JPH09326328A - Gas insulated capacitor - Google Patents
Gas insulated capacitorInfo
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- JPH09326328A JPH09326328A JP16383996A JP16383996A JPH09326328A JP H09326328 A JPH09326328 A JP H09326328A JP 16383996 A JP16383996 A JP 16383996A JP 16383996 A JP16383996 A JP 16383996A JP H09326328 A JPH09326328 A JP H09326328A
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- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はSF6 ガス絶縁コン
デンサの改良に関する。ここでいうコンデンサは半導体
回路に用いられるような耐圧の低い小型のコンデンサで
はない。耐電圧が数千ボルト〜数万ボルトの高電圧であ
り且つ電流も大きいものである。つまり容量耐電圧とも
に大きいコンデンサである。ビルの受電設備に設けら
れ、電圧の安定の為に利用される。誘電体はポリプロピ
レンフィルムである。電極はAl蒸着膜である。FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to improvements in SF 6 gas insulated capacitors. The capacitor mentioned here is not a small capacitor having a low breakdown voltage as used in a semiconductor circuit. It has a high withstand voltage of several thousand to tens of thousands of volts and a large current. In other words, the capacitor has a large withstand voltage. It is installed in the power receiving equipment of the building and is used to stabilize the voltage. The dielectric is a polypropylene film. The electrodes are Al vapor deposition films.
【0002】ポリプロピレンフィルムにAlを蒸着した
フィルムを多数回巻き廻したものである。絶縁の為に油
を用いないでガスを用いる。絶縁ガスはSF6 である。
Alは純度の高いAlを用いる。抵抗加熱ヒ−タによっ
て高純度Alを蒸発させ、ポリプロピレンフィルムに蒸
着する。ロールに巻いたポリプロピレンフィルムを順次
巻き出して露呈した面にAl蒸気を当てて蒸着するので
ある。Al蒸着された部分は巻き取りローラによって巻
き取られる。このようにシート上のポリプロピレンフィ
ルムに連続してAl膜を均等の厚さで被覆していくよう
にする。It is a film obtained by winding a film obtained by vapor-depositing Al on a polypropylene film many times. Use gas instead of oil for insulation. The insulating gas is SF 6 .
Highly pure Al is used as Al. High-purity Al is evaporated by a resistance heating heater and deposited on a polypropylene film. The polypropylene film wound on a roll is sequentially unwound, and the exposed surface is vapor-deposited with Al vapor. The Al vapor-deposited portion is wound up by a winding roller. Thus, the polypropylene film on the sheet is continuously coated with the Al film with a uniform thickness.
【0003】[0003]
【従来の技術】5μm〜10μm厚のポリプロピレンフ
ィルム表面に、10nm〜50nm(100Å〜500
Å)厚の純Alを蒸着したMF(メタライズドフィル
ム)を2枚重ねてロール状に巻き、これをコンデンサ素
子としていた。実際には正負の2種類の電極が必要であ
るから、このようなフィルムにおいては、Alの蒸着領
域を少しずらしたもの2種類を重ねて巻き廻し、端面に
金属溶射によって電極を形成する。2. Description of the Related Art A polypropylene film having a thickness of 5 μm to 10 μm has a thickness of 10 nm to 50 nm (100 Å to 500 nm).
Å) Two MFs (metallized films) vapor-deposited with pure Al having a thickness were stacked and wound in a roll shape, which was used as a capacitor element. In reality, two kinds of electrodes, positive and negative, are required. Therefore, in such a film, two kinds of Al vapor deposition regions are slightly overlapped and wound, and the electrodes are formed on the end faces by metal spraying.
【0004】図1はそのようなガス絶縁型のコンデンサ
の概略を示すための、一部を巻き出して示す斜視図であ
る。ポリプロピレンフィルムは幅が80mm〜1000
mm程度である。厚さは先述のように5μm〜10μm
である。フィルムの長さは700m〜1000mもあ
り、これは所望の容量によって決まる。FIG. 1 is a perspective view showing a part of the gas-insulated capacitor in an unrolled state. The width of polypropylene film is 80mm-1000
mm. The thickness is 5 μm to 10 μm as described above.
