Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

JPH1022641A - Multilayer printed wiring board and its manufacture - Google Patents

Multilayer printed wiring board and its manufacture

Info

Publication number
JPH1022641A
JPH1022641A JP17371696A JP17371696A JPH1022641A JP H1022641 A JPH1022641 A JP H1022641A JP 17371696 A JP17371696 A JP 17371696A JP 17371696 A JP17371696 A JP 17371696A JP H1022641 A JPH1022641 A JP H1022641A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
wiring board
printed wiring
resin
multilayer printed
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP17371696A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Naoichi Tsurukawa
直一 鶴川
Kenji Kawamoto
憲治 河本
Akimi Matsumoto
陽美 松本
Jiro Watanabe
二郎 渡辺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toppan Printing Co Ltd filed Critical Toppan Printing Co Ltd
Priority to JP17371696A priority Critical patent/JPH1022641A/en
Publication of JPH1022641A publication Critical patent/JPH1022641A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a highly reliable multilayer printed wiring board where the adhesion to an electroless and electrolytic plated film and the adhesion to a conductive circuit pattern show excellent adhesive strength, easily and at a low price, by constituting the resin insulating layer consisting of heat- resistant resin in the two layers of an easy-toadhesion layer and a high peel strength layer. SOLUTION: These are a multilayer printed wiring board where the resin insulating layer 3 consists of the two layers of an easy-to-adhesion layer 3a mainly constituted of resin high in adhesion with the conductor circuit pattern 2, and a high peel strength layer 3b high in adhesion with an electroless and electrolytic plated film, and the high peel strength layer 3b consists of the one where silica fine particles soluble to alkali are added to heat-resistant resin used for the easy-to-adhesion layer 3a, in a multilayer printed wiring board where conductor circuit patterns 2 consisting of electroless plating and electrolytic plating and the resin insulating layers 3 consisting of heat-resistant resin are stacked alternately, and its manufacture.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、多層プリント配線
板に関するものであり、特に、樹脂絶縁層が易接着層と
高ピール強度層の2層からなる多層プリント配線板に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a multilayer printed wiring board, and more particularly to a multilayer printed wiring board in which a resin insulating layer is composed of two layers, an easy-adhesion layer and a high peel strength layer.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子技術の進歩に伴い、大型コン
ピューターなどの電子機器に対する高密度化あるいは演
算機能の高速化が進められている。その結果、プリント
配線板においても高密度化多層プリント配線板が脚光を
浴びてきた。
2. Description of the Related Art In recent years, with the advance of electronic technology, electronic devices such as large-sized computers have been increased in density or speed of arithmetic functions. As a result, high-density multilayer printed wiring boards have come into the spotlight in printed wiring boards.

【0003】従来、多層プリント配線板としては、例え
ば内装回路を接続し導通せしめた多層プリント配線板が
代表的なものであった。しかしながら、このような多層
プリント配線板は、複数の内装回路をスルーホールを介
して接続導通させたものであるため、配線回路が複雑に
なりすぎて高密度化あるいは高速化を実現することが困
難であった。
Conventionally, as a multilayer printed wiring board, for example, a multilayer printed wiring board in which an internal circuit is connected and made conductive is typical. However, in such a multilayer printed wiring board, since a plurality of internal circuits are connected and conducted through through holes, the wiring circuit becomes too complicated, and it is difficult to realize high density or high speed. Met.

【0004】このような問題点を克服することのできる
多層プリント配線板として、最近、導体回路と有機絶縁
膜とを交互にビルドアップした多層プリント配線板が開
発されている。この多層プリント配線板は、超高密度化
と高速化に適合したものであるが、有機絶縁膜上に無電
解めっき膜を信頼性よく形成させることが困難なことに
欠点があった。
[0004] As a multilayer printed wiring board capable of overcoming such problems, a multilayer printed wiring board in which conductive circuits and organic insulating films are alternately built up has been developed recently. This multilayer printed wiring board is suitable for ultra-high density and high speed, but has a drawback in that it is difficult to form an electroless plating film on an organic insulating film with high reliability.

【0005】このため、かかる多層プリント配線板にお
いては、導体層を蒸着やスパッタリングなどのPVD法
もしくは前記PVD法と無電解めっきとの併用法で形成
していたが、このようなPVD法による導体回路形成方
法は生産性が劣り、コストが高いことが問題であった。
For this reason, in such a multilayer printed wiring board, the conductor layer is formed by a PVD method such as vapor deposition or sputtering, or a combined method of the PVD method and the electroless plating. The circuit forming method has problems that productivity is low and cost is high.

【0006】最近、このような有機絶縁膜上に無電解め
っき膜を信頼性よく形成する方法として、樹脂絶縁層中
に酸化剤などによって可溶な成分を混合し溶解除去する
ことによって、無電解めっき膜に接する樹脂表面を粗ら
す方法が提案されている。たとえば、特開昭64−47
095号公報にあるように耐熱性の樹脂絶縁層をマトリ
ックスとして樹脂層中に酸化剤に可溶のエポキシ樹脂、
ビスマレイミド・トリアジン樹脂、ポリエステル樹脂な
どの樹脂と、酸化剤に不溶の樹脂や無機フィラーの混合
により、樹脂絶縁層の表面を酸化剤で粗らして無電解め
っき膜形成のアンカー効果を高めたものなどが提案され
ている。また、特開昭61−276875号公報のよう
に、耐熱性絶縁樹脂分子内にジエン系ゴム成分などを組
み込むことにより、無電解めっき膜との接着性を向上さ
せる方法なども提案されている。
Recently, as a method for forming an electroless plating film on such an organic insulating film with high reliability, an electroless plating film is mixed with a oxidizing agent in a resin insulating layer and dissolved and removed. A method of roughening a resin surface in contact with a plating film has been proposed. For example, JP-A-64-47
No. 095, an epoxy resin soluble in an oxidizing agent in a resin layer using a heat-resistant resin insulating layer as a matrix,
A mixture of a resin such as bismaleimide / triazine resin or polyester resin and a resin or inorganic filler that is insoluble in an oxidizing agent, roughening the surface of the resin insulating layer with an oxidizing agent to enhance the anchoring effect of electroless plating film formation And so on. Further, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-276875, a method of improving the adhesiveness to an electroless plating film by incorporating a diene rubber component or the like into the heat-resistant insulating resin molecule has been proposed.

