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JPH10273525A - Alkaline solution-soluble polymer - Google Patents

Alkaline solution-soluble polymer

Info

Publication number
JPH10273525A
JPH10273525A JP8119897A JP8119897A JPH10273525A JP H10273525 A JPH10273525 A JP H10273525A JP 8119897 A JP8119897 A JP 8119897A JP 8119897 A JP8119897 A JP 8119897A JP H10273525 A JPH10273525 A JP H10273525A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polymer
bis
acid
formula
dianhydride
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8119897A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shigeo Kawamura
繁生 河村
Shigeru Abe
慈 阿部
Hiroaki Nemoto
宏明 根本
Koji Kumano
厚司 熊野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JSR Corp
Original Assignee
JSR Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by JSR Corp filed Critical JSR Corp
Priority to JP8119897A priority Critical patent/JPH10273525A/en
Publication of JPH10273525A publication Critical patent/JPH10273525A/en
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a polymer soluble in an alkaline solution, by reacting a tetracarboxylic acid dianhydride and a diol and reacting a reaction mixture of these compounds and a compound selected from an alcohol, an amine and an acid anhydride which have at least one unsaturated bond. SOLUTION: One equivalent of a tetracarboxylic acid dianhydride represented by formula I, wherein R1 is a tetravalent organic group, such as 1,2,3,4- cyclobutanetetracarboxylic acid, and 0.5 to 1.5 equivalent of a diol represented by formula II, wherein R2 is a divalent organic group, such as 2,2-bis(4- hydroxycyclohexyl)propane, are heated and reacted in a solvent such as propylene glycol monomethyl ether acetate to produce a polymer represented by formula III, wherein R1 and R2 are as defined for formula I and II, respectively. Subsequently, into a reaction mixture containing the polymer, a compound selected from among an alcohol, an amine and an acid anhydride which have at least one unsaturated bond, such as 2-hydroxyethyl acrylate, 4-amino-4'- methoxystilbene and maleic anhydride, respectively, is added and reacted as a capturing agent, to provide a desired polymer.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、新規なカルボキシ
ル基含有のアルカリ可溶性重合体に関する。
The present invention relates to a novel alkali-soluble polymer containing a carboxyl group.

【0002】さらには、該重合体を含む感放射線性組成
物、同じく該重合体を含むカラー液晶表示装置やカラー
撮像管素子などに用いられるカラーフィルター用感放射
線性組成物、およびこれを用いたカラーフィルターにも
関連する。
Further, a radiation-sensitive composition containing the polymer, a radiation-sensitive composition for a color filter which is also used in a color liquid crystal display device or a color image pickup tube element, and the like, and a radiation-sensitive composition containing the polymer are used. Also related to color filters.

【0003】[0003]

【従来の技術】液晶表示素子や固体撮像素子をカラー化
する際には、一般に微細加工された着色画素で構成され
るカラーフィルターが用いられる。このようなカラーフ
ィルターを形成する各画素の着色剤としては、染料また
は顔料が用いられるが、特に近年、耐熱性、耐光性及び
耐薬品性に優れるという理由から、顔料を用いる方法が
主流になりつつある。
2. Description of the Related Art When colorizing a liquid crystal display device or a solid-state image pickup device, a color filter composed of finely processed colored pixels is generally used. As a colorant for each pixel forming such a color filter, a dye or a pigment is used. In particular, in recent years, a method using a pigment has become mainstream because of its excellent heat resistance, light resistance, and chemical resistance. It is getting.

【0004】また、カラーフィルターを製造する方法と
しては、フォトリソグラフィー法、印刷法、電着法等の
方法があるが、得られる製品の品質の点、及び、製造コ
ストの点等から、フォトリソグラフィー法が主流となっ
ている。
As a method of manufacturing a color filter, there are methods such as a photolithography method, a printing method, and an electrodeposition method. From the viewpoint of the quality of a product to be obtained and the manufacturing cost, a photolithography method is used. The law has become mainstream.

【0005】フォトリソグラフィー法では、感放射線性
の着色組成物を材料として使用するが、これは、一般
に、顔料と分散剤と溶媒とからなる顔料分散液に、バイ
ンダーポリマー、多官能モノマー、光重合開始剤等を添
加して調製したものである。使用されるバインダーポリ
マーとしては、顔料分散性、レジスト特性に優れたアク
リル系のポリマーが主に使用されている。また、多官能
モノマーとしては、室温で液体状である多官能アクリル
化合物が広く使用されている。
[0005] In the photolithography method, a radiation-sensitive colored composition is used as a material. Generally, a pigment dispersion comprising a pigment, a dispersant and a solvent is added to a binder polymer, a polyfunctional monomer, and a photopolymerizable polymer. It was prepared by adding an initiator and the like. As a binder polymer to be used, an acrylic polymer excellent in pigment dispersibility and resist properties is mainly used. As the polyfunctional monomer, a polyfunctional acrylic compound which is liquid at room temperature is widely used.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】最近、フォトリソグラ
フィー法によるカラーフィルターの製造において、更な
る製造コストの低減を目的として、露光時間の短縮化が
検討されている。しかしながら、従来の感放射線性着色
組成物を使用した場合、フォトリソグラフィー工程にお
ける露光量が少ないと、光架橋が十分に進まず、うまく
パターニングができなかったり、得られるカラーフィル
ターの硬度が不足するという問題点があった。
Recently, in the production of a color filter by a photolithography method, reduction of the exposure time has been studied for the purpose of further reducing the production cost. However, when a conventional radiation-sensitive colored composition is used, if the exposure amount in the photolithography step is small, photocrosslinking does not proceed sufficiently, patterning cannot be performed well, or the hardness of the obtained color filter is insufficient. There was a problem.

【0007】上記問題点に関しては、例えば、光重合成
分である多官能モノマーを増やす等の改良手法がとられ
る。しかしながら、あまり多く導入すると、露光前の膜
にタックが生じ、パターニングするためのフォトマスク
を汚すという問題が新たに生じる。
[0007] Regarding the above problems, for example, an improvement method such as increasing the number of polyfunctional monomers which are photopolymerizable components is taken. However, if too much is introduced, tackiness occurs in the film before exposure, which causes a new problem that the photomask for patterning is soiled.

【0008】一方、バインダーポリマーからの改良も試
みられてはいるが、現在使用されているアクリル系のポ
リマーは主鎖の骨格が柔らかいため、大幅な改良は望め
ず、ポリマー自身の硬度アップが望まれていた。
[0008] On the other hand, although an attempt has been made to improve the binder polymer, the acrylic polymer currently used has a soft main chain skeleton, so that no significant improvement can be expected, and an increase in the hardness of the polymer itself is desired. Was rare.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、新規な
カルボキシル基含有のアルカリ可溶性重合体を提供する
ことにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a novel alkali-soluble polymer containing a carboxyl group.

【0010】本発明の他の目的は、少ない露光量でも硬
度の高いカラーフィルターを製造することが可能な、感
放射線性着色組成物に含有することのできる新規なカル
ボキシル基含有のアルカリ可溶性重合体を提供すること
にある。
Another object of the present invention is to provide a novel alkali-soluble polymer containing a carboxyl group which can be contained in a radiation-sensitive coloring composition and which can produce a color filter having a high hardness even with a small exposure. Is to provide.

【0011】上記問題点につき、鋭意検討した結果、新
規なポリエステル系のカルボキシル基含有ポリマーをバ
インダーポリマーとして用いることで、少ない露光量で
も、パターニング特性が優れ、さらに、硬度の高いカラ
ーフィルターを得ることが可能となることを見いだし
た。
As a result of intensive studies on the above problems, it has been found that, by using a novel polyester-based carboxyl group-containing polymer as a binder polymer, a color filter having excellent patterning characteristics and high hardness can be obtained even with a small amount of exposure. Was found to be possible.

【0012】すなわち、本発明の第一の態様は、下記式
(1)
That is, the first aspect of the present invention is the following formula (1)

【0013】[0013]

【化5】 Embedded image

【0014】[式中、R1 は4価の有機基を示す。]で
表されるテトラカルボン酸二無水物と、下記式(2)
[In the formula, R 1 represents a tetravalent organic group. A tetracarboxylic dianhydride represented by the following formula (2):

【0015】[0015]

【化6】 Embedded image

【0016】[式中、R2 は2価の有機基を示す。]で
表されるジオールを、反応させることにより得られる、
カルボキシル基含有のアルカリ可溶性重合体(以下、
「特定重合体a.」と呼ぶ)の提供であり、第二の態様
は、上記式(1)で表されるテトラカルボン酸二無水物
と、上記式(2)で表されるジオールと、光重合可能な
不飽和結合を少なくとも1つ含有するアルコール、アミ
ン、または、酸無水物を、反応させることにより得られ
る、カルボキシル基含有のアルカリ可溶性重合体(以
下、「特定重合体b.」と呼ぶ)の提供である。
[In the formula, R 2 represents a divalent organic group. A diol represented by the following formula:
Carboxyl group-containing alkali-soluble polymer (hereinafter, referred to as
In the second embodiment, a tetracarboxylic dianhydride represented by the above formula (1), a diol represented by the above formula (2), A carboxyl group-containing alkali-soluble polymer (hereinafter, referred to as "specific polymer b.") Obtained by reacting an alcohol, amine, or acid anhydride containing at least one unsaturated bond capable of photopolymerization. Call).

【0017】これらの第一および第二の態様に関連し
て、上記式(2)が9.9−ビス(4−(2−ヒドロキ
シエトキシ)フェニル)フルオレンである特定重合体
a.または特定重合体b.に記載のカルボキシル基含有
のアルカリ可溶性重合体を提供すること、また、特定重
合体a.および/または特定重合体b.のアルカリ可溶
性重合体を含有する感放射線性組成物、同じく、特定重
合体a.および/または特定重合体b.のアルカリ可溶
性重合体と、着色剤と、多官能性モノマーと、光重合開
始剤と、溶剤とを含有するカラーフィルター用感放射線
性組成物を提供すること、さらに、該カラーフィルター
用感放射線性組成物を含むカラーフィルターを提供する
こと、も含まれる。
In connection with these first and second embodiments, the specific polymer a. Wherein the above formula (2) is 9.9-bis (4- (2-hydroxyethoxy) phenyl) fluorene a. Or a specific polymer b. To provide a carboxyl group-containing alkali-soluble polymer according to the above. And / or a specific polymer b. A radiation-sensitive composition containing the alkali-soluble polymer of the specific polymer a. And / or a specific polymer b. An alkali-soluble polymer, a colorant, a polyfunctional monomer, a photopolymerization initiator, and a solvent for providing a radiation-sensitive composition for a color filter. Providing a color filter comprising the composition is also included.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0019】(A)アルカリ可溶性重合体(バインダー
ポリマー) 「特定重合体a.」本発明に用いられる、特定重合体
a.は、テトラカルボン酸二無水物と、ジオール化合物
を反応させることで、容易に得ることができる。
(A) Alkali-soluble polymer (binder polymer) “Specific polymer a.” The specific polymer a. Can be easily obtained by reacting a tetracarboxylic dianhydride with a diol compound.

【0020】本発明の特定重合体a.は、実質的に、下
記一般式(3)
The specific polymer of the present invention a. Is substantially the following general formula (3)

【0021】[0021]

【化7】 Embedded image

【0022】[式中、R1 、R2 は、上記と同様]で表
される重合体である。
Wherein R 1 and R 2 are the same as described above.

【0023】かかる、テトラカルボン酸二無水物の具体
例としては、ブタンテトラカルボン酸二無水物、1,
2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、
1,3−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテト
ラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロペンタ
ンテトラカルボン酸二無水物、2,3,5−トリカルボ
キシシクロペンチル酢酸二無水物、3,5,6−トリカ
ルボキシノルボルナン−2−酢酸二無水物、2,3,
4,5−テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水
物、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフラル)−3
−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸
二無水物、ビシクロ[2,2,2]−オクト−7−エン
−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、3,4
−ジカルボキシ−1,2,3,4−テトラヒドロ−1−
ナフタレンコハク酸無水物、3,4−ジカルボキシ−
1,2,3,4−テトラヒドロ−6−メチル−1−ナフ
タレンコハク酸無水物、などの脂肪族酸二無水物;ピロ
メリット酸二無水物、3,3′,4,4′−ベンゾフェ
ノンテトラカルボン酸二無水物、3,3′,4,4′−
ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、1,
4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、
2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水
物、3,3′,4,4′−ビフェニルエーテルテトラカ
ルボン酸二無水物、3,3′,4,4′−ジメチルジフ
ェニルシランテトラカルボン酸二無水物、3,3′,
4,4′−テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無
水物、1,2,3,4−フランテトラカルボン酸二無水
物、4,4′−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキ
シ)ジフェニルスルフィド二無水物、4,4′−ビス
(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルホ
ン二無水物、4,4′−ビス(3,4−ジカルボキシフ
ェノキシ)ジフェニルプロパン二無水物、3,3′,
4,4′−パーフルオロイソプロピリデンジフタル酸二
無水物、3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボ
ン酸二無水物、ビス(フタル酸)フェニルホスフィンオ
キサイド二無水物、p−フェニレン−ビス(トリフェニ
ルフタル酸)二無水物、m−フェニレン−ビス(トリフ
ェニルフタル酸)二無水物、ビス(トリフェニルフタル
酸)−4,4′−ジフェニルエーテル二無水物、ビス
(トリフェニルフタル酸)−4,4′−ジフェニルメタ
ン二無水物などの芳香族テトラカルボン酸二無水物;式
(4)
Specific examples of such tetracarboxylic dianhydride include butanetetracarboxylic dianhydride, 1,
2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride,
1,3-dimethyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride Anhydride, 3,5,6-tricarboxynorbornane-2-acetic acid dianhydride, 2,3
4,5-tetrahydrofurantetracarboxylic dianhydride, 5- (2,5-dioxotetrahydrofural) -3
-Methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic dianhydride, bicyclo [2,2,2] -oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, 3,4
-Dicarboxy-1,2,3,4-tetrahydro-1-
Naphthalene succinic anhydride, 3,4-dicarboxy-
Aliphatic acid dianhydrides such as 1,2,3,4-tetrahydro-6-methyl-1-naphthalenesuccinic anhydride; pyromellitic dianhydride; 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetra Carboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-
Biphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, 1,
4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride,
2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-biphenylethertetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-dimethyldiphenylsilanetetracarboxylic Acid dianhydride, 3,3 ',
4,4'-tetraphenylsilanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-furantetracarboxylic dianhydride, 4,4'-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) diphenyl sulfide dianhydride 4,4'-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) diphenylsulfone dianhydride, 4,4'-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) diphenylpropane dianhydride, 3,3 ',
4,4'-perfluoroisopropylidene diphthalic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, bis (phthalic acid) phenylphosphine oxide dianhydride, p-phenylene- Bis (triphenylphthalic acid) dianhydride, m-phenylene-bis (triphenylphthalic acid) dianhydride, bis (triphenylphthalic acid) -4,4'-diphenyl ether dianhydride, bis (triphenylphthalic acid) ) Aromatic tetracarboxylic dianhydride such as -4,4'-diphenylmethane dianhydride; Formula (4)

