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JPH01254686A - セフエム化合物およびその製造法 - Google Patents

セフエム化合物およびその製造法

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Publication number
JPH01254686A
JPH01254686A JP63083580A JP8358088A JPH01254686A JP H01254686 A JPH01254686 A JP H01254686A JP 63083580 A JP63083580 A JP 63083580A JP 8358088 A JP8358088 A JP 8358088A JP H01254686 A JPH01254686 A JP H01254686A
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JP
Japan
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group
formula
compound
formulas
tables
Prior art date
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Pending
Application number
JP63083580A
Other languages
English (en)
Inventor
Sadao Hayashi
林 貞男
Akihito Mizutani
水谷 昭仁
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
KATAYAMA SEIYAKUSHIYO KK
Original Assignee
KATAYAMA SEIYAKUSHIYO KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by KATAYAMA SEIYAKUSHIYO KK filed Critical KATAYAMA SEIYAKUSHIYO KK
Priority to JP63083580A priority Critical patent/JPH01254686A/ja
Priority to EP19890303306 priority patent/EP0336705A3/en
Publication of JPH01254686A publication Critical patent/JPH01254686A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D501/00Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • C07D501/14Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
    • C07D501/16Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
    • C07D501/207-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
    • C07D501/247-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
    • C07D501/36Methylene radicals, substituted by sulfur atoms
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61PSPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P31/00Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
    • A61P31/04Antibacterial agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D501/00Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
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    • C07D501/16Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
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    • C07D501/247-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
    • C07D501/26Methylene radicals, substituted by oxygen atoms; Lactones thereof with the 2-carboxyl group
    • C07D501/34Methylene radicals, substituted by oxygen atoms; Lactones thereof with the 2-carboxyl group with the 7-amino radical acylated by carboxylic acids containing hetero rings
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は新規なセフェム化合物およびその製造法に関す
る。さらに詳しくは、抗菌活性を有し、抗菌剤などとし
て有用なセフェム化合物およびその製造法に関する。
[従来の技術・発明が解決しようとする課題]抗菌活性
を有するセフェム化合物としては、たとえばセフェム環
の3位にピリジルチオメチル基を有する化合物が特開昭
81−134390号公報などに報告されている。しか
しながら、これらは1−アルキルピリジルチオメチル基
を有する化合物であり、■−オキシピリジルチオメチル
基を有する化合物は合成されていない。またl−アルキ
ルピリジルオキシメチル基を有する化合物なども合成さ
れていない。
またセフェム環の3位に1−オキシ−2−ピリジルチオ
メチル基を有する化合物は西独国特許公開第27167
07号明細書に報告されている。しかしながら、これに
は該化合物の抗菌活性については報告されていない。
本発明の目的は、多くの病原菌に対して高い抗菌活性を
有するセフェム化合物およびその製造法を提供すること
にある。
本発明の他の目的は、前記セフェム化合物の中間体とし
て有用なセフェム化合物およびその製造法を提供するこ
とにある。
本発明のさらに他の目的は抗菌活性の高いセフェム化合
物またはその塩を有効成分1で含有する抗菌剤を提供す
ることにある。
[課題を解決するための手段] 本発明は、式: [式中、R1は水素基またはアミノ基保護基を、R2は
非置換または置換アルキル基を、Xは0結合基またはS
結合基を、)41は水素基、カルボキシル基保護基もし
くは陽イオンまたはCOOMIとしてカルボキシレート
イオンを意味し、R3は式: (式中、YlおよびYlは同一または異なっては水素基
、アルキル基、ハロゲン基、ヒドロキシル基またはオキ
ソ基を、Rはアルキル基を意味し、−X−基との結合手
はピリジン環の1位、3位または4位に位置している(
ただし、ピリジニウム環およびピリジン−N−オキシド
環のばあいは1位を除く))で表わされる基を意味する
(ただし、XがS結合基であるばあいは、式(n b)
で表わされる基を除く)]で表わされるセフェム化合物
またはその塩に関する。
また本発明は、式: [式中、R4はアミノ基保護基を、R5は非置換または
置換アルキル基(ただし置換アルキル基の置換基が反応
性基のばあいは保護基で保護されている)を、Mlは力
、ルボキシル基保護基を意味し、XおよびR3はそれぞ
れ前記と同じ基を意味する]で表わされるセフェム化合
物を脱酸素反応に付して、式: (式中、R4、R5、Ml、xおよびR3はそれぞれ前
記と同じ基を意味する)で表わされるセフェム化合物を
え、要すれば保護基を外すことを特徴とする式(1)で
表わされるセフェム化合物またはその塩の製造法に関す
る。
また本発明は、式: (式中、X′はハロゲン基を意味し、R4、R5および
Mlはそれぞれ前記と同じ基を意味する)で表わされる
3−ハロゲノメチルセフェム化合物と、式 %式% (式中、XおよびR3はそれぞれ前記と同じ基を意味す
る)で表わされるヒドロキシまたはメルカプトピリジン
誘導体とを反応させて、式;(式中、R4、R5、Ml
、xおよびR3i;t (−h (’ し前記と同じ基
を意味する)で表わされるセフェム化合物をえ、要すれ
ば保護基を外すことを特徴とする式(1)で表わされる
セフェム化合物またはその塩の製造法に関する。
さらに本発明は、式; (式中、R4、R5、Ml、xおよびR3ハソレソレ前
記と同じ基を意味する)で表わされるセフェム化合物ま
たはその塩に関する。
さらに本発明は、式: (式中、R4、R5、Mlおよび×1はそれぞれ前記と
同じ基を意味する)で表わされる3−ノ10ゲノメチル
セフエムー1−オキシド化合物と、式:%式%(110 (式中、XおよびR3はそれぞれ前記と同じ基を意味す
る)で示されるヒドロキシまたはメルカプトピリジン誘
導体とを反応させることを特徴とする式(III)で表
わされるセフェム化合物またはその塩の製造法に関する
さらに本発明は、前記式(1)で表わされるセフェム化
合物またはその塩を有効成分として含有する抗菌剤に関
する。
[実施例] 本発明のセフェム化合物は、式: [式中、R1は水素基またはアミノ基保護基を、R2は
非置換または置換アルキル基を、XはO結合基またはS
結合基を、Mlは水素基、カルボキシル基保護基もしく
は陽イオンまたはCOOMIとしてカルボキシレートイ
オンを意味し、R3は式: R または (式中、YlおよびYlは同一または異なっては水素基
、アルキル基、ハロゲン基、ヒドロキシル基またはオキ
ソ基を、Rはアルキル基を意味し、−X−基との結合手
はピリジン環の1位、3位または4位に位置している(
ただし、ピリジニウム環およびピリジン−N−オキシド
環のばあいは1位を除く))で表わされる基を意味する
(ただし、XがS結合基であるばあいは、式(II b
)で表わされる基を除<)]で表わされるものである。
前記式(I)において、R2で示されるアルキル基とし
では、たとえば炭素数1〜5個のものが好ましく、具体
的にはメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、
シクロプロピル、n−ブチル、l−ブチル、t−ブチル
、n−ペンチルなどがあげられる。
R2で示される置換アルキル基としては、たとえばヒド
ロキシル基、カルボキシル基、ハロゲン基、カルバモイ
