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JPH1021697A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

Info

Publication number
JPH1021697A
JPH1021697A JP8171916A JP17191696A JPH1021697A JP H1021697 A JPH1021697 A JP H1021697A JP 8171916 A JP8171916 A JP 8171916A JP 17191696 A JP17191696 A JP 17191696A JP H1021697 A JPH1021697 A JP H1021697A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
terminal
spare
semiconductor memory
memory device
address
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8171916A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kenji Tsuchiya
憲司 土屋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP8171916A priority Critical patent/JPH1021697A/en
Publication of JPH1021697A publication Critical patent/JPH1021697A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)
  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor memory in which the cell of a spare column can be tested before a fuse corresponding to a defective column is laser-cut. SOLUTION: A line 2 is connected with NMOSFETs 5, 6 through first and second fuses 3, 4, respectively. The NMOSFETs 5, 6 are connected, respectively, with the first and second address signal terminals 7, 8. The NMOSFETs 5 is connected in series with a PMOSFET 9 which is interrupted by feeding a power supply voltage to the gate thereof. Under that state, a signal is fed only to the first signal terminal 7.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体記憶装置に関
し、特に半導体記憶装置の冗長回路に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a redundancy circuit of a semiconductor memory device.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体メモリが大容量化していくにつれ
て、不良ビットを1ビットも含まないメモリアレイを製
造することが急速に困難になってくる。特に新規の製造
技術を用いて開発されるメモリの場合、初期の試作時の
欠陥レベルが高く歩留りがきわめて低い。
2. Description of the Related Art As the capacity of a semiconductor memory increases, it becomes rapidly difficult to manufacture a memory array containing no defective bit. In particular, in the case of a memory developed using a new manufacturing technique, the defect level at the time of initial trial production is high, and the yield is extremely low.

【0003】こうした問題を解決する方策として、EC
C(Error Checking and Correction )回路を用いるこ
とも研究されているが、スピードなどの面で十分満足で
きる結果が得られていない。現在、実用的には、冗長な
行や列を数本加えて、不良のセルや行、列を入れ替える
冗長回路技術が用いられている。
[0003] As a measure to solve such problems, EC
The use of a C (Error Checking and Correction) circuit has been studied, but a satisfactory result in terms of speed and the like has not been obtained. At present, in practice, a redundant circuit technique for adding a few redundant rows and columns and replacing defective cells, rows and columns is used.

【0004】図5は2本の冗長な行(スペア行)を持つ
メモリアレイの回路である。正規のアレイ中に不良ビッ
トがあった場合、その行に対応するアドレス信号に対し
て、選択動作を行うようにスペアデータをプログラミン
グする。こうすることにより、不良ビットを含むアドレ
スが入力されると、スペアデコーダが選択され、同時に
正規の行デコーダに対して選択禁止信号が出される。従
って正規の行の代わりにスペア行が選択されることにな
る。
FIG. 5 shows a circuit of a memory array having two redundant rows (spare rows). If there is a defective bit in the normal array, the spare data is programmed so as to perform a selecting operation for an address signal corresponding to the row. Thus, when an address including a defective bit is input, a spare decoder is selected, and at the same time, a selection inhibition signal is output to a normal row decoder. Therefore, a spare row is selected instead of a regular row.

【0005】図4は図5のスペアデコーダの回路図であ
る。通常、上記プログラミングは不良アドレスに対応す
るヒューズ103、104をレーザ切断(Fuse Blow )
することで完成する。そして、このようにすることで初
めてスペアデコーダ(冗長回路)が活性化される。
FIG. 4 is a circuit diagram of the spare decoder of FIG. Normally, the above programming is performed by laser cutting the fuses 103 and 104 corresponding to the defective address (Fuse Blow).
It is completed by doing. By doing so, the spare decoder (redundant circuit) is activated for the first time.

【0006】具体的には、不良アドレスがアドレス入力
端子107、108が入力された場合、対応するヒュー
ズ103、104がすべて切断されているため、NMO
SFET105、106が導通状態にあってもnode
のレベルは“H”レベルに保持される。nodeが
“H”のため、スペアカラムが選択され、不良アドレス
が救済される。
More specifically, when a defective address is input to the address input terminals 107 and 108, the corresponding fuses 103 and 104 are all blown.
Even if the SFETs 105 and 106 are conducting, the node
Is held at the “H” level. Since the node is “H”, a spare column is selected and a defective address is relieved.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ところが、従来のカラ
ムスペアデコーダはヒューズをレーザにより物理的に切
断しなければ活性化されないため、不良アドレスに対応
するヒューズをカットした後、再度ダイソートを行い、
スペアセルを試験する必要がある。
However, since the conventional column spare decoder is not activated unless the fuse is physically cut by a laser, the fuse corresponding to the defective address is cut, and the die sort is performed again.
Spare cells need to be tested.