【0024】[0024]

【化8】 Embedded image

【0025】および式(5)And equation (5)

【0026】[0026]

【化9】 Embedded image

【0027】で示される芳香環含有脂肪族テトラカルボ
ン酸二無水物;下記一般式(6)
An aromatic ring-containing aliphatic tetracarboxylic dianhydride represented by the following general formula (6):

【0028】[0028]

【化10】 Embedded image

【0029】[式中、R3 は2価の有機基を示す。];
シリコンを含有する式(7)
Wherein R 3 represents a divalent organic group. ];
Formula (7) containing silicon

【0030】[0030]

【化11】 Embedded image

【0031】で表される化合物;を挙げることができ
る。
Compounds represented by the following formulas:

【0032】これらのうちでは、1,2,3,4−シク
ロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,3−ジメチル
−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無
水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物、2,3,5−
トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、5−
(2,5−ジオキソテトラヒドロフラル)−3−メチル
−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸二無水
物、ビシクロ[2,2,2]−オクト−7−エン−2,
3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、3,4−ジカ
ルボキシ−1,2,3,4−テトラヒドロ−1−ナフタ
レンコハク酸無水物、3,4−ジカルボキシ−1,2,
3,4−テトラヒドロ−6−メチル−1−ナフタレンコ
ハク酸無水物、3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテ
トラカルボン酸二無水物、3,3′,4,4′−パーフ
ルオロイソプロピリデンジフタル酸二無水物、上記式
(4)で表される化合物、上記一般式(6)で示される
化合物のうち、式(8)〜式(11)
Among these, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,3-dimethyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, butanetetracarboxylic acid Dianhydride, 2,3,5-
Tricarboxycyclopentyl acetic acid dianhydride, 5-
(2,5-dioxotetrahydrofural) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic dianhydride, bicyclo [2,2,2] -oct-7-ene-2,
3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, 3,4-dicarboxy-1,2,3,4-tetrahydro-1-naphthalenesuccinic anhydride, 3,4-dicarboxy-1,2,2
3,4-tetrahydro-6-methyl-1-naphthalene succinic anhydride, 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-perfluoroisopropylate Of the didiphthalic anhydride, the compound represented by the formula (4) and the compound represented by the general formula (6), the compounds represented by the formulas (8) to (11)

【0033】[0033]

【化12】 Embedded image

【0034】[0034]

【化13】 Embedded image

【0035】[0035]

【化14】 Embedded image

【0036】[0036]

【化15】 Embedded image

【0037】[式中、Rは水素またはアルキル基を示
す。]で表される化合物、および式(7)で表される化
合物を好ましい例として挙げることができる。
Wherein R represents hydrogen or an alkyl group. ] And the compound represented by the formula (7) can be mentioned as preferred examples.

【0038】さらに好ましい例としては、得られる重合
体の溶剤に対する溶解性を考慮して、ブタンテトラカル
ボン酸二無水物、2,3,5−トリカルボキシシクロペ
ンチル酢酸二無水物、3,4−ジカルボキシ−1,2,
3,4−テトラヒドロ−1−ナフタレンコハク酸無水
物、3,4−ジカルボキシ−1,2,3,4−テトラヒ
ドロ−6−メチル−1−ナフタレンコハク酸無水物、
3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸
二無水物、3,3′,4,4′−パーフルオロイソプロ
ピリデンジフタル酸二無水物、1,2,3,4−シクロ
ブタンテトラカルボン酸、1,3−ジメチル−1,2,
3,4−シクロブタンテトラカルボン酸、上記式
(4)、式(8)、式(10)で表される化合物を挙げ
ることができる。
More preferred examples include butanetetracarboxylic acid dianhydride, 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride, 3,4-diamine in consideration of the solubility of the obtained polymer in a solvent. Carboxy-1,2,
3,4-tetrahydro-1-naphthalene succinic anhydride, 3,4-dicarboxy-1,2,3,4-tetrahydro-6-methyl-1-naphthalene succinic anhydride,
3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-perfluoroisopropylidene diphthalic dianhydride, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic acid Acid, 1,3-dimethyl-1,2,2
3,4-cyclobutanetetracarboxylic acid, and compounds represented by the above formulas (4), (8) and (10) can be mentioned.

【0039】なお、以上に示した化合物は1種単独でま
たは2種以上組み合わせて用いることが可能である。
The compounds shown above can be used alone or in combination of two or more.

【0040】ジオール化合物としては、通常のポリエス
テルや、ポリカーボネートの原料として使用される各種
ジオールが、本発明の特定重合体にも、特に制限なく適
用可能である。
As the diol compound, ordinary polyesters and various diols used as raw materials for polycarbonate can be applied to the specific polymer of the present invention without any particular limitation.

【0041】かかる、ジオール化合物としては、ヘキサ
ンジオール、オクタンジオール、3,3−ビス(ヒドロ
キシメチル)ヘプタン、などのアルキルジオール類;エ
チレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレ
ングリコール、などのアルキレングリコール類;ビス
(ヒドロキシメチル)トリシクロ〔5.2.1.0
2,6 〕デカン、2,2−ビス(4−ヒドロキシシクロヘ
キシル)プロパン、1,4−ビス(ヒドロキシメチル)
シクロヘキサン、3,9−ビス(1,1−ジメチル−2
−ヒドロキシエチル)−2,4,8,10−テトラオキ
サスピロ〔5,5〕ウンデカン、などの脂環族含有のジ
オール類;m−キシリレングリコール、p−キシリレン
グリコール、1,3−ビス(2−ヒドロキシエトキシ)
ベンゼン、1,4−ビス(2−ヒドロキシエトキシ)ベ
ンゼン、ビス〔4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニ
ル〕スルフォン、ビス〔4−(2−ヒドロキシエトキ
シ)−3,5−ブロモフェニル〕スルフォン、テレフタ
ル酸ビス(2−ヒドロキシエチル)エステル、テトラブ
ロモビスフェノールAビス(2−ヒドロキシエチル)エ
ステル、2,6−ビス(ヒドロキシメチル)−p−クレ
ゾール、2,6−ビス(ヒドロキシメチル)ピリジン、
9.9−ビス(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニ
ル)フルオレン、2,2−ビス〔4−(2−ヒドロキシ
エトキシ)フェニル〕ヘキサフルオロプロパン、4,5
−ビス(ヒドロキシメチル)イミダゾール、2,3−ビ
ス(ヒドロキシメチル)ナフタレン、などの芳香族含有
のジオール類;N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)
−2−アミノエタンスルホン酸、N,N−ビス(2−ヒ
ドロキシエチル)−3−アミノプロピオニトリル、N,
N−ビス(2−ヒドロキシエチル)アニリン、N,N−
ビス(2−ヒドロキシエチル)−3−クロロアニリン、
N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)ジスルフィド、
N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−n−ドデシル
アミン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)エチル
アミン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)グリシ
ン、N,N′−ビス(2−ヒドロキシエチル)オキサマ
イド、1,3−ビス〔1−(2−ヒドロキシエチル)−
4−ピペリジル〕プロパン、N,N−ビス(2−ヒドロ
キシエチル)−m−トルイジン、N,N−ビス(2−ヒ
ドロキシエチル)−p−トルイジン、N,N−ビス(2
−ヒドロキシプロピル)アニリンなどの3級アミン含有
のジオール類;下記一般式(12)
Examples of such diol compounds include alkyl diols such as hexane diol, octane diol, and 3,3-bis (hydroxymethyl) heptane; alkylene glycols such as ethylene glycol, triethylene glycol and propylene glycol; (Hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0
2,6 ] decane, 2,2-bis (4-hydroxycyclohexyl) propane, 1,4-bis (hydroxymethyl)
Cyclohexane, 3,9-bis (1,1-dimethyl-2
-Hydroxyethyl) -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane, and other alicyclic group-containing diols; m-xylylene glycol, p-xylylene glycol, 1,3-bis (2-hydroxyethoxy)
Benzene, 1,4-bis (2-hydroxyethoxy) benzene, bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3,5-bromophenyl] sulfone, terephthal Acid bis (2-hydroxyethyl) ester, tetrabromobisphenol A bis (2-hydroxyethyl) ester, 2,6-bis (hydroxymethyl) -p-cresol, 2,6-bis (hydroxymethyl) pyridine,
9.9-bis (4- (2-hydroxyethoxy) phenyl) fluorene, 2,2-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] hexafluoropropane, 4,5
Aromatic-containing diols such as -bis (hydroxymethyl) imidazole and 2,3-bis (hydroxymethyl) naphthalene; N, N-bis (2-hydroxyethyl)
-2-aminoethanesulfonic acid, N, N-bis (2-hydroxyethyl) -3-aminopropionitrile, N,
N-bis (2-hydroxyethyl) aniline, N, N-
Bis (2-hydroxyethyl) -3-chloroaniline,
N, N-bis (2-hydroxyethyl) disulfide,
N, N-bis (2-hydroxyethyl) -n-dodecylamine, N, N-bis (2-hydroxyethyl) ethylamine, N, N-bis (2-hydroxyethyl) glycine, N, N'-bis ( 2-hydroxyethyl) oxamide, 1,3-bis [1- (2-hydroxyethyl)-
4-piperidyl] propane, N, N-bis (2-hydroxyethyl) -m-toluidine, N, N-bis (2-hydroxyethyl) -p-toluidine, N, N-bis (2
Diols containing a tertiary amine such as -hydroxypropyl) aniline; the following general formula (12)

【0042】[0042]

【化16】 Embedded image

【0043】[Ra は2価の有機基、Rb は水素または
アルキル基を示す。]で表される2重結合を含有するジ
オール類;1,2−ビス(2−ヒドロキシエチルチオ)
エタン、1,3−ビス(ヒドロキシプロピル)テトラメ
チルシロキサン、2,2′−ビス(ヒドロキシメチル)
ジフェニルエーテル、3,6−ビス(ヒドロキシメチ
ル)ドュレン、2−(2,2−ジエトキシエチル)−
1,3−プロパンジオール、2,2−ビス(ヒドロキシ
メチル)プロピオン酸などを挙げることができる。
[ Ra represents a divalent organic group, and Rb represents hydrogen or an alkyl group. Diols containing a double bond represented by the formula: 1,2-bis (2-hydroxyethylthio)
Ethane, 1,3-bis (hydroxypropyl) tetramethylsiloxane, 2,2'-bis (hydroxymethyl)
Diphenyl ether, 3,6-bis (hydroxymethyl) durene, 2- (2,2-diethoxyethyl)-
Examples thereof include 1,3-propanediol and 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid.

【0044】これらのジオール化合物は、用途、状況に
応じて、適宜選択される。例えば、特定重合体の透明性
を向上させたい場合には、脂肪族、脂環族のジオールが
有効であり、特定重合体の耐熱性アップには、芳香族含
有ジオールが有効である。
These diol compounds are appropriately selected according to the use and the situation. For example, when it is desired to improve the transparency of the specific polymer, an aliphatic or alicyclic diol is effective, and for improving the heat resistance of the specific polymer, an aromatic-containing diol is effective.

【0045】本発明で使用されるジオールの好ましい例
としては、トリエチレングリコール、ビス(ヒドロキシ
メチル)トリシクロ〔5.2.1.02,6 〕デカン、
2,2−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)プロパ
ン、1,4−ビス(ヒドロキシメチル)シクロヘキサ
ン、3,9−ビス(1,1−ジメチル−2−ヒドロキシ
エチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ
〔5,5〕ウンデカン、m−キシリレングリコール、p
−キシリレングリコール、1,3−ビス(2−ヒドロキ
シエトキシ)ベンゼン、1,4−ビス(2−ヒドロキシ
エトキシ)ベンゼン、テレフタル酸ビス(2−ヒドロキ
シエチル)エステル、テトラブロモビスフェノールAビ
ス(2−ヒドロキシエチル)エステル、2,6−ビス
(ヒドロキシメチル)−p−クレゾール、9.9−ビス
(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル)フルオレ
ン、1,3−ビス(ヒドロキシプロピル)テトラメチル
シロキサン、2,2−ビス〔4−(2−ヒドロキシエト
キシ)フェニル〕ヘキサフルオロプロパン、上記式(1
2)で表される化合物のうち、式(13)〜(15)
Preferred examples of the diol used in the present invention include triethylene glycol, bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane,
2,2-bis (4-hydroxycyclohexyl) propane, 1,4-bis (hydroxymethyl) cyclohexane, 3,9-bis (1,1-dimethyl-2-hydroxyethyl) -2,4,8,10- Tetraoxaspiro [5,5] undecane, m-xylylene glycol, p
-Xylylene glycol, 1,3-bis (2-hydroxyethoxy) benzene, 1,4-bis (2-hydroxyethoxy) benzene, terephthalic acid bis (2-hydroxyethyl) ester, tetrabromobisphenol A bis (2- (Hydroxyethyl) ester, 2,6-bis (hydroxymethyl) -p-cresol, 9.9-bis (4- (2-hydroxyethoxy) phenyl) fluorene, 1,3-bis (hydroxypropyl) tetramethylsiloxane, 2,2-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] hexafluoropropane represented by the above formula (1
Among the compounds represented by 2), formulas (13) to (15)

【0046】[0046]

【化17】 Embedded image

【0047】[0047]

【化18】 Embedded image

【0048】[0048]

【化19】 Embedded image

【0049】で表される化合物などを挙げることができ
る。
And the like.

【0050】さらに好ましくは、プロピレングリコール
モノメチルエーテルアセテートや、シクロヘキサノンな
どの汎用のレジスト溶媒に対する溶解性の点から、フル
オレン骨格を有するものが好ましい。具体例としては、
9.9−ビス(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニ
ル)フルオレンを挙げることができる。これらは1種単
独でまたは2種以上組み合わせて用いられる。
More preferably, those having a fluorene skeleton are preferable from the viewpoint of solubility in general-purpose resist solvents such as propylene glycol monomethyl ether acetate and cyclohexanone. As a specific example,
9.9-bis (4- (2-hydroxyethoxy) phenyl) fluorene can be mentioned. These are used alone or in combination of two or more.

【0051】なお、反応に用いるジオール化合物の分子
量を調節することで、本発明の重合体のカルボキシル基
量が、ある程度制御できるので、アルカリ可溶性をコン
トロールする上で有効である。
By adjusting the molecular weight of the diol compound used in the reaction, the carboxyl group content of the polymer of the present invention can be controlled to some extent, which is effective in controlling alkali solubility.

【0052】また、上記、テトラカルボン酸二無水物
と、ジオール化合物の他に、単官能の酸無水物、アルコ
ール、アミンなどを反応させ、重合体の末端を封止して
も何ら問題はない。
In addition to the above-mentioned tetracarboxylic dianhydride and a diol compound, a monofunctional acid anhydride, an alcohol, an amine or the like may be reacted to block the terminal of the polymer without any problem. .

【0053】テトラカルボン酸二無水物とジオール化合
物の使用割合は、テトラカルボン酸二無水物の総量1当
量に対して、ジオール化合物の総量を0.5〜1.5当
量とするのが好ましく、得られる重合体の粘度の点か
ら、より好ましくは0.8〜1.2当量である。
The proportion of the tetracarboxylic dianhydride and the diol compound used is preferably 0.5 to 1.5 equivalents of the total amount of the diol compound per 1 equivalent of the total amount of the tetracarboxylic dianhydride. From the viewpoint of the viscosity of the obtained polymer, it is more preferably 0.8 to 1.2 equivalents.