ル基、カルボキシアミド基、アミノ基、N−オキシド基
などの置換基の1種もしくは2種以上で置換された炭素
数1〜5個のアルキル基が好ましく、具体的には2−ヒ
ドロキシプロピル、カルボキシメチル、カルバモイルメ
チル、■−メチルー1−カルボキシエチル、ジフルオロ
メチル、2−アミノエチル、N−オキシジメチルアミノ
エチルなどがあげられる。
式(1)におけるR3は、 [以下余白コ (Ila)      (IIb)         
 (Ilc)で表わされる基である。
R3においてYlおよびYlで示されるアルキル基とし
ては炭素数1〜5個のものが好ましく、ハロゲン基とし
てはクロロ基、フルオロ基が好ましい。式(n b)に
おけるRとしては炭素数1〜5個のものが好ましい。
基−X−R3の具体例としては、たとえば2 Hs などがあげられる。
式(I)においてR1で示されるアミノ基保護基として
は、たとえばブトキシカルボニル、ベンジルオキシカル
ボニル、ホルミル、クロロアセチルなどのカルボン酸残
基、ベンジル、メトキシベンジル、エトキシベンジル、
トリチルなどのアラルキル基など通常用いられるアミノ
基保護基がいずれも使用できる。
またHjで示されるカルボキシル基保護基としては、ペ
ニシリン、セファロスポリンの化学の分野で他の部分に
不都合な変化を起すことなく着脱可能なものとして知ら
れているカルボキシル基保護基がいずれも使用できる。
たとえばアラルキル基(ベンジル、メチルベンジル、ジ
メチルベンジル、メトキシベンジル、エトキシベンジル
、ニトロベンジル、アミノベンジル、ジフェニルメチル
、フタリジル、フェナシルなど)、非置換または置換ア
ルキル基(トリクロロエチル、t−ブチル、アリルなど
)、非置換または置換アリール基(ペンタクロロフェニ
ル、インダニルなど)、N−ヒドロキシイミノ基を有す
る化合物から誘導される基(たとえばアセトンオキシム
、アセトフェノンオキシム、アセトアルドキシム、N−
ヒドロキシコハク酸イミド、N−ヒドロキシフタルイミ
ドなどから誘導される基)、トリアルキルシリル基(ト
リメチルシリルなど)、炭酸またはカルボン酸から誘導
される、カルボキシル基と反応して酸無水物[たとえば
、−COOC−ORa 、 −COOC−Ra (ここ
でRaは低級アルキル基を意味する)]などを与える基
などがあげられる。置換アミド基、置換ヒドラジノ基な
どで反応性の高いものも本発明にいうカルボキシル基保
護基に包含されるものである。
とくに有用なカルボキシル基保護基は、医薬用に適する
ものとしてよく知られている、経口または非経口投与に
おいて強い抗菌活性を示す薬理学的活性エステルを与え
る保護基である。
かかる保護基としてはアルカノイルオキシアルキル基(
たとえばピバロイルオキシメチル、アセチルオキシメチ
ル、■−(アセチルオキシ)エチルなど)、アルコキシ
ホルミルオキシアルキル基(たとえば1−(1−プロピ
ルオキシカルボニルオキシ)エチル、■−(シクロへキ
シルオキシカルボニルオキシ)エチルなど)などの置換
アルキル基;フェナシル、フタリジルなどの置換アラル
キル基;フェニル、キシリル、インダニルなどの非置換
または置換アリール基などが使用できる。
Mlで示される陽イオンとしては、ナトリウム、カリウ
ムなどアルカリ金属のイオン、カルシウム、マグネシウ
ムなどのアルカリ土類金属のイオン、トリメチルアミン
、トリエチルアミン、ピリジン、ピコリン、ジシクロヘ
キシルアミン、N、N−ジベンジルエチレンジアミンな
どのアンモニウムイオンなどがあげられる。
本発明の化合物(1)の塩(COOMI以外の部分での
塩をいう)としては、酢酸、トリフルオロ酢酸、マレイ
ン酸、酒石酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸
、ギ酸、トルエンスルホン酸などのを機酸との塩、塩酸
、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸、リン酸などの無機
酸との塩、アルギニン、アスパラギン酸、グルタミン酸
などのアミノ酸との塩などがあげられる。
本発明の化合物(1)としては、式(1)においてR2
がメチル基または2−ヒドロキシ−1−プロピル基であ
る化合物が好ましい。
さらにXが0結合基であり、かつR3が、式(na)に
おいてYlおよびY2がいずれも水素基である基、もし
くはYiが水素基でありかつY2が4−オキソ基である
基、式(II b)においてRがエチル基で、ylおよ
びY2がいずれも水素基である基、または式(II c
)においてYlおよびY2がいずれも水素基である基で
ある化合物、あるいはXがS結合基であり、かつR3が
、式(n c)においてYlおよびY2がいずれも水素
基である基、またはYlが水素基でかつY2がフルオロ
基もしくはクロロ基である基である化合物が好ましい。
本発明の化合物(I)において、2−アミノチアゾール
基の部分の構造は、下記平衡式で示される互変異性体の
平衡状態にある。
(A)           (A’)互変異性体の両
者が平衡関係にあって互いに変化しうる状態にあること
はよく知られていることであって、このような異性体は
実質上同一化合物として認められるものである。本発明
においても、前記互変異性体(A)および(Ao)は共
に化合物(+)の範ちゅうに包含されるものである。
なお本発明においては、便宜上、前記互変異性体の基を
含む目的化合物および原料化合物を、それら互変異性体
の一方の表現法、すなわち2−アミノチアゾール基とい
う命令および式(A)を用いて示す。
また本発明の化合物+1)において、式:1lllN−
OR2で示す部分の構造には、二重結合の存在に基づく
幾何異性体、すなわち下記に示すシン異性体とアンチ異
性体が存在する。
シン        アンチ 本発明の化合物(I)は前記シン異性体およびアンチ異
性体のそれぞれ、およびそれらの混合物を含むものであ
る。
本発明の化合物(1)はつぎの方法により製造すること
ができる。
製造法1 ↑ ↓ 脱酸素反応 ↓必要により保護基脱離反応 化合物+1) 式(Iff)、■において、R4はアミノ基保護基を、
R5は非置換または置換アルキル基を、M2はカルボキ
シル基保tJ2!を意味し、XおよびR3はそれぞれ前
記と同じ基を意味する。
R4で示されるアミノ基保護基としては、前記式+1)
においてR1で示されるアミノ基保護基と同じものが用
いられる。
R5で示される非置換または置換アルキル基としては前
記式mにおいてR2で示される非置換または置換アルキ
ル基と−同じものが用いられる。
置換アルキル基の置換基が反応性基であるばあいは、保
護基で保護する。R5はこのように保護基で保護した置
換アルキル基を包含するものである。置換アルキル基の
置換基がヒドロキシル基のばあいはトリアルキルシリル
基(たとえばトリメチルシリルなど)、アミノ基のばあ
いはたとえばトリチル基、クロロアセチル基、t−ブト
キシカルボニル基、カルボキシル基のばあいはたとえば
ビフェニルメチル基、p−メトキシベンジル基またはp
−ニトロベンジル基などの保護基が用いられる。
M2で示されるカルボキシル基保護基としては、前記式
mにおいてMlで示されるカルボキシル基保護基と同じ
ものが用いられる。
化合物(II)中の一8〇−基を−8−基に還元して化
合物(至)をうる反応は、常用の還元剤、たとえば三塩
化リンなどのハロゲン化リンの存在下に行なうことがで
きる。またヨードカリウムの存在下アセチルクロライド
の作用で行なうことができる。
えられた化合物Nは、必要によりアミノ基保護基、カル
ボキシル基保護基、その他の保護基の脱離反応により、
抗菌活性の高いセフェム化合物に導くことができる。
カルボキシル基保護基の脱離には慣用のすべての方法、
たとえば加水分解、還元(R2−Pd/Cなど)、また
はルイス酸(トリフルオロ酢酸、塩化アルミニウムなど
)を用いる脱離反応などの方法を適用することができる
。この脱離反応はたとえばアニソール、ラエノールなど
の陽イオン捕捉剤の存在下に行なうのが好ましい。通常
はニトロメタン、塩化メチレン、ジエチルエーテル、二
硫化炭素のような溶媒中で行なわれるが、反応に悪影響
を及ぼさない溶媒であればその他いかなる溶媒中でも行
なうことができる。
またこれらの溶媒の混合物中でも行なうことができる。
アミノ基保護基の脱離反応には慣用のすべての方法を適
用することができる。たとえばトリチル基またはブトキ
シカルボニル基に対しては80%重量ギ酸またはトリフ
ルオロ酢酸などを、クロロアセチル基に対してはチオ尿
素などを、ベンジルオキシカルボニル基に対しては還元
剤(たとえばZn−酢酸またはPd/C触媒による水素
還元)などを、ホルミル基に対してはメタノール−塩酸
などを用いて行なうことができる。
製造法2 ↓ II X −R3(Vl) 前記式Mにおけるxiはハロゲン基を意味し、R4、R
5およびM2はそれぞれ前記と同じ基を意味し、前記式
■におけるXおよびR3はそれぞれ前記と同じ基を意味
する。
xlで示されるハロゲン基としては塩素基、臭素基、ヨ
ウ素基が好ましい。
3位にハロゲノメチル基を存するセフェム化合物Mとヒ
ドロキシまたはメルカプトピリジン誘導体面との反応は
水および有機溶媒系の三層間反応で行なうのが好ましく
、たとえば化合物Mを有機溶媒中に溶解し、これに化合
物■と触媒と塩基とを水に溶解した溶液を加えて、0〜
50℃、好ましくは10〜30℃で30分〜5時間程度
激しく撹拌することによって行なうことができる。
前記触媒としては、三層間反応で通常用いられている層
間移動触媒がいずれも用いられ、たとえばテトラブチル
アンモニウムブロマイド、ベンジルトリメチルアンモニ
ウムブロマイドなどの四級アンモニウム塩などがあげら
れる。
前記塩基としては炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム
、炭酸カリウム、水酸化カルシウムなどが用いられる。
前記有機溶媒としては水に難溶でかつセフェム化合物M
を溶解しうる溶媒であって、反応に支障を来さない溶媒
であればいずれも使用できるが、たとえば塩化メチレン
、酢酸エチルなどがあげられる。
なお化合物Mと化合物■との反応においては2−セフェ
ム化合物が副生するばあいかあり、そのばあいには2−
セフェム化合物を分離するか、あるいは副生じた2−セ
フェム化合物を周知の方法により3−セフェム化合物■
に変換する必要がある。
えられた化合物Nは、必要により、製造法1のばあいと
同様に保護基の脱離反応により抗菌活性の高いセフェム
化合物に導くことができる。
また化合物Mと化合物■との反応は三層間反応以外にも
、たとえば適当な溶媒(たとえばテトラヒドロフラン、
ジメチルホルムアミドなど)中で塩基の存在下に行なう
ことができる。しかしこのばあいは収率が三層間反応に
くらべて劣る。
製造法3 本発明の化合物(1)のうちで、Xが0結合基であり、
かつR3が である化合物はっぎのようにしてうろことかできる。
↓旧 に えられた化合物は製造法1のばあいと同様に、必要に応
じて保護基の脱離反応により抗菌活性の高いセフェム化
合物に導くことができる。
ヨウ化アルキル(R1)としては、たとえばヨウ化エチ
