JPH0342622B2 - - Google Patents
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- JPH0342622B2 JPH0342622B2 JP58197093A JP19709383A JPH0342622B2 JP H0342622 B2 JPH0342622 B2 JP H0342622B2 JP 58197093 A JP58197093 A JP 58197093A JP 19709383 A JP19709383 A JP 19709383A JP H0342622 B2 JPH0342622 B2 JP H0342622B2
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- 239000000523 sample Substances 0.000 claims description 62
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 42
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims description 31
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 23
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 20
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 13
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 11
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 10
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 claims description 7
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 4
- 238000004556 laser interferometry Methods 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 238000005305 interferometry Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 2
- 238000001028 reflection method Methods 0.000 description 2
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 2
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/41—Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length
- G01N21/45—Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length using interferometric methods; using Schlieren methods
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J4/00—Measuring polarisation of light
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J9/00—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength
- G01J9/04—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength by beating two waves of a same source but of different frequency and measuring the phase shift of the lower frequency obtained
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は屈折率を測定しようとする液体の中に
直接プローブを浸漬してその屈折率をリアルタイ
ムで測定する手段を提供するもので主に屈折率整
合液の調整及びそれを使用する分野において利用
されることが期待される。
直接プローブを浸漬してその屈折率をリアルタイ
ムで測定する手段を提供するもので主に屈折率整
合液の調整及びそれを使用する分野において利用
されることが期待される。
従来液体屈折率測定装置としては、屈折法を用
いたものが知られていた。これは屈折率の異なる
境界での入射角と屈折角の比を測定するものであ
る。又反射法を用いるものも知られていた。これ
は屈折率の異なる境界での全反射の起る臨界角を
測定して屈折率を求めるものである。いわゆるア
ツベの屈折計と呼ばれるものである。又他の反射
法として屈折率の異なる境界での反射係数から屈
折率を求める方法も知られていた。
いたものが知られていた。これは屈折率の異なる
境界での入射角と屈折角の比を測定するものであ
る。又反射法を用いるものも知られていた。これ
は屈折率の異なる境界での全反射の起る臨界角を
測定して屈折率を求めるものである。いわゆるア
ツベの屈折計と呼ばれるものである。又他の反射
法として屈折率の異なる境界での反射係数から屈
