JPH0381327A - ジアセチレン系ポリアミド酸、その誘導体及びポリイミド - Google Patents
ジアセチレン系ポリアミド酸、その誘導体及びポリイミドInfo
- Publication number
- JPH0381327A JPH0381327A JP21609089A JP21609089A JPH0381327A JP H0381327 A JPH0381327 A JP H0381327A JP 21609089 A JP21609089 A JP 21609089A JP 21609089 A JP21609089 A JP 21609089A JP H0381327 A JPH0381327 A JP H0381327A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- polyimide
- group
- diacetylenic
- diacetylene
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 title claims abstract description 30
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 title claims abstract description 28
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 title claims abstract description 18
- -1 derivative thereof Polymers 0.000 title description 14
- LLCSWKVOHICRDD-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diyne Chemical group C#CC#C LLCSWKVOHICRDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 19
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 11
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 abstract description 22
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 21
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 abstract description 17
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract description 16
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 9
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 abstract description 7
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 abstract description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 27
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 12
- 239000000047 product Substances 0.000 description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 7
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005691 oxidative coupling reaction Methods 0.000 description 6
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 4
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 4
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 4
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 4
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 3
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229940045803 cuprous chloride Drugs 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 3
- 238000011160 research Methods 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC=N1 BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 239000011243 crosslinked material Substances 0.000 description 2
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 229920001470 polyketone Polymers 0.000 description 2
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000005077 polysulfide Substances 0.000 description 2
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 description 2
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 238000006798 ring closing metathesis reaction Methods 0.000 description 2
