JPH10221114A - 検出装置 - Google Patents
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- JPH10221114A JPH10221114A JP9026736A JP2673697A JPH10221114A JP H10221114 A JPH10221114 A JP H10221114A JP 9026736 A JP9026736 A JP 9026736A JP 2673697 A JP2673697 A JP 2673697A JP H10221114 A JPH10221114 A JP H10221114A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01D—MEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01D5/00—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
- G01D5/12—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable using electric or magnetic means
- G01D5/14—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable using electric or magnetic means influencing the magnitude of a current or voltage
- G01D5/142—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable using electric or magnetic means influencing the magnitude of a current or voltage using Hall-effect devices
- G01D5/147—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable using electric or magnetic means influencing the magnitude of a current or voltage using Hall-effect devices influenced by the movement of a third element, the position of Hall device and the source of magnetic field being fixed in respect to each other
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R33/00—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
- G01R33/02—Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux
- G01R33/06—Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux using galvano-magnetic devices
- G01R33/09—Magnetoresistive devices
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- Transmission And Conversion Of Sensor Element Output (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 磁石と磁気検出素子の配置位置精度による磁
性体回転体の凹凸に対応する検出出力のエッジの擦れを
低減することができる検出装置をを得る。 【解決手段】 磁界を発生する磁石（２０）と、磁石
（２０）と所定の間隙を持って配置され、この磁石（２
０）によって発生された磁界を変化させる磁性体回転体
（２）と、この磁性体回転体（２）で変化された磁界に
応じて抵抗値が変化する磁気検出素子（３）とを備え、
磁気検出素子（３）と対向する磁石（２０）の面に傾斜
をもたせる構成とする。
性体回転体の凹凸に対応する検出出力のエッジの擦れを
低減することができる検出装置をを得る。 【解決手段】 磁界を発生する磁石（２０）と、磁石
（２０）と所定の間隙を持って配置され、この磁石（２
０）によって発生された磁界を変化させる磁性体回転体
（２）と、この磁性体回転体（２）で変化された磁界に
応じて抵抗値が変化する磁気検出素子（３）とを備え、
磁気検出素子（３）と対向する磁石（２０）の面に傾斜
をもたせる構成とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、印加磁界の変化
を検出する検出装置に関し、特に例えば内燃機関の回転
情報を検出する場合等に用いる検出装置に関するもので
ある。
を検出する検出装置に関し、特に例えば内燃機関の回転
情報を検出する場合等に用いる検出装置に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】図７は従来の検出装置を示す構成図であ
り、図７の（ａ）はその側面図、図７の（ｂ）はその平
面図である。この検出装置は、回転軸１と、少なくとも
１つ以上の凹凸を有し、回転軸１と同期して回転する磁
界変化付与手段としての磁性体回転体２と、この磁性体
回転体２と所定の間隙を持って配置された磁気検出素子
３と、磁気検出素子３に磁界を与える磁石４とからな
り、磁気検出素子３は、薄膜面（感磁面）３ａを有し、
この感磁面の部分に磁気抵抗パターン（図示せず）が形