ルなどが使用される。
本発明の目的化合物(1)のうちで薬理学的活性エステ
ル(式(I)において141が薬理学的活性エステルを
与える保護基である化合物)は、化合物[1)のうちで
Mlが水素基、陽イオンまたは−COOM 1として−
000−である化合物と前記保護基を有するアルコール
化合物と反応することによって製造することもできる。
前記製造法1におけるセフェム−1−オキサイド化合物
器は新規な化合物である。この化合物(I)はつぎのよ
うに3−ハロゲノメチルセフェム−1−オキサイド化合
物■と前記化合物■との反応によりうろことができる。
[以下余白] ↓ II X −R3■ 化合物(III) 前記式■中におけるR4、R5,M2および×1は前記
と同じ基を意味する。
化合物−と化合物■との反応は製造法2における化合物
Mと化合物面との反応と同様にして行なうことができ、
とくに三層間反応によるのが好ましい。
製造法2おiび前記中間体化合物(Ilt)の製造にお
いて出発物質のうちの一方として用いられているピリジ
ン誘導体面のうち、メルカプトピリジン誘導体の中には
新規化合物も含まれており、それらはつぎのようにして
うろことができる。
すなわちクロロピリジン−1−オキシド体を、たとえば
エチルアルコールなどの溶媒中で水硫化ナトリウムと共
に加熱してメルカプトピリジン誘導体を製造することが
できる。
またピリジン環上にハロゲン基が2個存在する原料化合
物を用いるばあいは、つぎのように置換位置の異なった
2種のメルカプト体かえられる。
前記ヒドロキシピリジンまたはメルカプトピリジン誘導
体(Vllにおいては、ピリジン環の特異的挙動に起因
する互変異性体が含まれている。
たとえばピリジン誘導体のうち式■においてX化合物は
、たとえばっぎの平衡式で示される互変異性体(Vla
)と(Vlb)との平衡状態にある。
XがS結合基のばあいも同様である。
(Vla)      (Vlb) 前記ビリジノール化合物(Via)とピリドン化合物(
Vlb)との間のこの種の互変異性は当該分野では周知
のことであり、そのような互変異性体は事実上同一化合
物として考えることができる。本明細書においては便宜
上、化合物■のうちN−オキシド体は式: で表わすものとし、この式に即して命名するものとする
本発明の目的化合物(1)の有用性を示すために、その
代表的化合物について抗菌活性の試験結果を示す。
(1)試験化合物 1、 7−[(Z)−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−メトキシイミノアセトアミトコ −3−(ピ
リジン−3−イル)オキシメチルセフ−3−エム−4−
カルボン酸(シン異性体)と2分子のトリフルオロ酢酸
との塩 2 7−[(Z)−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−メトキシイミノアセトアミド]−3−(1−オ
キシ−ピリジン−4−イル)チオメチルセフ−3−エム
−4−カルボン酸(シン異性体)と2分子のトリフルオ
ロ酢酸との塩 3、 ナトリウム 7−[(Z)−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)−2−(2−ヒドロキシ−1−プロピ
ル)オキシイミノアセトアミトコ−3−(l−オキシピ
リジン−4−イル)チオメチルセフ−3−エム−4−カ
ルボキシレート(シン異性体)4、 ナトリウム ?−
[(Z)−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
メトキシイミノアセトアミド]  −3−(1−オキシ
−3−フルオロピリジン−4−イル)チオメチルセフ−
3−エム−4−カルボキシレート(シン異性体) 五 ナトリウム ?−[(Z)−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル)−2−メトキシイミノアセトアミド] 
 −3−(1−オキシ−4−クロロピリジン−3−イル
)チオメチルセフ−3−エム−4−カルボキシレート(
シン異性体) (2)試験結果 [以下余白コ 本1 スタフィロコッカス アウレウス(Staphy
lococcus aureus) 209P*2 エ
シェリヒア コリ(Esherichla Co11)
N I II J 前記試験は、寒天平板希釈法(日本化学療法学会の基準
による)により、培地としてミュラー・ヒントン培地−
バクト(Mueller HlntonlIlediu
m Bacto)  (デイフコ(Dlf’co)社製
)を用い、生菌数106/mlの接種菌量、37℃xi
g時間の培養条件で行なった。
本発明の目的化合物+1)は高い抗菌活性を示し、病原
性ダラム陽性菌およびダラム陰性菌を含む多くの病原菌
の生育を阻止する。したがって、よう、せり、熱傷様皮
膚症候群、画面症、各種臓器膿瘍、肺炎、尿路感染症、
敗血症、化膿性髄膜炎などの各種疾病の予防、治療のた
めの医薬、または動物薬として使用できる。また殺菌剤
、防腐剤、保存剤などとしても利用出来る。
医薬として使用するときは、要すれば常用の添加剤を加
えて製剤化し、これを化合物(I)換算で外用では10
μg〜1 mg、静脈注射では0.2〜5g、経口投与
では1〜2gの日用m(成人)で、外用、局所、経口お
よび注射などの常法により投与すれば感受性細菌感染症
を予防または治療することができる。
前記の製剤としてはアンプル剤、バイヤル剤、粉剤、ベ
レット剤、顆粒剤、カプセル剤、錠剤、ドライシロップ
剤、懸濁剤、液剤、乳剤、軟こう剤などとして注射剤、
内服剤、吸入剤、湿布剤、点眼剤、点鼻剤、点耳剤、口
腔剤、半割、スプレー剤などが例示でき、それらは内用
、外用または局所投与用などに適用できる。化合物(1
)のうち、カルボン酸アルカリ金属塩は静脈注射、点滴
、筋肉注射、皮肉注射、皮下注射用などに、要すれば安
定化剤や溶解補助剤とともにアンプル剤、バイヤル剤な
どの注射剤として使用できる。薬理学的活性エステルは
粉剤、ペレット剤、顆粒剤、カプセル剤、ドライシロッ
プ剤、液剤、錠剤、懸濁剤などとして内服用に、また液
剤、乳剤、軟こう剤、半割、スプレー剤などとして外用
ないし局所投与用に使用できる。
本発明の化合物(1)は、さらにその定義内外の抗菌化
合物の合成原料や細菌の感受性規定試験用材料として利
用することもできる。
つぎに実施例をあげて本発明を説明する。
実施例1 〔4−メトキシベンジル (BR,7R)−7−[(Z
)−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)
−2−メトキシイミノアセトアミド]−3−(ピリジン
−3−イル)オキシメチルセフ−3−エム−4−カルボ
キシレート−1−オキシド〕 4−メトキシベンジル(8R,7R)−7−[(Z)−
2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)−2
−メトキシイミノアセトアミド]−3−クロロメチルセ
フ−3−エム−4−カルボキシレート−i−オキシド1
.03gをアセトン30m1に溶解し、これにヨウ化ナ
トリウム240mgを加え室温で45分撹拌した。減圧
下に濃縮後水冷下炭酸ナトリウム78mg、水4 ml
、3−ヒドロキシピリジン145ff1g、塩化メチレ
ン15m1およびテトラ−n−ブチルアンモニウムブロ
マイド398a+gを加え30分間撹拌し、ついで室温
で1時間激しく撹拌後、酢酸エチル、氷および食塩水を
加えて酢酸エチルに抽出し、水洗後硫酸ナトリウムで乾
燥し、溶媒を留去後シリカゲル31gのカラムにメタノ
ール15容量96含存クロロホルム溶液で展開して目的
物140a+gをえた。
NMR(CD(J 3)δ: 3.75(5!(、b、
s、) 、4.01(3H。
S)、4.51(11I 、d%J−4,5)、4.7
7.5.23(211、ABQ%J−13) 、5.2
0(2HSS)、6.07(IH、dd、J−4,5,
9)、Ili、8G(111、!3)、8.82(21
1% dl」−9)、7.0 〜8.5(2211、M
)IR(CIICI) 3) 0111−1: 339
2.1805.1725.1673.1613、157
6 実施例2 (4−メトキシベンジル (6R,7R)−7−[(Z
)−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)
−2−メトキシイミノアセトアミド]−3−(ピリジン
−3−イル)オキシメチルセフ−3−エム−4−カルボ
キシレート〕 実施例1でえられた4−メトキシベンジル(8R,7R
)−7−[(Z)−2−(2−ト!J チル7 ミ/ 
チア ソール−4−イル)−2−メトキシイミノアセト
アミド]−3−(ピリジン−3−イル)オキシメチルセ
フ−3−エム−4−カルボキシレート−1−オキシド1
50■をアセトン7 mlに溶解し、水冷撹拌下ヨウ化
カリウム172II1gを加え、ついでアセチルクロラ
イド37μgを滴下し、3時間撹拌後、酢酸エチル、水
、食塩水および酸性亜硫酸ナトリウム水溶液を加え加温
下に振盪して酢酸エチルに抽出し、水洗後硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、溶媒を留去後残渣をシリカゲル571rの
カラムに酢酸エチルで展開して、目的物j 8tagを
えた。     ′NMR(CDCIりδ: 3.57
(2)1 、 b 、 S)、4.74(3H。
S)、4.01(311SS)、4.88.5.07(
2H、ABq 、 J=14) 、4.99(III、
d 、 J−4,5)、5.+7(21、S)、5.8
8(111、dd、 J−4,5,9)、8.59(I
II、S)、8.83(2H、d 、 J−9)、7゜
0〜L3  (22H、m) IR(CHCl 3) cs −” : 3407.1
787.1717.17o2.1812、1585、1
570 実施例3 ((BR,7R)−7−[(Z)−2−(2−7ミノチ
アゾールー4−イル)−2−メトキシイミノアセトアミ
ド]−3−(ピリジン−3−イル)オキシメチルセフ−
3−エム−4−カルボン酸・トリフルオロ酢酸2分子塩
〕実施例2でえられた4−メトキシベンジル(OR,7
R)−7−[(Z)−2−(2−トリチルアミノチアソ
−ルー4−イル)−2−メトキシイミノアセトアミド]
−3−(ピリジン−3−イル)オキシメチルセフ−3−
エム−4−カルホキシレー)78mgを塩化メチレン1
 mlに溶解し、水冷撹拌下にアニソール0.1mlを
、ついでトリフルオロ酢酸0.2mlを滴下し、1時間
撹拌後溶媒を留去し、残渣に再び水冷撹拌下トリフルオ
ロ酢酸0.35m1および水0.225 mlを滴下し
同温度で15分、ついで室温で1時間撹拌し、溶媒を留
去後、イソプロピルエーテルを加えて固化せしめ、濾取
して目的物45mgをえた。
NMR(DMSO−ds)δ: 3.70(211Sb
、s、) 、3.91(3H。
S)、4,93.5.06(2i15AB(+ 5J−
2)、5.1B(IHSd 5J−4,5)、5、(1
3(III 、ddSJ−4,5,8)、6.77(I
II 、 S)、7.22(ill 、 rp>、7.