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- HMQFJYLWNWIYKQ-UHFFFAOYSA-N 1,4-diphenylbutadiyne Chemical group C1=CC=CC=C1C#CC#CC1=CC=CC=C1 HMQFJYLWNWIYKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GHXNRYVDXNZXID-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethylbutanoic acid Chemical compound CCC(CC)(CC)C(O)=O GHXNRYVDXNZXID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJGHYPLBDBRCRZ-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminophenyl)sulfonylaniline Chemical compound NC1=CC=CC(S(=O)(=O)C=2C=C(N)C=CC=2)=C1 LJGHYPLBDBRCRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N N,N‐diethylformamide Chemical compound CCN(CC)C=O SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L copper(ii) acetate Chemical compound [Cu+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 239000012024 dehydrating agents Substances 0.000 description 1
- CCAFPWNGIUBUSD-UHFFFAOYSA-N diethyl sulfoxide Chemical compound CCS(=O)CC CCAFPWNGIUBUSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 150000003948 formamides Chemical class 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- ZHDTXTDHBRADLM-UHFFFAOYSA-N hydron;2,3,4,5-tetrahydropyridin-6-amine;chloride Chemical compound Cl.NC1=NCCCC1 ZHDTXTDHBRADLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 239000012452 mother liquor Substances 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940127240 opiate Drugs 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 238000009702 powder compression Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 150000004040 pyrrolidinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、架橋反応性に優れたジアセチレン結合を有す
るジアセチレン系ポリアミド酸、その誘導体及びボリイ
くドに関するものであり、更に詳しくは、成形加工性に
優れ、ジアセチレン基の高反応性を有する新種のポリア
ミド酸、その誘導体及びポリイミドに関する。
るジアセチレン系ポリアミド酸、その誘導体及びボリイ
くドに関するものであり、更に詳しくは、成形加工性に
優れ、ジアセチレン基の高反応性を有する新種のポリア
ミド酸、その誘導体及びポリイミドに関する。
(従来技術及びその問題点)
近年、ボリイもドは高分子材料の中では耐熱性の良い材
料として、フィルム、接着剤、ワニス、成形材料などに
用いられ、また一部は繊維としても開発されるようにな
ってきた。これらボリイもド材料は、通常の高分子材料
では使用が困難な厳しい使用環境や使用条件のところで
用いられることが多いため、ますますその性能向上が要
求されているが、例えば、高度の耐熱性を持たせながら
一層の低吸水率、高い寸法安定性、更には、−層の高弾
性率や硬さなどが要求されている。
料として、フィルム、接着剤、ワニス、成形材料などに
用いられ、また一部は繊維としても開発されるようにな
ってきた。これらボリイもド材料は、通常の高分子材料
では使用が困難な厳しい使用環境や使用条件のところで
用いられることが多いため、ますますその性能向上が要
求されているが、例えば、高度の耐熱性を持たせながら
一層の低吸水率、高い寸法安定性、更には、−層の高弾
性率や硬さなどが要求されている。
(発明が解決しようとする課題)
本発明の目的は、固相反応性に優れ、熱的特性にも力学
特性にも優れた架橋材料を与えることのできるジアセチ
レン系ポリアミド酸、その誘導体、及びボリイξドを提
供することにある。
特性にも優れた架橋材料を与えることのできるジアセチ
レン系ポリアミド酸、その誘導体、及びボリイξドを提
供することにある。
(課題を解決するための手段)
本発明者らは、前記課題の解決策として、ポリイ湾ドに
架橋反応性を持たせ、架橋によって上記特性を向上させ
ることを試み、いくつかのジアセチレン系ポリイミドを
開発したが(例えば、特願昭61−13010トず、特
願昭61−158864号)、これらは架橋反応性が十
分でなく、また原料モノマーの合成が難しいなどの問題
があった。
架橋反応性を持たせ、架橋によって上記特性を向上させ
ることを試み、いくつかのジアセチレン系ポリイミドを
開発したが(例えば、特願昭61−13010トず、特
願昭61−158864号)、これらは架橋反応性が十
分でなく、また原料モノマーの合成が難しいなどの問題
があった。
本発明者らは、従来よりジアセチレン結合のトボケξカ
ル反応性、及び架橋性官能基として用いる技術について
詳細な研究を進めてきたが、更に、芳香族環にはさまれ
たジアセチレン結合の反応性について、特に面相反応性
、トボケ逅カル反応性について検討を行い、その結果、 一般式 (ここで、x、x’ は−価の有機基を示す。)で表わ
される低分子のイミド化合物において、ジアセチレン基
が優れた反応性を示すことを見出し、更に研究の結果、
ポリマー性イξド化合物におし)ても優れた反応性、特
に固相反応性を有する素材を見出し、鋭意研究の結果、
本発明に到達した。
ル反応性、及び架橋性官能基として用いる技術について
詳細な研究を進めてきたが、更に、芳香族環にはさまれ
たジアセチレン結合の反応性について、特に面相反応性
、トボケ逅カル反応性について検討を行い、その結果、 一般式 (ここで、x、x’ は−価の有機基を示す。)で表わ
される低分子のイミド化合物において、ジアセチレン基
が優れた反応性を示すことを見出し、更に研究の結果、
ポリマー性イξド化合物におし)ても優れた反応性、特
に固相反応性を有する素材を見出し、鋭意研究の結果、
本発明に到達した。
すなわち、本発明の第1は、
一般式(1)で表わされる構成単位の1種又は2種以上
を有するジアセチレン系ポリイミド(ただし、Ar1は
炭素数2〜36の2価の有機基を示す、) に関するもので、また、本発明の第2は、該ボリイξド
の前駆体として、−数式(n)で表わされる構成単位の
1種又は2種以上を有するジアセチレン系ボリア果ド酸
及びその誘導体 (ただし、Ar2は炭素数2〜36の2価の有機基、X
+ 、X! は O)(、ハ0ゲン、 −OR,コこ
で、Rは炭素数1〜18の有機基を示す。)である。
を有するジアセチレン系ポリイミド(ただし、Ar1は
炭素数2〜36の2価の有機基を示す、) に関するもので、また、本発明の第2は、該ボリイξド
の前駆体として、−数式(n)で表わされる構成単位の
1種又は2種以上を有するジアセチレン系ボリア果ド酸