【0054】「特定重合体b.」本発明に用いられる、
特定重合体b.は、上記一般式(3)で表される重合体
の末端を、光重合可能な不飽和基を含有する置換基で封
止したものであり、実質的に、下記一般式(16)
"Specific polymer b."
A specific polymer b. Is obtained by sealing the terminal of the polymer represented by the general formula (3) with a substituent having a photopolymerizable unsaturated group, and substantially comprises the following general formula (16)

【0055】[0055]

【化20】 Embedded image

【0056】[式中、R1 、R2 は上記と同様。R4
は、光重合可能な不飽和基を含有する1価の有機基を示
す。]、あるいは、下記一般式(17)
[Wherein R 1 and R 2 are the same as above. R 4
Represents a monovalent organic group containing a photopolymerizable unsaturated group. Or the following general formula (17)

【0057】[0057]

【化21】 Embedded image

【0058】[式中、R1 、R2 、R4 は上記と同
様。]あるいは、下記一般式(18)
Wherein R 1 , R 2 and R 4 are as defined above. Or the following general formula (18)

【0059】[0059]

【化22】 Embedded image

【0060】[式中、R1 、R2 、は上記と同様。R5
は光重合可能な不飽和基を含有する2価の有機基を示
す。]のいずれかで表される。
Wherein R 1 and R 2 are the same as above. R 5
Represents a divalent organic group containing a photopolymerizable unsaturated group. ].

【0061】上記式(16)で表される重合体は、テト
ラカルボン酸無水物とジオール化合物、さらに光重合可
能な不飽和基を含有する単官能アルコールを反応させる
ことにより容易に得ることができる。なお、テトラカル
ボン酸無水物とジオール化合物は、前述した化合物がそ
のまま適用できる。
The polymer represented by the above formula (16) can be easily obtained by reacting a tetracarboxylic anhydride with a diol compound and a monofunctional alcohol containing a photopolymerizable unsaturated group. . As the tetracarboxylic anhydride and the diol compound, the compounds described above can be applied as they are.

【0062】末端封止用の光重合可能な不飽和基を含有
する単官能アルコールとしては、2−ヒドロキシエチル
アクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、
2−ヒドロキシブチルアクリレート、2−アクリロイロ
キシエチル−2−ヒドロキシプロピルフタレート、2−
ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、2
−アクリロイロキシエチル−2−ヒドロキシエチルフタ
ル酸、グリセリンジアクリレート、以上の化合物のメタ
クリレート物、2−ヒドロキシ−3−アクリロイロキシ
プロピルメタクリレート、ペンタエリスリトールトリア
クリレート、などを好ましい例として挙げることができ
る。これらは1種単独でまたは2種以上組み合わせて用
いられる。
Examples of the monofunctional alcohol containing a photopolymerizable unsaturated group for terminal capping include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate,
2-hydroxybutyl acrylate, 2-acryloyloxyethyl-2-hydroxypropyl phthalate, 2-
Hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2
-Acryloyloxyethyl-2-hydroxyethylphthalic acid, glycerin diacrylate, methacrylates of the above compounds, 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl methacrylate, pentaerythritol triacrylate, and the like can be mentioned as preferred examples. . These are used alone or in combination of two or more.

【0063】また、架橋の度合いを調整するなどの目的
で、光重合可能な不飽和基を含有する単官能アルコール
の一部を、不飽和基を含有しない同様の化合物で置き換
えることも可能である。
For the purpose of adjusting the degree of crosslinking and the like, it is also possible to replace a part of the photopolymerizable monofunctional alcohol containing an unsaturated group with a similar compound containing no unsaturated group. .

【0064】上記式(17)で表される重合体は、テト
ラカルボン酸無水物とジオール化合物、さらに光重合可
能な不飽和基を含有する単官能アミンを反応させること
により容易に得ることができる。なお、テトラカルボン
酸無水物とジオール化合物は、前述した化合物がそのま
ま適用できる。
The polymer represented by the above formula (17) can be easily obtained by reacting a tetracarboxylic anhydride with a diol compound and a monofunctional amine having a photopolymerizable unsaturated group. . As the tetracarboxylic anhydride and the diol compound, the compounds described above can be applied as they are.

【0065】末端封止用の光重合可能な不飽和基を含有
する単官能アミンとしては、4−アミノ−4′−メトキ
シスチルベン、などを好ましい例として挙げることがで
きる。これらは1種単独でまたは2種以上組み合わせて
用いられる。
Preferred examples of the monofunctional amine having a photopolymerizable unsaturated group for terminal capping include 4-amino-4'-methoxystilbene and the like. These are used alone or in combination of two or more.

【0066】また、架橋の度合いを調整するなどの目的
で、光重合可能な不飽和基を含有する単官能アミンの一
部を、不飽和基を含有しない同様の化合物で置き換える
ことも可能である。その中でも、6−アミノ−2−メル
カプトベンゾチアゾール、2−アミノ−5−メルカプト
−1,3,4−チアゾール、4−アミノチオフェノール
などのチオール基を含有するものが、光架橋の際に、硬
化促進剤として機能することができるので特に、好まし
い。
For the purpose of adjusting the degree of crosslinking and the like, it is also possible to replace a part of the photopolymerizable unsaturated group-containing monofunctional amine with a similar compound containing no unsaturated group. . Among them, those containing a thiol group such as 6-amino-2-mercaptobenzothiazole, 2-amino-5-mercapto-1,3,4-thiazole, 4-aminothiophenol, It is particularly preferable because it can function as a curing accelerator.

【0067】上記式(18)で表される重合体は、テト
ラカルボン酸無水物とジオール化合物、さらに光重合可
能な不飽和基を含有する酸無水物を反応させることによ
り容易に得ることができる。なお、テトラカルボン酸無
水物とジオール化合物は、前述した化合物がそのまま適
用できる。
The polymer represented by the above formula (18) can be easily obtained by reacting a tetracarboxylic acid anhydride with a diol compound and furthermore an acid anhydride containing a photopolymerizable unsaturated group. . As the tetracarboxylic anhydride and the diol compound, the compounds described above can be applied as they are.

【0068】末端封止用の光重合可能な不飽和基を含有
する単官能酸無水物としては、無水マレイン酸、下記一
般式(19)
As the monofunctional acid anhydride containing a photopolymerizable unsaturated group for terminal capping, maleic anhydride represented by the following general formula (19):

【0069】[0069]

【化23】 Embedded image

【0070】[式中、R6 は、光重合可能な不飽和基を
含有する1価の有機基を示す。]で示される化合物を好
ましい例として挙げることができる。特に、一般式(1
9)の酸無水物は、通常、不飽和基を含有するアルコー
ル化合物と、塩化トリメリット酸無水物を反応させるこ
とにより、容易に合成することができるので、バリエー
ションのある化合物を得ることが可能である。
[In the formula, R 6 represents a monovalent organic group containing a photopolymerizable unsaturated group. The compound shown by these] can be mentioned as a preferable example. In particular, the general formula (1)
The acid anhydride of 9) can be easily synthesized usually by reacting an alcohol compound containing an unsaturated group with trimellitic chloride anhydride, so that a variety of compounds can be obtained. It is.

【0071】これらは1種単独でまたは2種以上組み合
わせて用いられる。
These may be used alone or in combination of two or more.

【0072】また、架橋の度合いを調整するなどの目的
で、光重合可能な不飽和基を含有する単官能酸無水物の
一部を、不飽和基を含有しない同様の化合物で置き換え
ることも可能であり、そのような化合物の例としては、
無水フタル酸などを挙げることができる。
For the purpose of adjusting the degree of crosslinking and the like, it is also possible to replace a part of the monofunctional acid anhydride containing a photopolymerizable unsaturated group with a similar compound containing no unsaturated group. And examples of such compounds include:
Examples include phthalic anhydride.

【0073】テトラカルボン酸二無水物とジオール化合
物、及び、アルコール、アミン、酸無水物の使用割合
は、末端停止剤がアルコールの場合は、テトラカルボン
酸二無水物の酸無水物基1当量に対して、ジオール化合
物とアルコールの水酸基の総量を0.5〜1.5当量と
するのが好ましく、得られる重合体の粘度の点から、
0.8〜1.2当量とするのがさらに好ましい。
The proportions of the tetracarboxylic dianhydride, the diol compound, the alcohol, the amine and the acid anhydride can be used in the case where the terminal terminating agent is an alcohol, per one equivalent of the acid anhydride group of the tetracarboxylic dianhydride. On the other hand, the total amount of the hydroxyl groups of the diol compound and the alcohol is preferably 0.5 to 1.5 equivalents, and from the viewpoint of the viscosity of the obtained polymer,
More preferably, it is 0.8 to 1.2 equivalents.

【0074】末端停止剤がアミンの場合は、テトラカル
ボン酸二無水物の酸無水物基1当量に対して、ジオール
化合物の水酸基とアミンのアミノ基の総量を0.5〜
1.5当量とするのが好ましく、得られる重合体の粘度
の点から、より好ましくは0.8〜1.2当量である。
When the terminal stopper is an amine, the total amount of the hydroxyl group of the diol compound and the amino group of the amine is 0.5 to 1 equivalent of the acid anhydride group of the tetracarboxylic dianhydride.
The amount is preferably 1.5 equivalents, and more preferably 0.8 to 1.2 equivalents from the viewpoint of the viscosity of the obtained polymer.

【0075】末端停止剤が酸無水物の場合は、テトラカ
ルボン酸二無水物と酸無水物化合物の酸無水物基の総量
1当量に対して、ジオール化合物の水酸基を0.5〜
1.5当量とするのが好ましく、得られる重合体の粘度
の点から、より好ましくは0.8〜1.2当量である。
In the case where the terminal terminator is an acid anhydride, the hydroxyl group of the diol compound is added in an amount of 0.5 to 0.5 with respect to 1 equivalent of the total amount of the acid anhydride groups of the tetracarboxylic dianhydride and the acid anhydride compound.
The amount is preferably 1.5 equivalents, and more preferably 0.8 to 1.2 equivalents from the viewpoint of the viscosity of the obtained polymer.

【0076】本発明の特定重合体a.、特定重合体b.
は、前述した各原料を、通常、有機溶媒中で、加熱する
ことで容易に得ることができる。例えば、反応部位が、
酸無水物基と、水酸基の反応の場合は、80〜130
℃、好ましくは90〜120℃の反応温度で、また、酸
無水物基と、アミノ基の反応の場合は、0〜100℃、
好ましくは30〜60℃の反応温度で行われる。
Specific Polymer of the Invention a. A specific polymer b.
Can be easily obtained by heating each of the above-mentioned raw materials usually in an organic solvent. For example, if the reaction site is
In the case of a reaction between an acid anhydride group and a hydroxyl group, 80 to 130
C., preferably at a reaction temperature of 90 to 120 ° C., and in the case of a reaction between an acid anhydride group and an amino group, 0 to 100 ° C .;
The reaction is preferably performed at a reaction temperature of 30 to 60 ° C.

【0077】特に、特定重合体b.の場合は、通常、以
下に述べるような、2段階の反応を経て合成される。
In particular, the specific polymer b. Is usually synthesized through a two-step reaction as described below.

【0078】一般式(16)、(17)の場合は、ま
ず、テトラカルボン酸二無水物とジオールを、モル比換
算で、テトラカルボン酸二無水物が過剰となるような状
態で、90〜120℃の温度で反応させる。
In the case of the general formulas (16) and (17), first, the tetracarboxylic dianhydride and the diol are added in a molar ratio of 90 to 90 in such a state that the tetracarboxylic dianhydride becomes excessive. The reaction is carried out at a temperature of 120 ° C.

【0079】酸無水物と、アルコールを十分に反応させ
た後、一旦、室温まで冷却し、つづいて、モノアルコー
ル、あるいは、モノアミンを先の反応溶液に仕込み、モ
ノアルコールの場合は、90〜120℃の温度で、モノ
アミンの場合は、30〜60℃温度で、反応させること
で、目的の重合体を得ることができる。
After sufficiently reacting the acid anhydride with the alcohol, the mixture is once cooled to room temperature, and then a monoalcohol or a monoamine is charged into the above reaction solution. In the case of a monoamine, the desired polymer can be obtained by reacting at a temperature of 30 ° C.

【0080】一般式(18)の場合は、まず、テトラカ
ルボン酸二無水物とジオールを、モル比換算で、ジオー
ルが過剰となるような状態で、90〜120℃の温度で
反応させる。
In the case of the general formula (18), first, the tetracarboxylic dianhydride and the diol are reacted at a temperature of 90 to 120 ° C. in a molar ratio conversion so that the diol becomes excessive.

【0081】酸無水物と、アルコールを十分に反応させ
た後、一旦、室温まで冷却し、つづいて、酸無水物を先
の反応溶液に仕込み、90〜120℃の反応温度で反応
させることで、目的の重合体を得ることができる。
After the acid anhydride and the alcohol are sufficiently reacted, the mixture is once cooled to room temperature, and then the acid anhydride is charged into the above reaction solution and reacted at a reaction temperature of 90 to 120 ° C. And the desired polymer can be obtained.

【0082】なお、有機溶媒の使用量は、通常、反応に
使用する原料の総量が、反応溶液の全量に対して10〜
50重量%になるようにするのが好ましいが、特に制限
されるもではない。
In general, the amount of the organic solvent used is such that the total amount of the starting materials used in the reaction is 10 to 10% of the total amount of the reaction solution.
It is preferable that the content be 50% by weight, but there is no particular limitation.

【0083】有機溶媒の種類としては、反応で得られる
重合体を溶解させるものであれば、特に制限はないが、
人体に対する有害性と、重合体の溶解性を考慮して、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プ
ロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジ
エチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレン
グリコールジエチルエーテル、シクロヘキサノン、2−
ヒドロキシプロピオン酸メチル、2−ヒドロキシプロピ
オン酸エチル、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチ
ルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、γ−
ブチロラクトンなどを、好ましい例として挙げることが
できる。
The type of the organic solvent is not particularly limited as long as it can dissolve the polymer obtained by the reaction.
Considering harmfulness to the human body and solubility of the polymer, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, cyclohexanone,
Methyl hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxypropionate, N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, γ-
Butyrolactone and the like can be mentioned as preferred examples.

【0084】また、本発明の特定重合体を得る際の上記
反応において、反応をより低温で、より短い時間で行う
目的で、酸触媒、塩基触媒等を使用することができ、特
に、特定重合体b.の合成の際には、放射線重合性の不
飽和基の熱重合を防ぐ目的で、ハイドロキノンなどの各
種熱重合禁止剤を使用しても、何ら問題はない。
In the above reaction for obtaining the specific polymer of the present invention, an acid catalyst or a base catalyst can be used for the purpose of conducting the reaction at a lower temperature and in a shorter time. Coalescing b. When synthesizing the compound, there is no problem even if various thermal polymerization inhibitors such as hydroquinone are used for the purpose of preventing thermal polymerization of the radiation-polymerizable unsaturated group.