【0008】本発明は上記問題点に鑑み、不良アドレス
に対応するヒューズをレーザカットする前にスペアカラ
ムのセルを試験することが可能な半導体記憶装置を提供
することを目的とする。
In view of the above problems, it is an object of the present invention to provide a semiconductor memory device capable of testing cells in a spare column before laser cutting a fuse corresponding to a defective address.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めに、本発明の半導体記憶装置では、電源電圧端子と、
選択端子及びスペア選択端子と、前記電源電圧端子と前
記選択端子及びスペア選択端子とを電気的に接続する線
路と、この線路に一方の端部が接続される第1、第2の
ヒューズと、前記第1、第2のヒューズの他方の端部に
一方の主電極端子がそれぞれ接続される第1、第2のス
イッチング素子と、前記第1、第2のスイッチング素子
の制御電極端子にそれぞれ電気的に接続される第1、第
2のアドレス信号端子と、前記第1のスイッチング素子
の他方の主電極端子に接続される第3のスイッチング素
子とを具備することを特徴とする。
In order to solve the above problems, a semiconductor memory device according to the present invention comprises a power supply voltage terminal,
A selection terminal and a spare selection terminal, a line electrically connecting the power supply voltage terminal and the selection terminal and the spare selection terminal, first and second fuses each having one end connected to the line, The first and second switching elements, each having one main electrode terminal connected to the other end of the first and second fuses, respectively, and the control electrode terminals of the first and second switching elements are respectively electrically connected. A first and a second address signal terminals connected to each other; and a third switching element connected to the other main electrode terminal of the first switching element.

【0010】本発明では、第3のスイッチング素子を遮
断状態にしておき、この状態で第1のアドレス信号端子
のみに信号が入力されるようにすることで、スペアセル
がレーザカットをすることなく選択される。ゆえにレー
ザカットを行うことなくスペアセルを試験することが可
能となる。
In the present invention, the spare cell is selected without cutting the laser by keeping the third switching element in a cut-off state, and inputting a signal only to the first address signal terminal in this state. Is done. Therefore, a spare cell can be tested without performing laser cutting.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】本発明の第1の実施例である半導
体記憶装置について図面を参照して説明する。本実施例
においてはカラムが128Kbitのメモリセルアレイ
に対するカラムスペアデコーダについて説明する。図1
において、5V駆動のDRAMであれば5Vの、3.3
V駆動のDRAMであれば3.3Vの電源電圧端子1に
はカラム選択端子(図示しないが、遅延回路、論理和回
路を介してカラム選択ドライバに接続される)であるn
odeとの間を接続する線路2が接続される。この線路
2は電源電圧端子1とnodeとの間で分岐し、SCS
Ln(Spare Colemn Select Line)1端子まで延長され
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In this embodiment, a column spare decoder for a memory cell array having 128 Kbit columns will be described. FIG.
In the case of a DRAM driven by 5 V, 5 V of 3.3 V
In the case of a V-driven DRAM, a 3.3 V power supply voltage terminal 1 is a column selection terminal (not shown, connected to a column selection driver via a delay circuit or an OR circuit).
The line 2 is connected to the ode. The line 2 branches between the power supply voltage terminal 1 and the node, and the SCS
It is extended to Ln (Spare Colemn Select Line) 1 terminal.

【0012】この線路2には、8個のアドレスデータに
対応して、第1のヒューズ3が接続され、この8個のア
ドレス反転データに対応して、第2のヒューズ4が接続
される。この第1のヒューズ3のそれぞれには第1のス
イッチング素子であるNMOSFET5のドレインが接
続され、第2のヒューズ4のそれぞれには第2のスイッ
チング素子であるNMOSFET6のドレインが接続さ
れる。
A first fuse 3 is connected to the line 2 in accordance with eight address data, and a second fuse 4 is connected in accordance with the eight address inversion data. Each of the first fuses 3 is connected to the drain of an NMOSFET 5 that is a first switching element, and each of the second fuses 4 is connected to the drain of an NMOSFET 6 that is a second switching element.

