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JPH01213363A - Polyorganosiloxane composition - Google Patents

Polyorganosiloxane composition

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Publication number
JPH01213363A
JPH01213363A JP3656988A JP3656988A JPH01213363A JP H01213363 A JPH01213363 A JP H01213363A JP 3656988 A JP3656988 A JP 3656988A JP 3656988 A JP3656988 A JP 3656988A JP H01213363 A JPH01213363 A JP H01213363A
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JP
Japan
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polyorganosiloxane
gel
bonded
silicon atom
composition
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JP3656988A
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Masayuki Ikeno
正行 池野
Hironao Fujiki
弘直 藤木
Mikio Shiono
巳喜男 塩野
Yuji Hinoto
日戸 悠治
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Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain the above composition free from change in physical properties even by potting to form multiple layers, curable to a stable gel and suitable for insulation coating of electrical and electronic parts, etc., by compounding a specific polyorganosiloxane with a catalyst for addition reaction. CONSTITUTION:The objective composition is produced by compounding (A) a polyorganosiloxane in which the ratio of vinyl group and hydrogen atom. in whole side chain bonded to silicon atom. is 0.1-4mol.%, preferably 0.2-2mol.% each on an average and the ratio of vinyl group bonded to silicon atom. to hydrogen atom. bonded to silicon atom. is 0.8-3 with (B) 0.1-100ppm, preferably 3-20ppm of a catalyst for addition reaction (e.g., chloroplatinic acid).

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ポリオルガノシロキサン組成物に関し、特に
多層にポツティングしても安定な物性を有するゲルに硬
化するポリオルガノシロキサン組成物に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a polyorganosiloxane composition, and more particularly to a polyorganosiloxane composition that hardens into a gel having stable physical properties even when potted in multiple layers.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

シリコーンゴムのゲル状硬化物(以下、シリコーンゲル
と言う)は、その優れた電気絶縁性、電気特性の安定性
及び柔軟性を利用して、電気・電子部品のポツティング
、封止用として、特にパワートランジスター、IC,コ
ンデンサーなどの制御用回路素子を被覆し熱的及び機械
的障害から保護するために使用されている。
Gel-like cured products of silicone rubber (hereinafter referred to as silicone gel) are particularly useful for potting and sealing electrical and electronic parts, taking advantage of their excellent electrical insulation properties, stability of electrical properties, and flexibility. It is used to cover control circuit elements such as power transistors, ICs, and capacitors to protect them from thermal and mechanical damage.

このシリコーンゲルを形成するために、従来より各種の
方法が知られている。例えばケイ素原子に結合したビニ
ル基を有するポリオルガノシロキサンと、ケイ素原子に
結合した水素原子を有するポリオルガノハイドロジエン
シロキサンとからなる組成物を白金化合物の存在下に架
橋反応させてゲル状に硬化したポリオルガノシロキサン
を得る方法がある。
Various methods are conventionally known for forming this silicone gel. For example, a composition consisting of a polyorganosiloxane having a vinyl group bonded to a silicon atom and a polyorganohydrodiene siloxane having a hydrogen atom bonded to a silicon atom is subjected to a crosslinking reaction in the presence of a platinum compound and cured into a gel form. There are ways to obtain polyorganosiloxane.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

ところで、半導体素子をターミナル等にはんだ付けする
際に、熱及びはんだ飛沫から保護するため、−旦、シリ
コーンゲルで半導体素子を被覆して保護膜(第1層ゲル
)を形成した後、ターミナル等のはんだ付けをし、次い
でその表層に、本来の目的である保護層(第2層ゲル)
を形成することが行われる。この第2層ゲルを形成する
ために、上記従来の方法によると、第2層の形成のため
にポツティングした組成物中のポリオルガノハイドロジ
エンシロキサンが第1層ゲル中に浸透し、第2層ゲルの
組成物中の官能基のバランスが狂ってしまうことがある
。そのため、第2層の硬化時に予定したゲル物性が得ら
れず、第2層のゲル状物中にビニル基が残存し、耐熱性
が低下する原因となる。さらに架橋されなかったポリシ
ロキサンが第2層の表面ににじみ出して他の部品を汚染
するという問題があった。
By the way, when soldering a semiconductor element to a terminal, etc., in order to protect it from heat and solder splash, the semiconductor element is first coated with silicone gel to form a protective film (first layer gel), and then the terminal, etc. solder, and then apply a protective layer (second layer gel) on the surface layer, which is the original purpose.
is carried out. In order to form this second layer gel, according to the above conventional method, the polyorganohydrodiene siloxane in the composition potted for forming the second layer penetrates into the first layer gel, and the second layer gel is formed. The balance of functional groups in the gel composition may be upset. Therefore, the expected gel properties cannot be obtained when the second layer is cured, and vinyl groups remain in the gel-like material of the second layer, which causes a decrease in heat resistance. Furthermore, there is a problem in that the uncrosslinked polysiloxane oozes out onto the surface of the second layer and contaminates other parts.