折率を求める方法も知られていた。
しかしながら、以上の方法では屈折率の測定精
度が10-2〜10-3と低く光通信用フアイバーの製造
の如く精密な屈切率制御を必要とする分野に使え
なかつた。
度が10-2〜10-3と低く光通信用フアイバーの製造
の如く精密な屈切率制御を必要とする分野に使え
なかつた。
又屈折率を精密に測定する方法として、いわゆ
る干渉法を用いるものが知られていたが、これは
被測定物をリアルタイムで測定することができな
かつた。光フアイバーの製造コントロールを高な
う為には、実際の工程において即座に屈折率の精
密な測定が必要であるにもかかわらず、従来の干
渉法を用いたものはサンプリングが必要であり
InSithのものがなかつた。
る干渉法を用いるものが知られていたが、これは
被測定物をリアルタイムで測定することができな
かつた。光フアイバーの製造コントロールを高な
う為には、実際の工程において即座に屈折率の精
密な測定が必要であるにもかかわらず、従来の干
渉法を用いたものはサンプリングが必要であり
InSithのものがなかつた。
本発明はかかる従来技術の欠点を改善し、リア
ルタイムで液体の屈折率を精密に測定できる液体
屈折率測定装置を提供することを目的とする。
ルタイムで液体の屈折率を精密に測定できる液体
屈折率測定装置を提供することを目的とする。
本発明の構成を第1図に示す。1は光源部であ
る。光源部1においては、一つの光源からでたコ
ヒーレント光を2つに分割し、各々直交する方向
に偏光したのち混合された光(以下偏光混合波と
いう)を作る。この偏光混合波は導波部2を伝播
してプローブ部3に入る。プローブ部3に入つた
偏光混合波は、各偏光毎に分離され一方の偏光波
は試料液体を通過し、他方の偏光波は参照物体を
通過する。これによつて両者の偏光波間には位相
差が生じるが、この位相差は液体の屈折率の関数
である。これら位相差の生じた2つの偏光波は再
度混合され(以下これを再混合波という)導波部
4を伝播して検出部5に導びかれ、位相差が検出
され液体の屈折率が知れる。
る。光源部1においては、一つの光源からでたコ
ヒーレント光を2つに分割し、各々直交する方向
に偏光したのち混合された光(以下偏光混合波と
いう)を作る。この偏光混合波は導波部2を伝播
してプローブ部3に入る。プローブ部3に入つた
偏光混合波は、各偏光毎に分離され一方の偏光波
は試料液体を通過し、他方の偏光波は参照物体を
通過する。これによつて両者の偏光波間には位相
差が生じるが、この位相差は液体の屈折率の関数
である。これら位相差の生じた2つの偏光波は再
度混合され(以下これを再混合波という)導波部
4を伝播して検出部5に導びかれ、位相差が検出
され液体の屈折率が知れる。
以上の如く本発明の要点は光源部1において偏
光混合波を作りこれをプローブ部3に導びき分離
した後、各々サンプルとリフアレンスを通過さ
せ、再度混合して再混合波として検出部5に導び
き測定するものである。かかる方法によつてサン
プルとリフアレンスの屈折率の差が実時間で測定
できるのである。
光混合波を作りこれをプローブ部3に導びき分離
した後、各々サンプルとリフアレンスを通過さ
せ、再度混合して再混合波として検出部5に導び
き測定するものである。かかる方法によつてサン
プルとリフアレンスの屈折率の差が実時間で測定
できるのである。
本発明においては全体としてはレーザー干渉計
を構成している。しかし被測定液を使用状態のま
まで実時間で監視するという目的のために特にサ
ンプリング操作を行なわないことを前提としたの
で光源と測定場所が離れてしまうという問題があ
る。そこで本発明では干渉させる2つの光波をま
ず互いに直交する方向に偏光させた後、混合して
あたかも一光源束のような状態にしてから導波部
を通して測定場所へと導く。このようにすると外
乱による影響は干渉時にはほぼ相殺除去されると
う有利さがある。さらに測定場所にはプローブ部
が挿入される。このプローブ部には光学系が収め
られている。すなわち偏光混合波は各々の偏光状
態に拠つてもとの2つの偏光波に空間的に分離さ
れ、見かけ上通常の干渉計のごとく一方の偏光波
は少なくとも試料の一部を通過し、他方の偏光波
は参照のための媒質中を通過する。次に、これら
2つの偏光波は再び混合させられた後検出部へと
導かれる。これは前述と同じ目的で外乱からの影
響を除去するためである。このような光学配置で
は1本の光フアイバーによつて光源部1、プロー
ブ部3及び検出部5を接続できる。以上に述べた
ようにプローブ中の微少な領域のみを干渉計とし
て利用することのできる光学系によりプローブが
浸つている液体の屈折率を測定しようとするのが
本発明の目的である。
を構成している。しかし被測定液を使用状態のま
まで実時間で監視するという目的のために特にサ
ンプリング操作を行なわないことを前提としたの
で光源と測定場所が離れてしまうという問題があ
る。そこで本発明では干渉させる2つの光波をま
ず互いに直交する方向に偏光させた後、混合して
あたかも一光源束のような状態にしてから導波部
を通して測定場所へと導く。このようにすると外
乱による影響は干渉時にはほぼ相殺除去されると
う有利さがある。さらに測定場所にはプローブ部
が挿入される。このプローブ部には光学系が収め
られている。すなわち偏光混合波は各々の偏光状
態に拠つてもとの2つの偏光波に空間的に分離さ
れ、見かけ上通常の干渉計のごとく一方の偏光波
は少なくとも試料の一部を通過し、他方の偏光波
は参照のための媒質中を通過する。次に、これら
2つの偏光波は再び混合させられた後検出部へと
導かれる。これは前述と同じ目的で外乱からの影
響を除去するためである。このような光学配置で
は1本の光フアイバーによつて光源部1、プロー
ブ部3及び検出部5を接続できる。以上に述べた
