JPH107694A - 3’−アミノ−2−チオピリミジンヌクレオシド - Google Patents
3’−アミノ−2−チオピリミジンヌクレオシドInfo
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- JPH107694A JPH107694A JP17985096A JP17985096A JPH107694A JP H107694 A JPH107694 A JP H107694A JP 17985096 A JP17985096 A JP 17985096A JP 17985096 A JP17985096 A JP 17985096A JP H107694 A JPH107694 A JP H107694A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】医薬の分野で新規な抗癌剤または抗ウイルス剤
等に期待される3’−アミノ−2−チオピリミジンヌク
レオシドを提供する。 【解決手段】下記式(1)で表される3’−アミノ−2
−チオピリミジンヌクレオシドまたはその塩。 【化1】 〔式中、Rは下記式(2)または下記式(3)で表され
るチオピリミジン系核酸塩基を示す〕 【化2】 (式中、Yは水素原子またはメチル基を示す) 【化3】
等に期待される3’−アミノ−2−チオピリミジンヌク
レオシドを提供する。 【解決手段】下記式(1)で表される3’−アミノ−2
−チオピリミジンヌクレオシドまたはその塩。 【化1】 〔式中、Rは下記式(2)または下記式(3)で表され
るチオピリミジン系核酸塩基を示す〕 【化2】 (式中、Yは水素原子またはメチル基を示す) 【化3】
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、抗癌剤あるいは抗
ウイルス剤等の医薬品として期待される3’−アミノ−
2−チオピリミジンヌクレオシドに関する。
ウイルス剤等の医薬品として期待される3’−アミノ−
2−チオピリミジンヌクレオシドに関する。
【0002】
【従来の技術】核酸系化合物は、無秩序な増殖を繰り返
す癌および細胞内で増殖し種々の疾病を引き起こすウイ
ルス感染症に有効な医薬品として臨床で用いられてい
る。例えば、シタラビンおよび5−フルオロウラシル等
が抗癌剤として、また、イドクスウリジン、アシクロビ
ルおよびアジドチミジン等が抗ウイルス剤として臨床に
供されている。
す癌および細胞内で増殖し種々の疾病を引き起こすウイ
ルス感染症に有効な医薬品として臨床で用いられてい
る。例えば、シタラビンおよび5−フルオロウラシル等
が抗癌剤として、また、イドクスウリジン、アシクロビ
ルおよびアジドチミジン等が抗ウイルス剤として臨床に
供されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
薬剤では薬効として未だ不十分であり、しかも副作用を
もたらす等様々な問題があり、さらに優れた抗癌剤の開
発が求められている。また、上記抗ウイルス剤について
も、抗ウイルス活性スペクトルおよび薬剤耐性ウイルス
の出現ならびに種々の副作用などの問題があり、さらに
有効で安全な抗ウイルス剤の開発が強く望まれている。
薬剤では薬効として未だ不十分であり、しかも副作用を
もたらす等様々な問題があり、さらに優れた抗癌剤の開
発が求められている。また、上記抗ウイルス剤について
も、抗ウイルス活性スペクトルおよび薬剤耐性ウイルス
の出現ならびに種々の副作用などの問題があり、さらに
有効で安全な抗ウイルス剤の開発が強く望まれている。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、抗癌剤お
よび抗ウイルス剤として有用な新規物質を開発すべく鋭
意研究を重ねた結果、3’−アミノ−2−チオピリミジ
ンヌクレオシドおよびその塩が、培養癌細胞に対し優れ
た殺細胞活性を有することを見出し、本発明を完成する
に至った。すなわち、本発明は下記式(1)で表される
3’−アミノ−2−チオピリミジンヌクレオシドまたは
その塩である。
よび抗ウイルス剤として有用な新規物質を開発すべく鋭
意研究を重ねた結果、3’−アミノ−2−チオピリミジ
ンヌクレオシドおよびその塩が、培養癌細胞に対し優れ
た殺細胞活性を有することを見出し、本発明を完成する
に至った。すなわち、本発明は下記式(1)で表される
3’−アミノ−2−チオピリミジンヌクレオシドまたは
その塩である。
【0005】
【化4】
【0006】〔式中、Rは下記式(2)または下記式
(3)で表されるチオピリミジン系核酸塩基を示し、X
は水素原子または水酸基を示す〕
(3)で表されるチオピリミジン系核酸塩基を示し、X
は水素原子または水酸基を示す〕
【0007】
【化5】
【0008】(式中、Yは水素原子またはメチル基を示
す)
す)
【0009】
【化6】
【0010】(式中、Yは水素原子またはメチル基を示
す)
す)
【0011】
【発明の実施の形態】以下に本発明を詳細に説明する。
本発明における3’−アミノ−2−チオピリミジンヌク
レオシドとしては、前記式(1)のRが前記式(2)で
表されるチオピリミジン系核酸塩基である3’−アミノ
−3’−デオキシ−2−チオウリジン、3’−アミノ−
3’−デオキシ−5−メチル−2−チオウリジン、3’
−アミノ−2’,3’−ジデオキシ−2−チオウリジン
および3’−アミノ−2’,3’−ジデオキシ−5−メ
チル−2−チオウリジンであり、ならびに式(1)のR
が前記式(3)で表されるチオピリミジン系核酸塩基で
ある3’−アミノ−3’−デオキシ−2−チオシチジ
ン、3’−アミノ−3’−デオキシ−5−メチル−2−
チオシチジン、3’−アミノ−2’,3’−ジデオキシ
−2−チオシチジンおよび3’−アミノ−2’,3’−
ジデオキシ−5−メチル−2−チオシチジンが挙げられ
る。これらの化合物は、塩の形態であっても良く、例え
ば、塩酸、硫酸、臭化水素酸およびリン酸等の無機塩;
フマール酸、酒石酸、クエン酸、メタンスルホン酸およ
びトルエンスルホン酸等の有機酸などとの酸付加塩を例
示することができ、また、水和物または有機溶媒和物で
あってもよい。
本発明における3’−アミノ−2−チオピリミジンヌク
レオシドとしては、前記式(1)のRが前記式(2)で
表されるチオピリミジン系核酸塩基である3’−アミノ
−3’−デオキシ−2−チオウリジン、3’−アミノ−
3’−デオキシ−5−メチル−2−チオウリジン、3’
−アミノ−2’,3’−ジデオキシ−2−チオウリジン
および3’−アミノ−2’,3’−ジデオキシ−5−メ
チル−2−チオウリジンであり、ならびに式(1)のR
が前記式(3)で表されるチオピリミジン系核酸塩基で
ある3’−アミノ−3’−デオキシ−2−チオシチジ
ン、3’−アミノ−3’−デオキシ−5−メチル−2−
チオシチジン、3’−アミノ−2’,3’−ジデオキシ
−2−チオシチジンおよび3’−アミノ−2’,3’−
ジデオキシ−5−メチル−2−チオシチジンが挙げられ
る。これらの化合物は、塩の形態であっても良く、例え
ば、塩酸、硫酸、臭化水素酸およびリン酸等の無機塩;
フマール酸、酒石酸、クエン酸、メタンスルホン酸およ
びトルエンスルホン酸等の有機酸などとの酸付加塩を例
示することができ、また、水和物または有機溶媒和物で
あってもよい。
【0012】本発明における3’−アミノ−2−チオピ
リミジンヌクレオシドは種々の方法で製造することがで
きるが、以下に示す製造方法により有利に製造すること
ができる。 ○前記式(1)におけるXが水酸基である3’−アミノ
−3’−デオキシ−2−チオピリミジンヌクレオシド
は、下記の工程a)〜e)により製造することができ
る。
リミジンヌクレオシドは種々の方法で製造することがで
きるが、以下に示す製造方法により有利に製造すること
ができる。 ○前記式(1)におけるXが水酸基である3’−アミノ
−3’−デオキシ−2−チオピリミジンヌクレオシド
は、下記の工程a)〜e)により製造することができ
る。
【0013】
【化7】
【0014】工程a)および工程c):本工程は、ルイ
ス酸の存在下に、式(4)で表されるペントフラノシド
誘導体と式(5)または(8)で表されるビス(トリオ
ルガノシリル)−2−チオピリミジンを反応させて、式
(6)または式(9)で表される化合物を製造する工程
である。本工程における原料化合物であるペントフラノ
