JPH0985055A - 排ガス浄化方法及び排ガス浄化用触媒 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】空燃比変動条件下における低温領域での高活性
を維持し、かつ高温領域における活性を向上させる。 【解決手段】排ガス流路の前段にはセリウム酸化物を積
極的に排除した第１Ｐｄ系触媒を配置し、後段にはセリ
ウム酸化物を含む第２Ｐｄ系触媒を配置し、（１）式を
満たす条件で排ガスを酸化性ガス及び還元性ガスに変動
させて第１Ｐｄ系触媒及び第２Ｐｄ系触媒と接触させ
る。 ０．２≦Ｒ≦１．２ （１） （１）式中、Ｒ＝過剰な酸化還元当量（モル）／Ｐｄ担
持総量（モル）であり、過剰な酸化還元当量は、酸化性
ガス及び還元性ガス変動による化学当量点からの雰囲気
ずれの時間積分値である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、内燃機関から排出
される排ガス中の窒素酸化物（ＮＯ_x ）、一酸化炭素
（ＣＯ）及び炭化水素（ＨＣ）を同時に浄化する排ガス
浄化方法及び排ガス浄化用触媒に関し、詳しくはパラジ
ウム（Ｐｄ）系の触媒を用いた排ガス浄化方法及び排ガ
ス浄化用触媒に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より排ガス浄化用触媒として、ＣＯ
及びＨＣの酸化とＮＯ_x の還元とを同時に行って排ガス
を浄化する三元触媒が用いられている。このような三元
触媒としては、例えばコーディエライトなどからなる耐
熱性基材にγ−アルミナからなる多孔質担体層を形成
し、その多孔質担体層に白金（Ｐｔ）、ロジウム（Ｒ
ｈ）あるいはパラジウム（Ｐｄ）などの触媒貴金属を担
持させたものが広く知られている。

【０００３】中でも、触媒貴金属としてＰｄを用いたＰ
ｄ系三元触媒は、例えば特開平５−２００２８６号公報
にも開示されているように、省資源、低コストの観点か
ら有望視されている。ところがＰｄは、ＰｔやＲｈに比
べて触媒活性が低いために、Ｐｄ系触媒においてはＰｄ
を多量に使用しなければならず、低コストの利点が生か
されないという不具合があった。

【０００４】そこでＰｄ系三元触媒において触媒活性の
向上を図る技術の開発が進められ、特開昭６０−８１４
１９号公報には、内燃機関運転の空燃比を高空燃比側と
低空燃比側とに変動させるとともに、高空燃比時間に対
する低空燃比時間の時間比を所定範囲とし、かつ平均空
燃比を理論空燃比付近として、その排ガスをＰｄ系触媒
と接触させる排気浄化方法が開示されている。この排気
浄化方法によれば、排ガス中のＮＯ_x 、ＣＯ及びＨＣを
比較的高い浄化率で浄化することができる。

【０００５】排ガスの雰囲気変動を強制的に行わない従
来の方法では、Ｐｄ系三元触媒の活性点であるＰｄ表面
に排ガス中のＨＣやＣＯ等の還元性物質が強く吸着し、
反応が抑制される。この現象は低温領域でとくに顕著で
ある。一方、特開昭６０−８１４１９号公報に開示の方
法では、排ガスの平均雰囲気は従来と同様であるが、低
空燃比側で吸着被毒したＨＣやＣＯが、酸素が過剰に含
まれる高空燃比側の排ガスで酸化浄化されるため、みか
け上、還元性物質の吸着被毒による活性低下が抑制され
る。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところが特開昭６０−
８１４１９号公報に開示の浄化方法では、低温領域では
Ｐｄが高空燃比側でＨＣやＣＯ等の還元性物質による吸
着被毒を除去するため、上記したようにＮＯ_x 、ＣＯ及
びＨＣを比較的高い浄化率で浄化することができる。一
方、高温領域ではＰｄの還元性物質による吸着被毒の度
合いは小さくなるものの、雰囲気変動を大きくした場
合、Ｐｄ表面における排ガスの組成が理論空燃比で燃焼
した排ガス組成から大きくずれてＮＯ_x 及びＣＯの浄化
率が低下するという問題があった。