【0085】さらに、特定重合体のアルカリ溶解性の制
御を目的として、特定重合体のカルボン酸を、単官能エ
ポキシ化合物などを反応させてつぶすことができる。ま
た、単官能エポキシ化合物として、その構造中に(メ
タ)アクリレートなどの放射線重合性の多重結合を含む
化合物を使用すれば、重合体に架橋点が増えるため、放
射線硬化に有効となる。なお、カルボン酸と、エポキシ
化合物の反応は、従来より良く知られており、通常、適
当な有機溶媒中で、各成分を、トリエチルアミン、トリ
フェニルフォスフィンなどの触媒、ハイドロキノン、フ
ェノチアジンなどの熱重合禁止剤、の存在下、加熱させ
ることで容易に反応させることができる。
Further, for the purpose of controlling the alkali solubility of the specific polymer, the carboxylic acid of the specific polymer can be crushed by reacting with a monofunctional epoxy compound or the like. When a compound having a radiation-polymerizable multiple bond such as (meth) acrylate in its structure is used as a monofunctional epoxy compound, the polymer has more crosslinking points, which is effective for radiation curing. The reaction between a carboxylic acid and an epoxy compound is well known in the art. Usually, in an appropriate organic solvent, a component such as a catalyst such as triethylamine or triphenylphosphine, or a thermal polymerization such as hydroquinone or phenothiazine is used. The reaction can be easily performed by heating in the presence of an inhibitor.

【0086】このようにして得られた、特定重合体
a.、特定重合体b.は、カルボキシル基を有するた
め、アルカリ水溶液に可溶であり、また、従来のアクリ
ル樹脂に比べ、堅い主鎖骨格を有するため、硬度の高い
カラーフィルターを得るためのカラーフィルター用着色
組成物の成分として最適である。さらに、特定重合体
b.は、光重合可能な不飽和基を持つため、露光時に光
架橋が起こり、パターニング特性の向上、カラーフィル
ターの更なる硬度アップに有効である。
The specific polymer a. A specific polymer b. Has a carboxyl group, is soluble in an alkaline aqueous solution, and has a hard main chain skeleton compared to conventional acrylic resins, so that a component of a color filter coloring composition for obtaining a color filter having high hardness As the best. Further, the specific polymer b. Has an unsaturated group which can be photopolymerized, so that photocrosslinking occurs at the time of exposure, which is effective for improving patterning characteristics and further increasing the hardness of the color filter.

【0087】本発明の特定重合体a.および/または特
定重合体b.は、カラーフィルター用着色組成物に、バ
インダーポリマーとして含有することができる。
Specific Polymer of the Invention a. And / or a specific polymer b. Can be contained as a binder polymer in the coloring composition for a color filter.

【0088】また、このカラーフィルター用着色組成物
は、発明の効果を損なわない程度に、上記の特定重合体
以外の、その他のポリマーを含有することもできる。
Further, the coloring composition for a color filter may contain other polymers other than the above-mentioned specific polymer to such an extent that the effects of the present invention are not impaired.

【0089】かかる、ポリマーとしては、顔料の分散系
を壊さないものであれば、特に制限はないが、アルカリ
現像性能を考慮すると、カルボキシル基を含有するポリ
マーが好ましく、特に、1個以上のカルボキシル基を有
するエチレン性不飽和単量体(以下、単に「カルボキシ
ル基含有不飽和単量体」という。)と他の共重合可能な
エチレン性不飽和単量体(以下、単に「他の不飽和単量
体」という。)とからなる単量体混合物の共重合体(以
下、単に「カルボキシル基含有共重合体」とう。)が好
ましい。
The polymer is not particularly limited as long as it does not break the pigment dispersion system. However, considering the alkali developing performance, a polymer containing a carboxyl group is preferable, and one or more carboxyl groups are particularly preferable. Group-containing ethylenically unsaturated monomer (hereinafter simply referred to as "carboxyl group-containing unsaturated monomer") and another copolymerizable ethylenically unsaturated monomer (hereinafter simply referred to as "other unsaturated monomer"). (Hereinafter simply referred to as “carboxyl group-containing copolymer”).

【0090】前記カルボキシル基含有不飽和単量体とし
ては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン
酸、α−クロルアクリル酸、エタクリル酸、けい皮酸等
の不飽和モノカルボン酸類;マレイン酸、無水マレイン
酸、フマル酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコ
ン酸、無水シトラコン酸、メサコン酸等の不飽和ジカル
ボン酸(無水物)類;3価以上の不飽和多価カルボン酸
(無水物)類等を挙げることができる。
Examples of the carboxyl group-containing unsaturated monomer include unsaturated monocarboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, α-chloroacrylic acid, ethacrylic acid, and cinnamic acid; Unsaturated dicarboxylic acids (anhydrides) such as maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, itaconic anhydride, citraconic acid, citraconic anhydride, mesaconic acid; trivalent or higher unsaturated polycarboxylic acids (anhydrides) Can be mentioned.

【0091】これらのカルボキシル基含有不飽和単量体
は、単独でまたは2種以上を混合して使用することがで
きる。
These carboxyl group-containing unsaturated monomers can be used alone or in combination of two or more.

【0092】また、前記他の不飽和単量体としては、例
えばスチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、
クロルスチレン、メトキシスチレン、式(20)
The other unsaturated monomers include, for example, styrene, α-methylstyrene, vinyltoluene,
Chlorostyrene, methoxystyrene, formula (20)

【0093】[0093]

【化24】 Embedded image

【0094】式(21)Equation (21)

【0095】[0095]

【化25】 Embedded image

【0096】等の芳香族ビニル化合物;メチルアクリレ
ート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エ
チルメタクリレート、プロピルアクリレート、プロピル
メタクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリ
レート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒド
ロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピル
アクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレー
ト、2−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキ
シブチルメタクリレート、アリルアクリレート、アリル
メタクリレート、フェニルメタクリレート、シクロヘキ
シルメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジル
メタクリレート、フェノキシエチルアクリレート、フェ
ノキシエチルメタクリレート、イソボロニルメタクリレ
ート、ジシクロペンタジエニルメタクリレート等の不飽
和カルボン酸エステル類;アミノエチルアクリレート、
アミノエチルメタクリレート、アミノプロピルアクリレ
ート、アミノプロピルメタクリレート等の不飽和カルボ
ン酸アミノアルキルエステル類;グリシジルアクリレー
ト、グリシジルメタクリレート等の不飽和カルボン酸グ
リシジルエステル類;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニ
ル、酪酸ビニル、安息香酸ビニル等のカルボン酸ビニル
エステル類;ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエー
テル、アリルグリシジルエーテル、メタクリルグリシジ
ルエーテル等の不飽和エーテル類;アクリロニトリル、
メタクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリル、シ
アン化ビニリデン等のシアン化ビニル化合物;アクリル
アミド、メタクリルアミド、α−クロロアクリルアミ
ド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−ヒドロ
キシエチルメタクリルアミド、マレイミド、N−フェニ
ルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド等の不飽
和アミドあるいは不飽和イミド類;1,3−ブタジエ
ン、イソプレン、クロロプレン等の脂肪族共役ジエン
類;ポリスチレン、ポリメチルアクリレート、ポリメチ
ルメタクリレート、ポリブチルアクリレート、ポリブチ
ルメタクリレート、ポリシリコーン等の重合体分子鎖末
端にモノアクリロイル基あるいはモノメタクリロイル基
を有するマクロモノマー類等を挙げることができる。
Aromatic vinyl compounds such as methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, propyl acrylate, propyl methacrylate, butyl acrylate, butyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl Acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, allyl acrylate, allyl methacrylate, phenyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, phenoxyethyl acrylate, phenoxyethyl methacrylate, isobornyl methacrylate , Dicyclopen Unsaturated carboxylic acid esters such as di-enyl methacrylate; aminoethyl acrylate,
Unsaturated carboxylic acid aminoalkyl esters such as aminoethyl methacrylate, aminopropyl acrylate and aminopropyl methacrylate; unsaturated carboxylic acid glycidyl esters such as glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate; vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate and vinyl benzoate Carboxylic acid vinyl esters; unsaturated ethers such as vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether, allyl glycidyl ether, methacryl glycidyl ether; acrylonitrile;
Vinyl cyanide compounds such as methacrylonitrile, α-chloroacrylonitrile and vinylidene cyanide; acrylamide, methacrylamide, α-chloroacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-hydroxyethylmethacrylamide, maleimide, N-phenylmaleimide, N Unsaturated amides or unsaturated imides such as cyclohexylmaleimide; aliphatic conjugated dienes such as 1,3-butadiene, isoprene and chloroprene; polystyrene, polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate, polybutyl acrylate, polybutyl methacrylate, poly Macromonomers having a monoacryloyl group or a monomethacryloyl group at the terminal of a polymer molecular chain such as silicone can be exemplified.

【0097】これらの他の不飽和単量体は、単独でまた
は2種以上を混合して使用することができる。
These other unsaturated monomers can be used alone or as a mixture of two or more.

【0098】カルボキシル基含有共重合体としては、 アクリル酸および/またはメタクリル酸と メチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリ
レート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、ベンジ
ルアクリレート、ベンジルメタクリレート、スチレン、
ポリスチレンマクロモノマーおよびポリメチルメタクリ
レートマクロモノマーの群から選ばれる少なくとも1種
の他の不飽和単量体との共重合体が好ましい。
Examples of the carboxyl group-containing copolymer include acrylic acid and / or methacrylic acid and methyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, styrene,
A copolymer with at least one other unsaturated monomer selected from the group consisting of a polystyrene macromonomer and a polymethyl methacrylate macromonomer is preferred.

【0099】好ましいカルボキシル基含有共重合体の具
体例としては、(メタ)アクリル酸/ベンジル(メタ)
アクリレート共重合体、(メタ)アクリル酸/メチル
(メタ)アクリレート共重合体、(メタ)アクリル酸/
ベンジル(メタ)アクリレート/ポリスチレンマクロモ
ノマー共重合体、(メタ)アクリル酸/ベンジル(メ
タ)アクリレート/ポリメチルメタクリレートマクロモ
ノマー共重合体、(メタ)アクリル酸/メチル(メタ)
アクリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合体、
(メタ)アクリル酸/メチル(メタ)アクリレート/ポ
リメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、(メ
タ)アクリル酸/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリ
レート/ベンジル(メタ)アクリレート/ポリスチレン
マクロモノマー共重合体、(メタ)アクリル酸/2−ヒ
ドロキシエチル(メタ)アクリレート/ベンジル(メ
タ)アクリレート/ポリメチルメタクリレートマクロモ
ノマー共重合体、等を挙げることができる。
Specific examples of the preferred carboxyl group-containing copolymer include (meth) acrylic acid / benzyl (meth)
Acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid /
Benzyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / methyl (meth)
Acrylate / polystyrene macromonomer copolymer,
(Meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer, (Meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer, and the like.

【0100】カルボキシル基含有共重合体におけるカル
ボキシル基含有不飽和単量体の共重合割合は、通常、5
〜50重量%、好ましくは10〜40重量%である。こ
の場合、カルボキシル基含有不飽和単量体の共重合割合
が5重量%未満では、得られる感放射線性組成物のアル
カリ現像液に対する溶解性が低下する傾向があり、また
50重量%を超えると、アルカリ現像液による現像時
に、形成された画素の基板からの脱落や画素表面の膜荒
れを来たしやすくなる傾向がある。
The copolymerization ratio of the carboxyl group-containing unsaturated monomer in the carboxyl group-containing copolymer is usually 5
5050% by weight, preferably 10-40% by weight. In this case, if the copolymerization ratio of the carboxyl group-containing unsaturated monomer is less than 5% by weight, the solubility of the obtained radiation-sensitive composition in an alkali developing solution tends to decrease, and if it exceeds 50% by weight. During development with an alkali developer, the formed pixels tend to fall off the substrate and the pixel surface tends to be rough.

【0101】カラーフィルター用感放射線性組成物内で
のバインダーポリマーの使用割合は、後述する(B)着
色剤100重量部に対して、通常、バインダーポリマー
の総量が、10〜1000重量部、好ましくは20〜5
00重量部となるようにするのが好ましい。
The proportion of the binder polymer used in the radiation-sensitive composition for a color filter is usually such that the total amount of the binder polymer is 10 to 1,000 parts by weight, preferably 100 parts by weight of the colorant (B) described later. Is 20-5
Preferably, the amount is 00 parts by weight.

【0102】この場合、バインダーポリマーの使用割合
が10重量部未満では、例えば、アルカリ現像性が低下
したり、画素が形成される部分以外の領域での地汚れや
膜残りが発生するおそれがあり、一方1000重量部を
超えると、相対的に着色剤濃度が低下するため、薄膜と
して目的とする色濃度を達成することが困難となる場合
がある。
In this case, if the use ratio of the binder polymer is less than 10 parts by weight, for example, there is a possibility that the alkali developability may be reduced or background stain or a film residue may occur in a region other than a portion where a pixel is formed. On the other hand, when the amount exceeds 1,000 parts by weight, the concentration of the colorant relatively decreases, so that it may be difficult to achieve the target color concentration as a thin film.

【0103】(B)着色剤 これらの組成物(感放射線性組成物またはカラーフィル
ター用感放射線性組成物)で用いられる着色剤は、色調
が特に限定されるものではなく、カラーフィルタの用途
に応じて適宜選定され、また有機着色剤でも無機着色剤
でもよい。
(B) Colorant The colorant used in these compositions (radiation-sensitive composition or radiation-sensitive composition for color filter) is not particularly limited in color tone, and is suitable for use in color filters. It is appropriately selected according to the requirements, and may be an organic colorant or an inorganic colorant.

【0104】前記有機着色剤とは、具体的には染料、有
機顔料、天然色素等を意味し、また前記無機着色剤と
は、具体的には無機顔料のほか、体質顔料と呼ばれる無
機塩をも意味するものであるが、カラーフィルタには高
精密な発色と耐熱性が求められることから、本発明にお
ける着色剤としては、発色性が高く、且つ耐熱性の高い
着色剤、特に耐熱分解性の高い着色剤が好ましく、通常
有機着色剤、特に有機顔料が好ましい。
The organic colorant specifically means a dye, an organic pigment, a natural pigment, and the like. The inorganic colorant specifically includes an inorganic pigment and an inorganic salt called an extender. However, since color filters are required to have high-precision color development and heat resistance, the colorant in the present invention has a high color development property, and a colorant having high heat resistance, particularly heat-resistant decomposition resistance. Is preferable, and an organic colorant is usually preferable, and an organic pigment is particularly preferable.

【0105】前記有機顔料としては、例えばカラーイン
デックス(C.I.;The Society of Dyers and Colourist
s 社発行) においてピグメント(Pigment )に分類され
ている化合物、具体的には、下記のようなカラーインデ
ックス(C.I.)番号が付されているものを挙げることが
できる。
Examples of the organic pigment include a color index (CI; The Society of Dyers and Colorist).
Compounds classified as Pigment (published by s company), specifically, those having a color index (CI) number as shown below.

