JPH0964276A - Semiconductor device - Google Patents
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- JPH0964276A JPH0964276A JP21575195A JP21575195A JPH0964276A JP H0964276 A JPH0964276 A JP H0964276A JP 21575195 A JP21575195 A JP 21575195A JP 21575195 A JP21575195 A JP 21575195A JP H0964276 A JPH0964276 A JP H0964276A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、携帯電子機器に実装さ
れるようなデジタル回路とアナログ回路とを混在した半
導体装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device including a digital circuit and an analog circuit which are mounted on a portable electronic device.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、ノートブックパソコンやビデオレ
コーダ等の携帯電子機器が多く使用されている。携帯電
子機器はバッテリーで駆動するため、消費電流の少ない
ICが要求されている。電力の低消費化のためには、電
源端子から内部回路を見た電源入力インピーダンスを高
くする必要がある。2. Description of the Related Art In recent years, portable electronic devices such as notebook personal computers and video recorders have been widely used. Since portable electronic devices are driven by batteries, ICs with low current consumption are required. In order to reduce the power consumption, it is necessary to increase the power input impedance when the internal circuit is seen from the power terminal.
【0003】しかし、デジタル回路とアナログ回路とを
混在した半導体装置では電源入力インピーダンスをあま
り高くすると、デジタル回路で発生したノイズがアナロ
グ回路に伝搬して動作が不安定になることがある。図4
は従来例に係るアナログ−デジタル回路混在ICの構成
図である。図4において、1はアナログ信号処理用のコ
ンパレータやオペアンプ等のアナログ回路である。アナ
ログ回路1は、例えば、p型Si基板4上のn型ウエル
層(島)5Aに形成されている。また、n型ウエル層5
Aは素子を絶縁するために回路の最高電位たる電源線V
CCに接続されるか、又は、動作上適切な電位にバイアス
されている。However, in a semiconductor device in which a digital circuit and an analog circuit are mixed, if the power supply input impedance is too high, noise generated in the digital circuit may propagate to the analog circuit and the operation may become unstable. FIG.
FIG. 6 is a configuration diagram of an analog-digital circuit mixed IC according to a conventional example. In FIG. 4, reference numeral 1 is an analog circuit such as a comparator or an operational amplifier for analog signal processing. The analog circuit 1 is formed, for example, on the n-type well layer (island) 5A on the p-type Si substrate 4. In addition, the n-type well layer 5
A is a power line V that is the highest potential of the circuit to insulate the element
Connected to CC or biased to a proper operating potential.
【0004】2はアナログ回路の出力信号を取り出すた
めの負荷抵抗である。負荷抵抗2は、例えば、p型の拡
散層から成り、同一のSi基板4上のn型ウエル層5B
に形成されている。ここでも、n型ウエル層5Bは素子
を絶縁するために電源線VCCに接続されている。3はデ
ジタル信号を取り扱うインバータや論理回路等のデジタ
ル回路である。デジタル回路3は、同一のSi基板4上
のn型ウエル層5Cに形成されている。ここでも、n型
ウエル層5Cは素子を絶縁するために電源線VCCに接続
されている。Reference numeral 2 is a load resistor for extracting the output signal of the analog circuit. The load resistor 2 is composed of, for example, a p-type diffusion layer, and has an n-type well layer 5B on the same Si substrate 4.
Is formed. Here again, the n-type well layer 5B is connected to the power supply line Vcc to insulate the element. Reference numeral 3 is a digital circuit such as an inverter or a logic circuit that handles digital signals. The digital circuit 3 is formed in the n-type well layer 5C on the same Si substrate 4. Here again, the n-type well layer 5C is connected to the power supply line Vcc to insulate the element.
【0005】なお、各n型ウエル層5A〜5Cはp型の
素子分離層6によって絶縁されており、電源線VCCは電
源パッドを少なくするために、デジタル回路3からアナ
ログ回路1へ連続して配線されている。ところで、従来
例の電源入力インピーダンスの低いアナログ−デジタル
回路混在ICでは電流を多く消費していた。このような
ICをバッテリーで駆動する携帯電子機器に使用する
と、電子機器の使用継続時間が短くなるため好ましくな
い。そこで、電力の低消費化を図るために、電源端子か
ら内部回路を見た電源入力インピーダンスを高くしてい
る。これによって、ICの消費電流が数10μAから数
μAに絞り込まれている。The n-type well layers 5A to 5C are insulated by the p-type element isolation layer 6, and the power supply line Vcc is continuously connected from the digital circuit 3 to the analog circuit 1 in order to reduce the number of power supply pads. It is wired. By the way, the conventional analog-digital circuit mixed IC having a low power input impedance consumes a large amount of current. It is not preferable to use such an IC in a battery-powered portable electronic device because the duration of use of the electronic device is shortened. Therefore, in order to reduce the power consumption, the power supply input impedance when the internal circuit is viewed from the power supply terminal is increased. As a result, the current consumption of the IC is narrowed down from several tens of μA to several μA.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、電源入
力インピーダンスをあまり高くすると、デジタル回路2
からアナログ回路1へノイズが伝搬するという問題があ
る。図5(A)において、7はアナログ−デジタル回路
混在ICと外部端子を接続するボンディングワイヤであ
り、8は電源線VCCに接続された外付け用の容量(パス
コン)である。ノイズはデジタル回路2の電源線VCCか
らアナログ回路1の電源線VCCへ伝搬するリンギング
(振動性過渡現象)によって発生する。However, if the power source input impedance is too high, the digital circuit 2
There is a problem that noise is propagated from the analog circuit 1 to the analog circuit 1. In FIG. 5 (A), 7 is a bonding wire that connects the analog-digital circuit mixed IC and the external terminal, and 8 is an external capacitor (bypass capacitor) connected to the power supply line VCC. Noise is generated by ringing (oscillating transient phenomenon) propagating from the power supply line Vcc of the digital circuit 2 to the power supply line Vcc of the analog circuit 1.