59(2H、m)、8.30(Ill 、、l)、9.
6L(III 、 d 、 J−8)実施例4 〔4−メトキシベンジル(GR,7R)−7−[(Z)
−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)−
2−メトキシイミノアセトアミド]−3−(1−エチル
ピリジニウム−3−イル)オキシメチルセフ−3−エム
−4−カルボキシレート・アイオダイド〕 実施例2でえられた4−メトキシベンジル(8R,7R
)−7−[(Z)−2−(2−)ジチルアミノチアゾー
ル−4−イル)−2−メトキシイミノアセトアミトコ−
3−(ピリジン−3−イル)オキシメチルセフ−3−エ
ム−4−カルホキシレー)44mgをヨウ化エチル0.
7mlに溶解し、室温で17時間撹拌した。ヨウ化エチ
ルを留去し、石油エーテルで処理したのち、沼地して目
的物50mgをえた。
IR(ヌジョール) cm−’ : 32B1S178
B、1721.1689.1612.1583. 1289.1247.1223. 1175.1038.704 実施例5 (([iR,7R)−7−[(Z)−2−(2−7ミノ
ーF−7ゾールー4−イル)−2−メトキシイミノアセ
トアミド]−3−(L−エチルピリジニウム−3−イル
)オキシメチルセフ−3−エム−4−カルボキシレート
〕実施例4でえられた4−メトキシベンジル(8R,7
R)−7−[(Z)−2−(2−)ジチルアミノチアゾ
ール−4−イル)−2−メトキシイミノアセトアミド]
−3−(1−エチルピリジニウム−3−イル)オキシメ
チルセフ−3−エム−4−カルボキシレート・アイオダ
イド48ff1gを塩化メチレン1 mlに溶解し、水
冷撹拌下アニソール0.1mlを、ついでトリフルオロ
酢酸0.2mlを滴下し、45分撹拌後溶媒を留去し、
再び水冷し、トリフルオロ酢酸0.35m1および水0
 、175 mlを滴下し、室温で2時間撹拌後、溶媒
留去し、エーテルで処理したのち濾取し、炭酸水素ナト
リウム水溶液に溶解し、pl】3に調整後11P20(
三菱化成工業■製ポリスチレン樹脂)30mlのカラム
層を通し、凍結乾燥して目的物21mgをえた。
IR(ヌジョール) cm−1: 3132.1725
.1653.1598.1525.1032、 実施例6 〔4−メトキシベンジル(6R,7R)−7−[(Z)
−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)−
2−メトキシイミノアセトアミド]−3−(1−オキシ
ピリジン−3−イル)オキシメチルセフ−3−エム−4
−カルボキシレート−1−オキシド〕 4−メトキシベンジル(8R,7R)−7−[(Z)−
2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)−2
−メトキシイミノアセトアミド]−3−クロロメチルセ
フ−3−ニムー4−カルボキシレート−I−オキシド5
00mgをアセトン15m1に溶解し、水冷下ヨウ化ナ
トリウム141.mgを加え15分間撹拌し、さらに室
温で45分間撹拌後溶媒を留去し、残渣に炭酸ナトリウ
ム45ag、水2ml、3−ヒドロキシピリジン−1−
オキシド104mg、塩化メチレン9 mlおよびテト
ラ−n−ブチルアンモニウムブロマイド1501I1g
を加えて室温で2時間激しく撹拌後、酢酸エチル、氷、
炭酸水素ナトリウム水溶液および食塩水を加えて酢酸エ
チルに抽出し、水洗後硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を
留去後、残渣をシリカゲル60gのカラムに酢酸エチル
で展開して目的物130mgをえた。
NMR(CDCj 3)δ : 3.73(3HS S
)、3.92(2H、b。
s、)  、 4.00(311、S)、 4.70(
211、b、s、)  、5.03(1!I  、d 
 % J−4,5)、5.2(1(2)I  S S)
、6.07(IH、dd。
J−4,5,9)、8.63(IH、S)、6,80(
2HSd  、  J−8)、6.9〜8.0(22H
m) IR(ClIC# 3) cm −’  : 3397
.1804.1724.1677.1612、1585 実施例7 (4−1トキシベンジル(BR,7R)−7((Z)−
2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)−2
−メトキシイミノアセトアミド]−3−(1−オキシピ
リジン−3−イル)オキシメチルセフ−3−エム−4−
カルボキシレート〕 実施例6でえられた4−メトキシベンジル(8R,7R
)−7−[(Z)−2−(2−トリチルアミノチアゾー
ル−4−イル)−2−メトキシイミノアセトアミド]−
3−(1−オキシピリジン−3−イル)オキシメチルセ
フ−3−エム−4−カルボキシレート−1−オキシド1
40mgをアセトン6 mlに溶解し、水冷撹拌下ヨウ
化カリウム170111gを、ついでアセチルクロライ
ド37μgを加え1時間40分間撹拌後、酢酸エチル、
氷および酸性亜硫酸ナトリウム水溶液を加えて酢酸エチ
ルに抽出し、水洗後硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留
去し、残渣をシリカゲル57gのカラムに酢酸エチルで
展開して目的物80a1gをえた。
NMR(CDCJs) 6 : 3.77<311 、
、S)、3.90(2+1 、 b。
s、) 、4.00(311、、S)、4.65.4.
95(2+1 、ABq 、 J−14) 、5.05
(111、d 、 J−4,5)、5.93(III 
dd、 J−4,5,9)、8.83(II 、S)、
8.85(211、d 、 J−8)、6.9〜8.0
(22+1、ff1) IR(CIICI3)c+n−’ : 3401.17
95.1718、IB87.1614.1587 実施例8 ((13R,7R)−7−[(Z)−2−(2−アミノ
チアゾール−4−イル)−2−メトキシイミノアセトア
ミド]−3−(1−オキシピリジン−3−イル)オキシ
メチルセフ−3−エム−4−カルボン酸・トリフルオロ
酢酸2分子塩〕 実施例7でえられた4−メトキシベンジル(8R,7R
)−7−[(Z)−2−(2−)ジチルアミノチアゾー
ル−4−イル)−2−メトキシイミノアセトアミド]−
3−(l−オキシピリジン−3−イル)オキシメチルセ
フ−3−エム−4−カルボキシレート80agを塩化メ
チレン1 mlに溶解し、水冷撹拌下アニソール0.1
ml、)リフルオロ酢酸0.2mlを加え、45分撹拌
したのち室温で15分撹拌し、溶媒を留去後再び氷冷し
、トリフルオロ酢酸0.4mlおよび水0.15m1を
加えて室温で1.5時間撹拌し、溶媒を留去後エーテル
を加えて固化せしめ、濾取して目的物35mgをえた。
NMR(DMSO−da)δ: 3.85(31(%S
)、3.79(211%b。
s、)  、 5.01(111、d  % J=4.