【0013】NMOSFET5のゲートには8個のアド
レスデータに対応する第1のアドレス信号端子7が接続
され、 NMOSFET6のゲートには第1のアドレス
信号端子7の反転成分である第2のアドレス信号端子8
が接続される。
A first address signal terminal 7 corresponding to eight address data is connected to the gate of the NMOSFET 5, and a second address signal terminal which is an inverted component of the first address signal terminal 7 is connected to the gate of the NMOSFET 6. 8
Is connected.

【0014】NMOSFET5のソースには第3のスイ
ッチング素子であるPMOSFET9のドレインが接続
される。また、NMOSFET6のソースは接地(Vs
sに接続)される。PMOSFET9のゲートは共有さ
れ、電源電圧が印加されるPadに接続される。
The source of the NMOSFET 5 is connected to the drain of a PMOSFET 9 as a third switching element. The source of the NMOSFET 6 is grounded (Vs
s). The gate of the PMOSFET 9 is shared and connected to Pad to which the power supply voltage is applied.

【0015】次に、この半導体記憶装置の動作について
説明する。例えば、16番目のカラムのメモリセルが不
良であった場合、このカラムのアドレス(000100
00)が入力された時にnodeが“H”レベルとな
り、スペアカラムが選択され、スペアデコーダ(冗長回
路)が活性化される必要がある。
Next, the operation of the semiconductor memory device will be described. For example, if the memory cell in the 16th column is defective, the address of this column (000100
00) is input, the node goes to “H” level, a spare column must be selected, and a spare decoder (redundant circuit) needs to be activated.

【0016】このとき、スペアカラムのアドレスを(1
1111111)としておく(擬似アドレス)。そし
て、各PMOSFET9のゲートに電源電圧を印加する
ことによりPMOSFET9を遮断する。こうすると、
第1のアドレス信号端子7の各端子A3C、A2C、
…、A7Cに信号が入力されたとしても(つまり、アド
レス(11111111)が選択されたとしても)、ゲ
ート、ソース間電圧がしきい値以上にならず、従ってN
MOSFET5が導通することはないため、nodeが
“H”レベルとなり、スペアデコーダが活性化される。
ゆえに(11111111)に対応する第1のヒューズ
3をレーザで切断することなく、スペアセルをテストす
ることができる。
At this time, the address of the spare column is set to (1
1111111) (pseudo address). Then, the power supply voltage is applied to the gate of each PMOSFET 9 to shut off the PMOSFET 9. In this case,
Each terminal A3C, A2C of the first address signal terminal 7,
.., Even if a signal is input to A7C (that is, even if the address (11111111) is selected), the voltage between the gate and the source does not exceed the threshold, and therefore
Since the MOSFET 5 does not conduct, the node goes high and the spare decoder is activated.
Therefore, the spare cell can be tested without cutting the first fuse 3 corresponding to (11111111) with a laser.

【0017】テスト後はPadを接地しておき、不良メ
モリセルのアドレス(00010000)に対応する第
1のアドレス入力端子7、第2のアドレス入力端子8の
うち、BA3C、BA2C、BA4C、A9C、BA5
C、BA8C、BA6C、BA7Cのそれぞれの端子に
対応する第1のヒューズ3、第2のヒューズ4をレーザ
切断する。不良アドレスがカラムスペアデコーダに入力
されると、対応するヒューズが切断されているため、n
odeが“H”レベルに保持される。よって、スペアカ
ラムが選択され、スペアデコーダ(冗長回路)が立ち上
がる。
After the test, the pad is grounded, and among the first address input terminal 7 and the second address input terminal 8 corresponding to the address (00010000) of the defective memory cell, BA3C, BA2C, BA4C, A9C, BA5
The first fuse 3 and the second fuse 4 corresponding to the respective terminals of C, BA8C, BA6C and BA7C are laser cut. When the defective address is input to the column spare decoder, the corresponding fuse has been blown, so that n
mode is held at the “H” level. Therefore, a spare column is selected, and a spare decoder (redundant circuit) starts up.

【0018】以上、本実施例においては、第1のスイッ
チング素子であるNMOSFET5のソースにPMOS
FET9が接続され、このPMOSFET9のゲートに
は電源電圧が入力されることによって、スペアカラムの
アドレスに対応し、かつ第1のアドレス入力端子7に相
当する第1のヒューズ3を切断することなくスペアセル
をテストすることができる。また、本実施例ではPMO
SFET9を用いたが、NMOSFETを用いてもよ
い。その場合はゲートが接地されている必要がある。
As described above, in this embodiment, the source of the NMOSFET 5 as the first switching element is connected to the PMOS.
An FET 9 is connected, and a power supply voltage is input to the gate of the PMOSFET 9 so that a spare cell corresponding to the address of the spare column and without cutting the first fuse 3 corresponding to the first address input terminal 7 can be provided. Can be tested. In this embodiment, the PMO
Although the SFET 9 is used, an NMOSFET may be used. In that case, the gate needs to be grounded.