及びその誘導体 (ただし、Ar2は炭素数2〜36の2価の有機基、X
+ 、X! は O)(、ハ0ゲン、 −OR,コこ
で、Rは炭素数1〜18の有機基を示す。)である。
本発明の一般式(1)あるいは−数式(It)において
、Ar+あるいはAr、は炭素数2から36までの2価
の有機基であり、脂肪族系、脂環族系あるいは芳香族系
炭化水素基であり、あるいは、これらが何らかの連結基
で連結された炭化水素基であるが、特に耐熱性の面から
芳香族系炭化水素基が好ましい。これらの2価の有機基
を例示するなどであり、これらの炭化水素基はハロゲン
、低級アルキル基、アルコキシ基、フェノキシ基、フェ
ニル基、ニトロ基、シアノ基などの非活性基で置換され
ていても良い。
、Ar+あるいはAr、は炭素数2から36までの2価
の有機基であり、脂肪族系、脂環族系あるいは芳香族系
炭化水素基であり、あるいは、これらが何らかの連結基
で連結された炭化水素基であるが、特に耐熱性の面から
芳香族系炭化水素基が好ましい。これらの2価の有機基
を例示するなどであり、これらの炭化水素基はハロゲン
、低級アルキル基、アルコキシ基、フェノキシ基、フェ
ニル基、ニトロ基、シアノ基などの非活性基で置換され
ていても良い。
特に好ましいAr、あるいはA r zの1つは、−数
式〔1〕の分子構造に優れた剛直性を与え、高い弾性率
や、高度の配向性を賦与するために直などであり、また
、他の好ましいArc、 Ar2は、−数式(1)の分
子構造に柔軟性、屈曲性を与え、優れた成形性や加工性
を賦与するための非直線配向性の有機基であり、例えば 応性に優れ、 ジアセチレン基の反応後に得られる 架橋物が高度の耐熱性、小さい線膨張率を与え、しI′
13 などが好ましい。
式〔1〕の分子構造に優れた剛直性を与え、高い弾性率
や、高度の配向性を賦与するために直などであり、また
、他の好ましいArc、 Ar2は、−数式(1)の分
子構造に柔軟性、屈曲性を与え、優れた成形性や加工性
を賦与するための非直線配向性の有機基であり、例えば 応性に優れ、 ジアセチレン基の反応後に得られる 架橋物が高度の耐熱性、小さい線膨張率を与え、しI′
13 などが好ましい。
これらのA r 1あるいはAr、は、1種あるいは2
種以上を混合して用いても良く、用途に応じて各種の有
機基が単独又は2種以上の混合系で用いられる。
種以上を混合して用いても良く、用途に応じて各種の有
機基が単独又は2種以上の混合系で用いられる。
一般式(n)において、XlおよびX2は、−〇H、ハ
ロゲン又は−ORから選ばれ、ここで、ハロゲンとして
は、F、C1t、Brが好ましく、 特にC1が好まし
い。又、−ORにおいて、Rは炭素数1〜18の有機基
であり、例えば、CI+、 CJs。
ロゲン又は−ORから選ばれ、ここで、ハロゲンとして
は、F、C1t、Brが好ましく、 特にC1が好まし
い。又、−ORにおいて、Rは炭素数1〜18の有機基
であり、例えば、CI+、 CJs。
−C1H1l
C4H9゜
C5)+111 CIIHI11
本発明において、−数式CI)あるいは(II)で表わ
される構成単位は、ポリマーの全構成単位の一部を占め
る必要があるが、その含有量において特に制限はない。
される構成単位は、ポリマーの全構成単位の一部を占め
る必要があるが、その含有量において特に制限はない。
しかしジアセチレン結合及びジフェニルジアセチレン構
造 直性分子鎖のポリマー分子性状に及ぼす効果、すなわち
、成形加工性や配向性への効果やこれらの性状、バラン
スの調整、効果などの面から、また、ジアセチレン結合
のトボケくカル反応性、あるいは固相反応性などを活か
した架橋反応性の活用と、これら架橋反応で生成する架
橋物の耐熱性、寸法安定性、吸水性などの特性への効果
など、各種の効果を顕著に表わし本発明の目的を十分に
発揮するには、ポリマー全構成単位の0.5モル%以上
を一般式(I)あるいはCIりのジアセチレン基含有単
位で構成させることが望ましく、特に0.8%〜100
%である。−数式(1)あるいは(It)におけるAr
、やAr、あるいはX、やX2によって、又、−数式(
1)あるいは[I[)以外の構成単位の種類によって一
般式CI)あるいは(II)の、最も好ましい構成量は
変化するが、一般に1モル%以上である。特に成形性や
架橋反応性を高め、また寸法安定性を極限的に高めるた
めには、−数式(1)あるいは〔■〕の構成単位は2モ
ル%以上が好ましく、特に3モル以上と多い方がさらに
好ましいが、一方で、架橋後の耐熱性や、架橋時の反応
の制御、成形品の収縮の抑制(架橋収縮の抑制)なども
考慮したバランスのとれた材料としては、−数式 CI
)あるいは(II)の構成単位は0.5モル%から50
モル%が好適であり、特に0.8モル%から40モル%
が最適範囲である。
造 直性分子鎖のポリマー分子性状に及ぼす効果、すなわち
、成形加工性や配向性への効果やこれらの性状、バラン
スの調整、効果などの面から、また、ジアセチレン結合
のトボケくカル反応性、あるいは固相反応性などを活か
した架橋反応性の活用と、これら架橋反応で生成する架
橋物の耐熱性、寸法安定性、吸水性などの特性への効果
など、各種の効果を顕著に表わし本発明の目的を十分に
発揮するには、ポリマー全構成単位の0.5モル%以上
を一般式(I)あるいはCIりのジアセチレン基含有単
位で構成させることが望ましく、特に0.8%〜100
%である。−数式(1)あるいは(It)におけるAr
、やAr、あるいはX、やX2によって、又、−数式(
1)あるいは[I[)以外の構成単位の種類によって一
般式CI)あるいは(II)の、最も好ましい構成量は
変化するが、一般に1モル%以上である。特に成形性や
架橋反応性を高め、また寸法安定性を極限的に高めるた
めには、−数式(1)あるいは〔■〕の構成単位は2モ
ル%以上が好ましく、特に3モル以上と多い方がさらに
好ましいが、一方で、架橋後の耐熱性や、架橋時の反応
の制御、成形品の収縮の抑制(架橋収縮の抑制)なども
考慮したバランスのとれた材料としては、−数式 CI
)あるいは(II)の構成単位は0.5モル%から50
モル%が好適であり、特に0.8モル%から40モル%
が最適範囲である。
本発明において、−数式(1)あるいは(It)以外の
構成単位については特に制約はなく、例えば、ポリイミ
ドの構成単位、ポリアミド酸の構成単位、ポリアミドの
構成単位、ポリエステルの構成単位、ポリエーテルやポ
リケトン、ポリスルホン、ポリスルフィドなどの構成単
位などが単一あるいは2種以上用いられてもよい。しか
し、本発明の目的を最高に達成するためには、特に芳香
族系の炭化水素基を分子骨格とするポリイくド、ポリア
ミド酸、ポリアミド、ポリエステル、ポリエーテル、ポ
リケトン、ポリスルホン、ポリスルフィドなどの構成単
位であり、特に好ましくは、ボリイごド、ポリアミド酸
あるいはポリアミドの構成単位である。
構成単位については特に制約はなく、例えば、ポリイミ
ドの構成単位、ポリアミド酸の構成単位、ポリアミドの
構成単位、ポリエステルの構成単位、ポリエーテルやポ
リケトン、ポリスルホン、ポリスルフィドなどの構成単
位などが単一あるいは2種以上用いられてもよい。しか
し、本発明の目的を最高に達成するためには、特に芳香
族系の炭化水素基を分子骨格とするポリイくド、ポリア
ミド酸、ポリアミド、ポリエステル、ポリエーテル、ポ
リケトン、ポリスルホン、ポリスルフィドなどの構成単