【0007】このリンギングは素子定数にもよるが周波
数が数100 MHzにも達し、図5(B)に示すようなボ
ンディングワイヤ7によるインダクタンス(コイル成
分)Lと、パスコン8の容量Cpと、デジタル回路2の
トランジスタのオン抵抗Rtによって、(1)式のよう
な周波数fを与えるものである。 f=1/(2π√L/Cp)…(1) このリンギングは、デジタル回路2の出力遷移時に、パ
スコン8に貫通電流が流れることにより、アナログ回路
1の電源線VCCを変動させるので、アナログ回路1のn
型ウエル層5Aや負荷抵抗2のn型ウエル層5Bの電位
を変動させてしまい、コンパレータやオペアンプ等のア
ナログ回路1の出力を変動させるものとなる。特に、コ
ンパレータに基準電圧を供給するリファレンス回路が、
この電源線VCCに接続されていると、このリンギングが
波及することで、基準電圧が変動し、コンパレータの出
力を大きく変化させてしまう。このようなことがアナロ
グ回路1の誤動作や特性劣化の原因となる。The frequency of this ringing reaches several hundred MHz depending on the element constant, and the inductance (coil component) L by the bonding wire 7 as shown in FIG. 5B, the capacitance Cp of the decap 8 and the digital The on-resistance Rt of the transistor of the circuit 2 gives the frequency f as shown in equation (1). f = 1 / (2π√L / Cp) (1) This ringing changes the power supply line VCC of the analog circuit 1 due to the flow-through current flowing through the decap 8 during the output transition of the digital circuit 2, and N of circuit 1
The potentials of the well layer 5A and the n-type well layer 5B of the load resistor 2 are changed, and the output of the analog circuit 1 such as a comparator and an operational amplifier is changed. In particular, the reference circuit that supplies the reference voltage to the comparator
If it is connected to this power supply line Vcc, this ringing will spread and the reference voltage will fluctuate and the output of the comparator will change greatly. This causes malfunction of the analog circuit 1 and deterioration of characteristics.
【0008】なお、特開昭61−224348の半導体
集積回路装置には、コンデンサの電極の一方にパッドを
利用したものが記載されているが、大きな容量を得るこ
とができない。特開昭61−199653の増幅器に
は、外付けのコンデンサと、島(ウエル層)に形成した
抵抗からフィルタを構成するものが記載されているが、
容量を外付けとしなくてはならい。特開平3−1310
61の入力回路には、外来入力ノイズを除去するフィル
タが記載されているが、デジタル回路で発生したノイズ
を除去するものではない。In the semiconductor integrated circuit device disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 224348/1986, a pad is used for one of the electrodes of the capacitor, but a large capacitance cannot be obtained. Japanese Patent Laid-Open No. 61-199653 discloses an amplifier that forms a filter from an external capacitor and a resistor formed in an island (well layer).
The capacity must be external. JP-A-3-1310
Although a filter for removing external input noise is described in the input circuit 61, it does not remove noise generated in the digital circuit.
【0009】本発明は、かかる従来例の問題点に鑑み創
作されたものであり、既存の接合容量を巧く使用してフ
ィルタ回路を構成し、デジタル回路からアナログ回路へ
ノイズが伝搬しないようにすることが可能となる半導体
装置の提供を目的とする。The present invention was created in view of the problems of the conventional example, and a filter circuit is constructed by skillfully using an existing junction capacitance so that noise does not propagate from a digital circuit to an analog circuit. It is an object of the present invention to provide a semiconductor device that can be manufactured.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明の第1の半導体装
置は、その実施例を図1に示すように、一導電型の半導
体基板上で素子分離層によって絶縁された複数の半導体
層と、前記半導体層でアナログ回路を形成したアナログ
回路と、前記半導体層でデジタル回路を形成したデジタ
ル回路と、一端を前記デジタル回路の電源線に接続し、
かつ、他端を前記アナログ回路の電源線及び1以上の前
記半導体層に接続した抵抗と、前記抵抗に接続した半導
体層と該半導体層の素子分離層との間に生じる容量とを
備えていることを特徴とする。As shown in FIG. 1, a first semiconductor device of the present invention comprises a plurality of semiconductor layers insulated by an element isolation layer on a semiconductor substrate of one conductivity type. An analog circuit having an analog circuit formed with the semiconductor layer, a digital circuit having a digital circuit formed with the semiconductor layer, and one end connected to a power supply line of the digital circuit,
And a resistor having the other end connected to the power supply line of the analog circuit and one or more semiconductor layers, and a capacitance generated between the semiconductor layer connected to the resistor and the element isolation layer of the semiconductor layer. It is characterized by
【0011】本発明の第2の半導体装置は、その実施例
を図3(A)に示すように一導電型の半導体基板上で素
子分離層によって絶縁された複数の半導体層と、前記半
導体層に設けられたアナログ回路と、前記半導体層に設
けられたデジタル回路と、コレクタを前記デジタル回路
の電源線に接続し、かつ、エミッタを前記アナログ回路
の電源線に接続したバイポーラトランジスタと、一端を
前記バイポーラトランジスタのベースと、1以上の前記
半導体層とに接続し、かつ、他端を前記デジタル回路の
電源線に接続した抵抗と、前記抵抗に接続した半導体層
と該半導体層の素子分離層との間に生じる容量とを備え
ていることを特徴とする。As shown in FIG. 3A, the second semiconductor device of the present invention has a plurality of semiconductor layers insulated by an element isolation layer on a semiconductor substrate of one conductivity type, and the semiconductor layer. An analog circuit provided in the semiconductor layer, a digital circuit provided in the semiconductor layer, a bipolar transistor having a collector connected to the power supply line of the digital circuit and an emitter connected to the power supply line of the analog circuit, and one end thereof. A resistor connected to the base of the bipolar transistor and one or more semiconductor layers and the other end of which is connected to a power supply line of the digital circuit, a semiconductor layer connected to the resistor, and an element isolation layer of the semiconductor layer. And a capacity that occurs between and.
【0012】本発明の第3の半導体装置は、その実施例
を図3(B)に示すように一導電型の半導体基板上で素
子分離層によって絶縁された複数の半導体層と、前記半
導体層に設けられたアナログ回路と、前記半導体層に設
けられたデジタル回路と、ドレインを前記デジタル回路
の電源線に接続し、かつ、ソースを前記アナログ回路の
電源線に接続した電界効果トランジスタと、一端を前記
電界効果トランジスタのゲートと1以上の前記半導体層
とに接続し、かつ、他端を前記デジタル回路の電源線に
接続した抵抗と、前記抵抗に接続した半導体層と該半導
体層の素子分離層との間に生じる容量とを備えているこ
とを特徴とする。As shown in FIG. 3B, a third semiconductor device of the present invention has a plurality of semiconductor layers insulated by an element isolation layer on a semiconductor substrate of one conductivity type, and the semiconductor layer. An analog circuit provided in the semiconductor layer, a digital circuit provided in the semiconductor layer, a drain connected to the power supply line of the digital circuit, and a source connected to the power supply line of the analog circuit, and a field effect transistor, Connected to the gate of the field effect transistor and one or more semiconductor layers, and the other end connected to a power supply line of the digital circuit, a semiconductor layer connected to the resistance, and element isolation of the semiconductor layer. And a capacitance generated between the layers.
