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JPH0955402A - Carrier tape for semiconductor element - Google Patents

Carrier tape for semiconductor element

Info

Publication number
JPH0955402A
JPH0955402A JP22608895A JP22608895A JPH0955402A JP H0955402 A JPH0955402 A JP H0955402A JP 22608895 A JP22608895 A JP 22608895A JP 22608895 A JP22608895 A JP 22608895A JP H0955402 A JPH0955402 A JP H0955402A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pocket
carrier tape
pedestal
semiconductor element
conductive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP22608895A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Rikiya Yamashita
力也 山下
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP22608895A priority Critical patent/JPH0955402A/en
Publication of JPH0955402A publication Critical patent/JPH0955402A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the mechanical destruction and the electrostatic breakdown of a semiconductor element when it is transported, supplied and mounted by a method wherein the metal lead part of the semiconductor element is prevented from coming into contact with the bottom face and the side wall of a pocket part, and the surface resistivity of the sealant layer of a cover tape is set at the prescribed value. SOLUTION: A pedestal 3 and a movement control protruding part 4, which rises from the bottom part 33 located between the pedestal 3 and the side wall 37 of a pocket 1, are provided on the pocket 1 of a carrier tape consisting of a plastic band- like molded article 10 on which a feeding hole 21, a band-like board 2, where an aperture part 22 for a pocket is provided, and a pocket 1 formed by injection molding. The lead part 61 of a semiconductor element 61 is placed on the pedestal 3 in such a manner that it does not come in contact with the bottom part 33 and the side wall 37 of the recessed part 12 of the pocket, and the lead part 61 is loosely fixed to the prescribed position using a movement control protruding part 4, and it is hermetically sealed by a cover tape 7. The surface resistivity of the pocket and the surface of a cover tape sealant layer is made smaller than 12Ω/(square) under the environment of 23 deg.C 90% RH.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は家電製品、電子機器
に、装着する半導体素子を、収納、供給する半導体素子
用キャリアテープに関し輸送、供給そして装着時におけ
る半導体素子の機械的破壊と静電気による破損を防止す
るキャリアテープに属する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor element carrier tape for housing and supplying semiconductor elements to be mounted on home electric appliances and electronic devices, and mechanical damage and static electricity damage of the semiconductor elements during transportation, supply and mounting. Belonging to the carrier tape to prevent.

【0002】[0002]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、金属リード
部とプラスチック成形品よりなる半導体素子を収納し、
搬送するキャリアテープにおいて、該半導体素子を載置
する台座あるいは台座の上部周辺部の加工寸法精度がよ
く、その部分に所望の厚さをもち、保形性があり、衝撃
によっても半導体素子を安定して供給できるばかりでな
く、また、台座孔や送り孔を安定した大きさ、ピッチで
成形し充分な帯電防止機能をもち、更にポケットと送り
孔との位置精度がよく、カバーテープをヒートシールす
る部分などのプラスチックシート表面に凹凸がなく安定
した条件でヒートシールでき、シール強度も安定した巻
取りができ、そしてカバーテープを剥離するときにも剥
離帯電がなく、キャリアテープに充填した半導体素子を
安定して装着できる半導体素子用キャリアテープの提供
を目的ととするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention accommodates a semiconductor element composed of a metal lead portion and a plastic molded product,
In the carrier tape to be transported, the pedestal on which the semiconductor element is placed or the peripheral part of the upper part of the pedestal has good processing dimensional accuracy, has a desired thickness in that part, has shape retention, and stabilizes the semiconductor element against impact. In addition, the pedestal holes and feed holes can be molded with a stable size and pitch to have a sufficient antistatic function, and the pockets and feed holes can be positioned with good accuracy, and the cover tape can be heat-sealed. A semiconductor element filled in a carrier tape that can be heat-sealed under stable conditions without unevenness on the surface of the plastic sheet such as a part to be wound, can be wound up with stable sealing strength, and has no peeling charge even when the cover tape is peeled off. It is an object of the present invention to provide a carrier tape for a semiconductor device, which can be stably mounted.

【0003】[0003]

【課題を解決するための手段】上記の課題を達成するた
めに、本発明の半導体素子用キャリアテープにおいて
は、金属リード部とプラスチック成形部分よりなる半導
体素子を収納するための部品用ポケットと、少なくとも
片側に搬送用送り孔とを等間隔に設けたプラスチック帯
状成形品に、該ポケットを覆いヒートシールするヒート
シーラント層をもつカバーテープからなる半導体素子用
キャリアテープにおいて、該部品用ポケット部の半導体
素子と接触する近傍の表面抵抗率又は体積抵抗率が、2
3℃、相対湿度90%の条件で1012Ω/□より大きく
なく、かつ、該ポケットには半導体素子金属リード部分
がポケット部の底面及び側壁と接触しないように半導体
素子を支える台座と台座及びポケット部の側壁との間に
金属リード部と接触せず半導体素子の移動を制限する移
動制御凸状部を形成しており、前記カバーテープのシー
ラント層表面は表面抵抗率が23℃90%RH環境下に
おいて1012Ω/□より大きくない半導体素子用キャリ
アテープである。また、該移動制御凸状部は、棒状又は
板状に設けられたものである半導体素子用キャリアテー
プである。また、上記台座の台座中央部近傍が、半導体
素子部分との接触面積を少なくするように凹状の空気溜
を設けられた半導体用キャリアテープである。そして、
プラスチック帯状成形品の基材が、厚さ0.1〜0.8
mmのプラスチックシートであり、該基材に設ける搬送
用送り孔と同一工程で成形された部品用ポケット用開口
部に射出成形で部品用ポケットを形成される半導体素子
用キャリアテープである。また、部品用ポケット用開口
部及び搬送用送り孔とを等間隔に設けた厚さ0.1〜
0.8mmの帯状基材のポケット用開口部に射出成形法
による部品用ポケットを設けられたキャリアテープで
る。そして、上記プラスチック帯状成形品の基材が、熱
可塑性樹脂と酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛に導電
処理を施した粒径0.01〜1μmの導電性微粉末又は
導電性カーボン及び界面活性剤からなり、該導電性微粉
末、導電性カーボン、界面活性剤が、熱可塑性樹脂10
0部に対し1〜300重量%含む半導体素子用キャリア
テープである。また、上記プラスチック帯状成形品の基
材が、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛に導電処理を
施した粒径0.01〜1μmの導電性微粉末又は導電性
カーボン及び界面活性剤を樹脂ワニスに分散調整した導
電性塗布剤を少なくとも一方の側に塗布して設けられた
半導体素子用キャリアテープである。そして、上記プラ
スチック帯状成形品の基材が、2層以上の積層物であ
り、少なくともその半導体素子と接触する内面層の体積
抵抗率が、1012Ω・cmを超えない半導体素子用キャ
リアテープである。また、上記部品用ポケットが、熱可
塑性樹脂と酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛等の金属
酸化物に導電処理を施した粒径0.01〜1μmの導電
性微粉末又は導電性カーボン、界面活性剤からなり、該
導電性微粉末、導電性カーボン、界面活性剤が熱可塑性
樹脂100部に対し1〜300重量%含み、ポケットの
表面抵抗率が1012Ω/□を超えない射出成形品である
半導体素子用キャリアテープである。そして、上記部品
用ポケットの少なくとも片面が、酸化錫、酸化インジウ
ム、酸化亜鉛の金属酸化物に導電処理を施した粒径0.
01〜1μmの導電性微粉末又は導電性カーボン及び界
面活性剤を樹脂ワニスに分散調整した導電性塗布剤を少
なくとも一方の側に設けられた半導体素子用キャリアテ
ープである。
In order to achieve the above object, in a carrier tape for a semiconductor device of the present invention, a component pocket for accommodating a semiconductor device comprising a metal lead portion and a plastic molding portion, In a carrier tape for a semiconductor device, which comprises a plastic tape-shaped molded product having at least one transporting hole provided at equal intervals on one side and a heat-sealant layer for heat-sealing the pocket, the semiconductor of the component pocket portion The surface resistivity or volume resistivity near the contact with the element is 2
Under conditions of 3 ° C. and relative humidity of 90%, the pedestal and the pedestal supporting the semiconductor element are not larger than 10 12 Ω / □ and the metal lead portion of the semiconductor element does not come into contact with the bottom surface and side wall of the pocket portion in the pocket. A movement control convex portion for limiting movement of the semiconductor element is formed between the side wall of the pocket portion and the metal lead portion, and the surface resistivity of the sealant layer surface of the cover tape is 23 ° C. 90% RH. It is a carrier tape for semiconductor devices which is not larger than 10 12 Ω / □ under the environment. Further, the movement control convex portion is a carrier tape for a semiconductor element, which is provided in a rod shape or a plate shape. Further, the semiconductor carrier tape is provided with a concave air reservoir near the center of the pedestal so as to reduce the contact area with the semiconductor element portion. And
The base material of the plastic strip-shaped product has a thickness of 0.1 to 0.8.
A carrier tape for a semiconductor device, which is a plastic sheet of mm and has a component pocket formed by injection molding in a component pocket opening formed in the same step as a transport feed hole provided in the base material. In addition, the thickness of the opening for the pocket for the component and the feed hole for the transport provided at equal intervals are 0.1 to 0.1 mm.
A carrier tape having a pocket for a component formed by an injection molding method in a pocket opening of a strip-shaped base material of 0.8 mm. The base material of the plastic strip-shaped molded article is a conductive fine powder or conductive carbon having a particle diameter of 0.01 to 1 μm obtained by subjecting a thermoplastic resin and tin oxide, indium oxide, or zinc oxide to a conductive treatment, and a surfactant. The conductive fine powder, conductive carbon, and surfactant are
It is a carrier tape for a semiconductor device containing 1 to 300% by weight based on 0 part. In addition, the base material of the plastic strip-shaped molded article is a resin varnish containing conductive fine powder having a particle diameter of 0.01 to 1 μm obtained by subjecting tin oxide, indium oxide, and zinc oxide to a conductive treatment, or conductive carbon and a surfactant. It is a carrier tape for a semiconductor device, which is provided by coating a dispersion-adjusted conductive coating agent on at least one side. A carrier tape for a semiconductor device, wherein the base material of the plastic strip-shaped product is a laminate of two or more layers, and at least the volume resistivity of the inner surface layer in contact with the semiconductor device does not exceed 10 12 Ω · cm. is there. Further, the above-mentioned component pocket is made of conductive fine powder or conductive carbon having a particle diameter of 0.01 to 1 μm obtained by subjecting a thermoplastic resin and a metal oxide such as tin oxide, indium oxide, and zinc oxide to a conductive treatment, and a surface active agent. An injection-molded product comprising a conductive fine powder, conductive carbon, and a surfactant in an amount of 1 to 300% by weight based on 100 parts of the thermoplastic resin, and the surface resistivity of the pocket does not exceed 10 12 Ω / □. It is a certain carrier tape for semiconductor devices. Then, at least one surface of the component pocket has a grain size of 0. 1 obtained by subjecting a metal oxide of tin oxide, indium oxide, or zinc oxide to a conductive treatment.
It is a carrier tape for a semiconductor device in which a conductive coating agent in which a conductive fine powder or conductive carbon having a size of 0 to 1 μm and a surfactant is dispersed and adjusted in a resin varnish is provided on at least one side.

【0004】[0004]

【従来の技術】従来の半導体素子用キャリアテープは、
プラスチックシートを熱成形法(加圧成形法、真空成形
法あるいは圧空成形法)により部品収納用ポケット、台
座、台座周辺の凸部や搬送用送り孔を設け、長尺巻取り
状態にて使用されている。
2. Description of the Related Art Conventional carrier tapes for semiconductor devices are
A plastic sheet is thermoformed (pressure molding, vacuum molding or pressure molding) with a component storage pocket, a pedestal, convex parts around the pedestal and feed holes for transportation, and is used in a long winding state. ing.