【0007】しかしながら、これらの方法では耐熱性の
樹脂絶縁層に対して酸化剤などで溶解させる樹脂粒子や
ゴム成分などの樹脂改質剤自体の耐熱性が劣っているた
め、結果として形成された樹脂絶縁層の耐熱性を低下さ
せることが問題となっていた。
However, according to these methods, the heat resistance of the resin modifier itself such as resin particles and rubber components dissolved in the heat-resistant resin insulating layer with an oxidizing agent or the like is inferior. There has been a problem of lowering the heat resistance of the resin insulating layer.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前述のごと
き従来の多層プリント配線板の有する問題点を解消し、
耐熱性樹脂からなる樹脂絶縁層を易接着層と高ピール強
度層の2層構成にすることによって、無電解及び電解め
っき膜に対する接着性と導体回路パターンに対する接着
性が共に優れた接着強度を示す高耐熱性の多層プリント
配線板を容易にかつ安価に提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention solves the above-mentioned problems of the conventional multilayer printed wiring board,
By forming the resin insulation layer made of a heat-resistant resin into a two-layer structure of an easy-adhesion layer and a high-peel-strength layer, the adhesion to electroless and electrolytic plating films and the adhesion to conductor circuit patterns are both excellent. An object of the present invention is to provide a multilayer printed wiring board having high heat resistance easily and at low cost.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明に於いて上記課題
を解決するために、まず請求項1においては、無電解め
っき及び電解めっきからなる導体回路パターンと耐熱性
樹脂からなる樹脂絶縁層とが交互に積層されてなる多層
プリント配線板において、前記樹脂絶縁層が前記導体回
路パターンとの接着性の高い樹脂を主とする易接着層
と、無電解及び電解めっき膜との密着性の高い高ピール
強度層の2層からなることを特徴とする多層プリント配
線板としたものである。
Means for Solving the Problems In order to solve the above problems in the present invention, first, in claim 1, a conductive circuit pattern made of electroless plating and electrolytic plating and a resin insulating layer made of a heat-resistant resin are used. Are alternately laminated, the resin insulating layer has an adhesive layer mainly composed of a resin having high adhesiveness to the conductive circuit pattern, and a high adhesion between the electroless and electrolytic plating films. A multilayer printed wiring board comprising two layers of a high peel strength layer.

【0010】また、請求項2においては、前記高ピール
強度層は、前記易接着層に用いる耐熱性樹脂に耐熱性微
粉末を加えたものからなることを特徴とする請求項1に
記載の多層プリント配線板としたものである。
[0010] According to a second aspect of the present invention, the high peel strength layer is formed by adding a heat resistant fine powder to a heat resistant resin used for the easy adhesion layer. It is a printed wiring board.

【0011】また、請求項3においては、前記耐熱性微
粉末は、アルカリ可溶性のシリカ系微粒子であることを
特徴とする請求項1又は2に記載の多層プリント配線板
としたものである。
According to a third aspect of the present invention, in the multilayer printed wiring board according to the first or second aspect, the heat-resistant fine powder is alkali-soluble silica-based fine particles.

【0012】さらにまた、以下の(a)〜(e)の工程
を備えることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに
記載の多層プリント配線板の製造方法としたものであ
る。 (a)感光性樹脂成分と熱硬化性樹脂成分と光重合開始
剤と溶媒とからなる感光性樹脂組成物(A液)と、前記
感光性樹脂組成物(A液)にシリカ系微粒子を添加して
なる感光性樹脂組成物(B液)を作製する工程。 (b)導体回路パターンが形成された絶縁基板上に最初
に感光性樹脂組成物(A液)を塗布し、次に感光性樹脂
組成物(B液)を塗布して2層の感光性樹脂層を形成
し、所定のパターンを露光・焼き付け、現像処理した後
加熱硬化して、易接着層と高ピール強度層からなる樹脂
絶縁層を形成する工程。 (c)樹脂絶縁層の高ピール強度層表面をアルカリ処理
してアンカー層を形成する工程。 (d)無電解めっき及び電解めっきを行って第2導体層
を形成し、パターニング処理して第2導体回路パターン
を形成する工程。 (e)上記(b)〜(d)の工程を必要回数繰り返して
多層プリント配線板を作製する工程。
Further, the method according to any one of claims 1 to 3, further comprising the following steps (a) to (e). (A) A photosensitive resin composition (Solution A) comprising a photosensitive resin component, a thermosetting resin component, a photopolymerization initiator and a solvent, and silica-based fine particles added to the photosensitive resin composition (Solution A) A step of preparing a photosensitive resin composition (Solution B) as described above. (B) A photosensitive resin composition (Solution A) is first applied onto the insulating substrate on which the conductive circuit pattern is formed, and then a photosensitive resin composition (Solution B) is applied to form a two-layer photosensitive resin. A step of forming a layer, exposing and baking a predetermined pattern, developing, and then heating and curing to form a resin insulating layer including an easy-adhesion layer and a high peel strength layer. (C) forming an anchor layer by treating the surface of the high peel strength layer of the resin insulating layer with alkali; (D) a step of forming a second conductor layer by performing electroless plating and electrolytic plating, and performing a patterning process to form a second conductor circuit pattern; (E) A step of manufacturing the multilayer printed wiring board by repeating the above steps (b) to (d) a required number of times.

【0013】本発明によれば、多層プリント配線板を構
成する樹脂絶縁層を導体回路パターンと高い接着性を有
する易接着層と無電解及び電解めっき膜との高い接着性
を有する高ピール強度層の2層構成にすることにより、
無電解及び電解めっき膜に対する接着性と導体回路パタ
ーンに対する接着性が共に優れた接着強度を示し、且つ
高耐熱性を有する多層プリント配線板を提供できる。
According to the present invention, the resin insulating layer constituting the multilayer printed wiring board is formed of an easy-adhesion layer having high adhesiveness to a conductor circuit pattern and a high peel strength layer having high adhesiveness to electroless and electrolytic plating films. By having a two-layer structure of
It is possible to provide a multilayer printed wiring board having excellent adhesion strength to both electroless and electrolytic plating films and adhesion to a conductive circuit pattern, and having high heat resistance.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、本発明をさらに詳細に説明
する。図1は本発明の多層プリント配線板の構成を示す
断面図である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in more detail. FIG. 1 is a sectional view showing the configuration of the multilayer printed wiring board of the present invention.

【0015】まず、本発明の多層プリント配線板を構成
している樹脂絶縁層3は、感光性樹脂成分と熱硬化性樹
脂成分と光重合開始剤と溶媒とからなる感光性樹脂組成
物(A液)と感光性樹脂組成物(A液)にアルカリ可溶
性のシリカ系微粒子を添加した感光性樹脂組成物(B
液)からなり、導体回路パターン2が形成された絶縁基
板1上に、最初に感光性樹脂組成物(A液)を塗布し、
次に感光性樹脂組成物(B液)を塗布して2層構成の感
光性樹脂層を形成し、所定のパターンを露光・焼き付
け、現像処理した後加熱硬化して耐熱性の易接着層3a
及び高ピール強度層3bの2層構成からなる。
First, the resin insulating layer 3 constituting the multilayer printed wiring board of the present invention comprises a photosensitive resin composition (A) comprising a photosensitive resin component, a thermosetting resin component, a photopolymerization initiator and a solvent. Liquid) and the photosensitive resin composition (liquid A) to which alkali-soluble silica-based fine particles are added.
Liquid), the photosensitive resin composition (A liquid) is first applied on the insulating substrate 1 on which the conductive circuit pattern 2 is formed,
Next, a photosensitive resin composition (solution B) is applied to form a two-layer photosensitive resin layer, a predetermined pattern is exposed and baked, developed, heated and cured to form a heat-resistant easy-adhesion layer 3a.
And a high peel strength layer 3b.