そこで本発明の目的は、多層にボッティングしても物性
が変化せず、安定なゲル状物に硬化することができるポ
リオルガノシロキサン組成物を提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to provide a polyorganosiloxane composition that can be cured into a stable gel-like material without changing its physical properties even when it is bobbed into multiple layers.

C問題点を解決するための手段〕 本発明は、上記問題点を解決するものとして、(A)ケ
イ素原子に結合した側基全体におけるビニル基及び水素
原子の割合が、それぞれ平均で0.1〜4.0モル%で
あるポリオルガノシロキサン、及び (B)付加反応用触媒 を含むポリオルガノシロキサン組成物を提供するもので
ある。
Means for Solving Problem C] The present invention solves the above problems by providing (A) an average proportion of vinyl groups and hydrogen atoms in the total side groups bonded to silicon atoms of 0.1, respectively; The present invention provides a polyorganosiloxane composition containing a polyorganosiloxane having an amount of 4.0 mol % and (B) an addition reaction catalyst.

本発明で用いられる(A)成分であるポリオルガノシロ
キサンは、直鎖状又は分岐状のポリオルガノシロキサン
であり、ケイ素原子に結合したビニル基と、ケイ素原子
に結合した水素原子とを1分子中に併有するものであり
、例えば下記平均単位式: %式% 〔ここで、ケイ素原子に結合した側基Rはビニル基、水
素原子、又は脂肪族不飽和基を除く置換又は非置換の1
価の炭化水素基を表し、a=1.8〜3.0の数である
。] で表されるものである。このケイ素原子に結合したビニ
ル基と、ケイ素原子に結合した水素原子は、分子鎖の末
端又は途中のいずれのケイ素原子に結合したものでもよ
い。
The polyorganosiloxane which is the component (A) used in the present invention is a linear or branched polyorganosiloxane, and contains a vinyl group bonded to a silicon atom and a hydrogen atom bonded to a silicon atom in one molecule. For example, the average unit formula:
represents a valent hydrocarbon group, and a is a number from 1.8 to 3.0. ] It is expressed as. The vinyl group bonded to the silicon atom and the hydrogen atom bonded to the silicon atom may be bonded to any silicon atom at the end or in the middle of the molecular chain.

本発明の(A)成分のポリオルガノシロキサンにおいて
は、1分子中のケイ素原子に結合した側基(末端の基を
含む)全体における上記ケイ素原子に結合したビニル基
の割合は、平均で0.1〜4.0モル%、好ましくは0
.2〜2.0モル%であり、またケイ素原子に結合した
水素原子の割合は、平均で0.1〜4.0モル%、好ま
しくは0.2〜2.0モル%である。1分子中のケイ素
原子に結合した側基全体において、ケイ素原子に結合し
たビニル基及びケイ素原子に結合した水素原子のいずれ
かの割合が平均で0.1モル%未満であると、ゲル形成
が困難であり、4.0モル%を超えると生成するゲルが
硬くなりすぎるためゲルとしての機能を果たせなくなる
In the polyorganosiloxane of component (A) of the present invention, the ratio of vinyl groups bonded to the silicon atom in all side groups (including terminal groups) bonded to the silicon atom in one molecule is on average 0. 1 to 4.0 mol%, preferably 0
.. The proportion of hydrogen atoms bonded to silicon atoms is on average 0.1 to 4.0 mol%, preferably 0.2 to 2.0 mol%. If the proportion of either the vinyl group bonded to the silicon atom or the hydrogen atom bonded to the silicon atom is less than 0.1 mol% on average in all the side groups bonded to the silicon atom in one molecule, gel formation may occur. If it exceeds 4.0 mol %, the resulting gel becomes too hard and cannot function as a gel.

