JPH0320287A - β―ラクタム化合物の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は３一位に水酸基が保護されたヒドロキシエチル
基を有し、４一位にシリルエーテル基を有するβ−ラク
タム化合物の製造法に関する。

本発明によるβ−ラクタム化合物は、４一位に反応性に
富むシリルエーテル基を有し、種々の誘導体に変換でき
る有用な中間体である。たとえば、本発明化合物の４一
位のシリルエーテル基に、置換反応を行なうことによっ
て、第４世代のβ−ラクタム抗生物質として知られてい
るチェナマイシン製造に有用な３−（ｌ−ヒドロキシエ
チル）−４−アセトキシアゼチジン−２−オンや、３一
（ｌ−ヒドロキシエチル）−４−ハロアゼチジン−２−
オンが取得できる。

［従来の技術・発明が解決しようとする課１ｉ］４一位
にシリルエーテル基を有するβ−ラクタム化合物とその
製造法に関しては、本発明者らがすでに出願している（
特開昭８１−１８７９１号公報参照）。

その製造過程でのβ−ラクタム環のＮ一保護基の還元的
脱離に関しては、水素化アルミニウムリチウム、水素化
ビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム
、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウムなど
の水素化金属化合物や、ラネーニッケル、メルカブタン
類、アルカリ金属一電子受容体を用いる系に限られてい
た。

これらの系で還元的脱保護を行なったぱあい、たとえば
、水素化アルミニウム化合物を用いたぱあいは水酸化ア
ルミニウム、メルカブタン類を用いたぱあいはジスルフ
ィド、アルカリ金属一電子受容体系を用いたぱあいは電
子受容体の除去などに困難な点があり、またその他の系
では前記に比べて若干収率がわるいという問題があった
。

本発明者らはさらに検討を行ない、４位にシリルエーテ
ル基を有し、β−ラクタム環のチッ素原子が無置換であ
るβ−ラクタム化合物を収率よく、かつ副生物の除去に
困難を伴わない方法でＮ−ハロスルホニル体から還元的
に誘導する新しい合成法を見出し本発明を完成した。

［課題を解決するための手段］ 本発明は一般式（１０　： （式中、Ｒ１は水酸基の保護基、Ｒ２　　　Ｒ３および
Ｒ４はそれぞれ同一または相異なるＣ１〜Ｃｅの低級ア
ルキル基、フエニル基またはアラルキル基ｓ　　Ｘ’は
ハロゲン原子を示す）で表わされるβ−ラクタム化合物
を、有機溶媒中、一般式（■）： ＲＳ　　−Ｍ　　　　　　　　　　　　　　（１）υ （式中、Ｒｉは水酸基の保護基、Ｒ２　　　Ｒ３および
Ｒ４はそれぞれ同一または相異なるＣｔ〜Ｃ●の低級ア
ルキル基、フェニル基またはアラルキル基を示す）で表
わされるβ−ラクタム化合物の製造法に関する。

すなわち、一般式（ｌ）： （式中、Ｒｓはアルキル基もしくは置換アルキル基、フ
ェニル基もしくは置換フエニル基またはアラルキル基、
Ｘは金属またはハロゲン化金属を示す）で表わされる有
機金属化合物によって還元することを特徴とする一般式
圓：（式中、ＲＩ　　　Ｒ２　　　Ｒ３およびＲ◆は前
記と同じ）で表わされるβ−ラクタム化合物の製造法に
関する。

［作用・実施例】 前記一般式圓中の３位ヒドロキシエチル基の〇一保護基
であるＲ１の具体例としては、一般式Ｎ二 Ｒ６ （式中　Ｒ＠　　　Ｒ７およびＲ８はそれぞれ同一また
は相異なるＣ１〜Ｃ●の低級アルキル基、フエニル基ま
たはアラルキル基を示す）で表わされる基があげられ、
たとえばｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリイソ
プロピルシリル基、イソプロピルジメチルシリル基、イ
ンブチルジメチルシリル基、ジメチル−（ｌ６２−ジメ
チルプロビル）シリル基、ジメチルー（１，１．２−｝
リメチルプロビル）シリル基などのトリアルキルシリル
基、その他ｔｅｆｔ−プチル基、ペンジル基、トリクロ
ロエトキシカルポニル基％　ｔａｒｔ−ブトキシカルボ
二ル基、ｐ−ニトロベンジルオキシ力ルボニル基などが
あげられる。好ましくは、反応中、安定であり、さらに
酸処理により選択的に脱保護されうるｉｅｒｔ−プチル
ジメチルシリル基、イソブロピルジメチルシリル基、ジ
メチルー（１．１．２−｝リメチルブ口ピル）一シリル
基およびジメチル−（１．２−ジメチルプ口ピル）シリ
ル基がよい。

