JPH10273484A - 金属キレートアゾメチン化合物及びこれを用いた光学的記録媒体 - Google Patents
金属キレートアゾメチン化合物及びこれを用いた光学的記録媒体Info
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Abstract
色素を提供する。 【解決手段】 下記式で示されるアゾメチン化合物が金
属とキレートを形成している金属キレートアゾメチン化
合物。 【化1】 (式中、Aは複素環を形成する残基を表わし、Bは芳香
環又は複素環を形成する残基を表わす。Xは活性水素を
有する基を表わす)
Description
と金属との新規な金属キレートアゾメチン化合物及びそ
れを用いた光学的記録媒体に関する。
の情報の記録、保存及び再生が可能であるため、近年、
特にその開発が盛んである。光学記録の一例としては、
光ディスクを挙げることができる。一般に光ディスク
は、円形の基板上に設けられた薄い記録層に、1μm程
度に集束したレーザー光を照射し、高密度の情報記録を
行うものである。その記録は、照射されたレーザー光エ
ネルギーを吸収することによって、その個所の記録層
に、分解、蒸発、溶解等の熱的変形が生成することによ
り行われる。また、記録された情報の再生は、レーザー
光により変形が起きている部分と起きていない部分の反
射率の差を読み取ることにより行われる。従って、記録
層はレーザー光のエネルギーを効率よく吸収する必要が
あり、レーザー吸収色素が用いられている。
構成のものが知られている。例えば、特開昭55−97
033号公報には、基板上にフタロシアニン系色素の単
層を設けたものが開示されている。しかしながら、フタ
ロシアニン系色素は感度が低く、また分解点が高く蒸着
しにくい等の問題点を有し、さらに有機溶媒に対する溶
解性が著しく低いため塗布によるコーティングに使用す
ることができないという問題点も有している。
8−114989号、同59−85791号、同60−
83236号各公報等には、シアニン系色素を用いた記
録層を設けたものが開示されている。しかし、この色素
は溶解性が高く、塗布によるコーティングが可能である
という利点の反面、耐光性が劣るという問題点を有して
いる。このため、特開昭59−55795号公報には、
このシアニン系色素にクエンチャーを加えて耐光性を向
上させることが検討されているが、まだまだ不十分なレ
ベルである。
点を解決する記録用色素、及びそれを用いた光学的記録
媒体を提供することを目的とするものである。
記一般式〔I〕で示されるアゾメチン化合物が金属とキ
レートを形成している金属キレートアゾメチン化合物で
ある。
及び窒素原子と一緒になって複素環を形成する残基を表
わし、Bはそれが結合している二つの炭素原子と一緒に
なって芳香環又は複素環を形成する残基を表わし、Xは
活性水素を有する基を表わす。)
と、前記一般式〔I〕において、残基Aはそれが結合し
ている炭素原子及び窒素原子と一緒になって複素環を形
成するが、残基Aが形成する複素環としては下記のもの
が好ましい。
て、水素原子;メチル基、エチル基、n−プロピル基、
イソプロピル基、n−ブチル基、tert−ブチル基、
sec−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基等
の炭素数1〜7のアルキル基;メトキシ基、エトキシ
基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキ
シ基、tert−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、n
−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基等の炭素数
1〜8のアルコキシ基;メチル基、エチル基、n−プロ
ピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、tert−ブ
チル基、sec−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキ
シルなどアルキル基の炭素数が1〜6のアルキルスルホ
ニル基及びアルコキシスルホニル基;フェニルスルホニ
ル基;アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソ
ブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、ピバロイル
基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基等の炭素数2〜7
のアルキルカルボニル基;フッ素原子、塩素原子、臭素
原子等のハロゲン原子;ホルミル基;−CR9 =CR10
(CN)(ここで、R9 は水素原子又は前記R1 〜R8
