用いたガラスセラミック基板が注目
されている。このガラスセラミック基板は800〜10
00℃程度の低温で焼成することができるため、Ag、
Cu等の低抵抗配線材料と同時焼成を行うことができ、
低誘電率であるため誘電損失が小さく、熱膨張率がSi
に近いために半導体素子をフリップチップボンディング
により接続した場合でも問題が生じず、フリップチップ
基板等の用途に好適である。このガラスセラミック基板
は、従来、以下に示す方法により製造されていた。まず
ホウ珪酸ガラス等のガラス粉末とアルミナ等の骨材粉末
とを混合した後、さらに樹脂、溶剤、可塑剤等を添加し
て混合することによりスラリを調製し、このスラリを用
いてドクターブレード法等によりグリーンシートを作製
する。As a substrate used for the above-mentioned applications, a glass ceramic substrate using a glass which can be fired at a low temperature has attracted attention. This glass ceramic substrate is 800-10
Since it can be fired at a low temperature of about 00 ° C., Ag,
Simultaneous firing with a low-resistance wiring material such as Cu can be performed,
Low dielectric constant, low dielectric loss, thermal expansion coefficient of Si
Therefore, no problem occurs even when the semiconductor elements are connected by flip-chip bonding, which is suitable for applications such as flip-chip substrates. This glass ceramic substrate has been conventionally manufactured by the following method. First, a glass powder such as borosilicate glass and an aggregate powder such as alumina are mixed, and then a resin, a solvent, a plasticizer, etc. are added and mixed to prepare a slurry, and the doctor blade method is performed using the slurry. A green sheet is produced by the above method.
【0005】次に、これらグリーンシートを所定のサイ
ズに切断した後、それぞれの積層部分の形状等に応じて
グリーンシートにパンチング等の加工処理を施し、Ag
やCu等を主成分とする導体ペーストをビアホールに充
填し、表面には所定パターンの導体ペースト層を形成す
る。次に、上記処理が施されたグリーンシートを複数枚
積層し、圧着、一体化した後脱バインダ処理を施し、焼
成することによりセラミック基板を製造する。ノイズ吸
収用コンデンサをセラミック基板に内蔵させる場合に
は、同程度の温度で焼成することができる誘電体用粉末
を含むコンデンサ形成用のペースト層又はグリーンシー
ト(両側に電極用導体ペースト層が形成されたもの)を
基板用グリーンシートの内部に形成しておく。Next, after cutting these green sheets into a predetermined size, the green sheets are subjected to a processing such as punching according to the shape of each laminated portion and the like, and Ag
A via paste is filled in the via hole with a conductive paste mainly containing Cu or Cu or the like, and a conductive paste layer having a predetermined pattern is formed on the surface. Next, a ceramic substrate is manufactured by laminating a plurality of green sheets that have been subjected to the above processing, pressing and integrating the green sheets, performing binder removal processing, and firing. When a noise absorbing capacitor is incorporated in a ceramic substrate, a paste layer or a green sheet for forming a capacitor containing dielectric powder that can be fired at a similar temperature (a conductor paste layer for electrodes is formed on both sides). Is formed inside the substrate green sheet.
【0006】上記方法により製造されたガラスセラミッ
ク基板は、焼成過程において収縮するが、その収縮率は
約20%程度と大きい。また、グリーンシートの内部に
導体ペースト層が形成されている場合には、収縮率が導
体ペースト層とグリーンシートとで異なり、そのために
ガラスセラミック基板に反りやうねりが生じ易い。ま
た、前記反りやうねりに加え、焼成条件の微妙な変化等
により収縮率が影響を受けるため、その寸法にばらつき
が生ずる。フリップチップ基板においては、フリップチ
ップボンディング用の導体層を形成するため、高い寸法
精度が要求され、通常の焼成方法では寸法精度について
の要求を満足させるのは難しい。The glass ceramic substrate manufactured by the above method shrinks during the firing process, and the shrinkage is as large as about 20%. Further, when the conductive paste layer is formed inside the green sheet, the shrinkage differs between the conductive paste layer and the green sheet, so that the glass ceramic substrate is likely to warp or undulate. Also, in addition to the warpage and undulation, the shrinkage rate is affected by subtle changes in the firing conditions and the like, so that the dimensions vary. In a flip chip substrate, a conductor layer for flip chip bonding is formed, so high dimensional accuracy is required, and it is difficult to satisfy the requirements for dimensional accuracy by a normal firing method.
【0007】従来よりセラミック基板の寸法精度を向上
させる手段として、焼成時のグリーンシート積層体の面
方向の収縮を抑制する種々の方法が提案されている。特
公平5−22671号公報には、セラミックグリーンシ
ートの両面に気体が流出入可能な壁面を対向させ、前記
壁面を通じて前記セラミックグリーンシートの厚み方向
に圧力を加え、かつ前記壁面から気体を流入、又は流出
させながら、前記セラミックグリーンシートを焼成する
方法が開示されている。前記公報には、厚み方向から機
械的な圧力や気体による圧力を印加することにより、焼
結体の反り、歪、収縮等を抑えることができることが記
載されている。Conventionally, as a means for improving the dimensional accuracy of a ceramic substrate, various methods for suppressing shrinkage of a green sheet laminate in the surface direction during firing have been proposed. In Japanese Patent Publication No. 5-22671, a wall through which gas can flow in and out is opposed to both surfaces of a ceramic green sheet, pressure is applied through the wall in the thickness direction of the ceramic green sheet, and gas flows in from the wall. Alternatively, a method is disclosed in which the ceramic green sheet is fired while flowing. The publication describes that by applying mechanical pressure or gas pressure from the thickness direction, it is possible to suppress warpage, distortion, shrinkage, and the like of the sintered body.