またβ−ラクタム化合物圓のＲ２　　　Ｒ３およびＲ４
はメチル、エチル、イソブチル、１．１．２−トリメチ
ルプロビルなどのＣ＋　−　０６の低級アルキル基、フ
ェニル基およびペンジル基、Ｐ−二トロペンジル基など
のアラルキル基から同一または相異なった基を選択でき
るが、好ましくはＲ２　　　．Ｈ３およびＲ４が共にメ
チルであるのが最適である。

またＸＩはハロゲン原子を示すが、好ましくは塩素原子
が好ましい。

本発明の反応を下記反応式１に示す。反応式１　： （１） （１） ＋ 副生物 前記反応における原料のＮ−スルホニルβ−ラクタム化
合物（１）としては、３＝（１−ｔｅｒｔ−プチルジメ
チルシリロキシエチル）−１−クロロスルホニル−４−
トリメチルシリロキシーアゼチジン−２−オン、３−（
１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエチル）−１
−クロロスルホニル−４−トリエチルシリロキシーアゼ
チジン−２−オン、３−（１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチ
ルシリロキシエチル）−１−クロロスルホニル−４−ジ
メチルイソプロピルシリロキシーアゼチジン−２−オン
、３−（１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエチ
ル）−４−ｔｅｒｔ−プチルジメチルシリロキシー１−
クロロスルホニルーアゼチジン−２−オン、ｌ−クロロ
スルホニル−３−（ｌ−ジメチルイソプロピルシリロキ
シエチル）−４−トリメチルシリロキシーアゼチジン−
２−オン、ｌ−クロロスルホニル−３−［１−　（ジメ
チル−（１．１．２−トリメチルブロピル）一シリロキ
シ）エチル］−４−トリメチルシリロキシーアゼチジン
−２−オン、ｌ−クロ口スルホニル−３−（１−ｔｅｒ
ｔ−プチルジフエニルシリロキシエチル）−４４リメチ
ルシリロキシーアゼチジン−２−オン、ｌ−クロロスル
ホニル−３−［１−（ジメチル−（ｌ，２−ジメチルプ
ロビル）シリロキシ）エチル］−４−　トリメチルシリ
ロキシーアゼチジン−２一オン、３−（１−ｔｅｒｔ−
ブトキシエチル）−１−クｏｏスルホニル−４−トリメ
チルシリロキシーアゼチジン　−２−オン、３−（１−
ｔｅｒｔ−プトキシエチル）−１−クロロスルホニル−
４−トリエチルシリロキシーアゼチジン−２−オン、ａ
−（ｉ−ペンジルオキシエチル）−１−クロロスルホニ
ル−４−トリメチルシリロキシーアゼチジン−２−オン
、３−（１−ｔｅｒｔ−プチルカルボニルオキシエチル
）−１−クロロスルホニル−４−トリメチルシリロキシ
ーアゼチジン−２−オン、３−（１−ペンジルオキシ力
ルポニルオキシエチル）−１−クロロスルホニル−４−
トリメチルシリロキシーアゼチジン−２−オン、８−（
１−ペンゾイルオキシエチル）−１−クロロスルホニル
−４−トリメチルシリロキシーアゼチジン−２−オン、
ｌ−クロロスルホニル−３−（１−ｐ一二トロベンジル
オキシ力ルポニルオキシエチル）−４−｝リメチルシリ
ロキシーアゼチジン−２−オン、１−クロロスルホニル
−４−トリメチルシリロキシ−３−（１−　トリメチル
シリロキシエチル）一アゼチジン−２−オン、などが採
用できる。好ましくは、３−（１−ｔｅｒｔ−プチルジ
メチルシリロキシエチル）−１−クロロスルホニル−４
−トリメチルシリロキシーアゼチジン−２一オン、ｌ−
クロロスルホニル−３−［１−　（ジメチル−（１．１
．２−トリメチルプロビル）シリロキシ〉エチル］−４
−トリメチルシリロキシーアゼチジン２−オン、ｌ−ク
ロロスルホニル−３−（ｌ−ジメチルイソプロピルシリ
ロキシ）エチル−４−トリメチルシリロキシーアゼチジ
ン−２−オンなどがあげられる。

