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JPH1039199A - Focusing device applied to optical equipment - Google Patents

Focusing device applied to optical equipment

Info

Publication number
JPH1039199A
JPH1039199A JP9084097A JP9084097A JPH1039199A JP H1039199 A JPH1039199 A JP H1039199A JP 9084097 A JP9084097 A JP 9084097A JP 9084097 A JP9084097 A JP 9084097A JP H1039199 A JPH1039199 A JP H1039199A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thickness
stage
slide glass
objective lens
focusing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9084097A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masakazu Shimada
征和 島田
Takashi Nagano
隆 長野
Takashi Yoneyama
貴 米山
Yukiko Saeki
由紀子 佐伯
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Olympus Optical Co Ltd filed Critical Olympus Optical Co Ltd
Priority to JP9084097A priority Critical patent/JPH1039199A/en
Priority to US08/839,658 priority patent/US6043475A/en
Publication of JPH1039199A publication Critical patent/JPH1039199A/en
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Focusing (AREA)
  • Microscoopes, Condenser (AREA)
  • Automatic Focus Adjustment (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a focusing device having high focusing accuracy through the device is inexpensive and compact by deciding information on a distance between an objective lens and a stage based on the thickness of a plate member submitted to measurement and adjusting the distance between the object lens and the stage based on the decided information on the distance. SOLUTION: This device is equipped with an external controller 15 in order to control the start/stop of automatic focusing operation, input the thickness of a slide glass 2 by a microscopic observer and designate the magnification of the objective lens 3. A CPU 16 calculates the moving amount and the moving direction of the stage 1 based on the thickness of the slide glass 2 inputted by the controller 15 so that a sample S may be moved to the focusing position of an optical system, and gives the calculated results to a driving circuit 17 as a control signal. The driving circuit 17 performs focusing by moving in an up-and-down direction on the stage 1 based on the control signal from the CPU 16. Therefore, the influence of dust being the cause of the deterioration of the focusing accuracy in the case of automatic focus detection by an image processor is eliminated.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、顕微鏡の如き光学
機器に適用される焦点調節装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a focus adjusting device applied to an optical instrument such as a microscope.

【0002】[0002]

【従来の技術】顕微鏡の自動焦点検出における合焦精度
を低下させる要因には、被写体に付着するゴミによる影
響、生物組織等の被写体を載せるスライドガラスやカバ
ーガラスの如きプレート部材に付着するゴミによる影
響、及び/又は、該プレート部材に照明を投光するコン
デンサレンズに付着するゴミによる影響が挙げられる。
2. Description of the Related Art Factors that reduce the focusing accuracy in automatic focus detection of a microscope include the influence of dust adhering to a subject and dust adhering to a plate member such as a slide glass or a cover glass on which a subject such as a biological tissue is placed. And / or the effects of dust adhering to a condenser lens that projects illumination onto the plate member.

【0003】このように被写体、プレート部材、及び/
又は、コンデンサレンズを典型例とする光学系にゴミの
如き付着物が存在すると、被写体像から数千〜数百μm
離れて付着物の画像が混入する。この付着物の画像は、
被写体像よりもコントラストが高くなる。このとき、自
動焦点動作を実行すると、被写体よりも付着物の方に焦
点が合ってしまい、被写体に対する合焦精度が低下する
という問題がある。
[0003] Thus, the subject, the plate member, and / or
Alternatively, if there is an attached matter such as dust in an optical system such as a condenser lens as a typical example, thousands to hundreds of μm
The image of the deposit is mixed away. The image of this deposit is
The contrast is higher than that of the subject image. At this time, if the automatic focusing operation is performed, the attached matter is focused more on the object than on the subject, and there is a problem that the focusing accuracy for the subject is reduced.

【0004】かかる問題は、使用するプレート部材との
関係で一層顕著となる。すなわち、プレート部材におい
て、JIS規格に従うようなスタンダードなスライドガ
ラスは、厚さ1.0(−0.1〜+0.2)mmであ
り、同じくカバーガラスは厚さ0.17(−0.02〜
+0.01)mmである。しかし、顕微鏡に使用される
プレート部材は、必ずしもスタンダードなスライドガラ
ス及びカバーガラスではなく、観察者の所望又は被写体
の性質等により、スタンダードなスライドガラス及びカ
バーガラスと異なる厚さのスライドガラス及びカバーガ
ラスを使用する場合がある。
[0004] Such a problem becomes more prominent in relation to the plate member used. That is, in the plate member, the standard slide glass conforming to the JIS standard has a thickness of 1.0 (−0.1 to +0.2) mm, and the cover glass has a thickness of 0.17 (−0.02 mm). ~
+0.01) mm. However, the plate member used for the microscope is not necessarily a standard slide glass and cover glass, but a slide glass and cover glass having a thickness different from that of the standard slide glass and cover glass depending on the wishes of the observer or the properties of the subject. May be used.

【0005】一方、ステージに載置されたスライドガラ
スの上面位置(基準合焦位置)と、対物レンズのレボル
バへの取付位置との間の距離は、一般に一定値に定まっ
ている。この一定値は、一般に、基準焦点距離:45.
0mmである。この場合、厚さ1.0mmのスタンダー
ドなスライドガラスであれば、ステージ上面位置と対物
レンズのレボルバへの取付位置との間の距離は46.0
(45.0+1.0)mmとなる。
On the other hand, the distance between the upper surface position (reference focusing position) of the slide glass placed on the stage and the mounting position of the objective lens on the revolver is generally fixed. This constant value generally corresponds to the reference focal length: 45.
0 mm. In this case, with a standard slide glass having a thickness of 1.0 mm, the distance between the upper surface position of the stage and the mounting position of the objective lens on the revolver is 46.0.
(45.0 + 1.0) mm.