【0005】IC、あるいはLSI用のキャリアテープ
の場合は、移送するとき半導体素子とキャリアテープと
の摩擦あるいは接触により発生する静電気で回路が短絡
したり、ポケット側壁との接触により金属リード部の機
械的破損を防ぐために、ポケットと半導体素子の底部と
の接触を防止するために、台座あるいはリブ状のものを
設けて半導体素子を固定するように構成されていた。
In the case of a carrier tape for IC or LSI, static electricity generated by friction or contact between the semiconductor element and the carrier tape during transfer causes a short circuit in the circuit, or contact with the pocket side wall to cause metal lead parts to machine. In order to prevent mechanical damage, a pedestal or a rib-like member is provided to fix the semiconductor element in order to prevent contact between the pocket and the bottom of the semiconductor element.

【0006】キャリアテープの成形は、熱成形による方
法、すなわちシートを加熱した後、金型内で部品用ポケ
ットを加圧成形法、真空成形法あるいは圧空成形法で行
われていた。また、台座孔、送り孔の加工は、シートの
加熱前、金型内で部品用ポケット(以下単にポケットと
記載する)との同時加工、ポケット加工後などのいずれ
かの方法で形成されていた。または、射出成形法により
台座をもつキャリアテープを製造することも検討されて
はいる。
The carrier tape is molded by a thermoforming method, that is, after heating the sheet, the component pocket is formed in the mold by a pressure forming method, a vacuum forming method or a pressure forming method. Further, the pedestal hole and the feed hole are formed by any method such as before heating the sheet, simultaneously processing with a component pocket (hereinafter simply referred to as a pocket) in the mold, and after pocket processing. . Alternatively, manufacturing of a carrier tape having a pedestal by an injection molding method has been considered.

【0007】しかしながら、シートの熱成形によるキャ
リアテープは、延伸率が大きいためシートの賦型性に限
界があり、ポケットの側壁、台座あるいは台座の上部周
辺部の成形で孔があいたり、ポケットの台座あるいは台
座の上部周辺部の加工寸法精度が劣ったり、その部分の
厚さが薄くなることがある。したがって、保形性が劣り
衝撃によって変形や破損を起こしやすく部品を所定の位
置に保持することが困難であるという問題点があった。
However, since the carrier tape formed by thermoforming a sheet has a large stretching rate, it has a limit in the shapeability of the sheet, and holes are formed in the side wall of the pocket, the pedestal or the upper peripheral portion of the pedestal, or the pocket of the pocket is formed. The dimensional accuracy of the pedestal or the upper peripheral portion of the pedestal may be poor, or the thickness of that portion may be thin. Therefore, there is a problem that the shape retaining property is poor and the component is likely to be deformed or damaged by an impact, and it is difficult to hold the component at a predetermined position.

【0008】台座孔や送り孔をシートに設けた後、ポケ
ットを熱成形する加工は、加熱によるシートの収縮、膨
張による孔径のバラツキ、孔と孔とのピッチのバラツ
キ、送り孔とポケットの寸法変化を発生し易く、そのよ
うなキャリアテープで電子部品に半導体素子を装着する
ときは、送りの位置精度、タイミングがずれて安定搬送
ができないという問題点があった。
After the pedestal holes and the feed holes are provided in the sheet, the pockets are thermoformed. The sheet is shrunk by heating, the hole diameter varies due to expansion, the pitch variation between the holes, and the feed hole and pocket dimensions. When the semiconductor element is mounted on the electronic component with such a carrier tape, the change is likely to occur, and there is a problem that the feeding position accuracy and timing are deviated and stable conveyance cannot be performed.

【0009】加熱シートの金型内での加工は、成形品が
小さい場合、ポケットと孔の距離が短くなり、機械加工
法で金型を製作する場合、緻密な加工精度、硬度が高い
金型材料が必要になり金型コストが上昇するという問題
点があった。
In the processing of the heating sheet in the mold, when the molded product is small, the distance between the pocket and the hole becomes short, and when the mold is manufactured by the machining method, the mold has high precision and high hardness. There is a problem that the material cost is required and the die cost is increased.

【0010】ポケットを形成した後の孔あけは、送り孔
とポケットの位置を決めることが難しく、孔の位置が変
動し易く、位置精度が安定しないため、そのようなキャ
リアテープに半導体素子を組み込んで部品を装着すると
きは、送りの位置精度タイミングがずれて安定搬送がで
きず基板の実装で、半導体素子の位置がずれて装着され
るという問題点があった。
When forming holes after forming the pockets, it is difficult to determine the positions of the feed holes and the pockets, the positions of the holes are likely to change, and the positional accuracy is unstable. However, when the component is mounted, there is a problem in that the position accuracy timing of the feed is shifted and stable conveyance cannot be performed, so that the semiconductor element is mounted in the displaced position when the substrate is mounted.

【0011】加熱シートを金型内に送り成形する加熱成
形は、サイクル間で金型の型締め跡がキャリアテープの
表面に凹凸模様を形成されることがある。この凹凸模様
にカバーテープがヒートシールされる場合、ヒートシー
ル圧力の違いからシール強度が異なり、剥離強度ムラを
生じ、著しいときは、剥離するとき充填してある部品が
飛び出したりするという問題点があった。
In the heat molding in which the heating sheet is fed into the mold and molded, the mold clamping traces may form an uneven pattern on the surface of the carrier tape between cycles. When the cover tape is heat-sealed in this uneven pattern, the sealing strength is different due to the difference in heat-sealing pressure, resulting in uneven peeling strength. there were.

【0012】半導体素子は電気回路を樹脂で包埋した構
造であり、半導体素子とキャリアテープであるプラスチ
ックとが接触し摩擦したときは、静電気を発生し、その
静電気により電気回路が短絡して破損するという問題点
があったり、あるいは、カバーテープを剥離するときに
発生する静電気(剥離帯電)により電気回路が短絡して
破損したりするという問題点があった。
The semiconductor element has a structure in which an electric circuit is embedded in resin, and when the semiconductor element and the carrier tape plastic contact and rub against each other, static electricity is generated, and the static electricity short-circuits and damages the electric circuit. However, there is a problem that the electric circuit is short-circuited and damaged due to static electricity (peeling electrification) generated when the cover tape is peeled off.

【0013】射出成形法によるキャリアテープの製造
は、射出成形用樹脂の特性や、金型の構造から厚さが
0.1mm以下のものの成形が困難である。また、射出
成形用樹脂の特性から射出成形法で製造したプラスチッ
ク帯状成形品に半導体素子を充填して、カバーテープで
ヒートシールしたものは、ポケット間の屈曲性が劣り、
巻取り状にした場合には折れ易いため装着に使用できる
巻取り化ができないという問題点があった。
In the production of a carrier tape by the injection molding method, it is difficult to mold a carrier tape having a thickness of 0.1 mm or less due to the characteristics of the injection molding resin and the structure of the mold. Also, from the characteristics of the resin for injection molding, a plastic band-shaped molded article manufactured by the injection molding method is filled with semiconductor elements, and heat sealed with a cover tape, the flexibility between the pockets is poor,
In the case of the rolled-up shape, there is a problem that it cannot be rolled up so that it can be used for mounting because it is easily broken.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】本発明の半導体素子用キャリアテ
ープは、図1(B)に示す送り孔21、ポケット用開口
部22を設けた帯状基材2と、射出成形で作成したポケ
ット1とを接着部16で一体に接合したプラスチック帯
状成形品10よりなる図1(C)に示すキャリアテープ
である。そして、該ポケットには、図1(A)の断面図
に示すように台座3、台座3とポケット1の側壁37と
の間の底部33より立ち上がる移動制御凸状部4を設け
たものである。半導体素子6の金属リード部61は、ポ
ケットの凹部12の底部33及び側壁37と接触しない
ように台座3に載置して、移動制御凸状部4で所定位置
に遊嵌してカバーテープ7で密封するキャリアテープで
ある。(なお、本明細書で記載する遊嵌とは、半導体素
子6が台座3と側壁37との間に設けられる移動制御凸
状部4で移動範囲を規制されて、多少動くことができる
程度に隙間をもたせた状態のことである。) そして、前記ポケット及びカバーテープシーラント層表
面の表面抵抗率が23℃90%RH環境下において10
12Ω/□より大きくない半導体素子用キャリアテープで
ある。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A carrier tape for a semiconductor device according to the present invention comprises a belt-shaped substrate 2 having a feed hole 21 and a pocket opening 22 shown in FIG. 1B, and a pocket 1 formed by injection molding. The carrier tape shown in FIG. 1 (C), which is made of a plastic strip-shaped molded product 10 in which are bonded together by an adhesive portion 16. As shown in the cross-sectional view of FIG. 1A, the pocket is provided with a pedestal 3 and a movement control convex portion 4 that rises from the bottom 33 between the pedestal 3 and the side wall 37 of the pocket 1. . The metal lead portion 61 of the semiconductor element 6 is placed on the pedestal 3 so as not to come into contact with the bottom portion 33 and the side wall 37 of the recess 12 of the pocket, and is loosely fitted in a predetermined position by the movement control convex portion 4 to cover the tape 7. It is a carrier tape that is sealed with. (It should be noted that the loose fitting described in this specification means that the semiconductor element 6 can be moved to a certain extent while the movement range is restricted by the movement control convex portion 4 provided between the pedestal 3 and the side wall 37. The surface resistivity of the surface of the pocket and the cover tape sealant layer is 10 in an environment of 23 ° C. and 90% RH.
It is a carrier tape for semiconductor devices that is no larger than 12 Ω / □.

【0015】また、該移動制御凸状部4は、棒状又は板
状に設けられたものである半導体素子用キャリアテープ
である。
The movement control convex portion 4 is a carrier tape for a semiconductor device, which is provided in a rod shape or a plate shape.

【0016】また、上記台座の台座中央部近傍が、半導
体素子部分との接触面積を少なくするように凹状の空気
溜を設けられた半導体用キャリアテープである。
Further, the carrier tape for semiconductor is provided with a concave air reservoir near the center of the pedestal so as to reduce the contact area with the semiconductor element portion.

【0017】そして、プラスチック帯状成形品の基材
が、厚さ0.1〜0.8mmのプラスチックシートであ
り、該基材に設ける搬送用送り孔と同一工程で成形され
た部品用ポケット用開口部に射出成形で部品用ポケット
を形成される半導体素子用キャリアテープである。
The base material of the plastic strip-shaped molded article is a plastic sheet having a thickness of 0.1 to 0.8 mm, and the opening for a pocket for a component formed in the same step as the feeding hole for transportation provided in the base material. It is a carrier tape for a semiconductor element, in which a pocket for a component is formed by injection molding in a portion.

【0018】本発明のキャリアテープは、図1に示すよ
うに半導体素子6を帯状基材2にポケット1を設けた帯
状成形品10の台座3に、半導体素子6の金属リード部
61をポケット1に宙づり状態に収納し、移動制御凸状
部4で所定位置に遊嵌させてカバーテープ7で密封する
ものである。
In the carrier tape of the present invention, as shown in FIG. 1, the metal lead portion 61 of the semiconductor element 6 is placed in the pocket 1 on the pedestal 3 of the band-shaped molded article 10 in which the semiconductor element 6 is provided in the band-shaped base material 2 and the pocket 1 is provided. It is housed in a suspended state, is loosely fitted in a predetermined position by the movement control convex portion 4, and is sealed by the cover tape 7.

【0019】帯状基材2は、製膜適性、孔加工性、ポケ
ット1の成形樹脂、カバーテープ7との接着性を勘案し
て選択されるものである。具体的にはポリプロピレン、
ポリエチレン、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレ
ン・アクリル酸共重合体、エチレン・アクリル酸エステ
ル共重合体、アイオノマー、エチレン・酢酸ビニル共重
合体ケン化物、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリカ
ーボネート、ポリスチレン、ABS樹脂などや、これら
の混合物が用いられる。そして、必要に応じて、粘着付
与剤、ワックス、無機、有機の充填剤、滑剤などを添加
することができる。
The band-shaped substrate 2 is selected in consideration of film forming suitability, hole processability, molding resin for the pocket 1 and adhesiveness with the cover tape 7. Specifically, polypropylene,
Polyethylene, ethylene / vinyl acetate copolymer, ethylene / acrylic acid copolymer, ethylene / acrylic ester copolymer, ionomer, saponified ethylene / vinyl acetate copolymer, polyvinyl chloride, polyester, polycarbonate, polystyrene, ABS A resin or the like or a mixture thereof is used. Then, if necessary, a tackifier, a wax, an inorganic or organic filler, a lubricant and the like can be added.