位であり、特に好ましくは、ボリイごド、ポリアミド酸
あるいはポリアミドの構成単位である。
その典型のポリイミドおよびポリアミド酸なとの構成単
位について、更に詳述すると1.−数式(III)
(IV) (V) (Vl)或いは〔■〕で表わさ
れる。
位について、更に詳述すると1.−数式(III)
(IV) (V) (Vl)或いは〔■〕で表わさ
れる。
(ここで、z、 z’は4価の有機基、Zl、Zlは
3価の有機基、Z3は2価の有機基、Y、Y’Y+ 、
Yt 、Ysは2価の有機基、L 、X4 。
3価の有機基、Z3は2価の有機基、Y、Y’Y+ 、
Yt 、Ysは2価の有機基、L 、X4 。
X、は−OH,ハロゲン、−ORを示す。)L、Z’は
炭素数5以上の4価の炭化水素基でなどであり、好まし
くは :◎て である。
炭素数5以上の4価の炭化水素基でなどであり、好まし
くは :◎て である。
Y、Y’ 、Y+ 、Yz 、Y3は先述したA□ある
いはAr2の中から同様にして好ましい有構基を選ぶこ
とが出来、また、Xs 、X4.Xsも先述したxlあ
るいはX2の中から同様にして好ましい基を選ぶことが
出来る。
いはAr2の中から同様にして好ましい有構基を選ぶこ
とが出来、また、Xs 、X4.Xsも先述したxlあ
るいはX2の中から同様にして好ましい基を選ぶことが
出来る。
Z、、Ztは炭素数5以上の3価の有機基であり、\@
−CO−◎; \@ CミCCミC−◎てなどであり
、好ましくは口fりだである。
−CO−◎; \@ CミCCミC−◎てなどであり
、好ましくは口fりだである。
Z3は炭素数2以上の2価の有機基であり、前述したA
r、あるいはAr、の中から同様にして好ましい有機基
を選ぶことが出来、一般に好まし@−0−CHzCHz
−o7e)−ナトテアル。
r、あるいはAr、の中から同様にして好ましい有機基
を選ぶことが出来、一般に好まし@−0−CHzCHz
−o7e)−ナトテアル。
本発明のジアセチレン系ポリイミドおよびジアセチレン
系ポリアミド酸のいくつかの例を示すならば、−数式C
I)あるいは(II)に対応するものとして、 などであり、 これらは単独であるいは2種以上の 組合せで用いられる。
系ポリアミド酸のいくつかの例を示すならば、−数式C
I)あるいは(II)に対応するものとして、 などであり、 これらは単独であるいは2種以上の 組合せで用いられる。
また、一般弐(1)あるいは(II)以外の構成単位の
例を一部あげるならば、−数式(I[I)、(IV)、
(V)、(Vl)或いは〔■〕に対応するものとして、 0 1 0 などであり、これらの単独あるいは2種以上の組合せで
先述の一般式(1)あるいは(II)の構成単位と組み
合せて用いられる。
例を一部あげるならば、−数式(I[I)、(IV)、
(V)、(Vl)或いは〔■〕に対応するものとして、 0 1 0 などであり、これらの単独あるいは2種以上の組合せで
先述の一般式(1)あるいは(II)の構成単位と組み
合せて用いられる。
本発明のポリイミドおよびポリアミド酸の製造方法とし
ては各種の方法が用いられるが、その典型を示すならば
、出発原料として (ここでArはA r 1 。
ては各種の方法が用いられるが、その典型を示すならば
、出発原料として (ここでArはA r 1 。
得られたアミド酸
Ar2と同じ)と反応させ、
を金属触媒を用いて酸化カップリングさせる方法、また
は出発原料として を用い、H2N Ar NHzと反応させる方法な
どによりポリアミド酸を得、ついで、このポリアミド酸
を熱的あるいは化学的に脱水閉環して、イ逅ド化しポリ
イミドを台底する方法が好ましく用いられる。
は出発原料として を用い、H2N Ar NHzと反応させる方法な
どによりポリアミド酸を得、ついで、このポリアミド酸
を熱的あるいは化学的に脱水閉環して、イ逅ド化しポリ
イミドを台底する方法が好ましく用いられる。
一般式(1)あるいは(II)以外の構成単位を組みこ
み、本発明のポリイミドあるいはポリアミド酸を製造す
る方法においても、上記方法を適宜応用して用いること
が出来る。例えば、HEN−Ar NHgとを希望の
割合で反応させて得られる末端エチニル基を有するオリ
ゴアミド酸を合威し、次いでこれを酸化カップリング反
応により重合しポリアミド酸を得る方法、またを用いる
場合にはこの七ツマ−と を希望する割合で反応させポリアミド酸を得る方法、な
どの方法によりポリアミド酸が得られ、ついでこれらを
熱的あるいは化学的に脱水閉環してイミド化しポリイミ
ドを台底する方法が好ましく用いられる。
み、本発明のポリイミドあるいはポリアミド酸を製造す
る方法においても、上記方法を適宜応用して用いること
が出来る。例えば、HEN−Ar NHgとを希望の
割合で反応させて得られる末端エチニル基を有するオリ
ゴアミド酸を合威し、次いでこれを酸化カップリング反
応により重合しポリアミド酸を得る方法、またを用いる
場合にはこの七ツマ−と を希望する割合で反応させポリアミド酸を得る方法、な
どの方法によりポリアミド酸が得られ、ついでこれらを
熱的あるいは化学的に脱水閉環してイミド化しポリイミ
ドを台底する方法が好ましく用いられる。
上記酸化カップリング反応の条件としては特に制限はな
いものの、アミド酸の溶解性及び反応性を高めるため、
溶剤としてはジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキ
シドなどのスルホキシド類、N、 N−ジメチルホルム
アミド、N、N−ジエチルホルムアもドなどのホルムア
くド系、N、 N−ジメチルアセドアミド、N、 N−
ジエチルアセドアミドなどのアセドア果ド類、N−メチ
ル−2−ピロリドン、N−ビニル−2−ピロリドンなど
のピロリドン類、ヘキサメチルホスホルアもド、ピリジ
ン、ピコリン、トリエチルア藁ンなどの3級ア旦ン類を
挙げることができ、これらを単独または混合物として用
い、又、部分的にはトルエン、キシレン、クロロベンゼ
ン、クロロホルムなどの炭化水素類、ハロゲン化炭化水
素類を用いられ得る。
いものの、アミド酸の溶解性及び反応性を高めるため、
溶剤としてはジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキ
シドなどのスルホキシド類、N、 N−ジメチルホルム
アミド、N、N−ジエチルホルムアもドなどのホルムア
くド系、N、 N−ジメチルアセドアミド、N、 N−
ジエチルアセドアミドなどのアセドア果ド類、N−メチ
ル−2−ピロリドン、N−ビニル−2−ピロリドンなど
のピロリドン類、ヘキサメチルホスホルアもド、ピリジ
ン、ピコリン、トリエチルア藁ンなどの3級ア旦ン類を
挙げることができ、これらを単独または混合物として用
い、又、部分的にはトルエン、キシレン、クロロベンゼ
ン、クロロホルムなどの炭化水素類、ハロゲン化炭化水
素類を用いられ得る。
金属触媒としては、通常酸化カップリング反応に用いら
れる金属化合物が用いられ、例えば、銅、コバルト、マ
ンガンなどの遷移金属の塩や錯体が用いられ、例えば、
塩化銅(1)や酢酸銅(1)などが用いられる。反応温
度はO″C〜120″C1好ましくは5〜80°Cの範
囲であり、酸素、あるいは不活性ガスで希釈した酸素を
導入して反応させる。
れる金属化合物が用いられ、例えば、銅、コバルト、マ
ンガンなどの遷移金属の塩や錯体が用いられ、例えば、
塩化銅(1)や酢酸銅(1)などが用いられる。反応温
度はO″C〜120″C1好ましくは5〜80°Cの範