5)、4.80.5.15(21+ 、 ABq%J−
14)、5.83(III 、dd、 J−4,5,9
)、8.73(IH、S)、6.7〜8 、2 (4H
IR(ヌジョール) cm−1: 3285.178L
 168B、1202、1136、1142 実施例9 〔4−メトキシベンジル(8R,7R)−7−[(Z)
−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)−
2−メトキシイミノアセトアミド]−3−(4−オキソ
−1,4−ジヒドロピリジン−1−イル)オキシメチル
セフ−3−エム−4−カルホキシート−1−オキシド]
4−メトキシベンジル (8R,7R)−7−[(Z)
−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)−
2−メトキシイミノアセトアミド]−3−クロロメチル
セフ−3−エム−4−カルボキシレート−1−オキシド
500Ifigをアセトン15m1に溶解し、ヨウ化ナ
トリウム120mgを加え室温で1.5時間撹拌し、畜
媒を留去したのち再び水冷し、炭酸ナトリウム40mg
水2ml、4−ヒドロキシピリジン−1−オキシド13
7mg、塩化メチレン7.8mlおよびテトラ−n−ブ
チルアンモニウムブロマイド120a+gを加え、室温
で2.5時間撹拌後溶媒を留去し、酢酸エチルに抽出し
、水洗後硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去後、残渣
をシリカゲル80gのカラム層にメタノール10容口%
含存酢酸エチルで展開し、目的物370mgをえた。
NMI? (CDCIt 3)  δ :  3.73
(311S S) 、 3.99(311S S) 、
G、63(III 、S)、6974〜7.67(21
+1、m) IR(KBr) cm(: 3351.2924.18
04.1725.108B、1512.1340.13
0[i、 1250.1174.1036.822.7
53.700実施例10 〔4−メトキシベンジル(6R,7R)−7−[(Z)
−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)−
・2−メトキシイミノアセトアミド]−3−(4−オキ
ソ−1,4−ジヒドロピリジン−1−イル)オキシメチ
ルセフ−3−エム−4−カルボキシレート〕 実施例9でえた4−メトキシベンジル (8R,7R)
−7−C(Z)−2−(2−1−リチルアミノチアゾー
ルー4−イル)−2−メトキシイミノアセトアミド]−
3−(4−オキソ−1,4−ジヒドロピリジン−1−イ
ル)オキシメチルセフ−3−エム−4−カルボキシレー
ト−1−オキシド370a+gをアセトン18.5ml
に溶解し、ヨウ化カリウム428a+gを加え、−10
℃で30分撹拌後、アセチルクロライド0 、93 m
lを加え、同温度で30分撹拌し、酸性亜硫酸ナトリウ
ム水溶液に加え、酢酸エチルで抽出し、水洗後硫酸ナト
リウムで乾燥し、溶媒を留去し、残渣をシリカゲル50
gのカラム層にベンゼンと酢酸エチルの混合溶媒(3:
 tg全量比で展開し、目的物100mgをえた。
NMR(CDCIt 3)δ: 3.37(ill 、
、d 、 J−19) 、3.77(311、S)、4
.00(III Sd 、 J−19)、4.04(3
11%S)、5.02<ill 、、d 。
J−5,fi)、5.26(2H、、S)、5.99(
III、dd、 J−5,8,9,0)、6.59(I
ll 、 s)、6.77〜7.71(2LH%III
)実施例11 [(13R,7R)−7−[(Z)−2−(2−7ミノ
チアゾールー4−イル)−2−メトキシイミノアセトア
ミド]−3−(4−オキソ−1,4−ジヒドロピリジン
−1−イル)オキシメチルセフ−3−エム−4−カルボ
ン酸・トリフルオロ酢酸塩〕 実施例10でえた4−メトキシベンジル (6R,7R
)−7−[(Z)−2−(2−トリチルアミノチアゾー
ル−4−イル)−2−メトキシイミノアセトアミド]−
3−(4−オキソピリジン−1−イル)オキシメチルセ
フ−3−エム−4−カルボキシレートID0mgを塩化
メチレン0.83m1に溶解し、水冷撹拌下アニソール
0.1mlおよびトリフルオロ酢酸0.16m1を加え
同温度で30分、さらに室温で30分撹拌後濃縮し、残
渣を再び氷冷しトリフルオロ酢酸0.47m1および水
0.23+nlを加え、同温度で30分、さらに室温で
40分撹拌後溶媒を留去し、エチルエーテルを加えて固
化せしめ、濾取して目的物32ff1gをえた。
NMR(DMSO−ds)δ: 3.71(2H、b、
s、) 、3.91(311。
S)、5.21(III 、d 、 J−5)、5.9
8(III 、dd、 J−5,8)、6.84(II
I、S)、7.24(211、S)、7.31(2+1
、S)、8.02(311、b、s、’) 、9.74
(Ill Sd 、 J−8) IR(KBr)c+n−1:  3274.1788.
1671.1540.1431.130B、 1204
、1137、1045、1007、+101  、 7
24 実施例12 〔4−メトキシベンジル (13R,7R)−7−[(
Z)−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル
)−2−メトキシイミノアセトアミド]−3−(1−オ
キシピリジン−4−イル)チオメチルセフ−3−エム−
4−カルボキシレート−1−オキシド〕 4−メトキシベンジル (61?、 7R)−7−C(
Z>−2−<2−トリチルアミノチアゾール−4−イル
)−2−メトキシイミノアセトアミド]−3=クロロメ
チルセフ−3−ニムー4−カルボキシレート500mg
をアセトン15m1に溶解し、ヨウ化ナトリウム121
mgを加え室温で1.5時間撹拌後、溶媒を留去し、残
渣を水冷し、炭酸ナトリウム40mgq水2ml、4−
メルカプトピリジン−I−オキシドL57mg 、テト
ラ−n−ブチルアンモニウムブロマイド120mgおよ
び塩化メチレン8 mlを加え同温度で1時間、さらに
室温で2時間撹拌復水10m1を加え、クロロホルムで
抽出し、水洗後硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去し
、残渣をシリカゲル31gのカラム層にクロロホルムで
展開し、目的物310mgをえた。
NMR(CDCff 3)δ : 3.31.4.11
(2+1  、ABQ  、  J−18,8) 、3
.77(311、S)、4.02(311、S)、4.
59(III 、d 、 J−4,8)、5.11(2
11%S)、6.01(III 、ddSJ−4,8,
10) 、6.[!7(III 、S)、6.77〜8
.13(21H1IIl) IR(KI3r) cm−1: 3374.2939.
1798.1725.1680゜1617.1520.
1470.1302.1250.1177.1037.
830.755.70B、実施例13 〔4−メトキシベンジル (81?、7R)−7−[(
Z)−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル
)−2−メトキシイミノアセトアミド]−3−(1−オ
キシピリジン−4−イル)チオメチルセフ−3−エム−
4−カルボキシレート〕 実施例12でえた4−メトキシベンジル (OR,7R
)−7−[(Z)−2−(2−トリチルアミノチアゾー
ル−4−イ ル)−2−メトキシイミノアセトアミド]
−3−(1−オキシピリジン−4−イル)チオメチルセ
フ−3−ニムー4−カルボキシレート−1−オキシド3
10ff1gをアセトン15.5mlに溶解し、ヨウ化
カリウム457a+gを加え、−20℃に冷却し30分
撹拌後、アセチルクロライド0 、78 mlを加え同
温度で30分、−8〜−5°Cでさらに30分撹拌した
のち反応液を酸性亜硫酸ナトリウム水溶液に加え、酢酸
エチルで抽出し、水洗後硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒
を留去し、残渣をシリカゲル18gのカラム層にメタノ
ールlO容量%含をクロロホルム溶液で展開し、目的物
240mgをえた。
NMR(CDCJ 3)δ: 3.50(211、b、
s、) 、3.71i(3H。
S)、3.95(311、S)、4.05(211。
b、s、) 、4.H(lit%d 、 J−4,4)
、5.12(2+1 、 S)、5.81(III 、
dd%J−4,4,8)、B、5B(III 、S)、
6.77〜7.34(18HSm)、7.92(21+
 、d 。
」−7)、8.39(ill  、  d  、  J
−8)IR(KBr)cm’  : 3374.293
9.1783.1718.1677.1614、151
5、 ■467、1363、1301.1242、 ■
175、1036.907 .887 .754  、
704  、60B 実施例14 ((G[?、7R)−7−[(Z)−2−(2−7ミノ
チアゾールー4−イル)−2−メトキシイミノアセトア
ミトコ−3−(1−オキシピリジン−4−イル)チオメ
チルセフ−3−ニムー4−カルボン酸・トリフルオロ酢
酸塩〕実施例13でえた4−メトキシベンジル (OR
,7R)−7−[(Z)−2−(2−トリチルアミノチ
アゾール−4−イル)−2−メトキシイミノアセトアミ
ド]−3−(1−オキシピリジン−4−イル)チオメチ
ルセフ−3−ニムー4−カルボキシレート2200gを
塩化メチレン2 mlに溶解し、−6℃に冷却したのち
アニソール0.22m1およびトリフルオロ酢酸0.3
6m1を加え、同温度で30分、さらに室温で2時間撹
拌し、溶媒を留去後、石油ベンジルおよびエチルエーテ
ルを加えて固化せしめ、濾取して目的物142+ngを
えた。
NMR(DMSO−d6 )δ: 3.74(211、
b、s、) 、3.92(311、S)、4.26(2
11、b、s、)、5.20(III 、d 、 J−
4,8)、5.78(IH、dd、 J−4,8,7,
8)、6.87(IH、、S>、7.05〜7.63(
511、、ff1)、8.35(2H、、d 、 J−
6,8)、9.89(IH、d 、、J−7,8)IR
(KBr)  c+n−’  : 30[12,177
0,1662,1176,1137,1043,835
,799,721,861実施例15 〔4−メトキシベンジル(8R,7R)−7−[(Z)
−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)−
2−メトキシイミノアセトアミド]−3−(1−オキシ
ピリジン−3−イル)チオメチルセフ−3−エム−4−
カルボキシレート−1−オキシド〕 4−Jトキ’、iベンジル(6R,7R)−7−[(Z
)−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)
−2−メトキシイミノアセトアミド]−3−クロロメチ
ルセフ−3−エム−4−カルボキシレート−1−オキシ
ド500Ilgと3−メルカプトピリジン−1−オキシ
ドl(iomgを用いて実施例9と同じ方法で反応およ
び処理を行ない目的物257mgをえた。
NMR(CDCI 3)δ: 3.79(311SS)
、4.47(10、d 。
J−15,4) 、4.94(IH、d 、 J−5,
0)、5.16(211%S)、5.53(ill 、
S)、5.98(LH、、dd、 J−5,0,7,4
)、6.55(LH、S)、6.71〜7.81(20
+!。
a+)、7.71〜8.81(4fl Sm)、9.8
3(III 、、d 、 J−7,4) IR(KBr) cm’ : 3377.2927.1
792.1725.1670.1611.1585.1
521.1467.1414.1291、1239、t
tei、 1096.1035.1012.912.7
52.700.877、実施例1G 〔4−メトキシベンジル (8R,7R)−7−[(Z
)−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)
−2−メトキシイミノアセトアミド]−3−(1−オキ
シピリジン−3−イル)チオメチルセフ−3−エム−4
−カルボキシレート〕 実施例15でえた4−メトキシベンジル (OR,7R
)−7−[(Z)−2−(2−トリチルアミノチアゾー
ル−4−イル)−2−メトキシイミノアセトアミトコ−
3−(1−オキシピリジン−3−イル)チオメチルセフ
−3−エム−4−カルボキシレート−1−オキシド21
9+++gをアセトン11m1に溶解し、これにヨウ化
カリウム332mgおよびアセチルクロライド0.57
m1を加え、その後実施例13のばあいと同様に反応、
処理して目的物183mgをえた。
NMR(CDCN 3)δ: 3.54(2HSb、s
、) 、3.79(311。
’  S)、4.02(3H,S)、5.01(111
、d 。
J−4,8)、5.11(211、S)、5.86(1
+1、dd、 J−4,8,8,7)、8.65(IH
SS)、8.78〜7.68(2211%l)、7.6
6〜8.36(3H、m) IR(KBr) cm−” : 3403.2934.