【０００７】この問題に対処するために、排ガス温度を
排気温度センサにより検出し、その検出値に基づいて高
温側では空燃比変動幅を小さくし、低温側では空燃比変
動幅を大きくする排ガス浄化方法が提案されている。し
かしこのような方法では、構成及び制御が複雑となりコ
スト面で不具合がある。本発明はこのような事情に鑑み
てなされたものであり、Ｐｄ系三元触媒において、排ガ
ス温度による空燃比変動幅の制御を行うことなく、空燃
比変動条件下における低温領域での高活性を維持し、か
つ高温領域における活性を向上させることを目的とす
る。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本第
１発明の排ガス浄化方法の特徴は、内燃機関からの排ガ
ス中のＮＯ_x 、ＣＯ及びＨＣを同時に浄化する排ガス浄
化方法であって、排ガス流路の前段にはセリウム酸化物
を積極的に排除した第１Ｐｄ系触媒を配置するととも
に、排ガス流路の後段にはセリウム酸化物を含む第２Ｐ
ｄ系触媒を配置し、下記（１）式を満たす条件で排ガス
を酸化性ガス及び還元性ガスに変動させて第１Ｐｄ系触
媒及び第２Ｐｄ系触媒と接触させることにある。

【０００９】 ０．２≦Ｒ≦１．２ （１） （１）式中、Ｒ＝過剰な酸化還元当量（モル）／Ｐｄ担
持総量（モル）であり、過剰な酸化還元当量は、酸化性
ガス及び還元性ガス変動による化学当量点からの雰囲気
ずれの時間積分値である。

【００１０】第２発明の排ガス浄化方法の特徴は、第１
発明の排ガス浄化方法において、酸化性ガスと還元性ガ
スを変動させる場合の平均空燃比を１４〜１５としたこ
とにある。第３発明の排ガス浄化方法の特徴は、第１発
明又は第２発明の排ガス浄化方法において、酸化性ガス
及び還元性ガスを第１Ｐｄ系触媒及び第２Ｐｄ系触媒と
接触させる時間をそれぞれ１〜５秒としたことにある。

【００１１】第４発明の排ガス浄化用触媒の特徴は、内
燃機関からの排ガス中のＮＯ_x 、ＣＯ及びＨＣを同時に
浄化する排ガス浄化用触媒であって、排ガス流路の前段
に配置されセリウム酸化物を積極的に排除した第１Ｐｄ
系触媒と、排ガス流路の後段に配置されセリウム酸化物
を含む第２Ｐｄ系触媒と、からなることにある。第５発
明の排ガス浄化用触媒の特徴は、第４発明の排ガス浄化
用触媒において、下記（２）式を満たす条件で酸化性ガ
ス及び還元性ガスに変動された排ガスと接触されるよう
にしたことにある。

【００１２】 ０．２≦Ｒ≦１．２ （２） （２）式中、Ｒ＝過剰な酸化還元当量（モル）／Ｐｄ担
持総量（モル）であり、過剰な酸化還元当量は、酸化性
ガス及び還元性ガス変動による化学当量点からの雰囲気
ずれの時間積分値である。

【００１３】

【発明の実施の形態】酸化性ガスとは、空燃比（Ａ／
Ｆ）が理論空燃比より大きいリーン雰囲気の混合気が燃
焼した酸素などの酸化成分を多く含む排ガスをいう。ま
た還元性ガスとは、空燃比が理論空燃比（ストイキ）よ
り小さなリッチ雰囲気の混合気が燃焼したＨＣ、ＣＯな
どの還元性成分を多く含む排ガスをいう。

【００１４】そして過剰な酸化還元当量Ｒは、酸化性ガ
ス及び還元性ガス変動による化学当量点からの雰囲気ず
れの時間積分値であり、変動の幅を表す物理量である。
酸化性ガスが与えることのできる酸素のモル数と、還元
性ガスが受取ることのできる酸素のモル数のどちらが過
剰であってもよい。またＰｄ担持総量は、第１Ｐｄ系触
媒に担持されたＰｄのモル数と第２Ｐｄ系触媒に担持さ
れたＰｄのモル数の和である。