【0006】しかし、ステージ上面位置と対物レンズの
レボルバへの取付け位置との間の距離46.0(45.
0+1.0)mmのままで、スタンダードなスライドガ
ラス及びカバーガラスと異なる厚さのスライドガラス及
びカバーガラスを使用した場合は、スライドガラスの上
面位置(基準合焦位置)と対物レンズのレボルバへの取
付位置との間の距離は、45.0mmの基準焦点距離か
らずれた値となる。このため、スタンダードなスライド
ガラス及びカバーガラスと異なる厚さのスライドガラス
及びカバーガラスを使用した場合に自動焦点動作を開始
すると、被写体に対する合焦精度が低下することがあ
る。なんとなれば、自動焦点動作は、一定値である基準
焦点距離に基づいているからである。しかも、上述した
ようにスライドガラスの如きプレート部材に付着物が存
在すると、付着物に合焦するというような、被写体に対
する合焦精度が著しく低下するという問題がある。
However, the distance between the upper surface of the stage and the mounting position of the objective lens on the revolver is 46.0 (45.
When the slide glass and cover glass having a thickness different from that of the standard slide glass and cover glass are used as they are at 0 + 1.0) mm, the upper surface position (reference focusing position) of the slide glass and the objective lens with respect to the revolver are used. The distance from the mounting position is a value shifted from the reference focal length of 45.0 mm. For this reason, when the automatic focusing operation is started when a slide glass and a cover glass having different thicknesses from the standard slide glass and the cover glass are used, the focusing accuracy for the subject may be reduced. This is because the automatic focusing operation is based on the reference focal length, which is a constant value. In addition, as described above, if an adhering substance is present on a plate member such as a slide glass, there is a problem that focusing accuracy on a subject, such as focusing on the adhering substance, is significantly reduced.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】かかる問題を解決する
ための先行技術として、ビデオカメラや電子スチルカメ
ラに適用する付着物の無い所を選択するようなエリア分
割式測距システム等がある。
As a prior art for solving such a problem, there is an area division type distance measuring system for selecting a place where there is no deposit applied to a video camera or an electronic still camera.

【0008】しかし、かかる技術は、制御及び画像処理
が複雑となり、顕微鏡への適用にはコスト上昇を招く。
そこで本発明の目的は、異なる厚さのプレート部材を用
いた場合や光学系に付着物が存在した場合であっても、
これらの影響を受けずに高精度に合焦調整できる実用的
な、光学機器に適用される焦点調節装置を提供すること
にある。
However, such a technique requires complicated control and image processing, and causes an increase in cost when applied to a microscope.
Therefore, an object of the present invention is to use a plate member having a different thickness or a case where there is a deposit on an optical system.
It is an object of the present invention to provide a practical focus adjustment device applicable to optical instruments, which can perform focus adjustment with high accuracy without being affected by these effects.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】請求項1に係る発明は、
対物レンズと、被写体が載せられる測定に供するプレー
ト部材を載置するステージと、前記測定に供するプレー
ト部材の厚さを付与する付与手段と、この付与手段で付
与された前記測定に供せられるプレート部材の厚さに基
づいて前記対物レンズと前記ステージとの距離情報を決
定する決定手段と、この決定手段で決定された前記対物
レンズと前記ステージとの間の距離情報に基づいて前記
対物レンズと前記ステージとの間の距離を調節する焦準
手段とを具備することを特徴とする光学器機に適用され
る焦点調節装置、である。
The invention according to claim 1 is
An objective lens, a stage on which a plate member to be used for measurement on which a subject is placed, a providing unit for providing a thickness of the plate member to be used for the measurement, and a plate provided for the measurement provided by the providing unit Determining means for determining distance information between the objective lens and the stage based on a thickness of a member; and the objective lens based on distance information between the objective lens and the stage determined by the determining means. A focusing device for adjusting the distance to the stage, the focusing device being applied to an optical device.

【0010】請求項2に係る発明は、請求項1における
前記決定手段が、前記対物レンズの雰囲気温度を検出し
該温度検出温度と前記付与手段で付与された前記測定に
供せられるプレート部材の厚さとに基づいて前記対物レ
ンズと前記ステージとの距離情報を決定する手段を具備
することを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect, the determining means detects an ambient temperature of the objective lens, and the temperature of the plate member used for the measurement provided by the providing means is determined by the detected temperature. The apparatus further comprises means for determining distance information between the objective lens and the stage based on the thickness.

【0011】請求項3に係る発明は、請求項1又は2に
おける前記決定手段が、前記付与手段で付与された前記
測定に供せられるプレート部材の厚さに基づいて前記被
写体をサーチする範囲を決定し、該決定されたサーチ範
囲に基づき前記対物レンズと前記ステージとの距離情報
を決定する手段を具備することを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, in the first or second aspect, the determining means determines a range in which the object is searched based on the thickness of the plate member provided for the measurement provided by the providing means. Means for determining the distance between the objective lens and the stage based on the determined search range.

【0012】かかる請求項1記載の発明によれば、スラ
イドガラスやカバーガラスの如きプレート部材の厚さに
基づいて前記対物レンズと前記ステージとの距離情報を
決定するようにしているので、プレート部材の厚さ又は
当該プレート部材に付着したごみの影響を受けず、安価
且つ小型にして高精度の合焦調整が実現される、光学器
機に適用される焦点調節装置を提供できる。
According to the first aspect of the present invention, the distance information between the objective lens and the stage is determined based on the thickness of a plate member such as a slide glass or a cover glass. A focus adjustment device applied to an optical device, which is not affected by the thickness of the plate member or dust attached to the plate member, is inexpensive, is small, and realizes highly accurate focusing adjustment.

【0013】かかる請求項2記載の発明によれば、スラ
イドガラスやカバーガラスの如きプレート部材の厚さと
前記温度検出手段で検出された前記対物レンズの雰囲気
温度とに基づいて前記対物レンズと前記ステージとの距
離情報を決定するようにしているので、プレート部材の
厚さ又は当該プレート部材に付着したごみの影響を受け
ず、安価且つ小型にして高精度の合焦調整が実現され
る、光学器機に適用される焦点調節装置を提供できる。
According to the second aspect of the present invention, the objective lens and the stage are based on the thickness of a plate member such as a slide glass or a cover glass and the ambient temperature of the objective lens detected by the temperature detecting means. Optical device that is not affected by the thickness of the plate member or dust attached to the plate member, is inexpensive, small, and achieves high-precision focusing adjustment. Can be provided.