シド誘導体を表す式(4)においてR1 およびR3 は水
酸基の保護基を示し、R2 はアミノ基の保護基を示し、
R4 は脱離基を示す。R1 およびR3 は同一であっても
異なっていてもよく、反応の障害にならないものであれ
ば特に限定されない。具体的には、アセチル基、プロピ
オニル基、ブチリル基およびベンゾイル基等のアシル
基;トリチル基、メトキシトリチル基およびジメトキシ
トリチル基等のアリールアルキル基;エトキシカルボニ
ル基等のアルキルオキシカルボニル基;フェノキシカル
ボニル基等のアリールオキシカルボニル基;ならびにト
リメチルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基および
t−ブチルジフェニルシリル基等のトリオルガノシリル
基等が挙げられ、これらの保護基がフェニル基を有する
場合には、その置換基としてアルキル基、ハロゲン原
子、ニトロ基およびアルコキシ基等を有していてもよ
い。R2 は、反応の障害にならないものであれば特に限
定されず、一般にアミノ基の保護基として用いられてい
るものが使用できるが、脱保護の容易さの点で、クロロ
アセチル基、ジクロロアセチル基、トリクロロアセチル
基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基、p−ニト
ロベンゾイル基、クロロベンゾイル基およびトリフルオ
ロベンゾイル基等の電子吸引基を有するアシル基などが
好ましい。R4 の脱離基としては、脱離能を有する基で
あればよく、具体的には、塩素原子および臭素原子等の
ハロゲン原子;メトキシ基、エトキシ基およびプロポキ
シ基等のアルキルオキシ基;フェノキシ基等のアリール
オキシ基;アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、
ブチリルオキシ基およびベンゾイルオキシ基等のアシロ
キシ基;エトキシカルボニルオキシ基等のアルコキシカ
ルボニルオキシ基;ならびにフェノキシカルボニルオキ
シ基等のアリールオキシカルボニルオキシ基等が挙げら
れ、これらの脱離基がフェニル基を有する場合には、そ
の置換基として、アルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基
およびアルコキシ基等を有していてもよい。前記ペント
フラノシド誘導体は、公知の方法〔例えばChem.Pharm.B
ull. 29,2769(1981)〕に準じて製造することができる。
ス酸の存在下に、式(4)で表されるペントフラノシド
誘導体と式(5)または(8)で表されるビス(トリオ
ルガノシリル)−2−チオピリミジンを反応させて、式
(6)または式(9)で表される化合物を製造する工程
である。本工程における原料化合物であるペントフラノ
シド誘導体を表す式(4)においてR1 およびR3 は水
酸基の保護基を示し、R2 はアミノ基の保護基を示し、
R4 は脱離基を示す。R1 およびR3 は同一であっても
異なっていてもよく、反応の障害にならないものであれ
ば特に限定されない。具体的には、アセチル基、プロピ
オニル基、ブチリル基およびベンゾイル基等のアシル
基;トリチル基、メトキシトリチル基およびジメトキシ
トリチル基等のアリールアルキル基;エトキシカルボニ
ル基等のアルキルオキシカルボニル基;フェノキシカル
ボニル基等のアリールオキシカルボニル基;ならびにト
リメチルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基および
t−ブチルジフェニルシリル基等のトリオルガノシリル
基等が挙げられ、これらの保護基がフェニル基を有する
場合には、その置換基としてアルキル基、ハロゲン原
子、ニトロ基およびアルコキシ基等を有していてもよ
い。R2 は、反応の障害にならないものであれば特に限
定されず、一般にアミノ基の保護基として用いられてい
るものが使用できるが、脱保護の容易さの点で、クロロ
アセチル基、ジクロロアセチル基、トリクロロアセチル
基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基、p−ニト
ロベンゾイル基、クロロベンゾイル基およびトリフルオ
ロベンゾイル基等の電子吸引基を有するアシル基などが
好ましい。R4 の脱離基としては、脱離能を有する基で
あればよく、具体的には、塩素原子および臭素原子等の
ハロゲン原子;メトキシ基、エトキシ基およびプロポキ
シ基等のアルキルオキシ基;フェノキシ基等のアリール
オキシ基;アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、
ブチリルオキシ基およびベンゾイルオキシ基等のアシロ
キシ基;エトキシカルボニルオキシ基等のアルコキシカ
ルボニルオキシ基;ならびにフェノキシカルボニルオキ
シ基等のアリールオキシカルボニルオキシ基等が挙げら
れ、これらの脱離基がフェニル基を有する場合には、そ
の置換基として、アルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基
およびアルコキシ基等を有していてもよい。前記ペント
フラノシド誘導体は、公知の方法〔例えばChem.Pharm.B
ull. 29,2769(1981)〕に準じて製造することができる。
【0015】また、本工程における他方の原料化合物で
あるビス(トリオルガノシリル)−2−チオピリミジン
は式(5)または式(8)で表されるものである。式
(5)および(8)においてYは水素原子またはメチル
基を示し、また、R5 、R6 およびR7 はアルキル基ま
たはアリール基であり、いずれも同一であっても異なっ
てもよい。前記アルキル基の具体例としては、メチル基
およびt−ブチル基等が挙げられ、前記アリール基の具
体例としてはフェニル基等が挙げられる。式(5)およ
び(8)において、〔R5 R6 R7 Si−〕で示される
トリオルガノシリル基は、水酸基、アミノ基およびチオ
ール基の保護基として通常用いられるものであればよ
く、具体的には、トリメチルシリル基、t−ブチルジメ
チルシリル基およびフェニルジメチルシリル基等が挙げ
られる。該ビス(トリオルガノシリル)−2−チオピリ
ミジンは公知の方法で製造することができ、例えば、R
5 、R6 およびR7 がともにメチル基である化合物は公
知の方法〔例えば、Chem.Parm.Bull. 12, 352-356(196
4) 〕を応用して、2−チオピリミジンと1,1,1,
3,3,3−ヘキサメチルジシラザンとの反応で製造す
ることができる。
あるビス(トリオルガノシリル)−2−チオピリミジン
は式(5)または式(8)で表されるものである。式
(5)および(8)においてYは水素原子またはメチル
基を示し、また、R5 、R6 およびR7 はアルキル基ま
たはアリール基であり、いずれも同一であっても異なっ
てもよい。前記アルキル基の具体例としては、メチル基
およびt−ブチル基等が挙げられ、前記アリール基の具
体例としてはフェニル基等が挙げられる。式(5)およ
び(8)において、〔R5 R6 R7 Si−〕で示される
トリオルガノシリル基は、水酸基、アミノ基およびチオ
ール基の保護基として通常用いられるものであればよ
く、具体的には、トリメチルシリル基、t−ブチルジメ
チルシリル基およびフェニルジメチルシリル基等が挙げ
られる。該ビス(トリオルガノシリル)−2−チオピリ
ミジンは公知の方法で製造することができ、例えば、R
5 、R6 およびR7 がともにメチル基である化合物は公
知の方法〔例えば、Chem.Parm.Bull. 12, 352-356(196
4) 〕を応用して、2−チオピリミジンと1,1,1,
3,3,3−ヘキサメチルジシラザンとの反応で製造す
ることができる。
【0016】本工程は、ルイス酸の存在下に、ペントフ
ラノシド誘導体に対してビス(トリオルガノシリル)−
2−チオピリミジン類を1当量以上、さらに好ましくは
1当量から3当量用いて反応を行う。前記ルイス酸とし
ては、四塩化スズ、四塩化チタンおよびトリメチルシリ
ルトリフルオロメタンスルホナート等が挙げられる。ル
イス酸の量としては、ペントフラノシド誘導体に対して
0.1当量以上が好ましく、より好ましくは1当量以上
である。本反応は、非プロトン性溶媒中で行うことが好
ましく、非プロトン性溶媒としては、例えば、ジクロロ
メタン、クロロホルム、1,1−ジクロロエタン、1,