【0013】本発明の第4の半導体装置は第2及び第3
の半導体装置において、前記バイポーラトランジスタ又
は電界効果トランジスタをダーリントン接続することを
特徴とする(図3(C)参照)。本発明の第1〜第4の
半導体装置において、前記容量は電源配線下の半導体層
に使用することを特徴とし、上記目的を達成する。A fourth semiconductor device according to the present invention is the second and third semiconductor devices.
In the above semiconductor device, the bipolar transistor or the field effect transistor is Darlington-connected (see FIG. 3C). In the first to fourth semiconductor devices of the present invention, the capacitor is used in a semiconductor layer below a power supply wiring, and the above object is achieved.
【0014】[0014]
【作 用】本発明の第1の半導体装置では、アナログ回
路の電源線とデジタル回路の電源線との間に接続した抵
抗と、この抵抗に接続した他の半導体層と素子分離層と
の間に寄生する容量からフィルタ回路が構成できるの
で、デジタル回路からアナログ回路へ電源線を介して伝
搬しようとするノイズがこのフィルタ回路によって阻止
できる。[Operation] In the first semiconductor device of the present invention, a resistor connected between a power line of an analog circuit and a power line of a digital circuit, and another semiconductor layer connected to this resistor and an element isolation layer are connected. Since the filter circuit can be configured from the capacitance parasitic on the circuit, noise that is about to propagate from the digital circuit to the analog circuit via the power supply line can be blocked by this filter circuit.
【0015】このときのノイズカット周波数fcは、容
量をC、抵抗をRとすると、 fc=1/(2πR・C)…(2) である。従って、携帯電子機器等において、消費電流の
低減ためにデジタル回路やアナログ回路等の電源入力イ
ンピーダンスを高くした場合であっても、既存の寄生容
量を使用してノイズフィルタ回路を構成することができ
るので、デジタル回路で発生したノイズがこのフィルタ
回路によって十分に減衰でき、アナログ回路にはフィル
タ回路を通した極めて変動の少ない電圧が供給できる。The noise cut frequency fc at this time is fc = 1 / (2πR · C) (2) where C is the capacitance and R is the resistance. Therefore, in a portable electronic device or the like, even if the power supply input impedance of a digital circuit, an analog circuit, or the like is increased to reduce current consumption, the noise filter circuit can be configured using the existing parasitic capacitance. Therefore, the noise generated in the digital circuit can be sufficiently attenuated by this filter circuit, and the analog circuit can be supplied with a voltage having a very small variation through the filter circuit.
【0016】本発明の第2の半導体装置では、アナログ
回路の電源線とデジタル回路の電源線との間に接続され
たバイポーラトランジスタと、このトランジスタのベー
スに接続された抵抗と、この抵抗に接続された他の半導
体層と素子分離層との間に生じる容量からフィルタ回路
が構成できる。また、バイポーラトランジスタの電流増
幅率β(hfe)によって、ベース電流を増幅できるの
で、既存の寄生容量が小さな場合であっても、大きな時
定数が得られるノイズフィルタ回路を構成することがで
きるので、このフィルタ回路によって、デジタル回路か
らアナログ回路に電源線を介して伝搬しようとするノイ
ズが十分に減衰でき、安定した電圧がアナログ回路に供
給できる。In the second semiconductor device of the present invention, the bipolar transistor connected between the power line of the analog circuit and the power line of the digital circuit, the resistor connected to the base of this transistor, and the resistor connected to this resistor. A filter circuit can be formed from the capacitance generated between the other semiconductor layer and the element isolation layer. Also, since the base current can be amplified by the current amplification factor β (hfe) of the bipolar transistor, it is possible to configure a noise filter circuit that can obtain a large time constant even if the existing parasitic capacitance is small. With this filter circuit, noise that is about to propagate from the digital circuit to the analog circuit via the power supply line can be sufficiently attenuated, and a stable voltage can be supplied to the analog circuit.
【0017】本発明の第3の半導体装置では電界効果ト
ランジスタよって、第2の半導体装置と同様に時定数を
大きくできるので、既存の寄生容量が小さな場合であっ
ても、ノイズが十分に減衰でき、安定した電圧がアナロ
グ回路に供給できる。本発明の第4の半導体装置では、
本発明の第2及び第3の半導体装置において、トランジ
スタをダーリントン接続することで、小さい容量でノイ
ズフィルタが構成できるし、ノイズカット周波数が高く
設定できる。Since the time constant can be increased in the third semiconductor device of the present invention by the field effect transistor as in the second semiconductor device, noise can be sufficiently attenuated even when the existing parasitic capacitance is small. , A stable voltage can be supplied to the analog circuit. In the fourth semiconductor device of the present invention,
In the second and third semiconductor devices of the present invention, by connecting the transistors in Darlington connection, a noise filter can be configured with a small capacitance and a noise cut frequency can be set high.
【0018】また、本発明の第1〜第4の半導体装置に
おいて、通常、受動素子や能動素子が設けられたいない
電源配線下の半導体層と素子分離層との間の容量を使用
すれば、更に半導体チップを無駄なく利用できる。Further, in the first to fourth semiconductor devices of the present invention, normally, if the capacitance between the semiconductor layer and the element isolation layer below the power supply wiring not provided with the passive element or the active element is used, Further, the semiconductor chip can be used without waste.
【0019】[0019]
【実施例】次に、図を参照しながら本発明の実施例につ
いて説明をする。図1〜3は、本発明の実施例に係る半
導体装置の説明図である。 (1)第1の実施例の説明 図1は、本発明の第1の実施例に係るアナログ−デジタ
ル回路混在ICの構成図を示している。図1において、
11はn型ウエル層(島)15Aに形成されたアナログ回
路である。アナログ回路11はバイポーラトランジスタ
から成り、アナログ信号を取り扱うコンパレータやオペ
アンプ等であり、コンパレータに基準電圧を供給するリ
ファレンス回路も対象となる。n型ウエル層15Aはp型
Si基板(一導電型の半導体基板)14上でp型の素子
分離層16によって絶縁されている。Embodiments of the present invention will now be described with reference to the drawings. 1 to 3 are explanatory views of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention. (1) Description of First Embodiment FIG. 1 shows a block diagram of an analog-digital circuit mixed IC according to a first embodiment of the present invention. In FIG.