囲であり、酸素、あるいは不活性ガスで希釈した酸素を
導入して反応させる。
酸無水物とジアミンの反応に際しては、通常−般に行な
われる反応条件が用いられ、例えば、溶剤としては、酸
化カップリング反応で用いられる溶剤がこの場合も適宜
選択して用いられる。
われる反応条件が用いられ、例えば、溶剤としては、酸
化カップリング反応で用いられる溶剤がこの場合も適宜
選択して用いられる。
ボリア主ド酸からポリイごドを台底する方法についても
、通常の方法および条件が適用できるが、反応温度につ
いては好ましくは330℃以下、特に好ましくは300
’C以下であり、この温度をこすとジアセチレン結合の
反応も関与してくるため、ポリイミドとして単離する場
合には注意を要する。
、通常の方法および条件が適用できるが、反応温度につ
いては好ましくは330℃以下、特に好ましくは300
’C以下であり、この温度をこすとジアセチレン結合の
反応も関与してくるため、ポリイミドとして単離する場
合には注意を要する。
ポリアミド酸から脱水閉環イミド化する方法としては、
例えば、熱的に行う場合には、ボリアもド酸溶液を流延
し膜状化あるいは塗布したり、水などの貧溶剤に沈澱、
粉末化させたり、繊維状にしたりした後、150″C以
下の温度で乾燥し、ついで、これを100’C付近から
徐々に温度を高め加熱を行い、330℃以下、特に30
0°C以下に保持することにより達成出来る。
例えば、熱的に行う場合には、ボリアもド酸溶液を流延
し膜状化あるいは塗布したり、水などの貧溶剤に沈澱、
粉末化させたり、繊維状にしたりした後、150″C以
下の温度で乾燥し、ついで、これを100’C付近から
徐々に温度を高め加熱を行い、330℃以下、特に30
0°C以下に保持することにより達成出来る。
また、化学的に脱水閉環イ逅ド化する方法としては、上
記ボリア逅ド酸溶液に化学量論以上の脱水剤と必要に応
じて触媒も加え、これを底膜、塗布、粉末化、繊維化な
どした後150’C以下の温度で乾燥し、次いで100
°C付近から徐々に温度を上げ330″C以下、好まし
くは300″C以下、最も好ましくは280 ”C以下
で保持し反応を達成させる。この際、触媒としては、ト
リエチルアミン、ジメチルアニリン、ピリジン、ピコリ
ンなどの第3級ア逅ン類が好ましい。
記ボリア逅ド酸溶液に化学量論以上の脱水剤と必要に応
じて触媒も加え、これを底膜、塗布、粉末化、繊維化な
どした後150’C以下の温度で乾燥し、次いで100
°C付近から徐々に温度を上げ330″C以下、好まし
くは300″C以下、最も好ましくは280 ”C以下
で保持し反応を達成させる。この際、触媒としては、ト
リエチルアミン、ジメチルアニリン、ピリジン、ピコリ
ンなどの第3級ア逅ン類が好ましい。
本発明のポリアミド酸を脱水閉環してポリイミドを合成
する際に、ジアセチレン基の架橋反応も進行させてもか
まわない用途においては、上記の反応温度の上限は特に
無くなる。しかし、架橋後の生成物の特性を高度に発生
させるためには、ボリアミド酸からイ累ド化への反応は
出来るだけ完全に進めることが望ましく、このため、反
応温度の制御は極めて重要である。
する際に、ジアセチレン基の架橋反応も進行させてもか
まわない用途においては、上記の反応温度の上限は特に
無くなる。しかし、架橋後の生成物の特性を高度に発生
させるためには、ボリアミド酸からイ累ド化への反応は
出来るだけ完全に進めることが望ましく、このため、反
応温度の制御は極めて重要である。
なお本発明において、ポリアミド酸の脱水閉環反応を行
う以前に、本発明のポリアミド酸同志を混合したり、他
のポリアミド酸あるいは各種のポリマーや安定剤、添加
剤などを添加混合することも可能である。
う以前に、本発明のポリアミド酸同志を混合したり、他
のポリアミド酸あるいは各種のポリマーや安定剤、添加
剤などを添加混合することも可能である。
本発明のジアセチレン結合を有するポリアミド酸、その
誘導体およびポリイミドは、その剛直鎖構造から由来す
る凝集性や配向性、また、電子吸引的官能基による電子
的効果を受けたジアセチレン結合の反応性などから固相
架橋反応性に優れ、熱的特性にも力学特性にも優れた架
橋材料を与えることが出来る。
誘導体およびポリイミドは、その剛直鎖構造から由来す
る凝集性や配向性、また、電子吸引的官能基による電子
的効果を受けたジアセチレン結合の反応性などから固相
架橋反応性に優れ、熱的特性にも力学特性にも優れた架
橋材料を与えることが出来る。
それ故、高度の耐熱性と寸法安定性(低吸水率、低線膨
張率)が要求される用途に使用可能であり、特にその用
途に応じて、粉体状、塊状、膜状、繊維状、溶液状、懸
濁状など種々の形状で使用可能であり、フィルム、テー
プ、フェスコーティング剤、接着剤、繊維、成形用樹脂
、プリント基板用樹脂などに活用でき極めて有用である
。
張率)が要求される用途に使用可能であり、特にその用
途に応じて、粉体状、塊状、膜状、繊維状、溶液状、懸
濁状など種々の形状で使用可能であり、フィルム、テー
プ、フェスコーティング剤、接着剤、繊維、成形用樹脂
、プリント基板用樹脂などに活用でき極めて有用である
。
(実施例)
実施例1
(1)ジャーナル・オブ・オーガニンクケミストリー第
48巻5135頁(1983年)に記載されている方法
に従って台底したエチニル系酸無水物 1 反応させエステル化を行った後、このエステル化物22
0 g、塩化第一銅12gをピリジン1.2f!。
48巻5135頁(1983年)に記載されている方法
に従って台底したエチニル系酸無水物 1 反応させエステル化を行った後、このエステル化物22
0 g、塩化第一銅12gをピリジン1.2f!。
に溶解し、酸素を吹きこみながら最高6o″Cで3時間
反応を行い、反応後、多量の水中に注ぎ希塩酸及び水で
洗浄を行なった0次に、この生成物を希NaOH水溶液
(約4%)500重景部上8゜°Cで5時間加熱し、反
応後、母液を塩酸酸性にした。得られた生成物を水洗し
た後、乾燥し、キシレン中で5時間還流し脱水を行なっ
た。この生成物をクロロホルムで抽出し、更に洗浄を行
ない、乾燥後活性炭で処理した後、結晶化させ、白色の
O 1 を得た。このジアセチレン系酸無水物は元素分析、IR
,NMRなとで確認した。
反応を行い、反応後、多量の水中に注ぎ希塩酸及び水で
洗浄を行なった0次に、この生成物を希NaOH水溶液
(約4%)500重景部上8゜°Cで5時間加熱し、反
応後、母液を塩酸酸性にした。得られた生成物を水洗し
た後、乾燥し、キシレン中で5時間還流し脱水を行なっ
た。この生成物をクロロホルムで抽出し、更に洗浄を行
ない、乾燥後活性炭で処理した後、結晶化させ、白色の
O 1 を得た。このジアセチレン系酸無水物は元素分析、IR
,NMRなとで確認した。
IR(KBrBr法)での典型的吸収位i!(cm−’
)3075.1860.1836.1769’H−NM
R(重りooホルム中 ppm)8.09.7.99 (2)4.4’ −ジアミノジフェニルエーテル40.
0g (0,2モル)を窒素で置換された四つ用フラス
コに仕こみ300dのN−メチルピロリドンに溶解した
。これに上記(1)で合成したジアセチレン系酸無水物
68.4 g (0,2モル)の粉砕物を添加し、攪拌
しつつ2時間5〜10℃で反応を行なった。
)3075.1860.1836.1769’H−NM
R(重りooホルム中 ppm)8.09.7.99 (2)4.4’ −ジアミノジフェニルエーテル40.