ようにプローブ中の微少な領域のみを干渉計とし
て利用することのできる光学系によりプローブが
浸つている液体の屈折率を測定しようとするのが
本発明の目的である。
第2図は光源部1の詳細図である。光源6は光
干渉を起すことのできるコヒーレント性を有する
光を発するレーザーよりなる。レーザー光は分割
部7により2つの光線束に分けられる。分割部7
としてはビームスプリツターやプリズムが用いら
れる。次に一方の光はX方向偏波部8により偏光
波となる。X方向偏光部8は例えば偏光子よりな
る。又他方の光線束はY方向偏波部9により直交
する偏光波となる。Y方向偏光部9も例えば偏光
子よりなる。これら2つの互いに直交する偏光波
は混合部10において混合され1つの光線束とな
つて導波部2に導かれる。導波部2はマルチモー
ドフアイバ、単一モードフアイバ若しくは偏波面
保存フアイバ等の光フアイバーにより構成され
る。
干渉を起すことのできるコヒーレント性を有する
光を発するレーザーよりなる。レーザー光は分割
部7により2つの光線束に分けられる。分割部7
としてはビームスプリツターやプリズムが用いら
れる。次に一方の光はX方向偏波部8により偏光
波となる。X方向偏光部8は例えば偏光子よりな
る。又他方の光線束はY方向偏波部9により直交
する偏光波となる。Y方向偏光部9も例えば偏光
子よりなる。これら2つの互いに直交する偏光波
は混合部10において混合され1つの光線束とな
つて導波部2に導かれる。導波部2はマルチモー
ドフアイバ、単一モードフアイバ若しくは偏波面
保存フアイバ等の光フアイバーにより構成され
る。
第3図はプローバ部3の詳細図である。導波部
2より導びかれた混合偏光波は分離部11により
もとの互いに直交する偏光波に分離される。分離
部11は例えば分割型検光子よりなる。次に一方
の偏光波は試料部12を通過する。試料部12に
はプローブ3を試料液体に浸漬することにより被
測定試料が導入される。他方の偏光波は参照部1
3を通過する。参照部13には例えば屈折率既知
の石英などが用いられる。従つて本装置において
は液体の屈折率は参照物体たる石英の屈折率との
差として与えられる。本来屈折率の測定において
は試料温度は既知である必要があつた。しかしな
がら本発明においては液体の屈折率をその与えら
れた温度条件下において参照媒質(例えば石英)
の屈折率との差として高精度に測定できるので実
用上より便利なことが多い。
2より導びかれた混合偏光波は分離部11により
もとの互いに直交する偏光波に分離される。分離
部11は例えば分割型検光子よりなる。次に一方
の偏光波は試料部12を通過する。試料部12に
はプローブ3を試料液体に浸漬することにより被
測定試料が導入される。他方の偏光波は参照部1
3を通過する。参照部13には例えば屈折率既知
の石英などが用いられる。従つて本装置において
は液体の屈折率は参照物体たる石英の屈折率との
差として与えられる。本来屈折率の測定において
は試料温度は既知である必要があつた。しかしな
がら本発明においては液体の屈折率をその与えら
れた温度条件下において参照媒質(例えば石英)
の屈折率との差として高精度に測定できるので実
用上より便利なことが多い。
さて互いに異なる媒質を通過した偏光波は位相
のズレを生じた後混合部14により一本の光線束
となり導波部4を通過して検出部5に導かれる。
そこでレーザ干渉測定が行なわれ屈折率が知れ
る。
のズレを生じた後混合部14により一本の光線束
となり導波部4を通過して検出部5に導かれる。
そこでレーザ干渉測定が行なわれ屈折率が知れ
る。
ここでレーザ干渉測定について3つの異なる原
理を述べておく。
理を述べておく。
干渉出力信号と2つの媒質(サンプルとリフア
レンス)の屈折率の差の関係は以下の式で示され
る。
レンス)の屈折率の差の関係は以下の式で示され
る。
(1) 2つのコヒーレント光が同一の周波数をもつ
ている場合(ホモダインの場合) I=μ・Io{1+cos(KnsXs-KnkXk)}
……(1) で表わされる。
ている場合(ホモダインの場合) I=μ・Io{1+cos(KnsXs-KnkXk)}
……(1) で表わされる。
ここにIは出力信号、μは検出器の能率、Ioは
光の合計平均パワーKは用いる光の波数(K=
2π/λ λは光の真空中での波長)、Xは媒質の
光路長に占める長さ、nは媒質の屈折率である。
SとRはそれぞれ試料(サンプル)及び参照媒質
(リフアレンス)に関する数値であることを意味
している。
光の合計平均パワーKは用いる光の波数(K=
2π/λ λは光の真空中での波長)、Xは媒質の
光路長に占める長さ、nは媒質の屈折率である。
SとRはそれぞれ試料(サンプル)及び参照媒質
(リフアレンス)に関する数値であることを意味
している。
式(1)においてもしnRxo−nRxR=π/2とおくこ
とができれば微妙な屈折率の変化△n=ns−nR
による出力の変化は △IIiK△nXs ……(2) と近似できる。IiはnRXs−nRXR=π/2と設
定した時の出力の大きさである。このようにすれ
ば、KおよびXsを知り△Iを測定することによ
つて△nが求められる。
による出力の変化は △IIiK△nXs ……(2) と近似できる。IiはnRXs−nRXR=π/2と設
定した時の出力の大きさである。このようにすれ
ば、KおよびXsを知り△Iを測定することによ
つて△nが求められる。
(2) 2つのコヒーレント光が異る周波数α1,α2も
つている場合(ヘテロダインの場合) 交流成分について考えると、 I=μIocos(2π△tnsxs−nRxR) ……(3) ここに△α=|α1−α2|である。
つている場合(ヘテロダインの場合) 交流成分について考えると、 I=μIocos(2π△tnsxs−nRxR) ……(3) ここに△α=|α1−α2|である。