また、(A)成分ポリオルガノシロキサンにおいて、上
記ケイ素原子に結合したビニル基/ケイ素原子に結合し
た水素原子の比は、通常、好ましくは0.8〜3、さら
に好ましくは0.9〜2の範囲である。この比が大き過
ぎると、残存するビニル基により得られるシリコーンゲ
ルの耐熱性が低下し、小さ過ぎるとゲル形成時に発泡し
易くなる。
In the polyorganosiloxane component (A), the ratio of vinyl groups bonded to silicon atoms/hydrogen atoms bonded to silicon atoms is usually preferably 0.8 to 3, more preferably 0.9 to 2. range. If this ratio is too large, the heat resistance of the silicone gel obtained will be reduced due to the residual vinyl groups, and if this ratio is too small, foaming will occur easily during gel formation.

本発明の(^)成分のポリオルガノシロキサンにおいて
、前記ケイ素原子に結合したビニル基及びケイ素原子に
結合した水素原子を除くケイ素原子に結合した残余の側
基は、脂肪族不飽和基を除く置換又は非置換の1価の炭
化水素基であり、例えばメチル基、エチル基、プロピル
基等のアルキル基、フェニル基等のアリール基、β−フ
ェニルエチル基、β−フェニルプロピル基等のアラルキ
ル基などの非置換の炭化水素基;及びクロロメチル基、
シアノエチル基、3,3.3−)リフルオロプロピル基
等の置換炭化水素基等が挙げられる。これらのうちで、
(A)成分であるポリオルガノシロキサンの合成の容易
さ、得られるゲル状物の耐熱性及び物理的特性の点から
メチル基がさらに好ましい。
In the polyorganosiloxane of the component (^) of the present invention, the remaining side groups bonded to the silicon atom excluding the vinyl group bonded to the silicon atom and the hydrogen atom bonded to the silicon atom are substituted excluding aliphatic unsaturated groups. or an unsubstituted monovalent hydrocarbon group, such as an alkyl group such as a methyl group, ethyl group, or propyl group, an aryl group such as a phenyl group, or an aralkyl group such as a β-phenylethyl group or a β-phenylpropyl group. an unsubstituted hydrocarbon group; and a chloromethyl group,
Examples include substituted hydrocarbon groups such as a cyanoethyl group and a 3,3.3-)lifluoropropyl group. Of these,
A methyl group is more preferred from the viewpoints of ease of synthesis of the polyorganosiloxane (A) component, heat resistance and physical properties of the gel-like product obtained.

このような(A)成分のポリオルガノシロキサンの具体
例としては、例えば (上記の式中において、a”−’mは正の整数)が挙げ
られる。
Specific examples of such polyorganosiloxanes as component (A) include (in the above formula, a''-'m is a positive integer).

本発明の(A)成分であるポリオルガノシロキサンは、
25°Cにおける粘度が、通常、好ましくは100〜1
00000cP、さらに好ましくは300〜5000c
Pのものである。粘度が高過ぎると作業性及び泡ぬけが
悪くなり、低過ぎると流れやすく、また反応後の物理的
性質が悪くなる。
The polyorganosiloxane which is component (A) of the present invention is
The viscosity at 25°C is usually preferably 100 to 1
00000cP, more preferably 300-5000c
It belongs to P. If the viscosity is too high, workability and foam removal will be poor; if the viscosity is too low, it will flow easily and the physical properties after the reaction will be poor.

本発明の組成物の(A)成分のポリオルガノシロキサン
は、前記の通り、直鎖状又は分岐状のものであるが、本
発明の組成物のゲル状硬化物が耐寒性を要求されるとき
は、(A)成分は分岐状のものが好ましい。
As mentioned above, the polyorganosiloxane of component (A) of the composition of the present invention is linear or branched, but when the gel-like cured product of the composition of the present invention is required to have cold resistance. Preferably, component (A) is branched.

