JPH03268374A - Temperature regulation of semiconductor laser - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 55
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 10
- 238000001816 cooling Methods 0.000 abstract description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 2
- 230000007274 generation of a signal involved in cell-cell signaling Effects 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 238000003491 array Methods 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
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- Semiconductor Lasers (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光情報処理、光通信及びレーザ加工等に使用
される半導体レーザに関し、特に半導体レーザの温度を
調整する方法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor laser used in optical information processing, optical communication, laser processing, etc., and particularly relates to a method for adjusting the temperature of a semiconductor laser.
半導体レーザの応用範囲の拡大に伴って、半導体レーザ
の高出力化の要求が高まっている。現在、W単位程度の
高い光出力が得られる半導体レーザとしては、半導体レ
ーザアレイ、ブロードエリアレーザ等が公知である。こ
れらの半導体レーザでは、その先動作時に数W以上の発
熱があるので、発生した熱を外部へ逃がさない場合に高
い光出力を安定して得られないという問題がある。従っ
て、これらの半導体レーザにあっては、熱を逃がすため
の工夫が従来から考えられている。With the expansion of the range of applications of semiconductor lasers, the demand for higher output semiconductor lasers is increasing. At present, semiconductor laser arrays, broad area lasers, and the like are known as semiconductor lasers that can obtain a high optical output on the order of W units. Since these semiconductor lasers generate heat of several watts or more during subsequent operation, there is a problem that a high optical output cannot be stably obtained unless the generated heat is released to the outside. Therefore, in the case of these semiconductor lasers, contrivances for dissipating heat have been conventionally considered.
第3図、第4図はこのような工夫を施した半導体レーザ
アレイまたはブロードエリアレーザのパッケージ例を示
す模式図である。まず、第3図に示す例について説明す
る。図において、11はTo−3等の大型のパッケージ
であり、パンケージ11には、レーザチップ12を取付
けた金属製のブロック13が固設されている。また、パ
ッケージ11は放熱フィン14にネジ止めされている。FIGS. 3 and 4 are schematic diagrams showing examples of packages for semiconductor laser arrays or broad area lasers that have been designed in this way. First, the example shown in FIG. 3 will be explained. In the figure, 11 is a large package such as To-3, and a metal block 13 to which a laser chip 12 is attached is fixed to the pan cage 11. Further, the package 11 is screwed to the radiation fins 14.
本例では、このような構成において、レーザチップ12
にて発生した熱を放熱フィン14から外部に逃がすよう
にしている。In this example, in such a configuration, the laser chip 12
The heat generated in the heat dissipation fins 14 is dissipated to the outside.
次に、第4図に示す例について説明する。図において1
1は放熱フィン14にネジ止めされたパッケージである
。パッケージ11には、冷却用のペルチェ素子15とレ
ーザチップ12を取付けた金属製のブロック13とがこ
の順に設けられており、ブロック13内にはサーミスタ
16が設けられている。本例では、このような構成にお
いて、サーミスタ16にてパッケージ11内の温度を検
出しながら、この検出値に応じてペルチェ素子15によ
りパッケージ11内の温度を一定に保つようにしている
。Next, the example shown in FIG. 4 will be explained. In the figure 1
1 is a package screwed to a heat radiation fin 14. A Peltier element 15 for cooling and a metal block 13 to which a laser chip 12 is attached are provided in this order in the package 11, and a thermistor 16 is provided within the block 13. In this example, in such a configuration, the temperature inside the package 11 is detected by the thermistor 16, and the temperature inside the package 11 is kept constant by the Peltier element 15 according to this detected value.
