JPH03270883A - 酸化セリウム研磨材 - Google Patents
酸化セリウム研磨材Info
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Landscapes
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、酸化セリウムが繊維でフレームワークした多
孔ウレタン樹脂に固定された研磨布に関する。
孔ウレタン樹脂に固定された研磨布に関する。
通常、窓ガラス、食器、タイル、板ガラスの研磨材とし
て、代表的には酸化珪素、ダイアモンド等が使用されて
いる。これら研磨材は例えば酸化珪素ではペースト状と
して使用されている。
て、代表的には酸化珪素、ダイアモンド等が使用されて
いる。これら研磨材は例えば酸化珪素ではペースト状と
して使用されている。
一方、前述のような用途、あるいは平面デイスプレィ用
ガラス、光磁気ディスク、ＣＣＤカバーガラス等精密極
薄板ガラス等の最終仕上げ磨き用研磨材として、酸化セ
リウムが知られている。この酸化セリウム研磨材はモー
ス硬度６であり、ダイヤモンド、炭化珪素等の研磨材と
比較して軟質である特徴を有する。酸化セリウム研磨材
の粒径は、使用前はサブミクロン中心で水にうまく懸濁
してこの水等が研削助材として作用し、また、酸化セリ
ウムは研磨中に自ら機械的破壊を起し、微粉となること
で被削物を傷つけることなくその表面を研磨しながら光
沢鏡面を形成する。
ガラス、光磁気ディスク、ＣＣＤカバーガラス等精密極
薄板ガラス等の最終仕上げ磨き用研磨材として、酸化セ
リウムが知られている。この酸化セリウム研磨材はモー
ス硬度６であり、ダイヤモンド、炭化珪素等の研磨材と
比較して軟質である特徴を有する。酸化セリウム研磨材
の粒径は、使用前はサブミクロン中心で水にうまく懸濁
してこの水等が研削助材として作用し、また、酸化セリ
ウムは研磨中に自ら機械的破壊を起し、微粉となること
で被削物を傷つけることなくその表面を研磨しながら光
沢鏡面を形成する。
このように酸化セリウム研磨材は他に見られない多くの
特徴を有するものであるが、難点は高価であるというこ
とである。従って、酸化珪素研磨材のようにペースト状
で使用する場合、例えばこのペーストを布等に振りかけ
て使用すると、研磨後はペーストを洗い流すことから、
ペーストが無駄になり、不経済となるものであった。
特徴を有するものであるが、難点は高価であるというこ
とである。従って、酸化珪素研磨材のようにペースト状
で使用する場合、例えばこのペーストを布等に振りかけ
て使用すると、研磨後はペーストを洗い流すことから、
ペーストが無駄になり、不経済となるものであった。
本発明は上記した現状に鑑み、高価な酸化セリウム研磨
材を有効に利用でき、しかも研磨に際して効率の良い研
磨部材を提供することを目的とするものである。
材を有効に利用でき、しかも研磨に際して効率の良い研
磨部材を提供することを目的とするものである。
本発明は、酸化セリウム研磨材を繊維で強化された多孔
ウレタン樹脂に固定した研磨布により、前記課題を遠戚
したものである。
ウレタン樹脂に固定した研磨布により、前記課題を遠戚
したものである。
本発明では酸化セリウム研磨材を多孔ウレタン樹脂に固
定したため、酸化セリウム研磨材が樹脂に堅持され、内
部の酸化セリウムも研磨に関与し、さらに使用前に水に
漬けることにより水分を十分に樹脂気孔内に取り入れる
ことができ、研磨時にこの水が研磨助材（滑材）として
作用し、また酸化セリウムが固定された多孔樹脂が繊維
で強化されているため、繊維の柔軟さを保持しつつ強度
が向上し、研磨布に付着した被削物（ゴミ）は洗剤で容
易に洗い流せ、何回でも繰返して使用できる。
定したため、酸化セリウム研磨材が樹脂に堅持され、内
部の酸化セリウムも研磨に関与し、さらに使用前に水に
漬けることにより水分を十分に樹脂気孔内に取り入れる
ことができ、研磨時にこの水が研磨助材（滑材）として
作用し、また酸化セリウムが固定された多孔樹脂が繊維
で強化されているため、繊維の柔軟さを保持しつつ強度
が向上し、研磨布に付着した被削物（ゴミ）は洗剤で容
易に洗い流せ、何回でも繰返して使用できる。
以下に本発明の実施例を図面を参照して説明する。
第１図は本発明に係る研磨布の断面を示す。
この第１図において、工は酸化セリウム研磨材であり、
平均粒度１μ以下で最大粒径５μ以下のものを、ウレタ
ン樹脂に対して５〜７５重量％含有させる。２は多孔ウ
レタン樹脂であり、この多孔ウレタン樹脂２には前記酸
化セリウム研磨材上が固定されている。そして、多孔ウ