この(A)成分であるポリオルガノシロキサンの製造法
は公知であり、当業者には自明である。
The method for producing polyorganosiloxane, component (A), is well known and obvious to those skilled in the art.

本発明の組成物の(B)成分である付加反応用触媒は、
(A)成分のポリオルガノシロキサン中のケイ素原子に
結合したビニル基とケイ素原子に結合した水素原子とを
付加反応させるためのものであり、特に限定されず、公
知のものが使用できる。
The addition reaction catalyst which is component (B) of the composition of the present invention is:
It is for causing an addition reaction between the vinyl group bonded to the silicon atom and the hydrogen atom bonded to the silicon atom in the polyorganosiloxane of the component (A), and is not particularly limited, and any known one can be used.

例えば、塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール変性溶液
、塩化白金酸とオレフィン類又はビニルシロキサンとの
配位化合物等の白金系化合物、テトラキス(トリフェニ
ルホスフィン)パラジウム、クロロトリス(トリフェニ
ルホスフィン)ロジウムなどが挙げられ、好ましくは白
金系の化合物である。
For example, platinum compounds such as chloroplatinic acid, alcohol-denatured solutions of chloroplatinic acid, coordination compounds of chloroplatinic acid and olefins or vinylsiloxane, tetrakis(triphenylphosphine)palladium, chlorotris(triphenylphosphine)rhodium, etc. Among them, platinum-based compounds are preferred.

本発明の組成物中において、(B)成分の付加反応用触
媒の配合割合は、(A)成分のポリオルガノシロキサン
に対して、通常、好ましくは0.1〜1100pp、さ
らに好ましくは3〜20 ppn+である。(B)成分
の配合量が多過ぎると熱劣化による変色が大きくまたコ
ストの増大を招き、配合量が少な過ぎると硬化阻害が生
じやすい。
In the composition of the present invention, the blending ratio of the addition reaction catalyst (B) is usually preferably 0.1 to 1100 pp, more preferably 3 to 20 pp, based on the polyorganosiloxane (A) component. It is ppn+. If the amount of component (B) is too large, discoloration due to thermal deterioration will be large and the cost will increase, while if the amount is too small, curing will be inhibited.

本発明の組成物には、上記(A) 、(B)成分の他に
、必要に応じて種々の任意成分を配合することができる
。例えば煙霧質シリカ、シリカアエロジル、沈降シリカ
、粉砕シリカ、けいそう土、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化チ
タン、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸亜鉛、
カーボンブラック等の無機質充填剤を添加して、本発明
の組成物の硬化後の硬さ、機械的強度などを調整するこ
とができる。これらの無機質充填剤の使用量は、特に限
定されず、本発明の硬化物の特性を損なわない範囲なら
ば、任意に選択することができる。また、ジメチルポリ
シロキサン等の他のシリコーンオイルもしくは生ゴムな
どを本発明の効果を阻害しない範囲で添加して、本発明
の組成物の流れ性、硬化物の硬さ等を調整することがで
きる。
In addition to the above-mentioned components (A) and (B), various optional components can be added to the composition of the present invention as required. For example, fumed silica, silica aerosil, precipitated silica, ground silica, diatomaceous earth, iron oxide, zinc oxide, titanium oxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, zinc carbonate,
By adding an inorganic filler such as carbon black, the hardness, mechanical strength, etc. of the composition of the present invention after curing can be adjusted. The amount of these inorganic fillers to be used is not particularly limited, and can be arbitrarily selected as long as it does not impair the properties of the cured product of the present invention. Further, other silicone oil such as dimethylpolysiloxane or raw rubber can be added to the extent that the effects of the present invention are not impaired to adjust the flowability of the composition of the present invention, the hardness of the cured product, etc.

本発明の組成物は、従来公知の反応抑制剤、例えばポリ
メチルビニルシロキサン環式化合物、アセチレン化合物
、有機リン化合物等を添加して、(A)成分の硬化反応
を制御することもできる。
The curing reaction of component (A) can also be controlled by adding conventionally known reaction inhibitors such as polymethylvinylsiloxane cyclic compounds, acetylene compounds, organic phosphorus compounds, etc. to the composition of the present invention.