上述したような方法においても、放熱フィンまたはサー
ミスタの取付は部分からレーザチップの活性層までの熱
抵抗はOではないので、C−動作時に発生した熱によっ
てレーザチップのpn接合部の温度上昇は避けることが
できない。従って、C−動作時の電流−光出力特性(I
−L特性)は、パルス動作時のように光出力が直線的に
増加せず、活性層の温度上昇によってスロープ効率が低
下する。Even in the method described above, since the thermal resistance from the mounting part of the heat dissipation fin or thermistor to the active layer of the laser chip is not O, the temperature of the pn junction of the laser chip will not rise due to the heat generated during C-operation. It cannot be avoided. Therefore, C-current-light output characteristics during operation (I
-L characteristic), the optical output does not increase linearly as in the case of pulse operation, and the slope efficiency decreases due to an increase in the temperature of the active layer.
第5図は、ストライブ幅150μm、共振器長500μ
mであるブロードエリアレーザにおけるI−L特性を示
す。図において、(a)はレーザチップの温度上昇がな
い場合の特性を、(b)はレーザチップの温度上昇があ
る場合の特性を夫々表している。レーザチップに温度上
昇がある場合には、動作電流の増大と共にスロープ効率
が低下し、温度上昇が大きくなると光出力が熱飽和する
という問題がある。Figure 5 shows a stripe width of 150μm and a resonator length of 500μm.
Fig. 2 shows IL characteristics in a broad area laser with m. In the figure, (a) shows the characteristics when there is no temperature rise of the laser chip, and (b) shows the characteristics when there is a temperature rise of the laser chip. If there is a temperature rise in the laser chip, there is a problem that the slope efficiency decreases as the operating current increases, and as the temperature rise becomes large, the optical output becomes thermally saturated.
また、レーザチップの温度上昇は半導体レーザの信顧性
の低下を招くという問題もある。There is also the problem that an increase in the temperature of the laser chip leads to a decrease in the reliability of the semiconductor laser.
本発明はかかる事情に鑑みてなされたものであり、半導
体レーザの順方向の電圧の検出値に基づいて温度調整手
段を制御することにより、任意の動作電流において半導
体レーザの温度を一定に維持することができ、半導体レ
ーザの温度上昇に伴う光出力の熱飽和を完全になくし、
安定した高出力化が可能である半導体レーザの温度調整
方法を提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above circumstances, and maintains the temperature of the semiconductor laser constant at any operating current by controlling the temperature adjustment means based on the detected value of the forward voltage of the semiconductor laser. This completely eliminates the thermal saturation of the optical output caused by the rise in temperature of the semiconductor laser.
The object of the present invention is to provide a method for adjusting the temperature of a semiconductor laser, which enables stable high output.
本発明に係る半導体レーザの温度調整方法は、温度調整
手段を用いて半導体レーザの温度を調整する方法におい
て、前記半導体レーザの順方向の電圧を検出し、この検
出値に基づいて前記温度調整手段を制御することを特徴
とする。A semiconductor laser temperature adjustment method according to the present invention is a method for adjusting the temperature of a semiconductor laser using a temperature adjustment means, in which a forward voltage of the semiconductor laser is detected, and the temperature adjustment means It is characterized by controlling.
本発明の半導体レーザの温度調整方法にあっては、半導
体レーザの順方向の電圧を測定し、測定した電圧値に基
づいて温度調整手段を制御する。In the semiconductor laser temperature adjustment method of the present invention, the forward voltage of the semiconductor laser is measured, and the temperature adjustment means is controlled based on the measured voltage value.
そうすると、シリーズ抵抗の影響を温度調整に加味する
ので、半導体レーザの温度は一定に保たれる。In this case, since the influence of the series resistance is taken into account in temperature adjustment, the temperature of the semiconductor laser can be kept constant.
次に、本発明に係る半導体レーザの温度調整方法(以下
本発明方法という)の原理について説明する。Next, the principle of the semiconductor laser temperature adjustment method according to the present invention (hereinafter referred to as the method of the present invention) will be explained.