Reference numeral 11 is an analog circuit formed on the n-type well layer (island) 15A. The analog circuit 11 is composed of a bipolar transistor and is a comparator or an operational amplifier that handles an analog signal, and a reference circuit that supplies a reference voltage to the comparator is also a target. The n-type well layer 15A is insulated by a p-type element isolation layer 16 on a p-type Si substrate (one conductivity type semiconductor substrate) 14.
【0020】なお、バイポーラトランジスタの場合に
は、n型ウエル層15AをSi(シリコン)のエピタキシ
ャル成長によって形成する。n型ウエル層15Aは素子を
絶縁するためにアナログ回路11の最高電位となる電源
線VCCに接続されている。n型ウエル層15Aとp型Si
基板14との間には接合破壊を防止するために、n+ 型
の埋め込み層17Aが設けられている。MOS(電界効
果)トランジスタの場合には、Si基板に不純物を拡散
して形成する。埋め込み層は形成されない。In the case of a bipolar transistor, the n-type well layer 15A is formed by epitaxial growth of Si (silicon). The n-type well layer 15A is connected to the power supply line Vcc having the highest potential of the analog circuit 11 to insulate the element. n-type well layer 15A and p-type Si
An n + type buried layer 17A is provided between the substrate 14 and the substrate 14 in order to prevent junction breakdown. In the case of a MOS (field effect) transistor, it is formed by diffusing impurities in a Si substrate. No buried layer is formed.
【0021】12は同一のSi基板14上のn型ウエル
層15Bに形成された抵抗であり、アナログ回路11の負
荷として出力信号を取り出したり、その他のバイアス素
子として使用されている。負荷抵抗12は、例えば、p
型の拡散層から成る。n型ウエル層15Bは素子を絶縁す
るために電源線VCCに接続されている。n型ウエル層15
Aとp型Si基板14との間には接合破壊を防止するた
めに、n+ 型の埋め込み層17Bが設けられたいる。Reference numeral 12 is a resistor formed in the n-type well layer 15B on the same Si substrate 14, and is used as a load of the analog circuit 11 for taking out an output signal or used as another bias element. The load resistance 12 is, for example, p
Mold diffusion layer. The n-type well layer 15B is connected to the power supply line Vcc to insulate the device. n-type well layer 15
An n + type buried layer 17B is provided between A and the p type Si substrate 14 in order to prevent junction breakdown.
【0022】13は同一のSi基板14上のn型ウエル
層15Cに形成されたデジタル回路である。デジタル回路
13はデジタル信号を取り扱うインバータや論理回路等
である。ここでも、n型ウエル層15Cは素子を絶縁する
ためにデジタル回路13の最高電位となる電源線VDDに
接続されている。n型ウエル層15Cとp型Si基板14
との間には接合破壊を防止するために、n+ 型の埋め込
み層17Cが設けられたいる。なお、各n型ウエル層15A
〜15Cはp型の素子分離層16によって絶縁されてい
る。Reference numeral 13 is a digital circuit formed in the n-type well layer 15C on the same Si substrate 14. The digital circuit 13 is an inverter or logic circuit that handles digital signals. Here again, the n-type well layer 15C is connected to the power supply line VDD which has the highest potential of the digital circuit 13 in order to insulate the element. n-type well layer 15C and p-type Si substrate 14
An n + -type buried layer 17C is provided between and in order to prevent junction breakdown. Each n-type well layer 15A
.About.15C are insulated by the p-type element isolation layer 16.
【0023】18は一端をデジタル回路13の電源線V
DDに接続し、他端をアナログ回路11の電源線VCC及び
n型ウエル層15A,15Bに接続した抵抗である。抵抗1
8はポリシリコン配線や拡散層から形成する。抵抗18
は後述するpn接合容量と共にノイズフィルタ回路を構
成する。また、抵抗18はアナログ回路11の動作に影
響しない範囲で、電圧降下が得られるような大きな値に
設定すると良い。Reference numeral 18 denotes one end of the power supply line V of the digital circuit 13.
A resistor connected to DD and the other end connected to the power supply line VCC of the analog circuit 11 and the n-type well layers 15A and 15B. Resistance 1
8 is formed of a polysilicon wiring or a diffusion layer. Resistance 18
Constitutes a noise filter circuit together with a pn junction capacitance described later. Further, the resistor 18 may be set to a large value so that a voltage drop can be obtained within a range that does not affect the operation of the analog circuit 11.
【0024】Cは抵抗18に接続したn型ウエル層15
A,15Bと、その素子分離層16との間にそれぞれ生じ
るpn接合(ダイオード)容量である。この容量Cは図
2(A)において、基板14に接合された素子分離層1
6を接地線GNDに接続し、n型ウエル層15Bを電源線V
CCに接続すると、空乏層が拡がって発生するものであ
る。この容量CにはMOSトランジスタのバックゲート
層と素子分離層、バイポーラトランジスタのコレクタ層
と素子分離層や負荷抵抗12のウエル層と素子分離層と
の間に寄生するものが利用できる。C is an n-type well layer 15 connected to the resistor 18.
These are pn junction (diode) capacitors generated between A and 15B and the element isolation layer 16, respectively. This capacitance C is the element isolation layer 1 bonded to the substrate 14 in FIG.
6 is connected to the ground line GND, and the n-type well layer 15B is connected to the power line V
When connected to CC, the depletion layer expands and occurs. As the capacitance C, those which are parasitic between the back gate layer and the element isolation layer of the MOS transistor, the collector layer and the element isolation layer of the bipolar transistor, and the well layer and the element isolation layer of the load resistor 12 can be used.
【0025】また、本発明には、電源パッドを少なくす
るために、図2(B)に示すように、電源線VCCをデジ
タル回路13を経由してアナログ回路11へ抵抗Rを介
して連続して配線する第1の方法と、図2(C)に示す
ように電源パッドの所で、デジタル回路13への電源線
VDDとアナログ回路11への電源線VCCとに分け、アナ
ログ回路11への電源線VCCを抵抗Rを介して配線する
第2の方法とを含んでいる。ここで従来例と異なるの
は、アナログ回路11とデジタル回路13の電源線VC
C,VDDとの間に抵抗18が介在された点である。Further, according to the present invention, in order to reduce the number of power supply pads, as shown in FIG. 2B, the power supply line Vcc is continuously connected to the analog circuit 11 via the digital circuit 13 and the resistor R. 2C, and at the power supply pad as shown in FIG. 2C, the power supply line VDD to the digital circuit 13 and the power supply line VCC to the analog circuit 11 are divided and the analog circuit 11 is connected. The second method of wiring the power supply line Vcc through the resistor R is included. Here, the difference from the conventional example is the power supply line VC of the analog circuit 11 and the digital circuit 13.