It is. The length of the film can range from 700 m to 1000 m, which depends on the desired volume.
【0005】ポリプロピレンフィルム1の片面にはAl
膜2が蒸着されている。一部が非蒸着面3となってい
る。非蒸着面3とAl膜2の位置に関して2種類のもの
がある。下方に非蒸着面3があるものをフィルムAとす
る。上方に非蒸着面3があるものをフィルムBとする。
これらのフィルムAとフィルムBを芯4を中心にして重
ねて巻き廻す。巻き数が少ない場合は円筒状にする場合
もある。2種類のフィルムを巻いた後、端面には金属溶
射によって丸い電極を作る。Al on one side of the polypropylene film 1
The film 2 has been deposited. A part is the non-evaporated surface 3. There are two types of positions for the non-deposited surface 3 and the Al film 2. The film A has a non-evaporated surface 3 below. The film B having the non-vapor-deposited surface 3 above is referred to as a film B.
The film A and the film B are overlapped and wound around the core 4. If the number of turns is small, it may be cylindrical. After winding two kinds of film, round electrodes are made on the end faces by metal spraying.
【0006】上側の金属溶射電極5は上側にAl膜を有
するフィルムAと接続される。下側の金属溶射電極6は
下側にAl膜を持つフィルムBと接続される。一つの電
極は積層フィルムの偶数枚目のものに、他方の電極は奇
数枚目のものに接続される。図2はAl膜と電極の接続
の状態を示す断面図である。こうして作った円筒状の素
子を幾つも平行に並べて容器に収容する。The metal sprayed electrode 5 on the upper side is connected to the film A having an Al film on the upper side. The lower metal spray electrode 6 is connected to the film B having an Al film on the lower side. One electrode is connected to an even-numbered laminated film, and the other electrode is connected to an odd-numbered laminated film. FIG. 2 is a cross-sectional view showing the state of connection between the Al film and the electrodes. A number of cylindrical elements thus made are arranged in parallel and housed in a container.
【0007】巻き数が多いときは巻き廻した後側方から
圧縮して平坦にする。端面に金属照射によって電極を形
成するのは同じである。反物状にした素子単位を幾つも
を並べて容器に収容する。何れの場合も、容器にはSF
6 ガスを満たす。絶縁のためである。When the number of windings is large, it is flattened by compressing from the side after winding. It is the same as forming electrodes on the end faces by metal irradiation. A number of element units in the form of a piece are arranged and housed in a container. In either case, the container is SF
Fill 6 gas. This is for insulation.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】このようなガス絶縁型
コンデンサを長年使用していると容量が低下することが
ある。容量低下は10%〜20%程度になることがあ
る。初めは所定の静電容量があるのであるが、4年、6
年と経つと静電容量が減少してくる。このようなコンデ
ンサを回収して分解すると、アルミ蒸着領域が部分的に
透明になっている部分がある。この現象を電極の透明化
と言っている。これはアルミ膜が剥落したのかも知れな
い。或いは何らかの化学変化をしているのかもしれな
い。透明化はどうして起こるのか?When such a gas-insulated capacitor is used for many years, the capacity may decrease. The capacity decrease may be about 10% to 20%. At first there is a certain capacitance, but in 4 years, 6
Capacitance decreases with age. When such a capacitor is collected and disassembled, there is a part where the aluminum vapor deposition region is partially transparent. This phenomenon is called transparency of the electrode. This may be because the aluminum film has come off. Or maybe it is undergoing some kind of chemical change. How does transparency happen?
