JPH09314794A - 湿し水不要平版原版 - Google Patents
湿し水不要平版原版Info
- Publication number
- JPH09314794A JPH09314794A JP8135508A JP13550896A JPH09314794A JP H09314794 A JPH09314794 A JP H09314794A JP 8135508 A JP8135508 A JP 8135508A JP 13550896 A JP13550896 A JP 13550896A JP H09314794 A JPH09314794 A JP H09314794A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- silicone rubber
- heat
- film
- plastic film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/16—Waterless working, i.e. ink repelling exposed (imaged) or non-exposed (non-imaged) areas, not requiring fountain solution or water, e.g. dry lithography or driography
Landscapes
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 高感度のレーザー記録を可能とする。
【解決手段】 空洞含有プラスチックフィルム支持体上
にレーザ光を熱に変換し、その熱によりアブレーション
する光熱変換層を設け、該光熱変換層上にインキ反撥性
のシリコーンゴム層を積層する。
にレーザ光を熱に変換し、その熱によりアブレーション
する光熱変換層を設け、該光熱変換層上にインキ反撥性
のシリコーンゴム層を積層する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はレーザー光によるヒ
ートモード記録によって、湿し水を必要としない印刷が
できる湿し水不要平版原版(以下、水なし平版原版と称
す)に関する。
ートモード記録によって、湿し水を必要としない印刷が
できる湿し水不要平版原版(以下、水なし平版原版と称
す)に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の湿し水を必要とする印刷方式は湿
し水とインキの微妙なバランスのコントロールが難し
く、インキの乳化を起こしたり、湿し水にインキが混ざ
ったりして、インキ濃度不良や地汚れを発生し、損紙の
原因となる等、大きな問題点を有していた。それに対し
て、水なし平版原版は湿し水を必要としないために数多
くの利点を有する。
し水とインキの微妙なバランスのコントロールが難し
く、インキの乳化を起こしたり、湿し水にインキが混ざ
ったりして、インキ濃度不良や地汚れを発生し、損紙の
原因となる等、大きな問題点を有していた。それに対し
て、水なし平版原版は湿し水を必要としないために数多
くの利点を有する。
【0003】一方、近年プリプレスシステムやイメージ
セッター、レーザープリンター等の出力システムの急激
な進歩によって、印刷画像をデジタルデーター化し、コ
ンピューター・トウ ー・プレート、コンピューター・ト
ウ ー・シリンダー等の新しい製版方法により、印刷版を
得る方法が提案されるようになり、これらの印刷システ
ムのための新しいタイプの印刷材料が望まれ、開発が進
められている。
セッター、レーザープリンター等の出力システムの急激
な進歩によって、印刷画像をデジタルデーター化し、コ
ンピューター・トウ ー・プレート、コンピューター・ト
ウ ー・シリンダー等の新しい製版方法により、印刷版を
得る方法が提案されるようになり、これらの印刷システ
ムのための新しいタイプの印刷材料が望まれ、開発が進
められている。
【0004】レーザー書き込みにより水なし平版原版を
形成できる例としては、特公昭42−21879号公
報、特開昭50−158405号公報、特開平5−94
008号公報、特開平6−55723号公報、特開平6
−186750号公報、特開平7−314934号公
報、US5,353,705号公報及びWO−9401
280号公報等が挙げられる。これらにはカーボンブラ
ック等のレーザー光吸収剤及びニトロセルロース等の自
己酸化性のバインダーを含有した光を熱に変換する層
(以下、光熱変換層と称す)又は金属薄膜層上にインキ
反撥性のシリコーンゴム層を設け、レーザー照射により
シリコーンゴム層の一部を除去してインキ付着性とし、
水なし印刷することが記載されている。しかし、これら
の版材では感度が低く、シリコーンゴム層を除去するた
めには大きな光エネルギーが必要となる。従って、高速
走査で画像書き込みするためには、大出力のレーザー光
源が必要となり、画像記録装置が大型で、且つ、高価な
ものになるという欠点を有している。感度を上げるた
め、特開平7−314934号公報にはレーザー光を有
効に使用できるように、レーザー光を反射する白色顔
料、例えば、硫酸バリウムを含有する支持体の使用例が
挙げられているが感度は十分ではなく、その改善が強く
望まれている。
形成できる例としては、特公昭42−21879号公
報、特開昭50−158405号公報、特開平5−94
008号公報、特開平6−55723号公報、特開平6
−186750号公報、特開平7−314934号公
報、US5,353,705号公報及びWO−9401