2−ジクロロエタン、1,1,1−トリクロロエタン、
1,1,2,2−テトラクロロエタン、エーテル、ジオ
キサン、トルエンおよびアセトニトリル等が挙げられ
る。反応温度は、−78℃〜50℃の範囲で行うことが
好ましく、さらに好ましくは、−20℃〜25℃であ
る。この反応の反応時間は、反応温度ならびに使用する
ルイス酸の種類および量によって異なるが、通常、数分
から10時間が望ましい。
ラノシド誘導体に対してビス(トリオルガノシリル)−
2−チオピリミジン類を1当量以上、さらに好ましくは
1当量から3当量用いて反応を行う。前記ルイス酸とし
ては、四塩化スズ、四塩化チタンおよびトリメチルシリ
ルトリフルオロメタンスルホナート等が挙げられる。ル
イス酸の量としては、ペントフラノシド誘導体に対して
0.1当量以上が好ましく、より好ましくは1当量以上
である。本反応は、非プロトン性溶媒中で行うことが好
ましく、非プロトン性溶媒としては、例えば、ジクロロ
メタン、クロロホルム、1,1−ジクロロエタン、1,
2−ジクロロエタン、1,1,1−トリクロロエタン、
1,1,2,2−テトラクロロエタン、エーテル、ジオ
キサン、トルエンおよびアセトニトリル等が挙げられ
る。反応温度は、−78℃〜50℃の範囲で行うことが
好ましく、さらに好ましくは、−20℃〜25℃であ
る。この反応の反応時間は、反応温度ならびに使用する
ルイス酸の種類および量によって異なるが、通常、数分
から10時間が望ましい。
【0017】反応終了後、反応生成物を水で処理するこ
とにより、生成物中のトリオルガノシリル基が加水分解
し、目的物である式(6)または式(9)で表される化
合物が得られる。反応液をピリジン水溶液または炭酸水
素ナトリウム水溶液等の塩基性化合物を含有する水溶液
で処理することが、トリオルガノシリル基の分解を容易
にすると共に、反応液中のルイス酸を同時に中和できる
点で好ましい。前記塩基性化合物を含有する水溶液で処
理した後、生成物を常法により反応混合物から単離する
ことができる。例えば、有機溶媒抽出等の後処理を行っ
た後、必要に応じて再結晶およびクロマトグラフィなど
により精製を行う等の方法が挙げられる。
とにより、生成物中のトリオルガノシリル基が加水分解
し、目的物である式(6)または式(9)で表される化
合物が得られる。反応液をピリジン水溶液または炭酸水
素ナトリウム水溶液等の塩基性化合物を含有する水溶液
で処理することが、トリオルガノシリル基の分解を容易
にすると共に、反応液中のルイス酸を同時に中和できる
点で好ましい。前記塩基性化合物を含有する水溶液で処
理した後、生成物を常法により反応混合物から単離する
ことができる。例えば、有機溶媒抽出等の後処理を行っ
た後、必要に応じて再結晶およびクロマトグラフィなど
により精製を行う等の方法が挙げられる。
【0018】工程b)および工程d):本工程は、前記
工程a)または工程c)で得られた化合物の各保護基を
除去し、式(7)または(10)で表される3’−アミ
ノ−3’−デオキシ−2−チオピリミジンヌクレオシド
を製造する工程である。本工程は、水酸基およびアミノ
基の保護基の種類に応じて、酸加水分解、アルカリ加水
分解およびフッ化アンモニウム処理等の通常の脱保護処
理を適宜選択して行うことができる。例えば、保護基が
トリチル基、メトキシトリチル基およびジメトキシトリ
チル基等のアリールアルキル基の場合には、塩酸および
硫酸等の無機系酸性物質ならびに酢酸、クロロ酢酸、ジ
クロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、メタ
ンスルホン酸およびトルエンスルホン酸等の有機酸等を
使用して、酸加水分解を行い脱保護することが好適であ
る。保護基がアセチル基およびベンゾイル基等のアシル
基である場合には、アンモニア、アミンおよびアルコキ
シド等を用いた通常のアルカリ加水分解を行い脱保護す
ることが好適である。また、保護基がトリメチルシリル
基およびt−ブチルジメチルシリル基等の有機ケイ素基
である場合には、上記の通常のアルカリ加水分解および
テトラブチルアンモニウムフロリド等のフッ化アンモニ
ウム塩で処理すること等により脱保護を行うことが好ま
しい。前記無機系酸性物質、有機酸、アンモニア、アミ
ン、アルコキシドおよびフッ化アンモニウム塩等の割合
は、反応条件を勘案して、脱保護で使用される通常の量
を使用すればよい。反応温度は室温で十分進行するが、
反応時間を短縮する目的で25〜80℃に加熱すること
も可能である。反応時間は、反応温度、保護基の種類お
よび選択する脱保護方法によって異なるが、通常1時間
から24時間が望ましい。反応終了後、生成物は通常の
方法で単離をすることができ、例えば、反応終了後に有
機溶媒を除去し、残査をカラムクロマトグラフィにより
精製を行う等が挙げられる。
工程a)または工程c)で得られた化合物の各保護基を
除去し、式(7)または(10)で表される3’−アミ
ノ−3’−デオキシ−2−チオピリミジンヌクレオシド
を製造する工程である。本工程は、水酸基およびアミノ
基の保護基の種類に応じて、酸加水分解、アルカリ加水
分解およびフッ化アンモニウム処理等の通常の脱保護処
理を適宜選択して行うことができる。例えば、保護基が
トリチル基、メトキシトリチル基およびジメトキシトリ
チル基等のアリールアルキル基の場合には、塩酸および
硫酸等の無機系酸性物質ならびに酢酸、クロロ酢酸、ジ
クロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、メタ
ンスルホン酸およびトルエンスルホン酸等の有機酸等を
使用して、酸加水分解を行い脱保護することが好適であ
る。保護基がアセチル基およびベンゾイル基等のアシル
基である場合には、アンモニア、アミンおよびアルコキ
シド等を用いた通常のアルカリ加水分解を行い脱保護す
ることが好適である。また、保護基がトリメチルシリル
基およびt−ブチルジメチルシリル基等の有機ケイ素基
である場合には、上記の通常のアルカリ加水分解および
テトラブチルアンモニウムフロリド等のフッ化アンモニ
ウム塩で処理すること等により脱保護を行うことが好ま
しい。前記無機系酸性物質、有機酸、アンモニア、アミ
ン、アルコキシドおよびフッ化アンモニウム塩等の割合
は、反応条件を勘案して、脱保護で使用される通常の量
を使用すればよい。反応温度は室温で十分進行するが、
反応時間を短縮する目的で25〜80℃に加熱すること
も可能である。反応時間は、反応温度、保護基の種類お
よび選択する脱保護方法によって異なるが、通常1時間
から24時間が望ましい。反応終了後、生成物は通常の
方法で単離をすることができ、例えば、反応終了後に有
機溶媒を除去し、残査をカラムクロマトグラフィにより
精製を行う等が挙げられる。
【0019】また、核酸塩基が2−チオシトシン類であ
る式(10)で表される化合物は、上記の製造方法以外
に次のように製造することができる。 工程e):本工程は、工程a)により得られた核酸塩基
が2−チオウラシル類である式(6)で表される化合物
の核酸塩基4位をアミノ化すると共に、糖部の2’位の
R3 基、3’位のR2 基および5’位のR1 基を除去
し、式(10)で表される化合物を製造する工程であ
る。前記塩基の4位をアミノ化する方法は、常法に従っ
て行えばよく、例えば、式(6)で表される化合物、ト
リアゾールならびにオキシ塩化リンまたはp−クロロフ
ェニルホスホロジクロリデート等のクロロオキシリン化
合物を有機溶媒中で反応させ、塩基の4位にトリアゾー
ルを導入した後、アンモニアを添加する方法が好まし
い。アンモニアを添加することにより式(9)で表され
る化合物が生成するが、水酸基の保護基であるR1 およ
びR3 基とアミノ基の保護基であるR2基をアンモニア
で脱保護が可能な保護基を用いることにより、核酸塩基
4位のアミノ化と同時に糖部の脱保護を行うことができ
る。このような保護基としては、R1 およびR3 基とし
てアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ベンゾイ
ル基および置換ベンゾイル基等のアシル基が挙げられ、
R2 基として前述の電子吸引基を有するアシル基ならび
に環状イミド基等が挙げられる。本反応において、トリ
アゾールおよびクロロオキシリン化合物の反応割合とし
ては、式(6)で表される化合物に対していずれも1.