【００１５】本発明の排ガス浄化方法では、酸化性ガス
及び還元性ガスに変動された排ガスが第１Ｐｄ系触媒と
第２Ｐｄ系触媒に接触される。排ガス温度が低温領域又
は高温領域のどちらであるかによって効率の差はあるも
のの、どちらであっても排ガスは以下のようにして効率
良く浄化される。 （ａ）低温の場合 （第１Ｐｄ系触媒）雰囲気の変動により還元性物質の吸
着被毒が緩和され、高活性が得られる。 （第２Ｐｄ系触媒）セリウムの存在により、触媒上はほ
ぼストイキとなるが、第１Ｐｄ系触媒により大部分の還
元性物質は浄化されているので、大きな被毒は受けな
い。 （ｂ）高温の場合 （第１Ｐｄ系触媒）触媒上での反応が速いため、吸着被
毒の度合いが小さくなって、変動による効果は逆にスト
イキから外れてしまうというマイナス効果となり、高活
性は得られない。 （第２Ｐｄ系触媒）セリウム酸化物が酸素を吸蔵・放出
するため、Ｐｄ近傍は理論空燃比の排ガス組成に近くな
るので触媒活性が高く、還元性物質が効率良く酸化浄化
され、ＮＯ _x も還元浄化される。

【００１６】本発明では、酸化性ガス及び還元性ガスは
上記（１）式又は（２）式を満たすように構成されてい
る。Ｒが０．２未満となると、上記した雰囲気変動の効
果が低下し触媒活性が低下するため好ましくない。また
Ｒが１．２を超えると、触媒上の雰囲気が理論空燃比の
排ガス組成から大きくずれてしまい、上記した雰囲気変
動の効果が得られず触媒活性が低下するため好ましくな
い。特に好ましい範囲は、０．３≦Ｒ≦０．７である。

【００１７】排ガスを酸化性ガスと還元性ガスに変動さ
せるには、混合気の空燃比をリーンとリッチに変動させ
ることで達成できるが、このときの平均空燃比は１４〜
１５の範囲とすることが望ましい。この範囲とすること
で触媒活性を最も高く維持することができる。ストイキ
である１４．７近傍とするのが特に好ましい。また、酸
化性ガス及び還元性ガスを第１Ｐｄ系触媒及び第２Ｐｄ
系触媒と接触させる時間は、それぞれ１〜５秒とするの
が望ましい。つまり、酸化性ガス又は還元性ガスに変動
させる度に、それぞれ１〜５秒ずつ接触させるのが好ま
しい。この時間が１秒より短いと、酸化性ガスと還元性
ガスとが触媒上もしくは排ガス流路途中で混合してしま
い、変動させる効果が得られない。また５秒より長く接
触させると、還元性物質量がＰｄ上への吸着能を超えて
しまい、また酸素量もセリウム酸化物の酸素吸蔵能を超
えてしまうため、浄化性能が低下する。

【００１８】本発明にいう第１Ｐｄ系触媒としては、ア
ルミナ、シリカ、ジルコニア、チタニア、シリカ−アル
ミナ、ゼオライトなどからなる多孔質担体と、多孔質担
体に担持されたＰｄ、Ｐｄ−Ｐｔなどの少なくともＰｄ
を含む触媒貴金属とから構成されたものが用いられる。
Ｐｄの担持量は、多孔質担体１リットル当たり０．１〜
２０ｇが望ましい。０．１ｇ／Ｌより少ないとＰｄの触
媒活性が得られず、２０ｇ／Ｌを超えて担持しても効果
が飽和しコスト面で不具合が生じる。この第１Ｐｄ系触
媒にはセリウム酸化物を含まないことが望ましいが、例
えば０．０１モル／Ｌ以下などセリウム酸化物の作用が
表出しない量であれば含んでいても差し支えない。