280号公報等が挙げられる。これらにはカーボンブラ
ック等のレーザー光吸収剤及びニトロセルロース等の自
己酸化性のバインダーを含有した光を熱に変換する層
(以下、光熱変換層と称す)又は金属薄膜層上にインキ
反撥性のシリコーンゴム層を設け、レーザー照射により
シリコーンゴム層の一部を除去してインキ付着性とし、
水なし印刷することが記載されている。しかし、これら
の版材では感度が低く、シリコーンゴム層を除去するた
めには大きな光エネルギーが必要となる。従って、高速
走査で画像書き込みするためには、大出力のレーザー光
源が必要となり、画像記録装置が大型で、且つ、高価な
ものになるという欠点を有している。感度を上げるた
め、特開平7−314934号公報にはレーザー光を有
効に使用できるように、レーザー光を反射する白色顔
料、例えば、硫酸バリウムを含有する支持体の使用例が
挙げられているが感度は十分ではなく、その改善が強く
望まれている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、レーザー記録が可能な高感度の湿し水不要平版原版
を提供することである。
は、レーザー記録が可能な高感度の湿し水不要平版原版
を提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者等はレーザー書
き込みできる高感度な水なし平版原版の作成方法につい
て鋭意検討した結果、空洞含有プラスチックフィルム支
持体上に、レーザー光を熱に変換し、その熱によりアブ
レーションする光熱変換層を設け、該光熱変換層上にイ
ンキ反撥性のシリコーンゴム層を積層してなることを特
徴とする湿し水不要平版原版によって前記の目的を達成
するに至った。
き込みできる高感度な水なし平版原版の作成方法につい
て鋭意検討した結果、空洞含有プラスチックフィルム支
持体上に、レーザー光を熱に変換し、その熱によりアブ
レーションする光熱変換層を設け、該光熱変換層上にイ
ンキ反撥性のシリコーンゴム層を積層してなることを特
徴とする湿し水不要平版原版によって前記の目的を達成
するに至った。
【0007】本発明においては、製版即ち記録に用いら
れるレーザー光エネルギーが、本発明の水なし平版原版
の光熱変換層に吸収されて熱エネルギーに変換され、変
換された熱エネルギーによって生じるアブレーション、
即ち、燃焼、融解、分解、気化、爆発等の反応及び物理
変化により、支持体とシリコーンゴム層の間の密着性が
低下し、露光部におけるシリコーンゴム層の除去が容易
になる。
れるレーザー光エネルギーが、本発明の水なし平版原版
の光熱変換層に吸収されて熱エネルギーに変換され、変
換された熱エネルギーによって生じるアブレーション、
即ち、燃焼、融解、分解、気化、爆発等の反応及び物理
変化により、支持体とシリコーンゴム層の間の密着性が
低下し、露光部におけるシリコーンゴム層の除去が容易
になる。
【0008】本発明は支持体に空洞含有プラスチックフ
ィルムを用いることにより、レーザー光の反射率を高
め、レーザー光を有効に使用するとともに、レーザー光
露光により光熱変換層で発生した熱が支持体に拡散しエ
ネルギーロスを起こすのを抑制することによって、前記
の目的を達成できた。
ィルムを用いることにより、レーザー光の反射率を高
め、レーザー光を有効に使用するとともに、レーザー光
露光により光熱変換層で発生した熱が支持体に拡散しエ
ネルギーロスを起こすのを抑制することによって、前記
の目的を達成できた。
【0009】
【発明の実施の形態】以下に、本発明を詳しく説明す
る。
る。
【0010】本発明に用いられる支持体には空洞含有プ
ラスチックフィルムが使用される。ここで、空洞含有プ
ラスチックフィルムとは内部に空隙を有するプラスチッ
クフィルムであり、空気と樹脂ポリマーの屈折率の差か
らその界面で光を反射し易く、このため白く見える。ま
た、空洞含有プラスチックフィルムは空気を多く含有し
ているので、熱伝導率が小さい。
ラスチックフィルムが使用される。ここで、空洞含有プ
ラスチックフィルムとは内部に空隙を有するプラスチッ
クフィルムであり、空気と樹脂ポリマーの屈折率の差か
らその界面で光を反射し易く、このため白く見える。ま
た、空洞含有プラスチックフィルムは空気を多く含有し
ているので、熱伝導率が小さい。
【0011】空洞含有プラスチックフィルムの空隙率は
5〜50体積%が好ましく、より好ましくは10〜30
体積%である。空隙率が5体積%より小さいと、反射率
が低下し、熱伝導率が大きくなるため、感度が低下す
る。一方、空隙率が50体積%より大きいと、強度が低
下し、印刷に耐えられなくなる。1つの空洞の大きさ
は、10000μm3 以下であることが好ましく、より
好ましくは50〜1000μm3 である。空洞の大きさ
が10000μm3 より大きいと、強度が低下し、印刷
に耐えられなくなる。
5〜50体積%が好ましく、より好ましくは10〜30
体積%である。空隙率が5体積%より小さいと、反射率
が低下し、熱伝導率が大きくなるため、感度が低下す
る。一方、空隙率が50体積%より大きいと、強度が低
下し、印刷に耐えられなくなる。1つの空洞の大きさ
は、10000μm3 以下であることが好ましく、より
好ましくは50〜1000μm3 である。空洞の大きさ
が10000μm3 より大きいと、強度が低下し、印刷
に耐えられなくなる。
【0012】この空洞含有プラスチックフィルムの空洞
製造方法としては、下記に示すような公知の方法を用い
ることができる。 ブレンド延伸法 ポリマーとこれに非相溶な成分(ポリマー、無機粒子)
をブレンドし、延伸することにより、ポリマーと非相溶