において定義したものと同様の炭素数1〜6のアルキル
基を表し、R10はシアノ基又はメトキシカルボニル基、
エトキシカルボニル基、n−プロポキシカルボニル基、
イソプロポキシカルボニル基、n−ブトキシカルボニル
基、tert−ブトキシカルボニル基、sec−ブトキ
シカルボニル基、n−ペンチルオキシカルボニル基、n
−ヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数2〜7のアル
コキシカルボニル基を表す。);ニトロ基;
て、水素原子又はニトロ基を表し、Zは単結合、−SC
H2 −、−SO2 −又は−SO2 CH2 −を表す。);
炭素数が1〜3のフルオロアルキル基及びフルオロアル
コキシ基;シアノ基;前記R10において定義したものと
同義の炭素数2〜7のアルコキシカルボニル基;メトキ
シカルボニルメチル基、メトキシカルボニルエチル基、
エトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルエチ
ル基、n−プロポキシカルボニルメチル基、n−プロポ
キシカルボニルエチル基、n−プロポキシカルボニルプ
ロピル基、イソプロポキシカルボニルメチル基、イソプ
ロポキシカルボニルエチル基等の炭素数3〜7のアルコ
キシカルボニルアルキル基;又はメチルチオ基、エチル
チオ基、n−プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、n
−ブチルチオ基、tert−ブチルチオ基、sec−ブ
チルチオ基、n−ペンチルチオ基、n−ヘキシルチオ基
等の炭素数1〜7のアルキルチオ基;炭素数1〜3のフ
ルオロアルキルチオ基;フェニルアゾ基を表す。残基A
が形成する複素環は、下記のいずれかであるのがより好
ましい。
ぞれ独立して、イソプロピル基、tert−ブチル基、
sec−ブチル基、2,4−ジメチル−3−ペンチル基
等の分岐の炭素数3〜7のアルキル基;イソプロポキシ
基、tert−ブトキシ基、2,4−ジメチル−3−ペ
ンチルオキシ基等の炭素数3〜8の分岐アルコキシ基;
イソプロピルチオ基、tert−ブチルチオ基、sec
−ブチルチオ基、2,4−ジメチル−3−ペンチルチオ
基等の炭素数3〜7の分岐アルキルチオ基;フッ素原
子;トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、
テトラフルオロエチル基等の炭素数1〜3のフッ素置換
アルキル基;トリフルオロメトキシ基、ペンタフルオロ
エトキシ基、テトラフルオロエトキシ基等の炭素数1〜
3のフッ素置換アルコキシ基;トリフルオロメチルチオ
基、ペンタフルオロエチルチオ基、テトラフルオロエチ
ルチオ基等の炭素数1〜3のフッ素置換アルキルチオ基
などを表わす。
において、Bが形成する芳香環又は複素環としては、ベ
ンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピリドン環、テ
トラヒドロキノリン環又はピラゾール環等が挙げられ
る。これらの芳香環又は複素環は更にX以外の置換基を
有していてもよく、置換基としては、アルキル基、アル
コキシ基、アリールオキシ基、アラルキル基、アリール
基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、エステル基、
カルバモイル基、アシル基、アシルアミノ基、スルファ
モイル基、スルホンアミド基、アミノ基、ヒドロキシル
基、フェニルアゾ基、ピリジノアゾ基、ビニル基等が挙
げられ、これらの置換基そのものも更に置換基を有して
いてもよい。これらの芳香族環又は複素環の置換基の中
で好ましいものとしては、置換基を有していてもよい炭
素数1〜25のアルキル基、置換基を有していてもよい
炭素数1〜25のアルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ
基、ニトロ基、置換基を有していてもよい炭素数1〜2
5のアルキルスルファモイル基、置換基を有していても
よい炭素数6〜30のフェニルスルファモイル基、置換
基を有していてもよいフェニルアゾ基、置換基を有して
いてもよいピリジノアゾ基、炭素数2〜26のエステル
基、炭素数2〜26のカルバモイル基、炭素数2〜26
のアシル基、炭素数1〜25のアシルアミノ基、炭素数
1〜25のスルホンアミド基、−NR17R18(R17及び
R18は、それぞれ独立して、水素原子;置換されていて
もよいアルキル基;置換されていてもよいアリール基、
特にフェニル基;置換されていてもよいアルケニル基、
置換されていてもよいシクロアルキル基を表わすか、又
はR17とR18とが結合して5員環若しくは6員環を形成
していてもよい)、ヒドロキシル基、−CR19=C(C
N)R20(R19は水素原子又は炭素数1〜6のアルキル
基を表わし、R20はシアノ基又は炭素数2〜7のアルコ