成されている。また、この磁気検出素子３は非磁性体の
固定部材（図示せず）により磁石４に取り付けられる。
そこで、磁性体回転体２が回転することで磁気検出素子
３の感磁面３ａの磁界が変化し、その磁気抵抗パターン
の抵抗値が変化する。
り、図７の（ａ）はその側面図、図７の（ｂ）はその平
面図である。この検出装置は、回転軸１と、少なくとも
１つ以上の凹凸を有し、回転軸１と同期して回転する磁
界変化付与手段としての磁性体回転体２と、この磁性体
回転体２と所定の間隙を持って配置された磁気検出素子
３と、磁気検出素子３に磁界を与える磁石４とからな
り、磁気検出素子３は、薄膜面（感磁面）３ａを有し、
この感磁面の部分に磁気抵抗パターン（図示せず）が形
成されている。また、この磁気検出素子３は非磁性体の
固定部材（図示せず）により磁石４に取り付けられる。
そこで、磁性体回転体２が回転することで磁気検出素子
３の感磁面３ａの磁界が変化し、その磁気抵抗パターン
の抵抗値が変化する。
【０００３】図８は磁気検出素子を用いた慣用の検出装
置を示すブロック図である。この検出装置は、磁性体回
転体２と所定の間隙を持って配置され、磁石４より磁界
が与えられる磁気検出素子を用いたホイートストンブリ
ッジ回路１１と、このホイートストンブリッジ回路１１
の出力を増幅する差動増幅回路１２と、この差動増幅回
路１２の出力を基準値と比較して“Ｏ”または“１”の
信号を出力する比較回路１３と、この比較回路１３の出
力を更に波形整形して立ち上がり、立ち下がりの急峻な
“Ｏ”または“１”の信号を出力端子１５に出力する波
形整形回路１４とを備える。
置を示すブロック図である。この検出装置は、磁性体回
転体２と所定の間隙を持って配置され、磁石４より磁界
が与えられる磁気検出素子を用いたホイートストンブリ
ッジ回路１１と、このホイートストンブリッジ回路１１
の出力を増幅する差動増幅回路１２と、この差動増幅回
路１２の出力を基準値と比較して“Ｏ”または“１”の
信号を出力する比較回路１３と、この比較回路１３の出
力を更に波形整形して立ち上がり、立ち下がりの急峻な
“Ｏ”または“１”の信号を出力端子１５に出力する波
形整形回路１４とを備える。
【０００４】図９は図８のブロック図の具体的回路構成
の一例を示す図である。ホイートストンブリッジ回路１
１は、例えば各辺にそれぞれ磁気検出素子１０Ａ，１０
Ｂ，１０Ｃおよび１０Ｄを有し、磁気検出素子１０Ａと
１０Ｃの各一端は共通接続され、接続点１６を介して電
源端子Ｖccに接続され、磁気検出素子１０Ｂと１０Ｄの
各一端は共通接続され、接続点１７を介して接地され、
磁気検出素子１０Ａと１０Ｂの各他端は接続点１８に接
続され、磁気検出素子１０Ｃと１０Ｄの各他端は接続点
１９に接続される。
の一例を示す図である。ホイートストンブリッジ回路１
１は、例えば各辺にそれぞれ磁気検出素子１０Ａ，１０
Ｂ，１０Ｃおよび１０Ｄを有し、磁気検出素子１０Ａと
１０Ｃの各一端は共通接続され、接続点１６を介して電
源端子Ｖccに接続され、磁気検出素子１０Ｂと１０Ｄの
各一端は共通接続され、接続点１７を介して接地され、
磁気検出素子１０Ａと１０Ｂの各他端は接続点１８に接
続され、磁気検出素子１０Ｃと１０Ｄの各他端は接続点
１９に接続される。
【０００５】そして、ホイートストンブリッジ回路１１
の接続点１８が抵抗器を介して差動増幅回路１２のアン
プ１２ａの反転入力端子に接続され、接続点１９が抵抗
器を介してアンプ１２ａの非反転入力端子に接続される
と共に更に抵抗器を介して基準電源を構成する分圧回路
に接続される。更に、アンプ１２ａの出力端子は、比較
回路１３の反転入力端子に接続され、比較回路１３の非
反転入力端子は基準電源を構成する分圧回路に接続され
ると共に抵抗器を介して自己の出力端子に接続される。
比較回路１３の出力側は、波形整形回路１４のトランジ
スタ１４ａのベースに接続され、そのコレクタは出力端
子１５に接続されると共に抵抗器を介して電源端子Ｖcc
に接続され、そのエミッタは接地される。
の接続点１８が抵抗器を介して差動増幅回路１２のアン
プ１２ａの反転入力端子に接続され、接続点１９が抵抗
器を介してアンプ１２ａの非反転入力端子に接続される
と共に更に抵抗器を介して基準電源を構成する分圧回路
に接続される。更に、アンプ１２ａの出力端子は、比較
回路１３の反転入力端子に接続され、比較回路１３の非
反転入力端子は基準電源を構成する分圧回路に接続され
ると共に抵抗器を介して自己の出力端子に接続される。
比較回路１３の出力側は、波形整形回路１４のトランジ
スタ１４ａのベースに接続され、そのコレクタは出力端
子１５に接続されると共に抵抗器を介して電源端子Ｖcc
に接続され、そのエミッタは接地される。
【０００６】次に、動作について、図１０を参照して説
明する。磁性体回転体２が回転することで、図１０の
（ａ）に示すその凹凸に対応して、ホイートストンブリ
ッジ回路１１を構成する磁気検出素子１０Ａと１０Ｄに
は同じ磁界変化が与えられ、磁気検出素子１０Ｂと１０
Ｃには磁気検出素子１０Ａ、１０Ｄとは異なる磁界変化
が与えられるようになる。この結果、磁性体回転体２の
凹凸に対応して磁気検出素子１０Ａ、１０Ｄと１０Ｂ、
１０Ｃの感磁面に磁界の変化が発生し、つまり、実質的
に一つの磁気検出素子の磁界変化の４倍の磁界変化を得
られ、その抵抗値も同様に変化して、磁気検出素子１０
Ａ、１０Ｄと１０Ｂ、１０Ｃの抵抗値の最大、最少とな
る位置が逆となり、ホイートストンブリッジ回路１１の
接続点１８、１９の中点電圧も同様に変化する。
明する。磁性体回転体２が回転することで、図１０の
（ａ）に示すその凹凸に対応して、ホイートストンブリ
ッジ回路１１を構成する磁気検出素子１０Ａと１０Ｄに
は同じ磁界変化が与えられ、磁気検出素子１０Ｂと１０
Ｃには磁気検出素子１０Ａ、１０Ｄとは異なる磁界変化
が与えられるようになる。この結果、磁性体回転体２の
凹凸に対応して磁気検出素子１０Ａ、１０Ｄと１０Ｂ、
１０Ｃの感磁面に磁界の変化が発生し、つまり、実質的