【0016】まず、感光性樹脂組成物を構成している感
光性樹脂成分は、ビスフェノール型エポキシ化合物と不
飽和モノカルボン酸との反応物と、飽和または不飽和多
塩基酸無水物とを反応せしめて得られる紫外線硬化性樹
脂からなる。ビスフェノール成分の具体例としては、ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)ケトン、ビス(4−ヒド
ロキシ−3,5−ジメチルフェニル)ケトン、ビス(4
−ヒドロキシ−3,5−ジクロロフェニル)ケトン、ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、ビス(4−ヒ
ドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)スルホン、ビス
(4−ヒドロキシ−3,5−ジクロロフェニル)スルホ
ン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(4
−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)メタン、ビ
ス(4−ヒドロキシ−3,5−ジクロロフェニル)メタ
ン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプ
ロパン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェ
ニル)ヘキサフルオロプロパン、ビス(4−ヒドロキシ
−3,5−ジクロロフェニル)ヘキサフルオロプロパ
ン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)ジメチルシラン、
ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)ジ
メチルシラン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジクロ
ロフェニル)ジメチルシラン、ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)メタン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジク
ロロフェニル)メタン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5
−ジブロモフェニル)メタン、2,2−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロ
キシ−3,5−ジメチルフェニル)プロパン、2,2−
ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジクロロフェニル)プ
ロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフ
ェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3
−クロロフェニル)プロパン、ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)エーテル、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジ
メチルフェニル)エーテル、ビス(4−ヒドロキシ−
3,5−ジクロロフェニル)エーテル等が挙げられる。
First, the photosensitive resin component constituting the photosensitive resin composition is obtained by reacting a reaction product of a bisphenol type epoxy compound and an unsaturated monocarboxylic acid with a saturated or unsaturated polybasic acid anhydride. Of an ultraviolet curable resin obtained by the above method. Specific examples of the bisphenol component include bis (4-hydroxyphenyl) ketone, bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) ketone, bis (4
-Hydroxy-3,5-dichlorophenyl) ketone, bis (4-hydroxyphenyl) sulfone, bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) sulfone, bis (4-hydroxy-3,5-dichlorophenyl) sulfone, bis (4-hydroxyphenyl) methane, bis (4
-Hydroxy-3,5-dimethylphenyl) methane, bis (4-hydroxy-3,5-dichlorophenyl) methane, bis (4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane, bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) Hexafluoropropane, bis (4-hydroxy-3,5-dichlorophenyl) hexafluoropropane, bis (4-hydroxyphenyl) dimethylsilane,
Bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) dimethylsilane, bis (4-hydroxy-3,5-dichlorophenyl) dimethylsilane, bis (4-hydroxyphenyl) methane, bis (4-hydroxy-3,5- Dichlorophenyl) methane, bis (4-hydroxy-3,5)
-Dibromophenyl) methane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) propane, 2,2-
Bis (4-hydroxy-3,5-dichlorophenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy-3
-Chlorophenyl) propane, bis (4-hydroxyphenyl) ether, bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) ether, bis (4-hydroxy-
3,5-dichlorophenyl) ether and the like.

【0017】また、不飽和モノカルボン酸の具体例とし
ては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、ケイ皮酸等
が挙げられる。
Specific examples of the unsaturated monocarboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, and cinnamic acid.

【0018】また、飽和または不飽和多塩基酸無水物の
具体例としては、例えば、無水マレイン酸、無水コハク
酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、無水テトラヒドロ
フタル酸、無水へキサヒドロフタル酸、メチルへキサヒ
ドロ無水フタル酸、無水エンドメチレンテトラヒドロフ
タル酸、無水メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル
酸、無水クロレンド酸、メチルテトラヒドロ無水フタル
酸などの二塩基性酸無水物;無水トリメリット酸、無水
ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物などの芳香族多価カルボン酸無水物;その他これに
付随する例えば5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフ
リル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジ
カルボン酸無水物のような多価カルボン酸無水物誘導体
などが使用できる。
Further, specific examples of the saturated or unsaturated polybasic anhydride include, for example, maleic anhydride, succinic anhydride, itaconic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, Dibasic acid anhydrides such as methylhexahydrophthalic anhydride, endomethylenetetrahydrophthalic anhydride, methylendmethylenetetrahydrophthalic anhydride, chlorendic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride; trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, Aromatic polycarboxylic anhydrides such as benzophenonetetracarboxylic dianhydride; and other accompanying compounds such as 5- (2,5-dioxotetrahydrofuryl) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid Polycarboxylic acid anhydride derivatives such as acid anhydrides can be used

【0019】次に、感光性樹脂組成物を構成している熱
硬化性樹脂成分は、2種類のエポキシ化合物からなり、
一つが脂環式エポキシ類化合物であり、もう一方が芳香
族環を含む構造のエポキシ類化合物からなる。脂環式エ
ポキシ類化合物の具体例としては、シクロヘキセンオキ
シドの各種誘導体や前記芳香族エポキシ類の水素添加化
合物などが挙げられる。また、芳香族環を含む構造のエ
ポキシ類化合物の具体例としては、フェノールノボラッ
ク型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹
脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノール
F型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、
ビフェニル型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂等のエ
ポキシ樹脂や、フェニルグリシジルエーテル、p−ブチ
ルフェノールグリシジルエーテル、トリグリシジルイソ
シアヌレート、ジグリシジルイソシアヌレート、アリル
グリシジルエーテル、グリシジルメタクリレート等のエ
ポキシ基を少なくとも3個以上有する化合物等が挙げら
れる。
Next, the thermosetting resin component constituting the photosensitive resin composition comprises two types of epoxy compounds,
One is an alicyclic epoxy compound and the other is an epoxy compound having a structure containing an aromatic ring. Specific examples of the alicyclic epoxy compounds include various derivatives of cyclohexene oxide and hydrogenated compounds of the aromatic epoxies. Specific examples of the epoxy compound having a structure containing an aromatic ring include phenol novolak epoxy resin, cresol novolak epoxy resin, bisphenol A epoxy resin, bisphenol F epoxy resin, bisphenol S epoxy resin,
Epoxy resin such as biphenyl type epoxy resin and alicyclic epoxy resin, and at least three epoxy groups such as phenyl glycidyl ether, p-butylphenol glycidyl ether, triglycidyl isocyanurate, diglycidyl isocyanurate, allyl glycidyl ether and glycidyl methacrylate; And the like.