前記のＮ−スルホニルβ　−ラクタム化合物（１）は、
３−ヒドロキシ酪酸を出発原料として合成したエノール
シリルエーテル類とスルホニルイソシアナート類の反応
により合成できる（特開昭６１−１８７９Ｌ号公Ｎ　参
照）。このぱあい、スルホニルイソシアナート類として
は、たとえばクロロスルホニルイソシアナートなどのハ
ロゲン原子がスルホニル基に結合したスルホニルイソシ
アナートを使用することができる。

前記原料であるＮ−スルホニルβ−ラクタム化合物（１
）の合成に関して、下記反応式２に示す。

反応式２： ［以下余白］ （．Ｉ） 前記反応により生成したＮ−スルホニルーβラクタム化
合物（１）のチッ素原子上の置換基を還元的に脱離させ
、目的化合物（自）をうる反応について述べる。

この還元反応は、有機溶媒中、一般式（ｌ）：ＲＳ　＝
Ｍ　　　　　　　　　（１） （式中、ＲＳはアルキル基もしくは置換アルキル基、フ
ェニル基もしくは置換フエニル基またはアラルキル基、
Ｍは金属またはハロゲン化金属を示す）で表わされる有
機金属化合物をβ−ラクタム化合物（１）に作用させる
ことにより行なわれる。ＲＳとしては、たとえばメチル
基、エチル基、ｎ−プロビル基、イソプロテル基、ｎ−
ブチル基、ｔ−ブチル基などのアルキル基の他、置換ア
ルキル基、フェニル基、トリル基などのフエニル基およ
び置換フエニル基、ベンジル基などのアラルキル基が用
いられ、Ｍとしては、たとえばリチウム、カリウムなど
のアルカリ金属、マグネシウムクロリド、マグネシウム
ブロミド、マグネシウムヨージドなどのハロゲン化金属
があげられる。さらに具体的には、一般式Ｍ：Ｒ９　　
−Ｍｇ−Ｘ２　　　　　　　　　　（Ｖ）（式中Ｒ９は
アルキル基もしくは置換アルキル基、フエニル基もしく
は置換フエニル基、またはアラルキル基、Ｘ２はハロゲ
ン原子を示す）で表わされるグリニャール試薬および一
般式＋１７０：Ｒ幻　−Ｌｉ （４） （式中、帥はＣ１〜ＣＩの低級アルキル基もしくは置換
アルキル基、フエニル基もしくは置換フエニル基または
アラルキル基を示す）で表わされる有機リチウム化合物
があげられる。すなわち、有機金属化合物としては例示
すると、ｎ−プチルリチウム、フエニルリチウム、エチ
ルマグネシウムクロリド、エチルマグネシウムプロミド
、ｎ−プロビルマグネシウムクロリド、ｎ−プロビルマ
グネシウムプロミド、イソブロビルマグネシウムクロリ
ド、イソプロビルマグネシウムブロミド、イソプロビル
マグネシウムヨージド、フェニルマグネシウムクロリド
、フエニルマグネシウムブロミド、べ冫ジルマグネシウ
ムクロリド、ベンジルマグネシウムブロミドなどが用い
られるが；とくにフエニルマグネシウムクロリドおよび
ベンジルマグネシウムクロリドを用いるのが好ましい。

還元反応に用いられる溶媒としては、たとえばトルエン
、ヘキサン、エーテル、テトラヒドロフランなどの不活
性有機溶媒があげられ、混合溶媒系でもよい。また、グ
リニャール試薬などを用いるぱあいには、ハロゲン化ア
ルキルとＭｇからグリニャール試薬を合成する溶媒とは
異なる溶媒を還元反応に用いてもよい。

還元反応は、−ｉｏｏ℃〜溶媒の沸点付近の任意の温度
で行なえばよく、さらに好ましくは、一３０℃〜室温付
近で行なえばよい。原料であるハロスルホンラクタムを
還元剤中に添加してもよく、またはハロスルホンラクタ
ムの溶液中に還元剤を添加してもよい。