This is the point where the resistor 18 is interposed between C and VDD.
【0026】次に、図2(B)を参照しながら本発明の
第1の実施例に係るアナログ−デジタル回路混在ICの
ノイズフィルタ回路について説明をする。図2(B)に
おいて、10は抵抗18及び容量Cから成るノイズフィ
ルタ回路である。このようなフィルタ回路10は、図1
で説明したように、デジタル回路13の電源線VDDに抵
抗18の一端を接続し、この抵抗18の他端をアナログ
回路11や負荷抵抗12のnウエル層15A,15Bと、こ
のアナログ回路11の電源線VCCとに接続することによ
り構成することができる。Next, the noise filter circuit of the analog-digital circuit mixed IC according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In FIG. 2B, 10 is a noise filter circuit including a resistor 18 and a capacitor C. Such a filter circuit 10 is shown in FIG.
As described above, one end of the resistor 18 is connected to the power supply line VDD of the digital circuit 13, and the other end of the resistor 18 is connected to the n-well layers 15A and 15B of the analog circuit 11 and the load resistor 12 and the analog circuit 11 of the analog circuit 11. It can be configured by connecting to the power line VCC.
【0027】このノイズフィルタ回路10は従来例で説
明したような周波数100MHz程度のリンギングが電
源線VDDに生じても、このリンギングによるノイズがカ
ットできる。このときのノイズカット周波数fcは
(2)式に示した通りであり、容量Cが数十pF程度で
あれば、抵抗18を数百Ω程度に設定すると良い。この
ようにして本発明の第1の実施例に係るアナログ−デジ
タル回路混在ICでは、アナログ回路11の電源線VCC
とデジタル回路13の電源線VDDとの間に接続した抵抗
18と、この抵抗18に接続したn型ウエル層15A,15
Bと素子分離層16との間に生じる容量Cから、図2
(B)や(C)に示したようなフィルタ回路10が構成
できるので、デジタル回路13からアナログ回路11へ
伝搬しようとするノイズをこのフィルタ回路10によっ
て除くことができる。This noise filter circuit 10 can cut the noise due to this ringing even if ringing at a frequency of about 100 MHz occurs in the power supply line VDD as described in the conventional example. The noise cut frequency fc at this time is as shown in the equation (2), and if the capacitance C is about several tens pF, the resistance 18 may be set to about several hundred Ω. In this way, in the analog-digital circuit mixed IC according to the first embodiment of the present invention, the power supply line VCC of the analog circuit 11 is
And a n-type well layer 15A, 15 connected to the resistor 18 and the power supply line VDD of the digital circuit 13
From the capacitance C generated between B and the element isolation layer 16, FIG.
Since the filter circuit 10 shown in (B) and (C) can be configured, the noise that is going to propagate from the digital circuit 13 to the analog circuit 11 can be removed by this filter circuit 10.
【0028】このため、アナログ回路11の電源線VCC
の電圧変動が抑えられるので、アナログ回路11のn型
ウエル層15Aや負荷抵抗12のn型ウエル層15Bの電位
が安定し、コンパレータやオペアンプ等のアナログ回路
11の出力変動が抑えられる。特に、リファレンス回路
からコンパレータへ安定した基準電圧が供給できるの
で、コンパレータの出力が安定する。Therefore, the power supply line VCC of the analog circuit 11
Since the voltage fluctuation of the analog circuit 11 is suppressed, the potentials of the n-type well layer 15A of the analog circuit 11 and the n-type well layer 15B of the load resistor 12 are stabilized, and the fluctuations of the output of the analog circuit 11 such as a comparator and an operational amplifier are suppressed. In particular, since a stable reference voltage can be supplied from the reference circuit to the comparator, the output of the comparator becomes stable.
【0029】従って、消費電流の低減ためにアナログ回
路11やデジタル回路13等の電源入力インピーダンス
を高くし、この回路の消費電流を数十μAから数μAに
絞り込んだ場合であっても、既存の寄生容量Cを使用し
たフィルタ回路10によってリンギングによるノイズを
十分に減衰でき、図2(B)に示すようにデジタル回路
13から抵抗18を介してアナログ回路11へ安定した
電圧が供給できる。また、図2(C)に示すようにパッ
ドから抵抗18を介してアナログ回路11へ安定した電
圧が供給できる。Therefore, even if the power supply input impedance of the analog circuit 11 and the digital circuit 13 is increased in order to reduce the current consumption and the current consumption of this circuit is narrowed down from several tens of μA to several μA, the existing power consumption is reduced. Noise due to ringing can be sufficiently attenuated by the filter circuit 10 using the parasitic capacitance C, and a stable voltage can be supplied from the digital circuit 13 to the analog circuit 11 via the resistor 18 as shown in FIG. Further, as shown in FIG. 2C, a stable voltage can be supplied from the pad to the analog circuit 11 via the resistor 18.
【0030】このようなICをバッテリーで駆動する携
帯電子機器に使用すれば、電力の低消費化が図られ、電
子機器の使用継続時間が長くできる点で非常に好まし
い。なお、容量Cにはn型のウエル層(島)15Aや15B
を使用するため、新たな拡散あるいは容量Cのための領
域を別段必要としないので安価に実現できる。 (2)第2の実施例の説明 図3(A)は、本発明の第2の実施例に係るアナログ−
デジタル回路混在ICの構成図を示している。第2の実
施例では第1の実施例と異なり、ノイズフィルタ回路に
トランジスタが設けられるものである。The use of such an IC in a battery-powered portable electronic device is very preferable in that the power consumption can be reduced and the duration of use of the electronic device can be extended. The capacitor C has n-type well layers (islands) 15A and 15B.
Since it does not require an additional area for new diffusion or capacitance C, it can be realized at low cost. (2) Description of Second Embodiment FIG. 3A shows an analog circuit according to the second embodiment of the present invention.
The block diagram of the digital circuit mixed IC is shown. The second embodiment differs from the first embodiment in that a transistor is provided in the noise filter circuit.