【0008】また特表平5−503498号公報には、
グリーンシートの両面に、非金属無機粉末を含有するフ
レキシブルで除去が可能な剥離層を積層し、積層体の厚
み方向に圧力を加えながら焼成する方法が開示されてい
る。上記方法によれば、焼成時に厚み方向に圧力が加え
られているので、面方向の収縮が抑制される結果、収縮
のばらつきが小さくなるととともに反り等の発生も抑制
される。前記非金属無機粉末は焼成後も焼結しないため
焼結体に接着しても、前記剥離層を軽い力で除去するこ
とができる。[0008] Japanese Patent Publication No. 5-503498 discloses that
A method is disclosed in which a flexible and removable release layer containing a nonmetallic inorganic powder is laminated on both surfaces of a green sheet, and firing is performed while applying pressure in the thickness direction of the laminate. According to the above method, since pressure is applied in the thickness direction at the time of firing, shrinkage in the plane direction is suppressed. As a result, variation in shrinkage is reduced, and the occurrence of warpage and the like is also suppressed. Since the non-metallic inorganic powder does not sinter even after firing, even if it adheres to a sintered body, the release layer can be removed with a light force.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特公平
5−22671号公報に開示された方法においては、セ
ラミックグリーンシートを変形させないように押圧し、
かつ気体を流入又は流出させるための特殊な部品を必要
とし、また焼成時に気体を流入又は流出させるために、
その熱効率も低いという課題があった。However, in the method disclosed in Japanese Patent Publication No. 5-22671, the ceramic green sheet is pressed so as not to be deformed.
And special parts for inflow or outflow of gas are required, and inflow or outflow of gas during firing,
There was a problem that its thermal efficiency was low.
【0010】また特表平5−503498号公報に開示
された方法では焼成時のグリーンシートの面方向への収
縮抑制を目的としているため、グリーンシートに変形が
生じないように余り大きな圧力を加えていない。そのた
め、グリーンシートは前記剥離層によりしっかり保持さ
れておらず、グリーンシート中に加えた圧力に近い圧力
を受ける部分と余り圧力を受けない部分とが存在し、上
記圧力の不均一性に起因して焼結体の場所により収縮量
が異なり、焼結体の寸法精度が低下するという課題があ
った。In the method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-503498, the aim is to suppress the shrinkage of the green sheet in the plane direction at the time of firing, so that an excessively large pressure is applied so that the green sheet is not deformed. Not. Therefore, the green sheet is not firmly held by the release layer, and there are a part receiving a pressure close to the pressure applied to the green sheet and a part not receiving much pressure, which is caused by the non-uniformity of the pressure. Thus, there is a problem that the shrinkage varies depending on the location of the sintered body, and the dimensional accuracy of the sintered body is reduced.
【0011】本発明は上記課題に鑑みなされたものであ
り、寸法精度(位置精度)が高く、かつ構造が面方向に
均一なセラミック基板を製造することができるセラミッ
ク基板の製造方法を提供することを目的としている。The present invention has been made in view of the above problems, and provides a method of manufacturing a ceramic substrate capable of manufacturing a ceramic substrate having a high dimensional accuracy (positional accuracy) and a uniform structure in a plane direction. It is an object.
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段及びその効果】本発明に係
るセラミック基板の製造方法(1)は、セラミック粉末
を含有する基板用グリーンシートの両面に、難焼結性セ
ラミック粉末を含有する拘束層用グリーンシートを積層
し、かかる積層体の厚み方向に高圧力をかけながら焼成
することにより、焼成前の基板用グリーンシートよりも
面方向に伸長した焼結体を製造することを特徴としてい
る。According to the present invention, there is provided a method for manufacturing a ceramic substrate (1), wherein a constraining layer containing a non-sinterable ceramic powder is provided on both surfaces of a substrate green sheet containing a ceramic powder. By stacking green sheets for use and firing while applying a high pressure in the thickness direction of the laminated body, a sintered body extending in the surface direction more than the green sheet for a substrate before firing is manufactured.
【0013】上記セラミック基板の製造方法(1)によ
れば、高圧力をかけるため、グリーンシートの面全体に
圧力が均一にかかり、また焼成による収縮を防止するこ
とができ、寸法精度(位置精度)が高いセラミック基板
を製造することができる。According to the method (1) for producing a ceramic substrate, since a high pressure is applied, pressure is uniformly applied to the entire surface of the green sheet, shrinkage due to firing can be prevented, and dimensional accuracy (positional accuracy) can be prevented. ) Can be manufactured.
【0014】また、本発明に係るセラミック基板の製造
方法(2)は、上記セラミック基板の製造方法(1)に
おいて、基板用グリーンシートの内部及び/又は表面に
導体ペースト層が形成されていることを特徴としてい
る。Further, in the method (2) for manufacturing a ceramic substrate according to the present invention, in the method (1) for manufacturing a ceramic substrate, a conductive paste layer is formed inside and / or on a surface of the green sheet for the substrate. It is characterized by.