第6図に半導体レーザの電流−電圧特性(r−V特性)
を示す。図において、(a)はレーザチップの温度が一
定である場合の特性を、申)はレーザチップの温度が動
作電流の増加に伴って上昇する場合(CW動作時)の特
性を夫々表している。半導体レーザはダイオードである
ので、低電流時には下記(11式に従った特性を示す。Figure 6 shows the current-voltage characteristics (r-V characteristics) of a semiconductor laser.
shows. In the figure, (a) represents the characteristics when the temperature of the laser chip is constant, and (a) represents the characteristics when the temperature of the laser chip increases as the operating current increases (during CW operation). . Since the semiconductor laser is a diode, it exhibits characteristics according to the following equation (11) at low current.
に半導体レーザに流れる電流
Io :半導体レーザの特性を示す電流係数q:電子の
電荷 V:半導体レーザの電圧nun値(=2) k
:ボルッマン定数T二半導体レーザの温度
ところが、動作電流が増加するにつれて、シリーズ抵抗
の影響が大きくなって、上記(11式に従わなくなる。Current flowing through the semiconductor laser Io: Current coefficient indicating the characteristics of the semiconductor laser q: Electron charge V: Voltage nun value of the semiconductor laser (=2) k
:Bormann constant T2 Temperature of the semiconductor laser However, as the operating current increases, the influence of the series resistance increases, and the above equation (11) is no longer followed.
そして、第6図(blに示すように、温度が一定の場合
(第6図(a))よりも電圧は小さくなることが知られ
ている。As shown in FIG. 6 (bl), it is known that the voltage becomes smaller than when the temperature is constant (FIG. 6(a)).
本発明方法では、ある設定温度における第6図(alに
示すようなr−v特性を予め求めておき、実際の半導体
レーザの商動作時に第6図(b)に示すような半導体レ
ーザの順方向の電圧を測定する。そして、第6図の(a
lと山)との電圧差を検出し、この電圧差がOとなるよ
うにペルチェ素子等の温度調整手段を制御する。そうす
る上、任意の大きさの動作電流時においても、半導体レ
ーザの温度を一定に維持することができる。In the method of the present invention, the r-v characteristics as shown in FIG. 6(al) at a certain set temperature are determined in advance, and the order of the semiconductor laser as shown in FIG. 6(b) during actual commercial operation of the semiconductor laser is determined in advance. Measure the voltage in the direction (a
The voltage difference between 1 and 1) is detected, and temperature adjustment means such as a Peltier element is controlled so that this voltage difference becomes 0. In addition, the temperature of the semiconductor laser can be maintained constant even when the operating current is arbitrary.
以下、本発明をその実施例を示す図面に基づいて具体的
に説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be specifically described below based on drawings showing embodiments thereof.
第1図は本発明方法を実施するための装置構成を示す図
である。図において4は半導体レーザのレーザチップ、
5はレーザチップ4を冷却または加熱するための温度調
整手段であるベルチェ素子を示す。このレーザチップ4
及びベルチェ素子5は、TO−3タイプのパッケージ1
に固設されている。FIG. 1 is a diagram showing the configuration of an apparatus for carrying out the method of the present invention. In the figure, 4 is a laser chip of a semiconductor laser;
Reference numeral 5 indicates a Vertier element which is a temperature adjusting means for cooling or heating the laser chip 4. This laser chip 4
and the Bertier element 5 is a TO-3 type package 1
It is fixedly installed.
また、このパッケージ1は図示しない放熱フィンにネジ
止めされている。レーザチップ4は、電圧検出装置2に
接続されている。Further, this package 1 is screwed to a heat radiation fin (not shown). Laser chip 4 is connected to voltage detection device 2 .