【0020】帯状基材の厚さは、材質にもよるが0.1
〜0.8mm好ましくは、0.1〜0.6mmの延伸あ
るいは未延伸のシートである。0.1mm以下の厚さで
は、キャリアテープの剛性が弱く、張力をかけ、高速で
搬送したときに切断したり、半導体素子を充填したとき
半導体素子の荷重で撓んだりして搬送適性に欠けること
があり、また0.8mm以上になると剛性が強過ぎて可
撓性を失い、長尺の巻取り化ができなくなる。また、シ
ートの巾は、キャリアテープの巾により決定されるが、
300mm巾程度の多列でポケット用の開口部を設けて
ポケット1を付加形成した後、所望の列にスリッターを
行う。
The thickness of the strip-shaped substrate depends on the material, but is 0.1.
˜0.8 mm, preferably a stretched or unstretched sheet of 0.1 to 0.6 mm. If the thickness is less than 0.1 mm, the carrier tape has low rigidity and is not suitable for transportation because it is cut by tension when applied to it at high speed and when it is filled with a semiconductor element, it is bent by the load of the semiconductor element. If the thickness is 0.8 mm or more, the rigidity becomes too strong and the flexibility is lost, and it becomes impossible to wind a long length. Also, the width of the sheet is determined by the width of the carrier tape,
After the pockets 1 are additionally formed by forming openings for pockets in multiple rows having a width of about 300 mm, slitting is performed on a desired row.

【0021】帯状基材の帯電処理は、帯電防止剤を基材
樹脂に練り込んだり、成膜シートの表面あるいは射出成
形したポケットの表面に塗布により行うことができる。
The charging treatment of the strip-shaped substrate can be carried out by kneading the antistatic agent into the substrate resin or by coating the surface of the film-forming sheet or the surface of the injection-molded pocket.

【0022】帯電防止剤としては次のものが挙げられ
る。 ケッチェンブラック、アセチレンブラック、ファーネ
ストブラックなどの粒子径0.02〜0.15μm、表
面積40m2 /g以上の導電性カーボン。 酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛などの金属酸化
物、金属硫化物、硫酸塩にドーピングなどの導電処理を
施した一次粒子系0.01〜1μmの導電性微粉末。 銅、鉄、アルミニウム、ニッケル、金などの粒子径
0.01〜10μmの繊維状又は粉末状の金属を主体と
する導電性微粉末。 アニオン系、カチオン系、非イオン系、両性イオン系
の界面活性剤。 脂肪酸誘導体、4官能性珪素部分加水分解物、ビス−
アンモニウム系有機半導体。 上記帯電防止剤のなかから、金属酸化物、界面活性剤、
あるいは導電性カーボンが、静電気除去特性、半導体素
子に対する非汚染性の点から好ましいものである。
Examples of the antistatic agent include the following. Conductive carbon having a particle size of 0.02 to 0.15 μm and a surface area of 40 m 2 / g or more, such as Ketjen black, acetylene black, and furnest black. A conductive fine powder having a primary particle size of 0.01 to 1 μm obtained by subjecting a metal oxide such as tin oxide, indium oxide, or zinc oxide, a metal sulfide, or a sulfate to a conductive treatment such as doping. A conductive fine powder mainly composed of a fibrous or powdery metal having a particle diameter of 0.01 to 10 μm, such as copper, iron, aluminum, nickel and gold. Anionic, cationic, nonionic, and zwitterionic surfactants. Fatty acid derivative, tetrafunctional silicon partial hydrolyzate, bis-
Ammonium-based organic semiconductor. Among the above antistatic agents, metal oxides, surfactants,
Alternatively, conductive carbon is preferable from the viewpoints of static electricity removal characteristics and non-contamination of semiconductor elements.

【0023】帯電防止剤による処理は、製膜工程で樹脂
に混入する練り込み方式、あるいは製膜されたシートに
塗布することで行われる。
The treatment with the antistatic agent is carried out by a kneading method in which the resin is mixed in the film-forming step, or by coating the film-formed sheet.

【0024】練り込み方式は、樹脂100重量部に対
し、帯電防止剤を1〜300重量%の添加、特に5〜5
0重量%添加することが好ましい。帯電防止剤が1重量
%未満である場合その表面抵抗率が、23℃、相対湿度
90%で1013Ω/□以上(以下、表面抵抗率の測定は
23℃、相対湿度90%で行った数値を記載する)、2
3℃、相対湿度15%における5000Vから500V
に減衰するまでの減衰時間(電荷減衰時間)が、5秒以
上であり(以下電荷減衰時間の測定は上記の条件で行っ
た数値を記載する)、静電気の除去効果が充分ではな
く、半導体素子とポケットとの接触などで発生した静電
気や、カバーテープを剥離したときの静電気により電子
部品の回路が、短絡、破損することがある。また、帯電
防止剤が300重量%を超える場合、製膜時の溶融粘度
が上昇して流動性が低下するのみならず、製膜した場合
も脆くなり必要な強度を保つことができない。
The kneading method is such that an antistatic agent is added in an amount of 1 to 300% by weight, particularly 5 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the resin.
It is preferable to add 0% by weight. When the antistatic agent is less than 1% by weight, its surface resistivity is 10 13 Ω / □ or more at 23 ° C. and 90% relative humidity (hereinafter, the measurement of the surface resistivity was performed at 23 ° C. and 90% relative humidity). Enter the value), 2
5000V to 500V at 3 ° C and 15% relative humidity
The decay time (charge decay time) until it decays to 5 seconds or more (hereinafter, the measurement of the charge decay time is the value measured under the above conditions), and the effect of removing static electricity is not sufficient. The circuit of the electronic component may be short-circuited or damaged due to static electricity generated by the contact with the pocket and the static electricity generated when the cover tape is peeled off. On the other hand, if the antistatic agent exceeds 300% by weight, not only the melt viscosity at the time of film formation increases and the fluidity decreases, but also when the film is formed, it becomes brittle and the required strength cannot be maintained.

【0025】塗布方式に用いる帯電防止用塗布液は、バ
インダーとして合成樹脂を主として、溶解あるいは分散
したワニスに、帯電防止剤を分散して作成する。
The antistatic coating solution used in the coating method is prepared by dispersing an antistatic agent in a varnish obtained by dissolving or dispersing synthetic resin as a binder.

【0026】帯電防止用塗布液のバインダーは、ポリエ
ステル、ポリウレタン、ポリスチレン、塩化ビニル・酢
酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、メチルセル
ロース、エチルセルロース、エチレン・酢酸ビニル共重
合体、アクリル系樹脂、シリコーン樹脂ワニス、ポリカ
ーボネートなどや、これらの変性物、混合したものある
いは、熱硬化、又は電離放射線硬化型樹脂であるアクリ
レート、シリコーンを使用することもできる。そして、
バインダーを、溶解あるいは分散する溶剤は、通常のエ
ステル、炭化水素、ケトン、アルコールなどの有機溶剤
のみならず、水を用いた溶液又は分散体として使用され
る。
The binder of the antistatic coating liquid is polyester, polyurethane, polystyrene, vinyl chloride / vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral, methyl cellulose, ethyl cellulose, ethylene / vinyl acetate copolymer, acrylic resin, silicone resin varnish, It is also possible to use polycarbonate or the like, a modified product thereof, a mixture thereof, or an acrylate or silicone which is a thermosetting or ionizing radiation curable resin. And
As the solvent for dissolving or dispersing the binder, not only usual organic solvents such as ester, hydrocarbon, ketone, alcohol, etc. but also a solution or dispersion using water is used.

【0027】帯電防止用塗布液のバインダー100重量
部に対する帯電防止剤の添加量は、1〜300重量%、
特に5〜150重量%添加することが好ましい。帯電防
止剤が1重量%未満である場合、表面抵抗率が1013Ω
/□以上、また、電荷減衰時間が5秒以上であり、静電
気の除去効果が充分ではなく、電子部品の回路が、短
絡、破損することがある。また、帯電防止剤が100重
量%を超える場合、塗布膜の接着、強度が低下し、塗布
膜の脱落することがある。
The amount of the antistatic agent added is 1 to 300% by weight, based on 100 parts by weight of the binder of the antistatic coating liquid.
It is particularly preferable to add 5 to 150% by weight. When the antistatic agent is less than 1% by weight, the surface resistivity is 10 13 Ω
/ □ or more, and the charge decay time is 5 seconds or more, the effect of removing static electricity is not sufficient, and the circuit of the electronic component may be short-circuited or damaged. Further, when the antistatic agent exceeds 100% by weight, the adhesion and strength of the coating film may be deteriorated and the coating film may fall off.

【0028】帯電防止剤の塗布厚さは、表面抵抗率が1
12Ω以下/□以下となるように適宜設定できるもので
あるが、コスト、塗布機より限定されるもので、0.1
〜100μm、好ましくは1〜50μmである。また、
塗布膜の基材に対する接着が充分でない場合は、基材の
塗布面にウレタン系、イソシアネート系、ポリエチレン
イミン系などのワニスをプライマーとして使用すること
もできる。
The coating thickness of the antistatic agent has a surface resistivity of 1
It can be appropriately set to be 0 12 Ω or less / □ or less, but it is limited by the cost and the coating machine.
˜100 μm, preferably 1 to 50 μm. Also,
If the adhesion of the coating film to the substrate is not sufficient, urethane-based, isocyanate-based, polyethyleneimine-based varnish or the like can be used as a primer on the coated surface of the substrate.

【0029】上記の帯状基材は、単層又は2層以上の多
層積層物で構成することができる。多層化は、コスト、
基材の機械的特性(伸び、剛性、屈曲性、引っ張り強
度、引裂き強度など)、熱的特性(耐熱性、耐寒性、軟
化温度など)、環境的特性(耐薬品性、耐溶剤性、耐水
性、耐放射線性、耐光性、廃棄性など)、ガス透過特性
(酸素バリアー性、水蒸気透過性、無機あるいは有機ガ
スバリアー性など)、吸水特性などを考慮して構成を選
択することができる。
The above-mentioned strip-shaped substrate can be composed of a single layer or a multilayer laminate of two or more layers. Multilayer is cost,
Mechanical properties of the base material (elongation, rigidity, flexibility, tensile strength, tear strength, etc.), thermal characteristics (heat resistance, cold resistance, softening temperature, etc.), environmental characteristics (chemical resistance, solvent resistance, water resistance) Properties, radiation resistance, light resistance, wasteability, etc.), gas permeation characteristics (oxygen barrier property, water vapor permeability, inorganic or organic gas barrier property, etc.), water absorption property, etc. can be selected for the configuration.

【0030】多層積層物を構成する材料は、熱可塑性樹
脂であるポリエステル、ポリウレタン、ポリスチレン、
塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、セルロース誘導体、
エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・アクリル酸
共重合体、エチレン・アクリル酸エステル共重合体、ア
イオノマー、ポリビニールアルコール、エチレン・酢酸
ビニル共重合体ケン化物、アクリル系樹脂、シリコーン
樹脂、ポリカーボネートのみならず、不飽和ポリエステ
ル、熱硬化性樹脂、又は電離放射線硬化型樹脂であるア
クリレート、シリコーンの他にセロファンなどのフィル
ムを使用することもできる。
The materials constituting the multilayer laminate are thermoplastic resins such as polyester, polyurethane, polystyrene,
Vinyl chloride / vinyl acetate copolymer, cellulose derivative,
Ethylene / vinyl acetate copolymer, ethylene / acrylic acid copolymer, ethylene / acrylic ester copolymer, ionomer, polyvinyl alcohol, saponified ethylene / vinyl acetate copolymer, acrylic resin, silicone resin, polycarbonate only Alternatively, a film of cellophane or the like can be used in addition to unsaturated polyester, thermosetting resin, or acrylate or silicone which is an ionizing radiation curable resin.