0モル当量以上用いるのが好ましく、いずれも1.5モ
ル当量以上用いることが生成物の収率に優れるためより
好ましい。アンモニアの反応割合としては、式(6)で
表される化合物に対して4モル当量以上用いるのが好ま
しく、10モル当量以上用いることが化合物の収率に優
れるためより好ましい。
る式(10)で表される化合物は、上記の製造方法以外
に次のように製造することができる。 工程e):本工程は、工程a)により得られた核酸塩基
が2−チオウラシル類である式(6)で表される化合物
の核酸塩基4位をアミノ化すると共に、糖部の2’位の
R3 基、3’位のR2 基および5’位のR1 基を除去
し、式(10)で表される化合物を製造する工程であ
る。前記塩基の4位をアミノ化する方法は、常法に従っ
て行えばよく、例えば、式(6)で表される化合物、ト
リアゾールならびにオキシ塩化リンまたはp−クロロフ
ェニルホスホロジクロリデート等のクロロオキシリン化
合物を有機溶媒中で反応させ、塩基の4位にトリアゾー
ルを導入した後、アンモニアを添加する方法が好まし
い。アンモニアを添加することにより式(9)で表され
る化合物が生成するが、水酸基の保護基であるR1 およ
びR3 基とアミノ基の保護基であるR2基をアンモニア
で脱保護が可能な保護基を用いることにより、核酸塩基
4位のアミノ化と同時に糖部の脱保護を行うことができ
る。このような保護基としては、R1 およびR3 基とし
てアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ベンゾイ
ル基および置換ベンゾイル基等のアシル基が挙げられ、
R2 基として前述の電子吸引基を有するアシル基ならび
に環状イミド基等が挙げられる。本反応において、トリ
アゾールおよびクロロオキシリン化合物の反応割合とし
ては、式(6)で表される化合物に対していずれも1.
0モル当量以上用いるのが好ましく、いずれも1.5モ
ル当量以上用いることが生成物の収率に優れるためより
好ましい。アンモニアの反応割合としては、式(6)で
表される化合物に対して4モル当量以上用いるのが好ま
しく、10モル当量以上用いることが化合物の収率に優
れるためより好ましい。
【0020】前記トリアゾール基を導入する反応は、非
プロトン性有機溶媒中で行うことが好ましく、例えば、
ピリジン、アセトニトリル、トルエン、ジオキサンおよ
びクロロホルム等が挙げられる。反応温度は特に限定さ
れないが、0℃〜100℃で行うことが好ましく、反応
時間は、反応温度によって異なるが、通常数時間から数
日であることが望ましい。本工程では、反応時間を短縮
させる目的で、トリメチルアミン、トリエチルアミン、
N,N−ジメチルアニリンおよびN,N−ジメチルアミ
ノピリジン等の第3級アミンを添加する事が好ましい。
前記塩基の4位をアミノ化すると同時に水酸基の保護基
であるR1 およびR3基とアミノ基の保護基であるR2
基を除去する反応は、アンモニアを吸収した溶媒中で行
うことが好ましく、例えば、メタノールにアンモニアを
吸収させた溶液や、アンモニア水と有機溶媒との混合溶
液中で行うことができる。得られた式(10)で表され
る化合物の単離は、通常の分離精製手段を用いればよ
く、例えば、反応終了後、有機溶媒を除き、残査をクロ
ロホルムと水で分配し、水層を濃縮する方法等が挙げら
れる。さらに、必要に応じて濃縮物をカラムクロマトグ
ラフィおよび再結晶などにより精製し、純度を高めるこ
ともできる。
プロトン性有機溶媒中で行うことが好ましく、例えば、
ピリジン、アセトニトリル、トルエン、ジオキサンおよ
びクロロホルム等が挙げられる。反応温度は特に限定さ
れないが、0℃〜100℃で行うことが好ましく、反応
時間は、反応温度によって異なるが、通常数時間から数
日であることが望ましい。本工程では、反応時間を短縮
させる目的で、トリメチルアミン、トリエチルアミン、
N,N−ジメチルアニリンおよびN,N−ジメチルアミ
ノピリジン等の第3級アミンを添加する事が好ましい。
前記塩基の4位をアミノ化すると同時に水酸基の保護基
であるR1 およびR3基とアミノ基の保護基であるR2
基を除去する反応は、アンモニアを吸収した溶媒中で行
うことが好ましく、例えば、メタノールにアンモニアを
吸収させた溶液や、アンモニア水と有機溶媒との混合溶
液中で行うことができる。得られた式(10)で表され
る化合物の単離は、通常の分離精製手段を用いればよ
く、例えば、反応終了後、有機溶媒を除き、残査をクロ
ロホルムと水で分配し、水層を濃縮する方法等が挙げら
れる。さらに、必要に応じて濃縮物をカラムクロマトグ
ラフィおよび再結晶などにより精製し、純度を高めるこ
ともできる。
【0021】○前記式(1)におけるXが水素原子であ
る3’−アミノ−2’,3’−ジデオキシ−2−チオピ
リミジンヌクレオシドの製造方法。
る3’−アミノ−2’,3’−ジデオキシ−2−チオピ
リミジンヌクレオシドの製造方法。
【0022】
【化8】
【0023】本方法は、前記式(11)または前記式
(13)で表される3’−アジド−2’,3’−ジデオ
キシ−2−チオピリミジンヌクレオシドの3’−アジド
基を還元して、式(12)または(14)で表される
3’−アミノ−2’,3’−ジデオキシ−2−チオピリ
ミジンヌクレオシドを製造する方法である。本反応の原
料化合物である3’−アジド−2’,3’−ジデオキシ
−2−チオピリミジンヌクレオシドは、公知の方法、例
えば、Erik B.Pedersen らの方法〔Monatshefte fur Ch
emie.,123,355-361(1992) 〕に準じて製造することがで
き、通常用いられる還元剤を用いて、3’−アジド化合
物のアジド基をアミノ基に還元することができる。この
還元剤としては、例えば、水素化ホウ素ナトリウムおよ
びリチウムアルミニウムヒドリド等の水素化金属塩、硫
化水素等の硫黄化合物ならびにトリメチルホスフィンお
よびトリフェニルホスフィン等のリン化合物等が挙げら
れるが、反応生成物の単離の容易さの点で硫化水素また
はリン化合物が好ましい。反応に用いる有機溶媒および
反応条件は、通常の還元反応の条件が適用できる。前記
還元反応により生成した3’−アミノ−2’,3’−ジ
デオキシ−2−チオピリミジンヌクレオシドは、それぞ
れ使用した還元剤の処理方法に適した中和処理を行い、
また、通常の単離精製方法、例えば、再結晶およびカラ
ムクロマトグラフィより単離・精製することができる。
(13)で表される3’−アジド−2’,3’−ジデオ
キシ−2−チオピリミジンヌクレオシドの3’−アジド
基を還元して、式(12)または(14)で表される
3’−アミノ−2’,3’−ジデオキシ−2−チオピリ
ミジンヌクレオシドを製造する方法である。本反応の原
料化合物である3’−アジド−2’,3’−ジデオキシ
−2−チオピリミジンヌクレオシドは、公知の方法、例
えば、Erik B.Pedersen らの方法〔Monatshefte fur Ch
emie.,123,355-361(1992) 〕に準じて製造することがで
き、通常用いられる還元剤を用いて、3’−アジド化合
物のアジド基をアミノ基に還元することができる。この
還元剤としては、例えば、水素化ホウ素ナトリウムおよ
びリチウムアルミニウムヒドリド等の水素化金属塩、硫
化水素等の硫黄化合物ならびにトリメチルホスフィンお
よびトリフェニルホスフィン等のリン化合物等が挙げら
れるが、反応生成物の単離の容易さの点で硫化水素また
はリン化合物が好ましい。反応に用いる有機溶媒および
反応条件は、通常の還元反応の条件が適用できる。前記
還元反応により生成した3’−アミノ−2’,3’−ジ
デオキシ−2−チオピリミジンヌクレオシドは、それぞ
れ使用した還元剤の処理方法に適した中和処理を行い、
また、通常の単離精製方法、例えば、再結晶およびカラ
ムクロマトグラフィより単離・精製することができる。
【0024】
【実施例】以下に実施例を挙げ、本発明をより具体的に
述べる。 実施例1 3’−アミノ−3’−デオキシ−2−チオ−
5−メチルウリジンの製造 2−チオ−5−メチルウラシル893mgおよび硫酸ア
ンモニウム50mgに1,1,1,3,3,3−ヘキサ
メチルジシラザン15mlを加え、懸濁溶液が透明にな
るまで1時間加熱還流した。反応溶液を20℃に冷却
し、減圧下で過剰の1,1,1,3,3,3−ヘキサメ
チルジシラザンを留去した。
述べる。 実施例1 3’−アミノ−3’−デオキシ−2−チオ−
5−メチルウリジンの製造 2−チオ−5−メチルウラシル893mgおよび硫酸ア
ンモニウム50mgに1,1,1,3,3,3−ヘキサ
メチルジシラザン15mlを加え、懸濁溶液が透明にな
るまで1時間加熱還流した。反応溶液を20℃に冷却
し、減圧下で過剰の1,1,1,3,3,3−ヘキサメ
チルジシラザンを留去した。
【0025】工程a)前記で得られた2−(トリメチル
シリルチオ)−4−(トリメチルシロキシ)−5−メチ
ルピリミジンを含む濃縮残査に1,2−ジ−o−アセチ
ル−3−デオキシ−3−トリフルオロアセトアミド−5
−o−p−ニトロベンゾイル−D−リボフラノース1.