【0009】本発明者は、透明になっている部分をオー
ジェ電子分光法によって分析した。すると透明となって
いる部分には酸化アルミ(アルミナ)ができているとい
うことが分かった。アルミ膜が剥がれたのではなく酸化
されたのである。これが判ったのが1990年頃のこと
である。α−アルミナは透明であるがこのようなアルミ
ナが生成されているのである。初め純粋なアルミであっ
たものが酸化して透明化したのである。本発明者がこれ
を最初に見い出した。The present inventor analyzed the transparent portion by Auger electron spectroscopy. Then, it was found that aluminum oxide (alumina) was formed in the transparent part. The aluminum film was not peeled off but was oxidized. This was discovered around 1990. Although α-alumina is transparent, such alumina is produced. What was originally pure aluminum was oxidized and made transparent. The inventor first discovered this.
【0010】その理由は次のように考えられる。容器に
はSF6 が充填され密封されている。密封した後に水分
や酸素が入ったという可能性は低い。SF6 には酸化性
は全くない。すると製造時に水分や酸素がフィルムに取
り込まれたのであろうと推量される。ポリプロピレンフ
ィルムへのアルミの蒸着は真空中でなされる。しかしフ
ィルムを巻くのは大気中で行われる。この時に水分、酸
素等が入る可能性がある。つまりMF(メタライズドフ
ィルム)を巻き廻すときに、フィルム表面へ水分が吸着
したり、大気成分が吸着する。水分や大気等を巻き込ん
だ形で素子巻きが行われる。The reason is considered as follows. The container is filled with SF 6 and hermetically sealed. It is unlikely that water or oxygen entered after sealing. SF 6 has no oxidizing property. Then, it is speculated that water and oxygen may have been taken into the film during manufacturing. Deposition of aluminum on polypropylene film is done in vacuum. However, winding the film is done in the atmosphere. At this time, water, oxygen, etc. may enter. That is, when the MF (metallized film) is wound, moisture is adsorbed on the film surface or atmospheric components are adsorbed. Element winding is carried out in a form in which moisture, air, etc. are involved.
【0011】絶縁のために油などの液体を充填する場合
は、絶縁油の作用で水分や酸素がアルミ表面から物理的
に除去されるということもあり得よう。しかしガス絶縁
型コンデンサの場合は一旦付着した水分などは取れな
い。長年の間に水分、酸素と蒸着Al膜が化学反応を起
こす。次第にアルミが酸化してしまうのであろう。電極
の透明化はアルミが酸化したことによって引き起こされ
る。電極である蒸着Al膜が酸化してしまうとその部分
は絶縁体になる。電極としての有効面積が減少するの
で、コンデンサ特性が劣化する。特に容量の減少低下が
起こる。When a liquid such as oil is filled for insulation, it is possible that moisture and oxygen are physically removed from the aluminum surface by the action of the insulation oil. However, in the case of a gas-insulated capacitor, once attached water cannot be removed. Moisture, oxygen and vapor-deposited Al film cause chemical reaction during many years. The aluminum will gradually oxidize. The transparency of the electrodes is caused by the oxidation of aluminum. When the vapor-deposited Al film, which is the electrode, is oxidized, that portion becomes an insulator. Since the effective area as an electrode decreases, the capacitor characteristics deteriorate. In particular, a decrease in capacity occurs.
【0012】このような経年変化はかなり多くのコンデ
ンサに起こる。容量が低下したコンデンサは回収し交換
しなければならない。これは手数、経費がかかる。この
ような経年的な特性の劣化のないコンデンサを製造した
いという要望がある。しかし未だに適当な解決手段は見
つかっていない。これが現状である。Such aging occurs in a large number of capacitors. Capacitors with reduced capacity must be collected and replaced. This takes time and money. There is a demand to manufacture a capacitor that does not deteriorate in characteristics over time. However, no suitable solution has been found yet. This is the current situation.
【0013】[0013]
【課題を解決するための手段】本発明は、アルミに、微
量のSi、Mg、Mn、Cuを添加することによって酸
化を防ぐ。つまり蒸着Al膜をSi、Mg、Mn、Cu
を含むAl合金膜とする。こうすることによってアルミ
箔電極の耐酸化性、耐食性を高めることができる。不純
物の作用によって、初めに水分や酸素が付着していても
アルミ層が酸化しなくなる。酸化しないと酸化アルミ
(アルミナ)が生成されないから電極の有効面積が減少
しない。容量の低下という劣化を免れることができる。
長年安定した特性のコンデンサを得る事ができる。The present invention prevents oxidation by adding a trace amount of Si, Mg, Mn and Cu to aluminum. That is, the deposited Al film is formed of Si, Mg, Mn, Cu.
