JPH10197712A - Production of color filter - Google Patents
Production of color filterInfo
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- JPH10197712A JPH10197712A JP35669996A JP35669996A JPH10197712A JP H10197712 A JPH10197712 A JP H10197712A JP 35669996 A JP35669996 A JP 35669996A JP 35669996 A JP35669996 A JP 35669996A JP H10197712 A JPH10197712 A JP H10197712A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、カラーテレビ、パ
ーソナルコンピューター、パチンコ遊戯台等に使用され
ているカラー液晶ディスプレイ用のカラーフィルターの
製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a color filter for a color liquid crystal display used in a color television, a personal computer, a pachinko game board, and the like.
【０００２】[0002]
【従来の技術】通常、液晶ディスプレイ用のカラーフィ
ルターには、画素電極間の隙間からの透過光によるコン
トラストの低下を防ぐため、画素間にブラックマトリク
スといわれる遮光層が設けられており、カラーフィルタ
ーのコントラストを上げる役目をしている。ここでブラ
ックマトリクスに要求される遮光性は、例えば、液晶表
示パネルに用いられるカラーフィルターの場合、波長４
００〜７００ｎｍの可視光領域で、透過率が０．０３２
％（光学濃度ＯＤ＝３．５）以下とされている。又、ブ
ラックマトリクスの厚さについては、カラーフィルター
表面の凹凸を少なくし、液晶駆動上の問題がないように
するため、１μｍ以下であることが要求されている。2. Description of the Related Art In general, a color filter for a liquid crystal display is provided with a light-shielding layer called a black matrix between pixels in order to prevent a decrease in contrast due to transmitted light from a gap between pixel electrodes. It is responsible for increasing the contrast of the image. Here, the light shielding property required for the black matrix is, for example, a wavelength of 4 in the case of a color filter used for a liquid crystal display panel.
The transmittance is 0.032 in the visible light region of 00 to 700 nm.
% (Optical density OD = 3.5) or less. Further, the thickness of the black matrix is required to be 1 μm or less in order to reduce irregularities on the surface of the color filter and to prevent problems in driving the liquid crystal.
【０００３】このようなブラックマトリクスを形成する
場合には、従来は、ブラックマトリクス（以下、ＢＭと
略す）の形成材料としてクロム膜等の金属材料を使用し
ていた。しかし、これらの材料によって形成されたＢＭ
は、反射率が高く、又、ＢＭパターンを形成する場合
に、高価なスパッタ装置を必要とする等の欠点から、近
年では遮光性材料を分散させた樹脂製のブラックマトリ
クス（以下、樹脂ＢＭと称す）が登場している。この樹
脂ＢＭの形成方法としては、感光性樹脂中に鉄黒等の黒
色顔料やカーボンブラック等を分散させた遮光性材料を
塗布して成膜した後、マスクを介して露光、エッチング
してパターン化する、所謂ダイレクトパターニング法が
提案されている。In the case of forming such a black matrix, conventionally, a metal material such as a chromium film has been used as a material for forming a black matrix (hereinafter abbreviated as BM). However, the BM formed by these materials
In recent years, a resin black matrix (hereinafter, referred to as a resin BM) in which a light-shielding material is dispersed has been used due to disadvantages such as a high reflectivity and the necessity of an expensive sputtering apparatus when forming a BM pattern. ) Has appeared. As a method for forming the resin BM, a light-shielding material in which a black pigment such as iron black or carbon black or the like is dispersed in a photosensitive resin is applied to form a film, and then exposed and etched through a mask to form a pattern. A so-called direct patterning method has been proposed.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この際
に用いられる、感光性樹脂中に黒色顔料やカーボンブラ
ック等を分散させた遮光性材料は、従来から用いられて
いるクロム膜等に比べて遮光性に劣り、クロム膜と同等
の遮光性を得ようとするとＢＭの厚みを厚くしなければ
ならなかった。例えば、クロム膜の場合には０．１〜
０．２μｍ程度の厚さでよかったものが、樹脂ＢＭでは
１μｍ以上の厚さが必要となるが、先に述べたように、
あまり厚くするとカラーフィルター表面の凹凸の問題や
液晶駆動上、好ましくない。更に、ＢＭの厚みを厚くす
ると、透明基板上に遮光性材料を塗布した後、所望のフ
ォトマスクを介して露光してパターン化された遮光層を
形成する従来の作製方法で樹脂ＢＭを形成した場合に
は、膜の上下で露光量が異なって、ＢＭパターンのエッ
ジ形状の制御が困難となってしまい、ＢＭのパターン精
度が劣って優れた特性のカラーフィルターが得られない
という問題もあった。However, the light-shielding material used in this case, in which a black pigment, carbon black, or the like is dispersed in a photosensitive resin, is more light-shielding than a conventionally used chromium film or the like. In order to obtain the same light shielding property as the chromium film, the thickness of the BM had to be increased. For example, in the case of a chromium film,
Although a thickness of about 0.2 μm is fine, a thickness of 1 μm or more is required for the resin BM.