キシカルボニル基を表わす。)等が挙げられる。
において、Xとしては活性水素を有する基であれば特に
制限されないが、好ましいものとしては、−OH、−C
OOH、−SO3 H、−B(OH)2 、−HNSO2 R
16、−NHCOR16、−NHCOOR16(R16は水素原
子、置換基を有していてもよい炭素数1〜25のアルキ
ル基又は置換基を有していてもよいフェニル基を表わ
す。)等が挙げられ、特に好ましいものとしては−O
H、−COOH、−SO3 H、−HNSO2 R16(R16
は前記定義に同じ。)が挙げられる。なお、Xが−CO
OH、−OH、−SO3 H等のように陰イオンに解離し
うる基である場合には、アゾ金属キレート化合物の形成
に際してはこのままの形で用いてもよいが、陽イオンと
の塩の形で用いてもよい。かかる陽イオンとしては、N
a+ 、Li+ 、K+ 等の無機の陽イオン又は
〔I〕で示されるアゾメチン化合物の中で好ましいもの
の一つは、下記一般式〔II〕で表わされるものである。
て、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜2
5のアルキル基、置換基を有していてもよいアリール
基、特にフェニル基、置換基を有していてもよい炭素数
2〜25のアルケニル基若しくは置換基を有していても
よい炭素数3〜25のシクロアルキル基を表わすか、又
はR14とR15とが結合して5員環若しくは6員環を形成
している。A及びXは前記定義と同義を表わし、環Dは
更に置換基を有していてもよい。)
で表わされるアルキル基、アリール基、アルケニル基又
はシクロアルキル基に結合しうる置換基としては、例え
ばアルコキシ基、アルコキシアルコキシ基、アルコキシ
アルコキシアルコキシ基、アリルオキシ基、アリール
基、アリールオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキ
シ基、テトラヒドロフリル基、アルキルスルホニルアミ
ノ基、ハロゲン原子等が挙げられ、更にこのアリール基
の置換基としてはアルキル基又はビニル基が挙げられ
る。環Dに結合しうる他の置換基としては、アルキル
基、アルコキシ基、ハロゲン原子等が挙げられる。本発
明に係る金属とキレートを形成するアゾメチン化合物の
いくつかを下記の表1に例示する。
ートを形成する金属としては、一般にアゾ化合物と錯体
を形成する能力のある金属であるならば特に制限はされ
ないが、Ni、Co、Fe、Ru、Rh、Pd、Os、
Ir、Pt等の遷移元素が好ましく、特にNi又はCo
が好ましい。次に、本発明の金属キレートアゾメチン化
合物の製造方法について説明すると、一般式(I)のア
ゾメチン化合物は、下記式に従いホルミル化合物とアミ
ノ化合物との脱水縮合により製造することができる。
を、水やジオキサン、テトラヒドロフラン、アセトン、
エタノール等の有機溶媒中で反応させると本発明の金属
キレート化合物が得られる。金属キレート化合物の製造
に用いる金属塩の陰イオンとしては、SCN- 、SbF
6 - 、Cl- 、Br- 、F- 、ClO4 - 、BF4 - 、
PF6 - 、CH3 COO- 、TiF6 2-、SiF6 2-、
Zr6 2-、Ph−SO3 - 、CH3 −Ph−SO3 - 、
B- Ph4 (ここで、Phはベンゼン環を表す。)等の
一価又は二価の陰イオンが好ましく、特にBF4 - 、P
F6 - 、CH3 COO- が好ましく用いられる。
する。本発明の光学的記録媒体は、基本的には基板と前
記アゾメチン化合物の金属キレート化合物を含む記録層
とから構成されるものであるが、さらに必要に応じて基
板上に下引き層を設けることができる。また好ましい層
構成としては、記録層上に金属、アルミニウムのような
金属反射層及び樹脂からなる保護層を設けて高反射率の
媒体とし、追記型のCD又はDVDメディアとすること
ができる。
て透明又は不透明のいずれであってもよい。基板の材質
としては、ガラス、プラスチック、紙、板状又は箔状の
金属等の、一般に記録材料の支持体として知られている
ものが用いられるが、プラスチックが種々の点から好適
に使用できる。プラスチックとしては、アクリル樹脂、
メタクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル樹脂、ニ
トロセルロース、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹
脂、ポリカーボネート樹脂、ポリイミド樹脂、エポキシ
樹脂、ポリサルホン樹脂等が挙げられるが、高生産性、
コスト、耐吸湿性の点から射出成形型のポリカーボネー
ト樹脂基板が特に好ましく用いられる。
ン化合物と金属との金属キレート化合物を含有する記録
層は、膜厚100Å〜5μmであることが好ましく、更
に好ましくは300〜1200Åである。成膜法として
は、真空蒸着法、スパッタリング法、塗布法など一般に