式(3)においては、cos波の振幅部分にまつたく
依存せずに△という周波数をもつ搬送波の位相
に注目することによつて △φ=△nXR(ただしX=Xs=XR)という位
相変化として微少屈折率△nをとらえることがで
き式(2)のホモダインのような近似および初期設定
は要しないのでより高精度な測定が可能となる。
依存せずに△という周波数をもつ搬送波の位相
に注目することによつて △φ=△nXR(ただしX=Xs=XR)という位
相変化として微少屈折率△nをとらえることがで
き式(2)のホモダインのような近似および初期設定
は要しないのでより高精度な測定が可能となる。
以上2通りの干渉測定法を述べたが第3の方法
もある。それは隋円偏光を利用することである。
今干渉計の2つの光路に互いに直交する偏光波を
入れると、干渉波は位相差によつてその光源状態
が異なる。すなわちもし位相差が0゜であれば直線
偏光(偏光角45゜)、又もし位相差が90゜であれば
円偏光波を与えその中間ではすべて隋円偏光と呼
ばれる状態を呈する。従つて偏光の隋円度と偏光
角を測定すれば上例で述べた屈折率差を決定する
ことができる。本発明においては上記3つの原理
のいずれもが利用できる。
もある。それは隋円偏光を利用することである。
今干渉計の2つの光路に互いに直交する偏光波を
入れると、干渉波は位相差によつてその光源状態
が異なる。すなわちもし位相差が0゜であれば直線
偏光(偏光角45゜)、又もし位相差が90゜であれば
円偏光波を与えその中間ではすべて隋円偏光と呼
ばれる状態を呈する。従つて偏光の隋円度と偏光
角を測定すれば上例で述べた屈折率差を決定する
ことができる。本発明においては上記3つの原理
のいずれもが利用できる。
〔実施例 1〕
第4図はヘテロダイン法を用いた本発明の実施
例1を示す。光源15は光レーザであつてコヒー
レントな光を出す。又光源15は準コヒーレント
光源であつても良い。コヒーレント光はビームス
プリツター16により2つの光線束に分けられ
る。これら2つの光線束は各々0の周波数をもつ
ていたものが、光変調器17及び18によつて周
波数変調されα1及びα2となる。光変調器としては
Bragg Call又はRaman−Nath Callが用いられ
る。これらα1及びα2の光束は各々偏光子19及び
20によつて互いに直交する偏光波すなわちX偏
光波及びY偏光波となる。これら2つの偏光波は
ミラー21及び22によつて方向を変えられ光混
合器23によつて一本の光線束すなわち偏光混合
波となる。
例1を示す。光源15は光レーザであつてコヒー
レントな光を出す。又光源15は準コヒーレント
光源であつても良い。コヒーレント光はビームス
プリツター16により2つの光線束に分けられ
る。これら2つの光線束は各々0の周波数をもつ
ていたものが、光変調器17及び18によつて周
波数変調されα1及びα2となる。光変調器としては
Bragg Call又はRaman−Nath Callが用いられ
る。これらα1及びα2の光束は各々偏光子19及び
20によつて互いに直交する偏光波すなわちX偏
光波及びY偏光波となる。これら2つの偏光波は
ミラー21及び22によつて方向を変えられ光混
合器23によつて一本の光線束すなわち偏光混合
波となる。
偏光混合波は凸レンズ24によつて光フアイバ
ー25の入射口に集められ光フアイバー25の中
に導かれる。光フアイバー25は導波部2の役割
を果たし偏光混合波はプローブ部3に導いてい
る。
ー25の入射口に集められ光フアイバー25の中
に導かれる。光フアイバー25は導波部2の役割
を果たし偏光混合波はプローブ部3に導いてい
る。
光フアイバー25を伝わつた偏光混合波は光フ
アイバー25の出口で発散しマイクロレンズ26
によつて平行光線となる。この平行光線は分割型
検光子27によつて互いに直交する偏光束の混合
波が偏光波ごとに分離される。この分割型検光子
27の構造は第5図に示すようになつており、互
いに直交する偏光軸を有する半円型の検光子2
8,29を貼り合わせたものである。分割型検光
子27を通過した混合偏光波のうち上半分はY方
向に振動する偏光波のみを含み、下半分はX方向
に振動する偏光波のみを含む。従つて光源部から
発した混合偏光波は分割型検光子27により分離
されるのである。
アイバー25の出口で発散しマイクロレンズ26
によつて平行光線となる。この平行光線は分割型
検光子27によつて互いに直交する偏光束の混合
波が偏光波ごとに分離される。この分割型検光子
27の構造は第5図に示すようになつており、互
いに直交する偏光軸を有する半円型の検光子2
8,29を貼り合わせたものである。分割型検光
子27を通過した混合偏光波のうち上半分はY方
向に振動する偏光波のみを含み、下半分はX方向
に振動する偏光波のみを含む。従つて光源部から
発した混合偏光波は分割型検光子27により分離
されるのである。
つまり分割型検光子27は周波数α1のX偏光波
と周波数α2のY偏光波の混合波を分離し元の周波
数α1のX偏光波と周波数α2のY偏光波に分けるも
のである。
と周波数α2のY偏光波の混合波を分離し元の周波
数α1のX偏光波と周波数α2のY偏光波に分けるも
のである。
次に分離された周波数α1のX偏光波は石英で作
られた試料保持部30の凹部31に導入された試
料液体を通過する。なお試料液体はプローブ3全
体を液体中に浸漬することにより凹部31に自動
的に導入される。
られた試料保持部30の凹部31に導入された試
料液体を通過する。なお試料液体はプローブ3全
体を液体中に浸漬することにより凹部31に自動
的に導入される。
又分離された周波数α2のY偏光波は試料保持部
30のうち石英の肉厚部を通過する。この部分は