【0015】上記セラミック基板の製造方法(2)によ
れば、前記導体ペーストにも均一に圧力がかかるため、
表面や内部に導体層(金属層)が形成されていても、導
体層等の寸法精度(位置精度)が高いセラミック基板を
製造することができる。According to the above method (2) for producing a ceramic substrate, the conductor paste is also uniformly pressed.
Even if a conductor layer (metal layer) is formed on the surface or inside, a ceramic substrate having high dimensional accuracy (positional accuracy) such as a conductor layer can be manufactured.
【0016】また、本発明に係るセラミック基板の製造
方法(3)は、上記セラミック基板の製造方法(1)又
は(2)において、基板用グリーンシートの内部にコン
デンサ形成用のペースト層又はグリーンシートを含む層
が形成されていることを特徴としている。The method (3) for manufacturing a ceramic substrate according to the present invention is the same as the method (1) or (2) for manufacturing a ceramic substrate, except that a paste layer or a green sheet for forming a capacitor is formed inside the green sheet for the substrate. Is characterized in that a layer containing is formed.
【0017】上記セラミック基板の製造方法(3)によ
れば、コンデンサ形成用のペースト層等にも均一に圧力
がかかり、セラミック基板の内部にコンデンサが形成さ
れていても、寸法精度(位置精度)が高いセラミック基
板を製造することができる。According to the method (3) for manufacturing a ceramic substrate, even pressure is applied to a paste layer for forming a capacitor and the like, and even if a capacitor is formed inside the ceramic substrate, dimensional accuracy (positional accuracy) is obtained. , A ceramic substrate having a high value can be manufactured.
【0018】また、本発明に係るセラミック基板の製造
方法(4)は、上記セラミック基板の製造方法(1)〜
(3)のいずれかにおいて、セラミック基板がガラスセ
ラミック基板であることを特徴としている。Further, the method (4) for manufacturing a ceramic substrate according to the present invention includes the method (1) for manufacturing a ceramic substrate described above.
(3) The method according to (3), wherein the ceramic substrate is a glass ceramic substrate.
【0019】上記セラミック基板の製造方法(4)によ
れば、製造するセラミック基板がガラスセラミック基板
であるため、比較的低温で焼成することができ、導通抵
抗率の低い配線材料を用いることができ、また拘束層用
グリーンシートとも反応しにくいため、より寸法精度
(位置精度)が高いガラスセラミック基板を製造するこ
とができる。According to the method (4) for manufacturing a ceramic substrate, since the ceramic substrate to be manufactured is a glass ceramic substrate, it can be fired at a relatively low temperature, and a wiring material having a low conductivity can be used. In addition, since it does not easily react with the constraining layer green sheet, a glass ceramic substrate having higher dimensional accuracy (positional accuracy) can be manufactured.
【0020】また、本発明に係るセラミック基板の製造
方法(5)は、上記セラミック基板の製造方法(1)〜
(4)のいずれかにおいて、拘束層用グリーンシートを
構成する難焼結性セラミック粉末が、MgO、Al2 O
3 、ZrO2 、又は安定化ZrO2 のうちの少なくとも
1種以上を含んで構成されていることを特徴としてい
る。Further, the method (5) for manufacturing a ceramic substrate according to the present invention includes the method (1) to the method (1) for manufacturing a ceramic substrate.
In any of (4), the hardly sinterable ceramic powder constituting the green sheet for the constraining layer is made of MgO, Al 2 O.
3 , ZrO 2 , or stabilized ZrO 2 .
【0021】上記セラミック基板の製造方法(5)によ
れば、上記難焼結性セラミック粉末は基板用グリーンシ
ートと反応しにくく、該基板用グリーンシートの焼結温
度では焼結せず、焼成後に容易にセラミック基板上から
除去することができる。According to the method (5) for producing a ceramic substrate, the hardly sinterable ceramic powder hardly reacts with the green sheet for the substrate, and does not sinter at the sintering temperature of the green sheet for the substrate. It can be easily removed from the ceramic substrate.
【0022】また、本発明に係るセラミック基板の製造
方法(6)は、上記セラミック基板の製造方法(1)〜
(5)のいずれかにおいて、拘束層用グリーンシートの
厚さが0.30mm以下であることを特徴としている。The method (6) for manufacturing a ceramic substrate according to the present invention comprises the steps (1) to (1) for manufacturing the ceramic substrate described above.
(5) In any one of (5), the thickness of the constraining layer green sheet is 0.30 mm or less.
【0023】上記セラミック基板の製造方法(6)によ
れば、拘束層用グリーンシートの厚さを薄くしたので、
基板用グリーンシートの伸びすぎを抑制でき、焼成によ
る伸び率がより適切な範囲となり、寸法のばらつきも抑
制することができる。According to the method (6) for manufacturing the ceramic substrate, the thickness of the constraining layer green sheet is reduced.
Excessive elongation of the green sheet for a substrate can be suppressed, the elongation by firing becomes in a more appropriate range, and dimensional variation can be suppressed.