An Al alloy film containing By doing so, the oxidation resistance and corrosion resistance of the aluminum foil electrode can be improved. Due to the action of impurities, the aluminum layer does not oxidize even if water or oxygen is initially attached. If it is not oxidized, aluminum oxide (alumina) is not generated, so the effective area of the electrode does not decrease. It is possible to avoid the deterioration of the capacity.
It is possible to obtain capacitors with stable characteristics for many years.
【0014】但し、不純物が多すぎると、アルミ層が硬
くなって脆くなる恐れがある。硬化によってフィルムか
ら剥離し易くなることもある。Si、Mg、Mnのアル
ミに対する適当な混合の比率は次のようである。However, if the amount of impurities is too large, the aluminum layer may become hard and brittle. Curing may also facilitate peeling from the film. The proper mixing ratio of Si, Mg and Mn to aluminum is as follows.
【0015】(1)Siは、0.01wt%〜5.0w
t%(残りはアルミ) (2)Mgは、0.02wt%〜5.0wt%(残りは
アルミ) (3)Mnは、0.02wt%〜2.0wt%(残りは
アルミ) (4)Cuは、0.01wt%〜5.0wt%(残りは
アルミ) (5)Si、Mg、Mn、Cuのいずれか2種類以上を
それぞれの比率が(1)〜(4)の範囲であるようにす
る(残りはアルミ)。(1) Si is 0.01 wt% to 5.0 w
t% (the rest is aluminum) (2) Mg is 0.02 wt% to 5.0 wt% (the rest is aluminum) (3) Mn is 0.02 wt% to 2.0 wt% (the rest is aluminum) (4) Cu is 0.01 wt% to 5.0 wt% (the remainder is aluminum) (5) Any two or more kinds of Si, Mg, Mn, and Cu may be in the ratios (1) to (4). Leave (the rest is aluminum).
【0016】不純物が下限の値より低いと不純物添加の
効果が殆ど現れない。つまりアルミが酸化されるのを防
ぐことができない。反対に不純物の添加量が上限を越え
るとアルミ合金が硬くなり、多数回コイル状に巻く作業
に支障が現れる。また電気抵抗が増えてコンデンサでの
発熱が増加する。If the amount of impurities is lower than the lower limit value, the effect of adding impurities hardly appears. In other words, it is impossible to prevent the aluminum from being oxidized. On the other hand, if the amount of impurities added exceeds the upper limit, the aluminum alloy becomes hard, which hinders the work of winding it in a coil many times. In addition, the electric resistance increases and heat generation in the capacitor also increases.
【0017】[0017]
【発明の実施の形態】本発明は、SF6 ガス絶縁コンデ
ンサにおいて、ポリプロピレンフィルムに、Si、M
g、Mn、Cuを微小量含むアルミ膜を蒸着しこれを巻
き廻してコンデンサとする。これらの不純物の添加によ
ってアルミの酸化を防ぐことができる。これらの金属を
アルミ膜に添加するにはアルミ蒸着設備を変更しなけれ
ばならない。いくつかの手段がありうる。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention relates to a SF 6 gas insulated capacitor in which a polypropylene film is coated with Si, M
An aluminum film containing a small amount of g, Mn, and Cu is vapor-deposited and wound to form a capacitor. The addition of these impurities can prevent the oxidation of aluminum. To add these metals to the aluminum film, the aluminum vapor deposition equipment must be changed. There can be several means.