成分との界面に空孔を生成させる方法で、製造技術とし
ては比較的単純であり、最も安価に製造できることが特
長である。 押出し延伸法 中空糸膜の技術をフィルムに実現したものであり、ポリ
マーを高速で溶融押出し急冷することにより得られる特
殊な構造のフィルムを極めてゆっくりと延伸することに
より微多孔化する方法であり、微細で極めて均一性の高
い空孔が得られ、形成された空孔はフィルム厚み方向の
連続性に優れ、貫通孔に近い構造を有する。 抽出法 ポリマーに特定の添加剤を予め多量に添加しておき、フ
ィルム形成後、溶媒、水等を用いて添加剤を抽出し、微
多孔化する方法であり、空孔均一性に優れる。 焼結法 金属焼結体の製造方法と全く同様な考えで、ポリマー粉
末をポリマーが完全溶融しない温度で互いに融着させて
微多孔化する方法である。 溶液法 ポリマー溶液を特定の条件で冷却、あるいは溶媒除去す
ることにより空孔を形成させる方法であり、空孔均一性
に非常に優れている。 ミクロボイド生成法 延伸フィルムはポリマーの分子鎖を均一に引き延ばした
配向フィルムであるが、分子の流動性が悪いと組織の破
壊が起こってミクロボイドができる。この現象を利用す
ることにより微多孔化する方法である。
製造方法としては、下記に示すような公知の方法を用い
ることができる。 ブレンド延伸法 ポリマーとこれに非相溶な成分(ポリマー、無機粒子)
をブレンドし、延伸することにより、ポリマーと非相溶
成分との界面に空孔を生成させる方法で、製造技術とし
ては比較的単純であり、最も安価に製造できることが特
長である。 押出し延伸法 中空糸膜の技術をフィルムに実現したものであり、ポリ
マーを高速で溶融押出し急冷することにより得られる特
殊な構造のフィルムを極めてゆっくりと延伸することに
より微多孔化する方法であり、微細で極めて均一性の高
い空孔が得られ、形成された空孔はフィルム厚み方向の
連続性に優れ、貫通孔に近い構造を有する。 抽出法 ポリマーに特定の添加剤を予め多量に添加しておき、フ
ィルム形成後、溶媒、水等を用いて添加剤を抽出し、微
多孔化する方法であり、空孔均一性に優れる。 焼結法 金属焼結体の製造方法と全く同様な考えで、ポリマー粉
末をポリマーが完全溶融しない温度で互いに融着させて
微多孔化する方法である。 溶液法 ポリマー溶液を特定の条件で冷却、あるいは溶媒除去す
ることにより空孔を形成させる方法であり、空孔均一性
に非常に優れている。 ミクロボイド生成法 延伸フィルムはポリマーの分子鎖を均一に引き延ばした
配向フィルムであるが、分子の流動性が悪いと組織の破
壊が起こってミクロボイドができる。この現象を利用す
ることにより微多孔化する方法である。
【0013】また、空洞含有プラスチックフィルムの素
材としては、ポリエステルフィルム、ポリエチレンフィ
ルム、ポリプロピレンフィルム、ポリスチレンフィル
ム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィ
ルム、ポリビニルアルコールフィルム、フッ素樹脂フィ
ルム、ポリカーボネートフィルム、アセテートフィル
ム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム等を用い
ることができるが、これらに限定されるものではない。
また、これらは単独で使用しても、2種以上組み合わせ
て使用してもよい。
材としては、ポリエステルフィルム、ポリエチレンフィ
ルム、ポリプロピレンフィルム、ポリスチレンフィル
ム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィ
ルム、ポリビニルアルコールフィルム、フッ素樹脂フィ
ルム、ポリカーボネートフィルム、アセテートフィル
ム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム等を用い
ることができるが、これらに限定されるものではない。
また、これらは単独で使用しても、2種以上組み合わせ
て使用してもよい。
【0014】このような空洞含有プラスチックフィルム
としては、例えば、「クリスパー」(東洋紡績社製)、
「トレファンBO YP22」(東レ社製)、「ユーパ
ールPSP」(パールパッケージ社製)等の商品名で販
売されているものを用いることができる。
としては、例えば、「クリスパー」(東洋紡績社製)、
「トレファンBO YP22」(東レ社製)、「ユーパ
ールPSP」(パールパッケージ社製)等の商品名で販
売されているものを用いることができる。
【0015】本発明に用いられる空洞含有プラスチック
フィルムからなる支持体は、通常の印刷機にセットでき
る程度のたわみ性を有し、同時に印刷時にかかる荷重に
耐えるものでなければならない。従って、支持体の膜厚
は25μmから3mm、好ましくは75μmから500
μmが適当であるが、用いる支持体の種類と印刷条件に
より最適な厚さは変動する。一般には100μmから3
00μmが最も好ましい。
フィルムからなる支持体は、通常の印刷機にセットでき
る程度のたわみ性を有し、同時に印刷時にかかる荷重に
耐えるものでなければならない。従って、支持体の膜厚
は25μmから3mm、好ましくは75μmから500
μmが適当であるが、用いる支持体の種類と印刷条件に
より最適な厚さは変動する。一般には100μmから3
00μmが最も好ましい。
【0016】また、表面の密着性向上、帯電防止性向上
等のため、該支持体に、コロナ放電処理、マット化易接
着処理、帯電防止処理等の各種表面処理を施してもよ
い。
等のため、該支持体に、コロナ放電処理、マット化易接