【0020】上記2種類のエポキシ化合物の配合比とし
ては、脂環式エポキシ化合物と芳香族環を含む構造のエ
ポキシ化合物の重量比が、4:1〜1:1であることが
好ましく、さらには、2.5:1〜1.5:1であるこ
とが特に好ましい。脂環式エポキシ化合物と芳香族環を
含む構造のエポキシ化合物の重量比が上記の範囲外であ
ると、ガラス転移温度(Tg)が極端に下がり耐熱性が
低下したり、また、めっき接着強度(ピール強度)が低
下して無電解めっき膜を信頼性よく形成することが困難
になる可能性がある。
The weight ratio of the alicyclic epoxy compound to the epoxy compound having an aromatic ring is preferably from 4: 1 to 1: 1. , 2.5: 1 to 1.5: 1. If the weight ratio of the alicyclic epoxy compound to the epoxy compound having a structure containing an aromatic ring is out of the above range, the glass transition temperature (Tg) is extremely reduced, heat resistance is lowered, and plating adhesion strength ( Peel strength), and it may be difficult to form an electroless plating film with high reliability.

【0021】さらに、感光性樹脂組成物を構成する光重
合開始剤としては、例えば、アセトフェノン、2,2−
ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセ卜フェノ
ン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、ジクロロア
セトフェノン、トリクロロアセトフェノン、p−ter
t−ブチルアセトフェノン等のアセトフェノン類や、ベ
ンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、p,p’−
ビスジメチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン
類や、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソ
ブチルエーテル、等のベンゾインエーテル類や、ベンジ
ルジメチルケタール、チオキサンソン、2−クロロチオ
キサンソン、2,4−ジエチルチオキサンソン、2−メ
チルチオキサンソン、2−イソプロピルチオキサンソン
等のイオウ化合物や、2−エチルアントラキノン、オク
タメチルアントラキノン、1,2−ベンズアントラキノ
ン、2,3−ジフェニルアントラキノン等のアントラキ
ノン類や、アゾビスイソブチルニトリル、ベンゾイルパ
ーオキサイド、クメンパーオキシド等の有機過酸化物
や、2−メルカプ卜ベンゾイミダゾール、2−メルカプ
トベンゾオキサゾール、2−メルカプトベンゾチアゾー
ル等のチオール化合物等が挙げられる。これらの化合物
は、2種以上を組み合わせて使用することもできる。ま
た、それ自体では光重合開始剤として作用しないが、上
記の化合物と組み合わせて用いることによリ、光重合開
始剤の能力を増大させ得るような化合物を添加すること
もできる。そのような化合物としては、例えば、ベンゾ
フェノンと組み合わせて使用すると効果のあるトリエタ
ノールアミン等の第三級アミンを挙げることができる。
Further, as the photopolymerization initiator constituting the photosensitive resin composition, for example, acetophenone, 2,2-
Diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, dichloroacetophenone, trichloroacetophenone, p-ter
Acetophenones such as t-butylacetophenone, benzophenone, 2-chlorobenzophenone, p, p'-
Benzophenones such as bisdimethylaminobenzophenone; benzoin ethers such as benzyl, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin isopropyl ether, and benzoin isobutyl ether; benzyl dimethyl ketal, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, and 2,4- Sulfur compounds such as diethylthioxanthone, 2-methylthioxanthone and 2-isopropylthioxanthone; and anthraquinones such as 2-ethylanthraquinone, octamethylanthraquinone, 1,2-benzanthraquinone, and 2,3-diphenylanthraquinone; Organic peroxides such as azobisisobutylnitrile, benzoyl peroxide, cumene peroxide, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzoxazo , Thiol compounds such as 2-mercaptobenzothiazole and the like. These compounds may be used in combination of two or more. In addition, a compound which does not act as a photopolymerization initiator by itself, but can be used in combination with the above compound, can increase the ability of the photopolymerization initiator. Such compounds include, for example, tertiary amines such as triethanolamine, which are effective when used in combination with benzophenone.

【0022】さらに、感光性樹脂組成物を構成するアル
カリ性溶液に溶解するシリカ系微粒子としては、微粒子
表面が酸性を示すものが望ましく、具体的には約5%の
スラリー状態でPH2〜6のものがアルカリ性溶液に対
する溶解性が高く、PH3〜5程度のものが特に望まし
い。前記樹脂絶縁層表面のシリカ系微粒子はアルカリ性
溶液によって溶解され、樹脂絶縁層の表面は均一に粗面
化され、それにより明確なアンカーが形成され、その結
果、無電解めっき膜との高い密着強度および信頼性が得
られる。
Further, as the silica-based fine particles to be dissolved in the alkaline solution constituting the photosensitive resin composition, those having an acid surface of the fine particles are preferable, and specifically, those having a pH of 2 to 6 in a slurry state of about 5%. Are highly soluble in alkaline solutions, and those having a pH of about 3 to 5 are particularly desirable. The silica-based fine particles on the surface of the resin insulating layer are dissolved by an alkaline solution, and the surface of the resin insulating layer is uniformly roughened, whereby a clear anchor is formed. As a result, high adhesion strength with the electroless plating film is obtained. And reliability.

【0023】このシリカ系微粒子の配合量は、マトリッ
クスを構成する耐熱性樹脂100重量部(固形分)に対
し、5〜100重量部の範囲であることが有利であり、
特に10〜50重量部の範囲であることが樹脂絶縁層と
無電解めっき膜との密着強度を高くする上で好適であ
る。
The compounding amount of the silica-based fine particles is preferably in the range of 5 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight (solid content) of the heat-resistant resin constituting the matrix.
In particular, it is preferable that the content be in the range of 10 to 50 parts by weight in order to increase the adhesion strength between the resin insulating layer and the electroless plating film.

【0024】さらに、感光性樹脂組成物に使用する溶媒
としては、通常溶剤、例えば、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロ
ソルブ、ブチルセロソルブ、ブチルセロソルブアセテー
ト、ブチルカルビトール、ブチルセルロース、テトラリ
ン、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等が
挙げられる。
The solvent used in the photosensitive resin composition is usually a solvent such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, butyl cellosolve acetate, butyl carbitol, butyl cellulose, tetralin, dimethylformamide. , N-methylpyrrolidone and the like.

【0025】また、上記感光性樹脂組成物中には、必要
に応じて、例えば、フッソ樹脂やポリイミド樹脂、ベン
ゾグアナミン樹脂などの有機質充填剤、あるいはシリカ
やタルク、アルミナ、クレー、炭酸カルシウム、酸化チ
タン、硫酸バリウムなどの無機質充填剤を配合すること
ができる。
In the photosensitive resin composition, if necessary, for example, an organic filler such as a fluorine resin, a polyimide resin or a benzoguanamine resin, or silica, talc, alumina, clay, calcium carbonate or titanium oxide And an inorganic filler such as barium sulfate.

【0026】さらに、上記感光性樹脂組成物中には、必
要に応じて、エポキシ基硬化促進剤、熱重合禁止剤、可
塑剤、分散剤、レベリング剤、消泡剤、紫外線吸収剤、
難燃化剤等の添加剤や着色用顔料等を添加することが可
能である。
Further, in the above-mentioned photosensitive resin composition, an epoxy group curing accelerator, a thermal polymerization inhibitor, a plasticizer, a dispersant, a leveling agent, an antifoaming agent, an ultraviolet absorber,
It is possible to add additives such as flame retardants, coloring pigments and the like.