【0031】多層積層物は、上記の材料による単層シー
トの積層、又は塗布して得られるものである。そして、
シートの少なくともいずれか1層あるいは、塗布膜に帯
電防止剤を含ませた層を1層組み合わせて構成すること
ができる。
The multi-layer laminate is obtained by laminating or applying single layer sheets of the above materials. And
At least any one layer of the sheet or one layer of the coating film containing an antistatic agent can be combined.

【0032】多層積層物に含む導電性をもつ層の表面抵
抗率は、電荷減衰時間が5秒以下であることが好まし
い。表面抵抗率が1012Ω/□、電荷減衰時間が5秒を
超える場合は、静電気の除去効果が充分ではなく、電子
部品の回路が、短絡、破損することがある。
The surface resistivity of the conductive layer included in the multilayer laminate preferably has a charge decay time of 5 seconds or less. When the surface resistivity is 10 12 Ω / □ and the charge decay time exceeds 5 seconds, the effect of removing static electricity is not sufficient, and the circuit of the electronic component may be short-circuited or damaged.

【0033】多層積層物を構成する単位層の厚さは、
0.1〜600μmが好ましく、0.1μm以下では構
成した層の特性を得ることができず、600μm以上の
場合は、プラスチック帯状基材の可撓性を損ない巻取り
とすることが困難となる。
The thickness of the unit layer constituting the multilayer laminate is
0.1 to 600 μm is preferable, and if it is 0.1 μm or less, the characteristics of the constituted layer cannot be obtained, and if it is 600 μm or more, it becomes difficult to wind the plastic strip-shaped substrate without impairing its flexibility. .

【0034】プラスチック帯状基材は、公知の方法で製
膜することができる。例えば、Tダイス法、サーキュラ
ダイス法、溶剤溶融流延法、カレンダー法などの延伸又
は未延伸で製膜を行う。
The plastic band-shaped substrate can be formed into a film by a known method. For example, the film is formed by stretching or unstretching such as T-die method, circular die method, solvent melt casting method, calender method and the like.

【0035】多層積層物よりなるプラスチック帯状基材
は、2層以上のフィルム又はシートの、熱ラミネーショ
ン、ホットメルト接着剤や、イソシアネート系接着剤に
よるドライラミネーション法、あるいは、イソシアネー
ト系、イミン系プライマー層に熱可塑性樹脂をTダイ法
により溶融押出しコーティング法、共押出し製膜法など
通常の方法で得ることができる。
The plastic strip-shaped substrate made of a multi-layer laminate is formed by a thermal lamination, a hot-melt adhesive or a dry lamination method using an isocyanate adhesive, or an isocyanate-based or imine-based primer layer of two or more layers of film or sheet. Further, the thermoplastic resin can be obtained by a usual method such as a melt extrusion coating method and a coextrusion film forming method by the T-die method.

【0036】多層積層物の塗布による製膜法は、グラビ
ア版、又は斜線版などによるダイレクトあるいはリバー
スコーティング、ロールコーティング、コンマーコーテ
ィング、エアナイフコーティングなどの他にシルク印刷
法、転写印刷法、ドライオフセット印刷法、パッド印刷
方法などの公知の塗布、印刷方法を用いることができ
る。
The film-forming method by coating the multi-layer laminate includes direct or reverse coating using a gravure plate or oblique printing plate, roll coating, comma coating, air knife coating, etc., as well as silk printing, transfer printing and dry offset printing. A known coating or printing method such as a printing method or a pad printing method can be used.

【0037】射出成形法により形成するポケットは、帯
状基材の構成要素であるプラスチックと熱融着する材料
から、コスト、成形性、機械的特性を考慮して選択する
ことが好ましく、例えば、ポリプロピレン、ポリ塩化ビ
ニル、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスチレ
ン、ABS樹脂、ポリウレタン、塩化ビニル・酢酸ビニ
ル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン
・アクリル酸共重合体、エチレン・アクリル酸エステル
共重合体、アイオノマー、ポリビニールアルコール、エ
チレン・酢酸ビニル共重合体ケン化物などが用いられ
る。そして、必要に応じて、粘着付与剤、ワックス、無
機、有機の充填剤、滑剤などを添加することができる。
The pocket formed by the injection molding method is preferably selected from materials that are heat-sealed with the plastic which is a component of the belt-shaped base material in consideration of cost, moldability and mechanical properties. For example, polypropylene. , Polyvinyl chloride, polyester, polycarbonate, polystyrene, ABS resin, polyurethane, vinyl chloride / vinyl acetate copolymer, ethylene / vinyl acetate copolymer, ethylene / acrylic acid copolymer, ethylene / acrylic acid ester copolymer, Ionomer, polyvinyl alcohol, saponified ethylene / vinyl acetate copolymer and the like are used. Then, if necessary, a tackifier, a wax, an inorganic or organic filler, a lubricant and the like can be added.

【0038】射出成形によるポケットと、プラスチック
帯状基材とを嵌合により固定する場合は、熱溶着できる
材料以外からも自由に選択することができる。
When the injection-molded pocket and the plastic strip base material are fixed by fitting, a material other than heat-weldable material can be freely selected.

【0039】ポケットの厚さは、充填する半導体素子の
形状、重量によって決定されるものであり必要以上の厚
さは避けるべきであり、最大で3mmである。
The thickness of the pocket is determined by the shape and weight of the semiconductor element to be filled, and an excessive thickness should be avoided and is 3 mm at maximum.

【0040】射出成形法に用いる樹脂の帯電処理は、帯
電防止剤の練り込みや、成型品の表面に塗布により行う
ことができる。練り込みに使用される帯電防止剤は、プ
ラスチック帯状基材と同様なものを使用することができ
次のものが挙げられる。 ケッチェンブラック、アセチレンブラック、ファーネ
ストブラックなどの粒子径0.02〜0.15μm、表
面積40m2 /g以上の導電性カーボン。 酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛などの金属酸化
物、金属硫化物、硫酸塩にドーピングなどの導電処理を
施した一次粒子系0.01〜1μmの導電性微粉末。 銅、鉄、アルミニウム、ニッケル、金などの粒子径
0.01〜10μmの繊維状又は粉末状の金属を主体と
する導電性微粉末。 アニオン系、カチオン系、非イオン系、両性イオン系
の界面活性剤。 脂肪酸誘導体、4官能性珪素部分加水分解物、ビスー
アンモニウム系有機半導体。 上記帯電防止剤のなかから、金属酸化物、界面活性剤、
あるいは導電性カーボンが、静電気除去特性、半導体素
子に対する非汚染性の点から好ましいものである。
The charging treatment of the resin used in the injection molding method can be carried out by kneading the antistatic agent or coating the surface of the molded product. As the antistatic agent used for kneading, the same ones as those used for the plastic belt-like substrate can be used, and the following ones can be mentioned. Conductive carbon having a particle size of 0.02 to 0.15 μm and a surface area of 40 m 2 / g or more, such as Ketjen black, acetylene black, and furnest black. A conductive fine powder having a primary particle size of 0.01 to 1 μm obtained by subjecting a metal oxide such as tin oxide, indium oxide, or zinc oxide, a metal sulfide, or a sulfate to a conductive treatment such as doping. A conductive fine powder mainly composed of a fibrous or powdery metal having a particle diameter of 0.01 to 10 μm, such as copper, iron, aluminum, nickel and gold. Anionic, cationic, nonionic, and zwitterionic surfactants. Fatty acid derivative, tetrafunctional silicon partial hydrolyzate, bis-ammonium organic semiconductor. Among the above antistatic agents, metal oxides, surfactants,
Alternatively, conductive carbon is preferable from the viewpoints of static electricity removal characteristics and non-contamination of semiconductor elements.

【0041】帯電防止剤による処理は、射出成形工程で
混入する練り込み方式、あるいは製膜されたシートに塗
布することで行われる。練り込み方式は、樹脂100重
量部に対し、帯電防止剤を1〜300重量%の添加、特
に5〜50重量%添加することが好ましい。帯電防止剤
が1重量%未満である場合、表面抵抗率が1013Ω/□
以上、減衰時間(電荷減衰時間)が5秒以上であり、静
電気の除去効果が充分ではなく、半導体素子とポケット
との接触、あるいはカバーテープを剥離するときに発生
する静電気で電子部品の回路が、短絡、破損することが
ある。また、帯電防止剤が300重量%を超える場合、
射出成形時の溶融粘度が上昇して流動性が低下するのみ
ならず、射出成形物も脆くなり必要な強度を保つことが
できない。
The treatment with the antistatic agent is carried out by a kneading method that is mixed in in the injection molding process, or by coating the film-formed sheet. In the kneading method, it is preferable to add the antistatic agent in an amount of 1 to 300% by weight, particularly 5 to 50% by weight, based on 100 parts by weight of the resin. When the antistatic agent is less than 1% by weight, the surface resistivity is 10 13 Ω / □
As described above, the decay time (charge decay time) is 5 seconds or more, the effect of removing static electricity is not sufficient, and the circuit of the electronic component is generated by static electricity generated when the semiconductor element is in contact with the pocket or when the cover tape is peeled off. , Short circuit or damage may occur. When the antistatic agent exceeds 300% by weight,
Not only the melt viscosity at the time of injection molding increases and the fluidity decreases, but also the injection molded product becomes brittle and the required strength cannot be maintained.

【0042】ポケットの帯電防止用塗布液は、バインダ
ーとして合成樹脂を主として、溶剤に溶解あるいは分散
したワニスに、帯電防止剤を加えて作成する。
The antistatic coating liquid for the pocket is prepared by adding an antistatic agent to a varnish dissolved or dispersed in a solvent, mainly synthetic resin as a binder.

【0043】バインダーは、ポリエステル、ポリウレタ
ン、ポリスチレン、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、
セルロース誘導体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ア
クリル系樹脂、シリコーン樹脂ワニス、ポリカーボネー
トなどや、これらの変性物、混合したものあるいは、熱
硬化、又は電離放射線硬化型樹脂であるアクリレート、
シリコーンを使用することもできる。
The binder is polyester, polyurethane, polystyrene, vinyl chloride / vinyl acetate copolymer,
Cellulose derivatives, ethylene / vinyl acetate copolymers, acrylic resins, silicone resin varnishes, polycarbonates and the like, modified products thereof, mixtures of these, or acrylates which are thermosetting or ionizing radiation curable resins,
Silicone can also be used.

【0044】上記 バインダーを、溶解あるいは分散す
る溶剤は、通常のエステル、炭化水素、ケトン、アルコ
ールなどの有機溶剤のみならず、水を用いた溶液又は分
散体として使用される。
The solvent that dissolves or disperses the binder is not limited to ordinary organic solvents such as esters, hydrocarbons, ketones and alcohols, but is also used as a solution or dispersion using water.

【0045】帯電防止用塗布液のバインダー100重量
部に対する帯電防止剤の添加量は、1〜300重量%、
特に5〜50重量%添加することが好ましい。帯電防止
剤が1重量%未満である場合、表面抵抗率が1013Ω/
□以上、電荷減衰時間が5秒以上であり、静電気の除去
効果が充分ではなく、電子部品の回路が、短絡、破損す
ることがある。また、帯電防止剤が300重量%を超え
る場合、塗布膜の接着、強度が低下し、塗布膜の脱落す
ることがある。
The amount of the antistatic agent added is 1 to 300% by weight, based on 100 parts by weight of the binder of the antistatic coating liquid.
It is particularly preferable to add 5 to 50% by weight. When the antistatic agent is less than 1% by weight, the surface resistivity is 10 13 Ω /
□ Above, the charge decay time is 5 seconds or more, the effect of removing static electricity is not sufficient, and the circuit of the electronic component may be short-circuited or damaged. Further, when the antistatic agent exceeds 300% by weight, the adhesion and strength of the coating film may be deteriorated and the coating film may fall off.