【0024】また、本発明に係るセラミック基板の製造
方法(7)は、上記セラミック基板の製造方法(1)〜
(6)のいずれかにおいて、焼成前の基板用グリーンシ
ートの1辺の長さに対する焼成後のセラミック基板の1
辺の長さの伸び率が0.20%以下であることを特徴と
している。Further, the method (7) for manufacturing a ceramic substrate according to the present invention includes the method (1) to the method (1) for manufacturing a ceramic substrate.
In any one of (6) and (1), the length of one side of the green sheet for a substrate before firing is equal to the length of the ceramic substrate after firing.
The elongation rate of the length of the side is 0.20% or less.
【0025】上記セラミック基板の製造方法(7)によ
れば、焼成後のセラミック基板の伸び率を上記した適切
な範囲に設定したので、焼結体の形状は損なわれず、面
内方向に均一でさらに寸法精度が高いセラミック基板を
製造することができる。According to the method for manufacturing a ceramic substrate (7), since the elongation percentage of the fired ceramic substrate is set in the above-described appropriate range, the shape of the sintered body is not impaired and the sintered body is uniform in the in-plane direction. Further, a ceramic substrate having high dimensional accuracy can be manufactured.
【0026】また、本発明に係るセラミック基板の製造
方法(8)は、上記セラミック基板の製造方法(1)〜
(7)のいずれかにおいて、焼成時に積層体の厚み方向
に加える圧力が7.4×105 Pa以上であることを特徴
としている。The method (8) for manufacturing a ceramic substrate according to the present invention includes the method (1) to the method (1) for manufacturing a ceramic substrate.
(7) The method according to any one of (7), wherein a pressure applied in the thickness direction of the laminate during firing is 7.4 × 10 5 Pa or more.
【0027】上記セラミック基板の製造方法(8)によ
れば、焼成時に積層体の厚み方向に加える圧力が7.4
×105 Pa以上と高圧力であるので、セラミック基板の
伸長率が十分に調整され、寸法精度が高いセラミック基
板を製造することができる。According to the method (8) for producing a ceramic substrate, the pressure applied in the thickness direction of the laminate during firing is 7.4.
Since the pressure is as high as × 10 5 Pa or more, the elongation ratio of the ceramic substrate is sufficiently adjusted, and a ceramic substrate with high dimensional accuracy can be manufactured.
【0028】[0028]
【発明の実施の形態】以下、本発明に係るセラミック基
板の製造方法の実施の形態を説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a method for manufacturing a ceramic substrate according to the present invention will be described below.
【0029】本発明に係るセラミック基板の製造方法に
おいて、製造の対象となるセラミック基板の種類は特に
限定されるものではなく、その具体例としては、アルミ
ナセラミック基板、ムライトセラミック基板等の酸化物
系セラミック基板、コージェライト等を骨材として含有
するホウ珪酸系ガラス等からなるガラスセラミック基板
等が挙げられる。本実施の形態では、これらのなかでも
特に、比較的低温で焼成することができ、拘束層と反応
しにくく、寸法精度及び平坦性が要求されるガラスセラ
ミック基板、例えばフリップチップ用のガラスセラミッ
ク基板を主として製造の対象としている。従って、以下
においては、ガラスセラミック基板の製造方法を例にと
って説明することにする。In the method of manufacturing a ceramic substrate according to the present invention, the type of ceramic substrate to be manufactured is not particularly limited, and specific examples thereof include oxide-based ceramic substrates such as an alumina ceramic substrate and a mullite ceramic substrate. Examples include a ceramic substrate, a glass ceramic substrate made of borosilicate glass containing cordierite or the like as an aggregate, and the like. In this embodiment, among these, in particular, a glass ceramic substrate which can be fired at a relatively low temperature, does not easily react with the constraining layer, and requires dimensional accuracy and flatness, for example, a glass ceramic substrate for a flip chip Are mainly manufactured. Therefore, in the following, a method for manufacturing a glass ceramic substrate will be described as an example.
【0030】実施の形態に係るセラミック基板の製造方
法においては、まず、基板用グリーンシートと拘束層用
グリーンシートとを作製し、これらを積層する。In the method of manufacturing a ceramic substrate according to the embodiment, first, a green sheet for a substrate and a green sheet for a constraining layer are prepared and laminated.
【0031】ガラスセラミックの原料粉末を主成分とす
る基板用グリーンシートは、「従来の技術」の項におい
て説明した方法とほぼ同様の方法で作製することがで
き、例えばセラミック基板用のセラミック粉末、樹脂、
有機溶剤、及び可塑剤等からなる混合スラリをドクタブ
レード法により成形することにより作製する。基板用グ
リーンシートは、通常複数のグリーンシートの積層体か
らなるが、必ず個々のグリーンシートを複数層積層して
積層体とする必要はなく、単層のグリーンシートからな
るものでもよく、またグリーンシート上への導体ペース
ト層の形成も任意的である。A green sheet for a substrate containing a glass ceramic raw material powder as a main component can be produced by a method substantially similar to the method described in the section of “Prior Art”. For example, ceramic powder for a ceramic substrate, resin,
It is manufactured by molding a mixed slurry composed of an organic solvent, a plasticizer, and the like by a doctor blade method. The green sheet for a substrate is usually composed of a laminate of a plurality of green sheets, but it is not always necessary to laminate a plurality of individual green sheets into a laminate, and may be composed of a single-layer green sheet. The formation of the conductive paste layer on the sheet is also optional.