【0014】かかる請求項3記載の発明によれば、高倍
の対物レンズは非常に僅かな被写体深度しか有さないた
めスライドガラスの厚さによって合焦位置を決定させる
ことは困難であるが、スライドガラスの厚さによりフォ
ーカシングゾーンを決定させ、画像処理装置による自動
焦点検出を行えば非常に高速で高精度の焦点検出が行え
る。
According to the third aspect of the present invention, since the high-magnification objective lens has only a very small depth of field, it is difficult to determine the focusing position by the thickness of the slide glass. If the focusing zone is determined based on the thickness of the glass and automatic focus detection is performed by the image processing device, very high-speed and high-precision focus detection can be performed.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】本発明は、スライドガラスやカバ
ーガラスからなるプレート部材を使用し、スライドガラ
ス上に生物組織等の被写体が載れ、その上にカバーガラ
スが被せられて標本が構成され、該標本を観察する顕微
鏡である。かかる顕微鏡は、前記プレート部材を載置す
るステージと、このステージに光学的に設けられた観察
光学系と、前記ステージに光学的に設けられた照明光学
系と、前記測定に供するプレート部材の厚さを設定する
設定部と、この設定部で設定された前記測定に供せられ
るプレート部材の厚さに基づいて前記観察光学系の対物
レンズと前記ステージとの距離情報を決定する決定部
と、及びこの決定部で決定された前記対物レンズと前記
ステージとの間の距離情報に基づいて前記対物レンズと
前記ステージとの間の距離を調節する焦準部とを具備す
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention uses a plate member made of a slide glass or a cover glass. An object such as a biological tissue is placed on the slide glass, and a cover glass is put on the subject to form a specimen. , A microscope for observing the specimen. Such a microscope includes a stage on which the plate member is mounted, an observation optical system optically provided on the stage, an illumination optical system optically provided on the stage, and a thickness of the plate member used for the measurement. A setting unit that sets the distance, a determining unit that determines distance information between the objective lens and the stage of the observation optical system based on the thickness of the plate member that is provided for the measurement set in the setting unit, And a focusing unit that adjusts the distance between the objective lens and the stage based on the information on the distance between the objective lens and the stage determined by the determination unit.

【0016】以下図面を参照して本発明の第1実施形態
に係る光学機器として顕微鏡及びそれに適用される自動
焦点検出装置を、その機能及び構成を示す図1を参照し
て説明する。
A microscope as an optical apparatus according to a first embodiment of the present invention and an automatic focus detecting device applied thereto will be described below with reference to the drawings with reference to FIG.

【0017】顕微鏡の光学系は観察光学系及び照明光学
系を含み、本実施形態の顕微鏡は透過型照明光学系を有
する。図1に示すように、光軸に沿って上下方向へ移動
可能なステージ1上に載置したスライドガラス2、被写
体4、及びカバーガラス5で構成された標本Sを照明す
る落射検鏡のための落射光源6と、透過検鏡のための透
過光源6′とを含む。落射光源6からの落射照明光は、
コレクタレンズ7を通り、ハーフミラー8で標本S側に
反射され、被写体4の厚さよりも大きい焦点深度をもつ
対物レンズ3を通って標本Sに入射する。また、透過光
源6′からの透過照明光は、コレクタレンズ7′を通
り、ステージ1の下方に設置したミラー9で標本S側に
反射され、コンデンサレンズ10を介してステージ1の
光路用開口部を通った後に標本Sを下から照明する。
The optical system of the microscope includes an observation optical system and an illumination optical system, and the microscope of the present embodiment has a transmission illumination optical system. As shown in FIG. 1, for an epi-illumination microscope that illuminates a specimen S composed of a slide glass 2, a subject 4, and a cover glass 5 placed on a stage 1 that can move up and down along the optical axis. And a transmission light source 6 'for a transmission microscope. The incident illumination light from the incident light source 6 is
The light passes through the collector lens 7, is reflected by the half mirror 8 toward the sample S, and enters the sample S through the objective lens 3 having a focal depth larger than the thickness of the subject 4. The transmitted illumination light from the transmitted light source 6 ′ passes through the collector lens 7 ′, is reflected toward the specimen S by the mirror 9 installed below the stage 1, and passes through the condenser lens 10 for the optical path opening of the stage 1. After passing through, the specimen S is illuminated from below.

【0018】上記いずれかの光源6,6′によって得ら
れる標本Sからの光束は、観察光学系を構成する対物レ
ンズ3、ハーフミラー8を通過してプリズム11に入射
し、接眼レンズ12まで導かれる。また、上記光路から
プリズム11を対比させていた場合、ハーフミラー8を
通過した光束はシャッタ13を通ってフィルム面14に
入射する。
A light beam from the sample S obtained by any one of the light sources 6 and 6 'passes through the objective lens 3 and the half mirror 8 constituting the observation optical system, enters the prism 11, and is guided to the eyepiece 12. I will When the prism 11 is contrasted from the optical path, the light beam passing through the half mirror 8 passes through the shutter 13 and enters the film surface 14.

【0019】さらに、自動合焦動作のスタート/ストッ
プ等の制御や検鏡者による上記スライドガラス2の厚さ
の入力、対物レンズ3の倍率等を指定するために外部コ
ントローラ15が備えられる。CPU16は、外部コン
トローラ15で入力したスライドガラス2の厚さに基づ
き、標本Sを光学系の合焦位置に移動させるべくステー
ジ1の移動量及び移動方向を算出し、それを制御信号と
して駆動回路17に与える。駆動回路17は、このCP
U16からの制御信号に基づいてステージ1を上下方向
に移動させることで合焦調節を行なう。
Further, an external controller 15 is provided for controlling the start / stop of the automatic focusing operation, inputting the thickness of the slide glass 2 by the examiner, and specifying the magnification of the objective lens 3 and the like. The CPU 16 calculates the amount and direction of movement of the stage 1 to move the sample S to the focus position of the optical system based on the thickness of the slide glass 2 input by the external controller 15, and uses the calculated amount as a control signal as a drive circuit. Give 17 The driving circuit 17 uses the CP
Focus adjustment is performed by moving the stage 1 up and down based on a control signal from U16.

【0020】次いで上記実施形態の動作について説明す
る。図2は図1の特に標本S近傍の構成を詳述するもの
で、上下方向に移動可能なステージ1上に、カバーガラ
ス5、被写体4、及びスライドガラス2で構成された標
本Sが載置されている。ここで、スライドガラス2の厚
さをts 、後述する基準スライドガラス2Aの厚さをt
とし、対物レンズ3の焦点位置が対物レンズ3の胴付け
面BFから一定距離、例えば45.0mmの位置にあるもの
とし、この焦点位置を該基準スライドガラス2A上面で
の基準合焦位置BPとする。
Next, the operation of the above embodiment will be described. FIG. 2 details the configuration in particular of the vicinity of the sample S in FIG. 1. The sample S composed of the cover glass 5, the subject 4, and the slide glass 2 is placed on the stage 1 that can move in the vertical direction. Have been. Here, the thickness of the slide glass 2 is ts, and the thickness of a reference slide glass 2A described later is ts.
It is assumed that the focal position of the objective lens 3 is at a fixed distance from the body mounting surface BF of the objective lens 3, for example, at a position of 45.0 mm, and this focal position is a reference focus position BP on the upper surface of the reference slide glass 2A. .