この還元反応を行なったのちに、通常の方法にしたがっ
て加水分解、水洗、濃縮を行なうことにより、目的とす
るＮ一無置換のβ　−ラクタム化合物圓をうろことがで
きる。

本発明の方法によれば副生物である金属は水洗により無
害な塩として、アルキルハライドは濃縮により溶媒と共
に容易に留去される。

次に実施例をあげて本発明をさらに詳細に説明するが本
発明はこれらの実施例のみで限定されるものではない。

参考例１ ［　３−（１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエ
チル）−１−クロロスルホニル−４−トリメチルシリロ
キシーアゼチジン−２−オンの生成］ クロロスルホニルイソシアナート３５μｇをトルエンｄ
−８に溶解し、アルゴンガス雰囲気下で−７８℃まで冷
却し、−７０℃以下に保ちながら３−ｉｅｌｒｔ−ブチ
ルジメチルシリロキシブテ−ｌ−ニルトリメチルシリル
エーテル１００鳳ｇを添加した。

１時間後、この反応液の一部を抜き取り、−７０℃に液
体窒素で冷却した状態でＩＨ−ＮＭＲスペクトルを測定
した。原料の３−ｉ０ｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ
ープテ−１−ニルトリメチルシリルエーテルの１位プロ
トン（６．５ｐｐｍ付近、ｄ）と２位プロトン（５．２
ｐｐ一付近、一）のシグナルが消失し、新たに６．２ｐ
ｐ−（ＬＨ．ｄ）（ラクタム環４一位）、２．８ｐｐｍ
（ＩＨ．麿）（ラクタム環３一位〉にシグナノレを生じ
たことにより、８−（Ｌ−ｔｅｒｔ−プチルジメチルシ
リロキシエチル）−１−クロロスルホニル−４−トリメ
チルシリロキシーアゼチジン−２−オンの生成を認めた
。

実施例１ ［　（ｌＲ．４Ｒ）−３−［（Ｒ）−（１−ｔｅｒｔ−
ブチルジメチルシリロキシエチル）］−４−　トリメチ
ルシリロキシアゼチジン−２−オンの合成］ クロロスルホニルイソシアナート　０　．　７　ｍｌを
トルエンｌＯｍｌに加えたものをアルゴンガス雰囲気下
−７０℃に冷却したものの中に、３−（Ｒ）−ｔｅｒｔ
−ブチルジメチルシリロキシブテ−１−ニルトリメチル
シリルエーテル２．０ｇを反応液を−７０℃以下に保ち
ながら約５分間で滴下する。この反応液を−７０℃以下
に１時間放置したのち、２．ＯＭフェニルマグネシウム
クロリドのテトラヒドロフラン溶液４．４ｍｌを内温を
−７０℃以下に保ったまま約１０分間で滴下する。その
まま反応液を−７０℃以下に２０分間保ったのち、氷水
２　０　０　ｍｌ中に２ＮＨ２ＳＯ４を添加することに
よりｐＨを３〜７に保ちながら移送した。トルエン１０
　０　ｍｌを加え抽出し、分液したのち、トルエン層を
無水硫酸ナトリウムで乾燥した。このトルエン層をガス
クロマトグラフィーにより分析定量することにより目的
物である（３Ｒ．４Ｒ）−３−（Ｒ）−（１−ｔｅｒｔ
−プチルジメチルシリ口キシエチル〉−４−トリメチル
シリロキシアゼチジン−２−オンが１．３０ｇ生成して
いることを認めたく反応収率５６％〉。

さらに乾燥したトルエン溶液をエバポレーターで濃縮し
たのち、ヘキサン５＋ｎｍを加え溶解させ−３０℃に３
時間冷却すると針状結晶が析出した。これをグラスフィ
ルターでｔ戸遇し、冷ヘキサン２ｃｃでてばやく洗浄し
、乾燥して、純粋な３−（Ｒ）　　−［（Ｒ）−ｔｅｒ
ｔ−ブチルジメチルシリロキシエチル］−４−（Ｒ）−
　｝リメチルシリロキシーアゼチジン−２−オン０．８
ｇをえた。