既値の屈折率nRを有するから参照部として働く
のである。すなわち周波数α1の光線と周波数α2の
光線の全光路を比較すると、プローブ部内の試料
部と参照部において異なるのみで残りは共通であ
る。しかして周波数α1の光線の位相遅れはこれが
試料部を通過したことによる。従つてこの位相遅
れを検出すれば試料液体の参照部に対する相対屈
折率差△nが知れるのである。
30のうち石英の肉厚部を通過する。この部分は
既値の屈折率nRを有するから参照部として働く
のである。すなわち周波数α1の光線と周波数α2の
光線の全光路を比較すると、プローブ部内の試料
部と参照部において異なるのみで残りは共通であ
る。しかして周波数α1の光線の位相遅れはこれが
試料部を通過したことによる。従つてこの位相遅
れを検出すれば試料液体の参照部に対する相対屈
折率差△nが知れるのである。
位相遅れ△φと△nの関係は△φ=2xk△nで
与えられる。なお△φの検出方法については後に
説明する。
与えられる。なお△φの検出方法については後に
説明する。
さて試料保持部30を通過した光は前方にある
ミラー32によつて逆方向に反射され往路と全く
同一の光路を逆を伝わつていく。分割型検光子2
7を逆に通過した光はマイクロレンズ26によつ
て再混合され、再混合波として光フアイバ25を
逆にもどつていく。このように本実施例において
は導波部2と導波部4とは共通の光フアイバー2
5によつて構成されている。光フアイバーを逆に
通過した再混合波は凸レンズ24を通過して平行
光線となつた後、ビームスプリツター33によつ
て分離取り出され、再混合波の偏光方向に対して
45゜の角度にセツトされた検光子34を通過後検
出器35へと導かれる。検出器35における動作
を次に説明する。
ミラー32によつて逆方向に反射され往路と全く
同一の光路を逆を伝わつていく。分割型検光子2
7を逆に通過した光はマイクロレンズ26によつ
て再混合され、再混合波として光フアイバ25を
逆にもどつていく。このように本実施例において
は導波部2と導波部4とは共通の光フアイバー2
5によつて構成されている。光フアイバーを逆に
通過した再混合波は凸レンズ24を通過して平行
光線となつた後、ビームスプリツター33によつ
て分離取り出され、再混合波の偏光方向に対して
45゜の角度にセツトされた検光子34を通過後検
出器35へと導かれる。検出器35における動作
を次に説明する。
互いに直交する偏光波α1,α2の混合波である再
混合波は再混合波の偏光方向に対して45゜の偏光
角をなすようにセツトされた検光子34を通過す
ることにより各偏光のうち検光子の偏波方向成分
がとり出され、それらは互いに干渉する。
混合波は再混合波の偏光方向に対して45゜の偏光
角をなすようにセツトされた検光子34を通過す
ることにより各偏光のうち検光子の偏波方向成分
がとり出され、それらは互いに干渉する。
さて異なる周波数α1とα2の2光線の干渉を用い
たレーザー干渉法(ヘテロダイン方式)において
は干渉波の出力信号の波形はα1−α2という周波数
の正弦波であつて位相差成分として△φを含む。
従つてこれと位相差0の参照信号を位相検出回路
より構成されている検出器35により比較するこ
とにより位相差△φが知れる。従つて△φ=2xk
△nの式から△nが知れる。
たレーザー干渉法(ヘテロダイン方式)において
は干渉波の出力信号の波形はα1−α2という周波数
の正弦波であつて位相差成分として△φを含む。
従つてこれと位相差0の参照信号を位相検出回路
より構成されている検出器35により比較するこ
とにより位相差△φが知れる。従つて△φ=2xk
△nの式から△nが知れる。
・ 実施例1においては干渉方式としてヘテロダ
イン方式を用いた。しかしながら他の方法例え
ば先に述べたホモダイン方式あるいは隋円偏光
を利用する方式も考えられる。これらの場合に
は第4図に示す実施例1において光変調器17
及び18が不要となるのみで他の構成はほとん
ど共通である。又、実施例1においてはビーム
スプリツター16と検光子19及び20により
互いに直交する偏光波を作つているが、ビーム
スプリツター16と検光子19及び20は偏光
分離能力のあるビームスプリツターで置換する
ことができる。
イン方式を用いた。しかしながら他の方法例え
ば先に述べたホモダイン方式あるいは隋円偏光
を利用する方式も考えられる。これらの場合に
は第4図に示す実施例1において光変調器17
及び18が不要となるのみで他の構成はほとん
ど共通である。又、実施例1においてはビーム
スプリツター16と検光子19及び20により
互いに直交する偏光波を作つているが、ビーム
スプリツター16と検光子19及び20は偏光
分離能力のあるビームスプリツターで置換する
ことができる。
・ 又、ビームスプリツター16及び23のかわ
りにウオラストンプリズムその他のプリズムを
用いることができる。
りにウオラストンプリズムその他のプリズムを
用いることができる。
・ 又実施例1においては偏光混合波をプローブ
部へ導くために光フアイバーを用いたが、他の
実施例においては第6図に示すように複数の鏡
面を有する可とう性を持つた光路を用いること
もできる。
部へ導くために光フアイバーを用いたが、他の
実施例においては第6図に示すように複数の鏡
面を有する可とう性を持つた光路を用いること
もできる。
・ 又実施例1においては導波部2と導波部4は
兼用されていたが、もちろん第7図に示すよう
に別個の構成としてもよい。この場合には光フ
アイバ25を通つてきた偏光混合波はマイクロ
レンズ26によつて平行光線となり、ついで分
割型検光子により分離され各々の光線が試料保
持部の試料液体部と参照部を別々に通過する。
最后にマイクロレンズ36によつて収束され、
他の光フアイバー25を通つて検出部に導かれ
る。