【0019】次に本発明の第2の実施例について図2を
用いて説明する。図2のうち、上半分は第1の実施例の
スペアカラムデコーダと全く同一であるため、説明を省
略する。電源電圧端子1には線路2の他に線路12が接
続される。この線路12は電源電圧端子1とnode2
との間で分岐し、SCSLn(Spare Colemn Select Li
ne)2端子まで延長される。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In FIG. 2, the upper half is exactly the same as the spare column decoder of the first embodiment, and therefore the description is omitted. A line 12 is connected to the power supply voltage terminal 1 in addition to the line 2. This line 12 is connected to the power supply voltage terminal 1 and the node 2
And SCSLn (Spare Colemn Select Li
ne) Extension to 2 terminals.

【0020】この線路12には、8個のアドレスデータ
に対応して、第3のヒューズ13が接続され、この8個
のアドレス反転データに対応して、第4のヒューズ14
が接続される。この第3のヒューズ13のそれぞれには
NMOSFET15のドレインが接続され、第4のヒュ
ーズ14のそれぞれにはNMOSFET16のドレイン
が接続される。
A third fuse 13 is connected to the line 12 corresponding to eight address data, and a fourth fuse 14 is connected to the eight address inversion data.
Is connected. The drain of an NMOSFET 15 is connected to each of the third fuses 13, and the drain of an NMOSFET 16 is connected to each of the fourth fuses 14.

【0021】NMOSFET5のゲートには8個のアド
レスデータに対応する第3のアドレス信号端子17が接
続され、 NMOSFET6のゲートには第3のアドレ
ス信号端子17の反転成分である第4のアドレス信号端
子18が接続される。
A third address signal terminal 17 corresponding to eight address data is connected to the gate of the NMOSFET 5, and a fourth address signal terminal which is an inverted component of the third address signal terminal 17 is connected to the gate of the NMOSFET 6. 18 are connected.

【0022】NMOSFET16のソースにはPMOS
FET19のドレインが接続される。また、NMOSF
ET15のソースは接地(Vssに接続)される。PM
OSFET19のゲートは共有され、電源電圧が印加さ
れるPadに接続される。
The source of the NMOSFET 16 is a PMOS
The drain of the FET 19 is connected. Also, NMOSF
The source of ET15 is grounded (connected to Vss). PM
The gate of the OSFET 19 is shared and connected to Pad to which the power supply voltage is applied.

【0023】次に、この半導体記憶装置の動作について
説明する。例えば、16、72番目のカラムのメモリセ
ルが不良であった場合、これらカラムのアドレス(00
010000)、(01001100)が入力された時
にnodeが“H”レベルとなり、スペアカラムが選択
され、スペアデコーダ(冗長回路)が活性化される必要
がある。
Next, the operation of the semiconductor memory device will be described. For example, if the memory cells in the 16th and 72nd columns are defective, the addresses (00
When (010000) and (01001100) are input, the node becomes “H” level, a spare column must be selected, and a spare decoder (redundant circuit) needs to be activated.

【0024】このとき、スペアカラムの2つのアドレス
を(11111111)、(00000000)として
おく(擬似アドレス)。そして、各PMOSFET9、
19のゲートに電源電圧を印加することによりPMOS
FET9、19を遮断する。こうすると、第1のアドレ
ス信号端子7の各端子A3C、A2C、…、A7Cに信
号が入力されたとしても(つまり、アドレス(1111
1111)が選択されたとしても)、ゲート、ソース間
電圧がしきい値以上にならず、従ってNMOSFET5
が導通することはないため、node1が“H”レベル
となり、スペアデコーダが活性化される。ゆえに(11
111111)に対応する第1のヒューズ3をレーザで
切断することなく、アドレス(11111111)のス
ペアセルをテストすることができる。
At this time, the two addresses of the spare column are set to (11111111) and (000000000) (pseudo addresses). And each PMOSFET 9,
By applying a power supply voltage to the gate of the PMOS 19, the PMOS
The FETs 9 and 19 are cut off. Thus, even if a signal is input to each of the terminals A3C, A2C,..., A7C of the first address signal terminal 7 (that is, the address (1111
Even if 1111) is selected), the voltage between the gate and the source does not exceed the threshold value, so that the NMOSFET 5
Does not conduct, node1 attains the "H" level, and the spare decoder is activated. Therefore (11
The spare cell at the address (11111111) can be tested without cutting the first fuse 3 corresponding to (111111) with a laser.