【0018】蒸着材料自体をアルミ合金にするのが最も
簡単である。Siを所定量含むアルミ合金をるつぼに入
れて加熱蒸発させるようにする。この場合蒸着材料の変
更だけで済むので蒸着設備は変更する必要がない。The easiest way is to use an aluminum alloy as the vapor deposition material itself. An aluminum alloy containing a predetermined amount of Si is put in a crucible and heated and evaporated. In this case, it is not necessary to change the vapor deposition equipment because only the vapor deposition material needs to be changed.
【0019】二つ目の方法は、一つのるつぼ内にアルミ
とSi等の不純物を初めから収容する方法である。るつ
ぼの加熱は抵抗加熱、電子ビーム加熱などを利用でき
る。さらに第三の方法は、別異のるつぼを用いることで
ある。アルミるつぼと、Si等不純物用るつぼを用い
る。これであると不純物の含有量を自在に設定し変更す
ることができる。The second method is a method of initially containing aluminum and impurities such as Si in one crucible. Resistance heating, electron beam heating, etc. can be used for heating the crucible. A third method is to use a different crucible. An aluminum crucible and a crucible for impurities such as Si are used. With this, the content of impurities can be freely set and changed.
【0020】何れにしてもこれらの不純物をアルミに添
加することによって、蒸着Al膜酸化を長年にわたって
防止することができる。巻き廻し時などに付着した水分
などによる酸化が起こらない。酸化アルミが生成されな
いからアルミの有効面積が減少しない。アルミ透明化が
起こらない。透明化によるコンデンサ特性劣化を改善で
きる。容量の低下などの故障が起こらないので、4〜5
年で回収し、交換するという煩雑なメンテナンスが全く
不要になる。実用性の高い発明である。In any case, by adding these impurities to aluminum, it is possible to prevent oxidation of the deposited Al film for many years. Does not oxidize due to moisture adhering to the material when it is wound. Since aluminum oxide is not generated, the effective area of aluminum does not decrease. Aluminum does not become transparent. The deterioration of capacitor characteristics due to transparency can be improved. Since failure such as capacity reduction does not occur, 4-5
No need for complicated maintenance such as collecting and replacing in a year. This is a highly practical invention.
【0021】[0021]
【実施例】本発明のコンデンサの形状は、従来のものと
異ならない。図1の一部巻き出し図に示すように、2枚
のフィルムAとフィルムBを重ねて芯4の廻りに巻き廻
したものである。何れのフィルムも真空蒸着装置によっ
て、ロールに巻いたポリプロピレンフィルムに連続的に
Al合金を蒸着してゆくことによって作製する。ポリプ
ロピレンフィルムの厚みは5μm〜10μm程度であ
る。アルミ合金膜の厚みは10nm〜50nm(100
Å〜500Å)である。ポリプロピレンフィルムの幅は
80mm〜1000mm程度で所望の容量によって幅を
適当に選ぶ。ポリプロピレンフィルムの全長は700m
〜1000m程度である。EXAMPLE The shape of the capacitor of the present invention does not differ from the conventional one. As shown in the partially unrolled view of FIG. 1, two films A and B are superposed and wound around a core 4. Each film is produced by continuously evaporating an Al alloy on a polypropylene film wound on a roll by a vacuum evaporation device. The thickness of the polypropylene film is about 5 μm to 10 μm. The thickness of the aluminum alloy film is 10 nm to 50 nm (100
Å-500Å). The width of the polypropylene film is about 80 mm to 1000 mm, and the width is appropriately selected according to the desired capacity. The total length of polypropylene film is 700m
It is about 1000 m.
【0022】真空蒸着装置において、ポリプロピレンフ
ィルムの片面に、Si、Mg、Mn、Cuの一種あるい
は複数種を所定量含むアルミ合金を連続的に蒸着する。
フィルムの一部はアルミ合金を被覆しない非蒸着面とな
る。非蒸着面の取り方の異なる2種類の蒸着フィルムを
作製する。図1において、下側に非蒸着面があるのをフ
ィルムAとし、上側に非蒸着面があるのをフィルムBと
する。これら2種類のフィルムを重ねて多数枚積層す
る。所定回巻き廻すと、端面に金属を溶射して電極5、
6を形成する。上側の溶射電極5はフィルムAのアルミ
膜の上端に接触する。下側の溶射電極6はフィルムBの
アルミ膜の下端に接触する。In a vacuum vapor deposition apparatus, an aluminum alloy containing a predetermined amount of one or more of Si, Mg, Mn and Cu is continuously vapor deposited on one surface of a polypropylene film.