【００１９】なお、第１Ｐｄ系触媒に酸素吸蔵・放出作
用を奏するだけのセリウム酸化物が含まれると、酸素吸
蔵・放出作用により排ガスの雰囲気変動の差が小さくな
るため低温活性が低下する。したがって第１Ｐｄ系触媒
からは積極的にセリウム酸化物を排除するようにした。
第２Ｐｄ系触媒としては、アルミナ、シリカ、ジルコニ
ア、チタニア、シリカ−アルミナ、ゼオライトなどから
なる多孔質担体と、多孔質担体に担持されたＰｄ、Ｐｄ
−Ｐｔなどの少なくともＰｄを含む触媒貴金属と、セリ
ウム酸化物と、から構成されたものが用いられる。Ｐｄ
の担持量は、多孔質担体１リットル当たり０．１〜２０
ｇが望ましい。０．１ｇ／Ｌより少ないとＰｄの触媒活
性が得られず、２０ｇ／Ｌを超えて担持しても効果が飽
和しコスト面で不具合が生じる。またセリウム酸化物
は、多孔質担体に含まれていてもよいし、多孔質担体に
担持されていてもよい。このセリウム酸化物の含有量
は、多孔質担体１リットル当たり０．０５〜３モルが望
ましい。０．０５モル／Ｌより少ないとセリウム酸化物
による酸素吸蔵・放出能が得られず、３モル／Ｌを超え
て含有しても効果が飽和する。

【００２０】なお、第１Ｐｄ系触媒及び第２Ｐｄ系触媒
には、助触媒としてリチウム、ナトリウム、カリウム、
ルビジウム、セシウム、フランシウムなどのアルカリ金
属、バリウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウ
ム、ストロンチウムなどのアルカリ土類金属、スカンジ
ウム、イットリウム、ランタン、セリウム、プラセオジ
ム、ネオジムなどの希土類元素、あるいはニオブ、ジル
コニア、イットリア、チタニアなどを担持することもで
きる。

【００２１】また多孔質担体の形状は、ガスと触媒との
接触効率が高ければ特に制限されず、ペレット状、ハニ
カム状などとすることができる。そして多孔質担体自体
からその形状に形成してもよく、コーディエライトやメ
タルなどから形成されたモノリス基材に多孔質担体をコ
ートして用いることもできる。そして第１Ｐｄ系触媒と
第２Ｐｄ系触媒とは、例えば一体のハニカム担体の前段
と後段に連続するように形成してもよいし、別体として
形成し排ガス流路に間隔を隔てて配置することもでき、
両触媒間の距離に制限はない。

【００２２】排ガスを酸化性ガスと還元性ガスとに変動
させるには、電子燃料制御装置など周知の手段により混
合気の空燃比を変動させることで行うことができる。ま
た（１）又は（２）式のＲを０．２〜１．２の範囲に維
持するには、Ｐｄの担持総量、それぞれのガスと触媒と
の接触時間、酸化還元当量などを適宜設定することで行
うことができる。このＲを式で示せば、下式となる。

【００２３】

【数１】

【００２４】つまり、（３）式で計算されるＲの値が
０．２〜１．２の範囲であれば、Ｐｄの担持総量、酸化
性ガス、還元性ガスと触媒との接触時間、酸化還元当量
などを適宜設定することができる。例えばＰｄの担持総
量が３ｇ（０．０３モル）の場合、接触時間を１秒とし
１秒当たりに接触するガスの酸化還元当量を０．００６
〜０．０３４とすれば、Ｒを０．２〜１．２の範囲に維
持することができる。つまり、酸化還元当量が０．００
６の場合には、この値をＰｄの担持総量０．０３モルで
割って、Ｒは０．２となり、０．０３４の場合には同様
にＲは１．１となる。

【００２５】また、接触時間が２秒の場合には、１秒当
たりに接触するガスの酸化還元当量を０．００３〜０．
０１７とすれば、Ｒを０．２〜１．２の範囲に維持する
ことができる。つまり、上式と同様の計算式により、酸
化還元当量が０．００３の場合触媒との接触時間は２秒
であるため、Ｒ＝（０．００３×２）／０．０３＝０．
２となり、酸化還元当量が０．０１７の場合同様にして
Ｒ＝（０．０１７×２）／０．０３＝１．１となる。

【００２６】

【実施例】以下、実施例及び比較例により本発明をさら
に具体的に説明する。なお、以下の例において「部」は
特にことわらない限り「重量部」を示す。 ＜触媒の調製＞アルミナ粉末１００部と、アルミナゾル
（アルミナ含有率１０重量％）７０部と、４０重量％硝
酸アルミニウム水溶液１５部及び水３０部を混合し、コ
ーティング用スラリーを調製した。