【0046】帯電防止塗布膜の厚さは、表面抵抗率が1
12Ω以下/□以下となるように適宜設定できるもので
あるが、コスト、塗布機からも限定されるもので、0.
1〜100μm、好ましくは2〜50μmである。
The thickness of the antistatic coating film has a surface resistivity of 1
It can be appropriately set so as to be 0 12 Ω or less / □ or less, but it is also limited by the cost and the coating machine.
It is 1 to 100 μm, preferably 2 to 50 μm.

【0047】帯電防止塗布液は、スプレー塗装などの他
にシルク印刷法、転写印刷法、ドライオフセット印刷
法、パッド印刷方法などの公知の塗布、成形品の場合は
印刷方法が有効である。
As the antistatic coating liquid, in addition to spray coating, known coating methods such as silk printing method, transfer printing method, dry offset printing method, pad printing method and the like, and in the case of molded articles, printing methods are effective.

【0048】帯状基材2に射出成形で形成するポケット
1の接着方法は公知の方法により適宜選定できる。好ま
しくは、予め射出成形法で形成したポケットを、帯状基
材に設けたポケット用開口部の接着部に、超音波接着
法、高周波接着法、ヒートシール法などの接着法や、接
着剤、溶剤による化学的接着法、嵌合などの物理的接着
法を用いて固定する。あるいは、予めポケット用開口部
を設けた帯状記事基材を射出成形用金型に装着し、ポケ
ットを形成すると同時に接着部で溶融接着する方法が用
いられる。
The method for adhering the pocket 1 formed by injection molding to the belt-shaped substrate 2 can be appropriately selected by a known method. Preferably, a pocket previously formed by an injection molding method is bonded to the bonding portion of the pocket opening provided on the strip-shaped base material by a bonding method such as an ultrasonic bonding method, a high frequency bonding method, a heat sealing method, an adhesive, or a solvent. It is fixed by using a chemical adhesion method according to, a physical adhesion method such as fitting. Alternatively, a method is used in which a strip-shaped article base material having an opening for a pocket provided in advance is attached to an injection molding die, and the pocket is formed, and at the same time, melt bonding is performed at the bonding portion.

【0049】本発明の、帯状成型品に使用するカバーテ
ープは、従来より使用されている、基材シートに、帯状
基材ヘの接着シール層として、感熱シール接着剤層、粘
着シール型接着剤層、電離放射線硬化型シール接着剤
層、マイクロカプセル型シール接着剤層を設けたものが
使用できる。特に好ましい接着剤層は、感熱接着剤より
なるヒートシーラント層である。
The cover tape used in the strip-shaped molded article of the present invention is a conventionally used base sheet, which has a heat-sensitive seal adhesive layer or an adhesive seal-type adhesive as an adhesive seal layer to the strip-shaped base material. A layer, an ionizing radiation-curable seal adhesive layer, or a microcapsule type seal adhesive layer may be used. A particularly preferable adhesive layer is a heat sealant layer made of a heat sensitive adhesive.

【0050】カバーテープの基本的層構成は次のような
ものが例示される。 基材シート/接着剤層/中間層/ヒートシーラント層 基材シート/接着剤層/中間層/接着剤層/二軸延伸
フィルム層/ヒートシーラント層 基材シート/ヒートシーラント層 基材シートは、二軸延伸フィルムである、ポリエステ
ル、ポリプロピレン、ナイロンなどの一軸延伸フィル
ム、二軸延伸フィルム、未延伸フィルム、合成紙を使用
することができる。
The basic layer structure of the cover tape is exemplified as follows. Base sheet / adhesive layer / intermediate layer / heat sealant layer Base sheet / adhesive layer / intermediate layer / adhesive layer / biaxially stretched film layer / heat sealant layer Base sheet / heat sealant layer As the biaxially stretched film, a uniaxially stretched film such as polyester, polypropylene or nylon, a biaxially stretched film, an unstretched film or a synthetic paper can be used.

【0051】中間層は、ポリオレフィン、ポリスチレ
ン、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・アクリ
ル酸共重合体、エチレン・アクリル酸エステル共重合
体、アイオノマー、ポリエステル及びこれらの変性物又
は混合物がある。
The intermediate layer includes polyolefin, polystyrene, ethylene / vinyl acetate copolymer, ethylene / acrylic acid copolymer, ethylene / acrylic acid ester copolymer, ionomer, polyester and modified products or mixtures thereof.

【0052】ヒートシーラント層は、ポリウレタン、ポ
リエステル、アクリル系樹脂、塩化ビニル・酢酸ビニル
共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・
アクリル酸共重合体、エチレン・アクリル酸エステル共
重合体、アイオノマー、シリコーンなどから適宜に選択
できる。
The heat sealant layer is made of polyurethane, polyester, acrylic resin, vinyl chloride / vinyl acetate copolymer, ethylene / vinyl acetate copolymer, ethylene.
It can be appropriately selected from acrylic acid copolymers, ethylene / acrylic acid ester copolymers, ionomers, silicones and the like.

【0053】そして、カバーテープに帯電防止性をもた
せるために、構成する層のうち少なくとも一層に、前記
のプラスチック帯状基材と同様の帯電防止剤を加える。
例えば、ヒートシーラント層の表面に、界面活性剤、ビ
スアンモニウム系有機半導体層を形成することもでき
る。
Then, in order to provide the cover tape with antistatic properties, an antistatic agent similar to the above-mentioned plastic strip-shaped substrate is added to at least one of the constituent layers.
For example, a surfactant or a bisammonium-based organic semiconductor layer can be formed on the surface of the heat sealant layer.

【0054】カバーテープの剥離形態には、次のような
ものがあるが、望ましくは、層間剥離をして、その剥離
強度が100〜1000g/15mm巾で、剥離時の最
大値と最小値との差が100g/15mm巾未満にする
ことが望ましい。 ヒートシーラント層と、プラスチック帯状基材との間
で剥離する界面剥離型。 ヒートシーラント層内部で破壊剥離する凝集破壊型。 ヒートシーラント層と、中間層あるいは二軸延伸フィ
ルム層との間で剥離する層間剥離型。
There are the following peeling modes of the cover tape. Desirably, the peeling strength is 100 to 1000 g / 15 mm width after the interlayer peeling, and the maximum value and the minimum value at the time of peeling are used. It is desirable that the difference is less than 100 g / 15 mm width. Interfacial peeling type that peels between the heat sealant layer and the plastic strip base material. A cohesive failure type that breaks and peels inside the heat sealant layer. Delamination type that peels between the heat sealant layer and the intermediate layer or the biaxially stretched film layer.

【0055】以上のうように、本発明の半導体素子用キ
ャリアテープは、常温のプラスチックシートに同一工程
で、送り孔及びポケット用開口部を形成したプラスチッ
クシートの帯状基材に、同成形品と熱溶融接着できる射
出成形樹脂を用いて、ポケットを設けて形成するもので
ある。したがって、形状安定性のあるポケットと、寸法
安定性がある帯状基材シートとの可撓性とを兼ね備えた
キャリアテープであり、巻取りにすることができる。
As described above, the carrier tape for a semiconductor device of the present invention is formed on the plastic sheet at room temperature in the same step in the same step on the strip-shaped base material of the plastic sheet in which the feed holes and the pocket openings are formed. It is formed by providing a pocket using an injection molding resin that can be heat melt-bonded. Therefore, it is a carrier tape having both the shape-stable pocket and the flexibility of the dimensionally stable strip-shaped substrate sheet, and can be wound.

【0056】すなわち、ポケットは射出成形品であるた
め、ポケット側壁、ポケット凹部、台座、移動制御凸状
部の寸法精度、厚み精度が安定したものである。そして
衝撃による台座、移動制御凸状部及びポケット側壁の変
形、曲がりをなくすることができる。また、ポケットの
台座と側壁との間に設ける移動制御凸状部は、台座に収
容する半導体素子を、安定して、移送中にも移動するこ
と遊嵌でき、摩擦による静電気の発生や、破損を防止す
るものである。
That is, since the pocket is an injection molded product, the dimensional accuracy and thickness accuracy of the pocket side wall, pocket recess, pedestal, and movement control convex portion are stable. Further, it is possible to eliminate the deformation and bending of the pedestal, the movement control convex portion and the pocket side wall due to the impact. In addition, the movement control convex portion provided between the pedestal and the side wall of the pocket allows the semiconductor element accommodated in the pedestal to be stably moved even during transfer, so that the semiconductor element can be loosely fitted, and static electricity due to friction or damage can be generated. Is to prevent.

【0057】常温加工したキャリアテープと、カバーテ
ープとのヒートシールは、表面に凹凸模様がなく剥離強
度を安定させる効果を奏する。
The heat sealing between the carrier tape and the cover tape processed at room temperature has the effect of stabilizing the peel strength without any uneven pattern on the surface.

【0058】キャリアテープは、導電性微粉末の練り込
みのみならず、塗布することによりできる生産性のよい
ものである。
The carrier tape has good productivity not only by kneading conductive fine powder but also by applying it.

【0059】本発明の半導体素子用キャリアテープの製
造方法について、図面を参照にして説明する。
A method of manufacturing the carrier tape for semiconductor device of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0060】図1(B)に示す送り孔21及びポケット
用開口部22は、プラスチックシートにプレス金型によ
るパンチングによる方法や、トムソン刃又はカッター
刃、レーザー加工などにより巻取り状で行う。次いで、
巻取りの供給及び巻上げユニットを設けた公知の射出成
形機の供給ユニットに、送り孔21と、ポケット用開口
部22を設けたプラスチックの帯状基材2を射出成形機
に挿入し、送り孔21あるいは/及びポケット用開口部
22で位置決めを行い、キヤビティに溶融樹脂を射出注
入してプラスチック帯状基材2に、ポケット1を成形し
て図1(A)、(C)及び(D)に示すように帯状基材
2の開口部22の端部とポケットの上部で、帯状基材と
ポケットの接着部16で融着して帯状成形品10構成す
る。このとき、成形用の樹脂が帯状基材2のカバーシー
トとのヒートシール面に付着しないように留意する。
The feed hole 21 and the pocket opening 22 shown in FIG. 1 (B) are formed in a rolled shape by a method of punching a plastic sheet with a press die, a Thomson blade or a cutter blade, laser processing, or the like. Then
The feed hole 21 and the plastic band-shaped base material 2 provided with the pocket opening 22 are inserted into the injection unit of a known injection molding machine provided with a winding unit and a winding unit. Alternatively, and / or positioning is performed by the pocket opening portion 22, and the molten resin is injected and injected into the cavity to form the pocket 1 on the plastic strip-shaped substrate 2 and shown in FIGS. 1 (A), 1 (C) and 1 (D). As described above, the band-shaped molded product 10 is formed by fusion bonding at the end portion of the opening 22 of the band-shaped substrate 2 and the upper portion of the pocket at the bonding portion 16 of the band-shaped substrate and the pocket. At this time, be careful so that the molding resin does not adhere to the heat-sealing surface of the strip-shaped base material 2 with the cover sheet.

【0061】そして、所望の列に帯状成形品10をスリ
ッターをして巻上げて、帯状成型品10の巻取りを作成
する。また、帯状基材2に、キャビティとコアから構成
させるプレス金型により、送り孔21及びポケット用開
口部22を設け、その工程と連続して、射出成形を行い
帯状成型品10を作成することもできる。
Then, the band-shaped molded product 10 is slitted and wound up in a desired row to form a roll-up of the band-shaped molded product 10. Further, the belt-shaped base material 2 is provided with a feed hole 21 and a pocket opening 22 by a press die composed of a cavity and a core, and injection molding is carried out in succession to the process to prepare a belt-shaped molded product 10. You can also

【0062】射出成形法で形成するポケット1は、図2
に示すように、半導体素子6を載置する台座3、金属リ
ード部61をポケット1の凹部12に宙づり状態にて収
容できるものである。そして、金属リード部61の曲が
り、折れ、欠けを防止するため台座3とポケット側壁と
の間に板状、又は棒状の移動制御凸状部4を形成する。
The pocket 1 formed by the injection molding method is shown in FIG.
As shown in FIG. 2, the pedestal 3 on which the semiconductor element 6 is mounted and the metal lead portion 61 can be accommodated in the recess 12 of the pocket 1 in a suspended state. Then, a plate-shaped or rod-shaped movement control convex portion 4 is formed between the pedestal 3 and the pocket side wall in order to prevent the metal lead portion 61 from being bent, bent, or chipped.