着処理、帯電防止処理等の各種表面処理を施してもよ
い。
【0017】本発明に用いられる光熱変換層は書き込み
に使用されるレーザー光を熱に変換(光熱変換)する機
能を有する層であり、これらの機能を有する公知の光熱
変換層が使用可能である。
に使用されるレーザー光を熱に変換(光熱変換)する機
能を有する層であり、これらの機能を有する公知の光熱
変換層が使用可能である。
【0018】この光熱変換層に用いられる光熱変換剤と
しては、光吸収領域が書き込みに使用されるレーザー光
の波長に合った各種の有機及び無機材料、例えば、有機
色素、有機顔料、金属及び金属酸化物等が使用可能であ
ることが従来より知られている。レーザー光源が赤外線
レーザー光源である場合の有機色素の例としては、「赤
外増感色素」(松岡著 Plenum Press ,New York,NY(199
0))、並びにUS−4833124、EP−32192
3、US−4772583、US−4942141、U
S−4948776、US−4948777、US−4
948778、US−4950639、US−4912
083、US−4952552、及びUS−50232
29等の明細書に記載の各種化合物等が挙げられる。ま
た、レーザー光源が赤外線レーザー光源である場合の有
機顔料の例としては、酸性カーボンブラック、塩基性カ
ーボンブラック、中性カーボンブラック、分散性改良等
のために表面修飾又は表面コートされた各種カーボンブ
ラック、及びニグロシン類等が挙げられる。レーザー光
源が赤外線レーザー光源である場合の金属の例として
は、アルミニウム、チタン、テルル、クロム、錫、イン
ジウム、ビスマス、亜鉛、鉛及びこれらの合金等が挙げ
られ、レーザー光源が赤外線レーザー光源である場合の
金属酸化物の例としては、インジウムスズ酸化物、酸化
タングステン、酸化マンガン、及び酸化チタン等が挙げ
られる。この他に、前記金属の炭化物、窒化物、ホウ化
物及びフッ化物、並びにポリピロール及びポリアニリン
等の導電性ポリマー等も使用可能である。これらの材料
は単独膜の形態で、又はバインダーや添加剤等他の成分
との混合膜の形態で使用される。
しては、光吸収領域が書き込みに使用されるレーザー光
の波長に合った各種の有機及び無機材料、例えば、有機
色素、有機顔料、金属及び金属酸化物等が使用可能であ
ることが従来より知られている。レーザー光源が赤外線
レーザー光源である場合の有機色素の例としては、「赤
外増感色素」(松岡著 Plenum Press ,New York,NY(199
0))、並びにUS−4833124、EP−32192
3、US−4772583、US−4942141、U
S−4948776、US−4948777、US−4
948778、US−4950639、US−4912
083、US−4952552、及びUS−50232
29等の明細書に記載の各種化合物等が挙げられる。ま
た、レーザー光源が赤外線レーザー光源である場合の有
機顔料の例としては、酸性カーボンブラック、塩基性カ
ーボンブラック、中性カーボンブラック、分散性改良等
のために表面修飾又は表面コートされた各種カーボンブ
ラック、及びニグロシン類等が挙げられる。レーザー光
源が赤外線レーザー光源である場合の金属の例として
は、アルミニウム、チタン、テルル、クロム、錫、イン
ジウム、ビスマス、亜鉛、鉛及びこれらの合金等が挙げ
られ、レーザー光源が赤外線レーザー光源である場合の
金属酸化物の例としては、インジウムスズ酸化物、酸化
タングステン、酸化マンガン、及び酸化チタン等が挙げ
られる。この他に、前記金属の炭化物、窒化物、ホウ化
物及びフッ化物、並びにポリピロール及びポリアニリン
等の導電性ポリマー等も使用可能である。これらの材料
は単独膜の形態で、又はバインダーや添加剤等他の成分
との混合膜の形態で使用される。
【0019】光熱変換層が単独膜である場合には、アル
ミニウム、チタン、テルル、クロム、錫、インジウム、
ビスマス、亜鉛、鉛等の金属、これらの合金、金属酸化
物、金属炭化物、金属窒化物、金属ホウ化物、金属フッ
化物及び有機色素等の少なくとも一種を含有する膜を蒸
着法又はスパッタリング法等により支持体上に形成させ
ることができる。
ミニウム、チタン、テルル、クロム、錫、インジウム、
ビスマス、亜鉛、鉛等の金属、これらの合金、金属酸化
物、金属炭化物、金属窒化物、金属ホウ化物、金属フッ
化物及び有機色素等の少なくとも一種を含有する膜を蒸
着法又はスパッタリング法等により支持体上に形成させ
ることができる。
【0020】また、光熱変換層が混合膜である場合に
は、光熱変換剤をバインダーに溶解又は分散して他の成
分と共に塗布法により形成することができる。前記バイ
ンダーには光熱変換剤を溶解又は分散する公知のバイン
ダーが使用され、その例としては、セルロース、ニトロ
セルロース及びエチルセルロース等のセルロース誘導体
類、アクリル酸エステルの単独重合体及び共重合体、ポ
リメチルメタクリレート及びポリブチルメタクリレート
等のメタクリル酸エステルの単独重合体及び共重合体、
アクリル酸エステル−メタクリル酸エステル共重合体、
ポリスチレン、α−メチルスチレン等のスチレン系モノ
マーの単独重合体及び共重合体、ポリイソプレン及びス
チレン−ブタジエン共重合体等の各種合成ゴム類、ポリ
酢酸ビニル等のビニルエステル類の単独重合体、酢酸ビ
ニル−塩化ビニル共重合体等のビニルエステル含有の共
重合体、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル及び
ポリカーボネート等の縮合系各種ポリマー、並びに「J.