17811717.167B、lB10.1583.1
512.1489.1466.1446.1413.1
357、■296.1243.1172.1159.1
049.1035.1014.910  、754  
、702 実施例17 (ナトIJ ラム(8R,7R)−7−[(Z)−2−
(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−メトキシイ
ミノアセトアミド]−3−(1−オキシピリジン−3−
イル)チオメチルセフ−3−エム−4−カルボキシレー
ト〕実施例16でえた4−メトキシベンジル (8R,
7R)−7−[(Z)−2−(2−トリチルアミノチア
ゾール−4−イル)−2−メトキシイミノアセトアミト
コ−3−(1オキシピリジン−3−イル)チオメチルセ
フ−3−エム−4−カルボキシレート80II1gを塩
化メチレン0.7mlに溶解し、−5°Cに冷却し、撹
拌下アニソール0.08m1およびトリフルオロ酢酸0
.13m1を滴下し、同温度で30分、さらに室温で1
時間撹拌後溶媒を留去し、残渣を再び氷冷し、トリフル
オロ酢酸0.37m1、ついで水0.19m1を滴下し
、室温で2時間撹拌後、溶媒を留去し、n−へキサンお
よびエーテルで処理して目的物のトリフルオロ酢酸塩4
7 mgをえた。このものを炭酸水素ナトリウム水溶液
に溶解し、HP20の50 mlのカラムを通して精製
し、凍結乾燥して目的物をえた。
NMR(DMSO−da)δ: 3.84(311、S
)、4.15(IHSd 。
J−13,2)、4.54(III、 d 5J−13
,2)、4 、98 (111、d 、 J−4,4)
、5.57(IH、dd、 J−4,4、7,8)、8
.74(111、S)、7.02〜7.137(4+1
 。
a+)、7.90〜8.47(211、l)、9.52
(IH、d 、 J−7,8) IR(KI3r) crn−’ : 3415.175
7.1665.180B、 1531.1471、14
15.138(i、1355、■285.1224.1
178.1101%1039.910.793.089
.554 実施例18 [4−メ)キシベンジル(6R,7R)−7−[(Z)
−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)−
2−(2−)ジメチルシリルオキシ−1−プロピル)オ
キシイミノアセトアミド]−3−(1−オキシピリジン
−4−イル)チオメチルセフ−3−エム−4−カルボキ
シレート−1−オキシド〕 4−、+() −t−シ5 ンジル(OR,7R)−7
−[(Z)−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4
−イル)−2−(2−トリメチルシリルオキシ−1−プ
ロピル)オキシイミノアセトアミド]−3−クロロメチ
ルセフ−3−エム−4−カルボキシレート−1−オキシ
ド427mgをアセトン15m1に溶解し、ヨウ化ナト
リウム1140gを加え、室温にて45分撹拌後、酢酸
エチルに抽出し、水洗後硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒
を留去し、残渣を再び冷却し、炭酸ナトリウム44mg
、水2 ml s 4−メルカプトピリジン−1−オキ
シドL1711g、塩化メチレン8ml、ついでテトラ
−n−ブチルアンモニウムブロマイド124■gを加え
、室温にて45分間激しく撹拌後酢酸エチルに溶解し、
炭酸水素ナトリウム水溶液で水洗し、硫酸ナトリウムで
乾燥し、溶媒を留去後残渣をシリカゲル30gのカラム
層に酢酸エチルとアセトンの混合溶媒(1:4容量比)
で展開し、目的物302a+gをえた。
NMR(CD(J a)δ: 0J5(911、S)、
1.13(311、d 。
j−4)、3.32(IH、d 、 J−18)、3.
75(3H、S)、4.08(5H、b、s、)、4.
53(III  % d  、J−4,5)、5.07
(2+1  。
S)、6.00(ill  、dd、j−4,5,9)
、6、[13(III  、S)、(i、83(211
、、d  、  J−9)、7.0〜7.7(2011
5ffl)、7.8B(211、d  、  J−8,
5) IR(CllCN 3) cm −’  : 3397
.1802.1722.1700.1612、1585
、1512、1035、実施例19 〔4−メトキシベンジル (8R,7R)−7−[(Z
)−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)
−2−(2−トリメチルシリルオキシ−1−プロピル)
オキシイミノアセトアミド]−3−(1−オキシピリジ
ン−4−イル)チオメチルセフ−3−エム−4−カルボ
キシレート〕 実施例18でえられた4−メトキシベンジル(6R,7
R)−7−[(Z)−2−<2−)ジチルアミノチアゾ
ール−4−イル)−2−(2−)ジメチルシリルオキシ
−1−プロビル)オキシイミノアセトアミド]−3−(
1−オキシピリジン−4−イル)チオメチルセフ−3−
エム−4−カルボキシレート−1−オキシド302mg
をアセトン8.5mlに溶解し、水冷撹拌下ヨウ化カリ
ウム298ffig、ついでアセチルクロライド63μ
gを加え、以後実施例13のばあいと同様に反応処理し
て目的物25111mgをえた。
NMR(CDCN 3)δ: 0.90(9H、S)、
1.18(3H−1d1」−4)、3.51(2H、t
 、 J−18)、3.80(3H、S)、4.10(
5H、b、s、)、4.99(IHSd 、 J−4,
5)、5.18(2H。
S)、5.83(IH、dds J−4,5,9)、6
.70(111、S)、6.88(211、d 、 j
−9)、6.9〜7.8(1911、I)、7.83(
IH、d 、 J−9)、7.95(2+1 、d 。
J−8,5) IR(CHCl 3) cffI−1: 3413.1
787.1718.1811.1584.1513.1
035.929実施例20 (ナトIJ ’F A  (8R,7R)−7−[(Z
)−2−(2−7ミノチアゾールー4−イル)−2−(
2−ヒドロキシ−1−プロピル)オキシイミノアセトア
ミド]−3−(1−オキシピリジン−4−イル)チオメ
チルセフ−3−エム−4−カルボキシレート〕 実施例19でえられた4−メトキシベンジル(OR,7
R)−7−[(Z)−2−(2−トリチルアミノチアソ
ール−4−イル)−2−(2−トリメチルシリルオキシ
−1−プロピル)オキシイミノアセトアミド]−3−(
1−オキシピリジン−4−イル)チオメチルセフ−3−
エム−4−カルボキシレート25BII1gを用い、実
施例17と同様に反応、処理して、目的物50a+gを
えた。
NMR(DMSO−ds)δ: 1.07(311、d
 5J−4)、3.92(311、b、s、) 、4.