【0025】同様に、PMOSFET19が遮断されて
いると、第4のアドレス信号端子18の各端子BA3
C、BA2C、…、BA7Cに信号が入力されたとして
も(つまり、アドレス(00000000)が選択され
たとしても)、ゲート、ソース間電圧がしきい値以上に
ならず、従ってNMOSFET16が導通することはな
いため、node2が“H”レベルとなり、スペアデコ
ーダが活性化される。ゆえに(00000000)に対
応する第4のヒューズ14をレーザで切断することな
く、アドレス(00000000)に対応するスペアセ
ルをテストすることができる。
Similarly, when the PMOSFET 19 is shut off, each terminal BA3 of the fourth address signal terminal 18 is turned off.
Even if a signal is input to C, BA2C,..., BA7C (that is, even if the address (00000000) is selected), the voltage between the gate and the source does not exceed the threshold value, so that the NMOSFET 16 becomes conductive. Therefore, node2 becomes "H" level, and the spare decoder is activated. Therefore, the spare cell corresponding to the address (00000000) can be tested without cutting the fourth fuse 14 corresponding to (00000000) by laser.

【0026】テスト後はPadを接地しておき、不良メ
モリセルのアドレス(00001000)に対応する第
1のアドレス入力端子7、第2のアドレス入力端子8の
うち、BA3C、BA2C、BA4C、BA9C、A5
C、BA8C、BA6C、BA7Cのそれぞれの端子に
対応する第1のヒューズ3、第2のヒューズ4をレーザ
切断する。同様に、もう1つの不良メモリセルのアドレ
ス(01001100)に対応する第3のアドレス入力
端子17、第4のアドレス入力端子18のうち、BA3
C、A2C、BA4C、BA9C、A5C、A8C、B
A6C、BA7Cのそれぞれの端子に対応する第3のヒ
ューズ13、第4のヒューズ14をレーザ切断する。不
良アドレスがカラムスペアデコーダに入力されると、対
応するヒューズが切断されているため、node1或は
node2が“H”レベルに保持される。よって、スペ
アカラムが選択され、スペアデコーダ(冗長回路)が立
ち上がる。
After the test, Pad is grounded, and among the first address input terminal 7 and the second address input terminal 8 corresponding to the address (00001000) of the defective memory cell, BA3C, BA2C, BA4C, BA9C, A5
The first fuse 3 and the second fuse 4 corresponding to the respective terminals of C, BA8C, BA6C and BA7C are laser cut. Similarly, of the third address input terminal 17 and the fourth address input terminal 18 corresponding to the address (001001100) of another defective memory cell, BA3
C, A2C, BA4C, BA9C, A5C, A8C, B
The third fuse 13 and the fourth fuse 14 corresponding to the respective terminals of A6C and BA7C are laser cut. When the defective address is input to the column spare decoder, node1 or node2 is held at "H" level because the corresponding fuse is blown. Therefore, a spare column is selected, and a spare decoder (redundant circuit) starts up.

【0027】以上、本実施例においては、第1のスイッ
チング素子であるNMOSFET5及びNMOSFET
16のソースにPMOSFET9、19がそれぞれ接続
され、このPMOSFET9、19のゲートには電源電
圧が入力されることによって、スペアカラムのアドレス
に対応し、かつ第1のアドレス入力端子7及び第4のア
ドレス入力端子18に相当する第1のヒューズ3及び第
4のヒューズ14を切断することなくスペアセルをテス
トすることができる。また、本実施例ではPMOSFE
T9、19を用いたが、NMOSFETを用いてもよ
い。その場合はゲートが接地されている必要がある。
As described above, in the present embodiment, the NMOSFET 5 and the NMOSFET
PMOSFETs 9 and 19 are connected to the sources of the PMOSFETs 16, respectively. The power supply voltage is input to the gates of the PMOSFETs 9 and 19 to correspond to the address of the spare column, and to input the first address input terminal 7 and the fourth address. The spare cell can be tested without cutting the first fuse 4 and the fourth fuse 14 corresponding to the input terminal 18. In this embodiment, the PMOSFE
Although T9 and T19 are used, an NMOSFET may be used. In that case, the gate needs to be grounded.