Imaging Sci.,P59-64 ,30(2), (1986) (Frechet
ら)」、「Polymers in Electronics(Symposium Seri
es,P11, 242, T.Davidson,Ed.,ACS Washington,DC(198
4) (Ito,Willson )」及び「Microelectronic Enginee
ring,P3-10,13(1991)(E. Reichmanis,L.F.Thompso
n)」に記載のいわゆる「化学増幅系」に使用されるバ
インダー等が挙げられる。
は、光熱変換剤をバインダーに溶解又は分散して他の成
分と共に塗布法により形成することができる。前記バイ
ンダーには光熱変換剤を溶解又は分散する公知のバイン
ダーが使用され、その例としては、セルロース、ニトロ
セルロース及びエチルセルロース等のセルロース誘導体
類、アクリル酸エステルの単独重合体及び共重合体、ポ
リメチルメタクリレート及びポリブチルメタクリレート
等のメタクリル酸エステルの単独重合体及び共重合体、
アクリル酸エステル−メタクリル酸エステル共重合体、
ポリスチレン、α−メチルスチレン等のスチレン系モノ
マーの単独重合体及び共重合体、ポリイソプレン及びス
チレン−ブタジエン共重合体等の各種合成ゴム類、ポリ
酢酸ビニル等のビニルエステル類の単独重合体、酢酸ビ
ニル−塩化ビニル共重合体等のビニルエステル含有の共
重合体、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル及び
ポリカーボネート等の縮合系各種ポリマー、並びに「J.
Imaging Sci.,P59-64 ,30(2), (1986) (Frechet
ら)」、「Polymers in Electronics(Symposium Seri
es,P11, 242, T.Davidson,Ed.,ACS Washington,DC(198
4) (Ito,Willson )」及び「Microelectronic Enginee
ring,P3-10,13(1991)(E. Reichmanis,L.F.Thompso
n)」に記載のいわゆる「化学増幅系」に使用されるバ
インダー等が挙げられる。
【0021】光熱変換層を混合膜として形成する場合に
は、光熱変換層の機械的強度を向上させたり、レーザー
記録感度を向上させたり、光熱変換層中の光熱変換剤等
の分散性を向上させたり、支持体や後述するプライマー
層等のような光熱変換層に隣接する層に対する密着性を
向上させる等種々の目的に応じて光熱変換層に各種の添
加剤を添加することができる。
は、光熱変換層の機械的強度を向上させたり、レーザー
記録感度を向上させたり、光熱変換層中の光熱変換剤等
の分散性を向上させたり、支持体や後述するプライマー
層等のような光熱変換層に隣接する層に対する密着性を
向上させる等種々の目的に応じて光熱変換層に各種の添
加剤を添加することができる。
【0022】例えば、光熱変換層の機械的強度を向上さ
せるための添加剤としては、光熱変換層を架橋する各種
の架橋剤が使用される。
せるための添加剤としては、光熱変換層を架橋する各種
の架橋剤が使用される。
【0023】また、レーザー記録感度を向上させるため
の添加剤としては、照射されたレーザー光エネルギーか
ら変換された熱によって分解してガスを発生させ、これ
により光熱変換層の体積を急激に膨張させて後述するシ
リコーンゴム層の剥離を容易にする公知の化合物が使用
される。このような添加剤の例としては、ジニトロペン
タメチレンテトラミン、N,N’−ジメチル−N,N’
−ジニトロソテレフタルアミド、p−トルエンスルホニ
ルヒドラジド、4、4−オキシビス(ベンゼンスルホニ
ルヒドラジド)、ジアミドベンゼン等が挙げられる。
の添加剤としては、照射されたレーザー光エネルギーか
ら変換された熱によって分解してガスを発生させ、これ
により光熱変換層の体積を急激に膨張させて後述するシ
リコーンゴム層の剥離を容易にする公知の化合物が使用
される。このような添加剤の例としては、ジニトロペン
タメチレンテトラミン、N,N’−ジメチル−N,N’
−ジニトロソテレフタルアミド、p−トルエンスルホニ
ルヒドラジド、4、4−オキシビス(ベンゼンスルホニ
ルヒドラジド)、ジアミドベンゼン等が挙げられる。
【0024】さらに、加熱により分解し酸性化合物を生
成する公知の化合物を添加剤として使用することができ
る。これらを化学増幅系のバインダーと併用することに
より、光熱変換層の構成物質の分解温度を大きく低下さ
せ、結果としてレーザー記録感度を向上させることが可
能である。このような添加剤の例としては、各種のヨー
ドニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウムトシレー
ト、オキシムスルホネート、ジカルボジイミドスルホネ
ート、トリアジン等が挙げられる。
成する公知の化合物を添加剤として使用することができ
る。これらを化学増幅系のバインダーと併用することに
より、光熱変換層の構成物質の分解温度を大きく低下さ
せ、結果としてレーザー記録感度を向上させることが可
能である。このような添加剤の例としては、各種のヨー
ドニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウムトシレー
ト、オキシムスルホネート、ジカルボジイミドスルホネ
ート、トリアジン等が挙げられる。
【0025】光熱変換剤にカーボンブラック等の有機顔
料を用いた場合には、該有機顔料の分散度がレーザー記
録感度に影響を与えることがあり、該有機顔料の分散度