電圧検出装置2は、レーザチップ4と直列に設けられた
0、1Ωの抵抗9と、C讐動作時の半導体レーザ(レー
ザチップ4)の順方向電圧を測定して電圧信号V#とじ
て出力する電圧測定回路6と、レーザチップ4における
設定温度において任意の動作電流に対してレーザチップ
4にかかるべき順方向電圧を示す基準電圧信号V。ut
を出力する基準電圧信号発生回路7と、電圧測定回路6
からの電圧信号■、及び基準電圧信号発生回路7からの
基準電圧信号V。utO差を求めてその差信号ΔV(=
vout v−)を出力する電圧差測定回路8とを有
する。基準電圧信号発生回路7には、レーザチップ4の
電流−電圧特性が記憶されている。The voltage detection device 2 measures the forward voltage of the semiconductor laser (laser chip 4) during operation with a resistor 9 of 0 or 1 Ω provided in series with the laser chip 4, and outputs it as a voltage signal V#. and a reference voltage signal V indicating the forward voltage that should be applied to the laser chip 4 for an arbitrary operating current at a set temperature in the laser chip 4. ut
a reference voltage signal generation circuit 7 that outputs the voltage, and a voltage measurement circuit 6
and the reference voltage signal V from the reference voltage signal generation circuit 7. Find the utO difference and calculate the difference signal ΔV (=
It has a voltage difference measuring circuit 8 that outputs vout (v-). The reference voltage signal generation circuit 7 stores the current-voltage characteristics of the laser chip 4.
このような特性は、例えばパルス幅を10μsec (
デユーティ0.1%)としてレーザチップ4の温度が上
昇しないような方法にて得られた特性である。Such characteristics, for example, reduce the pulse width to 10 μsec (
These characteristics were obtained using a method in which the temperature of the laser chip 4 does not rise when the duty is 0.1%).
そして基準電圧信号発生回路7は、実際の動作電流I。The reference voltage signal generation circuit 7 then outputs the actual operating current I.
、 (=ViI、10.1 )について、記憶されてい
る基準の特性に合うように基準電圧信号■。utを電圧
差測定回路8へ出力する。第2図は、予め基準電圧信号
発生回路7に記憶されている特性を示すものであり、本
実施例では抵抗9にかかる電圧V r nと出力される
基準電圧信号■。utとの関係を示す特性が基準電圧信
号発生回路7に予め記憶されている。抵抗9の抵抗値を
大きくし過ぎると、レーザチップ4を駆動するための電
源に大きな負荷がかかることになって、レーザチップ4
に流すことができる電流が小さくなるので、抵抗9の抵
抗値は本実施例のような値とする。, (=ViI, 10.1), the reference voltage signal ■ matches the characteristics of the stored reference. ut is output to the voltage difference measuring circuit 8. FIG. 2 shows the characteristics stored in advance in the reference voltage signal generation circuit 7, and in this embodiment, the voltage V r n applied to the resistor 9 and the output reference voltage signal ■. Characteristics indicating the relationship with ut are stored in advance in the reference voltage signal generation circuit 7. If the resistance value of the resistor 9 is made too large, a large load will be placed on the power supply for driving the laser chip 4, and the laser chip 4 will
Since the current that can be passed through the resistor 9 becomes smaller, the resistance value of the resistor 9 is set to a value as in this embodiment.
電圧差測定回路8は前記差信号ΔVを、通常のPID!
IJ?IIタイプのペルチェ素子制御器3へ出力する。The voltage difference measuring circuit 8 converts the difference signal ΔV into a normal PID!
IJ? Output to type II Peltier element controller 3.
ペルチェ素子制御器3は、このΔVがOになるように、
ベルチェ素子5を制御する。The Peltier element controller 3 controls the ΔV so that it becomes O.
Controls the Bertier element 5.
次に、動作について説明する。Next, the operation will be explained.
例えば、レーザチップ4がGaAlAs系のDH構造を
なし、ストライプ溝150pm、共振器長500μmの
ブロードエリアレーザである場合、動作電流I。。For example, when the laser chip 4 is a broad area laser having a GaAlAs-based DH structure, a stripe groove of 150 pm, and a cavity length of 500 μm, the operating current I is. .
が1.6Aであるときに変動電圧(ΔV)は約2.8m
V / ’Cである。本発明方法では、このように温
度上昇に伴って電圧変動が生じることに着目し、予め求
めておいた特性の電圧値に電圧の実際の測定値が一致す
るようにベルチェ素子5を制御する。When is 1.6A, the fluctuating voltage (ΔV) is approximately 2.8m
V/'C. In the method of the present invention, attention is paid to the fact that voltage fluctuation occurs as the temperature rises, and the Vertier element 5 is controlled so that the actual measured value of the voltage matches the voltage value of the characteristic determined in advance.