【0031】図3(A)において、20はデジタル回路
11で発生したノイズを阻止するノイズフィルタ回路で
あり、バイポーラトランジスタQと、抵抗Rと、寄生容
量Cから成る。トランジスタQはコレクタがデジタル回
路13の電源線VDDに接続され、そのエミッタがアナロ
グ回路11の電源線VCCに接続され、そのベースが抵抗
Rの一端と寄生容量Cの一端に接続されている。抵抗R
の他端は電源線VDDに接続され、寄生容量Cの他端は接
地線GNDに接続されている。なお、寄生容量Cは第1の
実施例と同様に、n型ウエル層15Aや15Bと素子分離層
16との間に生じたものを使用している。アナログ回路
11及びデジタル回路13については第1の実施例と同
様であるため、その説明を省略する。In FIG. 3A, reference numeral 20 is a noise filter circuit for blocking noise generated in the digital circuit 11, which is composed of a bipolar transistor Q, a resistor R, and a parasitic capacitance C. The transistor Q has a collector connected to the power supply line VDD of the digital circuit 13, an emitter connected to the power supply line VCC of the analog circuit 11, and a base connected to one end of the resistor R and one end of the parasitic capacitance C. Resistance R
Is connected to the power supply line VDD, and the other end of the parasitic capacitance C is connected to the ground line GND. As the parasitic capacitance C, the one generated between the n-type well layers 15A and 15B and the element isolation layer 16 is used as in the first embodiment. Since the analog circuit 11 and the digital circuit 13 are the same as those in the first embodiment, the description thereof will be omitted.
【0032】このようにして、本発明の第2の実施例に
係るアナログ−デジタル回路混在ICでは、アナログ回
路11の電源線VCCとデジタル回路13の電源線VDDと
の間に接続されたバイポーラトランジスタQと、このト
ランジスタQのベースに接続された抵抗Rと、この抵抗
Rに接続された寄生容量Cからフィルタ回路20が構成
できる。Thus, in the analog-digital circuit mixed IC according to the second embodiment of the present invention, the bipolar transistor connected between the power supply line VCC of the analog circuit 11 and the power supply line VDD of the digital circuit 13 is used. The filter circuit 20 can be configured by Q, the resistor R connected to the base of the transistor Q, and the parasitic capacitance C connected to the resistor R.
【0033】また、ノイズフィルタ回路20はトランジ
スタQの電流増幅率によって、ベース電流を増幅できる
ので、寄生容量Cが小さな場合であっても、時定数が大
きくできる。したがって、このフィルタ回路20によっ
て、第1の実施例と同様にデジタル回路13からアナロ
グ回路11に伝搬しようとするノイズが十分に減衰で
き、安定した電圧がアナログ回路11に供給できる。Further, since the noise filter circuit 20 can amplify the base current by the current amplification factor of the transistor Q, the time constant can be increased even when the parasitic capacitance C is small. Therefore, the filter circuit 20 can sufficiently attenuate the noise that is going to propagate from the digital circuit 13 to the analog circuit 11 and can supply a stable voltage to the analog circuit 11 as in the first embodiment.
【0034】(3)第3の実施例の説明 図3(B)は、本発明の第3の実施例に係るアナログ−
デジタル回路混在ICの構成図を示している。第3の実
施例では第2の実施例と異なり、ノイズフィルタ回路に
電界効果トランジスタが設けられるものである。図3
(B)において、30はデジタル回路11で発生したノ
イズを阻止するノイズフィルタ回路であり、n型の電界
効果トランジスタTと、抵抗Rと、寄生容量Cから成
る。トランジスタTはドレインがデジタル回路13の電
源線VDDに接続され、そのソースがアナログ回路11の
電源線VCCに接続され、そのゲートが抵抗Rの一端と寄
生容量Cの一端に接続されている。p型の電界効果トラ
ンジスタTを使用する場合にはソース・ドレインの接続
が反対になる。(3) Description of Third Embodiment FIG. 3B shows an analog circuit according to the third embodiment of the present invention.
The block diagram of the digital circuit mixed IC is shown. The third embodiment differs from the second embodiment in that a field effect transistor is provided in the noise filter circuit. FIG.
In (B), 30 is a noise filter circuit that blocks noise generated in the digital circuit 11, and is composed of an n-type field effect transistor T, a resistor R, and a parasitic capacitance C. The transistor T has a drain connected to the power supply line VDD of the digital circuit 13, a source connected to the power supply line VCC of the analog circuit 11, and a gate connected to one end of the resistor R and one end of the parasitic capacitance C. When the p-type field effect transistor T is used, the connection between the source and drain is reversed.
【0035】抵抗Rの他端は電源線VDDに接続され、寄
生容量Cの他端は接地線GNDに接続されている。なお、
寄生容量Cは第1の実施例と同様に、n型ウエル層15A
や15Bと素子分離層16との間に生じたものを使用して
いる。アナログ回路11及びデジタル回路13について
は第1の実施例と同様であるため、その説明を省略す
る。The other end of the resistor R is connected to the power supply line VDD, and the other end of the parasitic capacitance C is connected to the ground line GND. In addition,
The parasitic capacitance C is the n-type well layer 15A as in the first embodiment.
15B and the element isolation layer 16 are used. Since the analog circuit 11 and the digital circuit 13 are the same as those in the first embodiment, the description thereof will be omitted.
【0036】このようにして、本発明の第3の実施例に
係るアナログ−デジタル回路混在ICでは、アナログ回
路11の電源線VCCとデジタル回路13の電源線VDDと
の間に接続された電界効果トランジスタTと、このトラ
ンジスタTのゲートに接続された抵抗Rと、この抵抗R
に接続された寄生容量Cからフィルタ回路30が構成で
きる。Thus, in the analog-digital circuit mixed IC according to the third embodiment of the present invention, the electric field effect connected between the power supply line VCC of the analog circuit 11 and the power supply line VDD of the digital circuit 13 is obtained. A transistor T, a resistor R connected to the gate of the transistor T, and a resistor R
The filter circuit 30 can be configured from the parasitic capacitance C connected to the.
【0037】また、ノイズフィルタ回路30はトランジ
スタTによって、ゲート電流を増幅できるので、寄生容
量Cが小さな場合であっても、第2の実施例と同様に時
定数が大きくできる。したがって、このフィルタ回路3
0によって、第1及び第2の実施例と同様にデジタル回
路13からアナログ回路11に伝搬しようとするノイズ
が十分に減衰でき、安定した電圧がアナログ回路11に
供給できる。Further, since the noise filter circuit 30 can amplify the gate current by the transistor T, even when the parasitic capacitance C is small, the time constant can be increased as in the second embodiment. Therefore, this filter circuit 3
With 0, the noise that is going to propagate from the digital circuit 13 to the analog circuit 11 can be sufficiently attenuated as in the first and second embodiments, and a stable voltage can be supplied to the analog circuit 11.