【0106】C.I.ピグメントイエロー12、C.I.ピグメ
ントイエロー13、C.I.ピグメントイエロー14、C.I.
ピグメントイエロー17、C.I.ピグメントイエロー2
0、C.I.ピグメントイエロー24、C.I.ピグメントイエ
ロー31、C.I.ピグメントイエロー55、C.I.ピグメン
トイエロー83、C.I.ピグメントイエロー93、C.I.ピ
グメントイエロー109、C.I.ピグメントイエロー11
0、C.I.ピグメントイエロー139、C.I.ピグメントイ
エロー150、C.I.ピグメントイエロー153、C.I.ピ
グメントイエロー154、C.I.ピグメントイエロー16
6、C.I.ピグメントイエロー168;C.I.ピグメントオ
レンジ36、C.I.ピグメントオレンジ43、C.I.ピグメ
ントオレンジ51;C.I.ピグメントレッド9、C.I.ピグ
メントレッド97、C.I.ピグメントレッド122、C.I.
ピグメントレッド123、C.I.ピグメントレッド14
9、C.I.ピグメントレッド176、C.I.ピグメントレッ
ド177、C.I.ピグメントレッド180、C.I.ピグメン
トレッド215;C.I.ピグメントバイオレット19、C.
I.ピグメントバイオレット23、C.I.ピグメントバイオ
レット29;C.I.ピグメントブルー15、C.I.ピグメン
トブルー15:3、C.I.ピグメントブルー15:6;C.
I.ピグメントグリーン7、C.I.ピグメントグリーン3
6;C.I.ピグメントブラウン23、C.I.ピグメントブラ
ウン25;C.I.ピグメントブラック1、ピグメントブラ
ック7。
CI Pigment Yellow 12, CI Pigment Yellow 13, CI Pigment Yellow 14, CI
Pigment Yellow 17, CI Pigment Yellow 2
0, CI Pigment Yellow 24, CI Pigment Yellow 31, CI Pigment Yellow 55, CI Pigment Yellow 83, CI Pigment Yellow 93, CI Pigment Yellow 109, CI Pigment Yellow 11
0, CI Pigment Yellow 139, CI Pigment Yellow 150, CI Pigment Yellow 153, CI Pigment Yellow 154, CI Pigment Yellow 16
6, CI Pigment Yellow 168; CI Pigment Orange 36, CI Pigment Orange 43, CI Pigment Orange 51; CI Pigment Red 9, CI Pigment Red 97, CI Pigment Red 122, CI
Pigment Red 123, CI Pigment Red 14
9, CI Pigment Red 176, CI Pigment Red 177, CI Pigment Red 180, CI Pigment Red 215; CI Pigment Violet 19, C.I.
CI Pigment Violet 23, CI Pigment Violet 29; CI Pigment Blue 15, CI Pigment Blue 15: 3, CI Pigment Blue 15: 6;
I. Pigment Green 7, CI Pigment Green 3
6; CI Pigment Brown 23, CI Pigment Brown 25; CI Pigment Black 1, Pigment Black 7.

【0107】また、前記無機着色剤としては、具体的に
は、例えば酸化チタン、硫酸バリウム、亜鉛華、硫酸
鉛、黄色鉛、亜鉛黄、べんがら(赤色酸化鉄(III))、カ
ドミウム赤、群青、紺青、酸化クロム緑、コバルト緑、
アンバー、チタンブラック、合成鉄黒、カーボンブラッ
ク等を挙げることができる。
Specific examples of the inorganic colorant include titanium oxide, barium sulfate, zinc white, lead sulfate, yellow lead, zinc yellow, red iron oxide (III), cadmium red, and ultramarine blue. , Navy blue, chromium oxide green, cobalt green,
Amber, titanium black, synthetic iron black, carbon black and the like can be mentioned.

【0108】これらの組成物における着色剤は、所望に
より、分散剤とともに使用することができる。このよう
な分散剤としては、具体的に、例えばカチオン系、アニ
オン系、ノニオン系、両性、シリコーン系、フッ素系等
の界面活性剤を挙げることができる。
The colorant in these compositions can be used together with a dispersant, if desired. Specific examples of such dispersants include cationic, anionic, nonionic, amphoteric, silicone-based, and fluorine-based surfactants.

【0109】前記界面活性剤としては、具体的に、例え
ば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシ
エチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレ
イルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテ
ル;ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポ
リオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキ
シエチレンアルキルフェニルエーテル類;ポリエチレン
グリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジス
テアレート等のポリエチレングリコールジエステル類;
ソルビタン脂肪酸エステル類;脂肪酸変性ポリエステル
類;3級アミン変性ポリウレタン類;等を挙げることが
でき、さらに具体的に商品名で、例えばKP(信越化学
工業製)、ポリフロー(共栄社油脂化学工業製)、エフ
トップ(トーケムプロダクツ製)メガファック(大日本
インキ化学工業製)、フロラード(住友スリーエム
製)、アサヒガード、サーフロン(旭硝子製)等を挙げ
ることができる。
Examples of the surfactant include polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether and polyoxyethylene oleyl ether; polyoxyethylene octyl phenyl ether; Polyoxyethylene alkyl phenyl ethers such as ethylene nonyl phenyl ether; polyethylene glycol diesters such as polyethylene glycol dilaurate and polyethylene glycol distearate;
Sorbitan fatty acid esters; fatty acid-modified polyesters; tertiary amine-modified polyurethanes; and the like, and more specifically, trade names such as KP (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), Polyflow (manufactured by Kyoeisha Yushi Kagaku Kogyo), F-Top (manufactured by Tochem Products), Megafac (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals), Florard (manufactured by Sumitomo 3M), Asahi Guard, Surflon (manufactured by Asahi Glass), and the like.

【0110】これらの界面活性剤は、単独でまたは2種
以上を混合して使用することができる。
These surfactants can be used alone or in combination of two or more.

【0111】前記界面活性剤は、着色剤100重量部に
対して、通常、30重量部以下、好ましくは0〜20重
量部使用する。
The surfactant is used in an amount of usually 30 parts by weight or less, preferably 0 to 20 parts by weight, based on 100 parts by weight of the colorant.

【0112】さらにこれらの組成物における着色剤は、
所望により、顔料粒子の表面をポリマーで改質したもの
を使用することもできる。改質用のポリマーとしては、
例えば、特願平7−66514などに記載されているポ
リマーや、市販の各種分散用ポリマー/オリゴマーを挙
げることができる。
The coloring agent in these compositions is
If desired, pigment particles whose surfaces are modified with a polymer can also be used. As the modifying polymer,
For example, polymers described in Japanese Patent Application No. 7-66514 and various commercially available dispersing polymers / oligomers can be mentioned.

【0113】なお、上記に示した着色剤は、単独でまた
は2種以上を混合して使用することができる。
The coloring agents described above can be used alone or in combination of two or more.

【0114】(C)多官能性モノマー これらの組成物に用いられる多官能性モノマーとして
は、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル等のアルキレングリコールのジアクリレートまたはジ
メタクリレート類;ポリエチレングリコール、ポリプロ
ピレングリコール等のポリアルキレングリコールのジア
クリレートまたはジメタクリレート類;グリセリン、ト
リメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペン
タエリスリトール等の3価以上の多価アルコールのポリ
アクリレートまたはポリメタクリレート類;ポリエステ
ル、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、シリ
コーン樹脂、スピラン樹脂等のオリゴアクリレートまた
はオリゴメタクリレート類;両末端ヒドロキシポリブタ
ジエン、両末端ヒドロキシポリイソプレン、両末端ヒド
ロキシポリカプロラクトン等の両末端ヒドロキシル化重
合体のジ(メタ)アクリレート類;、トリスアクリロイ
ルオキシエチルフォスフェート、トリスメタクリロイル
オキシエチルフォスフェート等を挙げることができる。
(C) Polyfunctional Monomers Examples of the polyfunctional monomers used in these compositions include diacrylates or dimethacrylates of alkylene glycols such as ethylene glycol and propylene glycol; and polyethylene glycols and polypropylene glycols. Diacrylates or dimethacrylates of polyalkylene glycols; polyacrylates or polymethacrylates of trihydric or higher polyhydric alcohols such as glycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol; polyesters, epoxy resins, urethane resins, alkyd resins Acrylates or oligomethacrylates such as silicone, silicone resin and spirane resin; both ends hydroxypolybutadiene, both ends hydroxypolyisoprop Di (meth) acrylates of hydroxyl-terminated polymers such as ren and hydroxyl-terminated hydroxypolycaprolactone; trisacryloyloxyethyl phosphate, trismethacryloyloxyethyl phosphate, and the like.

【0115】これらの多官能性モノマーのうち、3価以
上の多価アルコールのポリアクリレートまたはポリメタ
クリレート類が好ましく、具体的には式(22)
Of these polyfunctional monomers, polyacrylates or polymethacrylates of trihydric or higher polyhydric alcohols are preferred, and specific examples of the formula (22)

【0116】[0116]

【化26】 Embedded image

【0117】で表される化合物、トリメチロールプロパ
ントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタ
クリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、
ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリ
スリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトール
テトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ
アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート等
を挙げることができ、特に、上記に示した式(22)、
トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリ
スリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトール
ペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサア
クリレートが、画素強度が高く、画素表面の平滑性に優
れ、かつ画素が形成される部分以外の領域での地汚れ、
膜残り等を発生し難い点で好ましい。
A compound represented by the formula: trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol triacrylate,
Pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate and the like can be mentioned. In particular, the formula (22) shown above,
Trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, and dipentaerythritol hexaacrylate have high pixel strength, excellent smoothness of the pixel surface, and have a low surface area other than where pixels are formed. Dirt,
This is preferred because it is unlikely to cause film residue and the like.

【0118】これらの組成物において使用される多官能
性モノマーは、本発明の効果が損なわない限りその一部
が単官能性モノマーに置き換えられても良い。このよう
な単官能性モノマーとしては、前述した「カルボキシル
基含有共重合体」の原料として使用したモノマーがその
まま適用できるほか、更に、例えばω−カルボキシ−ポ
リカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート、メトキシ
トリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキ
シジプロピレングリコール(メタ)アクリレート、2−
ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレ
ート、2−アクリロイロキシエチルこはく酸、を挙げる
ことができる。
The polyfunctional monomers used in these compositions may be partially replaced with monofunctional monomers as long as the effects of the present invention are not impaired. As such a monofunctional monomer, the monomer used as a raw material of the above-mentioned “carboxyl group-containing copolymer” can be applied as it is, and further, for example, ω-carboxy-polycaprolactone mono (meth) acrylate, methoxytriethylene Glycol (meth) acrylate, methoxydipropylene glycol (meth) acrylate, 2-
Hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate and 2-acryloyloxyethyl succinic acid can be exemplified.

【0119】前記単官能性モノマーの多官能性モノマー
に対する使用割合は、多官能性モノマーと単官能性モノ
マーの合計100に対して、単官能性モノマーが0〜9
0重量%、好ましくは0〜50重量%である。
The proportion of the monofunctional monomer to the polyfunctional monomer is 0 to 9 for the total of 100 of the polyfunctional monomer and the monofunctional monomer.
0% by weight, preferably 0 to 50% by weight.

【0120】これらの組成物における多官能性モノマー
の使用割合は、上記に示した(A)バインダーポリマー
100重量部に対して、通常、5〜500重量部、好ま
しくは20〜300重量部である。
The proportion of the polyfunctional monomer in these compositions is usually 5 to 500 parts by weight, preferably 20 to 300 parts by weight, based on 100 parts by weight of the above-mentioned (A) binder polymer. .

【0121】この場合、多官能性モノマーの使用割合が
5重量部未満では、画素強度あるいは画素表面の平滑性
が不十分となる傾向があり、一方500重量部を超える
と、例えば、アルカリ現像性が低下したり、画素が形成
される部分以外の領域での地汚れや膜残りが発生しやす
くなる傾向がある。
In this case, if the use ratio of the polyfunctional monomer is less than 5 parts by weight, the pixel strength or the smoothness of the pixel surface tends to be insufficient. , And there is a tendency for background contamination and film residue to occur easily in a region other than the portion where the pixels are formed.

【0122】(D)光重合開始剤 これらの組成物に用いられる光重合開始剤とは、光の照
射により分解又は結合が解裂し、ラジカル種、カチオン
種、アニオン種等の前記多官能性モノマーの重合を開始
することができる活性種を発生する化合物を意味する。
(D) Photopolymerization Initiator The photopolymerization initiator used in these compositions is a compound which decomposes or breaks a bond upon irradiation with light and has the above-mentioned polyfunctionality such as radical species, cation species and anion species. A compound that generates an active species that can initiate polymerization of the monomer.

【0123】このような光重合開始剤としては、イミダ
ゾール環を有する化合物、ベンゾイン結合を有する化合
物、その他の光ラジカル発生剤、トリハロメチル基を有
する化合物等を例示することができる。
Examples of such a photopolymerization initiator include compounds having an imidazole ring, compounds having a benzoin bond, other photoradical generators, compounds having a trihalomethyl group, and the like.

【0124】前記イミダゾール環を有する化合物として
は、例えば、特願平7−66514に記載の化合物が有
効である。
As the compound having an imidazole ring, for example, the compounds described in Japanese Patent Application No. 7-66514 are effective.

【0125】これらのうち、特に2,2′−ビス(2−
クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラキス
(4−エトキシカルボニルフェニル)ビイミダゾール、
2,2′−ビス(2−ブロモフェニル)−4,4′,
5,5′−テトラキス(4−エトキシカルボニルフェニ
ル)ビイミダゾール、2,2′−ビス(2−クロロフェ
ニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダ
ゾール、2,2′−ビス(2,4−ジクロロフェニル)
−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾー
ル、2,2′−ビス(2,4−ジブロモフェニル)−
4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、
2,2′−ビス(2,4,6−トリクロロフェニル)−
4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾールお
よび2,2′−ビス(2,4,6−トリブロモフェニ
ル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾ
ールが好ましい。
Of these, in particular, 2,2'-bis (2-
(Chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) biimidazole,
2,2'-bis (2-bromophenyl) -4,4 ',
5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis ( 2,4-dichlorophenyl)
-4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,4-dibromophenyl)-
4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole,
2,2'-bis (2,4,6-trichlorophenyl)-
4,4 ', 5,5'-Tetraphenylbiimidazole and 2,2'-bis (2,4,6-tribromophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenylbiimidazole are preferred.