【0032】前記基板用グリーンシートは、前記ガラス
セラミックの原料粉末、樹脂、有機溶剤、及び可塑剤等
から構成される。前記ガラスセラミックの原料粉末は、
ホウ珪酸系ガラス、コージェライト(MgO−Al2 O
3 −SiO2 )系ガラス、アノーサイト(CaO−Al
2 O3 −SiO2 )系ガラス等の粉末とAl2 O3 等の
骨材の粉末を混合したものであり、その平均粒径は0.
1〜10μmが好ましい。前記樹脂としては、例えばア
クリル樹脂、ブチラール樹脂等が挙げられ、前記有機溶
剤としては、例えばトルエン、キシレン等が挙げられ、
前記可塑剤としては、例えばジブチルフタレート、ジオ
キシルフタレート等が挙げられる。これらの混合割合
は、ガラスセラミックの原料粉末100重量部に対し、
有機溶媒が30〜50重量部、可塑剤が1〜5重量部、
バインダが5〜15重量部が好ましい。前記グリーンシ
ート上に導体ペースト層を形成する場合には、Ag、C
u、Au、Ag−Pd等が導体材料として用いられる。The substrate green sheet is composed of the raw material powder of the glass ceramic, a resin, an organic solvent, a plasticizer and the like. The raw material powder of the glass ceramic,
Borosilicate glass, cordierite (MgO-Al 2 O
3- SiO 2 ) glass, anorthite (CaO-Al)
It is a mixture of powder such as 2 O 3 —SiO 2 ) -based glass and powder of aggregate such as Al 2 O 3 .
1 to 10 μm is preferred. Examples of the resin include acrylic resin, butyral resin and the like, and examples of the organic solvent include toluene and xylene.
Examples of the plasticizer include dibutyl phthalate and dioxyl phthalate. These mixing ratios are based on 100 parts by weight of the raw material powder of the glass ceramic.
30 to 50 parts by weight of an organic solvent, 1 to 5 parts by weight of a plasticizer,
The binder is preferably 5 to 15 parts by weight. When a conductive paste layer is formed on the green sheet, Ag, C
u, Au, Ag-Pd or the like is used as the conductor material.
【0033】セラミック基板の内部にノイズ吸収用のコ
ンデンサを内蔵させる場合には、基板用グリーンシート
の内部にコンデンサ形成用のペースト層又はグリーンシ
ートを積層する。前記ペースト層又は前記グリーンシー
トの両側には、当然電極用の導体ペースト層を形成して
おく必要がある。コンデンサ用の材料としては、例えば
BaTiO3 系誘電体、SrTiO3 系誘電体等が挙げ
られ、その比誘電率は3000程度が好ましい。When a capacitor for noise absorption is built in the ceramic substrate, a paste layer or a green sheet for forming a capacitor is laminated inside the green sheet for the substrate. Conductive paste layers for electrodes must be formed on both sides of the paste layer or the green sheet. Examples of the material for the capacitor include a BaTiO 3 -based dielectric and an SrTiO 3 -based dielectric, and the relative dielectric constant thereof is preferably about 3000.
【0034】前記ガラスセラミックグリーンシートの両
面に積層する難焼結性セラミック粉末を含有するグリー
ンシート(拘束層用グリーンシート)も通常のグリーン
シートの作製方法により作製することができる。A green sheet (a green sheet for a constraining layer) containing a non-sinterable ceramic powder to be laminated on both sides of the glass ceramic green sheet can be produced by a usual method for producing a green sheet.
【0035】前記難焼結性セラミック粉末としては、基
板用グリーンシートとの反応が起こりにくく、また基板
用グリーンシートの焼成温度では焼結しないものが好ま
しく、具体例としては、MgO、Al2 O3 、ZrO
2 、安定化ZrO2 、ムライト、SiO2 、AlN、B
N等が挙げられるが、ガラスセラミック中のガラス成分
が塩基性の場合には、MgO等が好ましく、ガラス成分
が酸性のものではAl2O3 、ZrO2 、安定化ZrO2
等が好ましい。拘束層用グリーンシートの厚さは、焼
成後のセラミック基板の伸びを抑え、寸法精度を高く保
つため0.30mm以下が好ましい。前記拘束用グリー
ンシートの厚さが0.30mmを超えると、拘束層用グ
リーンシートが圧力により伸びを生じ、それに伴い基板
用グリーンシートの伸びも大きくなり、焼成後のセラミ
ックス基板の伸び率が大きくなるため、寸法精度が低下
する傾向が生ずる。It is preferable that the hardly sinterable ceramic powder does not easily react with the green sheet for the substrate and does not sinter at the firing temperature of the green sheet for the substrate. Specific examples include MgO and Al 2 O. 3 , ZrO
2 , stabilized ZrO 2 , mullite, SiO 2 , AlN, B
N and the like, but when the glass component in the glass ceramic is basic, MgO or the like is preferable, and when the glass component is acidic, Al 2 O 3 , ZrO 2 , stabilized ZrO 2
Are preferred. The thickness of the constraining layer green sheet is preferably 0.30 mm or less in order to suppress the elongation of the fired ceramic substrate and keep the dimensional accuracy high. When the thickness of the constraining green sheet exceeds 0.30 mm, the constraining layer green sheet undergoes elongation due to pressure, whereby the elongation of the substrate green sheet also increases, and the elongation rate of the fired ceramic substrate increases. Therefore, the dimensional accuracy tends to decrease.