A part of the film is a non-deposited surface that is not covered with the aluminum alloy. Two kinds of vapor-deposited films having different non-deposited surfaces are prepared. In FIG. 1, the non-evaporated surface on the lower side is referred to as film A, and the non-evaporated surface on the upper side is referred to as film B. A large number of these two kinds of films are laminated. When it is wound a predetermined number of times, the end surface is sprayed with a metal and the electrode 5,
6 is formed. The upper sprayed electrode 5 contacts the upper end of the aluminum film of the film A. The lower sprayed electrode 6 contacts the lower end of the aluminum film of the film B.
【0023】図2は接続部の概略の断面図である。フィ
ルムAとフィルムBは断面図において交互に現れる。フ
ィルムAは円周方向に全部つながっているのであるが、
それぞれが上端において溶射電極5と接続されているの
である。フィルムBは同じように円周方向に全部つなが
っているのであるがそれぞれ下端において溶射電極6と
接続されている。FIG. 2 is a schematic sectional view of the connecting portion. Film A and film B alternate in the cross section. Film A is all connected in the circumferential direction,
Each is connected to the sprayed electrode 5 at the upper end. Similarly, the films B are all connected in the circumferential direction, but are connected to the spray electrode 6 at their lower ends.
【0024】図3はこのようなコンデンサ構造を1枚1
枚をコンデンサ要素とみなして等価回路を描いたもので
ある。交流電源7によって二つの電極間に電圧を印加す
ると1枚1枚それぞれのアルミ/ポリプロピレン/アル
ミの単位要素が集合して一つのコンデンサとして機能す
るのである。FIG. 3 shows one such capacitor structure.
The equivalent circuit is drawn by regarding the sheets as capacitor elements. When a voltage is applied between the two electrodes by the AC power source 7, the aluminum / polypropylene / aluminum unit elements of each sheet function as one capacitor.
【0025】[0025]
【発明の効果】本発明は、SF6 絶縁ガスコンデンサに
おいて、アルミ蒸着膜にSi、Mg、Mn、Cuを不純
物として小量加える事によってアルミの酸化を防ぐよう
にしている。これらの金属を添加するとアルミの酸化が
効果的に防止される。酸化が起こらないからアルミ膜の
有効面積が減少しない。アルミ電極が長年その面積を維
持する事ができる。4〜5年でコンデンサを交換すると
いう面倒な作業が不要になる。優れた効果のある発明で
ある。According to the present invention, in an SF 6 insulating gas capacitor, aluminum is prevented from oxidizing by adding a small amount of Si, Mg, Mn, and Cu as impurities to the aluminum vapor deposition film. Addition of these metals effectively prevents aluminum oxidation. Since the oxidation does not occur, the effective area of the aluminum film does not decrease. Aluminum electrode can maintain its area for many years. The troublesome work of replacing the capacitors in 4 to 5 years is no longer necessary. It is an invention with excellent effects.
【図1】SF6 ガス絶縁コンデンサの概略構成を示すた
めの一部を巻きだして示す斜視図。FIG. 1 is a perspective view showing a schematic configuration of an SF 6 gas-insulated capacitor with a part thereof unrolled.
【図2】アルミ膜と金属溶射電極の接続を示すための概
略断面図。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a connection between an aluminum film and a metal spray electrode.
【図3】1枚1枚のAl/ポリプロピレン/Alの要素
が溶射電極によって統合されて一つのコンデンサになっ
ていることを示す等価回路図。FIG. 3 is an equivalent circuit diagram showing that one Al / polypropylene / Al element is integrated by a sprayed electrode into one capacitor.