行われている薄膜形成法で成膜することができるが、量
産性、コスト面等から塗布法が好ましい。塗布法として
はドクターブレード法、キャスト法、スピナー法、浸漬
法などのいずれも用いうるが、特にスピナー法が好まし
い。
ーを使用することもできる。バインダーとしては、ポリ
ビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ケトン樹
脂、ニトロセルロース、酢酸セルロース、ポリビニルブ
チラール、ポリカーボネート等の既知のものが用いられ
る。スピナー法による成膜の場合、回転数は500〜5
000rpmが好ましく、スピンコートの後、必要に応
じて加熱あるいは溶媒蒸気にあてる等の処理を行うこと
ができる。
に、記録層には一重項酸素クエンチャーとして遷移金属
キレート化合物(例えば、アセチルアセトナートキレー
ト、ビスフェニルジチオール、サリチルアルデヒドオキ
シム、ジスジチオ−α−ジケトン等)を含有させてもよ
く、更に同系統の色素あるいはトリアリールメタン系色
素、アゾ染料、シアニン系色素、スクワリリウム系色
素、モノアゾ化合物の金属キレート化合物、ニッケル−
インドアニリン系色素等の他系統の色素を併用すること
もできる。
記録層を形成する場合の塗布溶媒としては、テトラフル
オロプロパノール、オクタフルオロペンタノール、テト
ラクロロエタン、ブロモホルム、ジブロモエタン、ジア
セトンアルコール、エチルセロソルブ、キシレン、3−
ヒドロキシ−3−メチル−2−ブタノン、クロロベンゼ
ン、シクロヘキサノン、乳酸メチル等の沸点120〜1
60℃のものが好適に使用される。
に優れる射出成型ポリカーボネート樹脂基板に対して
は、この基板を侵すことなく好適に使用できる溶媒とし
て、ジアセトンアルコール、3−ヒドロキシ−3−メチ
ル−2−ブタノン等のケトンアルコール系溶媒;メチル
セロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒;
テトラフルオロプロパノール、オクタフルオロペンタノ
ール等のパーフルオロアルキルアルコール系溶媒;乳酸
メチル、イソ酪酸メチル等のヒドロキシエステル系溶
媒、エチルシクロヘキサン、ブチルシクロヘキサン等の
炭化水素系溶媒等を用いるのが好ましい。本発明の光学
的記録媒体の記録層は、基板の両面に設けてもよいし、
片面だけに設けてもよい。
への記録は、基板の両面又は片面に設けた記録層に1μ
m程度に集束したレーザー光、好ましくは半導体レーザ
ーの光を照射することにより行う。レーザー光の照射さ
れた部分には、レーザーエネルギーの吸収による、分
解、蒸発、溶融等の記録層の熱的変形が生じる。従っ
て、レーザー光により熱的変形が起きている部分と起き
ていない部分の反射率の差を読み取ることにより、記録
された情報の再生を行うことができる。本発明の光学的
記録媒体の記録、再生に使用されるレーザー光として
は、N2、He−Cd、Ar、He−Ne、ルビー、半
導体、色素レーザー等が挙げられるが、特に軽量性、取
扱いの容易さ、コンパクト性などの点から半導体レーザ
ーが好適に使用される。
るが、本発明はその要旨を越えない限り実施例により限
定されるものではない。 実施例1 (a) 化合物製造例 3−アセチルアミノ−N,N−ジエチルアニリン600
mgを50%酢酸水溶液7.5mlに溶かした溶液を2
0℃以下に氷冷しながら撹拌し、これに亜硝酸ナトリウ
ム300mgを水1.5mlに溶かした溶液を徐々に滴
下して反応させた。反応終了後、炭酸ナトリウム水溶液
で中和してからクロロホルムで抽出した。抽出液を水洗
したのち、溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラ
フィーで分離したのち溶媒を留去して、ニトロソ化合物
の緑色結晶565mgを得た。1 H−NMR(CDCl3 ):δppm:12.66
(s,1H),8.38(d,1H),8.03(d,
1H),6.63(dd,1H),3.56(q,4
H),2.22(s,3H),1.32(t,6H)
乾燥メタノール6mlに溶解し、さらにこれに水素化ホ
ウ素ナトリウム200mg及びパラジウムカーボン80
mgを加え、窒素雰囲気下で撹拌した。2時間後、吸引
濾過してパラジウムカーボンを除去した。濾液に2−ピ
リジンカルバルデヒド457mgを加え、希塩酸でpH
が中性になるように調整し、1時間撹拌した。反応液を
クロロホルムで抽出し、抽出液を水洗したのち溶媒を留
去した。残渣をカラムクロマトグラフィー分離し、次い
で晶析により、表1のA−1の構造を有するアゾメチン
化合物の黄色結晶356mgを得た(収率54%)。
3nm メタノール3mlにこのアゾメチン化合物100mgを
溶解し、撹拌しながらこれに、過塩素酸ニッケル六水和
物294mgを水2mlに溶解した溶液を滴下した。3
0分撹拌したのち濾過して、ニッケルキレート化合物の