【0036】拘束層用グリーンシートの作製に使用する
有機溶媒としては、例えばトルエン、キシレン等が挙げ
られ、可塑剤としては、例えばジブチルフタレート、ジ
オキシルフタレート等が挙げられ、バインダとしては、
例えばブチラール樹脂、アクリル樹脂等が挙げられる。
これらの混合割合は、難焼結性セラミック粉末の原料粉
末100重量部に対し、有機溶媒が30〜50重量部、
可塑剤が1〜5重量部、バインダーが5〜15重量部が
好ましい。Examples of the organic solvent used for preparing the green sheet for the constraining layer include toluene and xylene, and examples of the plasticizer include dibutyl phthalate and dioxyl phthalate.
For example, butyral resin, acrylic resin and the like can be mentioned.
The mixing ratio of the organic solvent is 30 to 50 parts by weight, based on 100 parts by weight of the raw material powder of the non-sinterable ceramic powder,
The plasticizer is preferably 1 to 5 parts by weight, and the binder is preferably 5 to 15 parts by weight.
【0037】次に、上記基板用グリーンシートの両面に
上記拘束層用グリーンシートを積層し、熱圧着してグリ
ーンシート積層体を作製する。その後、前記グリーンシ
ート積層体の厚み方向に高圧力をかけ、前記グリーンシ
ート積層体の面方向に伸びを与えながら、酸化性雰囲気
で有機成分を分解、消失させる脱脂工程を行い、さらに
焼成を行う。前記グリーンシート積層体の厚み方向に加
える圧力は、7.4×105 Pa以上が好ましく、9.8
×105 Pa以上がより好ましい。前記グリーンシート積
層体の厚み方向に加える圧力が7.4×105 Pa未満で
あると、寸法のばらつきが大きくなる傾向が生ずる。ま
た、前記脱脂工程での温度は、200〜600℃程度が
好ましく、焼成温度は800〜1000℃程度が好まし
い。高圧力がかかっているためにグリーンシート積層体
が高密度化され、前記脱脂工程において、樹脂や溶剤が
分解しにくいので、ガスを十分流通させながら、十分な
時間脱脂を行うことが望ましい。Next, the green sheets for the constraining layer are laminated on both sides of the green sheets for the substrate, and thermocompression-bonded to produce a green sheet laminate. Thereafter, a high pressure is applied in the thickness direction of the green sheet laminate to perform a degreasing step of decomposing and eliminating organic components in an oxidizing atmosphere while giving elongation in the surface direction of the green sheet laminate, followed by firing. . The pressure applied in the thickness direction of the green sheet laminate is preferably 7.4 × 10 5 Pa or more, and 9.8.
× 10 5 Pa or more is more preferable. If the pressure applied in the thickness direction of the green sheet laminate is less than 7.4 × 10 5 Pa, the dimensional variation tends to increase. Further, the temperature in the degreasing step is preferably about 200 to 600 ° C, and the firing temperature is preferably about 800 to 1000 ° C. Since the green sheet laminate is densified due to high pressure and the resin and the solvent are not easily decomposed in the degreasing step, it is desirable to perform degreasing for a sufficient time while sufficiently flowing gas.
【0038】上記方法をとることにより、基板用グリー
ンシートの焼結中に面方向の収縮は発生せず、逆に面方
向に若干伸長し、焼成後の寸法のばらつきを抑えること
ができる。また、高圧をかけることにより焼成前の基板
用グリーンシートがより平坦化されるため、焼成後の基
板の平坦性も高くなる。伸長率は焼結するガラスセラミ
ックの種類により異なるので、一概には言えないが、焼
成前の基板用グリーンシートの1辺の長さに対する焼成
後のセラミック基板の1辺の長さの伸び率が0.20%
以下になるのが好ましく、0.01〜0.08%となる
のがより好ましい。通常、拘束層の材料に関係なく、焼
成後の伸び率は略一定である。By adopting the above method, shrinkage in the plane direction does not occur during sintering of the green sheet for a substrate, but the sheet elongates slightly in the plane direction, and the dimensional variation after firing can be suppressed. In addition, by applying a high pressure, the green sheet for a substrate before firing is further flattened, so that the flatness of the substrate after firing is also increased. Since the elongation rate varies depending on the type of glass ceramic to be sintered, it cannot be unconditionally determined, but the elongation rate of the length of one side of the ceramic substrate after firing with respect to the length of one side of the green sheet for the substrate before firing. 0.20%
It is preferably at most, more preferably 0.01 to 0.08%. Generally, the elongation after firing is substantially constant regardless of the material of the constraining layer.
【0039】以上の方法により、製造したセラミック基
板の寸法のばらつきを抑制することができ、寸法精度を
向上させることができる。特に、拘束層用グリーンシー
トの厚さを0.30mm以下とするか、前記グリーンシ
ート積層体の厚み方向に加える圧力を7.4×105 Pa
以上とすると、セラミック基板の寸法のばらつきを0.