に一つの磁気検出素子の磁界変化の４倍の磁界変化を得
られ、その抵抗値も同様に変化して、磁気検出素子１０
Ａ、１０Ｄと１０Ｂ、１０Ｃの抵抗値の最大、最少とな
る位置が逆となり、ホイートストンブリッジ回路１１の
接続点１８、１９の中点電圧も同様に変化する。
【０００７】そして、この中点電圧の差が差動増幅回路
１２により増幅され、その出力側には、図１０の（ｂ）
に示すような、図１０の（ａ）に示す磁性体回転体２の
凹凸に対応した実線で示すような出力ＶDO、つまり、実
質的に一つの磁気検出素子の４倍の出力が得られる。こ
の差動増幅回路１２の出力は，比較回路１３に供給され
てその比較レベルである基準値ＶTHと比較されて“Ｏ”
または“１”の信号に変換され、この信号は更に波形整
形回路１４で波形整形され、この結果、その出力側即ち
出力端子１５には図１０の（ｃ）に実線で示すようにそ
の立ち上がり、立ち下がりの急峻な“Ｏ”または“１”
の出力が得られる。
１２により増幅され、その出力側には、図１０の（ｂ）
に示すような、図１０の（ａ）に示す磁性体回転体２の
凹凸に対応した実線で示すような出力ＶDO、つまり、実
質的に一つの磁気検出素子の４倍の出力が得られる。こ
の差動増幅回路１２の出力は，比較回路１３に供給され
てその比較レベルである基準値ＶTHと比較されて“Ｏ”
または“１”の信号に変換され、この信号は更に波形整
形回路１４で波形整形され、この結果、その出力側即ち
出力端子１５には図１０の（ｃ）に実線で示すようにそ
の立ち上がり、立ち下がりの急峻な“Ｏ”または“１”
の出力が得られる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の検出
装置においては、磁石と磁気検出素子の配置位置精度に
より磁気検出素子への印加磁界が変化し、差動増幅回路
の出力が変動し、磁性体回転体の凹凸の検出においては
その凹凸に対応する波形整形回路の出力のエッジにズレ
が生じるという問題点があった。
装置においては、磁石と磁気検出素子の配置位置精度に
より磁気検出素子への印加磁界が変化し、差動増幅回路
の出力が変動し、磁性体回転体の凹凸の検出においては
その凹凸に対応する波形整形回路の出力のエッジにズレ
が生じるという問題点があった。
【０００９】このことを図１０および図１１を参照して
説明する。図１１において、磁石４に対して本来磁気検
出素子３の位置が実線で示すように正確に配置されてい
る場合は磁石４からの磁界は磁気検出素子３の感磁面を
垂直に横切るので問題ないが、同図に破線で示すように
磁石４に対して磁気検出素子３の位置が擦れて配置され
ると、磁石４からの磁界は磁気検出素子３の感磁面を垂
直に横切らなくなり、このため、磁気検出素子３の配置
位置の擦れにより磁界ベクトル方向が異なり、磁気検出
素子３に印加されるバイアス磁界が変化することにな
る。このことは、特に例えば図９で説明したように複数
の磁気検出素子が使用されている場合には、磁気検出素
子の配置位置の擦れによりそれぞれの磁気検出素子に対
する磁界ベクトル方向が異なり、各磁気検出素子に印加
されるバイアス磁界が顕著に変化することになる。この
結果、図１０の（ｂ）に破線で示すように、差動増幅回
路１２の出力ＶDOは正常時の実線で示す出力ＶDOよりオ
フセットするようになり、波形整形回路１４の出力即ち
検出装置の出力も図１０の（ｃ）に破線で示すように磁
性体回転体２の凹凸に対応しなくなり、その出力のエッ
ジに擦れが生じることになる。
説明する。図１１において、磁石４に対して本来磁気検
出素子３の位置が実線で示すように正確に配置されてい
る場合は磁石４からの磁界は磁気検出素子３の感磁面を
垂直に横切るので問題ないが、同図に破線で示すように
磁石４に対して磁気検出素子３の位置が擦れて配置され
ると、磁石４からの磁界は磁気検出素子３の感磁面を垂
直に横切らなくなり、このため、磁気検出素子３の配置
位置の擦れにより磁界ベクトル方向が異なり、磁気検出
素子３に印加されるバイアス磁界が変化することにな
る。このことは、特に例えば図９で説明したように複数
の磁気検出素子が使用されている場合には、磁気検出素
子の配置位置の擦れによりそれぞれの磁気検出素子に対
する磁界ベクトル方向が異なり、各磁気検出素子に印加
されるバイアス磁界が顕著に変化することになる。この
結果、図１０の（ｂ）に破線で示すように、差動増幅回
路１２の出力ＶDOは正常時の実線で示す出力ＶDOよりオ
フセットするようになり、波形整形回路１４の出力即ち
検出装置の出力も図１０の（ｃ）に破線で示すように磁
性体回転体２の凹凸に対応しなくなり、その出力のエッ
ジに擦れが生じることになる。
【００１０】この発明は、上記のような問題点を解決す
るためになされたもので、磁石と磁気検出素子の配置位
置精度による磁性体回転体の凹凸に対応する検出出力の
エッジの擦れを低減することができる検出装置を提供す
ることを目的とする。
るためになされたもので、磁石と磁気検出素子の配置位
置精度による磁性体回転体の凹凸に対応する検出出力の
エッジの擦れを低減することができる検出装置を提供す
ることを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明に係
る検出装置は、磁界を発生する磁界発生手段と、磁界発
生手段と所定の間隙を持って配置され、この磁界発生手
段によって発生された磁界を変化させる磁界変化付与手
段と、この磁界変化付与手段で変化された磁界に応じて
抵抗値が変化する磁気検出素子とを備え、磁気検出素子
と対向する磁界発生手段の面に傾斜をもたせたものであ
る。
る検出装置は、磁界を発生する磁界発生手段と、磁界発
生手段と所定の間隙を持って配置され、この磁界発生手
段によって発生された磁界を変化させる磁界変化付与手
段と、この磁界変化付与手段で変化された磁界に応じて
抵抗値が変化する磁気検出素子とを備え、磁気検出素子
と対向する磁界発生手段の面に傾斜をもたせたものであ
る。