’Ｈ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ．　ＣＤＣＩ　！）δ　（ｐ
ｐｍ）　　　：　　０．０９（ＣＨｓ　　Ｘ　　２．ｓ
）、　０．２０（ＣＨｓ　　Ｘ　　３．ｓ）、０．９０
（ＣＨｓ　Ｘ　３，ｓ）、１．２６（ＣＨｓ　，ｄ）　
、２．９６（ｌＨ．ｄｄ）　　、４．１３（ＩＨ，ｍ）
、５．３３（ｌＨ．ｄ）、７．２３（ＮＨ．ｂｒｏａｄ
） ｓ．ｐ：９５〜９Ｂ’Ｃ Ｃａｌ　　２Ｓ−−９．５°　（ｃ＝　１．０　、ＣＨ
Ｃ＃　３）Ｄ 実施例２ ［　（３Ｒ．４Ｒ）−３−［（Ｒ）−１−ｔａｒｔ−ブ
チルジメチルシリロキシエチル］−４−トリメチルシリ
ロキシーアゼチジン−２−オンの合成］ 実施例１のフェニルマグネシウムクロリドのＴＨＦ溶液
のかわりに２．ＯＭベンジルマグネシウムクロリドのＴ
ＩＩＰ溶液４．４ｍｌを用い、同様な操作を行ない、前
記目的物１；２７ｇが生成していることを認めた（反応
収率５５％〉。

実施例３ ［　（ｓＲ，４Ｒ）−ｓ−［（Ｒ）−１−ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリロキシエチル］　−４−　｝リメチル
シリロキシーアゼチジン−２−オンの合成］ クロロスルホニルイソシアナート０．３５ｍｌをトルエ
ン５ｃｃに加え、アルゴンガス雰囲気下、−７８℃まで
冷却し、３−（Ｒ）−ｔｅｒｔ−プチルジメチルシリロ
キシーブテーｌ−ニルトリメチルシリルエーテル１．０
ｇを滴下し、−７０℃以下に１時間保った。これとは別
の反応容器に、マグネシウム（リボン状）　８２３　１
ｇ，臭化ベンゼン２．７ｍｌおよびＴＩＰ　２５ｍｌよ
り調整したフェニルマグネシウムブロミド溶液をアルゴ
ン雰囲気下、−２０℃に冷却した。この溶液中に、先に
調整した環化反応液を保冷した移送管を通じて、グリニ
ャール反応液の温度が−ｌＯ℃以下に保たれるように移
液した。この際に、環化反応液の温度が−７０℃以上に
上がらないよう注意した。移液終了後、反応液を−１５
℃付近に１５分間放置し、氷水２００ｍｌ中に２ＮＨ２
ＳＯ４で９Ｈを３〜７に保ちながら添加した。トルエン
２００ｍｌで抽出し、分液し、乾燥したのち、トルエン
層をガスクロマトグラフィーにより分析することにより
、（ＳＲ，４Ｒ）−１−［（Ｒ）−ｌ−ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリロキシエチル１−４−トリメチルシリロ
キシアゼチジン−２−オンが０．８２ｇ含まれることが
わかった（反応収率５４％）。

実施例４ ［　（３Ｒ．４Ｒ）−３−［（Ｒ）−１−ｔｅｒｔ−プ
チルジメチルシリロキシエチル］−４−トリメチルシリ
ロキシアゼチジン−２−オンの合成］ 実施例３の臭化ベンゼンのかわりに臭化エチル１．９ｍ
ｌを用いて、実施例３と同様の操作を行なうことにより
、目的物０．５２ｇをえた（反応収率４５％）。

実施例５ ［　（３Ｒ．４Ｒ）−３−［（Ｒ）−ｔａｒｔ−ブチル
ジメチルシリロキシエチル】−４−トリメチルシリロキ
シアゼチジン−２−オンの合成〕 実施例３の臭化ベンゼンのかわりに臭化イソブロビル２
．４ｍｌを用いて実施例３と同様の操作を行なうことに
より、目的物０．５１１ｇをえたく反応収率５０％〉。