If the thickness is too large, it is not preferable from the viewpoint of the unevenness of the surface of the color filter and the driving of the liquid crystal. Further, when the thickness of the BM was increased, a resin BM was formed by a conventional manufacturing method in which a light-shielding material was applied on a transparent substrate, and then exposed through a desired photomask to form a patterned light-shielding layer. In this case, the exposure amount is different between the upper and lower portions of the film, and it is difficult to control the edge shape of the BM pattern. .
【０００５】これに対し、特開平６−３２４２１１号公
報では、薄い膜厚で、高い遮光性を得るための提案がな
されている。しかし、この方法によっても、１μｍ以下
の厚さで、光学濃度３．５のＢＭパターンを得るには未
だ不十分である。又、ＢＭ形成材料の遮光性を上げるた
めには、遮光性材料中のカーボンブラックや鉄黒等の黒
色顔料の含有量を多くすればよいが、これらの顔料を感
光性樹脂中に多く含有させ過ぎると、露光した光を吸収
してしまい露光がうまくいかず、良好なＢＭパターンが
得られない場合がある。On the other hand, Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 6-324221 proposes a thin film having a high light-shielding property. However, even this method is still insufficient for obtaining a BM pattern having a thickness of 1 μm or less and an optical density of 3.5. Further, in order to increase the light-shielding properties of the BM-forming material, the content of black pigments such as carbon black and iron black in the light-shielding materials may be increased. If it is too long, the exposed light is absorbed, and the exposure is not successful, and a good BM pattern may not be obtained.
【０００６】従って、本発明の目的は、上記従来技術の
課題を解決し、樹脂ＢＭの遮光性が確保され、且つ、優
れたパターン精度が達成されると共に、画素の白抜けの
生じないカラーフィルターを安価に提供し得るカラーフ
ィルターの製造方法を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art, to ensure the light-shielding property of the resin BM, to achieve excellent pattern accuracy, and to achieve a color filter that does not cause white spots in pixels. Is to provide a method for manufacturing a color filter which can be provided at a low cost.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】上記の目的は、下記の本
発明によって達成される。即ち、本発明は、透明基板上
にフォトリソグラフィー法により黒色のブラックマトリ
クスを設ける工程において、透明基板上に感光性樹脂を
有する遮光性材料を塗布して塗膜を形成した後、該塗膜
の一部を露光してパターン化して遮光層を形成する成膜
及び露光過程を複数回繰り返すことによって、上記遮光
層が複数積層された積層体からなるブラックマトリクス
を形成することを特徴とするカラーフィルターの製造方
法である。The above objects are achieved by the present invention described below. That is, the present invention, in the step of providing a black black matrix by a photolithography method on a transparent substrate, forming a coating film by applying a light-shielding material having a photosensitive resin on the transparent substrate, A color filter characterized by forming a black matrix composed of a laminate in which a plurality of the light-shielding layers are formed by repeating a film forming process of exposing a part of the light-shielding layer to form a light-shielding layer and an exposure process a plurality of times. It is a manufacturing method of.
【０００８】本発明者らは、上記した従来技術の課題を
解決すべく鋭意研究の結果、カラーフィルターの製造方
法において、透明基板上に感光性樹脂を含有する遮光性
材料を成膜した後、該膜をフォトリソグラフィー法によ
ってパターニングしてブラックマトリクスを形成する際
に、塗布する遮光性材料の膜厚を薄くして行う成膜過程
と、該膜への部分的な露光によりパターニングされた遮
光層を形成する露光過程とを複数回繰り返し、このよう
にして得られる遮光層を何層か積層してブラックマトリ
クスを形成すれば、遮光性材料中のカーボンブラック等
の遮光剤の含有量が通常よりも多い場合についても、各
遮光層は良好にパターニングされ、更に、その形状を任
意なものとすることができるため、これらを複数積層し
た積層体からなるＢＭの形状を適宜なものとでき、優れ
た特性の樹脂ＢＭの形成が可能となることを知見して本
発明に至った。The present inventors have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems of the prior art. As a result, in a method of manufacturing a color filter, after forming a light-shielding material containing a photosensitive resin on a transparent substrate, When the film is patterned by a photolithography method to form a black matrix, a film-forming process in which the thickness of a light-shielding material to be applied is reduced, and a light-shielding layer patterned by partially exposing the film. Repeating the exposure process to form a plurality of times, if a black matrix is formed by laminating several layers of the light-shielding layer thus obtained, the content of the light-shielding agent such as carbon black in the light-shielding material is higher than usual. Even in many cases, each light-shielding layer is well-patterned, and furthermore, its shape can be made arbitrary. M shape can as a suitable ones, leading to the present invention by finding that it is possible to form a resin BM of excellent properties.