レーザチップ4の電圧が電圧測定回路6により測定され
、その測定値が電圧信号■1として電圧差測定回路8へ
出力される。一方、抵抗9にかかる電圧■8..が基準
電圧信号発生回路7により測定され、第2図に示すよう
な特性に従いその測定値に基づいた基準電圧信号■。、
が電圧差測定回路8へ出力される。電圧差測定回路8に
て、両信号の差ΔV (=V、uL−V、”)が測定さ
れ、その差信号ΔVがペルチェ素子制御器3へ出力され
る。The voltage of the laser chip 4 is measured by the voltage measuring circuit 6, and the measured value is outputted to the voltage difference measuring circuit 8 as a voltage signal 1. On the other hand, the voltage applied to the resistor 9■8. .. is measured by the reference voltage signal generation circuit 7, and the reference voltage signal (■) is based on the measured value according to the characteristics shown in FIG. ,
is output to the voltage difference measuring circuit 8. The voltage difference measuring circuit 8 measures the difference ΔV (=V, uL−V, “) between the two signals, and outputs the difference signal ΔV to the Peltier element controller 3.
そして、ペルチェ素子制御器3により、このΔ■がOに
なるようにベルチェ素子5が制御される。Then, the Peltier element controller 3 controls the Vertier element 5 so that Δ■ becomes O.
本発明方法では、以上のようにして、測定した半導体レ
ーザの電圧に基づいてベルチェ素子5を制御するように
したので、半導体レーザにおける熱抵抗を実質的に零に
でき、半導体レーザの温度を一定に保つことができる。In the method of the present invention, as described above, the Vertier element 5 is controlled based on the measured voltage of the semiconductor laser, so the thermal resistance in the semiconductor laser can be made substantially zero, and the temperature of the semiconductor laser can be kept constant. can be kept.
従って、C−動作時にあっても、パルス動作時に等しい
I−L特性を得ることができる。Therefore, even during C-operation, the same IL characteristics can be obtained during pulse operation.
上述した実施例では、任意の動作電流に対して半導体レ
ーザの温度を一定にするためにベルチェ素子5を制御す
る例について詳述したが、これに限らず、任意の動作電
流に対して半導体レーザの発振波長を一定にすることも
可能である。レーザチップ4の温度とレーザチップ4の
電圧との特性をある設定波長において求めておき、この
特性を予め基準電圧信号発生回路7に記憶しておく。そ
して、任意の動作電流に対して設定発振波長を実現する
ための基準電圧信号■。、が、基準電圧信号発生回路7
から電圧差測定回路8へ出力されるようにする。そして
、レーザチップ4の実際の電圧値■1とこの基準電圧信
号■。utとが一致するように、ペルチェ素子制御器3
によりベルチェ素子5を制御すれば、任意の動作電流に
対して、発振波長が常に一定である半導体レーザを実現
できる。このような実施例は、Nd : YAGまたは
Nd ; YLF等の固体レーザ励起用光源に用いると
効果的である。In the above-described embodiment, an example in which the Bertier element 5 is controlled in order to keep the temperature of the semiconductor laser constant for any operating current has been described in detail, but this is not limited to this. It is also possible to keep the oscillation wavelength constant. The characteristics of the temperature of the laser chip 4 and the voltage of the laser chip 4 are determined at a certain set wavelength, and these characteristics are stored in the reference voltage signal generation circuit 7 in advance. And a reference voltage signal ■ to realize the set oscillation wavelength for any operating current. , is the reference voltage signal generation circuit 7
output to the voltage difference measuring circuit 8. Then, the actual voltage value ■1 of the laser chip 4 and this reference voltage signal ■. The Peltier element controller 3
By controlling the Vertier element 5 according to the following, it is possible to realize a semiconductor laser whose oscillation wavelength is always constant for any operating current. Such an embodiment is effective when used in a solid-state laser excitation light source such as Nd:YAG or Nd;YLF.