0g (0,2モル)を窒素で置換された四つ用フラス
コに仕こみ300dのN−メチルピロリドンに溶解した
。これに上記(1)で合成したジアセチレン系酸無水物
68.4 g (0,2モル)の粉砕物を添加し、攪拌
しつつ2時間5〜10℃で反応を行なった。
得られたポリアミド酸溶液はガラス板上に流延した後、
100°Cで1時間乾燥後、更に減圧下で乾燥した。得
られたポリアミド酸のフィルムを支持枠に固定し、その
後100°Cで30分間、ついで徐々に昇温し、200
’Cで1時間、更に280°Cで1時間加熱し閉環脱
水イミド化を行い、厚さ20μmのポリイミドフィルム
を得た。このポリイミドフィルムのIRでは1766.
1724cm−’などにイ4ドの典型的吸収が認められ
た。
100°Cで1時間乾燥後、更に減圧下で乾燥した。得
られたポリアミド酸のフィルムを支持枠に固定し、その
後100°Cで30分間、ついで徐々に昇温し、200
’Cで1時間、更に280°Cで1時間加熱し閉環脱
水イミド化を行い、厚さ20μmのポリイミドフィルム
を得た。このポリイミドフィルムのIRでは1766.
1724cm−’などにイ4ドの典型的吸収が認められ
た。
次に、このポリイミドフィルムを350°Cに30分間
加熱したところ、DTAにおけるジアセチレン結合にも
とづく320″Cから340 ’Cにわたる発熱ピーク
が認められなくなり反応の進行が確かめられた。
加熱したところ、DTAにおけるジアセチレン結合にも
とづく320″Cから340 ’Cにわたる発熱ピーク
が認められなくなり反応の進行が確かめられた。
得られたフィルムの線膨張率は0.18 X 10−0
−5(/cm/”C) 、吸水率(水中24時間)は0
.05%以下であった。
−5(/cm/”C) 、吸水率(水中24時間)は0
.05%以下であった。
実施例2
実施例1の(2)において、ジアセチレン系酸無水物1
3.7 g(0,04モル)、ピロメリット酸二無水物
を用いて同様の操作を行った。得られたポリイミドフィ
ルムは約18μm厚さであった。このポリイミドフィル
ムを350”Cで30分間加熱しジアセチレン基を反応
させたところ、ジアセチレン基の吸収は全く認められな
かった。得られたフィルムの線膨張率は0.35 X
1’ O−’cm/cm/”Cs吸水率は0.14%で
あった。
3.7 g(0,04モル)、ピロメリット酸二無水物
を用いて同様の操作を行った。得られたポリイミドフィ
ルムは約18μm厚さであった。このポリイミドフィル
ムを350”Cで30分間加熱しジアセチレン基を反応
させたところ、ジアセチレン基の吸収は全く認められな
かった。得られたフィルムの線膨張率は0.35 X
1’ O−’cm/cm/”Cs吸水率は0.14%で
あった。
比較例1
実施例1の(1)においてジアセチレン系酸無水物の代
わりにピロメリット酸二無水物43.6 g(0,2モ
ル)を用い実施例1と同様の方法でポリイミドフィルム
を作成した。このフィルムの線膨張率は36 X 10
−’ (cm/cm/”C)吸水率は0.23%であっ
た。
わりにピロメリット酸二無水物43.6 g(0,2モ
ル)を用い実施例1と同様の方法でポリイミドフィルム
を作成した。このフィルムの線膨張率は36 X 10
−’ (cm/cm/”C)吸水率は0.23%であっ
た。
実施例3
実施例1−(2)において、4.4′−ジアミノジフェ
ニルエーテルの代りに、バラフェニレンシアミン21.
6 g (0,2モル)を用いて実施例1同様の実験を
行った。ポリイミドフィルムのジアセチレン基を熱反応
して得られた架橋フィルムは線膨張率0.17 X 1
0−’cm/cm/”C,吸水率0.05%以下であっ
た。
ニルエーテルの代りに、バラフェニレンシアミン21.
6 g (0,2モル)を用いて実施例1同様の実験を
行った。ポリイミドフィルムのジアセチレン基を熱反応
して得られた架橋フィルムは線膨張率0.17 X 1
0−’cm/cm/”C,吸水率0.05%以下であっ
た。
実施例4
実施例3において、ジアセチレン系酸無水物の代わりに
、ジアセチレン系酸無水物23.94 g (0,07
モル)及びピロメリット酸二無水物28.34 g (
0,13モル)を用いて同様の実験を行なった。得られ
たポリイミドフィルムは若干もろいもののフィルムとし
ての特性が測定でき、ジアセチレン結合を350″Cで
反応させたフィル、ムの線膨張率は0.8×10−’c
m/c功/’C1吸水率は0.12%であった。
、ジアセチレン系酸無水物23.94 g (0,07
モル)及びピロメリット酸二無水物28.34 g (
0,13モル)を用いて同様の実験を行なった。得られ
たポリイミドフィルムは若干もろいもののフィルムとし
ての特性が測定でき、ジアセチレン結合を350″Cで
反応させたフィル、ムの線膨張率は0.8×10−’c
m/c功/’C1吸水率は0.12%であった。
比較例2
実施例3において、ジアセチレン系酸無水物の代りに、
ピロメリット酸二無水物を用いたところフィルムは極め
てもろく特性評価できなかった。
ピロメリット酸二無水物を用いたところフィルムは極め
てもろく特性評価できなかった。
実施例5
3,3′−ジアミノジフェニルスルホン(0,2モル)
を四つロフラスコに仕こみ、N、 N−ジメチルアセド
アごド300mfに溶解し、これに、ジアセチレン系酸
無水物68.4 g (0,2モル)を添加し、5〜1
0’Cで2時間反応を行い、ポリアミド酸溶液を得た。
を四つロフラスコに仕こみ、N、 N−ジメチルアセド
アごド300mfに溶解し、これに、ジアセチレン系酸
無水物68.4 g (0,2モル)を添加し、5〜1
0’Cで2時間反応を行い、ポリアミド酸溶液を得た。
このポリアミド酸溶液に無水酢酸51 g (0,5モ
ル)、ピリジン 7gを加えガラス板上に流延し、約8
0℃に10分間加熱した後、得られたフィルムを支持枠
に固定し、その後、100°Cで30分間、200°C
で1時間、280″Cで1時間加熱を行った。得られた
ポリイミドフィルムを、更に350°Cで30分間加熱
したところ、DTAにおけるジアセチレン結合の発熱反
応ピークが消滅し反応が進展したことが確かめられた。
ル)、ピリジン 7gを加えガラス板上に流延し、約8
0℃に10分間加熱した後、得られたフィルムを支持枠
に固定し、その後、100°Cで30分間、200°C
で1時間、280″Cで1時間加熱を行った。得られた
ポリイミドフィルムを、更に350°Cで30分間加熱
したところ、DTAにおけるジアセチレン結合の発熱反
応ピークが消滅し反応が進展したことが確かめられた。
この架橋後のフィルムの線膨張率は0.13X10−’
cm / cm / ”C1吸水率は0.05%以下で
あった。
cm / cm / ”C1吸水率は0.05%以下で
あった。
実施例6
実施例5において、ジアセチレン系酸無水物を1.71
g (0,01モル)、ビフェニル型酸無水物を用いて
同様の実験を行った。得られたポリイミドフィルムを3
50″Cで熱架橋反応させたところ得られたフィルムの
線膨張率は1.8X 10 ”cm/Cπ/°C5吸水
率は0.18%であった。
g (0,01モル)、ビフェニル型酸無水物を用いて