1 ポリプロピレンフィルム 2 Al蒸着面 3 非蒸着面 4 芯 5 金属溶射電極 6 金属溶射電極 1 Polypropylene film 2 Al vapor deposition surface 3 Non-vapor deposition surface 4 Core 5 Metal sprayed electrode 6 Metal sprayed electrode
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 河合 智広 京都府京都市右京区梅津高畝町47番地日新 電機株式会社内 (72)発明者 西出 秀樹 京都府京都市右京区梅津高畝町47番地日新 電機株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Tomohiro Kawai 47 Umezu Takaune-cho, Ukyo-ku, Kyoto City, Kyoto Prefecture Nissin Electric Co., Ltd. Electric Co., Ltd.
Claims (5)
たフィルムを多数回巻き廻した構造をもちSF6 ガスを
充填した容器に収容されたコンデンサであって、蒸着A
l中に0.01%〜5.0%のSiを添加してある事を
特徴とするSF6 ガス絶縁コンデンサ。1. A capacitor, which is housed in a container filled with SF 6 gas and has a structure in which a film obtained by vapor-depositing Al on a polypropylene film is wound many times.
An SF 6 gas-insulated capacitor, characterized in that 0.01% to 5.0% of Si is added to 1 l.
たフィルムを多数回巻き廻した構造をもちSF6 ガスを
充填した容器に収容されたコンデンサであって、蒸着A
l中に0.02%〜5.0%のMgを添加してある事を
特徴とするSF6 ガス絶縁コンデンサ。2. A capacitor, which is housed in a container filled with SF 6 gas and has a structure in which a film obtained by vapor-depositing Al on a polypropylene film is wound many times.
SF 6 gas-insulated capacitor, characterized in that 0.02% to 5.0% of Mg is added to 1 l.
たフィルムを多数回巻き廻した構造をもちSF6 ガスを
充填した容器に収容されたコンデンサであって、蒸着A
l中に0.02%〜2.0%のMnを添加してある事を
特徴とするSF6 ガス絶縁コンデンサ。3. A capacitor, which is housed in a container filled with SF 6 gas and has a structure in which a film obtained by vapor-depositing Al on a polypropylene film is wound many times.
SF 6 gas-insulated capacitor, characterized in that 0.02% to 2.0% of Mn is added to 1 l.
たフィルムを多数回巻き廻した構造をもちSF6 ガスを
充填した容器に収容されたコンデンサであって、蒸着A
l中に0.01%〜5.0%のCuを添加してある事を
特徴とするSF6 ガス絶縁コンデンサ。4. A capacitor, which is housed in a container filled with SF 6 gas and has a structure in which a film obtained by vapor-depositing Al on a polypropylene film is wound many times.
An SF 6 gas-insulated capacitor, characterized in that 0.01% to 5.0% of Cu is added to 1 l.
たフィルムを多数回巻き廻した構造をもちSF6 ガスを
充填した容器に収容されたコンデンサであって、蒸着A
l中に0.01%〜5.0%のSi、0.02%〜5.
0%のMg、0.02%〜2.0%のMn、0.01%
〜5.0%のCuの内少なくとも2種類の物質を添加し
てある事を特徴とするSF6 ガス絶縁コンデンサ。5. A capacitor, which is housed in a container filled with SF 6 gas and has a structure in which a film obtained by vapor-depositing Al on a polypropylene film is wound many times.
0.01% to 5.0% Si, 0.02% to 5.
0% Mg, 0.02% -2.0% Mn, 0.01%
An SF 6 gas-insulated capacitor, characterized in that at least two types of substances of ˜5.0% Cu are added.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16383996A JPH09326328A (en) | 1996-06-03 | 1996-06-03 | Gas insulated capacitor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16383996A JPH09326328A (en) | 1996-06-03 | 1996-06-03 | Gas insulated capacitor |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09326328A true JPH09326328A (en) | 1997-12-16 |
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ID=15781737
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16383996A Pending JPH09326328A (en) | 1996-06-03 | 1996-06-03 | Gas insulated capacitor |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JPH09326328A (en) |
Cited By (8)
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