を上げてレーザー記録感度を向上させるために、各種の
顔料分散剤を添加剤として使用することができる。
料を用いた場合には、該有機顔料の分散度がレーザー記
録感度に影響を与えることがあり、該有機顔料の分散度
を上げてレーザー記録感度を向上させるために、各種の
顔料分散剤を添加剤として使用することができる。
【0026】また、接着性を向上させるために公知の密
着改良剤、例えば、シランカップリング剤、チタネート
カップリング剤等を添加剤として使用しても良い。この
他にも、塗布性を改良するための界面活性剤等必要に応
じて各種の添加剤を使用することができる。
着改良剤、例えば、シランカップリング剤、チタネート
カップリング剤等を添加剤として使用しても良い。この
他にも、塗布性を改良するための界面活性剤等必要に応
じて各種の添加剤を使用することができる。
【0027】光熱変換層の膜厚は、単独膜の場合には蒸
着法又はスパッタリング法等にて薄膜が形成できる。こ
の場合の膜厚は50Åから1000Å、好ましくは10
0Åから800Åである。また、混合膜は塗布により形
成される。この場合の膜厚は0.05μmから10μ
m、好ましくは0.1μmから5μmである。光熱変換
層の膜厚は厚すぎるとレーザー記録感度を低下させる等
の好ましくない結果を与える。
着法又はスパッタリング法等にて薄膜が形成できる。こ
の場合の膜厚は50Åから1000Å、好ましくは10
0Åから800Åである。また、混合膜は塗布により形
成される。この場合の膜厚は0.05μmから10μ
m、好ましくは0.1μmから5μmである。光熱変換
層の膜厚は厚すぎるとレーザー記録感度を低下させる等
の好ましくない結果を与える。
【0028】本発明において用いられるインキ反撥性の
シリコーンゴム層は光熱変換層上にシリコーンゴムの皮
膜を反応形成させることによって形成される。具体的に
は、縮合型シリコーンを架橋剤を用いて硬化させるか、
付加型シリコーンを触媒により付加重合させて形成する
ことが好ましい。縮合型シリコーンを用いる場合には、
(a)ジオルガノポリシロキサン100重量部に対し
て、(b)縮合型架橋剤を3〜70重量部、(c)触媒
0.01〜40重量部を加えた組成物を用いるのが好適
である。
シリコーンゴム層は光熱変換層上にシリコーンゴムの皮
膜を反応形成させることによって形成される。具体的に
は、縮合型シリコーンを架橋剤を用いて硬化させるか、
付加型シリコーンを触媒により付加重合させて形成する
ことが好ましい。縮合型シリコーンを用いる場合には、
(a)ジオルガノポリシロキサン100重量部に対し
て、(b)縮合型架橋剤を3〜70重量部、(c)触媒
0.01〜40重量部を加えた組成物を用いるのが好適
である。
【0029】前記成分(a)のジオルガノポリシロキサ
ンは、下記一般式で示されるような繰り返し単位を有す
るポリマーである。R1 及びR2 は炭素数1〜10のア
ルキル基、ビニル基、アリール基であり、またその他の
適当な置換基を有していても良い。一般的にはR1 及び
R2 の60%以上がメチル基、あるいはハロゲン化ビニ
ル基、ハロゲン化フェニル基等であるものが好ましい。
ンは、下記一般式で示されるような繰り返し単位を有す
るポリマーである。R1 及びR2 は炭素数1〜10のア
ルキル基、ビニル基、アリール基であり、またその他の
適当な置換基を有していても良い。一般的にはR1 及び
R2 の60%以上がメチル基、あるいはハロゲン化ビニ
ル基、ハロゲン化フェニル基等であるものが好ましい。
【0030】
【化1】
【0031】このようなジオルガノポリシロキサンは両
末端に水酸基を有するものを用いるのが好ましい。
末端に水酸基を有するものを用いるのが好ましい。
【0032】また、前記成分(a)は、数平均分子量が
3,000〜100,000であり、より好ましくは、
5,000〜70,000である。
3,000〜100,000であり、より好ましくは、
5,000〜70,000である。
【0033】成分(b)の架橋剤は縮合型のものであれ
ばいずれであってもよいが、次の一般式で示されるよう
なものが好ましい。
ばいずれであってもよいが、次の一般式で示されるよう
なものが好ましい。
【0034】
【化2】
【0035】ここでR1 は先に説明したR1 と同じ意味
であり、Xは、Cl、Br,I等のハロゲン原子、水素
原子、水酸基、或いは、以下に示す如き有機置換基を表
す。
であり、Xは、Cl、Br,I等のハロゲン原子、水素
原子、水酸基、或いは、以下に示す如き有機置換基を表
す。
【0036】
【化3】
【0037】式中、R3 は炭素数1〜10のアルキル基
及び炭素数6〜20のアリール基を、R4 及びR5 は炭
素数1〜10のアルキル基を示す。
及び炭素数6〜20のアリール基を、R4 及びR5 は炭
素数1〜10のアルキル基を示す。
【0038】成分(c)としては、錫、亜鉛、鉛、カル
シウム、マンガン等の金属カルボン酸塩、例えば、ラウ
リン酸ジブチル、オクチル酸鉛、ナフテン酸鉛等、ある
いは塩化白金酸等のような公知の触媒が挙げられる。
シウム、マンガン等の金属カルボン酸塩、例えば、ラウ
リン酸ジブチル、オクチル酸鉛、ナフテン酸鉛等、ある
いは塩化白金酸等のような公知の触媒が挙げられる。
【0039】付加型シリコーンを用いる場合には、
(d)付加反応性官能基を有するジオルガノポリシロキ
サン100重量部に対して、(e)オルガノハイドロジ
ェンポリシロキサン0.1〜25重量部及び(f)付加
触媒0.00001〜1重量部を添加した組成物を用い
ることが好ましい。
(d)付加反応性官能基を有するジオルガノポリシロキ
サン100重量部に対して、(e)オルガノハイドロジ