実施例６ ［　（ＳＲ．４Ｒ）−１−［（Ｒ）−ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリロキシエチル］−４−トリメチルシリロキ
シアゼチジン−２−オンの合成］ マグネシウム５３１■、塩化ベンゼン２．２ｍｌおよび
テトラヒドロフランｌ．８ｍｌより調整したフェニルマ
グネシウムクロリド溶液にトルエンｌ（１ｍｌを加えた
ものを還元剤として用いることにより、：ｌ−（Ｒ）−
ｔａｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエチルブテ−１−
ニルートリメチルシリルエーテル１．０ｇとクロロスル
ホニルイソシアナート０．８５ｍｌから−７０℃で調整
した環化反応物を実施例３と全く同様の操作を行なうこ
とによって、目的物０．８７ｇをえた（反応収率５Ｂ％
）。

実施例７ ［　（３Ｒ．４Ｒ）−３−［（Ｒ）−１−ｔｅｒｔ−プ
チルジメチルシリ口キシエチル〕−４−トリメチルシリ
ロキシアゼチジン−２−オンの合或］ 実施例３と同様にして、３−（Ｒ）−ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリロキシエチルブテー１−ニルトリメチルシ
リルエーテル１ｇとクロロスルホニルイソシアナー｝０
．３５ｍｌから−７０℃以下で調整した環化反応物を−
７０℃以下に保ったままｌ５％ｎ−ブチルリチウムのヘ
キサン溶液中にｎ−ブチルリチウム溶液が一ＢＯ℃以上
に上がらないように注意して添加した。添加終了後実施
例３と同様に加水分解、抽出、水洗、乾燥を行なうこと
により目的物０．５２ｇをえた（反応収率４５％）。

実施例８ ［　（３Ｒ．４Ｒ）−３−［（Ｒ）−１−［ジメチル−
（１，１．２〜トリメチルプロビル）シリロキシ］エチ
ル］−４−　｝リメチルシリロキシアゼチジン−２−オ
ンの合成］実施例１の３−（Ｒ）−ｔｅｒｔ−ブチルジ
メチルシリロキシーブテ−１−ニルトリメチルシリルエ
ーテルのかわりに３−（Ｒ）−［ジメチルー（１．１．
２−｝リメチルプロビル）シリロキシ〕−ブテーｌ−ニ
ル′トリメチルシリルエーテル２．２１ｇを用い、同様
の操作を行なうことにより加水分解、抽出後目的とする
（３Ｒ．４Ｒ）−３−［（Ｒ）−１−［ジメチル（１．
１．２−トリメチルプロピル）シリロキシ］エチル］−
４−トリメチルシリロキシアゼチジン−２−オン１．５
１ｇを含むトルエン溶液をえたく反応収率６ｏ％〉。こ
のトルエン溶液をロータリーエバポレータで濃縮し、真
空ポンプで完全にトルエンを留去した．この残渣にｎ−
ヘキサン５　ｍｌを加え、冷蔵庫に一晩放置し、析出し
た結晶を手早くグラスフィルターで濾過した。冷ヘキサ
ンで洗浄後乾燥し、純粋な（ａＲ，４Ｒ）−ａ−ｏ−（
Ｒ）−［ジメチル−（１，１．２−トリメチルブロピル
）シリロキシ］エチル］−４−　トリメチルシリロキシ
ーアゼチジン−２−オン１．１ｇを取得した。

１｝１−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ．　ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐ
ｍ）　　：　０．０２（Ｉ１ｉＨ．ｓ）、０．０８（９
Ｈ．ｓ）、０．７２（ＯＨ，Ｓ）、０．７５（６Ｈ．ｄ
）、１．１２（３Ｈ．ｄ）、１．５（ＩＨ，ｍ）、２．
８５（ＩＨ．ｄｄ）　、４．０８（ｌＨ．ｌ）、５．２
８（ＩＨ．ｄ）、８．４５（ＮＨ．ｂｒｏａｄ）実施例
９ ［　（３Ｒ．４Ｒ）−３−［（Ｒ）−１−ジメチルイソ
プロピルシリロキシエチル］−４−トリメチルシリロキ
シアゼチジン−２−オンの合成］ 実施例ｌの３−（Ｒ）−ｔｅｒｔ−プチルジメチルシリ
ロキシーブテーｌ−ニルトリメチルシリルエーテルのか
わりに、３−（Ｒ）一ジメチルイソプロビルシリロキシ
ーブテ−１−二ルートリメチルシリルエ一テル１．９ｇ
を用いて、同様な操作を行なうことにより目的物１．ｌ
ｌｇかえられたことを、ガスクロマトグラフィーで確認
した（反応収率５０％）。