【0126】ベンゾイン結合を有する化合物、その他の
光ラジカル発生剤としては、例えば、2−ヒドロキシ−
2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−
(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−
メチルプロパン−1−オン、4−(2−ヒドロキシエト
キシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケ
トン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、
2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2
−メチル−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォ
リノ−1−プロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジ
メチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタ
ン−1−オン、ベンゾフェノン、2,4−ジエチルチオ
キサントン、3,3−ジメチル−4−メトキシベンゾフ
ェノン、4−アジドベンズアルデヒド、4−アジドアセ
トフェノン、4−アジドベンザルアセトフェノン、アジ
ドピレン、4−ジアゾジフェニルアミン、4−ジアゾ−
4′−メトキシジフェニルアミン、4−ジアゾ−3−メ
トキシジフェニルアミン、ビス(2,6−ジメトキシベ
ンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルフォスフ
ィンオキサイド、ジベンゾイル、ベンゾインイソブチル
エーテル、N−フェニルチオアクリドン、トリフェニル
ピリリウムパークロレート、その他、製品名で、チバガ
イギー社製のイルガキュアシリーズ、ダロキュアシリー
ズ、等を挙げることができる。
Examples of the compound having a benzoin bond and other photoradical generators include, for example, 2-hydroxy-
2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-
(4-Isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-
Methylpropan-1-one, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone,
2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2
-Methyl- (4-methylthiophenyl) -2-morpholino-1-propan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, benzophenone, 2, 4-diethylthioxanthone, 3,3-dimethyl-4-methoxybenzophenone, 4-azidobenzaldehyde, 4-azidoacetophenone, 4-azidobenzalacetophenone, azidopyrene, 4-diazodiphenylamine, 4-diazo-
4'-methoxydiphenylamine, 4-diazo-3-methoxydiphenylamine, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, dibenzoyl, benzoin isobutyl ether, N-phenylthioacridone, Examples of the product include triphenylpyrylium perchlorate and Irgacure series and Darocure series manufactured by Ciba-Geigy under product names.

【0127】これらの中では、製品名CGI−369
(チバガイギー社製;(2−ベンジル−2−ジメチルア
ミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−
オン)、製品名CGI−1700(チバガイギー社製)
などが特に好ましい。
Among these, product name CGI-369
(Ciba Geigy; (2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butane-1-
ON), Product name CGI-1700 (manufactured by Ciba-Geigy)
Etc. are particularly preferred.

【0128】前記トリハロメチル基を有する化合物等と
しては、具体的に、例えば、1,3,5−トリス(トリ
クロロメチル)トリアジン、等を挙げることができる。
Specific examples of the compound having a trihalomethyl group include 1,3,5-tris (trichloromethyl) triazine.

【0129】これらの光ラジカル発生剤は、単独でまた
は2種以上を混合して使用することができる。
These photo-radical generators can be used alone or in combination of two or more.

【0130】これらの組成物においては、(D)光重合
開始剤成分として、ビイミダゾール系化合物、ベンゾイ
ン結合を有する化合物、その他の光ラジカル発生剤また
はトリハロメチル基を有する化合物を含有するが必要に
応じて、増感剤、硬化促進剤等や、高分子化合物からな
る光架橋剤あるいは光増感剤(以下、「高分子光架橋・
増感剤」という。)の1種以上を併用することもでき
る。
In these compositions, it is necessary to contain (D) a biimidazole compound, a compound having a benzoin bond, another photoradical generator or a compound having a trihalomethyl group as a photopolymerization initiator component. Accordingly, a sensitizer, a curing accelerator, or the like, a photocrosslinking agent or a photosensitizer (hereinafter, referred to as “polymer photocrosslinking
It is called "sensitizer." ) May be used in combination.

【0131】前記増感剤としては、例えば、4,4′−
ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4′−ビ
ス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4−ジエチルア
ミノアセトフェノン、4−ジメチルアミノプロピオフェ
ノン、エチル−4−ジメチルアミノベンゾエート、2−
エチルヘキシル−1,4−ジメチルアミノベンゾエー
ト、2,5−ビス(4′−ジエチルアミノベンザル)シ
クロヘキサノン、7−ジエチルアミノ−3−(4−ジエ
チルアミノベンゾイル)クマリン、4−(ジエチルアミ
ノ)カルコン、等を挙げることができる。
As the sensitizer, for example, 4,4'-
Bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 4-diethylaminoacetophenone, 4-dimethylaminopropiophenone, ethyl-4-dimethylaminobenzoate, 2-
Ethylhexyl-1,4-dimethylaminobenzoate, 2,5-bis (4'-diethylaminobenzal) cyclohexanone, 7-diethylamino-3- (4-diethylaminobenzoyl) coumarin, 4- (diethylamino) chalcone, and the like. Can be.

【0132】これらの増感剤は、単独でまたは2種以上
を混合して使用することができる。
These sensitizers can be used alone or in combination of two or more.

【0133】前記硬化促進剤としては、例えば、2−メ
ルカプトベンゾイミダゾール、2−メルカプトベンゾチ
アゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2,5
−ジメルカプト−1,3,4−チアジアゾール、2−メ
ルカプト−4,6−ジメチルアミノピリジン、1−フェ
ニル−5−メルカプト−1H−テトラゾール、3−メル
カプト−4−メチル−4H−1,2,4−トリアゾール
等を挙げることができる。
Examples of the curing accelerator include 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, and 2,5
-Dimercapto-1,3,4-thiadiazole, 2-mercapto-4,6-dimethylaminopyridine, 1-phenyl-5-mercapto-1H-tetrazole, 3-mercapto-4-methyl-4H-1,2,4 -Triazole and the like.

【0134】これらの硬化促進剤は、単独でまたは2種
以上を混合して使用することができる。
These curing accelerators can be used alone or in combination of two or more.

【0135】さらに、前記高分子光架橋・増感剤等は、
光架橋剤および/または光増感剤として機能しうる官能
基を主鎖および/または側鎖中に有する高分子化合物で
あり、その例としては、4−アジドベンズアルデヒドと
ポリビニルアルコールとの縮合物、4−アジドベンズア
ルデヒドとフェノールノボラック樹脂との縮合物、4−
アクリロイルフェニルシンナモイルエステルの単独重合
体あるいは共重合体、1,4−ポリブタジエン、1,2
−ポリブタジエン等を挙げることができる。
Further, the above-mentioned polymer photocrosslinking / sensitizing agent, etc.
A polymer compound having a functional group capable of functioning as a photocrosslinking agent and / or a photosensitizer in a main chain and / or a side chain, such as a condensate of 4-azidobenzaldehyde and polyvinyl alcohol, A condensate of 4-azidobenzaldehyde with a phenol novolak resin,
Acryloylphenylcinnamoyl ester homopolymer or copolymer, 1,4-polybutadiene, 1,2
-Polybutadiene and the like.

【0136】これらの高分子光架橋・増感剤は、単独で
または2種以上を混合して使用することができる。
These polymeric photocrosslinking / sensitizers can be used alone or in combination of two or more.

【0137】前記他の光ラジカル発生剤、増感剤および
硬化促進剤のうち、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−
フェニルプロパン−1−オン、2−メチル−(4−メチ
ルチオフェニル)−2−モルフォリノ−1−プロパン−
1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−
(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オン、4,
4′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,
4′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンおよび2
−メルカプトベンゾチアゾールなどを組み合わせて使用
するとことが、形成された画素が現像時に基板から脱落
し難く、画素強度および感度も高い点で好ましい。
Among the other photo-radical generators, sensitizers and curing accelerators, 2-hydroxy-2-methyl-1-
Phenylpropan-1-one, 2-methyl- (4-methylthiophenyl) -2-morpholino-1-propane-
1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-
(4-morpholinophenyl) butan-1-one, 4,
4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,
4'-bis (diethylamino) benzophenone and 2
-It is preferable to use a combination of mercaptobenzothiazole or the like in that the formed pixels are less likely to fall off the substrate during development, and the pixel strength and sensitivity are high.

【0138】これらの組成物における(D)光重合開始
剤の使用割合は、(C)多官能性モノマー100重量部
に対して、通常、0.01〜200重量部、好ましくは
1〜120重量部、特に好ましくは1〜50重量部であ
る。
The proportion of the photopolymerization initiator (D) used in these compositions is usually 0.01 to 200 parts by weight, preferably 1 to 120 parts by weight, per 100 parts by weight of the (C) polyfunctional monomer. Parts, particularly preferably 1 to 50 parts by weight.

【0139】この場合、これらの化合物の合計の使用割
合が0.01重量部未満では、放射線照射による硬化が
不十分となり、パターンに欠落、欠損やアンダーカット
を生じるおそれがあり、一方200重量部を超えると、
形成されたパターンが現像時に基板から脱落しやすく、
またパターンが形成される部分以外の領域で地汚れ、膜
残り等を生じやすくなる。
In this case, if the total use ratio of these compounds is less than 0.01 part by weight, curing by radiation irradiation becomes insufficient, and there is a possibility that a pattern may be missing, chipped or undercut, while 200 parts by weight may be produced. Exceeds
The formed pattern easily falls off the substrate during development,
In addition, background contamination, film residue, and the like are likely to occur in a region other than the portion where the pattern is formed.

【0140】これらの組成物における他の光ラジカル発
生剤の使用割合は、(D)光重合開始剤全体の80重量
%以下であることが好ましく、また増感剤および/また
は硬化促進剤の使用割合は、(D)光重合開始剤全体の
80重量%以下であることが好ましい。
The proportion of the other photoradical generator used in these compositions is preferably not more than 80% by weight of the total photopolymerization initiator (D), and the use of a sensitizer and / or a curing accelerator is preferred. The proportion is preferably not more than 80% by weight of the entire photopolymerization initiator (D).

【0141】これらの組成物における高分子光架橋・増
感剤の使用割合は、(D)光重合開始剤全体の50重量
%以下であることが好ましい。
The proportion of the polymer photocrosslinking / sensitizer used in these compositions is preferably not more than 50% by weight of the entire photopolymerization initiator (D).

【0142】(E)溶剤 これらの組成物における溶剤としては、前記(A)、
(B)、(C)および(D)成分や、後述する所望によ
り添加される他の添加剤成分を溶解または分散し、かつ
これらの成分と反応せず、適度の揮発性を有するもので
ある限り、適宜に選択して使用することができる。
(E) Solvents The solvents in these compositions include (A)
It dissolves or disperses the components (B), (C) and (D) and other optional components which will be added as will be described later, does not react with these components, and has appropriate volatility. As long as it is used, it can be appropriately selected and used.

【0143】このような溶剤としては、例えば、エチレ
ングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコール
モノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチル
エーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、
ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコ
ールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノ
エチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエー
テル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレン
グリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコー
ルモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ
ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチル
エーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテ
ル、等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエ
ーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテ
ート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテ
ート等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエ
ーテルアセテート類;ジエチレングリコールジメチルエ
ーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、
ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン等の他のエーテル類;メチルエチルケトン、シク
ロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン等のケ
トン類;2−ヒドロキシプロピオン酸メチル、2−ヒド
ロキシプロピオン酸エチル等の乳酸アルキルエステル
類;2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、
3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピ
オン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−
エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒ
ドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタ
ン酸メチル、3−メチル−3−メトキシブチルアセテー
ト、3−メチル−3−メトキシブチルプロピオネート、
酢酸エチル、酢酸ブチル、ぎ酸アミル、酢酸イソアミ
ル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプ
ロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、ピルビン酸メチル、
ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メ
チル、アセト酢酸エチル、2−オキソブタン酸エチル等
の他のエステル類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素類;N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホル
ムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等の含窒素
(アミド系)溶剤類;などを挙げることができる。
Examples of such a solvent include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether,
Diethylene glycol monopropyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol mono (Poly) alkylene glycol monoalkyl ethers such as propyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, and tripropylene glycol monoethyl ether; ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene Recall monomethyl ether acetate, and propylene glycol monoethyl ether acetate (poly) alkylene glycol monoalkyl ether acetates; diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether,
Other ethers such as diethylene glycol diethyl ether and tetrahydrofuran; ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone and 3-heptanone; alkyl lactates such as methyl 2-hydroxypropionate and ethyl 2-hydroxypropionate; Ethyl hydroxy-2-methylpropionate,
Methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, 3-
Ethyl ethoxypropionate, ethyl ethoxyacetate, ethyl hydroxyacetate, methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl propionate,
Ethyl acetate, butyl acetate, amyl formate, isoamyl acetate, isobutyl acetate, butyl propionate, isopropyl butyrate, ethyl butyrate, butyl butyrate, methyl pyruvate,
Other esters such as ethyl pyruvate, propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, ethyl 2-oxobutanoate; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide And nitrogen-containing (amide-based) solvents such as N, N-dimethylacetamide and the like.

【0144】これらの溶剤は、単独でまたは2種以上を
混合して使用することができる。
These solvents can be used alone or in combination of two or more.

【0145】さらに、前記溶剤とともに、ベンジルエチ
ルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセト
ン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、1−オクタ
ノール、1−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベ
ンジル、安息香酸エチル、しゅう酸ジエチル、マレイン
酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸
プロピレン、フェニルセロソルブアセテート等の高沸点
溶剤を併用することもできる。
Further, together with the solvent, benzyl ethyl ether, dihexyl ether, acetonylacetone, isophorone, caproic acid, caprylic acid, 1-octanol, 1-nonanol, benzyl alcohol, benzyl acetate, ethyl benzoate, diethyl oxalate, High boiling solvents such as diethyl maleate, γ-butyrolactone, ethylene carbonate, propylene carbonate, and phenyl cellosolve acetate can also be used in combination.

【0146】これらの高沸点溶剤は、単独でまたは2種
以上を混合して使用することができる。
These high-boiling solvents can be used alone or in combination of two or more.

【0147】前記溶剤のうち、溶解性、顔料分散性、塗
布性等の観点から、エチレングリコールモノメチルエー
テルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエー
テルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエー
テルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、シク
ロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン、2−
ヒドロキシプロピオン酸エチル、3−メチル−3−メト
キシブチルプロピオネート、3−メトキシプロピオン酸
エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキ
シプロピオン酸エチル、酢酸ブチル、ぎ酸アミル、酢酸
イソアミル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪
酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、ピルビン酸
エチル等が好ましく、また高沸点溶剤としてはγ−ブチ
ロラクトン等が好ましい。
Among the above solvents, from the viewpoint of solubility, pigment dispersibility, coatability, etc., ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, cyclohexanone , 2-heptanone, 3-heptanone, 2-
Ethyl hydroxypropionate, 3-methyl-3-methoxybutyl propionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, butyl acetate, amyl formate, isoamyl acetate, isobutyl acetate Butyl propionate, isopropyl butyrate, ethyl butyrate, butyl butyrate, ethyl pyruvate and the like, and γ-butyrolactone as the high boiling solvent is preferred.

【0148】これらの組成物における溶剤の使用割合に
は、特に制限はないが、通常、(A)、(B)、
(C)、(D)、及び、後述するその他各種添加剤を足
し合わせた総量が重量%濃度で、5〜50%になるよう
に、さらには、10〜40%になるように調整するの
が、塗布性の点、組成物の安定性の点などから好まし
い。
The proportion of the solvent used in these compositions is not particularly limited, but is usually (A), (B),
The total weight of (C), (D), and other various additives described below is adjusted to be 5% to 50% by weight, and more preferably 10% to 40%. Are preferred from the viewpoint of applicability, stability of the composition and the like.

【0149】この感放射線性組成物は、前述した通り、
成分として、(A)〜(E)を含むものであるが、アル
カリ現像液に対する溶解性をより改善し、かつ現像処理
後の未溶解物の残存をより少なくするために、有機酸を
含有するこもできる。
This radiation-sensitive composition was, as described above,
It contains (A) to (E) as a component, and may further contain an organic acid in order to further improve the solubility in an alkali developing solution and to reduce the remaining of undissolved matter after the development processing. .