沈殿82mgを得た。本化合物のエタノール溶液中の吸
収スペクトルを図1に示す。 UV−visスペクトル(エタノール):λmax48
8nm
とニッケルとの金属キレート化合物0.15gをオクタ
フルオロペンタノール7.5gに溶解し、0.22μm
のフィルターで濾過した。この溶液5mlを深さ700
Å、幅0.7μmの溝(グルーブ)を有する直径5イン
チの射出成形ポリカーボネート樹脂基板上に滴下し、ス
ピナー法により500rpmの回転数で塗布した。塗布
後、100℃で1時間乾燥した。次にこの塗布膜の上
に、スパッタリング法により膜厚800Åの金の膜を成
膜し、反射層を形成した。さらに、この反射層の上に紫
外線硬化性樹脂CD−318(大日本インキ社製品)を
スピンコートした後、紫外線を照射して硬化させ、厚み
5μmの保護層を形成し、光学的記録媒体を製造した。
5nmの半導体レーザーでEFM信号の記録及び初期特
性評価を行ったところビット長ジッターは良好であり、
良好なリム形状の記録部が得られた。温度80℃、湿度
90%の条件で500時間の高温高湿試験の後に、ブロ
ックエラーレートの変化を測定したところ、わずかなエ
ラーの増加が見られるだけであった。
として表2のものを用いた以外は、実施例1と同様にし
て光学的記録媒体を製造した。この記録媒体について実
施例1と同様に試験したところ、EFM信号の記録及び
初期特性評価はいずれも良好であり、良好なリム形状の
記録部が得られた。また実施例1と同様に高温高湿試験
を行ったところ、わずかなエラーの増加が見られるだけ
であった。
0.80μm(AFMでの測定結果)のU字型案内溝を
有する厚さ0.6mmのポリカーボネート基板に、表1
のA−5のアゾメチン化合物とニッケル塩との金属キレ
ートアゾメチン化合物をオクタフルオロプロパノールに
2.5重量%となるように溶解した溶液をスピナー法に
より塗布し、100℃の乾燥機で30分間乾燥した。次
いでこの色素層の上に金を、平均厚さが100nmとな
るように、DCマグネトロンスパッタ法により成膜して
反射層を形成した。更にこの反射層の上に、紫外線硬化
型樹脂SD−318をスピナー法により乾燥厚さが4μ
mとなるように塗布し、紫外線照射装置で紫外線を照射
して硬化させ、保護層を形成した。このようにして製作
した2枚のディスクをホットメルト方式で接着して光学
的記録媒体とした。
半導体レーザー評価機(開口数NA=0.6)を用い
て、EFM信号の記録及び初期特性評価を行ったところ
ビット長ジッターは良好であり、良好なリム形状の記録
部が得られた。温度80℃、湿度90%の条件で500
時間の高温高湿試験の後に、ブロックエラーレートの変
化を測定したところ、わずかなエラーの増加が見られる
だけであった。
ト化合物は、有機溶媒に対する溶解性が高く、塗布によ
るコーティングが可能であり、しかも感度が良好で耐光
性、保存安定性に優れているものであり、この金属キレ
ート化合物を用いた光学的記録媒体は、高感度でかつ優
れた記録・再生特性を有しており、特に、耐光性及び保
存安定性に優れており、記録層上に金属反射層及び保護
層を設けたCDメディアやDVDメディアとして適して
いる。
しているアゾメチン化合物の吸収スペクトルである。
Claims (9)
- 【請求項1】 下記一般式〔I〕で示されるアゾメチン
化合物が金属とキレートを形成している金属キレートア
ゾメチン化合物。 【化1】 (式中、Aはそれが結合している炭素原子及び窒素原子
と一緒になって複素環を形成する残基を表わし、Bはそ
れが結合している二つの炭素原子と一緒になって芳香環
又は複素環を形成する残基を表わし、Xは活性水素を有
する基を表わす。) - 【請求項2】 一般式〔I〕における残基Aが炭素原子
及び窒素原子と一緒になって形成する複素環が、下記式
で示される複素環よりなる群から選ばれるものであるこ
とを特徴とする請求項1記載の金属キレートアゾメチン
化合物。 【化2】 【化3】 【化4】 {各式中、R1 〜R8 は、それぞれ独立して、水素原
子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜8のアルコ
キシ基、炭素数1〜6のアルキルスルホニル基、炭素数
2〜7のアルキルカルボニル基、ハロゲン原子、ホルミ
ル基、−CR9 =CR10(CN)(ここで、R9 は水素
原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表し、R10はシア
ノ基又は炭素数2〜7のアルコキシカルボニル基を表
す。)、ニトロ基、 【化5】 (ここで、R11〜R13は、それぞれ独立して、水素原子
又はニトロ基を表し、Zは単結合、−SCH2 −、−S
O2 −又は−SO2 CH2 −を表す。)、トリフルオロ
メチル基、トリフルオロメトキシ基、シアノ基、炭素数
2〜7のアルコキシカルボニル基、炭素数3〜7のアル