【0038】(4)第4の実施例の説明 図3(C)は、本発明の第4の実施例に係るアナログ−
デジタル回路混在ICの構成図を示している。第4の実
施例では第2の実施例と異なり、ノイズフィルタ回路の
トランジスタがダーリントン接続されるものである。図
3(C)において、40はデジタル回路11で発生した
ノイズを阻止するノイズフィルタ回路であり、バイポー
ラトランジスタQ1,Q2と、抵抗Rと、寄生容量Cか
ら成る。トランジスタQ1のコレクタはデジタル回路1
3の電源線VDDに接続され、そのエミッタがアナログ回
路11の電源線VCCに接続され、そのベースがトランジ
スタQ2のエミッタに接続されている。(4) Description of Fourth Embodiment FIG. 3C shows an analog circuit according to the fourth embodiment of the present invention.
The block diagram of the digital circuit mixed IC is shown. The fourth embodiment differs from the second embodiment in that the transistors of the noise filter circuit are Darlington connected. In FIG. 3C, reference numeral 40 is a noise filter circuit that blocks noise generated in the digital circuit 11, and includes bipolar transistors Q1 and Q2, a resistor R, and a parasitic capacitance C. The collector of the transistor Q1 is the digital circuit 1
3 is connected to the power supply line VDD, its emitter is connected to the power supply line VCC of the analog circuit 11, and its base is connected to the emitter of the transistor Q2.
【0039】トランジスタQ2のコレクタはデジタル回
路13の電源線VDDに接続され、そのベースが抵抗Rの
一端と寄生容量Cの一端に接続されている。抵抗Rの他
端は電源線VDDに接続され、寄生容量Cの他端は接地線
GNDに接続されている。なお、寄生容量Cは第1の実施
例と同様に、n型ウエル層15Aや15Bと素子分離層16
との間に生じたものを使用している。アナログ回路11
及びデジタル回路13については第1の実施例と同様で
あるため、その説明を省略する。The collector of the transistor Q2 is connected to the power supply line VDD of the digital circuit 13, and its base is connected to one end of the resistor R and one end of the parasitic capacitance C. The other end of the resistor R is connected to the power supply line VDD, and the other end of the parasitic capacitance C is connected to the ground line GND. The parasitic capacitance C is the same as that of the first embodiment in that the n-type well layers 15A and 15B and the element isolation layer 16 are formed.
It uses the one that occurred between and. Analog circuit 11
Since the digital circuit 13 and the digital circuit 13 are similar to those in the first embodiment, the description thereof will be omitted.
【0040】このようにして、本発明の第4の実施例に
係るアナログ−デジタル回路混在ICでは、アナログ回
路11の電源線VCCとデジタル回路13の電源線VDDと
の間にダーリントン接続されたバイポーラトランジスタ
Q1,Q2と、このトランジスタQ2のベースに接続さ
れた抵抗Rと、この抵抗Rに接続された寄生容量Cから
フィルタ回路40が構成できる。Thus, in the analog-digital circuit mixed IC according to the fourth embodiment of the present invention, a Darlington connection bipolar is provided between the power supply line VCC of the analog circuit 11 and the power supply line VDD of the digital circuit 13. The filter circuit 40 can be composed of the transistors Q1 and Q2, the resistor R connected to the base of the transistor Q2, and the parasitic capacitance C connected to the resistor R.
【0041】また、ノイズフィルタ回路40はトランジ
スタQ1,Q2の電流増幅率によって、第2の実施例に
比べてベース電流を更に増幅できるので、寄生容量Cが
小さな場合であっても、時定数が大きくできる。先の
(2)式で、容量Cを小さくすることができ、ノイズカ
ット周波数が更に高く設定できる。したがって、このフ
ィルタ回路40によって、第1〜第3の実施例と同様に
デジタル回路13からアナログ回路11に伝搬しようと
するノイズが十分に減衰でき、安定した電圧がアナログ
回路11に供給できる。Further, since the noise filter circuit 40 can further amplify the base current by the current amplification factor of the transistors Q1 and Q2 as compared with the second embodiment, the time constant is small even when the parasitic capacitance C is small. Can be made bigger. The capacitance C can be made smaller and the noise cut frequency can be set higher by the equation (2). Therefore, this filter circuit 40 can sufficiently attenuate the noise that is going to propagate from the digital circuit 13 to the analog circuit 11 and can supply a stable voltage to the analog circuit 11 as in the first to third embodiments.
【0042】なお、ダーリントン接続するトランジスタ
は電界効果トランジスタでも良い。また、本発明の第1
〜第4の実施例において、トランジスタや抵抗が設けら
れたいない電源配線下のn型ウエル層と素子分離層との
間の容量を使用すれば、更に半導体チップが無駄なく利
用できる。The Darlington connection transistor may be a field effect transistor. In addition, the first aspect of the present invention
In the fourth embodiment, by using the capacitance between the n-type well layer and the element isolation layer under the power supply wiring not provided with the transistor or the resistor, the semiconductor chip can be used more efficiently.
【0043】[0043]
【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体装
置ではアナログ回路の電源線とデジタル回路の電源線と
の間に接続した抵抗と、この抵抗に接続した他の半導体
層と素子分離層との間に寄生する容量からフィルタ回路
が構成できる。また、本発明の他の半導体装置では、バ
イポーラトランジスタや電界効果トランジスタによっ
て、寄生容量が小さな場合であっても、大きな時定数が
得られるノイズフィルタ回路が構成できる。As described above, in the semiconductor device of the present invention, the resistor connected between the power source line of the analog circuit and the power source line of the digital circuit, and the other semiconductor layer and element isolation layer connected to this resistor. A filter circuit can be constructed from a parasitic capacitance between the and. Further, in another semiconductor device of the present invention, the bipolar transistor or the field effect transistor can configure a noise filter circuit that can obtain a large time constant even when the parasitic capacitance is small.