【0021】標本Sのスライドガラス2の上面に合焦さ
せるためには、図中の上方向をプラスとすれば、基準合
焦位置BPより、式 Δt=t−ts …(1) から、Δt分だけステージ1を移動させればよいことと
なる。
In order to focus on the upper surface of the slide glass 2 of the sample S, assuming that the upward direction in the drawing is plus, from the reference focusing position BP, Δt = t−ts (1) That is, it is only necessary to move the stage 1 by the amount.

【0022】従って、基準スライドガラスの厚さtが予
めCPU16に入力されていれば、検鏡者は外部コント
ローラ15によりスライドガラス2の厚さts を入力す
るのみで、CPU16により上記(1)式からΔtを算
出させることができる。CPU16がその符号及び絶対
値を移動方向及び移動量とする制御信号を駆動回路17
に送出し、ステージ1を移動させ、正確に合焦させるこ
とができることになる。
Accordingly, if the thickness t of the reference slide glass has been input to the CPU 16 in advance, the speculum operator only needs to input the thickness ts of the slide glass 2 by the external controller 15, and the CPU 16 uses the above equation (1). Can be calculated from Δt. The CPU 16 outputs a control signal using the sign and the absolute value as the moving direction and the moving amount to the driving circuit 17.
And the stage 1 can be moved to achieve accurate focusing.

【0023】上述した如く、対物レンズ3の倍率が比較
的低くてその焦点深度が深い場合、すなわちスライドガ
ラス2の厚さの誤差や標本Sの厚さが対物レンズ3の焦
点深度よりも小さい場合に特に有効に機能するもので、
スライドガラス2の表面の合焦させることにより標本S
も対物レンズ3の焦点深度内に入るので、ピントが正確
にあった観察像を得ることができる。
As described above, when the magnification of the objective lens 3 is relatively low and the depth of focus is deep, that is, when the thickness error of the slide glass 2 or the thickness of the sample S is smaller than the depth of focus of the objective lens 3. Works especially well for
The specimen S is obtained by focusing the surface of the slide glass 2.
Also falls within the depth of focus of the objective lens 3, so that an observation image with accurate focus can be obtained.

【0024】このように、本実施形態においては、画像
処理等を行なわないため、カバーガラス5やスライドガ
ラス2にごみが付着していたとしてもなんら影響を受け
ず、安価で小型ながら高精度の合焦を行なえる。
As described above, in the present embodiment, since no image processing or the like is performed, even if dust adheres to the cover glass 5 or the slide glass 2, it is not affected at all, and it is inexpensive, small, and highly accurate. Focusing is possible.

【0025】次に本発明の第2実施形態を図3を参照し
て説明する。本実施形態も図1と同様に透過型照明光学
系を有する顕微鏡である。図3においては図1と同一部
分には同一符号を付してその説明は省略する。図3にお
いて、対物レンズ3の雰囲気温度を検出する温度計18
を配置し、この温度計18で検出した温度データを上記
CPU16に送信するようにしている。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. This embodiment is also a microscope having a transmission type illumination optical system as in FIG. 3, the same parts as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted. In FIG. 3, a thermometer 18 for detecting an ambient temperature of the objective lens 3 is provided.
Are arranged, and the temperature data detected by the thermometer 18 is transmitted to the CPU 16.

【0026】このような構成にあって、主としてCPU
16による制御動作は以下に示すようになる。即ち、図
4は対物レンズ3の雰囲気温度に対応した対物レンズ3
の胴付け面BFから標本焦点位置までの距離の変化特性
を示すもので、この特性図から不雰囲気温度による基準
合焦位置との差Δttempが、次式 Δttemp=R×temp …(2) 但し、R:温度係数、 temp:温度℃ により求められる。
In such a configuration, the CPU
The control operation by 16 is as follows. That is, FIG. 4 shows the objective lens 3 corresponding to the ambient temperature of the objective lens 3.
This figure shows the change characteristic of the distance from the body mounting surface BF to the sample focal position. From this characteristic diagram, the difference Δt temp from the reference focus position due to the non-ambient temperature is represented by the following expression: Δt temp = R × temp (2) ) Where R: temperature coefficient, temp: temperature ° C.

【0027】CPU16では、温度計18からの温度デ
ータと外部コントローラ15から入力されたスライドガ
ラス2の厚さts により、演算 Δt=t−ts −Δttemp …(3) を行ない、算出した結果からステージ1の移動方向及び
移動量を決定して制御信号を駆動回路17に送信し、ス
テージ1を移動させるものである。
The CPU 16 performs an operation Δt = t−ts−Δt temp (3) on the basis of the temperature data from the thermometer 18 and the thickness ts of the slide glass 2 input from the external controller 15, and from the calculated result, The moving direction and the moving amount of the stage 1 are determined, a control signal is transmitted to the drive circuit 17, and the stage 1 is moved.

【0028】このように、対物レンズ3の雰囲気温度を
検出することで対物レンズ3の胴付け面BFから標本焦
点位置に至る間の距離を補正するため、第1実施形態の
場合に比して、より合焦精度を高いものとすることがで
きる。
As described above, since the distance from the body mounting surface BF of the objective lens 3 to the sample focal position is corrected by detecting the ambient temperature of the objective lens 3, compared with the case of the first embodiment. The focusing accuracy can be made higher.

【0029】次に本発明の第3実施形態を図5を参照し
て説明する。本実施形態も図1,図3と同様に透過型照
明光学系を有する顕微鏡である。図5においては図1と
同一部分には同一符号を付してその説明は省略する。図
5において、ステージ1上に載置された標本Sを構成す
るスライドガラス2の厚さを検出するスライドガラス厚
さ検出計19を配置し、このスライドガラス厚さ検出計
19で検出したスライドガラス2の厚さデータを上記C
PU16に送信するようにしている。このスライドガラ
ス厚さ検出計19は、ステージ1上に載置されたスライ
ドガラス2の厚さを実測する又は予めスライドガラス2
の上端部等に付記されている厚さを表わすバーコードを
読取ることでスライドガラス2の厚さts を検出し、C
PU16に送信する。
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. This embodiment is also a microscope having a transmission-type illumination optical system as in FIGS. 5, the same parts as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted. In FIG. 5, a slide glass thickness detector 19 for detecting the thickness of the slide glass 2 constituting the specimen S mounted on the stage 1 is arranged, and the slide glass detected by the slide glass thickness detector 19 is provided. 2 thickness data
The data is transmitted to the PU 16. The slide glass thickness detector 19 measures the thickness of the slide glass 2 placed on the stage 1 or previously measures the thickness of the slide glass 2.
The thickness ts of the slide glass 2 is detected by reading the bar code indicating the thickness attached to the upper end of the
Send to PU16.