レタン樹脂２は酸化セリウム研磨材上を固定する際、発
泡条件を研磨材粒子径と気泡径とを最適な関係にコント
ロールし、かつその気泡に研磨加工時の助材となる水を
毛細管現象で保留できるもの、具体的には発泡の過程で
その気泡径を１００μ以下にコントロールし、かつ開放
された連続気泡とする。３は酸化セリウム研磨材１が固
定された多孔ウレタン樹脂２を強化する繊維であり、不
織布またはその他の基布で研磨に適する繊維、具体的に
はポリエステル、ナイロン、レーヨン、アクリル、ポリ
プロピレン、コツトン等が適する。
平均粒度１μ以下で最大粒径５μ以下のものを、ウレタ
ン樹脂に対して５〜７５重量％含有させる。２は多孔ウ
レタン樹脂であり、この多孔ウレタン樹脂２には前記酸
化セリウム研磨材上が固定されている。そして、多孔ウ
レタン樹脂２は酸化セリウム研磨材上を固定する際、発
泡条件を研磨材粒子径と気泡径とを最適な関係にコント
ロールし、かつその気泡に研磨加工時の助材となる水を
毛細管現象で保留できるもの、具体的には発泡の過程で
その気泡径を１００μ以下にコントロールし、かつ開放
された連続気泡とする。３は酸化セリウム研磨材１が固
定された多孔ウレタン樹脂２を強化する繊維であり、不
織布またはその他の基布で研磨に適する繊維、具体的に
はポリエステル、ナイロン、レーヨン、アクリル、ポリ
プロピレン、コツトン等が適する。
次に、本発明の研磨布を製造する一例を説明する。
■ ナイロン、ポリエステル、レーヨン、等の原料繊維
（Ａ）を準備する。
（Ａ）を準備する。
■ 熱可塑性のポリウレタン樹脂に、有機溶剤と活性剤
を混合し、気泡性合成材樹脂溶液（Ｂ）を作る。
を混合し、気泡性合成材樹脂溶液（Ｂ）を作る。
（Ｂ）
ウレタン樹脂 ２０〜４０％
活性剤
＊ジメチルフォルムアミド
■ 酸化セリウム（Ｃ）は粒度を５〜０．１μ（平均粒
度１〜２μ）に調粒する。
度１〜２μ）に調粒する。
■ 上記気泡性合成材樹脂溶液（Ｂ）と酸化セリウム（
Ｃ）とを混合槽で混合撹拌し、（Ｃ）を均一に分散させ
た混合液（Ｄ）を作る。
Ｃ）とを混合槽で混合撹拌し、（Ｃ）を均一に分散させ
た混合液（Ｄ）を作る。
（Ｄ）
（Ｂ）溶液 １００に対し
酸化セリウム ５〜７０重量％
■ 原料繊維（Ａ）の上に樹脂溶液（Ｂ）を塗布し、ド
クターブレードで厚さ０．５〜３ａ＋ｎ＋に調整した塗
布布（Ｅ）を作る。
クターブレードで厚さ０．５〜３ａ＋ｎ＋に調整した塗
布布（Ｅ）を作る。
■ 塗布布（Ｅ）を水または温水の浴槽に通し、ウレタ
ン塗膜（Ｆ）を凝固させる。
ン塗膜（Ｆ）を凝固させる。
■ ウレタン塗膜（Ｆ）を水洗槽に通し、塗膜中の活性
剤および溶剤を抜き、酸化セリウムの入った多孔通気性
合成材（Ｇ）を作る。
剤および溶剤を抜き、酸化セリウムの入った多孔通気性
合成材（Ｇ）を作る。
■ 多孔通気性合成材（Ｇ）を乾燥炉に入れて乾燥させ
、表面に適当な硬度をもつ研磨布にする。
、表面に適当な硬度をもつ研磨布にする。
■ さらに、必要に応じて表面を研磨砥石でバフィンダ
加工し、スェード調に加工した研磨布を作る。
加工し、スェード調に加工した研磨布を作る。
研磨布
本 ウレタン樹脂に対する酸化セリウム混合比率
１０〜７０％ 本製造条件 凝固溶温度 ２５〜６０”Ｃ水洗槽温
度 ４０〜７０℃以下 以下に実施例を示す。
１０〜７０％ 本製造条件 凝固溶温度 ２５〜６０”Ｃ水洗槽温
度 ４０〜７０℃以下 以下に実施例を示す。
実施例１
ウレタン樹脂 １５％
溶媒十活性剤 ８５％ １００に対し酸化セリ
ウム ２０ の割合として酸化セリウム研磨布を製造した。
ウム ２０ の割合として酸化セリウム研磨布を製造した。
実施例２
ウレタン樹脂 ２０％
溶媒十活性剤 ８０％ ｉｏｏに対し酸化セリウ
ム ５ の割合として酸化セリウム研磨布を製造した。
ム ５ の割合として酸化セリウム研磨布を製造した。
実施例３
ウレタン樹脂 ３０％
溶媒＋活性剤 ７０％ １００に対し酸化セリウ
ム ７５ の割合として酸化セリウム研磨布を製造した。
ム ７５ の割合として酸化セリウム研磨布を製造した。
以上のような本発明によれば、次のような効果を有する
。
。
■繊維の軟らかさを保持した研磨布が得られる。
■繊維で強化された多孔ウレタン樹脂が固形樹脂部分に
酸化セリウムの微粉末を堅持し、さらに研磨前に布を水
に付けることで水が研磨助剤（滑材）として作用し、酸
化セリウムの研磨特性を十分に引き出すことができる。
酸化セリウムの微粉末を堅持し、さらに研磨前に布を水
に付けることで水が研磨助剤（滑材）として作用し、酸
化セリウムの研磨特性を十分に引き出すことができる。