本発明の組成物は、多層にポツティングしても物性変化
がなく、安定なゲル状物に硬化するため、例えば電気・
電子部品の絶縁被覆用、保護被覆用に使用することがで
き、特にパワートランジスター、IC、コンデンサーな
どの制御用素子を熱的及び機械的障害から保護する被覆
膜として使用することができる。
The composition of the present invention does not change its physical properties even when potted in multiple layers and hardens into a stable gel-like material.
It can be used as an insulating coating or a protective coating for electronic components, and in particular, it can be used as a coating film to protect control elements such as power transistors, ICs, and capacitors from thermal and mechanical disturbances.

〔実施例〕〔Example〕

以下、実施例及び比較例を挙げて本発明の詳細な説明す
る。
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples and Comparative Examples.

実施例1〜2 各側において、重合器に、表1に示す配合の単量体混合
物を仕込んだ後、触媒としてトリフルオロメタンスルホ
ン酸0.25gを添加し、室温で8時間平衡化反応させ
た。反応終了後、重炭酸ナトリウム6gを添加して中和
し、生成物をろ過して酸性塩及び過剰の重炭酸ナトリウ
ムを除去し、生成物を180″CSlOC51Oでスト
リッピングしてポリオルガノシロキサンを得た。
Examples 1 to 2 On each side, a polymerization vessel was charged with a monomer mixture having the composition shown in Table 1, and then 0.25 g of trifluoromethanesulfonic acid was added as a catalyst, and an equilibration reaction was carried out at room temperature for 8 hours. . After the reaction was completed, 6 g of sodium bicarbonate was added to neutralize, the product was filtered to remove the acid salts and excess sodium bicarbonate, and the product was stripped with 180″ CSIOC51O to obtain the polyorganosiloxane. Ta.

得られたポリオルガノシロキサンの粘度、重合体1分子
中のケイ素原子に結合したビニル基の平均含有量及びケ
イ素原子に結合した水素原子の平均含有量を測定した。
The viscosity of the obtained polyorganosiloxane, the average content of vinyl groups bonded to silicon atoms and the average content of hydrogen atoms bonded to silicon atoms in one molecule of the polymer were measured.

測定結果を表1に示す。The measurement results are shown in Table 1.

次いで、得られたポリオルガノシロキサン100重量部
にエチニルシクロヘキサノール0.01重量部を添加し
て均一に混合した後、塩化白金酸のビニルシロキサン錯
体を混合物全量に対して白金が5ppmとなる量だけ添
加して均一に混合し、ポリオルガノシロキサン組成物を
得た。
Next, 0.01 part by weight of ethynylcyclohexanol was added to 100 parts by weight of the obtained polyorganosiloxane and mixed uniformly, and then a vinyl siloxane complex of chloroplatinic acid was added in an amount such that platinum was 5 ppm based on the total amount of the mixture. The mixture was added and mixed uniformly to obtain a polyorganosiloxane composition.

得られた組成物を150°Cで30分間加熱したところ
、透明なゲル状物を形成した。このゲル状物の針入度を
174スケールの針入度計で測定した。また、組成物t
ogを直径60mm、深さ10薗のアルミ製シャーレに
注入し、150°Cで30分間加熱し、第1層ゲルを作
成した。形成された第1層ゲルの表層にさらに組成物5
gを注入し、150°Cで30分間加熱して第2層ゲル
を作成した。積層したゲルを垂直に切断し、第1層ゲル
と第2層ゲルの界面を肉眼で観察して評価した。
When the resulting composition was heated at 150°C for 30 minutes, a transparent gel-like substance was formed. The penetration of this gel-like material was measured using a 174 scale penetrometer. In addition, composition t
og was poured into an aluminum Petri dish with a diameter of 60 mm and a depth of 10 mm, and heated at 150°C for 30 minutes to create a first layer gel. Composition 5 is further applied to the surface layer of the first layer gel formed.
g was injected and heated at 150°C for 30 minutes to create a second layer gel. The stacked gel was cut vertically, and the interface between the first layer gel and the second layer gel was visually observed and evaluated.

結果を表1に示す。The results are shown in Table 1.