【００２７】このスラリーにコーディエライト質ハニカ
ム担体を浸漬し、引き上げた後余分なスラリーを吹き払
い、乾燥後６００℃で１時間焼成してアルミナコート層
を形成した。コート量はハニカム担体の体積１リットル
当たり１２０ｇである。このアルミナコート層をもつハ
ニカム担体を硝酸パラジウム水溶液に浸漬し、引き上げ
て余分な水滴を吹き払った後２５０℃で乾燥してＰｄを
担持させた。Ｐｄの担持量は表１に示すとおりである。

【００２８】次に、Ｃｅ、Ｌａ及びＢａの硝酸塩の水溶
液を用意し、表１示す担持量となるように混合した混合
溶液に上記のＰｄ担持担体を浸漬し、引き上げて余分な
水滴を吹き払って乾燥後６００℃で１時間焼成して、表
１に示すＡ〜Ｅの５種類の触媒を調製した。

【００２９】

【表１】 ＜評価試験＞Ａ〜Ｅの触媒をそれぞれ第１Ｐｄ系触媒及
び第２Ｐｄ系触媒とし、表３に示すように組み合わせて
実施例及び比較例の触媒として評価試験を行った。第１
Ｐｄ系触媒及び第２Ｐｄ系触媒の容積は同一とし、合計
容積が３５ｃｃとなるようにした。

【００３０】評価試験は、第１Ｐｄ系触媒がガス流路の
前段、第２Ｐｄ系触媒が後段となるように評価装置に配
置し、表２に示す組成のリッチ雰囲気とリーン雰囲気の
モデルガスを用い、化学当量点に対し変動幅４％で図１
に示すように交互に同じ時間だけ流した。ガス流量は５
０Ｌ／ｍｉｎであり、入りガス温度を徐々に昇温してＮ
Ｏ_x 、ＣＯ及びＨＣの５０％浄化温度をそれぞれ測定し
た。また４００℃におけるＮＯ_x 、ＣＯ及びＨＣの浄化
率も測定した。結果を表３に示す。

【００３１】

【表２】

【００３２】

【表３】

【００３３】＜評価＞比較例１では、第１Ｐｄ系触媒及
び第２Ｐｄ系触媒ともににセリウム酸化物が含まれない
ため、４００℃におけるＮＯ_x の浄化率が低く高温活性
が低下している。また比較例２では、第１Ｐｄ系触媒に
もセリウム酸化物が含まれているため、５０％浄化温度
が高く低温活性が低下していることがわかる。また比較
例３では、第１Ｐｄ系触媒にセリウム酸化物が含まれ、
第２Ｐｄ系触媒にはセリウム酸化物が含まれておらず、
丁度実施例１と逆の構成である。しかし実施例１と比較
すると５０％浄化温度が高く、低温活性が低下している
ことがわかる。

【００３４】さらに比較例４〜６ではＲが０．２より小
さいために５０％浄化温度が高く低温活性に劣り、比較
例７〜９ではＲが１．２より大きいために４００℃にお
けるＮＯ_x 浄化率とＣＯの浄化率が低く高温活性に劣る
ことがわかる。しかし各実施例においては、ＮＯ_x 、Ｃ
Ｏ及びＨＣの５０％浄化温度が低く低温活性に優れてい
ることが明らかであり、４００℃におけるＮＯ_x 、ＣＯ
及びＨＣの浄化率が高いことから高温活性にも優れてい
ることが明らかである。

【００３５】こで、実施例１を例にとって、Ｒの求め方
について具体的に説明する。表２に示すモデルガスのう
ち、リーン側のガス組成を用いてＲを計算する。表２に
示すモデルガスのうち、各成分の酸化還元モル当量、す
なわちその成分１ｍｏｌにとって与えることのできる酸
素原子量（ｍｏｌ）は、ＮＯ，Ｃ₃ Ｈ₆ ，ＣＯ／Ｈ₂，
Ｏ₂ につきそれぞれ＋１，−３，−１，＋２となる。こ
こで（＋）は与えることのできる酸素量（ｍｏｌ）、
（−）は受取ることのできる酸素量（ｍｏｌ）を示す。