■研磨布に付着した被削物（ゴミ）は洗剤で容易に落ち
、何回も繰り返して使用でき、高価な酸化セリウム研磨
材を有効に無駄なく利用できる。
、何回も繰り返して使用でき、高価な酸化セリウム研磨
材を有効に無駄なく利用できる。
第１図は、本発明の研磨布の断面説明図である。
■・・・酸化セリウム研磨材
Claims (1)
- １、酸化セリウム研磨材を繊維で強化された多孔ウレタ
ン樹脂に固定してなる酸化セリウム研磨布。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7247990A JPH03270883A (ja) | 1990-03-22 | 1990-03-22 | 酸化セリウム研磨材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7247990A JPH03270883A (ja) | 1990-03-22 | 1990-03-22 | 酸化セリウム研磨材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03270883A true JPH03270883A (ja) | 1991-12-03 |
Family
ID=13490497
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7247990A Pending JPH03270883A (ja) | 1990-03-22 | 1990-03-22 | 酸化セリウム研磨材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03270883A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11503077A (ja) * | 1995-06-01 | 1999-03-23 | ノートン カンパニー | カール抵抗性の研磨布紙 |
| EP1157975A1 (en) * | 2000-04-28 | 2001-11-28 | Mitsui Mining and Smelting Co., Ltd | Method for preparing glass substrate for magnetic recording medium |
| JP2002326168A (ja) * | 2001-05-02 | 2002-11-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 研磨テープ |
| JP2003311604A (ja) * | 2002-04-26 | 2003-11-05 | Chiyoda Kk | 研磨パッド |
| WO2018052133A1 (ja) * | 2016-09-16 | 2018-03-22 | ニッタ・ハース株式会社 | 研磨パッド |
-
1990
- 1990-03-22 JP JP7247990A patent/JPH03270883A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11503077A (ja) * | 1995-06-01 | 1999-03-23 | ノートン カンパニー | カール抵抗性の研磨布紙 |
| EP1157975A1 (en) * | 2000-04-28 | 2001-11-28 | Mitsui Mining and Smelting Co., Ltd | Method for preparing glass substrate for magnetic recording medium |
| JP2002326168A (ja) * | 2001-05-02 | 2002-11-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 研磨テープ |
| JP2003311604A (ja) * | 2002-04-26 | 2003-11-05 | Chiyoda Kk | 研磨パッド |
| WO2018052133A1 (ja) * | 2016-09-16 | 2018-03-22 | ニッタ・ハース株式会社 | 研磨パッド |
| JPWO2018052133A1 (ja) * | 2016-09-16 | 2019-07-04 | ニッタ・ハース株式会社 | 研磨パッド |
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