2%以内に抑制することができ、寸法精度を±10μm
/10mm以内にすることができる。また、セラミック
基板の平坦度も10μm/10mm以内に抑制すること
ができる。ここで、寸法のばらつきとは、例えば配線間
の寸法に関し、{(実際の寸法−設定の寸法)/設定の
寸法}×100(%)をいう。また、平坦度は10mm
の直線について凹凸を測定したときの、最も低い部分と
最も高い部分との差を示し、Aμm/10mmとして表
す。According to the above method, the dimensional variation of the manufactured ceramic substrate can be suppressed, and the dimensional accuracy can be improved. In particular, the thickness of the constraining layer green sheet is set to 0.30 mm or less, or the pressure applied in the thickness direction of the green sheet laminate is 7.4 × 10 5 Pa.
As described above, the dimensional variation of the ceramic substrate is reduced to 0.
Can be controlled within 2%, and dimensional accuracy is ± 10μm
/ 10 mm or less. In addition, the flatness of the ceramic substrate can be suppressed to within 10 μm / 10 mm. Here, the dimensional variation refers to, for example, {(actual size−set size) / set size} × 100 (%) with respect to the size between wirings. The flatness is 10 mm
The difference between the lowest part and the highest part when the unevenness is measured for the straight line is indicated as A μm / 10 mm.
【0040】[0040]
【実施例及び比較例】以下、本発明に係るセラミック基
板の製造方法の実施例を説明する。Examples and Comparative Examples Hereinafter, examples of the method for manufacturing a ceramic substrate according to the present invention will be described.
【0041】<実施例> (1)基板用グリーンシート ガラスセラミック原料粉末の調合 ガラス材料粉末:CaO−Al2 O3 −SiO2 −B2
O3 系ガラス 骨材粉末:アルミナ 混合比率:ガラス材料粉末:60重量部、アルミナ粉
末:40重量部 スラリの調製:ガラスセラミック原料粉末に有機溶媒
としてトルエン、可塑剤としてジオキシルフタレート、
及びバインダーとしてアクリル樹脂を添加して湿式混合 基板用グリーンシートの作製 (i) ドクタブレード法によりシートを作製した後、所定
の寸法に切断。 (ii)パンチングによりビアホールを形成し、Ag導体ペ
ーストをビアホールに充填。 (iii) スクリーン印刷によりグリーンシートの表面に導
体ペースト層を形成。[0041] <Example> (1) Formulation glass material powder for a green sheet glass ceramic raw material powder for substrate: CaO-Al 2 O 3 -SiO 2 -B 2
O 3 glass Aggregate powder: Alumina Mixing ratio: Glass material powder: 60 parts by weight, Alumina powder: 40 parts by weight Preparation of slurry: Toluene as an organic solvent in glass ceramic raw material powder, dioxyl phthalate as plasticizer,
Preparation of Green Sheet for Wet Mixing Substrate with Addition of Acrylic Resin as Binder (i) After preparing the sheet by a doctor blade method, it is cut into a predetermined size. (ii) Via holes are formed by punching, and the Ag conductor paste is filled in the via holes. (iii) A conductive paste layer is formed on the surface of the green sheet by screen printing.
【0042】(2)拘束層用グリーンシート スラリの調製 難焼結性セラミック粉末としてアルミナ粉末(平均粒径
0.5μm)、有機溶媒としてトルエン、可塑剤として
ジオキシルフタレート、及びバインダーとしてアクリル
樹脂を用い湿式混合。 拘束層用グリーンシートの作製 (1)の場合と同様の方法でグリーンシートを作製。(2) Preparation of Green Sheet Slurry for Constraint Layer Alumina powder (average particle size: 0.5 μm) as a non-sinterable ceramic powder, toluene as an organic solvent, dioxyl phthalate as a plasticizer, and an acrylic resin as a binder Use wet mixing. Preparation of green sheet for constraining layer A green sheet was prepared in the same manner as in (1).
【0043】(3)グリーンシート積層体の作製 図1に示したように、基板用グリーンシート11の両面
に拘束層用グリーンシート12を積層し、9.8×10
6 Paの圧力で熱圧着してグリーンシート積層体10を作
製。(3) Production of Green Sheet Laminate As shown in FIG. 1, a green sheet 12 for a constraining layer was laminated on both sides of a green sheet 11 for a substrate, and 9.8 × 10
The green sheet laminate 10 was produced by thermocompression bonding at a pressure of 6 Pa.
【0044】(4)グリーンシート積層体10の脱脂、
焼成 グリーンシート積層体10の厚み方向への圧力:5.
0×105 〜 9.8×105 Pa 脱脂条件 温度:600℃、時間:1時間、雰囲気:大気雰囲気 焼成条件 温度:900℃、時間:10分、雰囲気:大気雰囲気 <評価>製造されたセラミック基板につき、その寸法
(導体層パターンの寸法を含む)を測定し、設定値との
差を比較して寸法のばらつきを算出した。その結果を下
記の表1に示している。(4) Degreasing the green sheet laminate 10
4. Pressure in the thickness direction of the fired green sheet laminate 10:
0 × 10 5 to 9.8 × 10 5 Pa Degreasing conditions Temperature: 600 ° C., time: 1 hour, atmosphere: air atmosphere Firing conditions Temperature: 900 ° C., time: 10 minutes, atmosphere: air atmosphere <Evaluation> The dimensions (including the dimensions of the conductor layer pattern) of the ceramic substrate were measured, and the difference from the set value was compared to calculate the dimensional variation. The results are shown in Table 1 below.