なお、本発明方法は、GaAlAs系半導体レーザまた
はInGaAIP系半導体レーザなど、半導体材料を用
いたすべての半導体レーザに適用することができること
は勿論である。It goes without saying that the method of the present invention can be applied to all semiconductor lasers using semiconductor materials, such as GaAlAs-based semiconductor lasers or InGaAIP-based semiconductor lasers.
以上のように、本発明方法では、半導体レーザの熱抵抗
を実質的に零にできるので、従来方法では避けられなか
った光出力の熱飽和を完全になくすことができる。また
、動作電流が太き(、発熱量が数W以上であるような半
導体レーザアレイまたはブロードエリアレーザのC−動
作時にあっても、パルス動作時と同じI−L特性を得る
ことができ、大幅な高出力化が可能である等、本発明は
優れた効果を奏する。As described above, in the method of the present invention, the thermal resistance of the semiconductor laser can be made substantially zero, so that the thermal saturation of the optical output, which could not be avoided with the conventional method, can be completely eliminated. In addition, even during C-operation of a semiconductor laser array or broad area laser where the operating current is large (and the heat generation amount is several W or more), it is possible to obtain the same I-L characteristics as during pulse operation. The present invention has excellent effects such as being able to significantly increase output.
第1図は本発明に係る半導体レーザの温度調整方法を実
施するための装置構成を示す模式図、第2図は基準電圧
信号発生回路に予め記憶されている特性を示すグラフ、
第3図、第4図は高出力半導体レーザのパフケージ例を
示す模式図、第5図は半導体レーザの電流−光出力特性
を示すグラフ、第6図は半導体レーザの電流−電圧特性
を示すグラフである。FIG. 1 is a schematic diagram showing the configuration of an apparatus for implementing the semiconductor laser temperature adjustment method according to the present invention, and FIG. 2 is a graph showing characteristics stored in advance in the reference voltage signal generation circuit.
Figures 3 and 4 are schematic diagrams showing puff cage examples of high-power semiconductor lasers, Figure 5 is a graph showing the current-optical output characteristics of the semiconductor laser, and Figure 6 is a graph showing the current-voltage characteristics of the semiconductor laser. It is.
Claims (1)
る方法において、 前記半導体レーザの順方向の電圧を検出し、この検出値
に基づいて前記温度調整手段を制御することを特徴とす
る半導体レーザの温度調整方法。[Claims] 1. A method for adjusting the temperature of a semiconductor laser using a temperature adjustment means, comprising: detecting a forward voltage of the semiconductor laser, and controlling the temperature adjustment means based on the detected value. A method for adjusting the temperature of a semiconductor laser, characterized by:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6782490A JPH03268374A (en) | 1990-03-16 | 1990-03-16 | Temperature regulation of semiconductor laser |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6782490A JPH03268374A (en) | 1990-03-16 | 1990-03-16 | Temperature regulation of semiconductor laser |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03268374A true JPH03268374A (en) | 1991-11-29 |
Family
ID=13356083
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6782490A Pending JPH03268374A (en) | 1990-03-16 | 1990-03-16 | Temperature regulation of semiconductor laser |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03268374A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03283585A (en) * | 1990-03-30 | 1991-12-13 | Nec Corp | Light oscillator |
WO1994010728A1 (en) * | 1992-10-24 | 1994-05-11 | Ok Kyung Cho | Modified semiconductor laser diode with integrated temperature control |
-
1990
- 1990-03-16 JP JP6782490A patent/JPH03268374A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH03283585A (en) * | 1990-03-30 | 1991-12-13 | Nec Corp | Light oscillator |
WO1994010728A1 (en) * | 1992-10-24 | 1994-05-11 | Ok Kyung Cho | Modified semiconductor laser diode with integrated temperature control |
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