コキシカルボニルアルキル基又は炭素数1〜6のアルキ
ルチオ基を表す。} - 【請求項3】 一般式〔I〕における残基Bが、X以外
の置換基を有していてもよいベンゼン環、X以外の置換
基を有していてもよいナフタレン環、X以外の置換基を
有していてもよいピリジン環、X以外の置換基を有して
いてもよいピリドン環、X以外の置換基を有していても
よいテトラヒドロキノリン環又はX以外の置換基を有し
ていてもよいピラゾール環の一部であることを特徴とす
る請求項1又は2記載の金属キレートアゾメチン化合
物。 - 【請求項4】 一般式〔I〕における残基Bが、それが
結合している2つの炭素原子と一緒になってベンゼン環
を形成しており、かつこのベンゼン環には少なくとも2
−位に活性水素を有する基、4−位に下記式で表わされ
るアミノ基が結合している 【化6】 (式中、R14及びR15は、それぞれ独立して、水素原
子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有
していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい
アルケニル基若しくは置換基を有していてもよいシクロ
アルキル基を表わすか、又はR14とR15とが結合して5
員環若しくは6員環を形成している。)ことを特徴とす
る請求項1又は2記載の金属キレートアゾメチン化合
物。 - 【請求項5】 一般式〔I〕における活性水素を有する
基Xが、−OH、−COOH、−SO3 H、−NHSO
2 R16、−NHCOR16、−NHCOOR16(R16は水
素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜25のア
ルキル基又は置換基を有していてもよいフェニル基を表
わす)から選ばれるものであることを特徴とする請求項
1ないし4のいずれかに記載の金属キレートアゾメチン
化合物。 - 【請求項6】 基板上にレーザーによる情報の書き込み
及び/又は読み取りが可能な記録層が設けられた光学的
記録媒体において、記録層が請求項1ないし5のいずれ
かに記載の金属キレートアゾメチン化合物を含有するこ
とを特徴とする光学的記録媒体。 - 【請求項7】 金属キレートアゾメチン化合物の金属が
遷移元素であることを特徴とする請求項6記載の光学的
記録媒体。 - 【請求項8】 金属キレートアゾメチン化合物の金属が
コバルト又はニッケルであることを特徴とする請求項6
記載の光学的記録媒体。 - 【請求項9】 記録層上に金属からなる反射層及び樹脂
からなる保護層が設けられていることを特徴とする請求
項6ないし8のいずれかに記載の光学的記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP07723297A JP3879166B2 (ja) | 1997-03-28 | 1997-03-28 | 金属キレートアゾメチン化合物及びこれを用いた光学的記録媒体 |
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Publication Number | Publication Date |
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JPH10273484A true JPH10273484A (ja) | 1998-10-13 |
JP3879166B2 JP3879166B2 (ja) | 2007-02-07 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005068459A1 (de) * | 2004-01-20 | 2005-07-28 | Lanxess Deutschland Gmbh | Metallkomplexe als lichtabsorbierende verbindungen in der informationsschicht von optischen datenträgern |
WO2007048709A1 (en) * | 2005-10-27 | 2007-05-03 | Clariant International Ltd | Anionic barbituric acid based azomethine metal complex dyes and their use in optical layers for optical data recording |
-
1997
- 1997-03-28 JP JP07723297A patent/JP3879166B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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