5gを加え、脱水アセトニトリル30mlに溶解させ
た。反応溶液を氷浴で冷却し、1モルに調製された四塩
化スズ/塩化メチレン溶液6.9mlを滴下した。滴下
終了後、20℃の条件で2時間撹拌した後、反応液に飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液および酢酸エチルを加えて
激しく撹拌した。懸濁溶液をセライトを用いて濾過し、
さらにセライトを酢酸エチルで洗浄した。合わせた濾液
を水洗し、無水硫酸ナトリウムで脱水した後、溶媒を留
去した。残査に少量のクロロホルムを加えて溶解させ
て、シリカゲルを担体とするカラムクラマトグラフィ
(クロロホルム/メタノール=95/5)により、2’
−o−アセチル−5’−o−p−ニトロベンゾイル−
3’−トリフルオロアセトアミド−3’−デオキシ−2
−チオ−5−メチルウリジンを1.4g(収率82%)
得た。化合物の構造はNMRで確認した。NMRのデータ(DMSO-d6) δ(ppm) :12.83(1H,br,3-NH D2O exchangeable) 9.86(1
H,d,J=7.32Hz,3'-NH D2Oexchangeable) 8.40(2H,d,J=8.
79Hz,aromatic CH) 8.24(2H,d,J=8.79Hz,aromatic CH)
7.72(1H,br,6-H) 6.18(1H,d,J=1.47Hz,1'-H) 5.51(1H,d
d,J=1.95, 4.88Hz,2'-H) 4.73(1H,m,3'-H) 4.62(1H,dd,
J=2.93, 11.72Hz,5'-H) 4.60(1H,brs,4'-H) 4.45(1H,d
d,J=2.93, 11.72Hz,5'-H) 2.11(3H,s,acetyl) 1.87(3H,
s,5-Me)
シリルチオ)−4−(トリメチルシロキシ)−5−メチ
ルピリミジンを含む濃縮残査に1,2−ジ−o−アセチ
ル−3−デオキシ−3−トリフルオロアセトアミド−5
−o−p−ニトロベンゾイル−D−リボフラノース1.
5gを加え、脱水アセトニトリル30mlに溶解させ
た。反応溶液を氷浴で冷却し、1モルに調製された四塩
化スズ/塩化メチレン溶液6.9mlを滴下した。滴下
終了後、20℃の条件で2時間撹拌した後、反応液に飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液および酢酸エチルを加えて
激しく撹拌した。懸濁溶液をセライトを用いて濾過し、
さらにセライトを酢酸エチルで洗浄した。合わせた濾液
を水洗し、無水硫酸ナトリウムで脱水した後、溶媒を留
去した。残査に少量のクロロホルムを加えて溶解させ
て、シリカゲルを担体とするカラムクラマトグラフィ
(クロロホルム/メタノール=95/5)により、2’
−o−アセチル−5’−o−p−ニトロベンゾイル−
3’−トリフルオロアセトアミド−3’−デオキシ−2
−チオ−5−メチルウリジンを1.4g(収率82%)
得た。化合物の構造はNMRで確認した。NMRのデータ(DMSO-d6) δ(ppm) :12.83(1H,br,3-NH D2O exchangeable) 9.86(1
H,d,J=7.32Hz,3'-NH D2Oexchangeable) 8.40(2H,d,J=8.
79Hz,aromatic CH) 8.24(2H,d,J=8.79Hz,aromatic CH)
7.72(1H,br,6-H) 6.18(1H,d,J=1.47Hz,1'-H) 5.51(1H,d
d,J=1.95, 4.88Hz,2'-H) 4.73(1H,m,3'-H) 4.62(1H,dd,
J=2.93, 11.72Hz,5'-H) 4.60(1H,brs,4'-H) 4.45(1H,d
d,J=2.93, 11.72Hz,5'-H) 2.11(3H,s,acetyl) 1.87(3H,
s,5-Me)
【0026】工程b)上記縮合生成物630mgをp−
ジオキサン10mlに溶解させて、28重量%のアンモ
ニア水溶液10mlを加え、20℃の条件で15時間撹
拌した。溶媒を減圧留去した後、残査をシリカゲルを担
体とするカラムクロマトグラフィにより精製し、目的物
の3’−アミノ−3’−デオキシ−2−チオ−5−メチ
ルウリジンを320mg(収率92%)得た。生成物の
物理的データは以下の通りである。 シリカゲル薄層クロマトグラフィ;Rf 0.38(ク
ロロホルム/メタノール/水/酢酸=25/15/4/
2) ニンヒドリン反応;陽性 融点;245℃(褐色に分解) 1H−NMRのデータ(DMSO-d6) δ(ppm):7.69(1H,s,6-H) 5.92(1H,d,J=1.46Hz,1'-H) 4.
06(1H,dd,J=1.46, 4.39Hz,2'-H) 3.7-3.5(2H,m,4'-H an
d 5'-H) 3.43(1H,dd,J=5.37, 11.72Hz,5-H) 3.26(1H,d
d,J=4.88, 8.3Hz) 1.86(3H,s,5-Me) 13C−NMRのデータ(DMSO-d6) δ(ppm):180.99, 159.03, 150.29, 119.0, 88.68, 85.
0, 76.5, 61.72, 53.45,12.56
ジオキサン10mlに溶解させて、28重量%のアンモ
ニア水溶液10mlを加え、20℃の条件で15時間撹
拌した。溶媒を減圧留去した後、残査をシリカゲルを担
体とするカラムクロマトグラフィにより精製し、目的物
の3’−アミノ−3’−デオキシ−2−チオ−5−メチ
ルウリジンを320mg(収率92%)得た。生成物の
物理的データは以下の通りである。 シリカゲル薄層クロマトグラフィ;Rf 0.38(ク
ロロホルム/メタノール/水/酢酸=25/15/4/
2) ニンヒドリン反応;陽性 融点;245℃(褐色に分解) 1H−NMRのデータ(DMSO-d6) δ(ppm):7.69(1H,s,6-H) 5.92(1H,d,J=1.46Hz,1'-H) 4.
06(1H,dd,J=1.46, 4.39Hz,2'-H) 3.7-3.5(2H,m,4'-H an
d 5'-H) 3.43(1H,dd,J=5.37, 11.72Hz,5-H) 3.26(1H,d
d,J=4.88, 8.3Hz) 1.86(3H,s,5-Me) 13C−NMRのデータ(DMSO-d6) δ(ppm):180.99, 159.03, 150.29, 119.0, 88.68, 85.