兼用されていたが、もちろん第7図に示すよう
に別個の構成としてもよい。この場合には光フ
アイバ25を通つてきた偏光混合波はマイクロ
レンズ26によつて平行光線となり、ついで分
割型検光子により分離され各々の光線が試料保
持部の試料液体部と参照部を別々に通過する。
最后にマイクロレンズ36によつて収束され、
他の光フアイバー25を通つて検出部に導かれ
る。
・ 又、上記実施例は光の往路方向と復路方向が
同一方向であつたが、第8図に示すように直角
プリズム37を用いて往路と復路を相逆方向に
とることができる。
同一方向であつたが、第8図に示すように直角
プリズム37を用いて往路と復路を相逆方向に
とることができる。
・ 又、実施例1においてプローブ部3に用いら
れたマイクロレンズ26は、たとえば
SELFOCレンズ(登録商標)が用いられる。
れたマイクロレンズ26は、たとえば
SELFOCレンズ(登録商標)が用いられる。
・ 又、実施例1においてプローブ部3に用いら
れた偏光分離素子27は波面分割型検光子であ
つたが、他の実施例においては偏光分離能力を
もつビームスプリツターであつても良い。
れた偏光分離素子27は波面分割型検光子であ
つたが、他の実施例においては偏光分離能力を
もつビームスプリツターであつても良い。
・ 又、実施例1においては試料保持部30は全
体として参照部をも含んだ一体的構造になつて
いた。しかしながら、他の実施例においては第
9図に示すように参照部38をカセツト式と
し、種々の参照物体を使えるようにしても良
い。
体として参照部をも含んだ一体的構造になつて
いた。しかしながら、他の実施例においては第
9図に示すように参照部38をカセツト式と
し、種々の参照物体を使えるようにしても良
い。
・ 実施例1においては導波部2及び4として偏
光面保存光フアイバーを用いた。しかしながら
他の実施例として偏光面が回転してしまう光フ
アイバーを用いることもできる。ただしこの場
合には、プローブ部において、偏光分離素子の
設定角を光フアイバ25の断面に対して可変と
し測定時に調整可能としておくことが必要であ
る。この場合、偏光分離素子の設定角を固定し
逆に光フアイバ25を回転調整しても良い。
光面保存光フアイバーを用いた。しかしながら
他の実施例として偏光面が回転してしまう光フ
アイバーを用いることもできる。ただしこの場
合には、プローブ部において、偏光分離素子の
設定角を光フアイバ25の断面に対して可変と
し測定時に調整可能としておくことが必要であ
る。この場合、偏光分離素子の設定角を固定し
逆に光フアイバ25を回転調整しても良い。
第10図は空隙を非常に小さくとらなければ
ならない場合に用いた参照媒体片39を示し
た。これは厚さのわずかに異なる2つの小片を
はり合わせるか又は部分研磨によつて製作し
た。(この場合一部が液体がおきかえられてい
る。第10図40参照)以外第9図に示すもの
とまつたく同じである。
ならない場合に用いた参照媒体片39を示し
た。これは厚さのわずかに異なる2つの小片を
はり合わせるか又は部分研磨によつて製作し
た。(この場合一部が液体がおきかえられてい
る。第10図40参照)以外第9図に示すもの
とまつたく同じである。
以上述べたように、本発明によればレーザー干
渉法という高精度の屈折率測定法を利用しつつ、
プローブ部を被測定液体に浸漬すれば、リアルタ
イムで屈折率が測定できるという従来の屈折計に
は無い高精度リアルタイム(即時)型液体屈折計
が得られた。
渉法という高精度の屈折率測定法を利用しつつ、
プローブ部を被測定液体に浸漬すれば、リアルタ
イムで屈折率が測定できるという従来の屈折計に
は無い高精度リアルタイム(即時)型液体屈折計
が得られた。
第1図は本発明にかかる液体屈折率測定装置の
ブロツク図、第2図は光源部の詳細図、第3図は
プローブ部の詳細図である。第4図は本発明の一
実施例を示す図、第5図,第6図,第9図及び第
10図は実施例に用いる部品を表わした図、第7
図及び第8図は他の実施例に用いるプローブ部の
具体図である。 1…光源部、2…導波部、3…プローブ部、4
…導波部、5…検出部、6…光源、7…分割部、
8…X方向偏波部、9…Y方向偏波部、10…混
合部、11…分離部、12…試料部、13…参照
部、14…混合部、16…ビームスプリツター、
19,20…検光子、23…光混合器、25…光
フアイバー、26…マイクロレンズ、27…分割
型検光子、30…試料保持部、35…検出器。
ブロツク図、第2図は光源部の詳細図、第3図は
プローブ部の詳細図である。第4図は本発明の一
実施例を示す図、第5図,第6図,第9図及び第
10図は実施例に用いる部品を表わした図、第7
図及び第8図は他の実施例に用いるプローブ部の
具体図である。 1…光源部、2…導波部、3…プローブ部、4
…導波部、5…検出部、6…光源、7…分割部、
8…X方向偏波部、9…Y方向偏波部、10…混
合部、11…分離部、12…試料部、13…参照
部、14…混合部、16…ビームスプリツター、
19,20…検光子、23…光混合器、25…光
フアイバー、26…マイクロレンズ、27…分割
型検光子、30…試料保持部、35…検出器。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 たがいに直交する方向に偏光した2つのコヒ
ーレント光の偏光混合波を発生する光源部と、前
記光源部から導かれた偏光混合波を各偏光波に分
離した後、各々を異なつた空間すなわち一方は液
体試料中を他方は参照媒質中を伝播させたのち再
混合させるプローブ部と前記プローブ部からの再
混合波を信号検出する検出部とからなる液体屈折
率測定装置。 2 前記偏光混合波が異なる周波数をもつ2つの
光波からなり検出部では光ヘテロダイン検出方式