2g、4.48(211、ABq 、 J−14)、4
.99(III、dlJ−4,5)、5.58(LH,
、dd、 J−4,5,9)、6.70(IH,S)、
7.23(2H。
b、s、)、7.47.8.02(4+1、ABq 5
J−6,5)、9.48(LH、d 。
J−9) IR(ヌジョール) cm−” :・3290.178
1.16B1.1595、■532.1212、 1032、800 実施例21 〔4−メトキシベンジル (6R,7R)−7−[(Z
)−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)
−2−メトキシイミノアセトアミド]−3−(1−オキ
シ−4−クロロピリジン−3−イル)チオメチルセフ 
−3−エム−4−カルボキシレート−1−オキシド〕(
1)3−フルオロ−4−クロロピリジン−1−オキシド
[NMR(CDC13)δゴ、35(III、 dd、
 J−7,8)、8.07(ill、 dd、 J−1
,5,7)、8.27(III、dd、、J−1,5,
4,5)]の8883mを99容量%エタノール601
に溶解し、水硫化ナトリウム960mgを加え、70〜
80°Cで1.5時間加熱還流した。不純物を濾去し、
溶媒を留去し、残渣をエーテルで処理して、4−クロロ
−3−メルカプトピリジン−1−オキシド2[i5a+
gと3−フルオロ −4−メルカプトピリジン−1−オ
キシド4eamgをえた。
〔4−クロロ−3−メルカプトピリジン−1−オキシド
〕 NMR(DMSO−c16ン δ :3.57(III
、  b、s、)  、   fi、99(III、d
、J−7)、  7.40(III、dd、J−2,7
)、 8.11(111,d  、J−2)〔3−フル
オロ−4−メルカプトピリジン−1−オキシド〕 NMR(DMSO−do)δ:3,57(III、 b
、s、)  、 7.10(ill、t、  J−7)
、 7.43(LH,dd、  J−2,7)、 7.
88(111、dd、 J−2,4,5) (2)4−メトキシベンジル (6R1月υ−7−[(
Z)−2−(2−)ジチルアミノチアゾール−4−イル
)−2−メトキシイミノアセトアミド]−3−クロロメ
チルセフ−3−エム−4−カルボキシレート−1−オキ
シド500Bと前記(1)でえられた3−メルカプト 
−4−クロロピリジン−1−オキシド198Bを用い、
実施例18と同様に反応、処理して、目的物218Bを
えた。
NMR(CDC13)δ:3.7[i(5!L b、s
、)、 4.o2(5+1゜b、s、)、4.59(i
ll、 d 、 J−4,5)、5.16(2+1、S
)、8.02(III、 dd。
J−4,5,9)、8.88(III、S)、6.84
(2+1.d  、J−9)、  7.0〜7.7(1
91L  m)、 7.83(III、dd。
J−1,5,7)、 8.12(ill、d  S J
−■、5) IR(CIICIx)cll :  3405.180
2.1724.1685.1614、1588、151
G、 1049、実施例22 C4−1)キシベンジル(6R,7R)−7−[(Z)
−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)−
2−メトキンイミノアセトアミド]−3−(1−オキシ
−3−フルオロピリジン−4−イル)チオメチルセフ−
3−エム−4−カルボキシレート −l−オキシド〕4
−メトキシベンジル (GR,7R)−7−[(Z)−
2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)−2
−メトキシイミノアセトアミド]−3−クロロメチルセ
フ−3−エム−4−カルボキシレート−1−オキシド5
00Bと前記実施例21、(1)でえられた3−フルオ
ロ −4−メルカプトピリジン −■−オキシド179
mgを用い、実施例18と同様に反応、処理して、目的
物233mgをえた。
NMR(CDC13)δ:3.34.4.12(2+1
、ABq 、 J−18)、3.79(311,S)、
4.05(511,b、s、)、4.55(Ill、d
 、 J−4,5)、5.07(211、S)、6.0
3(IIISdd、 J−4,5,9)、8.85(i
llSS)、6.85(211,d 5J−9)、7.
0〜7.7(1811,m)、7 、73 (I II
、b、s)、7.80(ill、dd、 J−1,5,
6)、7.9B111、dd、 J−1,5,4,5)
実施例23 〔4−メトキシベジル (OR,7R)−7−[(Z)
−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)−
2−メトキシイミノアセトアミド]−3−(1−オキシ
−4−クロロピリジン−3−イル)チオメチルセフ−3
−エム−4−カルボキシレート〕 実施例21でえられた4−メトキシベンジル(BR,7
R)−7−[(Z)−2−(2−トリチルアミノチアゾ
ール−4−イル)−2−メトキンイミノアセトアミドコ
ー3−(1−オキシ−4−クロロピリジン−3−イル)
チオフチルセフ−3−エム−4−カルボキシレート −
l−オキシド218Bを9mlのアセトンに溶解し、水
冷撹拌下ヨウ化カリウム219mgとアセチルクロライ
ド47μmを加え、それ以降実施例13と同様に反応処
理して、目的物204[をえた。
NMR(CDC13)δ:3.58(211、b、s、
)、3.80(3+1. S)、4.04(511、b
、s、)、5.04(III、 d 。
J−4,5)、5.13(2+1、S)、5.88(I
II%dcl、 J−4,5,9)、6.89(III
S)、8.87(211、d 、 J−9)、7.0〜
7.7(1911、ff1)、7 、90 (I II
、dd。
J−2,7)、8.18(IH,d 、 J−2)IR
(C11C]3)8+11−1: 3410.1788
.1721.1679.1811、15H11517,
1043、実施例24 [ナトリウム(8R,7R)−7−[(Z)−2−(2
−7ミ/ チアゾール−4−イル)−2−メトキシイミ
ノアセトアミド]−3−(1−オキシ−4−クロロピリ
ジン−3−イル)チオメチルセフ−3−エム−4−カル
ボキシレート〕 実施例23でえられた4−メトキシベンジル(6R,7
R)−7−[(Z)−2−(2−) IJチルアミノチ
アゾール−4−イル)−2−メトキシイミノアセトアミ
ド]−3−(1−オキシ−4−クロロピリジン−3−イ
ル)チオメチルセフ−3−エム−4−カルボキシレート
204 m9を用い、実施例17と同様に反応、処理し
て、目的物28111;lをえた。
NMR(DMSO−ds )δ:3.45(211、b
、s、)、3.85(3HSb、s、)、4.37<2
11、b、s、)、5.02(IHSd 。
J−4,5)、5.57(III、、dd。
J−4,5,9)、6.71(IHS、 S’)、7.
15(2+1、b、s、)、7.45(III。
d 、 J−6)、7.99(LH,dd。
J−2,8)、8.58(111%d1J−2)、9.
48(III、 d 、 J−9)IR(ヌジョール)
 cm−’ : 3357.1760.1663.16
02.1533.1040 実施例25 [4−メ)キシベンジル(6R,7R)−7−[(Z)
−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)−
2−メトキシイミノアセトアミド] −3−(1−オキ
シ−3−フルオロピリジン−4−イル)チオメチルセフ
−3−エム−4−カルボキシレート〕 実施例22でえられた4−メトキシベンジル(6R,7
R)−7−[(Z) −2−(2−トリチルアミノチア
ゾール−4−イル)−2−メトキシイミノアセトアミド
]−3−(1−オキシ−3−フルオロピリジン−4−イ
ル)チオメチルセフ−3−エム−4−カルボキシレート
−1−オキシド233 mgをアセトン10m1に溶解
し、ヨウ化カリウム2531Klとアセチルクロライド
54μ!を加え、それ以降実施例13と同様に反応、処
理して、目的物192mQをえた。
NMR(CDCIりδ:  3.55(211、b、s
、)、3.80(ill、S)、4.02(511、b
、s、)、4.99(1)1. d 、 J−4,5)
、5.10(2+1゜S)、5.84(III、ddS
J−4,5,9)、fi、B3(ill、S)、8.8
8(2H%d1」−9)、8.8〜7.4(19H,m
)、7.65(111% d  、J−9)、 7.8
7(III。
dd、J−1,5、’!’)、 8.01(ill、d
d。
J−1,5、4,5) IR(CIICIりCa1−’  : 3422.17
89.1720.1686.1614、1587、15
18、1042、実施例26 〔ナトリウム (6R,7R)−7−[(Z)−2−(
2−アミノチアゾール−4−イル)−2−メトキシイミ
ノアセトアミド] −3−(1−オキシ−4−フルオロ
ピリジン−4−イル)チオメチルセフ−3−エム−4−
カルボキシレート〕 実施例25でえられた4−メトキシベンジル(6R,7
R)−7−[(Z)−2−(2−)リチルアミノチアゾ
ールー4−イル)−2−メトキシイミノアセトアミド]
−3−(1−オキシ−3−フルオロピリジン−4−イル
)チオメチルセフ−3−エム−4−カルボキシレート1
92TKlを用い、実施例17と同様に反応、処理して
、目的物25mgをえた。
NMR(DMSO−da )δ:3.45(211Sb
、s、)、3.85(3+1  、S)、  4.25
 、 4.35(211゜ABq  、J=14)  
、  4.98(IH,、d  。
J−4,5)、  5.57(ill、dd。
J−4,5,9)、 6.72(III、  S)、7
.16(2+1、b、s、)  、  7.7〜8.2
(211、m)、  8.36(IIL  dd。
J−1,5,5)、 9.50(IHldlJ−9) IR(ヌジョール) cm−’ : 3305.175
8.1663.1601、1532、1284. 1165、1037 実施例27 〔4−メトキシベンジル(6R,7R)−7−[(Z)
−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)−
2−メトキシイミノアセトアミド] −3−(1−オキ
シピリジン−4−イル)チオメチルセフ−3−エム−4
−カルボキシレート〕 4−メトキシベンジル (6R,7R)−7−[(Z)
−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)−
2−メトキシイミノアセトアミド] −3−(ヨードメ
チルセフ−3−エム−4−カルボキシレート[NMR(
CDC13)δ :  3.44(III、d  、、
J−18,4)  、  3.89(ill、  d 
 。
J−18,4)  、 3.75(311,S>、 4
.05(311、S)、4.33(2H,S)、 4.