【0027】次に多層プリント配線板の製造方法につい
て具体的に説明する。図2(a)〜(f)に本発明の多
層プリント配線板の製造工程を示す。まず、絶縁基板1
上に導体回路パターン2を形成する(図2(a)参
照)。絶縁基板1としては、例えばプラスチック基板、
セラミック基板、フィルム基板などを使用することがで
き、具体的にはガラスエポキシ基板、ビスマレイミドー
トリアジン基板、低温焼成セラミック基板、窒化アルミ
ニウム基板、ポリイミドフィルム基板などを使用するこ
とができる。
Next, a method for manufacturing a multilayer printed wiring board will be specifically described. 2 (a) to 2 (f) show a manufacturing process of the multilayer printed wiring board of the present invention. First, the insulating substrate 1
A conductive circuit pattern 2 is formed thereon (see FIG. 2A). As the insulating substrate 1, for example, a plastic substrate,
A ceramic substrate, a film substrate, or the like can be used, and specifically, a glass epoxy substrate, a bismaleimide-triazine substrate, a low-temperature fired ceramic substrate, an aluminum nitride substrate, a polyimide film substrate, or the like can be used.

【0028】次に、導体回路パターン2を形成した絶縁
基板1上に上記感光性樹脂組成物(A液)を塗布し、感
光性樹脂層3a' を形成する(図2(b)参照)。感光
性樹脂組成物の塗布法としては、例えばローラーコート
法、ディップコート法、スプレーコート法、スピンコー
ト法、カーテンコート法、スクリーン印刷法などが適用
できる。また、上記感光性樹脂組成物をフィルム状に加
工した感光性樹脂フィルムを貼付する方法も適用するこ
とができる。
Next, the above-mentioned photosensitive resin composition (Solution A) is applied on the insulating substrate 1 on which the conductor circuit pattern 2 has been formed to form a photosensitive resin layer 3a '(see FIG. 2 (b)). As a method for applying the photosensitive resin composition, for example, a roller coating method, a dip coating method, a spray coating method, a spin coating method, a curtain coating method, a screen printing method, or the like can be applied. Further, a method of attaching a photosensitive resin film obtained by processing the above photosensitive resin composition into a film shape can also be applied.

【0029】次に、感光性樹脂層3a' 上に上記感光性
樹脂組成物(B液)を塗布して感光性樹脂層3b' を形
成し、乾燥して2層構成の感光性樹脂層3' を形成する
(図2(c)参照)。ここで、感光性樹脂層3' の好適
な厚さは通常20〜100μm程度であるが、特に高い
絶縁性が要求される場合にはそれ以上に厚くすることも
できる。
Next, the photosensitive resin composition (Solution B) is applied on the photosensitive resin layer 3a 'to form a photosensitive resin layer 3b', which is dried to form a two-layer photosensitive resin layer 3b '. (See FIG. 2 (c)). Here, the preferable thickness of the photosensitive resin layer 3 'is usually about 20 to 100 [mu] m, but it can be made larger when particularly high insulation is required.

【0030】次に、感光性樹脂層3' に所定のパターン
が形成されたフォトマスク使って露光した後、弱アルカ
リ性水溶液を用いて現像し、150℃以上の温度で加熱
硬化してビアホール形成孔4を有する易接着層3a及び
高ピール強度層3bからなる樹脂絶縁層3を形成する
(図2(d)参照)。
Next, after exposing using a photomask having a predetermined pattern formed on the photosensitive resin layer 3 ', it is developed using a weak alkaline aqueous solution, and is heated and cured at a temperature of 150 ° C. or more to form a via hole forming hole. The resin insulating layer 3 including the easy-adhesion layer 3a and the high-peel strength layer 3b having the layer 4 is formed (see FIG. 2D).

【0031】ここで、上記アルカリ性溶液としては炭酸
ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、ジエタ
ノールアミン水溶液、トリエタノールアミン水溶液、水
酸化アンモニウム水溶液、水酸化ナトリウム水溶液など
があげられる。なかでもジエタノールアミン水溶液は適
度なアルカリ性を有し、現像後に基板上樹脂へのナトリ
ウムイオンの残留がおこることがないため特に好まし
い。
Here, examples of the alkaline solution include an aqueous solution of sodium carbonate, an aqueous solution of sodium hydrogen carbonate, an aqueous solution of diethanolamine, an aqueous solution of triethanolamine, an aqueous solution of ammonium hydroxide, and an aqueous solution of sodium hydroxide. Above all, an aqueous solution of diethanolamine is particularly preferable since it has appropriate alkalinity and does not cause sodium ions to remain on the resin on the substrate after development.

【0032】アルカリ現像後、耐アルカリ性を向上させ
るために、加熱してエポキシ硬化処理を行う。これは、
強アルカリ水に対する耐久性が著しく向上するばかリで
なく、ガラス、銅等の金属に対する密着性、耐熱性、表
面硬度等の諸性質も向上する。
After the alkali development, an epoxy curing treatment is performed by heating to improve the alkali resistance. this is,
Not only is the durability significantly improved in strong alkaline water, but also various properties such as adhesion to metals such as glass and copper, heat resistance, and surface hardness are improved.

【0033】次に、高ピール強度層3b表面のシリカ系
微粒子をアルカリ性溶液を用いて溶解除去する。溶解除
去の方法としては基板をアルカリ性溶液に浸漬するか、
樹脂絶縁層の表面にアルカリ性溶液をスプレーするなど
の方法を適用できる。
Next, the silica fine particles on the surface of the high peel strength layer 3b are dissolved and removed using an alkaline solution. As a method of dissolution removal, immerse the substrate in an alkaline solution,
A method such as spraying an alkaline solution on the surface of the resin insulating layer can be applied.

【0034】次に、ビアホール形成孔を有する絶縁樹脂
層3上に無電解めっき及び電解めっきを行ってビアホー
ル5を有する第2導体層6を形成する(図2(e)参
照)。無電解及び電解めっきの方法としては、例えば銅
めっき、ニッケルめっき、金めっき、銀めっき、錫めっ
き等があるが、一般的には銅めっきが使用される。
Next, the second conductor layer 6 having the via hole 5 is formed by performing electroless plating and electrolytic plating on the insulating resin layer 3 having the via hole forming hole (see FIG. 2E). Examples of the electroless and electrolytic plating methods include copper plating, nickel plating, gold plating, silver plating, and tin plating, but copper plating is generally used.

【0035】次に、第2導体層6上にフォトレジストを
塗布し、フォトパターニングプロセスにより第2導体パ
ターン6aを形成する(図2(f)参照)。なお、導体
パターンの形成法としては、上記導体層を形成してから
フォトパターニングプロセスにより導体パターンを形成
する方法の他に、あらかじめ、導体パターンをめっきレ
ジストにて形成しておいて、無電解めっき及び電解めっ
きを行い直接導体パターンを形成するアディティブ法な
ども適用できる。
Next, a photoresist is applied on the second conductor layer 6, and a second conductor pattern 6a is formed by a photo patterning process (see FIG. 2F). As a method for forming the conductor pattern, in addition to the method of forming the conductor layer by the photopatterning process after forming the conductor layer, the conductor pattern is formed in advance with a plating resist, and then the electroless plating is performed. Also, an additive method of directly forming a conductor pattern by performing electrolytic plating can be applied.