【0150】このような有機酸としては、分子量が10
00以下である、脂肪族カルボン酸あるいはフェニル基
含有カルボン酸が好ましい。
Such an organic acid has a molecular weight of 10
An aliphatic carboxylic acid or a phenyl group-containing carboxylic acid of not more than 00 is preferable.

【0151】これらの有機酸のうち、マロン酸、アジピ
ン酸、イタコン酸、シトラコン酸、フマル酸、メサコン
酸、フタル酸等の脂肪族ジカルボン酸類および芳香族ジ
カルボン酸類が、アルカリ溶解性、(E)溶剤に対する
溶解性、画素が形成される部分以外の領域での地汚れの
防止等の観点から好ましい。
Among these organic acids, aliphatic dicarboxylic acids and aromatic dicarboxylic acids such as malonic acid, adipic acid, itaconic acid, citraconic acid, fumaric acid, mesaconic acid, and phthalic acid are alkali-soluble; It is preferable from the viewpoint of solubility in a solvent, prevention of background contamination in a region other than a portion where a pixel is formed, and the like.

【0152】前記有機酸は、単独でまたは2種以上を混
合して使用することができる。
The above-mentioned organic acids can be used alone or in combination of two or more.

【0153】これらの組成物における有機酸の使用割合
は、組成物全体に対して、通常、10重量%以下、好ま
しくは0.001〜10重量%、さらに好ましくは0.
01〜1重量%である。
The proportion of the organic acid used in these compositions is usually 10% by weight or less, preferably 0.001 to 10% by weight, more preferably 0.1% by weight, based on the whole composition.
0.01 to 1% by weight.

【0154】この場合、有機酸の使用割合が10重量%
を超えると、形成された画素の基板に対する密着性が低
下する傾向がある。
In this case, the use ratio of the organic acid is 10% by weight.
When the value exceeds, the adhesion of the formed pixel to the substrate tends to decrease.

【0155】さらに、この感放射線性組成物は、必要に
応じて種々の添加剤を含有することもできる。
Further, the radiation-sensitive composition may contain various additives as necessary.

【0156】このような添加剤としては、例えば、ガラ
ス、アルミナ等の充填剤;ポリビニルアルコール、ポリ
エチレングリコールモノアルキルエーテル、ポリフロロ
アルキルアクリレート等の高分子化合物;ノニオン系界
面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性
剤等の界面活性剤;ビニルトリメトキシシラン、ビニル
トリエトキシシラン、ビニルトリス(2−メトキシエト
キシ)シラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノ
プロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエ
チル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−
アミノプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシ
プロピルトリメトキシシラン、3−グリシジルプロピル
トリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチル
ジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキ
シル)エチルトリメトキシシラン、3−クロロプロピル
メチルジメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメト
キシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシ
シラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等
の密着促進剤;2,2−チオビス(4−メチル−6−t
−ブチルフェノール)、2,6−ジ−t−ブチルフェノ
ール等の酸化防止剤;2−(3−t−ブチル−5−メチ
ル−2−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリ
アゾール、アルコキシベンゾフェノン等の紫外線吸収
剤;ポリアクリル酸ナトリウム等の凝集防止剤;エポキ
シ化合物、メラミン化合物、ビスアジド化合物等の熱架
橋剤;を挙げることができる。
Examples of such additives include fillers such as glass and alumina; polymer compounds such as polyvinyl alcohol, polyethylene glycol monoalkyl ether and polyfluoroalkyl acrylate; nonionic surfactants and cationic surfactants. And surfactants such as anionic surfactants; vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N -(2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-
Aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidylpropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3 Adhesion promoters such as -chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane and 3-mercaptopropyltrimethoxysilane; 2,2-thiobis (4-methyl-6-t
-Butylphenol) and antioxidants such as 2,6-di-t-butylphenol; UV-absorption such as 2- (3-t-butyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl) -5-chlorobenzotriazole and alkoxybenzophenone Agents; aggregation preventing agents such as sodium polyacrylate; thermal crosslinking agents such as epoxy compounds, melamine compounds and bisazide compounds;

【0157】カラーフィルタの形成方法 次に、この感放射線性組成物を用いて、カラーフィルタ
を形成する方法について説明する。
Next, a method for forming a color filter using the radiation-sensitive composition will be described.

【0158】まず、透明基板の表面上の画素パターンを
形成する部分を区画するように遮光層を形成し、この基
板上に、例えば赤色の顔料が分散された感放射線性組成
物を塗布したのち、プリベークを行って溶剤を蒸発さ
せ、塗膜を形成する。
First, a light-shielding layer is formed so as to partition a portion where a pixel pattern is to be formed on the surface of a transparent substrate, and a radiation-sensitive composition in which, for example, a red pigment is dispersed is coated on the substrate. And pre-baking to evaporate the solvent to form a coating film.

【0159】次いで、この塗膜にフォトマスクを介して
放射線を照射したのち、現像処理を行い、塗膜の放射線
未照射部を溶解除去することによって、赤色の画素が所
定のパターンで配置された画素アレイを形成する。
Next, after this coating film was irradiated with radiation through a photomask, development processing was performed, and the unirradiated portion of the coating film was dissolved and removed, whereby red pixels were arranged in a predetermined pattern. Form a pixel array.

【0160】その後、緑色または青色の顔料が分散され
た各感放射線性組成物を用い、上記と同様にして、各組
成物の塗布、プリベーク、放射線照射および現像処理を
行い、緑色の画素アレイおよび青色の画素アレイを同一
基板上に順次形成することにより、赤色、緑色および青
色の三原色の画素アレイが基板上に配置されたカラーフ
ィルタを得る。
Thereafter, using the respective radiation-sensitive compositions in which the green or blue pigments are dispersed, the respective compositions are coated, prebaked, irradiated with radiation, and developed in the same manner as described above to obtain a green pixel array and By sequentially forming a blue pixel array on the same substrate, a color filter in which red, green, and blue pixel arrays of three primary colors are arranged on the substrate is obtained.

【0161】カラーフィルタを形成する際に使用される
透明基板としては、例えばガラス、シリコン、ポリカー
ボネート、ポリエステル、芳香族ポリアミド、ポリアミ
ドイミド、ポリイミド等を挙げることができる。これら
の透明基板には、所望により、シランカップリング剤等
による薬品処理、プラズマ処理、イオンプレーティン
グ、スパッタリング、気相反応法、真空蒸着等の適宜の
前処理を施しておくこともできる。
As the transparent substrate used for forming the color filter, for example, glass, silicon, polycarbonate, polyester, aromatic polyamide, polyamideimide, polyimide and the like can be mentioned. These transparent substrates may be subjected to an appropriate pretreatment such as a chemical treatment with a silane coupling agent or the like, a plasma treatment, an ion plating, a sputtering, a gas phase reaction method, or a vacuum deposition, if desired.

【0162】感放射線性組成物を透明基板に塗布する際
には、回転塗布、流延塗布、ロール塗布等の適宜の塗布
法を採用することができる。
When applying the radiation-sensitive composition to the transparent substrate, an appropriate coating method such as spin coating, casting coating, roll coating and the like can be adopted.

【0163】塗布厚さは、乾燥後の膜厚として、通常、
0.1〜10μm、好ましくは0.2〜5.0μm、特
に好ましくは0.2〜3.0μmである。
The coating thickness is usually a film thickness after drying.
It is 0.1 to 10 μm, preferably 0.2 to 5.0 μm, particularly preferably 0.2 to 3.0 μm.

【0164】カラーフィルタを形成する際に使用される
放射線としては、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子
線、X線等を使用することができるが、波長が190〜
450nmの範囲にある放射線が好ましい。
As radiation used for forming the color filter, visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, electron beam, X-ray and the like can be used.
Radiation in the range of 450 nm is preferred.

【0165】放射線の照射エネルギー量は、好ましくは
1〜1000mJ/cm2 である。
The radiation energy amount of the radiation is preferably 1 to 1000 mJ / cm 2 .

【0166】前記アルカリ現像液としては、例えば炭酸
ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、テト
ラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、コリン、
1,8−ジアザビシクロ−[5.4.0]−7−ウンデ
セン、1,5−ジアザビシクロ−[4.3.0]−5−
ノネン等の水溶液が好ましい。
Examples of the alkaline developer include sodium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide, choline,
1,8-diazabicyclo- [5.4.0] -7-undecene, 1,5-diazabicyclo- [4.3.0] -5-
An aqueous solution such as nonene is preferred.

【0167】また、前記アルカリ現像液には、例えばメ
タノール、エタノール等の水溶性有機溶剤や界面活性剤
等を適量添加することもできる。
In addition, a suitable amount of a water-soluble organic solvent such as methanol or ethanol, a surfactant or the like can be added to the alkali developer.

【0168】なお、アルカリ現像後は、通常、水洗す
る。
After the alkali development, washing is usually performed with water.

【0169】現像処理法としては、シャワー現像法、ス
プレー現像法、ディップ(浸漬)現像法、パドル(液盛
り)現像法等を適用することができ、現像条件は、常温
で5〜300秒が好ましい。
As the developing treatment method, a shower developing method, a spray developing method, a dip (immersion) developing method, a paddle (liquid puddle) developing method, and the like can be applied. preferable.

【0170】このようにして形成されたカラーフィルタ
は、例えばカラー液晶表示装置、カラー撮像管素子、カ
ラーセンサー等に極めて有用である。
The color filter thus formed is extremely useful for, for example, a color liquid crystal display device, a color image pickup tube element, a color sensor and the like.

【0171】[0171]

【実施例】以下、実施例をもって本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。
EXAMPLES The present invention will be described in detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0172】<重合体の特性分析>粘度は、各重合体の
30%プロピレングリコールメチルエーテルアセテート
溶液の粘度を東京計器製のEM型粘度計によって測定し
た(測定温度:25℃)。
<Polymer Characteristic Analysis> The viscosity was measured by measuring the viscosity of a 30% propylene glycol methyl ether acetate solution of each polymer with an EM viscometer manufactured by Tokyo Keiki (measuring temperature: 25 ° C.).

【0173】核磁気共鳴スペクトル( 1H−NMR)
は、日本電子製JNM−EX90A型(90MHz)を
使用して測定した。なお、測定サンプルは、特定重合体
をプロピレングリコールメチルエーテルアセテート溶液
(重合後の溶液)からn−ヘキサンによる再沈殿で取り
出し、重水素溶媒であるDMSO−d6 に溶解させるこ
とにより作製した。
Nuclear magnetic resonance spectrum ( 1 H-NMR)
Was measured using JEOL's JNM-EX90A type (90 MHz). The measurement samples were prepared by allowing a specific polymer was taken out from propylene glycol methyl ether acetate solution (the solution after the polymerization) by reprecipitation by n- hexane, dissolved in DMSO-d 6 is deuterium solvent.

【0174】〈特定重合体a.の製造〉 実施例1 500mlの四つ口フラスコ中に、テトラカルボン酸二
無水物として2,3,5−トリカルボキシシクロペンチ
ル酢酸二無水物30.44g(136mmol)、ジオ
ール化合物として9.9−ビス(4−(2−ヒドロキシ
エトキシ)フェニル)フルオレン59.56g(136
mmol)、溶媒としてプロピレングリコールモノメチ
ルエーテルアセテート210g、触媒として、テトラエ
チルアンモニウムブロマイド0.27g(1.3mmo
l)を仕込み、撹拌しながら、110℃で加熱した。こ
の反応液は当初白濁していたが、次第に溶解し、1時間
後完全に溶解した。溶解後、6時間、そのまま反応させ
ることで、目的とする特定重合体a.(a1)を得た。
この重合体の30%プロピレングリコールモノメチルエ
ーテルアセテート溶液の粘度は、197mP・s(25
℃)であった。なお、重合体のNMRスペクトルを図1
に示した。
<Specific polymer a. Production> Example 1 In a 500 ml four-necked flask, 30.44 g (136 mmol) of 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride as tetracarboxylic dianhydride and 9.9-bis as diol compound 59.56 g of (4- (2-hydroxyethoxy) phenyl) fluorene (136
mmol), 210 g of propylene glycol monomethyl ether acetate as a solvent, and 0.27 g (1.3 mmol) of tetraethylammonium bromide as a catalyst.
1) and heated at 110 ° C. with stirring. The reaction solution was cloudy at first, but gradually dissolved and completely dissolved after 1 hour. After dissolution, the target specific polymer a. (A1) was obtained.
The viscosity of a 30% propylene glycol monomethyl ether acetate solution of this polymer is 197 mP · s (25
° C). The NMR spectrum of the polymer is shown in FIG.
It was shown to.

【0175】実施例2〜8 原料の化合物を変更した以外は、実施例1に示した方法
で同様に反応させ、目的とする化合物(a2)〜(a
8)を得た。実施結果を表1にまとめた。
Examples 2 to 8 The reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that the starting compounds were changed to obtain the desired compounds (a2) to (a).
8) was obtained. The implementation results are summarized in Table 1.

【0176】[0176]

【表1】 [Table 1]

【0177】〈特定重合体b.の製造〉 実施例9 500mlの四つ口フラスコ中に、テトラカルボン酸二
無水物として2,3,5−トリカルボキシシクロペンチ
ル酢酸二無水物30.86g(138mmol)、ジオ
ール化合物として9.9−ビス(4−(2−ヒドロキシ
エトキシ)フェニル)フルオレン57.35g(131
mmol)、溶媒としてプロピレングリコールモノメチ
ルエーテルアセテート210g、触媒として、テトラエ
チルアンモニウムブロマイド0.27g(1.3mmo
l)を仕込み、撹拌しながら、110℃で加熱した。こ
の反応液は当初白濁していたが、次第に溶解し、1時間
後完全に溶解した。溶解後、6時間、そのまま反応さ
せ、一旦、室温(約25℃)まで冷却した。続いて、2
−ヒドロキシエチルメタクリレート1.79g(14m
mol)を、先の反応溶液に注ぎ、100℃で4時間反
応させることで、目的とする特定重合体b.(b1)を
得た。
<Specific polymer b. Example 9 30.86 g (138 mmol) of 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride as a tetracarboxylic dianhydride and 9.9-bis as a diol compound in a 500 ml four-necked flask 57.35 g of (4- (2-hydroxyethoxy) phenyl) fluorene (131
mmol), 210 g of propylene glycol monomethyl ether acetate as a solvent, and 0.27 g (1.3 mmol) of tetraethylammonium bromide as a catalyst.
1) and heated at 110 ° C. with stirring. The reaction solution was cloudy at first, but gradually dissolved and completely dissolved after 1 hour. After dissolution, the reaction was allowed to proceed for 6 hours, and the mixture was once cooled to room temperature (about 25 ° C.). Then, 2
1.79 g of hydroxyethyl methacrylate (14 m
mol) is poured into the above reaction solution and reacted at 100 ° C. for 4 hours to obtain the desired specific polymer b. (B1) was obtained.

【0178】実施例10〜11 原料の化合物を変更した以外は、実施例9に示した方法
で同様に反応させ、目的とする化合物(b2)〜(b
3)を得た。実施結果を表2にまとめた。
Examples 10 to 11 Except that the starting compounds were changed, the reaction was carried out in the same manner as in Example 9 to obtain the desired compounds (b2) to (b).
3) was obtained. The results of the implementation are summarized in Table 2.