【0045】[0045]
【表1】 [Table 1]
【0046】上記表1より明らかなように、グリーンシ
ート積層体10の厚み方向に高圧力をかけ、脱脂処理及
び焼成処理を施すことにより製造されたセラミック基板
は収縮せず、逆に伸びを生じており、寸法のばらつきも
小さくなっている。特に、拘束層用グリーンシートの厚
さを0.30mm以下、その圧力を7.4×105 Pa以
上としたものは、寸法のばらつきも0.2%以内と小さ
くなっており、焼成後の寸法のばらつきを大幅に改善す
ることができた。As is clear from Table 1, a ceramic substrate manufactured by applying a high pressure in the thickness direction of the green sheet laminate 10 and performing a degreasing treatment and a sintering treatment does not shrink but elongates. And the dimensional variation is small. In particular, when the thickness of the green sheet for the constraining layer is 0.30 mm or less and the pressure is 7.4 × 10 5 Pa or more, the dimensional variation is as small as 0.2% or less. The dimensional variation was significantly improved.
【図1】本発明の実施の形態に係るセラミック基板の製
造方法において、焼成を行う前のグリーンシート積層体
の積層状態を模式的に示した断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a laminated state of a green sheet laminate before firing in a method of manufacturing a ceramic substrate according to an embodiment of the present invention.
10 グリーンシート積層体 11 基板用グリーンシート 12 拘束層用グリーンシート Reference Signs List 10 green sheet laminate 11 green sheet for substrate 12 green sheet for constraining layer
Claims (8)
ンシートの両面に、難焼結性セラミック粉末を含有する
拘束層用グリーンシートを積層し、かかる積層体の厚み
方向に高圧力をかけながら焼成することにより、焼成前
の基板用グリーンシートよりも面方向に伸長した焼結体
を製造することを特徴とするセラミック基板の製造方
法。1. A green sheet for a constraining layer containing a non-sinterable ceramic powder is laminated on both sides of a green sheet for a substrate containing a ceramic powder, and fired while applying high pressure in the thickness direction of the laminate. A method of manufacturing a ceramic substrate, comprising: manufacturing a sintered body extending in a plane direction from a green sheet for a substrate before firing.
表面に導体ペースト層が形成されていることを特徴とす
る請求項1記載のセラミック基板の製造方法。2. The method for producing a ceramic substrate according to claim 1, wherein a conductive paste layer is formed inside and / or on the surface of the substrate green sheet.
サ形成用のペースト層又はグリーンシートを含む層が形
成されていることを特徴とする請求項1又は請求項2記
載のセラミック基板の製造方法。3. The method for manufacturing a ceramic substrate according to claim 1, wherein a paste layer for forming a capacitor or a layer containing a green sheet is formed inside the green sheet for a substrate.
であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかの項に
記載のセラミック基板の製造方法。4. The method for manufacturing a ceramic substrate according to claim 1, wherein the ceramic substrate is a glass ceramic substrate.
ミック粉末が、MgO、Al2 O3 、ZrO2 、又は安
定化ZrO2 のうちの少なくとも1種以上を含んで構成
されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれかの
項に記載のセラミック基板の製造方法。5. The ceramic powder constituting the constraining layer green sheet is characterized by containing at least one of MgO, Al 2 O 3 , ZrO 2 and stabilized ZrO 2. The method of manufacturing a ceramic substrate according to claim 1.
0mm以下であることを特徴とする請求項1〜5のいず
れかの項に記載のセラミック基板の製造方法。6. The thickness of the constraining layer green sheet is 0.3.
The method for manufacturing a ceramic substrate according to claim 1, wherein the thickness is 0 mm or less.
長さに対する焼成後のセラミック基板の1辺の長さの伸
び率が0.20%以下であることを特徴とする請求項1
〜6のいずれかの項に記載のセラミック基板の製造方
法。7. The elongation percentage of the length of one side of the ceramic substrate after firing to the length of one side of the green sheet for substrate before firing is 0.20% or less.
7. The method for manufacturing a ceramic substrate according to any one of Items 6 to 6.
が7.4×105 Pa以上であることを特徴とする請求項
1〜7のいずれかの項に記載のセラミック基板の製造方
法。8. The method for manufacturing a ceramic substrate according to claim 1, wherein the pressure applied in the thickness direction of the laminate during firing is 7.4 × 10 5 Pa or more.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8257409A JPH1084056A (en) | 1996-09-06 | 1996-09-06 | Manufacture of ceramic board |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP8257409A JPH1084056A (en) | 1996-09-06 | 1996-09-06 | Manufacture of ceramic board |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JPH1084056A true JPH1084056A (en) | 1998-03-31 |
Family
ID=17305984
Family Applications (1)
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JP8257409A Pending JPH1084056A (en) | 1996-09-06 | 1996-09-06 | Manufacture of ceramic board |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JPH1084056A (en) |
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- 1996-09-06 JP JP8257409A patent/JPH1084056A/en active Pending
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