【００１２】請求項２記載の発明に係る検出装置は、請
求項１の発明において、磁界発生手段を磁石で構成した
ものである。
求項１の発明において、磁界発生手段を磁石で構成した
ものである。
【００１３】請求項３記載の発明に係る検出装置は、請
求項１の発明において、磁界発生手段を磁石と、この磁
石に設けられ、磁気検出素子と対向する面に所定の傾斜
を有する磁束ガイドとで構成したものである。
求項１の発明において、磁界発生手段を磁石と、この磁
石に設けられ、磁気検出素子と対向する面に所定の傾斜
を有する磁束ガイドとで構成したものである。
【００１４】請求項４記載の発明に係る検出装置は、請
求項１〜３のいずれかの発明において、傾斜が曲面をな
すものである。
求項１〜３のいずれかの発明において、傾斜が曲面をな
すものである。
【００１５】請求項５記載の発明に係る検出装置は、請
求項１〜３のいずれかの発明において、傾斜が三角状を
なすものである。
求項１〜３のいずれかの発明において、傾斜が三角状を
なすものである。
【００１６】請求項６記載の発明に係る検出装置は、請
求項１〜５のいずれかの発明において、磁界変化付与手
段を少なくとも１つの凹凸を有する磁性体回転体で構成
したものである。
求項１〜５のいずれかの発明において、磁界変化付与手
段を少なくとも１つの凹凸を有する磁性体回転体で構成
したものである。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、この発明に係る検出装置の
一実施の形態を図について説明する。 実施の形態１．図１はこの発明の実施の形態１を示す構
成図であり、図１の（ａ）はその側面図、図１の（ｂ）
はその平面図である。図において、図７と対応する部分
には同一符号を付し、その詳細説明を省略する。本実施
の形態では、磁気検出素子の感磁面と対向する磁石の面
に所定形状の傾斜を設け、磁石と磁気検出素子の配置位
置精度に影響されることなく常に磁石からの磁界が磁気
検出素子の感磁面を垂直に通過するようにするものであ
る。
一実施の形態を図について説明する。 実施の形態１．図１はこの発明の実施の形態１を示す構
成図であり、図１の（ａ）はその側面図、図１の（ｂ）
はその平面図である。図において、図７と対応する部分
には同一符号を付し、その詳細説明を省略する。本実施
の形態では、磁気検出素子の感磁面と対向する磁石の面
に所定形状の傾斜を設け、磁石と磁気検出素子の配置位
置精度に影響されることなく常に磁石からの磁界が磁気
検出素子の感磁面を垂直に通過するようにするものであ
る。
【００１８】なお、ここで用いられる磁気検出素子とし
ては、例えば磁気抵抗素子（以下、ＭＲ素子という）で
もよいし、或いは巨大磁気抵抗素子（以下、ＧＭＲ素子
と云う）でもよい。ここで、これらの素子について簡単
に説明する。一般にＭＲ素子は、強磁性体（例えば、Ｎ
ｉ−Ｆｅ、Ｎｉ−Ｃｏ等）薄膜の磁化方向と電流方向の
なす角度によって抵抗値が変化する素子である。このＭ
Ｒ素子は、電流方向と磁化方向とが直角に交わるときに
抵抗値は最小になり、０度すなわち電流方向と磁化方向
とが同一あるいは全く逆方向になるとき抵抗値が最大に
なる。この抵抗値の変化をＭＲ効果またはＭＲ変化率と
呼び、一般にＮｉ−Ｆｅで２〜３％、Ｎｉ−Ｃｏで５〜
６％である。
ては、例えば磁気抵抗素子（以下、ＭＲ素子という）で
もよいし、或いは巨大磁気抵抗素子（以下、ＧＭＲ素子
と云う）でもよい。ここで、これらの素子について簡単
に説明する。一般にＭＲ素子は、強磁性体（例えば、Ｎ
ｉ−Ｆｅ、Ｎｉ−Ｃｏ等）薄膜の磁化方向と電流方向の
なす角度によって抵抗値が変化する素子である。このＭ
Ｒ素子は、電流方向と磁化方向とが直角に交わるときに
抵抗値は最小になり、０度すなわち電流方向と磁化方向
とが同一あるいは全く逆方向になるとき抵抗値が最大に
なる。この抵抗値の変化をＭＲ効果またはＭＲ変化率と
呼び、一般にＮｉ−Ｆｅで２〜３％、Ｎｉ−Ｃｏで５〜
６％である。
【００１９】また、ＧＭＲ素子は、ＭＲ素子より出力レ
ベルの大きなもので、例えば日本応用磁気学会誌Vol.1
5,No.51991,p813〜821の「人工格子の磁気抵抗効果」と
題する論文に記載されている数オングストロームから数
十オングストロームの厚さの磁性層と非磁性層とを交互
に積層させた積層体、いわゆる人工格子膜であり、（Ｆ
ｅ／Ｃｒ）ｎ、（パーマロイ／Ｃｕ／Ｃｏ／Ｃｕ）ｎ、
（Ｃｏ／Ｃｕ）ｎが知られており、これは、上述のＭＲ
素子と比較して格段に大きなＭＲ効果（ＭＲ変化率）を
有すると共に、隣り合った磁性層の磁化の向きの相対角
度にのみ依存するので、外部磁界の向きが電流に対して
どのような角度差をもっていても同じ抵抗値の変化が得
られるいわゆる面内感磁の素子である。
ベルの大きなもので、例えば日本応用磁気学会誌Vol.1
5,No.51991,p813〜821の「人工格子の磁気抵抗効果」と
題する論文に記載されている数オングストロームから数
十オングストロームの厚さの磁性層と非磁性層とを交互
に積層させた積層体、いわゆる人工格子膜であり、（Ｆ
ｅ／Ｃｒ）ｎ、（パーマロイ／Ｃｕ／Ｃｏ／Ｃｕ）ｎ、
（Ｃｏ／Ｃｕ）ｎが知られており、これは、上述のＭＲ
素子と比較して格段に大きなＭＲ効果（ＭＲ変化率）を
有すると共に、隣り合った磁性層の磁化の向きの相対角
度にのみ依存するので、外部磁界の向きが電流に対して
どのような角度差をもっていても同じ抵抗値の変化が得
られるいわゆる面内感磁の素子である。
【００２０】図１において、本実施の形態による磁界発
生手段としての磁石２０は、磁気検出素子３の感磁面３
ａと対向する面に所定形状の傾斜、例えば曲面を有す
る。この場合の曲面は、磁石２０と磁気検出素子３の配
置位置精度に影響されることなく常に磁石２０からの磁
界が磁気検出素子３の感磁面３ａを垂直に通過するよう
に設定する。また、磁気検出素子３の感磁面３ａの中心
と磁石２０の曲面の中心とを一致させるように配置す
る。その他の構成は、図７の場合と同様である。また、