【0036】以上の工程により、2層の導体パターンを
有する本発明の多層プリント配線板が得られる。さら
に、2層以上の多層配線板を作製する場合には上記樹脂
絶縁層及び導体パターン形成工程を順次繰り返すことに
より、所望の多層プリント配線板が得られる。
Through the above steps, a multilayer printed wiring board of the present invention having a two-layer conductor pattern is obtained. Further, in the case of manufacturing a multilayer wiring board having two or more layers, a desired multilayer printed wiring board can be obtained by sequentially repeating the resin insulating layer and the conductor pattern forming step.

【0037】[0037]

【実施例】以下、本発明の多層プリント配線板を製造す
る実施例について説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention will be described below.

【0038】〈実施例1〉まず、ビスフェノールA型エ
ポキシ樹脂エピコート1001(油化シェルエポキシ
製)とアクリル酸との反応物を無水ピロメリット酸と無
水テトラフタル酸との1対1混合物と反応せしめて得ら
れる紫外線硬化性樹脂40重量部、脂環式エポキシ樹脂
EHPE−3150(ダイセル化学製)を20重量部、
芳香族環を含むエポキシ樹脂HP−7200H(大日本
インキ化学製)を5重量部、分散剤(BYK−CHEM
IE社製)0. 5重量部、消泡剤(BYK−CHEMI
E社製)0. 5重量部、光重合開始剤Lucirin−
TPO(BASF社製)4重量部を混合し、3本ロール
で混練し感光性樹脂組成物(A液)を作製した。
Example 1 First, a reaction product of bisphenol A type epoxy resin Epicoat 1001 (made by Yuka Shell Epoxy) and acrylic acid was reacted with a 1: 1 mixture of pyromellitic anhydride and tetraphthalic anhydride. 40 parts by weight of the obtained ultraviolet curable resin, 20 parts by weight of alicyclic epoxy resin EHPE-3150 (manufactured by Daicel Chemical),
5 parts by weight of an epoxy resin HP-7200H (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals) containing an aromatic ring, and a dispersant (BYK-CHEM)
0.5 parts by weight, defoamer (BYK-CHEMI)
E) (0.5 parts by weight, photopolymerization initiator Lucirin-
4 parts by weight of TPO (manufactured by BASF) were mixed and kneaded with a three-roll mill to prepare a photosensitive resin composition (solution A).

【0039】また、ビスフェノールA型エポキシ樹脂エ
ピコート1001(油化シェルエポキシ製)とアクリル
酸との反応物を無水ピロメリット酸と無水テトラフタル
酸との1対1混合物と反応せしめて得られる紫外線硬化
性樹脂40重量部、脂環式エポキシ樹脂EHPE−31
50(ダイセル化学製)20重量部、芳香族環を含むエ
ポキシ樹脂HP−7200H(大日本インキ化学製)5
重量部、シリカゲル微粉末FB−3S(電気化学工業
製、平均粒径3μm)10重量部、分散剤(BYK−C
HEMIE社製)0. 5重量部、消泡剤(BYK−CH
EMIE社製)0. 5重量部、光重合開始剤Lucir
in−TPO(BASF社製)4重量部を混合し、その
混合物に対して20重量部のエチルセルソルブアセテー
トを添加して撹拌した後、3本ロールで混練し感光性樹
脂組成物(B液)を作製した。
An ultraviolet curable compound obtained by reacting a reaction product of bisphenol A type epoxy resin Epicoat 1001 (made by Yuka Shell Epoxy) with acrylic acid with a one-to-one mixture of pyromellitic anhydride and tetraphthalic anhydride. 40 parts by weight of resin, alicyclic epoxy resin EHPE-31
50 (manufactured by Daicel Chemical) 20 parts by weight, epoxy resin HP-7200H containing an aromatic ring (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals) 5
Parts by weight, 10 parts by weight of silica gel fine powder FB-3S (manufactured by Denki Kagaku Kogyo, average particle size 3 μm), dispersant (BYK-C)
0.5 parts by weight, defoamer (BYK-CH)
0.5 parts by weight, photopolymerization initiator Lucir
4 parts by weight of in-TPO (manufactured by BASF) were mixed, 20 parts by weight of ethyl cellosolve acetate was added to the mixture, and the mixture was stirred and kneaded with three rolls to obtain a photosensitive resin composition (solution B). ) Was prepared.

【0040】次に、第1導体回路パターン2が形成され
たガラスエポキシ絶縁基板1上に、上記感光性樹脂組成
物(A液)をスクリーン印刷にて塗布、乾燥して感光性
樹脂層3a' を形成した(図2(b)参照)。同様にし
て、感光性樹脂層3a' 上に上記感光性樹脂組成物(B
液)をスクリーン印刷にて塗布、乾燥して感光性樹脂層
3b' を形成し、2層構成の約50μm厚の感光性樹脂
層3' を形成した(図2(c)参照)。
Next, the above-mentioned photosensitive resin composition (Solution A) is applied on the glass epoxy insulating substrate 1 on which the first conductive circuit pattern 2 is formed by screen printing and dried to form a photosensitive resin layer 3a '. Was formed (see FIG. 2B). Similarly, on the photosensitive resin layer 3a ', the photosensitive resin composition (B
The liquid was applied by screen printing and dried to form a photosensitive resin layer 3b ', thereby forming a two-layered photosensitive resin layer 3' having a thickness of about 50 μm (see FIG. 2 (c)).

【0041】次に、感光性樹脂層3' に所定のパターン
が形成されたフォトマスクを介して700mJ/cm2
の露光量で密着露光し、ジエタノールアミンの1%水溶
液にて30℃でl分間現像し、180℃で1時間加熱硬
化処理を行なって、ビアホール形成孔を有する易接着層
3a及び高ピール強度層3bからなる樹脂絶縁層3を形
成した(図2(d)参照)。
Next, 700 mJ / cm 2 is applied through a photomask in which a predetermined pattern is formed on the photosensitive resin layer 3 ′.
, Developed with a 1% aqueous solution of diethanolamine at 30 ° C. for 1 minute, and heat-cured at 180 ° C. for 1 hour to form an easy-adhesion layer 3a having via hole forming holes and a high peel strength layer 3b. A resin insulating layer 3 was formed (see FIG. 2D).

【0042】次に、樹脂絶縁層3の表面層である高ピー
ル強度層3bを膨潤液(シプレイ社製)に50℃で15
分、過マンガン酸カリウム/水酸化ナトリウムの混合溶
液に70℃で5分間浸漬して、高ピール強度層3bの表
面を粗化し、その後中和溶液(シプレイ社製)に浸漬し
て、水洗、乾燥した。
Next, the high peel strength layer 3b, which is the surface layer of the resin insulating layer 3, is immersed in a swelling liquid (manufactured by Shipley Co.) at 50.degree.
For 5 minutes at 70 ° C. for 5 minutes in a mixed solution of potassium permanganate / sodium hydroxide to roughen the surface of the high-peel strength layer 3b, and then immersed in a neutralizing solution (manufactured by Shipley), and Dried.