【0028】次に本発明の第3の実施例である半導体記
憶装置について図3を用いて説明する。電源電圧端子1
にはカラム選択端子(図示しないが、遅延回路、論理和
回路を介してカラム選択ドライバに接続される)である
nodeとの間を接続する線路2が接続される。この線
路2は電源電圧端子1とnodeとの間で分岐し、SC
SLn(Spare Colemn Select Line)1端子まで延長さ
れる。
Next, a semiconductor memory device according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. Power supply voltage terminal 1
Is connected to a node which is a column selection terminal (not shown, connected to a column selection driver via a delay circuit or an OR circuit). This line 2 branches between the power supply voltage terminal 1 and the node,
It is extended to one SLn (Spare Colemn Select Line) terminal.

【0029】この線路2には、8個のアドレスデータに
対応して、第1のヒューズ3が接続され、この8個のア
ドレス反転データに対応して、第2のヒューズ4が接続
される。この第1のヒューズ3のそれぞれには第1のス
イッチング素子であるNMOSFET5のドレインが接
続され、第2のヒューズ4のそれぞれには第2のスイッ
チング素子であるNMOSFET6のドレインが接続さ
れる。
A first fuse 3 is connected to the line 2 corresponding to eight address data, and a second fuse 4 is connected to the eight address inversion data. Each of the first fuses 3 is connected to the drain of an NMOSFET 5 that is a first switching element, and each of the second fuses 4 is connected to the drain of an NMOSFET 6 that is a second switching element.

【0030】NMOSFET5のゲートには8個のアド
レスデータに対応する第1のアドレス信号端子7が接続
され、 NMOSFET6のゲートには第1のアドレス
信号端子7の反転成分である第2のアドレス信号端子8
が接続される。NMOSFET5のソース、及びNMO
SFET6のソースは接地(Vssに接続)される。
A first address signal terminal 7 corresponding to eight address data is connected to the gate of the NMOSFET 5, and a second address signal terminal which is an inverted component of the first address signal terminal 7 is connected to the gate of the NMOSFET 6. 8
Is connected. Source of NMOSFET 5 and NMO
The source of SFET 6 is grounded (connected to Vss).

【0031】第1のヒューズ3及び第2のヒューズ4の
線路2との接続点とnodeとの間にはPMOSFET
29が挿入される。このPMOSFET29のゲートに
はヒューズ30を介してPadが接続される。
A PMOSFET is provided between the node of the first fuse 3 and the second fuse 4 connected to the line 2 and the node.
29 is inserted. Pad is connected to the gate of the PMOSFET 29 via a fuse 30.

【0032】次に、この半導体記憶装置の動作について
説明する。例えば、16番目のカラムのメモリセルが不
良であった場合、このカラムのアドレス(000100
00)が入力された時にnodeが“H”レベルとな
り、スペアカラムが選択され、スペアデコーダ(冗長回
路)が活性化される必要がある。
Next, the operation of the semiconductor memory device will be described. For example, if the memory cell in the 16th column is defective, the address of this column (000100
00) is input, the node goes to “H” level, a spare column must be selected, and a spare decoder (redundant circuit) needs to be activated.

【0033】スペアデコーダを活性化させる前に、まず
Padに電源電圧を印加する。するとPMOSFET2
9が遮断し、nodeはPadの高電位を保持する。よ
って、第1の実施例と同様、 nodeが“H”レベル
となり、スペアデコーダが活性化される。ゆえに第1の
ヒューズ3及び第2のヒューズ4をレーザで切断するこ
となく、スペアセルをテストすることができる。
Before activating the spare decoder, a power supply voltage is first applied to Pad. Then PMOSFET2
9 shuts off, and the node holds the high potential of Pad. Therefore, as in the first embodiment, the node becomes "H" level, and the spare decoder is activated. Therefore, the spare cell can be tested without cutting the first fuse 3 and the second fuse 4 with a laser.

【0034】テスト後はPadは接地電位とし、ヒュー
ズ30を切断する。そして、不良メモリセルのアドレス
(00010000)に対応する第1のアドレス入力端
子7、第2のアドレス入力端子8のうち、BA3C、B
A2C、BA4C、A9C、BA5C、BA8C、BA
6C、BA7Cのそれぞれの端子に対応する第1のヒュ
ーズ3、第2のヒューズ4をレーザ切断する。不良アド
レスがカラムスペアデコーダに入力されると、対応する
ヒューズが切断されているため、nodeが“H”レベ
ルに保持される。よって、スペアカラムが選択され、ス
ペアデコーダ(冗長回路)が活性化される。正常なアド
レスが入力された場合は電源電圧端子1及びPadと接
地との間に電流の導通路ができるためにnodeは
“L”レベルになり、スペアデコーダは活性化されな
い。
After the test, Pad is set to the ground potential, and the fuse 30 is cut. Then, of the first address input terminal 7 and the second address input terminal 8 corresponding to the address (00010000) of the defective memory cell, BA3C, B3
A2C, BA4C, A9C, BA5C, BA8C, BA
The first fuse 3 and the second fuse 4 corresponding to the respective terminals of 6C and BA7C are laser cut. When the defective address is input to the column spare decoder, the node is held at "H" level because the corresponding fuse is blown. Therefore, a spare column is selected and a spare decoder (redundant circuit) is activated. When a normal address is input, a current conduction path is formed between the power supply voltage terminal 1 and Pad and the ground, so that the node becomes "L" level and the spare decoder is not activated.