本実施の形態で用いられるブロック図およびその具体的
回路構成も、図８および図９の場合と同様のものを用い
てもよく、従って、その記載を省略する。
生手段としての磁石２０は、磁気検出素子３の感磁面３
ａと対向する面に所定形状の傾斜、例えば曲面を有す
る。この場合の曲面は、磁石２０と磁気検出素子３の配
置位置精度に影響されることなく常に磁石２０からの磁
界が磁気検出素子３の感磁面３ａを垂直に通過するよう
に設定する。また、磁気検出素子３の感磁面３ａの中心
と磁石２０の曲面の中心とを一致させるように配置す
る。その他の構成は、図７の場合と同様である。また、
本実施の形態で用いられるブロック図およびその具体的
回路構成も、図８および図９の場合と同様のものを用い
てもよく、従って、その記載を省略する。
【００２１】次に、動作について、図３を参照して説明
する。磁性体回転体２が回転することで、図３の（ａ）
に示すその凹凸に対応して、ホイートストンブリッジ回
路１１を構成する磁気検出素子１０Ａと１０Ｄには同じ
磁界変化が与えられ、磁気検出素子１０Ｂと１０Ｃには
磁気検出素子１０Ａ、１０Ｄとは異なる磁界変化が与え
られるようになる。この結果、磁性体回転体２の凹凸に
対応して磁気検出素子１０Ａ、１０Ｄと１０Ｂ、１０Ｃ
の感磁面に磁界の変化が発生し、つまり、実質的に一つ
の磁気検出素子の磁界変化の４倍の磁界変化を得られ、
その抵抗値も同様に変化して、磁気検出素子１０Ａ、１
０Ｄと１０Ｂ、１０Ｃの抵抗値の最大、最少となる位置
が逆となり、ホイートストンブリッジ回路１１の接続点
１８、１９の中点電圧も同様に変化する。
する。磁性体回転体２が回転することで、図３の（ａ）
に示すその凹凸に対応して、ホイートストンブリッジ回
路１１を構成する磁気検出素子１０Ａと１０Ｄには同じ
磁界変化が与えられ、磁気検出素子１０Ｂと１０Ｃには
磁気検出素子１０Ａ、１０Ｄとは異なる磁界変化が与え
られるようになる。この結果、磁性体回転体２の凹凸に
対応して磁気検出素子１０Ａ、１０Ｄと１０Ｂ、１０Ｃ
の感磁面に磁界の変化が発生し、つまり、実質的に一つ
の磁気検出素子の磁界変化の４倍の磁界変化を得られ、
その抵抗値も同様に変化して、磁気検出素子１０Ａ、１
０Ｄと１０Ｂ、１０Ｃの抵抗値の最大、最少となる位置
が逆となり、ホイートストンブリッジ回路１１の接続点
１８、１９の中点電圧も同様に変化する。
【００２２】ここで、磁気検出素子３に対する磁石２０
からの磁界の磁界ベクトル方向に着目すると、図２に示
すように、磁気検出素子３の感磁面に対向する磁石２０
の面が曲面をなしているので、磁石２０からの磁界は磁
気検出素子３の位置が実線で示すように正確に配置され
ている場合は勿論、同図に破線で示すように磁石２０の
中心に対して擦れて配置されている場合でも、常に磁石
２０Ａからの磁界は磁気検出素子３の感磁面を垂直に横
切るようになり、このため、磁気検出素子３の配置位置
の擦れにより磁界ベクトル方向の変化は小さく、磁気検
出素子３に印加されるバイアス磁界は殆ど変化しない。
からの磁界の磁界ベクトル方向に着目すると、図２に示
すように、磁気検出素子３の感磁面に対向する磁石２０
の面が曲面をなしているので、磁石２０からの磁界は磁
気検出素子３の位置が実線で示すように正確に配置され
ている場合は勿論、同図に破線で示すように磁石２０の
中心に対して擦れて配置されている場合でも、常に磁石
２０Ａからの磁界は磁気検出素子３の感磁面を垂直に横
切るようになり、このため、磁気検出素子３の配置位置
の擦れにより磁界ベクトル方向の変化は小さく、磁気検
出素子３に印加されるバイアス磁界は殆ど変化しない。
【００２３】かくして、ホイートストンブリッジ回路１
１の接続点１８、１９の中点電圧の差が差動増幅回路１
２により増幅され、その出力側には、図３の（ｂ）に示
すような、図３の（ａ）に示す磁性体回転体２の凹凸に
対応した出力、つまり、実質的に一つの磁気検出素子の
４倍の出力が得られる。この差動増幅回路１２の出力
は，比較回路１３に供給されてその比較レベルである基
準値ＶTHと比較されて“Ｏ”または“１”の信号に変換
され、この信号は更に波形整形回路１４で波形整形さ
れ、この結果、その出力側即ち出力端子１５には図３の
（ｃ）に示すようにその立ち上がり、立ち下がりの急峻
な“Ｏ”または“１”の磁性体回転体２の凹凸に対応し
た出力が得られる。
１の接続点１８、１９の中点電圧の差が差動増幅回路１
２により増幅され、その出力側には、図３の（ｂ）に示
すような、図３の（ａ）に示す磁性体回転体２の凹凸に
対応した出力、つまり、実質的に一つの磁気検出素子の
４倍の出力が得られる。この差動増幅回路１２の出力
は，比較回路１３に供給されてその比較レベルである基
準値ＶTHと比較されて“Ｏ”または“１”の信号に変換
され、この信号は更に波形整形回路１４で波形整形さ
れ、この結果、その出力側即ち出力端子１５には図３の
（ｃ）に示すようにその立ち上がり、立ち下がりの急峻
な“Ｏ”または“１”の磁性体回転体２の凹凸に対応し
た出力が得られる。
【００２４】このように、本実施の形態では、磁気検出
素子の感磁面と対向する磁石の面に曲面を設けたので、
たとえ磁気検出素子の取り付けが磁石の面に対して擦れ
たとしてもその磁石と磁気検出素子の配置位置精度に影
響されることなく常に磁石からの磁界が磁気検出素子の
感磁面を垂直に通過するようになり、磁性体回転体の凹
凸に対応した検出出力を正確に得ることが可能となる。
素子の感磁面と対向する磁石の面に曲面を設けたので、
たとえ磁気検出素子の取り付けが磁石の面に対して擦れ
たとしてもその磁石と磁気検出素子の配置位置精度に影
響されることなく常に磁石からの磁界が磁気検出素子の
感磁面を垂直に通過するようになり、磁性体回転体の凹
凸に対応した検出出力を正確に得ることが可能となる。
【００２５】実施の形態２．図４はこの発明の実施の形
態２の要部を示す配置図である。上述の実施の形態１で
は、磁気検出素子３の感磁面と対向する磁石２０の面に