0, 76.5, 61.72, 53.45,12.56
【0027】実施例2 3’−アミノ−3’−デオキシ
−2−チオウリジンの製造 2−チオウラシル1.6g、硫酸アンモニウム200m
gに1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザン
40mlを加え、懸濁溶液が透明になるまで約9時間加
熱環流した。反応溶液を室温に戻した後、減圧下で、過
剰の1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザン
を留去した。
−2−チオウリジンの製造 2−チオウラシル1.6g、硫酸アンモニウム200m
gに1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザン
40mlを加え、懸濁溶液が透明になるまで約9時間加
熱環流した。反応溶液を室温に戻した後、減圧下で、過
剰の1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザン
を留去した。
【0028】工程a)実施例1の工程a)と同様にし
て、上記で得られた2−(トリメチルシリルチオ)−4
−(トリメチルシロキシ)ピリミジンを含む前記濃縮残
査に1,2−ジ−o−アセチル−3−デオキシ−3−ト
リフルオロアセトアミド−5−o−p−ニトロベンゾイ
ル−D−リボフラノース3gを加えて縮合、続いて後処
理を行い、目的物である2’−o−アセチル−5’−o
−p−ニトロベンゾイル−3’−トリフルオロアセトア
ミド−3’−デオキシ−2−チオウリジンを3.6g
(収率100%)得た。化合物の構造はNMRで確認し
た。 1H−NMRのデータ(CDCl3+DMSO-d6 ) δ(ppm) :12.53(1H,br,3-NH D2O exchangeable) 9.63
(1H,br d,J=4.39Hz,3'-NHD2O exchangeable) 8.33(2H,
d,J=8.79Hz,aromatic CH) 8.24(2H,d,J=8.79Hz,aromati
c CH) 7.78(1H,d,J=7.81Hz,6-H) 6.87(1H,d,J=2.93Hz,
1'-H) 5.87(1H,d,J=7.81Hz,5-H) 5.56(1H,d,J=2.93Hz,
2'-H) 4.74-4.65(4H,m,3'-H, 4'-H and 5'-H) 2.13(3H,
s,acetyl)
て、上記で得られた2−(トリメチルシリルチオ)−4
−(トリメチルシロキシ)ピリミジンを含む前記濃縮残
査に1,2−ジ−o−アセチル−3−デオキシ−3−ト
リフルオロアセトアミド−5−o−p−ニトロベンゾイ
ル−D−リボフラノース3gを加えて縮合、続いて後処
理を行い、目的物である2’−o−アセチル−5’−o
−p−ニトロベンゾイル−3’−トリフルオロアセトア
ミド−3’−デオキシ−2−チオウリジンを3.6g
(収率100%)得た。化合物の構造はNMRで確認し
た。 1H−NMRのデータ(CDCl3+DMSO-d6 ) δ(ppm) :12.53(1H,br,3-NH D2O exchangeable) 9.63
(1H,br d,J=4.39Hz,3'-NHD2O exchangeable) 8.33(2H,
d,J=8.79Hz,aromatic CH) 8.24(2H,d,J=8.79Hz,aromati
c CH) 7.78(1H,d,J=7.81Hz,6-H) 6.87(1H,d,J=2.93Hz,
1'-H) 5.87(1H,d,J=7.81Hz,5-H) 5.56(1H,d,J=2.93Hz,
2'-H) 4.74-4.65(4H,m,3'-H, 4'-H and 5'-H) 2.13(3H,
s,acetyl)
【0029】工程b)実施例1の工程b)と同様にし
て、上記縮合生成物630mgをp−ジオキサン10m
lに溶解し、28%アンモニア水溶液10mlを加え
て、脱保護反応と精製を行い、目的物の3’−アミノ−
3’−デオキシ−2−チオウリジンを100mg(収率
50%)得た。生成物の物理的データは以下の通りであ
る。 シリカゲル薄層クロマトグラフィ;Rf 0.38(ク
ロロホルム/メタノール/水/酢酸=25/15/4/
2) ニンヒドリン反応;陽性 融点;205℃(褐色に分解) 1H−NMRのデータ(DMSO-d6) δ(ppm):8.35(1H,d,J=8.3Hz,6-H) 6.32(1H,s,1'-H) 5.9
3(1H,d,J=8.3Hz,5-H) 5.6-5.7(1H,br,2'-OH D2O exchan
geable) 5.2(1H,br,5'-OH D2O exchangeable) 3.95(1H,
d,J=4.88Hz,2'-H) 3.80(1H,d,J=12.21Hz,5'-H) 3.68(2
H,m,4'-H and 5'-H) 3.17(1H,m,3'-H) 13C−NMRのデータ(DMSO-d6) δ(ppm):175.36, 159.73, 140.78, 105.76, 94.04, 85.
20, 75.55, 58.72, 50.84
て、上記縮合生成物630mgをp−ジオキサン10m
lに溶解し、28%アンモニア水溶液10mlを加え
て、脱保護反応と精製を行い、目的物の3’−アミノ−
3’−デオキシ−2−チオウリジンを100mg(収率
50%)得た。生成物の物理的データは以下の通りであ
る。 シリカゲル薄層クロマトグラフィ;Rf 0.38(ク
ロロホルム/メタノール/水/酢酸=25/15/4/
2) ニンヒドリン反応;陽性 融点;205℃(褐色に分解) 1H−NMRのデータ(DMSO-d6) δ(ppm):8.35(1H,d,J=8.3Hz,6-H) 6.32(1H,s,1'-H) 5.9
3(1H,d,J=8.3Hz,5-H) 5.6-5.7(1H,br,2'-OH D2O exchan
geable) 5.2(1H,br,5'-OH D2O exchangeable) 3.95(1H,
d,J=4.88Hz,2'-H) 3.80(1H,d,J=12.21Hz,5'-H) 3.68(2
H,m,4'-H and 5'-H) 3.17(1H,m,3'-H) 13C−NMRのデータ(DMSO-d6) δ(ppm):175.36, 159.73, 140.78, 105.76, 94.04, 85.
20, 75.55, 58.72, 50.84
【0030】実施例3 3’−アミノ−3’−デオキシ
−2−チオシチジンの製造 2−チオシトシン0.8g、硫酸アンモニウム100m
gに1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザン
20mlを加え、懸濁溶液が透明になるまで約24時間
加熱環流した。反応溶液を室温に戻した後、減圧下で、
過剰の1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザ
ンを留去した。 工程c)実施例1の工程a)と同様にして、上記で得ら
れた2−(トリメチルシリルチオ)−4−(トリメチル
シリルアミノ)ピリミジンを含む前記濃縮残査に1,2
−ジ−O−アセチル−3−デオキシ−3−トリフルオロ
アセトアミド−5−O−p−ニトロベンゾイル−D−リ
ボフラノース1gを加えて縮合、続いて後処理を行い、
2’−O−アセチル−5’−O−p−ニトロベンゾイル
−3’−トリフルオロアセトアミド−3’−デオキシ−
2−チオシチジンを230mg(収率20%)得た。
−2−チオシチジンの製造 2−チオシトシン0.8g、硫酸アンモニウム100m
gに1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザン
20mlを加え、懸濁溶液が透明になるまで約24時間
加熱環流した。反応溶液を室温に戻した後、減圧下で、
過剰の1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザ
ンを留去した。 工程c)実施例1の工程a)と同様にして、上記で得ら
れた2−(トリメチルシリルチオ)−4−(トリメチル
シリルアミノ)ピリミジンを含む前記濃縮残査に1,2
−ジ−O−アセチル−3−デオキシ−3−トリフルオロ
アセトアミド−5−O−p−ニトロベンゾイル−D−リ
ボフラノース1gを加えて縮合、続いて後処理を行い、
2’−O−アセチル−5’−O−p−ニトロベンゾイル
−3’−トリフルオロアセトアミド−3’−デオキシ−
2−チオシチジンを230mg(収率20%)得た。
【0031】工程d)実施例1の工程b)と同様にし
て、上記縮合生成物230mgをp−ジオキサン10m
lに溶解し、28%アンモニア水溶液10mlを加え
て、脱保護反応と精製を行い、目的物の3’−アミノ−
3’−デオキシ−2−チオシチジンを50mg(収率4
6%)得た。生成物の物理的データは以下の通りであ
る。 シリカゲル薄層クロマトグラフィ;Rf 0.30(ク
ロロホルム/メタノール/水/酢酸=25/15/4/
2) ニンヒドリン反応;陽性 融点;200 ℃(褐色に分解) 1H−NMRのデータ(DMSO-d6) δ(ppm):8.39(1H,d,J=7.32Hz,6-H) 7.60(1H,br,4-NH D2
O exchangeable) 7.47(1H,br,4-NH D2O exchangeable)
6.43(1H,s,1'-H) 6.02(1H,d,J=7.32Hz,5-H) 5.66(1H,b
r,2'-OH D2O exchangeable) 5.14(1H,br,5'-OH D2O exc
hangeable) 3.89(1H,d,J=4.39Hz,2'-H) 3.81(1H,d,J=1
1.72Hz,5'-H) 3.68(2H,brd,J=8.3Hz,4'-H and 5'-H) 3.