95(ill、d  S J−4,8)、  5.18
(211、S)、  5.77(IH,dd、J−4,
6、8,6)、6.52(111S S)、 6.73
〜7.[14(21HS m);  IR(KBr)c
m’  : 340g、2950..1791.172
5.1684.1619、1521、1453、139
0、1366、1308、1251.1186.104
5.832.764.711]の88mgを塩化メチレ
ン 1 、311に溶解した溶液に炭酸ナトリウム8.
5mg、水0.3311、テトラ−n−ブチルアンモニ
ウムブロマイド19.5[および4−メルカプトピリジ
ン−1−オキシド28mgを加え1時間撹拌し、さらに
室温で2時間撹拌したのち、クロロホルムを加えて抽出
し、水洗後硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去し、残
渣をシリカゲル25gのカラム層にメタノール10容量
%含有クロロホルムで展開して、目的物33TIIC+
をえた。このものは実施例13でえた化合物と同一物で
あった。
この化合物のほかに4−メトキシベンジル(8R,7R
)−7−[(Z)−2−(2−)ジチルアミノチアゾー
ル−4−イル)−2−メトキシイミノアセトアミド]−
3−(1−オキシピリジン−4−イル)チオメチルセフ
−2−エム−4−カルボキシレート2511gかえられ
た。
NMR(CDC13)δ:  3.70(2H%b、s
、)、3.81(3H、S)、3.94(3H,S)、
5.14(2+1、S)、5.27 (IHSS)、5
.27 (Ill 、 d 、 J−4,0)、5.7
1(IH,dd、 J−4,0,9,0)、6.14(
LH,S)、6 、62 (l II、S)、6.80
〜8.38(2511、a+)IR(KBr)c+n−
’ : 3407.2931.1777.1738.1
675.16■2.1514.1491.1466.1
445.1384.1247.1175.1035、8
44.828.753.702 実施例28 〔4−メトキシベンジル (6R,7R)−7−[(カ
ー2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)−
2−メトキシイミノアセトアミド] −3−(1−オキ
シピリジン−4−イル)チオメチルセフ−3−エム−4
−カルボキシレート−1−オキシド〕 ジメチルホルムアミド3 mlに水冷撹拌下4−メルカ
プトピリジン−1−オキシド32mgを加え、炭酸カリ
ウム15mgを加え室温で30分撹拌後、再び水冷し、
4−メトキシベンジル (OR,7R)−7−((Z)
−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)−
2−メトキシイミノアセトアミトコ−3−クロロメチル
セフ−3−エム−4−カルボキシレート −1−オキシ
ド100 mQを加え、室温で2時間撹拌後溶媒を留去
し、残渣にクロロホルムを加えて抽出し、水洗後硫酸ナ
トリウムで乾燥し、溶媒を留去し、残渣をシリカゲル3
0gのカラム層にメタノール10容量%含有クロロホル
ム溶液で展開して、目的物30mgをえた。このものは
実施例12でえた化合物と同一であった。
実施例29 〔ピバロイルオキシメチル(BR,7R)−7−[(Z
)−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−メ
トキシイミノアセトアミトコ−3−(1−オキシ−3−
フルオロピリジン−4−イル)チオメチルセフ−3−エ
ム−4−カルボキシレート〕 ピバリン酸クロロメチル15μlをアセトン3mlに溶
解し、室温で1時間撹拌したのち溶媒を留去し、残渣を
ジメチルホルムアミド0 、7 mlに溶解し、この溶
液中に水冷撹拌下戻酸ナトリウム22TIKlおよびナ
トリウム (6R,7R)−7−((Z)−2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)−2−メトキシイミノア
セトアミド]−3−(1−オキシ−3−フルオロピリジ
ン−4−イル)チオメチルセフ−3−エム−4−カルボ
キシレート(実施例2Bでえられたもの)44■を加え
30分撹拌し、さらに室温で30分撹拌し、酢酸エチル
を加えて抽出し、水洗後硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒
を留去し、残渣をシリカゲルlOgのカラム層にメタノ
ール5容量%含有クロロホルムで展開し、目的物t5m
aをえた。
IR(CIIClx)■−1: 3473.3398.
1781S1751.1655.1608.1112.
1035、[発明の効果] 本発明の化合物は高い抗°菌活性を示し、各種感受性細
菌感染症の予防または治療薬として有用である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 式: ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中、R^1は水素基またはアミノ基保護基をR^2
    は非置換または置換アルキル基を、Xは0結合基または
    S結合基を、M^1は水素基、カルボキシル基保護基も
    しくは陽イオンまたはCOON^1としてカルボキシレ
    ートイオンを意味し、R^3は式; ▲数式、化学式、表等があります▼(IIa) ▲数式、化学式、表等があります▼(IIb) または ▲数式、化学式、表等があります▼(IIc) (式中、Y^1およびY^2は同一または異なっては水
    素基、アルキル基、ハロゲン基、ヒドロキシル基または
    オキソ基を、Rはアルキル基を意味し、−X−基との結
    合手はピリジン環の1位、3位または4位に位置してい
    る(ただし、ピリジニウム環およびピリジン−N−オキ
    シド環のばあいは1位を除く))で表わされる基を意味
    する(ただし、XがS結合基であるばあいは、式(IIb
    )で表わされる基を除く)]で表わされるセフェム化合
    物またはその塩。 2 R^2がメチル基または2−ヒドロキシ−1−プロ
    ピル基である請求項1記載のセフェム化合物またはその
    塩。 3 Xがお結合基であり、かつR^3が、式(IIa)に
    おいてY^1およびY^2がいずれも水素基である基、
    もしくはY^1が水素基でありかつY^2が4−オキソ
    基である基、式(IIb)においてRがエチル基で、Y^
    1およびY^2がいずれも水素基である基、または式(
    IIc)においてY^1およびY^2がいずれも水素基で
    ある基である請求項1記載のセフェム化合物またはその
    塩。 4 XがS結合基であり、かつR^3が、式(IIc)に
    おいてY^1およびY^2がいずれも水素基である基、
    またはY^1が水素基でかつY^2がフルオロ基もしく
    はクロロ基である基である請求項1記載のセフェム化合
    物またはその塩。 5 式: ▲数式、化学式、表等があります▼(III) [式中、R^4はアミノ基保護基を、R^5は非置換ま
    たは置換アルキル基(ただし、置換アルキル基の置換基
    が反応性基のばあいは保護基で保護されている)を、M
    ^2はカルボキシル基保護基を意味し、XおよびR^3
    はそれぞれ前記と同じ基を意味する]で表わされるセフ
    ェム−1−オキシド化合物を脱酸素反応に付して、式: ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) (式中、R^4、R^5、M^2、XおよびR^3はそ
    れぞれ前記と同じ基を意味する)で表わされるセフェム
    化合物をえ、要すれば保護基を外すことを特徴とする請
    求項1記載のセフェム化合物またはその塩の製造法。 6 式: ▲数式、化学式、表等があります▼(V) (式中、X′はハロゲン基を意味し、R^4、R^5お
    よびM^2はそれぞれ前記と同じ基を意味する)で表わ
    される3−ハロゲノメチルセフェム化合物と、式: H−X−R^3(VI) (式中、XおよびR^3はそれぞれ前記と同じ基を意味
    する)で表わされるヒドロキシまたはメルカプトピリジ
    ン誘導体とを反応させて、式: ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) (式中、R^4、R^5、M^2、XおよびR^3はそ
    れぞれ前記と同じ基を意味する)で表わされるセフェム
    化合物をえ、要すれば保護基を外すことを特徴とする請
    求項1記載のセフェム化合物またはその塩の製造法。 7 式(V)で表わされる化合物と式(VI)で表わされ
    る化合物との反応を、層間移動触媒を用い、水および有
    機溶媒系の二層間反応により行なう請求項6記載の製造
    法。 8 式: ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、R^4、R^5、M^2、XおよびR^3はそ
    れぞれ前記と同じ基を意味する)で表わされるセフェム
    化合物またはその塩。 9 式: ▲数式、化学式、表等があります▼(VII) (式中、R^4、R^5、M^2およびX^1はそれぞ
    れ前記と同じ基を意味する)で表わされる3−ハロゲノ
    メチルセフェム−1−オキシド化合物と、式: H−X−R^3(VI) (式中、XおよびR^3はそれぞれ前記と同じ基を意味
    する)で示されるヒドロキシまたはメルカプトピリジン
    誘導体とを反応させることを特徴とする請求項8記載の
    セフェム化合物またはその塩の製造法。 10 式(VII)で表わされる化合物と式(VI)で表わ
    される化合物との反応を、層間移動触媒を用い、水およ
    び有機溶媒系の二層間反応により行なう請求項9記載の
    製造法。 11 請求項1記載のセフェム化合物またはその塩を有
    効成分として含有することを特徴とする抗菌剤。
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