曲面を設ける場合であったが、図４に示すように磁気検
出素子３の感磁面と対向する磁界発生手段としての磁石
２０Ａの面に所定形状の傾斜として例えば三角状の面を
設けた場合である。この場合の三角状の傾き等は、磁石
２０Ａと磁気検出素子３の配置位置精度に影響されるこ
となく常に磁石２０Ａからの磁界が磁気検出素子３の感
磁面を垂直に通過するように設定する。また、同図に示
すように、三角状の一番凹んだ部分が磁気検出素子３の
感磁面の中心と一致するようにする。
態２の要部を示す配置図である。上述の実施の形態１で
は、磁気検出素子３の感磁面と対向する磁石２０の面に
曲面を設ける場合であったが、図４に示すように磁気検
出素子３の感磁面と対向する磁界発生手段としての磁石
２０Ａの面に所定形状の傾斜として例えば三角状の面を
設けた場合である。この場合の三角状の傾き等は、磁石
２０Ａと磁気検出素子３の配置位置精度に影響されるこ
となく常に磁石２０Ａからの磁界が磁気検出素子３の感
磁面を垂直に通過するように設定する。また、同図に示
すように、三角状の一番凹んだ部分が磁気検出素子３の
感磁面の中心と一致するようにする。
【００２６】ここで、磁気検出素子３に対する磁石２０
Ａからの磁界の磁界ベクトル方向に着目すると、図４に
示すように、磁気検出素子３の感磁面に対向する磁石２
０Ａの面が三角状をなしているので、磁石２０Ａからの
磁界は磁気検出素子３の位置が実線で示すように正確に
配置されている場合は勿論、同図に破線で示すように磁
石２０Ａの中心に対して擦れて配置されている場合で
も、常に磁石２０Ａからの磁界は磁気検出素子３の感磁
面を垂直に横切るようになり、このため、磁気検出素子
３の配置位置の擦れにより磁界ベクトル方向の変化は小
さく、磁気検出素子３に印加されるバイアス磁界は殆ど
変化しない。かくして、本実施の形態でも、上記実施の
形態と同様の効果が得られる。
Ａからの磁界の磁界ベクトル方向に着目すると、図４に
示すように、磁気検出素子３の感磁面に対向する磁石２
０Ａの面が三角状をなしているので、磁石２０Ａからの
磁界は磁気検出素子３の位置が実線で示すように正確に
配置されている場合は勿論、同図に破線で示すように磁
石２０Ａの中心に対して擦れて配置されている場合で
も、常に磁石２０Ａからの磁界は磁気検出素子３の感磁
面を垂直に横切るようになり、このため、磁気検出素子
３の配置位置の擦れにより磁界ベクトル方向の変化は小
さく、磁気検出素子３に印加されるバイアス磁界は殆ど
変化しない。かくして、本実施の形態でも、上記実施の
形態と同様の効果が得られる。
【００２７】実施の形態３．図５はこの発明の実施の形
態３を示す構成図であり、図５の（ａ）はその平面図、
図５の（ｂ）はその側面図である。本実施の形態では、
磁気検出素子の感磁面と対向する磁石の前面に所定形状
の傾斜を有する磁束ガイドを設け、磁石と磁気検出素子
の配置位置精度に影響されることなく常に磁石からの磁
界が磁束ガイドを介して磁気検出素子の感磁面を垂直に
通過するようにするものである。
態３を示す構成図であり、図５の（ａ）はその平面図、
図５の（ｂ）はその側面図である。本実施の形態では、
磁気検出素子の感磁面と対向する磁石の前面に所定形状
の傾斜を有する磁束ガイドを設け、磁石と磁気検出素子
の配置位置精度に影響されることなく常に磁石からの磁
界が磁束ガイドを介して磁気検出素子の感磁面を垂直に
通過するようにするものである。
【００２８】図５において、本実施の形態による磁石２
１としては上述した磁石４と同様のものを用いてよい。
そして、この磁石２１の磁気検出素子３（図１参照）の
感磁面と対向する前面に磁性体からなる磁束ガイド２１
を設ける。この磁束ガイド２１は、磁気検出素子３の感
磁面と対向する面に所定形状の傾斜、例えば曲面を有す
る。この場合の曲面は、磁石２１と磁気検出素子３の配
置位置精度に影響されることなく常に磁石２１からの磁
界が磁束ガイド２２を介して磁気検出素子３の感磁面を
垂直に通過するように設定する。また、磁気検出素子３
の感磁面の中心と磁束ガイド２１の曲面の中心とを一致
させるように配置する。なお、この場合、磁石２１と磁
束ガイド２２は磁界発生手段を構成する。
１としては上述した磁石４と同様のものを用いてよい。
そして、この磁石２１の磁気検出素子３（図１参照）の
感磁面と対向する前面に磁性体からなる磁束ガイド２１
を設ける。この磁束ガイド２１は、磁気検出素子３の感
磁面と対向する面に所定形状の傾斜、例えば曲面を有す
る。この場合の曲面は、磁石２１と磁気検出素子３の配
置位置精度に影響されることなく常に磁石２１からの磁
界が磁束ガイド２２を介して磁気検出素子３の感磁面を
垂直に通過するように設定する。また、磁気検出素子３
の感磁面の中心と磁束ガイド２１の曲面の中心とを一致
させるように配置する。なお、この場合、磁石２１と磁
束ガイド２２は磁界発生手段を構成する。
【００２９】ここで、磁気検出素子３に対する磁石２１
からの磁界の磁界ベクトル方向に着目すると、図６に示
すように、磁気検出素子３の感磁面に対向する磁石２１
の前面に設けられた磁束ガイド２２が曲面をなしている
ので、磁石２１からの磁界は磁性体である磁束ガイド２
２により同図に示すような磁界ベクトル方向に分布さ
れ、磁気検出素子３の位置が実線で示すように正確に配
置されている場合は勿論、破線で示すように磁石２１の
中心に対して擦れて配置されている場合でも、常に磁石
２１からの磁界は磁束ガイド２２を介して磁気検出素子
３の感磁面を垂直に横切るようになり、このため、磁気
検出素子３の配置位置の擦れにより磁界ベクトル方向の
変化は小さく、磁気検出素子３に印加されるバイアス磁
界は殆ど変化しない。
からの磁界の磁界ベクトル方向に着目すると、図６に示
すように、磁気検出素子３の感磁面に対向する磁石２１
の前面に設けられた磁束ガイド２２が曲面をなしている
ので、磁石２１からの磁界は磁性体である磁束ガイド２
２により同図に示すような磁界ベクトル方向に分布さ