同様の実験を行った。得られたポリイミドフィルムを3
50″Cで熱架橋反応させたところ得られたフィルムの
線膨張率は1.8X 10 ”cm/Cπ/°C5吸水
率は0.18%であった。
実施例7
実施例1の(1)で合成したエチニル系酸無水物を、N
−メチルピロリドン600mf中に?容解した4、47
−ジアミツジフエニルメタン に添加し5〜10°Cで1時間反応させた。その後反応
液を水中に注ぎ、生成物を析出させ、洗浄後乾燥した。
−メチルピロリドン600mf中に?容解した4、47
−ジアミツジフエニルメタン に添加し5〜10°Cで1時間反応させた。その後反応
液を水中に注ぎ、生成物を析出させ、洗浄後乾燥した。
得られたエチニル末端アミド酸は、IR,NMRおよび
元素分析で確認した。
元素分析で確認した。
このエチニル末端アミド酸54.2 g(0,14モル
)をピリジン300yj!、N−Nメチルピロリドン2
00++fの混合系に溶解し、これに塩化第一銅1.2
gを加え、酸素を吹きこみ5時間、30″Cから最高温
度60°Cの範囲で反応させポリアミド酸溶液を得た。
)をピリジン300yj!、N−Nメチルピロリドン2
00++fの混合系に溶解し、これに塩化第一銅1.2
gを加え、酸素を吹きこみ5時間、30″Cから最高温
度60°Cの範囲で反応させポリアミド酸溶液を得た。
これを多量の水に注ぎ、沈澱を濾過し、冷希塩酸、水で
洗浄をくり返した後乾燥した。
洗浄をくり返した後乾燥した。
このボリアミック酸を冷却下粉砕し、粉末状にした後、
100″Cに1時間、200°Cで1時間、更に260
°Cで1時間加熱し、脱水閉環を行った。
100″Cに1時間、200°Cで1時間、更に260
°Cで1時間加熱し、脱水閉環を行った。
ついで、この粉末を直径20閣の金型に入れ真空高圧プ
レスにより、ます脱気を行った後、高真空下(0,2T
prr以下)で、260’C,30分間2500kg/
crAで加圧し、次いで昇温を行い最終的に340°C
で1時間3000kg/cJで高圧粉体圧縮成形を行っ
た。得られた成形棒は、DTA測定でジアセチレン結合
の発熱ピークは消失し、十分架橋が進展しており、その
線膨張率は0.11 cm/cm/’C1吸水率は0.
05%以下であった。
レスにより、ます脱気を行った後、高真空下(0,2T
prr以下)で、260’C,30分間2500kg/
crAで加圧し、次いで昇温を行い最終的に340°C
で1時間3000kg/cJで高圧粉体圧縮成形を行っ
た。得られた成形棒は、DTA測定でジアセチレン結合
の発熱ピークは消失し、十分架橋が進展しており、その
線膨張率は0.11 cm/cm/’C1吸水率は0.
05%以下であった。
実施例8
実施例7においてジアミン成分をメタフェニレンシア泉
ン21.6 g (0,2モル)の場合との場合とに分
けて別々にエチニル酸無水物と反応させ、得られた2種
のエチニル末端ア旦ド酸を当モルづつ混合して酸化カッ
プリング重合に供した。
ン21.6 g (0,2モル)の場合との場合とに分
けて別々にエチニル酸無水物と反応させ、得られた2種
のエチニル末端ア旦ド酸を当モルづつ混合して酸化カッ
プリング重合に供した。
得られたボリア逅ド酸は、更に実施例7と同様に操作し
、ポリイ逅ド粉末を得、更にこの粉体の高圧圧縮成形を
行い、ジアセチレン結合の架橋した成形棒を得た。この
成形棒の線膨張率は0.12cm/ cm / ”C1
吸水率0.05%以下であった。
、ポリイ逅ド粉末を得、更にこの粉体の高圧圧縮成形を
行い、ジアセチレン結合の架橋した成形棒を得た。この
成形棒の線膨張率は0.12cm/ cm / ”C1
吸水率0.05%以下であった。
実施例9
エチニル系酸無水物
ベンゾフェノン型酸無水物
の混合物を、N−メチルピロリドン1.22に溶解した
4、4−ジアミノジフェニルエーテル 60g63.6
g (0,3モル)混合液に添加し、1時間反応を行っ
た。得られたエチニル末端オリゴアミド酸はGPCによ
ると重合度の異なるオリゴマーの混合物であった。この
80gをピリジン500d、N−メチルピロリドン30
0dの混合系に溶解し、これに塩化第一銅1.7gを加
え酸素を吹きこみながら30″Cから最高60°Cの範
囲で反応させポリアミド酸溶液を得た。これを多量の水
に注ぎ、沈澱を濾過し、冷希塩酸、水でくり返し洗浄を
行い、その後、乾燥した。
4、4−ジアミノジフェニルエーテル 60g63.6
g (0,3モル)混合液に添加し、1時間反応を行っ
た。得られたエチニル末端オリゴアミド酸はGPCによ
ると重合度の異なるオリゴマーの混合物であった。この
80gをピリジン500d、N−メチルピロリドン30
0dの混合系に溶解し、これに塩化第一銅1.7gを加
え酸素を吹きこみながら30″Cから最高60°Cの範
囲で反応させポリアミド酸溶液を得た。これを多量の水
に注ぎ、沈澱を濾過し、冷希塩酸、水でくり返し洗浄を
行い、その後、乾燥した。
このボリアもツタ酸を冷却下に粉砕し粉末状にした後、
100″Cで1時間、200°Cで1時間、更に260
°Cで1時間加熱し、脱水閉環を完了させた。このボリ
イ主ド粉末のDTAは、ジアセチレン結合にもとすく発
熱ピークを有していた。このボリイ【ド粉末を用いて実
施例7と同様に真空高圧プレスによって架橋酸形を行っ
たところ、この成形体にはジアセチレン結合による発熱
ピークは認められず十分架橋が進展しており、線膨張率
は0.250111/C!l/”C,吸水率は0.17
%以下であった。
100″Cで1時間、200°Cで1時間、更に260
°Cで1時間加熱し、脱水閉環を完了させた。このボリ
イ主ド粉末のDTAは、ジアセチレン結合にもとすく発
熱ピークを有していた。このボリイ【ド粉末を用いて実
施例7と同様に真空高圧プレスによって架橋酸形を行っ
たところ、この成形体にはジアセチレン結合による発熱
ピークは認められず十分架橋が進展しており、線膨張率
は0.250111/C!l/”C,吸水率は0.17
%以下であった。
Claims (2)
- (1)一般式〔 I 〕で表わされる構成単位の1種又は
2種以上を有するジアセチレン系ポリイミド〔I〕▲数
式、化学式、表等があります▼ (ただし、Ar_1は炭素数2〜36の2価の有機基を
示す。) - (2)一般式〔II〕で表わされる構成単位の1種又は2
種以上を有するジアセチレン系ポリアミド酸及びその誘
導体 〔II〕▲数式、化学式、表等があります▼ (ただし、Ar_2は炭素数2〜36の2価の有機基、
X_1、X_2は−OH、ハロゲン、−OR、ここで、
Rは炭素数1〜18の有機基を示す。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21609089A JPH0381327A (ja) | 1989-08-24 | 1989-08-24 | ジアセチレン系ポリアミド酸、その誘導体及びポリイミド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21609089A JPH0381327A (ja) | 1989-08-24 | 1989-08-24 | ジアセチレン系ポリアミド酸、その誘導体及びポリイミド |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0381327A true JPH0381327A (ja) | 1991-04-05 |