【０００９】[0009]
【発明の実施の形態】以下、本発明の好ましい実施の形
態を挙げて本発明を詳細に説明する。図１は、本発明の
カラーフィルターの製造方法における樹脂ＢＭの形成過
程を示す工程図である。以下、これに従って本発明を説
明する。先ず、図１（ａ）に示した様に、透明基板４上
に遮光性材料を均一に塗布して乾燥させる。この際に使
用する透明基板４の材料としては、一般にガラス基板が
用いられているが、本発明においては、カラーフィルタ
ー用の基板としての透明性や機械的強度等の必要特性を
有するものであればガラス基板に限定されず、透明のプ
ラスチック製基板等を用いてもよい。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to preferred embodiments of the present invention. FIG. 1 is a process chart showing the process of forming the resin BM in the method for manufacturing a color filter of the present invention. Hereinafter, the present invention will be described in accordance with this. First, as shown in FIG. 1A, a light-shielding material is uniformly applied on a transparent substrate 4 and dried. As a material of the transparent substrate 4 used at this time, a glass substrate is generally used, but in the present invention, a material having necessary characteristics such as transparency and mechanical strength as a substrate for a color filter is used. The substrate is not limited to a glass substrate, and a transparent plastic substrate or the like may be used.
【００１０】又、本発明においては、遮光性材料とし
て、少なくとも感光性樹脂と黒色の着色剤とを有するも
のを用いるが、着色剤としては、カーボンブラックや鉄
黒等の顔料を用いることが好ましい。又、感光性樹脂と
しては、紫外線や電子線等の照射により硬化する、例え
ば、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレンスルホ
ン、ポリヘキサフルオロブチルメタクリレート、コール
酸ｏ−ニトロベンジルエステル類等が挙げられる。本発
明においては、特に、光照射によって、照射された部分
が光硬化するポジ型の感光性樹脂を用いることが好まし
い。又、本発明においては、必要な遮光性を厚みの薄い
樹脂ＢＭで達成するために、遮光性材料中のカーボンブ
ラック等の着色剤の含有量を通常よりも高いものとする
ことが好ましい。即ち、通常は、カーボンブラック等を
５〜２０％程度含有させているが、本発明においては、
例えば、２０〜３０％を含有させるとよい。In the present invention, a material having at least a photosensitive resin and a black colorant is used as the light-shielding material, and a pigment such as carbon black or iron black is preferably used as the colorant. . Examples of the photosensitive resin include, for example, polymethyl methacrylate, polystyrene sulfone, polyhexafluorobutyl methacrylate, and o-nitrobenzyl cholic acid, which are cured by irradiation with ultraviolet rays, electron beams, or the like. In the present invention, it is particularly preferable to use a positive photosensitive resin in which the irradiated portion is photocured by light irradiation. Further, in the present invention, in order to achieve the required light-shielding property with a thin resin BM, it is preferable to make the content of the coloring agent such as carbon black in the light-shielding material higher than usual. That is, usually, about 5 to 20% of carbon black or the like is contained, but in the present invention,
For example, it is preferable to contain 20 to 30%.
【００１１】次に、図１（ｂ）に示したように、上記で
塗布した遮光性材料からなる薄膜に所望のパターンを有
するフォトマスク５を介して光を照射して、遮光性材料
を露光する。この結果、遮光性材料中の感光性樹脂が露
光されて硬化する。そして、露光後、アルカリ溶液等の
現像液で現像、リンスして、図１（ｃ）に示したよう
に、非露光部分を洗い流して、第１の遮光層であるパタ
ーン１１を作る。Next, as shown in FIG. 1B, the thin film made of the light-shielding material applied above is irradiated with light through a photomask 5 having a desired pattern to expose the light-shielding material. I do. As a result, the photosensitive resin in the light-shielding material is exposed and cured. Then, after exposure, development and rinsing with a developing solution such as an alkaline solution are performed, and as shown in FIG. 1C, a non-exposed portion is washed away to form a pattern 11 as a first light shielding layer.