【0043】次に、粗化された樹脂絶縁層上にパラジウ
ム触媒(シプレイ社製)を付与し、アクセラレータ(シ
プレイ社製)により表面を活性化させた後、無電解めっ
き液(シプレイ社製)に30分間浸漬して、さらに電解
めっき液(硫酸−硫酸銅)に1A/dm2 の電流を流し
ながら2時間浸漬して、ビアホール5を有する25μm
厚の第2導体層6を形成した(図2(e)参照)。
Next, after applying a palladium catalyst (manufactured by Shipley) on the roughened resin insulating layer and activating the surface with an accelerator (manufactured by Shipley), an electroless plating solution (manufactured by Shipley) is used. Immersion in an electrolytic plating solution (sulfuric acid-copper sulphate) for 2 hours while applying a current of 1 A / dm 2 to a 25 μm
A thick second conductor layer 6 was formed (see FIG. 2E).

【0044】次に、第2導体層6上にフォトレジストを
塗布し、通常のフォトパターニングプロセスにより第2
導体回路パターン6aを形成した(図2(f)参照)。
以上の工程で、2層の導体回路パターンからなる本発明
の多層プリント配線板が得られた。
Next, a photoresist is applied on the second conductor layer 6, and the second conductor layer 6 is subjected to the second photolithography process.
A conductive circuit pattern 6a was formed (see FIG. 2 (f)).
Through the above steps, a multilayer printed wiring board according to the present invention including two conductive circuit patterns was obtained.

【0045】上記の方法で得られた多層プリント配線板
の絶縁樹脂層と銅めっき層との接着強度をJIS−C−
6481の方法で測定したところ、1000〜1200
(g/cm)のピール強度を示し、十分な接着強度を有
していることが確認された。
The adhesive strength between the insulating resin layer and the copper plating layer of the multilayer printed wiring board obtained by the above method was measured according to JIS-C-
When measured by the method of No. 6481, 1000 to 1200
(G / cm), indicating a sufficient adhesive strength.

【0046】[0046]

【発明の効果】本発明の多層プリント配線板では、樹脂
絶縁層を2層構成にすることにより、無電解及び電解め
っき膜に対する接着性と導体回路パターンに対する接着
性が共に優れた接着強度を示すようになり、且つ高耐熱
性を有する多層プリント配線板を容易にかつ安価に作製
できる。
According to the multilayer printed wiring board of the present invention, since the resin insulating layer has a two-layer structure, the adhesive strength to the electroless and electrolytic plating films and the adhesive strength to the conductive circuit pattern are both excellent. Thus, a multilayer printed wiring board having high heat resistance can be easily and inexpensively manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の多層プリント配線板の構成を示す断面
図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a multilayer printed wiring board according to the present invention.

【図2】(a)〜(f)本発明の多層プリント配線板の
製造方法を示す工程断面図である。
FIGS. 2A to 2F are process cross-sectional views illustrating a method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1………絶縁基板 2………第1導体回路パターン 3………樹脂絶縁層 3a……易接着層 3b……高ピール強度層 3' ……感光性樹脂層 3a' …感光性樹脂層 3b' …感光性樹脂層 4………ビアホール形成孔 5………ビアホール 6………第2導体層 6a……第2導体回路パターン DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Insulating board 2 ... 1st conductor circuit pattern 3 ... Resin insulating layer 3a ... Easy adhesion layer 3b ... High peel strength layer 3 '... Photosensitive resin layer 3a' ... Photosensitive resin layer 3b 'photosensitive resin layer 4 via hole forming hole 5 via hole 6 second conductor layer 6a second conductor circuit pattern

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 渡辺 二郎 東京都台東区台東1丁目5番1号 凸版印 刷株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (72) Inventor Jiro Watanabe 1-5-1, Taito, Taito-ku, Tokyo Toppan Printing Co., Ltd.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】無電解めっき及び電解めっきからなる導体
回路パターンと耐熱性樹脂からなる樹脂絶縁層とが交互
に積層されてなる多層プリント配線板において、前記樹
脂絶縁層が前記導体回路パターンとの接着性の高い樹脂
を主とする易接着層と、無電解及び電解めっき膜との密
着性の高い高ピール強度層の2層からなることを特徴と
する多層プリント配線板。
1. A multilayer printed wiring board in which conductive circuit patterns made of electroless plating and electrolytic plating and resin insulating layers made of a heat-resistant resin are alternately laminated, wherein the resin insulating layer is formed by A multilayer printed wiring board comprising two layers: an easy-adhesion layer mainly composed of a resin having high adhesiveness, and a high peel strength layer having high adhesion to electroless and electrolytic plating films.
【請求項2】前記高ピール強度層は、前記易接着層に用
いる耐熱性樹脂に耐熱性微粉末を加えたものからなるこ
とを特徴とする請求項1に記載の多層プリント配線板。
2. The multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the high peel strength layer is formed by adding a heat-resistant fine powder to a heat-resistant resin used for the easy-adhesion layer.
【請求項3】前記耐熱性微粉末は、アルカリ可溶性のシ
リカ系微粒子であることを特徴とする請求項1又は2に
記載の多層プリント配線板。
3. The multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the heat-resistant fine powder is alkali-soluble silica-based fine particles.
【請求項4】以下の(a)〜(e)の工程を備えること
を特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の多層プ
リント配線板の製造方法。 (a)感光性樹脂成分と熱硬化性樹脂成分と光重合開始
剤と溶媒とからなる感光性樹脂組成物(A液)と、前記
感光性樹脂混合物(A液)にシリカ系微粒子を添加して
なる感光性樹脂組成物(B液)とを作製する工程。 (b)第1導体回路パターンが形成された絶縁基板上に
最初に感光性樹脂組成物(A液)を塗布し、次に感光性
樹脂組成物(B液)を塗布して2層の感光性樹脂層を形
成し、所定のパターンを露光・焼き付け、現像処理した
後加熱硬化して易接着層と高ピール強度層からなる樹脂
絶縁層を形成する工程。 (c)樹脂絶縁層の高ピール強度層表面をアルカリ処理
してアンカー層を形成する工程。 (d)無電解めっき及び電解めっきを行って第2導体層
を形成し、パターニング処理して第2導体回路パターン
を形成する工程。 (e)上記(b)〜(d)の工程を必要回数繰り返して
多層プリント配線板を作製する工程。
4. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 1, further comprising the following steps (a) to (e). (A) A photosensitive resin composition (Solution A) comprising a photosensitive resin component, a thermosetting resin component, a photopolymerization initiator, and a solvent, and silica-based fine particles added to the photosensitive resin mixture (Solution A). Producing a photosensitive resin composition (solution B). (B) A photosensitive resin composition (Solution A) is first applied onto the insulating substrate on which the first conductive circuit pattern is formed, and then a photosensitive resin composition (Solution B) is applied to form two layers of photosensitive resin. Forming a conductive resin layer, exposing and baking a predetermined pattern, developing, and heat-curing to form a resin insulating layer including an easy-adhesion layer and a high-peel strength layer. (C) forming an anchor layer by treating the surface of the high peel strength layer of the resin insulating layer with alkali; (D) a step of forming a second conductor layer by performing electroless plating and electrolytic plating, and performing a patterning process to form a second conductor circuit pattern; (E) A step of manufacturing the multilayer printed wiring board by repeating the above steps (b) to (d) a required number of times.
JP17371696A 1996-07-03 1996-07-03 Multilayer printed wiring board and its manufacture Pending JPH1022641A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17371696A JPH1022641A (en) 1996-07-03 1996-07-03 Multilayer printed wiring board and its manufacture