【0063】ポケット1の凹部12は、半導体素子の金
属リード部61がポケット側壁37及び台座3と接触し
ない空隔をもつものである。そして台座3とポケット側
壁37に位置する凹部12に設ける図2(B)〜(E)
に示す周縁部板状移動制御凸状部41、コーナー部板状
移動制御凸状部42、辺部板状移動制御凸状部43及び
周縁部棒状移動制御凸状部44は、半導体素子の底部を
図3(A)、(B)に示す素子の収納位置を1ケの移動
制御凸状部で規制する収納遊嵌位置63、又は素子の収
納位置を2ケの移動制御凸状部で規制する収納遊嵌位置
64により規制して、金属リード部61と側壁37とは
接触させないものである。
The recess 12 of the pocket 1 has a space in which the metal lead portion 61 of the semiconductor element does not contact the pocket side wall 37 and the pedestal 3. 2B to 2E, which are provided in the recesses 12 located on the pedestal 3 and the pocket side wall 37.
The peripheral plate movement control convex portion 41, the corner plate movement control convex portion 42, the side plate movement control convex portion 43 and the peripheral rod movement control convex portion 44 shown in FIG. 3A and 3B, the accommodation loose fitting position 63 in which the storage position of the element is regulated by one movement control convex portion, or the storage position of the element is regulated by the two movement control convex portions. The metal lead portion 61 and the side wall 37 are not brought into contact with each other by being restricted by the storage loose fitting position 64.

【0064】図5に示すように半導体素子6を台座3に
載置し、金属リード部61と、移動制御凸状部4の先端
46までの突起高さAは、0.01〜5.0mm、好ま
しくは0.1〜2.0mmに構成することが望ましい。
この突起高さAが、0.01mm未満の場合は、台座3
に半導体素子6を収納する場合、半導体の素子が、図3
に示す遊嵌位置63又は64からずれて斜め方向に収納
されたり、また5mmより大きい場合は、移動制御凸状
部が半導体素子6を遊嵌位置に制御する効果が低下し
て、ポケット側壁37に、半導体素子の金属リード部6
1が接触することにより欠損を生ずることもある。
As shown in FIG. 5, the semiconductor element 6 is placed on the pedestal 3, and the projection height A from the metal lead portion 61 to the tip 46 of the movement control convex portion 4 is 0.01 to 5.0 mm. , Preferably 0.1 to 2.0 mm.
If the projection height A is less than 0.01 mm, the pedestal 3
When the semiconductor element 6 is housed in the
If the movement control convex portion controls the semiconductor element 6 to the loose fitting position, the pocket side wall 37 is not provided. In addition, the metal lead portion 6 of the semiconductor element
Contact with 1 may cause a defect.

【0065】図5に示す、棒状又は板状の移動制御凸状
部の先端46とポケット側壁37との間隙距離Bは、半
導体素子の金属リード部61の寸法に併せて設定するも
のである。側壁37と金属リード部61の先端よりの距
離は0.5〜20mm、好ましくは2〜10mmであ
る。
The gap distance B between the tip 46 of the rod-shaped or plate-shaped movement control convex portion and the pocket side wall 37 shown in FIG. 5 is set in accordance with the size of the metal lead portion 61 of the semiconductor element. The distance between the side wall 37 and the tip of the metal lead portion 61 is 0.5 to 20 mm, preferably 2 to 10 mm.

【0066】図5に示す、移動制御凸状部4の断面形状
は特に規定はしないが、移動制御凸状部の先端46の曲
率半径Rが、0.1〜8.0mm、好ましくは0.5〜
3mmとすることが好ましく、先端のエッジ部がなくな
り誤って金属リード部61と移動制御凸状部とが接触し
た場合でも欠損を生じ難くなる。また、移動制御凸状部
の厚さDは、0.1〜8mm程度が好ましい。移動制御
凸状部の厚さDが、0.1mm未満では、移動制御凸状
部の剛性が不足し、衝撃や圧力により変形し、金属リー
ド部61を破損することがあり、また8mmを超えると
使用材料が多くなり、ポケットのサイズ、自重が大きく
なり、材料価格にはねかえるばかりではなくキャリアテ
ープを巻取るときプラスチック帯状基材が屈曲して巻取
り化が困難となる。
The cross-sectional shape of the movement control convex portion 4 shown in FIG. 5 is not particularly specified, but the radius of curvature R of the tip 46 of the movement control convex portion is 0.1 to 8.0 mm, preferably 0.1. 5-
It is preferably 3 mm, and even if the metal lead portion 61 and the movement control convex portion erroneously come into contact with each other due to the absence of the edge portion at the tip, a defect is less likely to occur. The thickness D of the movement control convex portion is preferably about 0.1 to 8 mm. When the thickness D of the movement control convex portion is less than 0.1 mm, the rigidity of the movement control convex portion is insufficient, and the metal lead portion 61 may be damaged due to deformation due to impact or pressure, and also exceeds 8 mm. Therefore, the amount of material used increases, the size of the pocket and the weight of the pocket increase, and not only the material cost is reconciled, but also when the carrier tape is wound, the plastic strip-shaped base material is bent and it is difficult to wind it.

【0067】移動制御凸状部の立上がり部45は適宜に
選定できるが、耐衝撃性、耐圧性、耐熱性、耐屈曲性、
引っ張り強度を保持するためにも図6(A)、(B)に
示す底部開放型凸状部4A、又は台座開放型凸状部4B
より、(C)、(D)に示す底部密閉型凸状部4C、又
は台座密閉型凸状部4Dが好ましい。
The rising portion 45 of the movement control convex portion can be selected as appropriate, but the shock resistance, pressure resistance, heat resistance, bending resistance,
In order to maintain the tensile strength, the bottom open type convex portion 4A or the pedestal open type convex portion 4B shown in FIGS. 6 (A) and 6 (B) is also used.
Therefore, the bottom closed convex portion 4C or the base closed convex portion 4D shown in (C) and (D) is preferable.

【0068】半導体素子をポケット台座に収納する際、
図2に示すように半導体素子の台座3との接触部が、平
面状である場合、その接触部分で薄膜の空気層を発生し
易く、その空気層の圧変動により、半導体素子を飛び跳
ねさせたり、傾斜、回転などの移動により、金属リード
部61が側壁37、底部33あるいは台座3と接触して
欠損することがある。
When the semiconductor element is stored in the pocket pedestal,
When the contact portion of the semiconductor element with the pedestal 3 is flat as shown in FIG. 2, an air layer of a thin film is likely to be generated at the contact portion, and the semiconductor element jumps due to the pressure fluctuation of the air layer. The metal lead portion 61 may come into contact with the side wall 37, the bottom portion 33, or the pedestal 3 and be damaged due to movement such as tilting or rotation.

【0069】また、半導体素子を搬送中に発生する静電
気電荷量は、仕事関数(接触回数、摩擦回数、圧力、接
触面積など)に比例するものである。したがって、摩擦
回数、接触回数及び接触圧力が同じであるならば、半導
体素子と台座との接触面積が大きい場合に、静電気の発
生量が大きくなり、ゴミの侵入及び金属リード部へのゴ
ミの付着による半導体素子の機能妨害や、発生した静電
気負荷による電気回路が短絡し、半導体素子の機能を失
うこととなる。
The amount of electrostatic charges generated during the transportation of the semiconductor element is proportional to the work function (contact frequency, friction frequency, pressure, contact area, etc.). Therefore, if the number of times of friction, the number of times of contact, and the contact pressure are the same, the amount of static electricity generated increases when the contact area between the semiconductor element and the pedestal is large, and dust intrusion and adhesion of dust to the metal leads As a result, the function of the semiconductor element is impaired and the electric circuit is short-circuited due to the generated electrostatic load, and the function of the semiconductor element is lost.

【0070】発生する静電気量を少なくするためには、
接触面積を少なくすることが有効であり、接触面積を少
なくするための方法としては、図7に示すように台座3
に半導体素子と接触しない部分となる空気溜5を設ける
ことが好ましい。
In order to reduce the amount of static electricity generated,
It is effective to reduce the contact area. As a method for reducing the contact area, as shown in FIG.
It is preferable to provide an air reservoir 5 which is a portion that does not come into contact with the semiconductor element.

【0071】具体的に空気溜5を構成するには次の方法
が有効である。 半導体素子を収納するときに金属リード部61が、底
部33、側壁37と接触しないように収納させるための
位置決め用の孔として、図8に示す貫通した台座孔31
を台座3の中央部に設けて空気を逃がす方法。 図9に示すように空気の流路型空気溜51を台座3の
中央方向に放射線状に形成する方法。 図10に示す台座の中央部近傍に凹部を形成して凹部
型空気溜52を設ける方法。 この場合、凹部型空気溜52を図7に示すよう中心部に
向かって、更に深くなるように傾斜させて凹部52bを
設けるとにより効果的である。その追加した凹部の段差
深さ52hは、0.05〜10mm、好ましくは0.1
〜5mmである。段差深さ52hが0.5mmより小さ
い場合は空気層を溜める効果が少なく、また5mmを超
えるとポケットが深くなるため、成形材料が多くなり、
コスト面とポケット全体の側壁37が大きくかつ深くな
り、帯状成型品の巻取りが困難になるという問題を発生
する。 図11に示すように台座表面をマット加工して空気の
流路である粗面型空気溜53を設ける方法。 マット加工は、粗さ曲線において中心線平均粗さが1.
0mm以下、最大高さが2.0mm以下であり、うねり
曲線においては、中心線うねりが1.0mm以下、最大
うねりが2.0mm以下が好ましい。 台座の面に図12に示す凸部54a、凹部54bより
なる凹凸溝状の凹凸型空気溜54を形成する方法。
The following method is effective for specifically constructing the air reservoir 5. As a positioning hole for accommodating the metal lead portion 61 so as not to contact the bottom portion 33 and the side wall 37 when accommodating the semiconductor element, the pedestal hole 31 penetrated as shown in FIG.
Is provided in the center of the pedestal 3 to allow air to escape. As shown in FIG. 9, a method of forming a flow path type air reservoir 51 of air radially in the central direction of the pedestal 3. A method of forming a recess near the center of the pedestal shown in FIG. 10 to provide a recess-type air reservoir 52. In this case, it is more effective to provide the recessed portion 52b by inclining the recessed air reservoir 52 toward the central portion so as to be deeper as shown in FIG. The step depth 52h of the added recess is 0.05 to 10 mm, preferably 0.1.
~ 5 mm. When the step depth 52h is less than 0.5 mm, the effect of accumulating the air layer is small, and when it exceeds 5 mm, the pocket becomes deeper, so that the molding material increases,
The cost and the side wall 37 of the entire pocket become large and deep, which makes it difficult to wind the band-shaped molded product. As shown in FIG. 11, a method of matting the surface of the pedestal to provide a rough surface type air reservoir 53 which is a flow path of air. The matting process has a center line average roughness of 1.
The maximum height is 0 mm or less and the maximum height is 2.0 mm or less. In the waviness curve, the center line waviness is preferably 1.0 mm or less and the maximum waviness is preferably 2.0 mm or less. A method of forming a concave-convex air reservoir 54 having a concave-convex groove shape including convex portions 54a and concave portions 54b shown in FIG.