【００３６】上記各成分の組成比から、酸化還元モル当
量を表２をもとにｐｐｍで示すと、 １２００−１４６０×３−６０００＋１２６００×２＝
１６０２０（ｐｐｍ） この分の酸化還元当量をもつモデルガスが、ガス流速５
０Ｌ／ｍｉｎで触媒を通過するため、上記１６０２０
（ｐｐｍ）を単位時間当たり触媒を通過するリットル数
に換算すれば、（５０×１６０２０）／１００００００
＝０．８０１Ｌ／ｍｉｎ。これを１秒当たりに換算すれ
ば、０．８０１／６０＝０．０１３４Ｌ／ｍｉｎ。次に
この値をｍｏｌに換算すれば、０．０１３４／２２．４
＝６×１０ ^-4ｍｏｌ／ｓｅｃとなる。この値は、実施例
１に示す変動周期２ｓｅｃの１ｓｅｃ当たりの酸化還元
当量を示している。

【００３７】ここで、実施例１においてＰｄの担持総量
は６ｇ／Ｌ（０．０５６６ｍｏｌ／Ｌ）であって、この
うち容積は３５ｃｃで評価を行っている。したがって該
容積中のＰｄの総量（ｍｏｌ）は、０．０５６６×３５
／１０００＝０．００２ｍｏｌ／３５ｃｃとなり、よっ
てＲは、（３）式に従えば（６×１０^-4）／０．００２
＝０．３となる。リッチ側も同様に計算してＲ＝０．３
となる。以下、上記と同様に計算してＲ＝０．３とな
る。

【００３８】

【発明の効果】すなわち本発明によれば、排ガス温度に
より雰囲気変動を制御するような複雑な制御を行うこと
なく、低温から高温まで広い温度領域でＮＯ_x 、ＣＯ及
びＨＣを効率良く浄化することができる。またＰｔやＲ
ｈに比べて安価なＰｄを用い、しかもその量は従来に比
べて少量でよいので、本発明の排ガス浄化用触媒はきわ
めて安価となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例における雰囲気変動の概念を
示す説明図である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｆ０１Ｎ 3/24 ＺＡＢ Ｂ０１Ｊ 23/56 ３０１Ａ

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 内燃機関からの排ガス中の窒素酸化物、
   一酸化炭素及び炭化水素を同時に浄化する排ガス浄化方
   法であって、 排ガス流路の前段にはセリウム酸化物を積極的に排除し
   た第１パラジウム系触媒を配置するとともに、排ガス流
   路の後段にはセリウム酸化物を含む第２パラジウム系触
   媒を配置し、下記（１）式を満たす条件で排ガスを酸化
   性ガス及び還元性ガスに変動させて該第１パラジウム系
   触媒及び該第２パラジウム系触媒と接触させることを特
   徴とする排ガス浄化方法。 ０．２≦Ｒ≦１．２ （１） （１）式中、 Ｒ＝過剰な酸化還元当量（モル）／パラジウム担持総量
   （モル）であり、 過剰な酸化還元当量は、酸化性ガス及び還元性ガス変動
   による化学当量点からの雰囲気ずれの時間積分値であ
   る。
2. 【請求項２】 酸化性ガスと還元性ガスを変動させる場
   合の平均空燃比は１４〜１５であることを特徴とする請
   求項１記載の排ガス浄化方法。
3. 【請求項３】 酸化性ガス及び還元性ガスを第１パラジ
   ウム系触媒及び第２パラジウム系触媒と接触させる時間
   はそれぞれ１〜５秒であることを特徴とする請求項１又
   は請求項２記載の排ガス浄化方法。
4. 【請求項４】 内燃機関からの排ガス中の窒素酸化物、
   一酸化炭素及び炭化水素を同時に浄化する排ガス浄化用
   触媒であって、 排ガス流路の前段に配置されセリウム酸化物を積極的に
   排除した第１パラジウム系触媒と、排ガス流路の後段に
   配置されセリウム酸化物を含む第２パラジウム系触媒
   と、からなることを特徴とする排ガス浄化用触媒。
5. 【請求項５】 下記（２）式を満たす条件で酸化性ガス
   及び還元性ガスに変動された排ガスと接触されることを
   特徴とする請求項４記載の排ガス浄化用触媒。 ０．２≦Ｒ≦１．２ （２） （２）式中、 Ｒ＝過剰な酸化還元当量（モル）／パラジウム担持総量
   （モル）であり、 過剰な酸化還元当量は、酸化性ガス及び還元性ガス変動
   による化学当量点からの雰囲気ずれの時間積分値であ
   る。