【0179】[0179]

【表2】 [Table 2]

【0180】実施例12 (A)成分として、実施例1で合成した特定重合体(a
1):60重量部、(B)成分として、赤色顔料(C.I.
PigmentRed177):100重量部を分散剤を用いて分散さ
せた顔料分散液、(C)成分として、ジペンタエリスリ
トールヘキサアクリレート:60重量部、(D)成分と
して、2,2′−ビス(2−クロロフェニル)−4,
4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール:10
重量部と4,4′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェ
ノン:10重量部、(E)成分として、プロピレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート:600重量部
(ただし、顔料分散液の溶媒を含む)、シクロヘキサノ
ン:300重量部、を混合して感放射線性組成物を調製
した。
Example 12 As the component (A), the specific polymer (a) synthesized in Example 1 was used.
1): 60 parts by weight, as the component (B), a red pigment (CI
Pigment Red 177): a pigment dispersion in which 100 parts by weight is dispersed using a dispersant, dipentaerythritol hexaacrylate: 60 parts by weight as a component (C), and 2,2'-bis (2- Chlorophenyl) -4,
4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole: 10
Parts by weight and 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone: 10 parts by weight, as component (E), propylene glycol monomethyl ether acetate: 600 parts by weight (including the solvent for the pigment dispersion), cyclohexanone: 300 parts by weight Was mixed to prepare a radiation-sensitive composition.

【0181】次いで、表面にナトリウムイオンの溶出を
防止するシリカ(SiO2 )膜が形成されたソーダガラ
ス製透明基板の表面上に、画素パターンを形成する部分
を区画するように遮光層を設けたのち、スピンコーター
を用いて前記感放射線性組成物を塗布し、80℃のホッ
トプレートで2分間プリベークを行ない、膜厚1.5μ
mの塗膜を形成した。
Next, a light-shielding layer was provided on the surface of a transparent substrate made of soda glass, on which a silica (SiO 2 ) film for preventing sodium ions from being eluted was formed, so as to partition a portion for forming a pixel pattern. Thereafter, the radiation-sensitive composition was applied using a spin coater, and prebaked on a hot plate at 80 ° C. for 2 minutes to form a film having a thickness of 1.5 μm.
m was formed.

【0182】その後、基板を冷却したのち、高圧水銀ラ
ンプを用い、フォトマスクを介して、塗膜に波長365
nm、405nmおよび436nmの光を含む50mJ
/cm2 の紫外線を照射した。
Then, after cooling the substrate, the wavelength of 365 was applied to the coating film using a high pressure mercury lamp through a photomask.
50 mJ including nm, 405 nm and 436 nm light
/ Cm 2 of ultraviolet rays.

【0183】次いで、基板を後述する条件で現像処理を
行い、風乾したのち、さらに180℃で30分間ポスト
ベークを行なって、各辺20μm×20μmの大きさの
赤色の画素パターンが形成された画素アレイを作製し
た。
Next, the substrate was developed under the conditions described below, air-dried, and further post-baked at 180 ° C. for 30 minutes to form a pixel having a red pixel pattern of 20 μm × 20 μm on each side. An array was made.

【0184】得られた画素アレイにはパターンの欠落や
欠損は認められず、パターン断面を走査型電子顕微鏡で
観察したところ、アンダーカットは認められなかった。
また画素アレイを光学顕微鏡で観察したところ、基板上
のパターンが形成されていない領域に未溶解物の残存は
認められなかった。また、得られた画素の鉛筆硬度を測
定したところ、5Hであった。
[0184] In the obtained pixel array, no missing or missing pattern was observed. When the cross section of the pattern was observed with a scanning electron microscope, no undercut was observed.
When the pixel array was observed with an optical microscope, no undissolved matter was found in a region where no pattern was formed on the substrate. The measured pencil hardness of the obtained pixel was 5H.

【0185】〈現像条件〉 現像液:0.2重量%濃度のテトラメチルアンモニウム
ヒドロキシド水溶液(25℃) 現像装置:シャワー現像装置 現像時間:1分間 リンス時間:1分間(超純水) シャワー圧:0.2kg/cm2 実施例13〜22 (A)成分として、特定重合体(a1)の代わりに、実
施例2〜11で得られた特定反応物(a2)〜(a8)
と(b1)〜(b3)を用いた以外は、実施例12と同
様に、感放射線組成物を調製し、画素アレイを作製し
た。評価結果を表3に示した。
<Developing Conditions> Developing solution: 0.2% by weight aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide (25 ° C.) Developing device: Shower developing device Developing time: 1 minute Rinse time: 1 minute (ultra pure water) Shower pressure : 0.2 kg / cm 2 Examples 13 to 22 Specific reactants (a2) to (a8) obtained in Examples 2 to 11 instead of the specific polymer (a1) as the component (A).
A radiation-sensitive composition was prepared and a pixel array was prepared in the same manner as in Example 12, except that (b1) to (b3) were used. Table 3 shows the evaluation results.

【0186】[0186]

【表3】 [Table 3]

【0187】比較例1 バインダーポリマーとして、メタクリル酸/ベンジルメ
タクリレート/2−ヒドロキシエチルメタクリレート/
ポリスチレンマクロモノマー共重合体(共重合重量比:
15/60/15/10、重量平均分子量:2800
0):60重量部、(B)成分として、赤色顔料(C.I.
PigmentRed177):100重量部を分散剤を用いて分散さ
せた顔料分散液、(C)成分として、、ジペンタエリス
リトールヘキサアクリレート:60重量部、(D)成分
として、2,2′−ビス(2−クロロフェニル)−4,
4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール:10
重量部と4,4′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェ
ノン:10重量部、(E)成分として、プロピレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート:800重量部
(ただし、顔料分散液の溶媒を含む)、シクロヘキサノ
ン:100重量部、を混合して感放射線性組成物を調製
した。
Comparative Example 1 As a binder polymer, methacrylic acid / benzyl methacrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate /
Polystyrene macromonomer copolymer (copolymer weight ratio:
15/60/15/10, weight average molecular weight: 2800
0): 60 parts by weight, a red pigment (CI
Pigment Red 177): a pigment dispersion obtained by dispersing 100 parts by weight using a dispersant, dipentaerythritol hexaacrylate: 60 parts by weight as a component (C), 2,2′-bis (2 -Chlorophenyl) -4,
4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole: 10
Parts by weight and 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone: 10 parts by weight, as the component (E), propylene glycol monomethyl ether acetate: 800 parts by weight (including the solvent for the pigment dispersion), cyclohexanone: 100 parts by weight Was mixed to prepare a radiation-sensitive composition.

【0188】この感放射線性組成物を用い、実施例1と
同様にして、基板上に赤色の画素パターンが形成された
画素アレイを作製した。得られた画素アレイはパターン
が一部欠落しており、残存した部分の鉛筆硬度を測定し
たところ、3Hとカラーフィルター用の硬化膜として
は、柔らかいものであった。
Using this radiation-sensitive composition, a pixel array having a red pixel pattern formed on a substrate was produced in the same manner as in Example 1. A part of the obtained pixel array was missing a pattern, and the pencil hardness of the remaining part was measured. As a result, the cured film for 3H and the color filter was soft.

【0189】比較例2 バインダーポリマーとして、メタクリル酸/メチルメタ
クリレート/2−ヒドロキシエチルメタクリレート/ポ
リスチレンマクロモノマー共重合体(共重合重量比:1
5/60/15/10、重量平均分子量:29000)
を用いた以外は、比較例1と同様にして感放射線性組成
物を調整し、基板上に赤色の画素パターンが形成された
画素アレイを作成した。得られた画素アレイはパターン
が一部欠落しており、残存した部分の鉛筆硬度を測定し
たところ、3Hとカラーフィルター用の硬化膜として
は、柔らかいものであった。
Comparative Example 2 As a binder polymer, methacrylic acid / methyl methacrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate / polystyrene macromonomer copolymer (copolymer weight ratio: 1)
5/60/15/10, weight average molecular weight: 29000)
A radiation-sensitive composition was prepared in the same manner as in Comparative Example 1 except for using, to prepare a pixel array in which a red pixel pattern was formed on a substrate. A part of the obtained pixel array was missing a pattern, and the pencil hardness of the remaining part was measured. As a result, the cured film for 3H and the color filter was soft.

【0190】[0190]

【発明の効果】本発明によれば、新規なカルボキシル基
含有のポリエステル系重合体を用いることで、少ない露
光量でも、パターニング可能で、かつ、硬度の高いカラ
ーフィルターを得ることが可能な、フォトリソグラフィ
ー用の感放射線性着色組成物が得られる。本発明の感放
射線性着色組成物を用いて形成したカラーフィルター
は、信頼性に優れ、例えば卓上計算機、腕時計、置時
計、係数表示板、ワードプロセッサ、パーソナルコンピ
ューター、液晶テレビなどの表示装置に有効に用いられ
る。
According to the present invention, by using a novel carboxyl group-containing polyester polymer, it is possible to obtain a color filter that can be patterned with a small amount of exposure and has high hardness. A radiation-sensitive colored composition for lithography is obtained. The color filter formed using the radiation-sensitive coloring composition of the present invention has excellent reliability and is effectively used for display devices such as desktop calculators, watches, clocks, coefficient display boards, word processors, personal computers, and liquid crystal televisions. Can be

【0191】また、本発明の新規なカルボキシル基含有
のポリエステル系重合体は、アルカリ水溶液に可溶であ
ることから、感光剤の種類、添加物の種類を選択すれ
ば、各種レジスト用、例えば、オーバーコート膜用、感
光性スペーサー用などにも、広く適用可能である。
Further, since the novel carboxyl group-containing polyester polymer of the present invention is soluble in an aqueous alkaline solution, if the type of photosensitizer and the type of additive are selected, it can be used for various resists, for example, It is widely applicable to overcoat films and photosensitive spacers.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施例1によって調整された特定重合体a1に
関するNMRチャートである。
FIG. 1 is an NMR chart of a specific polymer a1 prepared in Example 1.

【図2】実施例4によって調整された特定重合体a4に
関するNMRチャートである。
FIG. 2 is an NMR chart for a specific polymer a4 prepared in Example 4.

【図3】実施例5によって調整された特定重合体a5に
関するNMRチャートである。
FIG. 3 is an NMR chart for a specific polymer a5 prepared in Example 5.

【図4】実施例6によって調整された特定重合体a6に
関するNMRチャートである。
FIG. 4 is an NMR chart for a specific polymer a6 prepared in Example 6.

【図5】実施例10によって調整された特定重合体b2
に関するNMRチャートである。
FIG. 5: Specific polymer b2 prepared according to Example 10
3 is an NMR chart for the present invention.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 熊野 厚司 東京都中央区築地二丁目11番24号 日本合 成ゴム株式会社内 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Atsushi Kumano 2--11-24 Tsukiji, Chuo-ku, Tokyo Inside Nippon Gosei Rubber Co., Ltd.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】下記式(1) 【化1】 [式中、R1 は4価の有機基を示す。]で表されるテト
ラカルボン酸二無水物と、 下記式(2) 【化2】 [式中、R2 は2価の有機基を示す。]で表されるジオ
ールを、反応させることにより得られる、カルボキシル
基含有のアルカリ可溶性重合体。
(1) The following formula (1): [In the formula, R 1 represents a tetravalent organic group. And a tetracarboxylic dianhydride represented by the following formula (2): [In the formula, R 2 represents a divalent organic group. A carboxyl group-containing alkali-soluble polymer obtained by reacting a diol represented by the formula:
【請求項2】式(1) 【化3】 [式中、R1 は4価の有機基を示す。]で表されるテト
ラカルボン酸二無水物と、 式(2) 【化4】 [式中、R2 は2価の有機基を示す。]で表されるジオ
ールと、光重合可能な不飽和結合を少なくとも1つ含有
するアルコール、アミン、または、酸無水物を、反応さ
せることにより得られる、カルボキシル基含有のアルカ
リ可溶性重合体。
(2) Formula (1) [In the formula, R 1 represents a tetravalent organic group. And a tetracarboxylic dianhydride represented by the formula (2): [In the formula, R 2 represents a divalent organic group. A carboxyl group-containing alkali-soluble polymer obtained by reacting the diol represented by formula (I) with an alcohol, amine or acid anhydride containing at least one unsaturated bond capable of photopolymerization.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003002958A (en) * 2001-06-26 2003-01-08 Nippon Kayaku Co Ltd Polyester soluble in alkaline aqueous solution and photosensitive resin composition and cured product thereof using the same
US6524757B2 (en) * 2000-07-13 2003-02-25 Dainippon Ink And Chemicals, Inc. Color filter and method for producing the same
JP2003176344A (en) * 2001-12-11 2003-06-24 Nagase Chemtex Corp Photopolymerizable unsaturated resin, method for producing the same and alkali-soluble radiation- sensitive resin composition produced by using the resin
JP2007531815A (en) * 2004-04-05 2007-11-08 エイゼット・エレクトロニック・マテリアルズ・ユーエスエイ・コーポレイション Polyester production method
WO2010119868A1 (en) * 2009-04-14 2010-10-21 日産化学工業株式会社 Photosensitive polyester composition for use in forming thermally cured film
CN105601900A (en) * 2016-01-29 2016-05-25 深圳市容大感光科技股份有限公司 Polyester-type alkaline-water-soluble photocuring resin and preparation method thereof, and photoinduced imaging agent

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6524757B2 (en) * 2000-07-13 2003-02-25 Dainippon Ink And Chemicals, Inc. Color filter and method for producing the same
KR100716632B1 (en) * 2000-07-13 2007-05-09 다이니혼 잉키 가가쿠 고교 가부시키가이샤 Color filter and process for producing the same
JP2003002958A (en) * 2001-06-26 2003-01-08 Nippon Kayaku Co Ltd Polyester soluble in alkaline aqueous solution and photosensitive resin composition and cured product thereof using the same
JP2003176344A (en) * 2001-12-11 2003-06-24 Nagase Chemtex Corp Photopolymerizable unsaturated resin, method for producing the same and alkali-soluble radiation- sensitive resin composition produced by using the resin
JP2007531815A (en) * 2004-04-05 2007-11-08 エイゼット・エレクトロニック・マテリアルズ・ユーエスエイ・コーポレイション Polyester production method
WO2010119868A1 (en) * 2009-04-14 2010-10-21 日産化学工業株式会社 Photosensitive polyester composition for use in forming thermally cured film
KR20120013941A (en) * 2009-04-14 2012-02-15 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 Photosensitive polyester composition for use in forming thermally cured film
JP5626536B2 (en) * 2009-04-14 2014-11-19 日産化学工業株式会社 Photosensitive polyester composition for thermosetting film formation
TWI500657B (en) * 2009-04-14 2015-09-21 Nissan Chemical Ind Ltd Photosensitive polyester composition for forming thermoset film
CN105601900A (en) * 2016-01-29 2016-05-25 深圳市容大感光科技股份有限公司 Polyester-type alkaline-water-soluble photocuring resin and preparation method thereof, and photoinduced imaging agent

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