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17371696A JPH1022641A (en) 1996-07-03 1996-07-03 Multilayer printed wiring board and its manufacture

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH1022641A true JPH1022641A (en) 1998-01-23

Family

ID=15965822

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP17371696A Pending JPH1022641A (en) 1996-07-03 1996-07-03 Multilayer printed wiring board and its manufacture

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH1022641A (en)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000188482A (en) * 1998-12-22 2000-07-04 Ibiden Co Ltd Multilayer printed wiring board
JP2004009485A (en) * 2002-06-06 2004-01-15 Toppan Printing Co Ltd Polyimide resin film, multilayer circuit board using the same and its manufacturing process
JP2006202980A (en) * 2005-01-20 2006-08-03 Hitachi Chem Co Ltd Multilayer interconnection board and its manufacturing method
JP2009302144A (en) * 2008-06-10 2009-12-24 Nippon Mektron Ltd Flexible circuit substrate and manufacturing method thereof
JP2010034197A (en) * 2008-07-28 2010-02-12 Fujitsu Ltd Buildup board
WO2011071107A1 (en) * 2009-12-11 2011-06-16 新日鐵化学株式会社 Photosensitive adhesive composition having adhesiveness even after photocuring reaction and after pattern formation
WO2011132274A1 (en) * 2010-04-21 2011-10-27 株式会社メイコー Substrate with built-in component, multilayer substrate using same, and method for manufacturing substrate with built-in component
CN104145537A (en) * 2012-03-29 2014-11-12 德国艾托特克公司 Method for manufacturing thin-line circuit
US20150083602A1 (en) * 2012-03-29 2015-03-26 Atotech Deutschland Gmbh Method for manufacture of fine line circuitry
WO2019189219A1 (en) * 2018-03-30 2019-10-03 太陽インキ製造株式会社 Curable resin composition, dry film, cured product, and printed wiring board

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000188482A (en) * 1998-12-22 2000-07-04 Ibiden Co Ltd Multilayer printed wiring board
JP2004009485A (en) * 2002-06-06 2004-01-15 Toppan Printing Co Ltd Polyimide resin film, multilayer circuit board using the same and its manufacturing process
JP4677703B2 (en) * 2002-06-06 2011-04-27 凸版印刷株式会社 POLYIMIDE RESIN FILM AND METHOD FOR PRODUCING MULTILAYER WIRING BOARD USING SAME
JP2006202980A (en) * 2005-01-20 2006-08-03 Hitachi Chem Co Ltd Multilayer interconnection board and its manufacturing method
JP2009302144A (en) * 2008-06-10 2009-12-24 Nippon Mektron Ltd Flexible circuit substrate and manufacturing method thereof
JP2010034197A (en) * 2008-07-28 2010-02-12 Fujitsu Ltd Buildup board
WO2011071107A1 (en) * 2009-12-11 2011-06-16 新日鐵化学株式会社 Photosensitive adhesive composition having adhesiveness even after photocuring reaction and after pattern formation
JP5833928B2 (en) * 2009-12-11 2015-12-16 新日鉄住金化学株式会社 Substrate bonding method for bonding substrates using a photosensitive adhesive composition having adhesiveness after photocuring reaction and after pattern formation
WO2011132274A1 (en) * 2010-04-21 2011-10-27 株式会社メイコー Substrate with built-in component, multilayer substrate using same, and method for manufacturing substrate with built-in component
CN104145537A (en) * 2012-03-29 2014-11-12 德国艾托特克公司 Method for manufacturing thin-line circuit
US20150083602A1 (en) * 2012-03-29 2015-03-26 Atotech Deutschland Gmbh Method for manufacture of fine line circuitry
TWI565379B (en) * 2012-03-29 2017-01-01 德國艾托特克公司 Method for manufacture of fine line circuitry
US9713266B2 (en) * 2012-03-29 2017-07-18 Atotech Deutschland Gmbh Method for manufacture of fine line circuitry
WO2019189219A1 (en) * 2018-03-30 2019-10-03 太陽インキ製造株式会社 Curable resin composition, dry film, cured product, and printed wiring board
JP2019178304A (en) * 2018-03-30 2019-10-17 太陽インキ製造株式会社 Curable resin composition, dry film, cured product and printed wiring board

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO1998047328A1 (en) Adhesive for electroless plating, raw material composition for preparing adhesive for electroless plating and printed wiring board
JPH1022641A (en) Multilayer printed wiring board and its manufacture
US5998237A (en) Method for adding layers to a PWB which yields high levels of copper to dielectric adhesion
JP2002258476A (en) Insulating photosensitive resin composition and printed wiring board
JP3841858B2 (en) Insulating layer resin composition for multilayer printed wiring board
JP2000212248A (en) Insulating resin composition for multilayered printed- wiring board and multilayered printed-wiring board
JP3858522B2 (en) Multilayer printed wiring board and manufacturing method thereof
JPH10275983A (en) Mutilayer printed-wiring board
JPH11126974A (en) Manufacture of multilayered wiring board
WO2002068525A1 (en) Positive photodefinable composition of polycarboxylic acid, phenolic and thermocurable resins
JP2000230034A (en) Resin composition for insulation layer
JP2517369B2 (en) Method for manufacturing multilayer wiring board
JPH07193373A (en) Multilayer printed wiring board and adhering sheet
JP2000119374A (en) Photo-sensitive resin composition and multi-layered printed circuit board using the same
JPH0983138A (en) Method of manufacturing multi-layered printed wiring board
JPH11214813A (en) Insulating resin compound for multilayer printed wiring board
JP2000133947A (en) Insulating layer resin composition for multilayer printed wiring board
JPH1027963A (en) Multilayer printed wiring board and production thereof
JP2000119373A (en) Insulating resin composition and multi-layered printed circuit board using the same
JP2000129137A (en) Resin composition having high adhesion and electronic instrument part using the same
JP3522489B2 (en) Adhesive for electroless plating used for printed wiring boards and printed wiring boards
JP3773567B2 (en) Method for manufacturing printed wiring board
JPH1146067A (en) Insulative resin composition for multilayered printed circuit board
JPH0730259A (en) Multilayer printed wiring board and adhesive sheet
JPH11343394A (en) Flame-retardant electrical resin composition and multilayered printed-wiring board using the same