【００１２】次に、図１（ｄ）に示したように、この上
に第２の遮光層を形成するための遮光性材料２を塗付し
て、加熱して乾燥させる。次に、上記した第１の遮光層
を形成した場合と同様にして、フォトマスク５を介して
露光する（図１（ｅ）参照）。その後、上記と同様に、
現像、リンスして、第１の遮光層であるパターン１１上
に第２の遮光層であるパターン２２を形成する。更に、
図１（ｆ）に示したように、上記と同様の成膜及び露光
過程を繰り返すことにより、第３の遮光層であるパター
ン３３を形成する。この結果、これらが積層された状態
の樹脂ＢＭが形成される。Next, as shown in FIG. 1 (d), a light-shielding material 2 for forming a second light-shielding layer is applied thereon, and dried by heating. Next, exposure is performed through the photomask 5 in the same manner as in the case where the first light-shielding layer is formed (see FIG. 1E). Then, as above,
By developing and rinsing, a pattern 22 as a second light-shielding layer is formed on the pattern 11 as a first light-shielding layer. Furthermore,
As shown in FIG. 1F, a pattern 33 as a third light-shielding layer is formed by repeating the same film formation and exposure processes as described above. As a result, a resin BM in which these are laminated is formed.
【００１３】以上説明した例では、第１〜第３の３層の
遮光層を積層したが、本発明は、これに限定されず、必
要な遮光性が得られるまで遮光層を積層すればよい。但
し、形成されるＢＭの膜厚が厚過ぎると好ましくないた
め、最終膜厚が、１μｍ以下となるように形成すること
が好ましい。このため、各遮光層及びこれを積層したＢ
Ｍの膜厚との兼ね合いにおいて、遮光性材料中のカーボ
ンブラック等の着色剤の比率を調整するとよい。即ち、
通常よりも着色剤の割合が高い遮光性材料を用いる代わ
りに、基板上に成膜する遮光性材料の膜厚を通常よりも
薄くし、良好な露光を可能としてパターニングを行い、
このようにして形成される薄膜パターンを、所望の遮光
性が達成されるまで何層か積層してＢＭを形成すること
によって、ＢＭにおける遮光性の向上とパターン精度の
向上の両立を達成する。In the example described above, the first to third light-shielding layers are stacked, but the present invention is not limited to this, and the light-shielding layers may be stacked until a required light-shielding property is obtained. . However, it is not preferable that the thickness of the formed BM is too large. Therefore, it is preferable to form the BM so that the final thickness is 1 μm or less. For this reason, each light-shielding layer and B
In consideration of the film thickness of M, the ratio of a coloring agent such as carbon black in the light-shielding material may be adjusted. That is,
Instead of using a light-shielding material having a higher proportion of a coloring agent than usual, make the film thickness of the light-shielding material formed on the substrate thinner than usual, and perform patterning to enable good exposure,
By forming the BM by laminating several layers of the thin film patterns formed as described above until a desired light-shielding property is achieved, it is possible to achieve both improvement of the light-shielding property of the BM and improvement of the pattern accuracy.
【００１４】図１に示した例では、積層させる各遮光層
の断面形状の幅を一定としたが、本発明においては、更
に、図２に示したように、積層する各遮光層のパターン
サイズを変えることによって、ＢＭパターンのエッジ形
状を適宜に制御することが可能とる。即ち、図２に示し
た例では、透明基板側の第１の遮光層であるパターン１
１の断面形状の幅が、その上に積層される第２の遮光層
のパターン２２の幅よりも広くなるように構成されてい
る。図２に示したような形状のＢＭパターンを形成する
と、図３に示したようにして、インクジェット記録装置
等によってＢＭの開口部にインクを描画した場合に、開
口部の下部まで十分にインクが浸透するので、白抜けの
ない画素が形成される。In the example shown in FIG. 1, the width of the cross-sectional shape of each light-shielding layer to be laminated is fixed. However, in the present invention, as shown in FIG. , It is possible to appropriately control the edge shape of the BM pattern. That is, in the example shown in FIG. 2, the pattern 1 which is the first light shielding layer on the transparent substrate side is used.