これを実施例１と同じ方法でｎ−ヘキサンから再結晶す
ることにより、純粋な（ＩＲ，４Ｒ）−３−［（Ｒ）−
１−ジメチルイソブロビルシリロキシエチル］一４−ト
リメチルシリロキシアゼチジン−２−オン０．５ｇを取
得した。

’Ｈ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ．　ＣＤＣ＃３）δ（ｐｐＩ
１）　　：　０．０ｇ（ＣＨ３　Ｘ　２．Ｓ）、０．２
１（ＣＨ３　ｘ　３，ｓ）、１．２９（ＣＨＩ　，ｄ）
　、１．７５（ＬＨ．ｓ＋）、１．９８（ＣＨｓ　Ｘ２
．ｄ）、３．０５（ｌＨ．ｄｄ）　、４．２０（ＩＨ，
ａ）、５．３５（ｌＨ．ｄ）、６．９（ＮＨ．ｂｒｏａ
ｄ）〔発明の効果］ 本発明の製造法によれば、４一位にシリルエーテル基を
有し、β−ラクタム環のチッ素原子が無置換であるβ−
ラクタム化合物（自）を効率的に製造しうる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １　一般式（ I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＾１は水酸基の保護基、Ｒ＾２、Ｒ＾３およ
   びＲ＾４はそれぞれ同一または相異なるＣ＿１〜Ｃ＿６
   の低級アルキル基、フェニル基またはアラルキル基、Ｘ
   ＾１はハロゲン原子を示す）で表わされるβ−ラクタム
   化合物を有機溶媒中、一般式（II）： Ｒ＾５−Ｍ（II） （式中、Ｒ＾５はアルキル基もしくは置換アルキル基、
   フェニル基もしくは置換フェニル基またはアラルキル基
   、Ｍは金属またはハロゲン化金属を示す）で表わされる
   有機金属化合物により還元することを特徴とする一般式
   （III）：▲数式、化学式、表等があります▼（III） （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３およびＲ＾４は前記と
   同じ）で表わされるβ−ラクタム化合物の製造法。 ２　Ｒ＾１が一般式（IV）： ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） （式中、Ｒ＾６、Ｒ＾７およびＲ＾８はそれぞれ同一ま
   たは相異なるＣ＿１〜Ｃ＿６の低級アルキル基、フェニ
   ル基またはアラルキル基を示す）で表わされる基である
   請求項１記載の製造法。 ３　Ｒ＾１がｔ−ブチルジメチルシリル基である請求項
   １記載の製造法。 ４　Ｒ＾１がジメチルイソプロピルシリル基である請求
   項１記載の製造法。 ５　Ｒ＾１がジメチル−（１，１，２−トリメチルプロ
   ピル）シリル基である請求項１記載の製造法。 ６　Ｒ＾２、Ｒ＾３およびＲ＾４がメチル基である請求
   項１記載の製造法。 ７　Ｘ＾１が塩素原子である請求項１記載の製造法。 ８　還元に使用する有機金属化合物が、一般式（Ｖ）： Ｒ＾９−Ｍｇ−Ｘ＾２（Ｖ） （式中、Ｒ＾９はアルキル基もしくは置換アルキル基、
   フェニル基もしくは置換フェニル基、またはアラルキル
   基、Ｘ＾２はハロゲン原子を示す）で表わされるグリニ
   ャール試薬である請求項１記載の製造法。 ９　Ｒ＾９がフェニル基である請求項８記載の製造法。 １０　Ｒ＾９がベンジル基である請求項８記載の製造法
   。 １１　Ｒ＾９がエチル基である請求項８記載の製造法。 １２　Ｒ＾９がイソプロピル基である請求項８記載の製
   造法。 １３　還元に使用する有機金属化合物が、一般式（VI）
   ： Ｒ＾１＾０−Ｌｉ（VI） （式中、Ｒ＾１＾０はＣ＿１〜Ｃ＿６の低級アルキル基
   もしくは置換アルキル基、フェニル基もしくは置換フェ
   ニル基またはアラルキル基を示す）で表わされる有機リ
   チウム化合物である請求項１記載の製造法。 １４　Ｒ＾１＾０がｎ−ブチル基である請求項１３記載
   の製造法。