【0030】CPU16が、このスライドガラス厚さ検
出計19からの厚さts と予めで設定されている基準ス
ライドガラス2Aの厚さtとにより、上記(1)式を用
いてΔtを算出し、得た結果から制御信号を作成して駆
動回路17に送出することにより、駆動回路17にステ
ージ1を移動させ、正確に合焦できる。
The CPU 16 calculates Δt from the thickness ts from the slide glass thickness detector 19 and the thickness t of the reference slide glass 2A set in advance by using the above equation (1). By generating a control signal from the obtained result and sending it to the drive circuit 17, the stage 1 can be moved to the drive circuit 17 and accurate focusing can be achieved.

【0031】このように本実施形態の合焦調節では、第
2実施形態と同様に画像処理等を行なわないため、カバ
ーガラス5やスライドガラス2にごみが付着していたと
してもなんら影響を受けず、安価で小型ながら合焦精度
の高いものとすることができると共に、スライドガラス
2の厚さを検鏡者が外部コントローラ15より入力する
手間を省くことができるため、検鏡者の負担を低減し
た、より取扱いが容易で作業性に優れている。
As described above, in the focus adjustment of this embodiment, since image processing and the like are not performed as in the second embodiment, even if dust adheres to the cover glass 5 or the slide glass 2, there is no influence. In addition, it is possible to provide a high-precision focusing device while being inexpensive and small, and it is possible to eliminate the trouble of the speculative person inputting the thickness of the slide glass 2 from the external controller 15. Reduced, easier to handle and excellent in workability.

【0032】次に本発明の第4実施形態を図6を参照し
て説明する。本実施形態も図1,図3,図5と同様に透
過型照明光学系を有する顕微鏡である。図6においては
図1と同一部分には同一符号を付してその説明は省略す
る。本実施形態は第2実施形態と第3実施形態の構成を
組合わせた実施形態である。図6に示すように、対物レ
ンズ3の雰囲気温度を検出することで対物レンズ3の胴
付け面BFから標本焦点位置に至る間の距離を補正し、
より合焦精度を高いものとしながら、且つスライドガラ
ス2の厚さを検鏡者が外部コントローラ15より入力す
る手間を省き、検鏡者の負担を低減した、より取扱いが
容易で作業性に優れたものとすることも可能である。
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. This embodiment is also a microscope having a transmissive illumination optical system as in FIGS. 1, 3, and 5. 6, the same parts as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted. This embodiment is an embodiment in which the configurations of the second embodiment and the third embodiment are combined. As shown in FIG. 6, by detecting the ambient temperature of the objective lens 3, the distance from the body mounting surface BF of the objective lens 3 to the sample focal position is corrected,
It is possible to reduce the burden on the examiner by reducing the burden on the observer by inputting the thickness of the slide glass 2 from the external controller 15 while improving the focusing accuracy, and is easier to handle and excellent in workability. It is also possible to make it.

【0033】なお、第1実施形態〜第4実施形態では、
いずれもCPU16からの制御信号に基づいた駆動回路
17の駆動によりステージ1の上下位置方向を移動させ
て、対物レンズ3とステージ1との相対距離を変化させ
るような構成としたが、これに限ることなく、対物レン
ズ3の側を移動させるような構成としてもよい。
In the first to fourth embodiments,
In any case, the vertical position of the stage 1 is moved by driving the drive circuit 17 based on a control signal from the CPU 16 to change the relative distance between the objective lens 3 and the stage 1, but this is not restrictive. Alternatively, the configuration may be such that the side of the objective lens 3 is moved.

【0034】次に本発明の第5実施形態を図1と部分に
は同一符号を付した図7を参照して説明する。本実施形
態は、CPU16、駆動回路17、スライドガラスの厚
さを検出する厚さ検出部20、さらに、自動合焦動作の
スタート/ストップ等の制御や検鏡者が対物レンズの倍
率等を指定する外部コントローラ15を備えている。ス
ライドガラス2の厚さを検出する厚さ検出部20はステ
ージ1上の、スライドガラス2を保持するためのクレン
メルに設けられている。この厚さ検出部20から出力さ
れるスライドガラス2の厚さtはCPU16へ入力さ
れ、CPU16は厚さtと外部コントローラ15から入
力される対物レンズ3の倍率データを基に、前記ステー
ジ1の移動量、及び移動方向の信号を算出し、駆動回路
17に送信する。駆動回路17はCPU15からの信号
に基づいて、ステージ1を上下させ、合焦調整を行う。
Next, a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In the present embodiment, the CPU 16, the drive circuit 17, the thickness detection unit 20 for detecting the thickness of the slide glass, the control of start / stop of the automatic focusing operation, etc., and the spectator specify the magnification of the objective lens, etc. An external controller 15 is provided. A thickness detection unit 20 for detecting the thickness of the slide glass 2 is provided on the stage 1 in Kremmel for holding the slide glass 2. The thickness t of the slide glass 2 output from the thickness detection unit 20 is input to the CPU 16, and the CPU 16 determines the position of the stage 1 based on the thickness t and the magnification data of the objective lens 3 input from the external controller 15. The movement amount and movement direction signals are calculated and transmitted to the drive circuit 17. The drive circuit 17 raises and lowers the stage 1 based on a signal from the CPU 15 and performs focus adjustment.

【0035】次にスライドガラス2の厚さを検出する厚
さ検出部20を内蔵したクレンメルの構成を、図8の
(a)(b)を参照して説明する。図8の(a)は本発
明のクレンメルの上面図、図8の(b)は本実施形態の
クレンメルの側面図である。
Next, the structure of the Kremmel having a built-in thickness detector 20 for detecting the thickness of the slide glass 2 will be described with reference to FIGS. FIG. 8A is a top view of the crememel of the present invention, and FIG. 8B is a side view of the crememel of the present embodiment.