【0035】以上、本実施例においては、第1、第2の
実施例の効果を満たすことができるとともに、従来のス
ペアデコーダに付加するPMOSFETの数を大幅に削
減することができ、半導体チップの高集積化に有利であ
る。今までの説明はカラムスペアデコーダについてであ
ったが、これはロウスペアデコーダについても応用可能
であることは勿論である。
As described above, in this embodiment, the effects of the first and second embodiments can be satisfied, and the number of PMOSFETs added to the conventional spare decoder can be greatly reduced. This is advantageous for high integration. Although the description so far has been made on the column spare decoder, it is needless to say that this can be applied to the row spare decoder.

【0036】[0036]

【発明の効果】本発明により、ヒューズを切断すること
なく、スペアセルをテストすることが可能となる。
According to the present invention, a spare cell can be tested without blowing a fuse.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施例である半導体記憶装置の
回路図
FIG. 1 is a circuit diagram of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention;

【図2】本発明の第2の実施例である半導体記憶装置の
回路図
FIG. 2 is a circuit diagram of a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention;

【図3】本発明の第3の実施例である半導体記憶装置の
回路図
FIG. 3 is a circuit diagram of a semiconductor memory device according to a third embodiment of the present invention;

【図4】従来の半導体記憶装置の回路図FIG. 4 is a circuit diagram of a conventional semiconductor memory device;

【図5】従来のスペアカラム付きメモリセルアレイ回路
の回路構成図
FIG. 5 is a circuit configuration diagram of a conventional memory cell array circuit with spare columns.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、101 電源電圧端子 2、12、102 線路 3 第1のヒューズ 4 第2のヒューズ 5、6、15、16、105、106 NMOSFE
T 7 第1のアドレス信号端子 8 第2のアドレス信号端子 9、19、29 PMOSFET 13 第3のヒューズ 14 第4のヒューズ 17 第3のアドレス信号端子 18 第4のアドレス信号端子 30、103、104 ヒューズ 107、108 アドレス信号端子
1, 101 power supply voltage terminal 2, 12, 102 line 3 first fuse 4 second fuse 5, 6, 15, 16, 105, 106 NMOSFE
T 7 First address signal terminal 8 Second address signal terminal 9, 19, 29 PMOSFET 13 Third fuse 14 Fourth fuse 17 Third address signal terminal 18 Fourth address signal terminal 30, 103, 104 Fuse 107, 108 Address signal terminal