09(1H,m,3'-H) 1.65(2H,br,3'-NH2 D2O exchangeable)
て、上記縮合生成物230mgをp−ジオキサン10m
lに溶解し、28%アンモニア水溶液10mlを加え
て、脱保護反応と精製を行い、目的物の3’−アミノ−
3’−デオキシ−2−チオシチジンを50mg(収率4
6%)得た。生成物の物理的データは以下の通りであ
る。 シリカゲル薄層クロマトグラフィ;Rf 0.30(ク
ロロホルム/メタノール/水/酢酸=25/15/4/
2) ニンヒドリン反応;陽性 融点;200 ℃(褐色に分解) 1H−NMRのデータ(DMSO-d6) δ(ppm):8.39(1H,d,J=7.32Hz,6-H) 7.60(1H,br,4-NH D2
O exchangeable) 7.47(1H,br,4-NH D2O exchangeable)
6.43(1H,s,1'-H) 6.02(1H,d,J=7.32Hz,5-H) 5.66(1H,b
r,2'-OH D2O exchangeable) 5.14(1H,br,5'-OH D2O exc
hangeable) 3.89(1H,d,J=4.39Hz,2'-H) 3.81(1H,d,J=1
1.72Hz,5'-H) 3.68(2H,brd,J=8.3Hz,4'-H and 5'-H) 3.
09(1H,m,3'-H) 1.65(2H,br,3'-NH2 D2O exchangeable)
【0032】実施例4 3’−アミノ−3’−デオキシ
−2−チオシチジンの製造 工程e)1,2,4−トリアゾール2.18gに脱水ア
セトニトリル20mlを加え、氷浴中冷却しながら、オ
キシ塩化リン0.87mlとトリエチルアミン5.75
mlを順次滴下し、滴下終了後さらに30分撹拌した。
この反応溶液に実施例2の工程a)で得られた2’−O
−アセチル−5’−O−P−ニトロベンゾイル−3’−
トリフルオロアセトアミド−3’−デオキシ−2−チオ
ウリジン1.5gの脱水アセトニトリル(10ml)溶
液を滴下し、その後、氷浴を除いて15時間撹拌した。
反応溶液に水5mlを加えて褐色透明な溶液とし、減圧
下で溶媒を留去した。残査に酢酸エチルと水を加えて溶
解し、分配した。水層をさらに酢酸エチルで2回抽出
し、先の酢酸エチル層と合わせ、無水硫酸ナトリウムで
脱水後、減圧下で溶媒を留去した。上記残査をP−ジオ
キサン30mlに溶解させて、28重量%アンモニア水
30mlを添加し、室温で15時間撹拌した。減圧下で
溶媒を留去した後、残査をシリカゲルを担体とするカラ
ムクロマトグラフィ(クロロホルム/メタノール=7/
3)にかけ3’−アミノ−3’−デオキシ−2−チオシ
チジンを312mg(収率44%)得た。
−2−チオシチジンの製造 工程e)1,2,4−トリアゾール2.18gに脱水ア
セトニトリル20mlを加え、氷浴中冷却しながら、オ
キシ塩化リン0.87mlとトリエチルアミン5.75
mlを順次滴下し、滴下終了後さらに30分撹拌した。
この反応溶液に実施例2の工程a)で得られた2’−O
−アセチル−5’−O−P−ニトロベンゾイル−3’−
トリフルオロアセトアミド−3’−デオキシ−2−チオ
ウリジン1.5gの脱水アセトニトリル(10ml)溶
液を滴下し、その後、氷浴を除いて15時間撹拌した。
反応溶液に水5mlを加えて褐色透明な溶液とし、減圧
下で溶媒を留去した。残査に酢酸エチルと水を加えて溶
解し、分配した。水層をさらに酢酸エチルで2回抽出
し、先の酢酸エチル層と合わせ、無水硫酸ナトリウムで
脱水後、減圧下で溶媒を留去した。上記残査をP−ジオ
キサン30mlに溶解させて、28重量%アンモニア水
30mlを添加し、室温で15時間撹拌した。減圧下で
溶媒を留去した後、残査をシリカゲルを担体とするカラ
ムクロマトグラフィ(クロロホルム/メタノール=7/
3)にかけ3’−アミノ−3’−デオキシ−2−チオシ
チジンを312mg(収率44%)得た。
【0033】実施例5 3’−アミノ−2’,3’−ジ
デオキシ−2−チオ−5−メチルウリジン塩酸塩の製造 3’−アジド−2’,3’−ジデオキシ−2−チオ−5
−メチルウリジン329mgをピリジン10mlに溶解
し、トリフェニルホスフィン320mgを添加した。2
0℃の条件で1時間撹拌後、28重量%のアンモニア水
10mlを加え、さらに20℃で1時間撹拌した。有機
溶媒を減圧下で留去し、残査に水とクロロホルムを加え
溶解した。分配後、水層を2回クロロホルムで洗浄し、
濃縮した。残査をシリカゲルを担体とするカラムクロマ
トグラフィ(クロロホルム/メタノール=7/3〜1/
1)にかけ3’−アミノ−2’,3’−ジデオキシ−2
−チオ−5−メチルウリジン151mg(収率50%)
を得た。さらに、生成物をメタノールに溶解し、等モル
量の濃塩酸を加えて15分間撹拌した後、減圧下で溶媒
を留去した。残査に少量のメタノールを加えて溶解し、
静置した。析出した固体を濾集して、3’−アミノ−
2’,3’−ジデオキシ−2−チオ−5−メチルウリジ
ン塩酸塩として白色粒状の結晶を92mg得た。生成物
の物理的データは以下の通りである。 シリカゲル薄層クロマトグラフィ;Rf 0.49(ク
ロロホルム/メタノール/水/酢酸=25/15/4/
2) ニンヒドリン反応;陽性 融点;213℃(黒褐色に分解) 1H−NMRのデータ(DMSO-d6) δ(ppm):12.62(1H,br,3-NH D2O exchangeable) 8.51(3
H,br,3'-NH3 D2O exchangeable) 8.02(1H,d,J=1.46Hz,6
-H) 6.91(1H,t,J=6.35Hz,1'-H) 5.45(1H,br,5'-OH D2O
exchangeable) 4.14(1H,m,4'-H) 3.85(1H,br,3'-H) 3.7
9(1H,dd,J=2.44, 12.2Hz,5'-H) 3.73(1H,dd,J=4.4, 12.
2Hz,5'-H) 2.58(1H,ddd,J=4.4, 6.35, 14.65Hz,2'-H)
2.28(1H,ddd,J=6.35, 8.79, 14.65Hz,2'-H)1.84(3H,s,5
-Me)
デオキシ−2−チオ−5−メチルウリジン塩酸塩の製造 3’−アジド−2’,3’−ジデオキシ−2−チオ−5
−メチルウリジン329mgをピリジン10mlに溶解
し、トリフェニルホスフィン320mgを添加した。2
0℃の条件で1時間撹拌後、28重量%のアンモニア水
10mlを加え、さらに20℃で1時間撹拌した。有機
溶媒を減圧下で留去し、残査に水とクロロホルムを加え
溶解した。分配後、水層を2回クロロホルムで洗浄し、
濃縮した。残査をシリカゲルを担体とするカラムクロマ
トグラフィ(クロロホルム/メタノール=7/3〜1/
1)にかけ3’−アミノ−2’,3’−ジデオキシ−2
−チオ−5−メチルウリジン151mg(収率50%)
を得た。さらに、生成物をメタノールに溶解し、等モル
量の濃塩酸を加えて15分間撹拌した後、減圧下で溶媒
を留去した。残査に少量のメタノールを加えて溶解し、
静置した。析出した固体を濾集して、3’−アミノ−
2’,3’−ジデオキシ−2−チオ−5−メチルウリジ
ン塩酸塩として白色粒状の結晶を92mg得た。生成物
の物理的データは以下の通りである。 シリカゲル薄層クロマトグラフィ;Rf 0.49(ク
ロロホルム/メタノール/水/酢酸=25/15/4/
2) ニンヒドリン反応;陽性 融点;213℃(黒褐色に分解) 1H−NMRのデータ(DMSO-d6) δ(ppm):12.62(1H,br,3-NH D2O exchangeable) 8.51(3
H,br,3'-NH3 D2O exchangeable) 8.02(1H,d,J=1.46Hz,6
-H) 6.91(1H,t,J=6.35Hz,1'-H) 5.45(1H,br,5'-OH D2O
exchangeable) 4.14(1H,m,4'-H) 3.85(1H,br,3'-H) 3.7
9(1H,dd,J=2.44, 12.2Hz,5'-H) 3.73(1H,dd,J=4.4, 12.