【0072】上記、、及びに示す流路型空気溜
51、凹部型空気溜52、粗面型空気溜53及び凹凸型
空気溜54は、半導体素子6と台座3との接触部の面積
も小さくなり、発生する静電気電荷量が小さく、ゴミの
混入を防止するとともに、半導体回路の機能を保護する
上でも効果がある。
In the flow path type air reservoir 51, the concave type air reservoir 52, the rough surface type air reservoir 53, and the concavo-convex air reservoir 54 shown in and above, the area of the contact portion between the semiconductor element 6 and the pedestal 3 is also small. Therefore, the amount of generated electrostatic charges is small, and it is effective in preventing the entry of dust and protecting the function of the semiconductor circuit.

【0073】また、これらの台座孔31、粗面型空気溜
53と、流路型空気溜51、凹部型空気溜52、凹凸溝
による凹凸型空気溜54などを適宜組み合わせることに
より相乗効果を奏するものである。例えば、 (a) 台座孔31と流路型空気溜51とを組み合わせた図
13(A)、(B)に示す台座3。 (b) 台座孔31と凹部型空気溜52とを組み合わせた図
14に示す台座3。 (c) 台座孔31と粗面型空気溜53とを組み合わせた図
15に示す台座3。 (d) 台座孔31と凹部型空気溜52及び粗面型空気溜5
3とを組み合わせた図16に示す台座3。 (e) 台座孔31、流路型空気溜51及び粗面型空気溜5
3とを組み合わせた図17に示す台座3。 (f) 台座孔31と凹凸型空気溜54とを組み合わせた図
18に示す台座3。 (g) 台座孔31と凹部型空気溜52及び流路型空気溜5
1とを組み合わせた図19に示す台座3。 (h) 台座孔31と粗面型空気溜53及び凹凸型空気溜5
4とを組み合わせた図20に示す台座3。
Further, the pedestal hole 31, the rough surface type air reservoir 53, the channel type air reservoir 51, the concave type air reservoir 52, the concave and convex type air reservoir 54 formed by the concave and convex grooves, etc. are appropriately combined to produce a synergistic effect. It is a thing. For example, (a) the pedestal 3 shown in FIGS. 13A and 13B in which the pedestal hole 31 and the flow path type air reservoir 51 are combined. (b) The pedestal 3 shown in FIG. 14 in which the pedestal hole 31 and the recessed air reservoir 52 are combined. (c) The pedestal 3 shown in FIG. 15 in which the pedestal hole 31 and the rough surface type air reservoir 53 are combined. (d) Pedestal hole 31, concave air reservoir 52 and rough surface air reservoir 5
Pedestal 3 shown in FIG. 16 in combination with 3. (e) Pedestal hole 31, flow path type air reservoir 51 and rough surface type air reservoir 5
Pedestal 3 shown in FIG. 17 in combination with 3. (f) The pedestal 3 shown in FIG. 18 in which the pedestal hole 31 and the uneven air reservoir 54 are combined. (g) Pedestal hole 31, recessed-type air reservoir 52, and channel-type air reservoir 5
The pedestal 3 shown in FIG. 19 in combination with 1. (h) Pedestal hole 31, rough surface type air reservoir 53 and uneven air reservoir 5
The pedestal 3 shown in FIG.

【0074】[0074]

【発明の効果】本発明の半導体素子用キャリアテープ
は、常温のプラスチックシートに同一工程で、送り孔及
びポケット用開口部を形成したプラスチック帯状基材
と、成形精度のよい射出成形されたポケットとを複合し
て構成されている。したがって、形状安定性のあるポケ
ットと、寸法安定性があるシートとの可撓性を兼ね備え
たキャリアテープの巻取りを構成できる。
The carrier tape for a semiconductor device of the present invention comprises a plastic strip-shaped base material having a feed hole and a pocket opening formed in a plastic sheet at room temperature in the same step, and an injection-molded pocket with high molding accuracy. It is composed by combining. Therefore, it is possible to configure the winding of the carrier tape having flexibility of the pocket having shape stability and the sheet having dimension stability.

【0075】ポケットに形成する半導体素子を載置する
凸状の台座は、形状を自由に形成できる。そして台座の
周縁部に設ける移動制御凸状部は半導体素子の収納範囲
を規制して遊嵌し、静電気や金属リード部と側壁との接
触などによる半導体素子の損傷を防止する効果を奏す
る。そして、射出成形で形成される台座孔の位置精度及
び、常温のプラスチックシートに行われるため送り孔の
加工は、孔の寸法、ピッチの精度は安定したものとな
る。
The convex pedestal on which the semiconductor element formed in the pocket is placed can be freely formed. The movement control convex portion provided on the peripheral portion of the pedestal restricts the storage range of the semiconductor element and loosely fits, and has an effect of preventing damage to the semiconductor element due to static electricity or contact between the metal lead portion and the side wall. The accuracy of the position of the pedestal hole formed by injection molding and the processing of the feed hole, which is performed on the plastic sheet at room temperature, are stable in hole size and pitch accuracy.

【0076】常温加工したキャリアテープと、カバーテ
ープとのヒートシールは、表面に凹凸模様がなく剥離強
度を安定させる効果を奏する。キャリアテープは、導電
性微粉末の練り込みのみならず、塗布することによりで
きる生産性のよいものである。
The heat-sealing between the carrier tape and the cover tape processed at room temperature has the effect of stabilizing the peel strength without any uneven pattern on the surface. The carrier tape has good productivity not only by kneading conductive fine powder but also by applying it.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】(A)半導体素子を収納した本発明のキャリア
テープの断面を示す概念図である。 (B)帯状基材の平面を示す概念図である。 (C)帯状成型品の概念を示す斜視図である。 (D)帯状成型品のI−I断面を示す概念図である。
FIG. 1A is a conceptual diagram showing a cross section of a carrier tape of the present invention in which a semiconductor element is housed. It is a conceptual diagram which shows the plane of (B) strip | belt-shaped base material. (C) It is a perspective view showing the concept of a band-shaped molded product. (D) It is a conceptual diagram which shows the II cross section of a strip-shaped molded product.

【図2】(A)移動制御凸状部で収納保持した半導体素
子の収納状態を示す断面概念図である。 (B)周縁部に設けた板状の移動制御凸状部の位置を示
す平面概念図である。 (C)コーナー部に設けた板状の移動制御凸状部の位置
を示す平面概念図である。 (D)辺部に設けた板状の移動制御凸状部の位置を示す
平面概念図である。 (E)周縁部に設けた棒状の移動制御凸状部の位置を示
す平面概念図である。
FIG. 2A is a conceptual sectional view showing a housed state of a semiconductor element housed and held by a movement control convex portion. (B) It is a plane conceptual diagram which shows the position of the plate-shaped movement control convex part provided in the peripheral part. (C) It is a plane conceptual diagram showing a position of a plate-shaped movement control convex portion provided in a corner portion. (D) It is a plane conceptual diagram which shows the position of the plate-shaped movement control convex part provided in the side part. (E) It is a plane conceptual diagram showing the position of the rod-shaped movement control convex portion provided on the peripheral portion.

【図3】(A)半導体素子の収納遊嵌位置を示す概念の
平面図である。 (B)半導体素子の他の収納遊嵌位置を示す他の概念の
平面図である。
FIG. 3 (A) is a plan view of a concept showing a loose fitting position of a semiconductor element. (B) It is a plan view of another concept showing another accommodation loose fitting position of the semiconductor element.

【図4】(A)半導体素子を収納したポケット内の位置
関係を示す断面図である。 (B)移動制御凸状部の底部からの形成位置を示す断面
概念図である。 (C)移動制御凸状部の他の底部からの形成位置を示す
断面概念図である。 (D)移動制御凸状部の台座からの形成位置を示す断面
概念図である。
FIG. 4A is a sectional view showing a positional relationship in a pocket accommodating a semiconductor element. (B) It is a cross-sectional conceptual diagram showing the formation position from the bottom of the movement control convex portion. (C) It is a cross-sectional conceptual diagram showing the formation position of the movement control convex portion from the other bottom portion. (D) It is a cross-sectional conceptual diagram showing the formation position of the movement control convex portion from the pedestal.

【図5】移動制御凸状部の設定位置の寸法関係を湿す断
面概念図である。
FIG. 5 is a conceptual cross-sectional view for dampening the dimensional relationship of the setting positions of the movement control convex portions.

【図6】(A)底部開放型の移動制御凸状部の形状を示
す断面概略図である。 (B)台座開放型の移動制御凸状部の形状を示す断面概
略図である。 (C)底部密閉型の移動制御凸状部の形状を示す断面概
略図である。 (D)台座密閉型の移動制御凸状部の形状を示す断面概
略図である。
FIG. 6A is a schematic cross-sectional view showing the shape of a bottom open-type movement control convex portion. FIG. 3B is a schematic cross-sectional view showing the shape of a pedestal open type movement control convex portion. FIG. 3C is a schematic cross-sectional view showing the shape of a bottom closed type movement control convex portion. (D) is a schematic sectional view showing the shape of a pedestal closed type movement control convex portion.

【図7】(A)空気溜を設けた台座の断面概略図であ
る。
FIG. 7A is a schematic sectional view of a pedestal provided with an air reservoir.

【図8】(A)台座孔設けた台座を示す断面の概念図で
ある。 (B)上記形状による空気溜の平面形状を示す概念図で
ある。
FIG. 8A is a conceptual diagram of a cross section showing a pedestal provided with a pedestal hole. (B) It is a conceptual diagram which shows the planar shape of the air reservoir by the said shape.

【図9】(A)流路型空気溜を設けた台座を示す断面の
概念図である。 (B)上記形状による空気溜の平面形状を示す概念図で
ある。
FIG. 9A is a conceptual diagram of a cross section showing a pedestal provided with a flow path type air reservoir. (B) It is a conceptual diagram which shows the planar shape of the air reservoir by the said shape.

【図10】(A)凹部型空気溜を設けた台座を示す断面
の概念図である。 (B)上記形状による空気溜の平面形状を示す概念図で
ある。
FIG. 10 (A) is a conceptual diagram of a cross section showing a pedestal provided with a recessed air reservoir. (B) It is a conceptual diagram which shows the planar shape of the air reservoir by the said shape.

【図11】(A)粗面型空気溜を設けた台座を示す断面
の概念図である。 (B)上記形状の空気溜の平面形状を示す概念図であ
る。
FIG. 11A is a conceptual diagram of a cross section showing a pedestal provided with a rough surface type air reservoir. (B) It is a conceptual diagram which shows the planar shape of the air reservoir of the said shape.

【図12】(A)凹凸型空気溜を設けた台座を示す断面
の概念図である。 (B)上記形状の空気溜の平面形状を示す概念図であ
る。
FIG. 12A is a conceptual diagram of a cross section showing a pedestal provided with an uneven air reservoir. (B) It is a conceptual diagram which shows the planar shape of the air reservoir of the said shape.

【図13】(A)台座孔と流路型空気溜とを複合した断
面の概念図である。 (B)上記形状の空気溜の平面形状を示す概念図であ
る。
FIG. 13 (A) is a conceptual view of a cross section in which a pedestal hole and a channel type air reservoir are combined. (B) It is a conceptual diagram which shows the planar shape of the air reservoir of the said shape.

【図14】台座孔と凹部型空気溜を複合した台座を示す
断面の概念図である。
FIG. 14 is a conceptual diagram of a cross section showing a pedestal in which a pedestal hole and a recess-type air reservoir are combined.

【図15】台座孔と粗面型空気溜を複合した台座を示す
断面の概念図である。
FIG. 15 is a conceptual sectional view showing a pedestal in which a pedestal hole and a rough surface type air reservoir are combined.

【図16】台座孔と粗面型空気溜及び凹部型空気溜を複
合した台座を示す断面の概念図である。
FIG. 16 is a conceptual diagram of a cross section showing a pedestal in which a pedestal hole, a rough surface type air reservoir, and a recessed type air reservoir are combined.

【図17】台座孔と粗面型空気溜及び流路型空気溜とを
凹部型空気溜を複合した台座を示す断面の概念図であ
る。
FIG. 17 is a conceptual diagram of a cross section showing a pedestal in which a recess hole type air reservoir is combined with a pedestal hole, a rough surface type air reservoir, and a flow path type air reservoir.