【0036】図8に示すように、クレンメル本体部21
は、ステージ1のガイド1Aにビス21Aにより取付け
られている。ガイド1Aはステージ1に対し矢印方向に
スライドできるようになっている。クレンメル本体部2
1には、スライドガラス2を保持する保持金具22、ス
ライドガラス2を上から押さえ固定する押さえ金具2
3、回転式の可変抵抗器24、ベース21Bが設置され
ている。ベース21Bは、クレンメル本体部21上にビ
ス21Cにより取付けられている。回転式の可変抵抗器
24は、ベース21B上にビス24Aにより取付けられ
ている。またスライドガラス2を、ある一定の力で上か
ら押さえ込むトルクネジ25が、回転式の可変抵抗器2
4とギア26を介して接続している。このトルクネジ2
5は、ある一定の負荷によってスライドガラス2を上か
ら押さえ、それ以上の負荷で押さえ込むことは出来ない
ようになっている。なお、クレンメルの移動機構を省略
し、クレンメルを直接にストージ1に固定するようにし
ても良い。
As shown in FIG.
Are mounted on the guide 1A of the stage 1 by screws 21A. The guide 1A is slidable in the direction of the arrow with respect to the stage 1. Klemmer body 2
1 includes a holding metal fitting 22 for holding the slide glass 2 and a holding metal fitting 2 for holding down and fixing the slide glass 2 from above.
3. A rotary variable resistor 24 and a base 21B are provided. The base 21B is mounted on the Kremmel main body 21 with screws 21C. The rotary variable resistor 24 is mounted on a base 21B with a screw 24A. Further, a torque screw 25 for pressing down the slide glass 2 from above with a certain constant force is a rotary variable resistor 2.
4 and a gear 26. This torque screw 2
Reference numeral 5 is such that the slide glass 2 is pressed from above by a certain load, and cannot be pressed with a load higher than that. Note that the mechanism for moving the crememel may be omitted, and the crememel may be directly fixed to the storage 1.

【0037】被写体3、カバーガラス4とスライドガラ
ス2で構成された標本Sをステージ1上に載置し、保持
金具22、押さえ金具24にてスライドガラス2を固定
する。トルクネジ25の先端がスライドガラス2表面に
当たり、停止するまで回転させる。この時、可変抵抗器
24も回転しスライドガラス2の厚みによって抵抗値も
変化する。常に一定の圧力でスライドガラス2を押さえ
込むことによって、そのときの抵抗値rを検出するよう
にしているため精度の高い値を求めることが可能とな
る。
The sample S composed of the subject 3, the cover glass 4 and the slide glass 2 is placed on the stage 1, and the slide glass 2 is fixed with the holding metal 22 and the holding metal 24. The tip of the torque screw 25 hits the surface of the slide glass 2 and is rotated until it stops. At this time, the variable resistor 24 also rotates, and the resistance value changes according to the thickness of the slide glass 2. By always pressing down the slide glass 2 with a constant pressure, the resistance value r at that time is detected, so that a highly accurate value can be obtained.

【0038】次に、本実施形態の作用について説明す
る。外部コントローラ15より自動合焦動作の開始信号
がCPU16へ送られると、CPU16は可変抵抗器2
4の抵抗値rを読み取る。CPU16では抵抗値rをも
とに、スライドガラス2の厚さtを算出する。また外部
コントローラ15にはあらかじめ使用する対物レンズ3
の倍率データを入力しておく。
Next, the operation of the present embodiment will be described. When a start signal of the automatic focusing operation is sent from the external controller 15 to the CPU 16, the CPU 16
4 is read. The CPU 16 calculates the thickness t of the slide glass 2 based on the resistance value r. The external controller 15 has an objective lens 3 used in advance.
Enter the magnification data of.

【0039】まず、被写体3の厚さよりも大きな被写体
深度をもつ低倍の対物レンズ3がセットされている場合
について図8を参照して述べる。基準となるスライドガ
ラスの厚さをtとする(この基準スライドガラス27の
厚さtはあらかじめCPU16へ入力しておく)。対物
レンズ3の焦点位置は、対物レンズ胴付面より一定距離
lである。この位置を基準スライドガラス27上面での
基準合焦位置とする。
First, a case where a low-magnification objective lens 3 having a depth of a subject larger than the thickness of the subject 3 is set will be described with reference to FIG. It is assumed that the thickness of the reference slide glass is t (the thickness t of the reference slide glass 27 is input to the CPU 16 in advance). The focal position of the objective lens 3 is a fixed distance 1 from the surface of the objective lens body. This position is defined as a reference focus position on the upper surface of the reference slide glass 27.

【0040】標本のスライドガラス2の上面に合焦させ
るには、基準合焦位置より、 Δt=t−ts ステージ1を移動させれば良い。CPU16にてスライ
ドガラス2の厚さtが算出されると、Δtが求められ、
ステージ1の移動量、移動方向の信号が駆動回路17へ
送信される。その信号をもとにステージ1が合焦位置へ
移動を始める。よって、画像処理装置による自動焦点検
出の合焦精度の悪化の原因となるゴミの影響がなく、高
精度の焦点検出が行える。
[0040] focusing on the upper surface of the slide glass 2 of the specimen, from the reference focus position, it is sufficient to move the Δt = t-t s Stage 1. When the thickness t of the slide glass 2 is calculated by the CPU 16, Δt is obtained,
A signal of the moving amount and the moving direction of the stage 1 is transmitted to the drive circuit 17. The stage 1 starts moving to the in-focus position based on the signal. Therefore, there is no influence of dust which causes deterioration of the focusing accuracy of the automatic focus detection by the image processing apparatus, and high-accuracy focus detection can be performed.

【0041】また、対物レンズ3の胴付面から焦点位置
までの距離は一定であるので、厚さに応じたステージ位
置をCPU16のデータとして格納しておければ、基準
スライドガラスの厚さを外部コントローラ15に設定す
ることなく、ステージ1を合焦位置へ移動させることも
できる。
Since the distance from the body surface of the objective lens 3 to the focal position is constant, if the stage position corresponding to the thickness is stored as data of the CPU 16, the thickness of the reference slide glass can be reduced. The stage 1 can be moved to the in-focus position without setting the external controller 15.