を用いることを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載の液体屈折率測定装置。 3 前記偏光混合波をプローブ部へ導くために光
フアイバを用いることを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載の液体屈折率測定装置。 4 前記偏光混合波を前記プローブ部へ導くため
に複数の鏡面を有する可とう性を持つた光路を用
いたことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の液体屈折率測定装置。 5 前記再混合波を前記検出部へ導くために用い
る光フアイバと、前記偏光混合波をプローブ部へ
導くために用いる光フアイバを兼用したことを特
徴とする特許請求の範囲第3項記載の液体屈折率
測定装置。 6 前記プローブ部において前記偏光混合波を各
偏光波に分離する偏光分離素子が波面分割型検光
子であることを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載の液体屈折率測定装置。 7 前記プローブ部において前記偏光混合波を各
偏光波に分離する偏光分離素子が偏光分離能力を
もつビームスプリツタであることを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載の液体屈折率測定装置。 8 前記プローブ部において前記空間的に分離さ
れた2つの偏光波をその光路の先端に反射鏡又は
プリズム体を設けてその進行方向を反転させるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の液体
屈折率測定装置。 9 前記プローブ部において光路上にマイクロレ
ンズを置いて、光線を平行光線にならしめ、ある
いは集束ならしめる光学系を有する特許請求の範
囲第1項記載の液体屈折率測定装置。 10 前記プローブ部において空間的に分離され
た2つの偏光波の光路上に、非共通部分として一
方には参照となる物体片をおき、他方には試料液
侵入のための隙間を設け、他は共通は媒質である
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の液
体屈折率測定装置。 11 前記偏光混合波が当初円偏光波または合成
直線偏光波となつている場合、検出部では再混合
波の楕円偏光度を決定してこれから前記液体試料
の屈折率を求めることを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載の液体屈折率測定装置。 12 前記偏光混合波が2つの周波数の異なる光
波より合成されており、検出部では光ヘテロダイ
ン法により差周波数の信号が得られるが、この信
号波の位相を決定することにより、前記液体試料
の屈折率を求めることを特徴とする特許請求の範
囲第2項記載の液体屈折率測定装置。 13 前記プローブ部において前記偏光混合波を
各偏光波に分離する偏光分離素子はその設定角が
可変でありかつ測定時に調整可能となつており、
最適値条件において測定が可能となるように調整
できることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
載の液体屈折率測定装置。 14 前記プローブ部において前記偏光混合波を
各偏光波に分離する偏光分離素子に対して入射す
る光の偏光角が可変となつており、最適条件にお
いて測定が可能となるように調整できることを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の液体屈折率
測定装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58197093A JPS6088353A (ja) | 1983-10-20 | 1983-10-20 | 液体屈折率測定装置 |
GB08424408A GB2148497B (en) | 1983-10-20 | 1984-09-27 | Liquid refractometer |
US06/660,923 US4640615A (en) | 1983-10-20 | 1984-10-15 | Liquid refractometer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58197093A JPS6088353A (ja) | 1983-10-20 | 1983-10-20 | 液体屈折率測定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6088353A JPS6088353A (ja) | 1985-05-18 |
JPH0342622B2 true JPH0342622B2 (ja) | 1991-06-27 |
Family
ID=16368606
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58197093A Granted JPS6088353A (ja) | 1983-10-20 | 1983-10-20 | 液体屈折率測定装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4640615A (ja) |
JP (1) | JPS6088353A (ja) |
GB (1) | GB2148497B (ja) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB8625530D0 (en) * | 1986-10-24 | 1986-11-26 | Goodall D M | Optical apparatus |