れ、磁気検出素子３の位置が実線で示すように正確に配
置されている場合は勿論、破線で示すように磁石２１の
中心に対して擦れて配置されている場合でも、常に磁石
２１からの磁界は磁束ガイド２２を介して磁気検出素子
３の感磁面を垂直に横切るようになり、このため、磁気
検出素子３の配置位置の擦れにより磁界ベクトル方向の
変化は小さく、磁気検出素子３に印加されるバイアス磁
界は殆ど変化しない。
【００３０】このように、本実施の形態でも、上記実施
の形態と同様の効果が得られると共に、更に、本実施の
形態では、磁気検出素子の感磁面と対向する磁石の面に
所定形状の傾斜を設ける代わりに、その前面に磁束ガイ
ドを設け、この磁束ガイドに所定形状の傾斜を設けるよ
うにしているので、磁束ガイドに比べて加工しにくい磁
石に対する加工を省くことができ、それだけ加工時の作
業性を向上できる。なお、磁気検出素子３の感磁面と対
向する磁束ガイド２２の面に設ける所定形状の傾斜は、
上述した曲面の代わりに、図４で説明したような三角状
としてもよい。
の形態と同様の効果が得られると共に、更に、本実施の
形態では、磁気検出素子の感磁面と対向する磁石の面に
所定形状の傾斜を設ける代わりに、その前面に磁束ガイ
ドを設け、この磁束ガイドに所定形状の傾斜を設けるよ
うにしているので、磁束ガイドに比べて加工しにくい磁
石に対する加工を省くことができ、それだけ加工時の作
業性を向上できる。なお、磁気検出素子３の感磁面と対
向する磁束ガイド２２の面に設ける所定形状の傾斜は、
上述した曲面の代わりに、図４で説明したような三角状
としてもよい。
【００３１】実施の形態４．なお、上述した各実施の形
態では、磁界変化付与手段として、回転軸に同期して回
転する磁性体回転体の場合について説明したが、直線変
位する磁性体移動体についても同様に適用でき、同様の
効果を奏する。
態では、磁界変化付与手段として、回転軸に同期して回
転する磁性体回転体の場合について説明したが、直線変
位する磁性体移動体についても同様に適用でき、同様の
効果を奏する。
【００３２】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、磁界
を発生する磁界発生手段と、磁界発生手段と所定の間隙
を持って配置され、この磁界発生手段によって発生され
た磁界を変化させる磁界変化付与手段と、この磁界変化
付与手段で変化された磁界に応じて抵抗値が変化する磁
気検出素子とを備え、磁気検出素子と対向する磁界発生
手段の面に傾斜をもたせたので、磁気検出素子の配置位
置擦れによる磁気検出素子への印加磁界の変化を低減し
て磁気検出素子の出力変化を抑えることができ、以て実
質的に磁界変化付与手段による磁界の変化に対応した検
出出力を確実に得ることができ、検出精度を向上できる
という効果がある。
を発生する磁界発生手段と、磁界発生手段と所定の間隙
を持って配置され、この磁界発生手段によって発生され
た磁界を変化させる磁界変化付与手段と、この磁界変化
付与手段で変化された磁界に応じて抵抗値が変化する磁
気検出素子とを備え、磁気検出素子と対向する磁界発生
手段の面に傾斜をもたせたので、磁気検出素子の配置位
置擦れによる磁気検出素子への印加磁界の変化を低減し
て磁気検出素子の出力変化を抑えることができ、以て実
質的に磁界変化付与手段による磁界の変化に対応した検
出出力を確実に得ることができ、検出精度を向上できる
という効果がある。
【００３３】また、この発明によれば、磁界発生手段を
磁石で構成すると共に、磁界変化付与手段を凹凸を有す
る磁性体回転体で構成し、磁石の前面に設けた傾斜を曲
面または三角状としたので、磁気検出素子の配置位置擦
れによる磁気検出素子への印加磁界の変化を低減して磁
気検出素子の出力変化を抑えることができ、以て磁性体
回転体の凹凸に対応した検出出力のエッジのばらつきが
低減され、検出精度を向上できるという効果がある。
磁石で構成すると共に、磁界変化付与手段を凹凸を有す
る磁性体回転体で構成し、磁石の前面に設けた傾斜を曲
面または三角状としたので、磁気検出素子の配置位置擦
れによる磁気検出素子への印加磁界の変化を低減して磁
気検出素子の出力変化を抑えることができ、以て磁性体
回転体の凹凸に対応した検出出力のエッジのばらつきが
低減され、検出精度を向上できるという効果がある。
【００３４】また、この発明によれば、磁界発生手段を
磁石と、この磁石に設けられて磁気検出素子と対向する
面に所定の傾斜を有する磁束ガイドとで構成すると共
に、磁界変化付与手段を凹凸を有する磁性体回転体で構
成したので、磁気検出素子の配置位置擦れによる磁気検
出素子への印加磁界の変化を低減して磁気検出素子の出
力変化を抑えることができ、以て磁性体回転体の凹凸に
対応した検出出力のエッジのばらつきが低減され、検出
精度を向上でき、しかも磁束ガイドに比べて加工しにく
い磁石に対する加工を省くことができ、それだけ加工時
の作業性を向上できるという効果がある。
磁石と、この磁石に設けられて磁気検出素子と対向する
面に所定の傾斜を有する磁束ガイドとで構成すると共
に、磁界変化付与手段を凹凸を有する磁性体回転体で構
成したので、磁気検出素子の配置位置擦れによる磁気検
出素子への印加磁界の変化を低減して磁気検出素子の出
力変化を抑えることができ、以て磁性体回転体の凹凸に
対応した検出出力のエッジのばらつきが低減され、検出
精度を向上でき、しかも磁束ガイドに比べて加工しにく
い磁石に対する加工を省くことができ、それだけ加工時
の作業性を向上できるという効果がある。
【図１】 この発明に係る検出装置の実施の形態１を示
す構成図である。
す構成図である。
【図２】 この発明に係る検出装置の実施の形態１にお
ける磁気検出素子に対する磁石からの磁界ベクトルの分
布を示す図である。
ける磁気検出素子に対する磁石からの磁界ベクトルの分
布を示す図である。
【図３】 この発明に係る検出装置の実施の形態１の動
作説明に供するための波形図である。
作説明に供するための波形図である。