【0044】これらのノイズフィルタ回路によって、デ
ジタル回路からアナログ回路へ伝搬しようとするノイズ
が阻止できるので、アナログ回路に安定した電圧が供給
できる。本発明の他の半導体装置では、ダーリントン接
続したトランジスタによって、小さい容量でノイズフィ
ルタが構成できる。また、ノイズカット周波数が高く設
定できる。また、電源配線下の半導体層と素子分離層と
の間の容量を使用することで、半導体チップを無駄なく
利用できる。Since these noise filter circuits can block the noise that is going to propagate from the digital circuit to the analog circuit, a stable voltage can be supplied to the analog circuit. In another semiconductor device of the present invention, a transistor in Darlington connection can form a noise filter with a small capacitance. Also, the noise cut frequency can be set high. Further, by using the capacitance between the semiconductor layer and the element isolation layer under the power supply wiring, the semiconductor chip can be used without waste.
【0045】これにより、消費電流が少ない携帯電子機
器向けのアナログ−デジタル回路混在ICの提供に寄与
するところが大きい。This greatly contributes to the provision of an analog-digital circuit mixed IC for portable electronic equipment which consumes less current.
【図1】本発明の各実施例に係るアナログ−デジタル回
路混在ICの構成図である。FIG. 1 is a configuration diagram of an analog-digital circuit mixed IC according to each embodiment of the present invention.
【図2】本発明の第1の実施例に係るフィルタ回路の構
成図である。FIG. 2 is a configuration diagram of a filter circuit according to a first embodiment of the present invention.
【図3】本発明の他の実施例に係るフィルタ回路の構成
図である。FIG. 3 is a configuration diagram of a filter circuit according to another embodiment of the present invention.
【図4】従来例に係るアナログ−デジタル回路混在IC
の構成図である。FIG. 4 shows an analog / digital circuit mixed IC according to a conventional example.
FIG.
【図5】従来例に係るリンギングを説明する回路図であ
る。FIG. 5 is a circuit diagram illustrating ringing according to a conventional example.
10〜40…ノイズフィルタ回路、1,11…アナログ
回路、2,12…負荷抵抗、3,13…デジタル回路、
4,14…p型Si基板、7…ボンディングワイヤ、8
…外付け容量、5A,5B,5C,15A,15B,15C…
n型のウエル層、6,16…素子分離層、17A,17B,
17C…n+ 埋め込み層、18,R…抵抗。10 to 40 ... Noise filter circuit, 1, 11 ... Analog circuit, 2, 12 ... Load resistance, 3, 13 ... Digital circuit,
4, 14 ... P-type Si substrate, 7 ... Bonding wire, 8
... External capacity 5A, 5B, 5C, 15A, 15B, 15C ...
n-type well layer, 6, 16 ... Element isolation layer, 17A, 17B,
17C ... n + buried layer, 18, R ... resistor.
Claims (5)
よって絶縁された複数の半導体層と、 前記半導体層に設けられたアナログ回路と、 前記半導体層に設けられたデジタル回路と、 一端を前記デジタル回路の電源線に接続し、かつ、他端
を前記アナログ回路の電源線及び1以上の前記半導体層
に接続した抵抗と、 前記抵抗に接続した半導体層と該半導体層の素子分離層
との間に生じる容量とを備えていることを特徴とする半
導体装置。1. A plurality of semiconductor layers insulated by an element isolation layer on a semiconductor substrate of one conductivity type, an analog circuit provided in the semiconductor layer, a digital circuit provided in the semiconductor layer, and one end thereof. A resistor connected to the power line of the digital circuit and having the other end connected to the power line of the analog circuit and one or more semiconductor layers, a semiconductor layer connected to the resistor, and an element isolation layer of the semiconductor layer. And a capacitance generated between the semiconductor device and the semiconductor device.
よって絶縁された複数の半導体層と、 前記半導体層に設けられたアナログ回路と、 前記半導体層に設けられたデジタル回路と、 コレクタを前記デジタル回路の電源線に接続し、かつ、
エミッタを前記アナログ回路の電源線に接続したバイポ
ーラトランジスタと、 一端を前記バイポーラトランジスタのベースと、1以上
の前記半導体層とに接続し、かつ、他端を前記デジタル
回路の電源線に接続した抵抗と、 前記抵抗に接続した半導体層と該半導体層の素子分離層
との間に生じる容量とを備えていることを特徴とする半
導体装置。2. A plurality of semiconductor layers insulated by a device isolation layer on a semiconductor substrate of one conductivity type, an analog circuit provided in the semiconductor layer, a digital circuit provided in the semiconductor layer, and a collector. Connected to the power line of the digital circuit, and
A bipolar transistor having an emitter connected to the power supply line of the analog circuit, a resistor having one end connected to the base of the bipolar transistor and one or more semiconductor layers, and the other end connected to the power supply line of the digital circuit. And a capacitance generated between a semiconductor layer connected to the resistor and an element isolation layer of the semiconductor layer.
よって絶縁された複数の半導体層と、 前記半導体層に設けられたアナログ回路と、 前記半導体層に設けられたデジタル回路と、 ドレインを前記デジタル回路の電源線に接続し、かつ、
ソースを前記アナログ回路の電源線に接続した電界効果
トランジスタと、 一端を前記電界効果トランジスタのゲートと1以上の前
記半導体層とに接続し、かつ、他端を前記デジタル回路
の電源線に接続した抵抗と、 前記抵抗に接続した半導体層と該半導体層の素子分離層
との間に生じる容量とを備えていることを特徴とする半
導体装置。3. A plurality of semiconductor layers insulated by an element isolation layer on a semiconductor substrate of one conductivity type, an analog circuit provided in the semiconductor layer, a digital circuit provided in the semiconductor layer, and a drain. Connected to the power line of the digital circuit, and
A field effect transistor whose source is connected to the power supply line of the analog circuit, one end of which is connected to the gate of the field effect transistor and one or more of the semiconductor layers, and the other end of which is connected to the power supply line of the digital circuit. A semiconductor device comprising: a resistor; and a capacitor formed between a semiconductor layer connected to the resistor and an element isolation layer of the semiconductor layer.
果トランジスタをダーリントン接続することを特徴とす
る請求項2及び請求項3記載のいずれかの半導体装置。4. The semiconductor device according to claim 2, wherein the bipolar transistor or the field effect transistor is Darlington-connected.
することを特徴とする請求項1、請求項2、請求項3及
び請求項4記載のいずれかの半導体装置。5. The semiconductor device according to claim 1, wherein the capacitor is used in a semiconductor layer below a power supply wiring.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21575195A JPH0964276A (en) | 1995-08-24 | 1995-08-24 | Semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
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