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電源電圧端子と、 選択端子及びスペア選択端子と、 前記電源電圧端子と前記選択端子及びスペア選択端子と
を電気的に接続する線路と、 この線路に一方の端部が接続される第1、第2のヒュー
ズと、 前記第1、第2のヒューズの他方の端部に一方の主電極
端子がそれぞれ接続される第1、第2のスイッチング素
子と、 前記第1、第2のスイッチング素子の制御電極端子にそ
れぞれ電気的に接続される第1、第2のアドレス信号端
子と、 前記第1のスイッチング素子の他方の主電極端子に接続
される第3のスイッチング素子とを具備することを特徴
とする半導体記憶装置。
A power supply voltage terminal; a selection terminal and a spare selection terminal; a line electrically connecting the power supply voltage terminal with the selection terminal and the spare selection terminal; and one end connected to the line. First and second fuses; first and second switching elements each having one main electrode terminal connected to the other end of the first and second fuses; First and second address signal terminals electrically connected to the control electrode terminals of the switching element, and a third switching element connected to the other main electrode terminal of the first switching element. A semiconductor memory device.
【請求項2】 前記第3のスイッチング素子はPMOS
FETであり、そのゲートには電源電圧が印加されてい
ることを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。
2. The method according to claim 1, wherein the third switching element is a PMOS.
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the device is an FET, and a power supply voltage is applied to a gate of the FET.
【請求項3】 前記第3のスイッチング素子はNMOS
FETであり、そのゲートは接地電位であることを特徴
とする請求項1記載の半導体記憶装置。
3. The device according to claim 2, wherein the third switching element is an NMOS.
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the semiconductor memory device is an FET, and its gate is at a ground potential.
【請求項4】 前記第2のアドレス信号端子は前記第1
のアドレス信号端子の反転入力端子であることを特徴と
する請求項1記載の半導体記憶装置。
4. The first address signal terminal is connected to the first address signal terminal.
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the address signal terminal is an inverted input terminal.
【請求項5】 前記選択端子は、スペアデコーダに接続
されることを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装
置。
5. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein said selection terminal is connected to a spare decoder.
【請求項6】 電源電圧端子と、 第1、第2の選択端子、及び第1、第2のスペア選択端
子と、 前記電源電圧端子と前記第1の選択端子及び第1のスペ
ア選択端子とを電気的に接続する第1の線路と、 前記電源電圧端子と前記第2の選択端子及び第2のスペ
ア選択端子とを電気的に接続する第2の線路と、 前記第1の線路に一方の端部が接続される第1、第2の
ヒューズと、 前記第2の線路に一方の端部が接続される第3、第4の
ヒューズと、 前記第1、第2のヒューズの他方の端部に一方の主電極
端子がそれぞれ接続される第1、第2のスイッチング素
子と、 前記第3、第4のヒューズの他方の端部に一方の主電極
端子がそれぞれ接続される第3、第4のスイッチング素
子と、 前記第1、第2のスイッチング素子の制御電極端子にそ
れぞれ電気的に接続される第1、第2のアドレス信号端
子と、 前記第3、第4のスイッチング素子の制御電極端子にそ
れぞれ電気的に接続される第3、第4のアドレス信号端
子と、 前記第1のスイッチング素子の他方の主電極端子に接続
される第5のスイッチング素子と、 前記第4のスイッチング素子の他方の主電極端子に接続
される第6のスイッチング素子とを具備することを特徴
とする半導体記憶装置。
6. A power supply voltage terminal, first and second selection terminals, first and second spare selection terminals, the power supply voltage terminal, the first selection terminal, and the first spare selection terminal. A second line electrically connecting the power supply voltage terminal with the second selection terminal and the second spare selection terminal; and a first line electrically connecting the power supply voltage terminal with the second selection terminal and the second spare selection terminal. First and second fuses each having an end connected thereto; third and fourth fuses each having one end connected to the second line; and the other of the first and second fuses. First and second switching elements each having one end connected to one main electrode terminal; and third third elements each having one main electrode terminal connected to the other end of the third and fourth fuses. A fourth switching element; and a control electrode terminal of the first and second switching elements. First and second address signal terminals electrically connected to each other; third and fourth address signal terminals electrically connected to control electrode terminals of the third and fourth switching elements, respectively; A fifth switching element connected to the other main electrode terminal of the first switching element; and a sixth switching element connected to the other main electrode terminal of the fourth switching element. A semiconductor memory device characterized by the following.
【請求項7】 前記第5、第6のスイッチング素子はP
MOSFETであり、そのゲートには電源電圧が印加さ
れていることを特徴とする請求項6記載の半導体記憶装
置。
7. The fifth and sixth switching elements are P
7. The semiconductor memory device according to claim 6, wherein the power supply voltage is applied to a gate of the MOSFET.
【請求項8】 前記第5、6のスイッチング素子はNM
OSFETであり、そのゲートは接地電位であることを
特徴とする請求項6記載の半導体記憶装置。
8. The fifth and sixth switching elements are NM.
7. The semiconductor memory device according to claim 6, wherein the device is an OSFET and a gate thereof is at a ground potential.
【請求項9】 前記第2のアドレス信号端子は前記第1
のアドレス信号端子の反転入力端子であり、前記第4の
アドレス信号端子は前記第3のアドレス信号端子の反転
入力端子であることを特徴とする請求項6記載の半導体
記憶装置。
9. The first address signal terminal is connected to the first address signal terminal.
7. The semiconductor memory device according to claim 6, wherein said fourth address signal terminal is an inverted input terminal of said third address signal terminal.
【請求項10】 前記第1、第2の選択端子はスペアデ
コーダに接続されることを特徴とする請求項6記載の半
導体記憶装置。
10. The semiconductor memory device according to claim 6, wherein said first and second selection terminals are connected to a spare decoder.
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