Family
ID=16683094
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21609089A Pending JPH0381327A (ja) | 1989-08-24 | 1989-08-24 | ジアセチレン系ポリアミド酸、その誘導体及びポリイミド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0381327A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998049596A1 (fr) * | 1997-04-30 | 1998-11-05 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Agent d'alignement pour cristal liquide |
WO2010074625A1 (en) * | 2008-12-22 | 2010-07-01 | Nexam Chemical Ab | Acetylenic aromatic polyether |
US8263732B2 (en) | 2006-03-16 | 2012-09-11 | Jnc Corporation | Photo-alignment film and liquid crystal display element |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01216985A (ja) * | 1988-02-24 | 1989-08-30 | Agency Of Ind Science & Technol | ブタジイン系酸無水物 |
-
1989
- 1989-08-24 JP JP21609089A patent/JPH0381327A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01216985A (ja) * | 1988-02-24 | 1989-08-30 | Agency Of Ind Science & Technol | ブタジイン系酸無水物 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998049596A1 (fr) * | 1997-04-30 | 1998-11-05 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Agent d'alignement pour cristal liquide |
US6274695B1 (en) * | 1997-04-30 | 2001-08-14 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Aligning agent for liquid crystal |
US8263732B2 (en) | 2006-03-16 | 2012-09-11 | Jnc Corporation | Photo-alignment film and liquid crystal display element |
WO2010074625A1 (en) * | 2008-12-22 | 2010-07-01 | Nexam Chemical Ab | Acetylenic aromatic polyether |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS6250497B2 (ja) | ||
Hsiao et al. | Synthesis and properties of poly (ether imide) s based on the bis (ether anhydride) s from hydroquinone and its derivatives | |
JPH04214727A (ja) | ジアセチレン系ポリアミド酸誘導体及びポリイミド | |
JP3048703B2 (ja) | ポリアミック酸共重合体及びそれからなるポリイミドフィルム | |
JPH0381327A (ja) | ジアセチレン系ポリアミド酸、その誘導体及びポリイミド | |
JPH0215084A (ja) | 含フツ素ピロメリット酸無水物及びその製造方法 | |
JPH036228A (ja) | ジオキシジフタル酸無水物をベースとするポリイミド及びコポリイミド | |
CA2008859A1 (en) | Novel polymers | |
JPH0562893B2 (ja) | ||
JPH0470332B2 (ja) | ||
JPS62185715A (ja) | 無色ポリイミドフイルム | |
JP3022933B2 (ja) | 熱硬化型オリゴマー及びその製造方法 | |
US5675020A (en) | Ortho-bis(etherdianhydrides) | |
US20040063899A1 (en) | Polyimide-containing coating composition and film formed from the same | |
JPH01135765A (ja) | 新規なイミド化合物並びにその製造方法 | |
JPH05271411A (ja) | イミドオリゴマ型耐熱性樹脂組成物およびその製造方法 | |
JPS63120734A (ja) | 可溶性および/または溶融性のポリアミドイミド‐ポリイミド‐ブロツク共重合体およびその製法 | |
JPH0496934A (ja) | エーテル基を有するマレイミド樹脂の製造方法 | |
KR101971078B1 (ko) | 폴리아믹산 및 폴리이미드 | |
WO2002044291A2 (en) | Polyimide-containing coating composition and film formed from the same | |
US5116920A (en) | Polyamide-polyimide block copolymers soluble in aprotic dipolar solvents | |
US3773725A (en) | Copolymeric polyamide-acids,amideimides and copolyimides containing azo linkages and process for their preparation | |
JPH05320379A (ja) | ポリイミドフィルム及びその製造方法 | |
KR100332948B1 (ko) | 신규한 산 이무수물, 테트라카르복시산, 테트라카르복시산 디알킬에스테르 및 그의 제조방법 | |
JPH05310932A (ja) | ポリイミド樹脂 |