1 is configured such that the width of the cross-sectional shape is wider than the width of the pattern 22 of the second light-shielding layer laminated thereon. When the BM pattern having the shape shown in FIG. 2 is formed, as shown in FIG. 3, when the ink is drawn in the opening of the BM by the ink jet recording device or the like, the ink is sufficiently supplied to the lower part of the opening. Because of the permeation, pixels without white spots are formed.
【００１５】[0015]
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。 実施例１ 先ず、厚さ１．１ｍｍのガラス基板上に、下記の組成か
らなる、通常の場合よりも黒色顔料の含有割合の高い遮
光材料を塗布した後、１００℃で１５分間プリベークし
て遮光材料を乾燥させて成膜した。この際、遮光材料
は、スピンコート法により、乾燥後の膜厚が０．３μｍ
となるように塗布した。スピンコートの条件は、１５０
０ｒｐｍ／ｍｉｎとした。 ・カーボンブラック（黒色顔料） ２８．５％ ・部分環化ポリイソプレン（ネガ型フォトポリマー） １５．０％ ・芳香族ビスアジド（感光剤） １．５％ ・その他添加剤 ０．３％ ・ポリエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート（溶剤） ５４．７％The present invention will be described below in detail with reference to examples. Example 1 First, a glass substrate having a thickness of 1.1 mm was coated with a light-shielding material having the following composition and containing a higher percentage of black pigment than in a normal case, and then prebaked at 100 ° C. for 15 minutes to shield light. The material was dried to form a film. At this time, the light-shielding material has a thickness of 0.3 μm after drying by spin coating.
It applied so that it might become. Spin coating conditions are 150
It was set to 0 rpm / min.・ Carbon black (black pigment) 28.5% ・ Partially cyclized polyisoprene (negative photopolymer) 15.0% ・ Aromatic bis azide (photosensitizer) 1.5% ・ Other additives 0.3% ・ Polyethylene glycol Monomethyl ether acetate (solvent) 54.7%
【００１６】次に、上記のようにして形成した遮光性材
料の薄膜に、紫外線を照射して、３００ｍＪ／ｃｍ2の
露光量で露光した後、現像、リンスして第１の遮光層を
形成した。現像には、現像液として、０．１％、ＮａＣ
Ｏ3水溶液を用いた。その後、上記で得られた遮光層を
乾燥した後、２００℃で１０間ポストベークして第１の
遮光層とした。次に、この上に、上記と同様の材料を用
い、上記と同様の手順で、第１の遮光層と同様の形状を
有する第２及び第３の遮光層のパターンを形成し、全体
の厚みが、０．９μｍである樹脂ＢＭを得た。Next, the thin film of the light-shielding material formed as described above is irradiated with ultraviolet rays at an exposure amount of 300 mJ / cm 2 , and then developed and rinsed to form a first light-shielding layer. did. For development, 0.1% NaC
O 3 aqueous solution was used. Thereafter, the light-shielding layer obtained above was dried, and post-baked at 200 ° C. for 10 minutes to form a first light-shielding layer. Next, a pattern of the second and third light-shielding layers having the same shape as the first light-shielding layer is formed thereon by using the same material as described above and in the same procedure as described above. Was 0.9 μm.
【００１７】更に、図３に示したように、インクジェッ
ト記録ヘッド７から、上記で得られたＢＭの開口部に着
色インクを吐出させて画素を形成して本実施例のカラー
フィルターを得た。得られたカラーフィルターのＢＭ部
分を顕微鏡で観察したところ、ＢＭのエッジ部分がシャ
ープで画像濃度が高い、十分な遮光性を有する良好なＢ
Ｍパターンが形成されていた。Further, as shown in FIG. 3, a color ink was ejected from the ink jet recording head 7 into the opening of the BM obtained above to form pixels, thereby obtaining a color filter of this embodiment. When the BM portion of the obtained color filter was observed with a microscope, it was confirmed that the edge portion of the BM was sharp, the image density was high, and good
An M pattern was formed.
【００１８】実施例２ 本実施例では、積層する各遮光層のパターン形状を図２
に示すようにし、第１の遮光層のパターン１１よりも第
２の遮光層のパターン２２の幅を狭くし、更に、第３の
遮光層のパターン３３の幅を第２の遮光層のパターン２
２の幅よりも狭くし、これら３層の積層体からなる樹脂
ＢＭとした以外は実施例１と同様にしてカラーフィルタ
ーを作製した。得られたカラーフィルターのＢＭ部分及
び画素部分を顕微鏡で観察したところ、パターン精度に
優れた、画像濃度の高い白抜けのない十分な遮光性を有
するＢＭが形成されており、且つ、ＢＭ開口部の下部ま
で十分にインクが浸透しており、白抜けのない画素が形
成されていることが確認された。Embodiment 2 In this embodiment, the pattern shape of each light-shielding layer to be laminated is shown in FIG.