比較例1 粘度800cp (25°C)、Me2SiO単位99
.1モル%、ViMezSiOo、 5単位0.27モ
ル%及びMe:1SiOo、 s単位0.63モル%か
らなるビニル含有ポリオルガノシロキサン100重量部
と、MezSiO単位62モル%、MeH3iO単位3
7モル%及びMesSiQ。、、単位1モル%からなる
メチルハイドロジエンポリシロキサン0.7重量部との
配合物を、5iVi基とSiH基を併有するポリオルガ
ノシロキサンの代わりに使用した以外は、実施例1と同
様にして組成物を得、この組成物についても、実施例と
同様の試験法で針入度及び作成した第1層ゲルと第2N
ゲルの界面状態を評価した。
Comparative Example 1 Viscosity 800 cp (25°C), Me2SiO unit 99
.. 100 parts by weight of a vinyl-containing polyorganosiloxane consisting of 1 mol% of ViMezSiOo, 0.27 mol% of 5 units and 0.63 mol% of Me:1SiOo, s units, and 62 mol% of MezSiO units, 3 MeH3iO units.
7 mol% and MesSiQ. Example 1 was carried out in the same manner as in Example 1, except that a blend of 0.7 parts by weight of methylhydrodiene polysiloxane containing 1 mol % of units was used instead of the polyorganosiloxane having both 5iVi groups and SiH groups. A composition was obtained, and this composition was also tested for penetration and the prepared first layer gel and second layer gel using the same test method as in the example.
The interfacial state of the gel was evaluated.

結果を表1に示す。The results are shown in Table 1.

表1 傘2;ケイ素原子に結合した水素原子の含有量〔発明の
効果〕 本発明のポリオルガノシロキサン組成物は、硬化して安
定なゲル状物を得ることができるものであり、電気・電
子関連の保護被覆等の多種、多様な用途に利用できる。
Table 1 Umbrella 2: Content of hydrogen atoms bonded to silicon atoms [Effects of the invention] The polyorganosiloxane composition of the present invention can be cured to obtain a stable gel-like material, and can be used in electrical and electronic applications. It can be used for a wide variety of purposes, including related protective coatings.

特に多層にポツティングしても物性が変化せず、安定な
ゲル状物に硬化することができるため、半導体素子をタ
ーミナル等にはんだ付けする際に多層ゲルを形成するた
めの組成物として有用である。
In particular, it is useful as a composition for forming a multilayer gel when soldering semiconductor elements to terminals, etc., because its physical properties do not change even when potted into multiple layers, and it can be cured into a stable gel-like material. .

代理人 弁理士  岩見谷 同志Agent Patent Attorney Comrade Iwamiya

Claims (1)

【特許請求の範囲】 (A)ケイ素原子に結合した側基全体におけるビニル基
及び水素原子の割合が、それぞれ平均で0.1〜4.0
モル%であるポリオルガノシロキサン、及び (B)付加反応用触媒 を含むポリオルガノシロキサン組成物。
[Scope of Claims] (A) The average proportion of vinyl groups and hydrogen atoms in all side groups bonded to silicon atoms is 0.1 to 4.0, respectively.
% by mole of a polyorganosiloxane, and (B) a catalyst for an addition reaction.
JP3656988A 1988-02-19 1988-02-19 Polyorganosiloxane composition Granted JPH01213363A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3656988A JPH01213363A (en) 1988-02-19 1988-02-19 Polyorganosiloxane composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3656988A JPH01213363A (en) 1988-02-19 1988-02-19 Polyorganosiloxane composition

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH01213363A true JPH01213363A (en) 1989-08-28
JPH0575022B2 JPH0575022B2 (en) 1993-10-19

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ID=12473396

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3656988A Granted JPH01213363A (en) 1988-02-19 1988-02-19 Polyorganosiloxane composition

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH01213363A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03252458A (en) * 1990-03-02 1991-11-11 Shin Etsu Chem Co Ltd Organopolysiloxane composition and cured material thereof

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03252458A (en) * 1990-03-02 1991-11-11 Shin Etsu Chem Co Ltd Organopolysiloxane composition and cured material thereof

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Publication number Publication date
JPH0575022B2 (en) 1993-10-19

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