【図４】 この発明に係る検出装置の実施の形態２にお
ける磁気検出素子に対する磁石からの磁界ベクトルの分
布を示す図である。
ける磁気検出素子に対する磁石からの磁界ベクトルの分
布を示す図である。
【図５】 この発明に係る検出装置の実施の形態３を示
す構成図である。
す構成図である。
【図６】 この発明に係る検出装置の実施の形態３にお
ける磁気検出素子に対する磁石からの磁界ベクトルの分
布を示す図である。
ける磁気検出素子に対する磁石からの磁界ベクトルの分
布を示す図である。
【図７】 従来の検出装置を示す構成図である。
【図８】 磁気検出素子を用いた検出装置の回路構成を
概略的に示すブロック図である。
概略的に示すブロック図である。
【図９】 図８の具体的回路構成の一例を示す回路図で
ある。
ある。
【図１０】 図９の動作説明に供するための波形図であ
る。
る。
【図１１】 従来の検出装置における磁気検出素子に対
する磁石からの磁界ベクトルの分布を示す図である。
する磁石からの磁界ベクトルの分布を示す図である。
１ 回転軸、２ 磁性体回転体、２０，２０Ａ，２１
磁石、１０，１０Ａ〜１０Ｄ 磁気検出素子、１１ ホ
イートストンブリッジ回路、１２ 差動増幅回路、１３
比較回路、１４ 波形整形回路、２２ 磁束ガイド。
磁石、１０，１０Ａ〜１０Ｄ 磁気検出素子、１１ ホ
イートストンブリッジ回路、１２ 差動増幅回路、１３
比較回路、１４ 波形整形回路、２２ 磁束ガイド。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｇ０１Ｐ 3/488 Ｇ０１Ｐ 3/488 Ｆ Ｇ０１Ｒ 33/06 Ｇ０１Ｒ 33/06
Claims (6)
- 【請求項１】 磁界を発生する磁界発生手段と、 上記磁界発生手段と所定の間隙を持って配置され、該磁
界発生手段によって発生された磁界を変化させる磁界変
化付与手段と、 該磁界変化付与手段で変化された磁界に応じて抵抗値が
変化する磁気検出素子とを備え、上記磁気検出素子と対
向する上記磁界発生手段の面に傾斜をもたせたことを特
徴とする検出装置。 - 【請求項２】 上記磁界発生手段を磁石で構成したこと
を特徴とする請求項１記載の検出装置。 - 【請求項３】 上記磁界発生手段を磁石と、該磁石に設
けられ、上記磁気検出素子と対向する面に所定の傾斜を
有する磁束ガイドとで構成したことを特徴とする請求項
１記載の検出装置。 - 【請求項４】 上記傾斜が曲面をなす請求項１〜３のい
ずれかに記載の検出装置。 - 【請求項５】 上記傾斜が三角状をなす請求項１〜３の
いずれかに記載の検出装置。 - 【請求項６】 上記磁界変化付与手段を少なくとも１つ
の凹凸を有する磁性体回転体で構成したことを特徴とす
る請求項１〜５のいずれかに記載の検出装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9026736A JPH10221114A (ja) | 1997-02-10 | 1997-02-10 | 検出装置 |
| US08/890,670 US6107793A (en) | 1997-02-10 | 1997-07-09 | Magnetic sensing device unaffected by positioning error of magnetic field sensing elements |
| DE19729808A DE19729808C2 (de) | 1997-02-10 | 1997-07-11 | Sensoreinrichtung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9026736A JPH10221114A (ja) | 1997-02-10 | 1997-02-10 | 検出装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10221114A true JPH10221114A (ja) | 1998-08-21 |
Family
ID=12201601
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9026736A Pending JPH10221114A (ja) | 1997-02-10 | 1997-02-10 | 検出装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6107793A (ja) |
| JP (1) | JPH10221114A (ja) |
| DE (1) | DE19729808C2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002219914A (ja) * | 2001-01-29 | 2002-08-06 | Toyo Tire & Rubber Co Ltd | タイヤ回転数検出装置及びタイヤ製造方法及びタイヤ |
| JP2004514875A (ja) * | 2000-02-26 | 2004-05-20 | ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング | 強磁性の対象物を無接触で検出する測定装置 |
| JP2013076394A (ja) * | 2011-09-29 | 2013-04-25 | Hyundai Motor Co Ltd | 自動車用カムターゲットホイール |
| JP2015535339A (ja) * | 2012-10-31 | 2015-12-10 | 江▲蘇▼多▲維▼科技有限公司Ｍｕｌｔｉｄｉｍｅｎｓｉｏｎ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｃｏ．， Ｌｔｄ． | 磁気通貨検証ヘッド |
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