AT390836B (de) * | 1988-03-11 | 1990-07-10 | Tabarelli Werner | Einrichtung zur wellenlaengebestimmung bzw. brechzahlbestimmung |
JPH02244106A (ja) * | 1989-03-17 | 1990-09-28 | Hitachi Ltd | 薄膜光学定数の測定方法及びそれを用いて作製した光集積回路もしくは半導体素子 |
KR940002500B1 (ko) * | 1990-02-08 | 1994-03-25 | 미쯔비시덴끼 가부시끼가이샤 | 알콜 함유율 검지장치 |
USH1370H (en) * | 1991-04-15 | 1994-11-01 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Interferometric vibration and thermal expansion compensator |
US5231466A (en) * | 1991-08-01 | 1993-07-27 | Dow Chemical Company | Capillary fluid stream concentration measuring apparatus and method |
US6356675B1 (en) * | 1995-12-01 | 2002-03-12 | Sandia Corporation | Fiber optic refractive index monitor |
US5870185A (en) * | 1996-10-21 | 1999-02-09 | C.F.C. Technology, Inc. | Apparatus and method for fluid analysis |
WO2000018441A1 (en) * | 1998-10-01 | 2000-04-06 | Minntech Corporation | Endoscope reprocessing and sterilization system |
US6330064B1 (en) * | 2000-03-13 | 2001-12-11 | Satcon Technology Corporation | Doubly-differential interferometer and method for evanescent wave surface detection |
US6879743B2 (en) * | 2001-12-19 | 2005-04-12 | Intel Corporation | Crystal-core fiber mode converter for low-loss polarization-insensitive planar lightwave circuits |
US8184276B2 (en) | 2008-12-08 | 2012-05-22 | Carl Embry | Continuous index of refraction compensation method for measurements in a medium |
KR101108693B1 (ko) | 2009-12-08 | 2012-01-25 | 인하대학교 산학협력단 | 백색광 간섭계를 기반으로 하는 굴절률 측정 장치 및 방법 |
JP4912504B1 (ja) * | 2010-09-16 | 2012-04-11 | キヤノン株式会社 | 屈折率の計測方法および計測装置 |
JP6364305B2 (ja) * | 2014-10-09 | 2018-07-25 | 株式会社四国総合研究所 | 水素ガス濃度計測装置および方法 |
JP6784396B2 (ja) * | 2015-12-28 | 2020-11-11 | 大学共同利用機関法人自然科学研究機構 | 円偏光照射器、分析装置及び顕微鏡 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4171915A (en) * | 1977-10-07 | 1979-10-23 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Laser interferometer probe |
DE3370186D1 (en) * | 1982-05-18 | 1987-04-16 | Nat Res Dev | Apparatus and method for measuring refractive index |
-
1983
- 1983-10-20 JP JP58197093A patent/JPS6088353A/ja active Granted
-
1984
- 1984-09-27 GB GB08424408A patent/GB2148497B/en not_active Expired
- 1984-10-15 US US06/660,923 patent/US4640615A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB2148497B (en) | 1986-11-26 |
JPS6088353A (ja) | 1985-05-18 |
GB8424408D0 (en) | 1984-10-31 |
US4640615A (en) | 1987-02-03 |
GB2148497A (en) | 1985-05-30 |
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