【0042】高倍の対物レンズ3がセットされている場
合は、非常に僅かな被写体深度しか有さないため、スラ
イドガラス2の厚さによって合焦位置を決定させること
は困難である。しかし、スライドガラス2の厚さにより
対物レンズ3のフォーカシングゾーンを決定させること
が出来る。よって、スライドガラスの厚さtによっても
とめられるフォーカシングゾーン内で画像処理装置によ
る自動焦点検出を行えば非常に高速で高精度の焦点検出
を行なうことができる。
When the high-magnification objective lens 3 is set, it has a very small depth of field, and it is difficult to determine the focus position by the thickness of the slide glass 2. However, the focusing zone of the objective lens 3 can be determined by the thickness of the slide glass 2. Therefore, if the automatic focus detection is performed by the image processing device in the focusing zone determined by the thickness t of the slide glass, it is possible to perform the focus detection at a very high speed and with high accuracy.

【0043】次に本発明の第6実施形態を、図9の
(a)(b)Bを参照して説明する。本実施形態の顕微
鏡用の自動焦点検出装置の構成は第5実施形態と同様で
ある。図9(a)は本実施形態のクレンメルの上面図、
図9(b)は側面図である。図9に示すように、クレン
メル本体部21には、スライドガラス2を保持する保持
金具22、スライドガラスを上から押さえ固定する押さ
え金具23、スライドガラスをある一定の力で上から押
さえ込むトルクネジ25とが設けられている。
Next, a sixth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The configuration of the automatic focus detection device for a microscope according to the present embodiment is the same as that of the fifth embodiment. FIG. 9A is a top view of the crememel of the present embodiment,
FIG. 9B is a side view. As shown in FIG. 9, the Kremmel main body 21 includes a holding fitting 22 for holding the slide glass 2, a holding fitting 23 for holding the slide glass from above, and a torque screw 25 for holding the slide glass from above with a certain force. Is provided.

【0044】また、このトルクネジには円盤状に数十〜
数百マイクロの目盛りが刻まれたマイクロメータ28が
備えられており、それを読み取る読み取り装置29がク
レンメル本体部21に設置されている。このトルクネジ
24は、ある一定の負荷でスライドガラス2を上から押
さえ、それ以上の負荷では押さえ込むことはできないよ
うになっている。
The torque screw has a disk shape of several tens to
A micrometer 28 having a scale of several hundred micrometer is provided, and a reading device 29 for reading the micrometer 28 is installed in the Kremmel main body 21. The torque screw 24 presses the slide glass 2 from above with a certain load, and cannot press the slide glass 2 with a higher load.

【0045】まず、標本Sをセットさせない状態で、ト
クルネジ25をトルクネジ先端部がステージ上に当たり
停止するまで回転させる。この時のマイクロメータ28
の値を外部コントローラ15で読取り、基準位置とし
て、保存しておく。そして、被写体3、カバーガラス
4、スライドガラス2で構成された標本Sをステージ1
上に載置し、保持金具22、押さえ金具23にてスライ
ドガラス2を固定する。
First, in a state where the sample S is not set, the torque screw 25 is rotated until the tip of the torque screw hits the stage and stops. Micrometer 28 at this time
Is read by the external controller 15 and stored as a reference position. Then, the sample S composed of the subject 3, the cover glass 4, and the slide glass 2 is placed on the stage 1
The slide glass 2 is fixed on the slide glass 2 with the holding metal fitting 22 and the holding metal fitting 23.

【0046】トルクネジ25の先端がスライドガラス2
表面に当たり、停止するまで回転させる。この時、目盛
りが刻まれたマイクロメータ28も回転する。常に一定
の圧力でスライドガラス2を押さえ込むことによって、
そのときの目盛りを検出するため、精度の高い値を求め
ることができる。
The tip of the torque screw 25 is the slide glass 2
Rotate until it hits the surface and stops. At this time, the micrometer 28 with the scale is also rotated. By holding down the slide glass 2 with a constant pressure,
Since the scale at that time is detected, a highly accurate value can be obtained.

【0047】次いで、外部コントローラ15より自動合
焦動作の開始信号がCPU16へ送られると、CPU1
6は基準位置から移動した目盛りを読み取り装置29か
ら読み込み、スライドガラス2の厚さを検出する。その
厚さをもとにCPU16はステージ1の移動量移動方向
を算出し、信号を駆動回路17に送信する。その結果、
ステージ1が合焦位置へ移動を始める。
Next, when a start signal of the automatic focusing operation is sent to the CPU 16 from the external controller 15, the CPU 1
Reference numeral 6 reads the scale moved from the reference position from the reading device 29, and detects the thickness of the slide glass 2. The CPU 16 calculates the direction of movement of the stage 1 based on the thickness, and transmits a signal to the drive circuit 17. as a result,
Stage 1 starts moving to the in-focus position.

【0048】これにより、第5実施形態と同様な効果が
得られる。次に、本発明の第7実施形態を、図10の
(a)(b)を参照して説明する。本実施形態の顕微鏡
用の自動焦点検出装置の構成は第5実施形態と同様であ
る。図10(a)は本実施形態のクレンメルの上面図、
図10(b)は側面図である。図10に示すように、ク
レンメル本体部30には、スライドガラスを上から押さ
え固定する押さえ金具23が備えてあり、またスライド
ガラス2の厚さをレーザ光を照射しその反射にて検出す
る変位センサ31が埋め込まれている。被写体3、カバ
ーガラス4とスライドガラス2で構成された標本Sをス
テージ1上に載置し、クレンメル本体部30の突き当た
り位置Aまで押し付ける。またこの時、押さえ金具23
にてスライドガラス2は固定されている。
Thus, the same effects as in the fifth embodiment can be obtained. Next, a seventh embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The configuration of the automatic focus detection device for a microscope according to the present embodiment is the same as that of the fifth embodiment. FIG. 10A is a top view of the crememel of the present embodiment,
FIG. 10B is a side view. As shown in FIG. 10, the Kremmel main body 30 is provided with a holding member 23 for holding down and fixing the slide glass from above. Sensor 31 is embedded. The specimen S composed of the subject 3, the cover glass 4 and the slide glass 2 is placed on the stage 1 and pressed to the abutment position A of the Kremmel main body 30. Also, at this time, the holding bracket 23
, The slide glass 2 is fixed.