【図18】台座孔と凹凸型空気溜とを凹部型空気溜を複
合した台座を示す断面の概念図である。
FIG. 18 is a conceptual view of a cross section showing a pedestal in which a pedestal hole and a concave-convex air reservoir are combined with a concave air reservoir.

【図19】台座孔と流路型空気溜及び凹部型空気溜とを
複合した台座を示す断面の概念図である。
FIG. 19 is a conceptual view of a cross section showing a pedestal in which a pedestal hole, a channel type air reservoir, and a recessed type air reservoir are combined.

【図20】台座孔と粗面型空気溜及び凹凸型空気溜とを
凹部型空気溜を複合した台座を示す断面の概念図であ
る。
FIG. 20 is a conceptual diagram of a cross section showing a pedestal in which a pedestal hole, a rough surface type air reservoir, and a concave-convex type air reservoir are combined with a concave type air reservoir.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ポケット 10 帯状成型品 12 ポケットの凹部 16 接着部 2 帯状基材 21 送り孔 22 開口部 3 台座 31 台座孔 32 移動制御凸状部の立上がり部 33 底部 34 脱気溝 37 側壁 4 移動制御凸状部 41 周縁部壁状移動制御凸状部 42 コーナー部板状移動制御凸状部 43 辺部板状移動制御凸状部 44 周縁部棒状移動制御凸状部 46 移動制御凸状部の先端 47 底部立上り型凸状部 48 台座保持型凸状部 49 台座突出し型凸状部 4A 底部開放型凸状部 4B 台座開放型凸状部 4C 底部密閉型凸状部 4D 台座密閉型凸状部 5 空気溜 51 流路型空気溜 52 凹型空気溜 52b 空気溜めの凹部 52h 段差深さ 53 粗面型空気溜 54 凹凸型空気溜 54a 空気溜めの凸部 54b 空気溜めの凹部 6 半導体素子 61 金属リード部 63、64 半導体素子の収納遊嵌位置 7 カバーテープ A 移動制御凸状部の先端と金属リード部との距離 B 側壁から移動制御凸状部までの距離 C 台座から移動制御凸状部までの距離 D 移動制御凸状部の巾 1 Pocket 10 Band-shaped molded product 12 Pocket recessed part 16 Adhesive part 2 Band-shaped base material 21 Feed hole 22 Opening part 3 Pedestal 31 Pedestal hole 32 Movement control convex rising part 33 Bottom 34 Degassing groove 37 Side wall 4 Movement control convex Part 41 Peripheral part Wall-shaped movement control convex part 42 Corner part Plate-shaped movement control convex part 43 Side part Plate-shaped movement control convex part 44 Perimeter part rod-shaped movement control convex part 46 Tip of movement control convex part 47 Bottom part Rise type convex part 48 Pedestal holding type convex part 49 Pedestal protruding type convex part 4A Bottom open type convex part 4B Pedestal open type convex part 4C Bottom closed convex part 4D Pedestal closed type convex part 5 Air reservoir 51 Flow Channel Air Reservoir 52 Concave Air Reservoir 52b Air Recess Recess 52h Step Depth 53 Rough Surface Air Reservoir 54 Rough Air Reservoir 54a Air Reservoir Convex 54b Air Reservoir Recess 6 Semiconductor Element 61 Metallic 63, 64 Position for loose fitting of semiconductor device 7 Cover tape A Distance between tip of movement control convex portion and metal lead portion B Distance from side wall to movement control convex portion C Pedestal to movement control convex portion Distance to D Width of convex part of movement control

─────────────────────────────────────────────────────
─────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成7年12月7日[Submission date] December 7, 1995

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】図7[Name of item to be corrected] Figure 7

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図7】 空気溜を設けた台座の断面概略図であ
る。
FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of a pedestal provided with an air reservoir.

【手続補正2】[Procedure amendment 2]

【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing

【補正対象項目名】図12[Correction target item name] FIG.

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図12】 FIG.

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 金属リード部とプラスチック成形部分よ
りなる半導体素子を収納するための部品用ポケットと、
少なくとも片側に搬送用送り孔とを等間隔に設けたプラ
スチック帯状成形品に、該ポケットを覆いヒートシール
するヒートシーラント層をもつカバーテープからなる半
導体素子用キャリアテープにおいて、該部品用ポケット
部の半導体素子と接触する近傍の表面抵抗率又は体積抵
抗率が、23℃、相対湿度90%の条件で1012Ω/□
より大きくなく、かつ、該ポケットには半導体素子金属
リード部分がポケット部の底面及び側壁と接触しないよ
うに半導体素子を支える台座と台座及びポケット部の側
壁との間に金属リード部と接触せず半導体素子の移動を
制限する移動制御凸状部を形成しており、前記カバーテ
ープのヒートシーラント層表面は、表面抵抗率が23℃
90%RH環境下において1012Ω/□より大きくない
ことを特徴とする半導体素子用キャリアテープ。
1. A component pocket for accommodating a semiconductor element comprising a metal lead portion and a plastic molding portion,
In a carrier tape for a semiconductor device, which comprises a plastic tape-shaped molded product having at least one transporting hole provided at equal intervals on one side and a heat sealant layer for heat-sealing the pocket, the semiconductor of the component pocket portion in a carrier tape for a semiconductor device. Surface resistivity or volume resistivity in the vicinity of contact with the device is 10 12 Ω / □ under the conditions of 23 ° C and relative humidity of 90%.
It is not larger, and the pocket does not come into contact with the metal lead portion between the pedestal that supports the semiconductor element and the side wall of the pedestal and the pocket portion so that the metal lead portion of the semiconductor element does not come into contact with the bottom surface and the sidewall of the pocket portion. A movement control convex portion that restricts movement of the semiconductor element is formed, and the surface resistivity of the heat sealant layer of the cover tape is 23 ° C.
A carrier tape for a semiconductor element, which is not more than 10 12 Ω / □ under a 90% RH environment.
【請求項2】 該移動制御凸状部は、棒状又は板状に設
けられたものであることを特徴とする請求項1記載の半
導体素子用キャリアテープ。
2. The carrier tape for a semiconductor device according to claim 1, wherein the movement control convex portion is provided in a rod shape or a plate shape.
【請求項3】 上記台座の台座中央部近傍が、半導体素
子部分との接触面積を少なくするように凹状の空気溜を
設けられたものであることを特徴とする請求項1記載の
半導体用キャリアテープ。
3. The carrier for semiconductors according to claim 1, wherein a concave air reservoir is provided in the vicinity of the central portion of the base of the base so as to reduce the contact area with the semiconductor element portion. tape.
【請求項4】 プラスチック帯状成形品の基材が、厚さ
0.1〜0.8mmのプラスチックシートであり、該基
材に設ける搬送用送り孔と同一工程で成形された部品用
ポケット用開口部に射出成形で形成される部品用ポケッ
トであることを特徴とする請求項1乃至3記載の半導体
素子用キャリアテープ。
4. A plastic strip-shaped base material is a plastic sheet having a thickness of 0.1 to 0.8 mm, and a component pocket opening formed in the same step as a transport feed hole provided in the base material. 4. The carrier tape for a semiconductor device according to claim 1, wherein the carrier tape is a component pocket formed by injection molding on the portion.
【請求項5】 部品用ポケット用開口部及び搬送用送り
孔とを等間隔に設けた厚さ0.1〜0.8mmの帯状基
材のポケット用開口部に射出成形法による部品用ポケッ
トを設けられたものであることを特徴とする請求項1、
2及び3記載の半導体素子用キャリアテープ。
5. A component pocket formed by injection molding at a pocket-shaped opening of a strip-shaped base material having a thickness of 0.1 to 0.8 mm in which a component pocket opening and a transport feed hole are provided at equal intervals. It is provided, Claim 1, characterized by the above-mentioned.
2. The carrier tape for a semiconductor device according to 2 and 3.
【請求項6】 上記プラスチック帯状成形品の基材が、
熱可塑性樹脂と酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛に導
電処理を施した粒径0.01〜1μmの導電性微粉末又
は導電性カーボン及び界面活性剤からなり、該導電性微
粉末、導電性カーボン、界面活性剤が、熱可塑性樹脂1
00部に対し1〜300重量%含むことを特徴とする請
求項1記載の半導体素子用キャリアテープ。
6. The base material of the plastic strip-shaped molded article,
It is composed of a thermoplastic resin and conductive fine powder having a particle diameter of 0.01 to 1 μm obtained by subjecting tin oxide, indium oxide or zinc oxide to conductive treatment, or conductive carbon, and a surfactant, and the conductive fine powder or conductive carbon is used. , Surfactant is thermoplastic resin 1
The carrier tape for a semiconductor device according to claim 1, wherein the carrier tape is contained in an amount of 1 to 300% by weight based on 100 parts.
【請求項7】 上記プラスチック帯状成形品の基材が、
酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛に導電処理を施した
粒径0.01〜1μmの導電性微粉末又は導電性カーボ
ン及び界面活性剤を樹脂ワニスに分散調整した導電性塗
布剤を少なくとも一方の側に塗布して設けられたもので
あることを特徴とする請求項1記載の半導体素子用キャ
リアテープ。
7. The base material of the plastic strip-shaped molded article,
At least one side of a conductive coating agent in which tin oxide, indium oxide, zinc oxide is subjected to a conductive treatment, conductive fine powder having a particle diameter of 0.01 to 1 μm or conductive carbon and a surfactant are dispersed and adjusted in a resin varnish. The carrier tape for a semiconductor device according to claim 1, wherein the carrier tape is provided by being applied onto the carrier tape.
【請求項8】 上記プラスチック帯状成形品の基材が、
2層以上の積層物であり、少なくともその半導体素子と
接触する内面層の体積抵抗率が、1012Ω・cmを超え
ないものであることを特徴とする請求項1記載の半導体
素子用キャリアテープ。
8. The base material of the plastic strip-shaped molded article,
2. The carrier tape for a semiconductor device according to claim 1, wherein the carrier tape is a laminate of two or more layers, and at least the volume resistivity of the inner surface layer in contact with the semiconductor device does not exceed 10 12 Ω · cm. .
【請求項9】 上記部品用ポケットが、熱可塑性樹脂と
酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛等の金属酸化物に導
電処理を施した粒径0.01〜1μmの導電性微粉末又
は導電性カーボン及び界面活性剤からなり、該導電性微
粉末、又は導電性カーボン及び界面活性剤が熱可塑性樹
脂100部に対し1〜300重量%含み、その表面抵抗
率が1012Ω/□を超えない射出成形品であることを特
徴とする請求項1乃至3記載の半導体素子用キャリアテ
ープ。
9. A conductive fine powder or conductive carbon having a particle diameter of 0.01 to 1 μm, wherein the component pocket is made by subjecting a thermoplastic resin and a metal oxide such as tin oxide, indium oxide or zinc oxide to a conductive treatment. And a surface-active agent, wherein the conductive fine powder, or the conductive carbon and the surface-active agent are contained in an amount of 1 to 300% by weight based on 100 parts of the thermoplastic resin, and the surface resistivity of which does not exceed 10 12 Ω / □. The carrier tape for a semiconductor device according to claim 1, which is a molded product.
【請求項10】 上記部品用ポケットの少なくとも片面
が、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛の金属酸化物に
導電処理を施した粒径0.01〜1μmの導電性微粉末
又は導電性カーボン及び界面活性剤を樹脂ワニスに分散
調整した導電性塗布剤を少なくとも一方の側に設けられ
たものであることを特徴とする請求項1記載の半導体素
子用キャリアテープ。
10. A conductive fine powder or conductive carbon having a particle diameter of 0.01 to 1 μm obtained by subjecting a metal oxide such as tin oxide, indium oxide, or zinc oxide to a conductive treatment, and an interface on at least one surface of the component pocket. 2. The carrier tape for a semiconductor element according to claim 1, wherein a conductive coating agent in which an activator is dispersed and adjusted in a resin varnish is provided on at least one side.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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