2Hz,5'-H) 2.58(1H,ddd,J=4.4, 6.35, 14.65Hz,2'-H)
2.28(1H,ddd,J=6.35, 8.79, 14.65Hz,2'-H)1.84(3H,s,5
-Me)
【0034】実施例6 3’−アミノ−2’,3’−ジ
デオキシ−2−チオシチジンの製造 上記実施例5と同様の方法で、3’−アジド−2’,
3’−ジデオキシ−2−チオシチジン354mgを還元
し、3’−アミノ−2’,3’−ジデオキシ−2−チオ
シチジンを138mg(収率43%)得た。生成物の物
理的データは以下の通りである。 シリカゲル薄層クロマトグラフィ;Rf 0.18(ク
ロロホルム/メタノール/水/酢酸=25/15/4/
2) ニンヒドリン反応;陽性 1H−NMRのデータ(DMSO-d6) δ(ppm):8.24(1H,d,J=7.33Hz,6-H) 7.59(1H,br,4-NH D2
O exchangeable) 7.48(1H,br,4-NH D2O exchangeable)
6.75(1H,dd,J=3.42, 6.83Hz,1'-H) 6.05(1H,d,J=7.33H
z,5-H) 5.06(1H,br,5'-OH D2O exchangeable) 3.72(1H,
d,J=11.72Hz,5'-H) 3.64(1H,d,J=11.72Hz,5'-H) 3.59(1
H,m,4'-H) 3.28(1H,m,3'-H) 2.22(1H,m,2'-H) 2.05(1H,
m,2'-H) 13C−NMRのデータ(DMSO-d6) δ(ppm):179.0, 160.35, 141.29, 97.36, 89.12, 88.1
3, 59.80, 49.49, 42.19
デオキシ−2−チオシチジンの製造 上記実施例5と同様の方法で、3’−アジド−2’,
3’−ジデオキシ−2−チオシチジン354mgを還元
し、3’−アミノ−2’,3’−ジデオキシ−2−チオ
シチジンを138mg(収率43%)得た。生成物の物
理的データは以下の通りである。 シリカゲル薄層クロマトグラフィ;Rf 0.18(ク
ロロホルム/メタノール/水/酢酸=25/15/4/
2) ニンヒドリン反応;陽性 1H−NMRのデータ(DMSO-d6) δ(ppm):8.24(1H,d,J=7.33Hz,6-H) 7.59(1H,br,4-NH D2
O exchangeable) 7.48(1H,br,4-NH D2O exchangeable)
6.75(1H,dd,J=3.42, 6.83Hz,1'-H) 6.05(1H,d,J=7.33H
z,5-H) 5.06(1H,br,5'-OH D2O exchangeable) 3.72(1H,
d,J=11.72Hz,5'-H) 3.64(1H,d,J=11.72Hz,5'-H) 3.59(1
H,m,4'-H) 3.28(1H,m,3'-H) 2.22(1H,m,2'-H) 2.05(1H,
m,2'-H) 13C−NMRのデータ(DMSO-d6) δ(ppm):179.0, 160.35, 141.29, 97.36, 89.12, 88.1
3, 59.80, 49.49, 42.19
【0035】試験例 本発明における3’−アミノ−2−チオピリミジンヌク
レオシドとそれに対応する公知の3’−アミノヌクレオ
シド類との逆層カラムクロマトグラフィにおける保持時
間を比較し、その結果を表1および表2に示した。表
中、化合物の下に示した数字は、ODSカラムを用い、
25mMリン酸二水素カリウム水溶液を溶離液とした時
の保持時間である。 測定条件 カラム;TSKgel ODS-80Ts 4.6mmI.D.x 15 cm 溶離液;25mMリン酸二水素カリウム水溶液 流速 ;1.0ml/min 温度 ;40℃ 検出 ;UV(260nm) 本発明の3’−アミノ−2−チオピリミジンヌクレオシ
ド類は、それに対応する3’−アミノヌクレオシド類よ
りも保持時間が長く、脂溶性が向上している事が示唆さ
れる。従って、本発明の化合物は、従来の化合物よりも
癌細胞やウイルス感染細胞の細胞膜を透過しやすいと考
えられ、抗癌剤や抗ウイルス剤として期待される。
レオシドとそれに対応する公知の3’−アミノヌクレオ
シド類との逆層カラムクロマトグラフィにおける保持時
間を比較し、その結果を表1および表2に示した。表
中、化合物の下に示した数字は、ODSカラムを用い、
25mMリン酸二水素カリウム水溶液を溶離液とした時
の保持時間である。 測定条件 カラム;TSKgel ODS-80Ts 4.6mmI.D.x 15 cm 溶離液;25mMリン酸二水素カリウム水溶液 流速 ;1.0ml/min 温度 ;40℃ 検出 ;UV(260nm) 本発明の3’−アミノ−2−チオピリミジンヌクレオシ
ド類は、それに対応する3’−アミノヌクレオシド類よ
りも保持時間が長く、脂溶性が向上している事が示唆さ
れる。従って、本発明の化合物は、従来の化合物よりも
癌細胞やウイルス感染細胞の細胞膜を透過しやすいと考
えられ、抗癌剤や抗ウイルス剤として期待される。
【0036】
【表1】
【0037】
【表2】
【0038】
【発明の効果】本発明の3’−アミノ−2−チオピリミ
ジンヌクレオシドは、例えば抗癌剤および抗ウイルス剤
等の医薬品として有用であると期待される。
ジンヌクレオシドは、例えば抗癌剤および抗ウイルス剤
等の医薬品として有用であると期待される。
Claims (1)
- 【請求項1】下記式(1)で表される3’−アミノ−2
−チオピリミジンヌクレオシドまたはその塩。 【化1】 〔式中、Rは下記式(2)または下記式(3)で表され
るチオピリミジン系核酸塩基を示し、Xは水素原子また
は水酸基を示す〕 【化2】 (式中、Yは水素原子またはメチル基を示す) 【化3】 (式中、Yは水素原子またはメチル基を示す)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17985096A JPH107694A (ja) | 1996-06-21 | 1996-06-21 | 3’−アミノ−2−チオピリミジンヌクレオシド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17985096A JPH107694A (ja) | 1996-06-21 | 1996-06-21 | 3’−アミノ−2−チオピリミジンヌクレオシド |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH107694A true JPH107694A (ja) | 1998-01-13 |
Family
ID=16073012
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17985096A Pending JPH107694A (ja) | 1996-06-21 | 1996-06-21 | 3’−アミノ−2−チオピリミジンヌクレオシド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH107694A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102718822A (zh) * | 2012-05-18 | 2012-10-10 | 大连大学 | 微波辅助下4-硫胸腺嘧啶核苷及其类似物的合成方法 |
JP2016530313A (ja) * | 2013-09-11 | 2016-09-29 | エモリー・ユニバーシテイ | ヌクレオチドおよびヌクレオシド組成物ならびにこれらに関連する使用 |
-
1996
- 1996-06-21 JP JP17985096A patent/JPH107694A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102718822A (zh) * | 2012-05-18 | 2012-10-10 | 大连大学 | 微波辅助下4-硫胸腺嘧啶核苷及其类似物的合成方法 |
JP2016530313A (ja) * | 2013-09-11 | 2016-09-29 | エモリー・ユニバーシテイ | ヌクレオチドおよびヌクレオシド組成物ならびにこれらに関連する使用 |
JP2020143073A (ja) * | 2013-09-11 | 2020-09-10 | エモリー・ユニバーシテイ | ヌクレオチドおよびヌクレオシド組成物ならびにこれらに関連する使用 |
US11166973B2 (en) | 2013-09-11 | 2021-11-09 | Emory University | Substituted nucleotides and nucleosides for treating viral infections |
US11857560B2 (en) | 2013-09-11 | 2024-01-02 | Emory University | Pharmaceutical compositions comprising substituted nucleotides and nucleosides for treating viral infections |
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