【0049】外部コントローラ15より自動合焦動作の
開始信号がCPU16へ送られると、CPU16はクレ
ンメル本体部30に組込まれている変位センサ30より
検出されるスライドガラス2の厚さを読み取る。CPU
16はステージ1の移動量、移動方向を算出し、信号を
駆動回路17に送信する。その信号をもとにステージ1
が合焦位置へ移動を始める。これにより、第5実施形態
と同様な効果が得られる。
When a signal for starting the automatic focusing operation is sent from the external controller 15 to the CPU 16, the CPU 16 reads the thickness of the slide glass 2 detected by the displacement sensor 30 incorporated in the Kremmel main body 30. CPU
16 calculates the moving amount and moving direction of the stage 1 and sends a signal to the driving circuit 17. Stage 1 based on that signal
Starts moving to the in-focus position. Thereby, the same effect as in the fifth embodiment can be obtained.

【0050】[0050]

【発明の効果】以上詳記したように本発明によれば、ス
ライドガラスやカバーガラス等に付着したごみの影響を
排除し、安価で小型ながら合焦精度の高い、光学機器に
適用される焦点調節装置を提供できる。
As described above in detail, according to the present invention, the influence of dust adhering to a slide glass, a cover glass or the like is eliminated, and a focus which is inexpensive, compact and has high focusing accuracy and is applied to optical equipment. An adjustment device can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施形態に係る構成を示す図。FIG. 1 is a diagram showing a configuration according to a first embodiment of the present invention.

【図2】同実施形態に係る標本近傍の構成を詳述する
図。
FIG. 2 is a diagram detailing a configuration near a specimen according to the embodiment;

【図3】本発明の第2実施形態に係る構成を示す図。FIG. 3 is a diagram showing a configuration according to a second embodiment of the present invention.

【図4】同実施形態に係る対物レンズの雰囲気温度と対
物レンズ胴付け面から標本焦点位置間までの距離の関係
を示す図。
FIG. 4 is a view showing a relationship between an ambient temperature of the objective lens and a distance from a mounting surface of the objective lens to a position between a sample focal position according to the embodiment;

【図5】本発明の第3実施形態に係る構成を示す図。FIG. 5 is a diagram showing a configuration according to a third embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第2実施形態と第3実施形態を組み合
わせた第4実施形態の構成を示す図。
FIG. 6 is a diagram showing a configuration of a fourth embodiment in which the second embodiment and the third embodiment of the present invention are combined.

【図7】本発明の第5実施形態に係る構成を示す図。FIG. 7 is a diagram showing a configuration according to a fifth embodiment of the present invention.

【図8】本発明の第5実施形態に係るクレンメルの上面
図及び側面図。
FIG. 8 is a top view and a side view of a crememel according to a fifth embodiment of the present invention.

【図9】本発明の第6実施形態に係るクレンメルの上面
図及び側面図。
FIG. 9 is a top view and a side view of a crememel according to a sixth embodiment of the present invention.

【図10】本発明の第7実施形態に係るクレンメルの上
面図及び側面図。
FIG. 10 is a top view and a side view of a cleanmel according to a seventh embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…ステージ 2…スライドガラス 2A…基準スライドガラス 3…対物レンズ 4…被写体 5…カバーガラス 6…落射光源 6′…透過光源 7,7′…コレクタレンズ 8…ハーフミラー 9…ミラー 10…コンデンサレンズ 11…プリズム 12…接眼レンズ 13…シャッタ 14…フィルム面 15…外部コントローラ 16…CPU 17…駆動回路 18…温度計 19…スライドガラス厚さ検出計 20…厚さ検出部 21…クランメル本体部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Stage 2 ... Slide glass 2A ... Reference slide glass 3 ... Objective lens 4 ... Subject 5 ... Cover glass 6 ... Epi light source 6 '... Transmission light source 7, 7' ... Collector lens 8 ... Half mirror 9 ... Mirror 10 ... Condenser lens DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Prism 12 ... Eyepiece 13 ... Shutter 14 ... Film surface 15 ... External controller 16 ... CPU 17 ... Drive circuit 18 ... Thermometer 19 ... Slide glass thickness detector 20 ... Thickness detector 21 ... Crammel body

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐伯 由紀子 東京都渋谷区幡ヶ谷2丁目43番2号 オリ ンパス光学工業株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Yukiko Saeki 2-43-2 Hatagaya, Shibuya-ku, Tokyo Inside Olympus Optical Co., Ltd.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 対物レンズと、 被写体が載せられる測定に供するプレート部材を載置す
るステージと、 前記測定に供するプレート部材の厚さを付与する付与手
段と、 この付与手段で付与された前記測定に供せられるプレー
ト部材の厚さに基づいて前記対物レンズと前記ステージ
との距離情報を決定する決定手段と、 この決定手段で決定された前記対物レンズと前記ステー
ジとの間の距離情報に基づいて前記対物レンズと前記ス
テージとの間の距離を調節する焦準手段とを具備するこ
とを特徴とする光学器機に適用される焦点調節装置。
1. An objective lens, a stage on which a plate member to be used for measurement on which an object is placed is mounted, an application means for applying the thickness of the plate member to be used for the measurement, and the measurement provided by the application means Determining means for determining the distance information between the objective lens and the stage based on the thickness of the plate member provided for, and based on the distance information between the objective lens and the stage determined by the determining means. A focusing unit for adjusting a distance between the objective lens and the stage.
【請求項2】 前記決定手段は、前記対物レンズの雰囲
気温度を検出し該温度検出温度と前記付与手段で付与さ
れた前記測定に供せられるプレート部材の厚さとに基づ
いて前記対物レンズと前記ステージとの距離情報を決定
する手段を具備することを特徴とする請求項1に記載の
光学機器に適用される焦点調節装置。
2. The method according to claim 1, wherein the determining unit detects an ambient temperature of the objective lens, and determines the temperature of the objective lens based on the detected temperature and a thickness of a plate member provided for the measurement provided by the providing unit. The focus adjustment apparatus applied to an optical apparatus according to claim 1, further comprising a unit that determines information on a distance from the stage.
【請求項3】 前記決定手段は、前記付与手段で付与さ
れた前記測定に供せられるプレート部材の厚さに基づい
て前記被写体をサーチする範囲を決定し、該決定された
サーチ範囲に基づき前記対物レンズと前記ステージとの
距離情報を決定する手段を具備することを特徴とする請
求項1又は2に記載の光学機器に適用される焦点調節装
置。
3. The determining means determines a range for searching for the subject based on a thickness of a plate member provided for the measurement provided by the providing means, and determines the range based on the determined search range. 3. The focus adjustment device applied to an optical apparatus according to claim 1, further comprising a unit that determines information on a distance between an objective lens and the stage.
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