The width of the pattern 22 of the second light-shielding layer is made smaller than that of the pattern 11 of the first light-shielding layer, and the width of the pattern 33 of the third light-shielding layer is changed to the width of the pattern 2 of the second light-shielding layer.
A color filter was produced in the same manner as in Example 1 except that the width was smaller than the width of No. 2 and the resin BM was formed of a laminate of these three layers. When the BM portion and the pixel portion of the obtained color filter were observed with a microscope, it was found that a BM having excellent pattern accuracy, high image density, sufficient light-shielding properties without white spots, and a BM opening was formed. It was confirmed that the ink had sufficiently penetrated to the lower part of, and pixels without white spots were formed.
【００１９】[0019]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
樹脂ＢＭの遮光性の向上とパターン精度の向上の両立が
達成され、且つ、画素部に白抜けのないカラーフィルタ
ーを簡易に製造することができるので、優れた特性を有
する安価なカラーフィルターの提供が可能となる。As described above, according to the present invention,
The present invention provides an inexpensive color filter having excellent characteristics because it achieves both improvement in the light shielding property of the resin BM and improvement in pattern accuracy, and can easily produce a color filter having no white spots in a pixel portion. Becomes possible.
【図１】本発明のカラーフィルターの製造方法におい
て、樹脂ＢＭを作製する際の工程図である。FIG. 1 is a process chart for producing a resin BM in a method for producing a color filter of the present invention.
【図２】本発明のカラーフィルターの製造方法によって
製造された樹脂ＢＭパターンの一例の断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of an example of a resin BM pattern manufactured by the method for manufacturing a color filter of the present invention.
【図３】本発明のカラーフィルターの製造方法の画素の
作製の一例を示す工程図である。FIG. 3 is a process chart showing an example of pixel production in the method for producing a color filter of the present invention.
１：第１層の遮光性材料の塗膜 ２：第２層の遮光性材料の塗膜 ３：第３層の遮光性材料の塗膜 ４：ガラス基板 ５：フォトマスク ６：ＢＭ ７：インクジェット記録ヘッド ８：着色インク ９：画素部 １１：第１層の遮光層のパターン ２２：第２層の遮光層のパターン ３３：第３層の遮光層のパターン 1: Coating of light-shielding material of first layer 2: Coating of light-shielding material of second layer 3: Coating of light-shielding material of third layer 4: Glass substrate 5: Photomask 6: BM 7: Inkjet Recording head 8: Colored ink 9: Pixel portion 11: Pattern of first layer light shielding layer 22: Pattern of second layer light shielding layer 33: Pattern of third layer light shielding layer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 竹腰 朝子 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 坂本 淳一 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Asako Takekoshi 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Inside Canon Inc. (72) Inventor Junichi Sakamoto 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inside the corporation
Claims (2)
より黒色のブラックマトリクスを設ける工程において、
透明基板上に感光性樹脂を有する遮光性材料を塗布して
塗膜を形成した後、該塗膜の一部を露光してパターン化
して遮光層を形成する成膜及び露光過程を複数回繰り返
すことによって、上記遮光層が複数積層された積層体か
らなるブラックマトリクスを形成することを特徴とする
カラーフィルターの製造方法。In a step of providing a black matrix on a transparent substrate by a photolithography method,
After forming a coating film by applying a light-shielding material having a photosensitive resin on a transparent substrate, a film forming and exposure process of exposing a part of the coating film to form a light-shielding layer by patterning is repeated a plurality of times. A method of manufacturing a color filter, wherein a black matrix comprising a laminate in which a plurality of the light shielding layers are laminated is formed.
一でない請求項１に記載のカラーフィルターの製造方
法。2. The method for manufacturing a color filter according to claim 1, wherein the sizes of the respective light shielding layers constituting the laminate are not the same.
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|---|---|---|---|
| JP35669996A JPH10197712A (en) | 1996-12-27 | 1996-12-27 | Production of color filter |
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-
1996
- 1996-12-27 JP JP35669996A patent/JPH10197712A/en active Pending
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