ェンポリシロキサン0.1〜25重量部及び(f)付加
触媒0.00001〜1重量部を添加した組成物を用い
ることが好ましい。
【0040】上記成分(d)の付加反応性官能基を有す
るジオルガノポリシロキサンとは、1分子中にケイ素原
子に直接結合したアルケニル基(より好ましくはビニル
基)を少なくとも2個有するオルガノポリシロキサン
で、アルケニル基は分子の末端、中間いずれにあっても
よく、アルケニル基以外の有機基として、置換若しくは
非置換の炭素数1〜10のアルキル基、アリール基を有
していてもよい。また、成分(d)には水酸基を微量有
することも任意である。成分(d)は、数平均分子量が
3,000〜100,000であり、より好ましくは、
5,000〜70,000である。
るジオルガノポリシロキサンとは、1分子中にケイ素原
子に直接結合したアルケニル基(より好ましくはビニル
基)を少なくとも2個有するオルガノポリシロキサン
で、アルケニル基は分子の末端、中間いずれにあっても
よく、アルケニル基以外の有機基として、置換若しくは
非置換の炭素数1〜10のアルキル基、アリール基を有
していてもよい。また、成分(d)には水酸基を微量有
することも任意である。成分(d)は、数平均分子量が
3,000〜100,000であり、より好ましくは、
5,000〜70,000である。
【0041】成分(e)としては、両末端に水素基を有
するポリジメチルシロキサン、α、ω−ジメチルポリシ
ロキサン、両末端にメチル基を有するメチルシロキサン
−ジメチルシロキサン共重合体、環状ポリメチルシロキ
サン、両末端にトリメチルシリル基を有するポリメチル
シロキサン、両末端にトリメチルシリル基を有するジメ
チルシロキサン−メチルシロキサン共重合体等が例示さ
れる。
するポリジメチルシロキサン、α、ω−ジメチルポリシ
ロキサン、両末端にメチル基を有するメチルシロキサン
−ジメチルシロキサン共重合体、環状ポリメチルシロキ
サン、両末端にトリメチルシリル基を有するポリメチル
シロキサン、両末端にトリメチルシリル基を有するジメ
チルシロキサン−メチルシロキサン共重合体等が例示さ
れる。
【0042】成分(f)としては、公知の重合触媒の中
から任意に選ばれるが、特に白金系の化合物が望まし
く、白金単体、塩化白金、塩化白金酸、オレフィン配位
白金等が例示される。
から任意に選ばれるが、特に白金系の化合物が望まし
く、白金単体、塩化白金、塩化白金酸、オレフィン配位
白金等が例示される。
【0043】これらの組成物においてシリコーンゴム層
の硬化速度を制御する目的で、テトラシクロ(メチルビ
ニル)シロキサン等のビニル基含有のオルガノポリシロ
キサン、炭素−炭素三重結合含有のアルコール、アセト
ン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテル等の架橋抑制剤
を添加することも可能である。
の硬化速度を制御する目的で、テトラシクロ(メチルビ
ニル)シロキサン等のビニル基含有のオルガノポリシロ
キサン、炭素−炭素三重結合含有のアルコール、アセト
ン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテル等の架橋抑制剤
を添加することも可能である。
【0044】なお、シリコーンゴム層には必要に応じ
て、シリカ、炭酸カルシウム、酸化チタン等の無機物の
微粉末、シランカップリング剤、チタネート系カップリ
ング剤やアルミニウム系カップリング剤等の接着助剤や
光重合開始剤を添加しても良い。
て、シリカ、炭酸カルシウム、酸化チタン等の無機物の
微粉末、シランカップリング剤、チタネート系カップリ
ング剤やアルミニウム系カップリング剤等の接着助剤や
光重合開始剤を添加しても良い。
【0045】本発明に係るインキ反撥性のシリコーンゴ
ム層は、厚さが小さいとインキ反撥性が低下し、傷が入
りやすい等の問題点があり、厚さが大きい場合、画像現
像性が悪くなるという点から、厚みとしては乾燥膜厚と
して0.5〜5g/m2 が好ましく、より好ましくは1
〜3g/m2 である。
ム層は、厚さが小さいとインキ反撥性が低下し、傷が入
りやすい等の問題点があり、厚さが大きい場合、画像現
像性が悪くなるという点から、厚みとしては乾燥膜厚と
して0.5〜5g/m2 が好ましく、より好ましくは1
〜3g/m2 である。
【0046】本発明において、支持体と光熱変換層との
間にプライマー層を設けてもよい。プライマー層は支持
体と光熱変換層との間の接着層、シリコーン層除去部の
インキ受容層として有用である。また、プライマー層は
印刷時のシリコーン層への圧力緩和のためのクッション
層としての役割も有している。
間にプライマー層を設けてもよい。プライマー層は支持
体と光熱変換層との間の接着層、シリコーン層除去部の
インキ受容層として有用である。また、プライマー層は
印刷時のシリコーン層への圧力緩和のためのクッション
層としての役割も有している。
【0047】本発明に用いられるプライマー層として
は、例えば、特開昭60−22903号公報に開示され
ているような種々の感光性ポリマーを光熱変換層を積層
する前に露光して硬化せしめたもの、特開昭62−50
760号公報に開示されているエポキシ樹脂を熱硬化せ
しめたもの、特開昭63−133151号公報に開示さ
れているゼラチンを硬膜せしめたもの、さらに特開平3
−200965号公報に開示されているウレタン樹脂と
シランカップリング剤を用いたものや特開平3−273
248号公報に開示されているウレタン樹脂を用いたも
の等を挙げることができる。この他、ゼラチン又はカゼ
インを硬膜させたものも有効である。さらに、前記のプ
ライマー層中に、ポリビニルアルコール、変性ポリビニ
ルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリウレタン、
ポリアミド、スチレン−ブタジエンゴム、カルボキシ変
性スチレン−ブタジエンゴム、アクリロニトリル−ブタ
ジエンゴム、カルボキシ変性アクリロニトリル−ブタジ
エンゴム、ポリイソプレン、アクリレートゴム、ポリエ
チレン、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ニトロセルロース、
ハロゲン化ポリヒドロキシスチレン、塩化ゴム等のポリ
マーを添加しても良い。その添加割合は任意であり、フ
ィルム層を形成できる範囲内であれば、添加剤だけでプ
ライマー層を形成しても良い。また、これらのプライマ
ー層には前記の目的に沿って、接着助剤(例えば、重合
性モノマー、ジアゾ樹脂、シランカップリング剤、チタ
ネートカップリング剤やアルミニウムカップリング剤)
や染料等の添加物を含有させることもできる。また、塗
布後、露光によって硬化させることもできる。一般に、
プライマー層の塗布量は乾燥重量で0.1〜10g/m
2 の範囲が適当であり、好ましくは0.2〜8g/m2
であり、さらに好ましくは0.5〜5g/m2 である。
は、例えば、特開昭60−22903号公報に開示され
ているような種々の感光性ポリマーを光熱変換層を積層
する前に露光して硬化せしめたもの、特開昭62−50
760号公報に開示されているエポキシ樹脂を熱硬化せ
しめたもの、特開昭63−133151号公報に開示さ
れているゼラチンを硬膜せしめたもの、さらに特開平3
−200965号公報に開示されているウレタン樹脂と
シランカップリング剤を用いたものや特開平3−273
248号公報に開示されているウレタン樹脂を用いたも
の等を挙げることができる。この他、ゼラチン又はカゼ
インを硬膜させたものも有効である。さらに、前記のプ
ライマー層中に、ポリビニルアルコール、変性ポリビニ
ルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリウレタン、
ポリアミド、スチレン−ブタジエンゴム、カルボキシ変
性スチレン−ブタジエンゴム、アクリロニトリル−ブタ
ジエンゴム、カルボキシ変性アクリロニトリル−ブタジ
エンゴム、ポリイソプレン、アクリレートゴム、ポリエ
チレン、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ニトロセルロース、
ハロゲン化ポリヒドロキシスチレン、塩化ゴム等のポリ
マーを添加しても良い。その添加割合は任意であり、フ
ィルム層を形成できる範囲内であれば、添加剤だけでプ
ライマー層を形成しても良い。また、これらのプライマ
ー層には前記の目的に沿って、接着助剤(例えば、重合
性モノマー、ジアゾ樹脂、シランカップリング剤、チタ
ネートカップリング剤やアルミニウムカップリング剤)
や染料等の添加物を含有させることもできる。また、塗
布後、露光によって硬化させることもできる。一般に、
プライマー層の塗布量は乾燥重量で0.1〜10g/m
2 の範囲が適当であり、好ましくは0.2〜8g/m2
であり、さらに好ましくは0.5〜5g/m2 である。
【0048】また、光熱変換層及びシリコーンゴム層を
積層する表面とは反対側の支持体表面に、従来の平版原
版の基板を接着剤等で貼り合わせてもよい。この基板の
代表的なものとしては、アルミニウムのような金属板、
アルミニウム含有合金(例えば、珪素、銅、マンガン、
マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル
等の金属とアルミニウムとの合金)、空洞を有していな
いポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレ
ート、ポリエチレン、ポリプロピレンのようなプラスチ
ックフィルム、及び紙等を挙げることができ、これらの
うちの一種又は二種以上の組み合わせを使用することが
できる。
積層する表面とは反対側の支持体表面に、従来の平版原
版の基板を接着剤等で貼り合わせてもよい。この基板の
代表的なものとしては、アルミニウムのような金属板、
アルミニウム含有合金(例えば、珪素、銅、マンガン、
マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル
等の金属とアルミニウムとの合金)、空洞を有していな
いポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレ
ート、ポリエチレン、ポリプロピレンのようなプラスチ
ックフィルム、及び紙等を挙げることができ、これらの
うちの一種又は二種以上の組み合わせを使用することが
できる。
【0049】また、この水なし平版原版において、シリ
コーンゴム層の上に、耐刷性、耐傷性、画像再現性及び
汚れ性等の向上の目的で、さらに種々のシリコーンゴム
層を塗工しても良い。
コーンゴム層の上に、耐刷性、耐傷性、画像再現性及び
汚れ性等の向上の目的で、さらに種々のシリコーンゴム
層を塗工しても良い。
【0050】さらに、シリコーンゴム層は柔軟で傷がつ
きやすいため、表面保護の目的で、シリコーンゴム層上
に透明なフィルム、例えばポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビリニデン、ポリビニル
アルコール、ポリエチレンテレフタレート、セロファン
等をラミネートしたり、ポリマーのコーティングを施し
ても良い。これらのフィルムは延伸して用いても良い。
また、表面にマット加工を施しても良いが、画像再現性
の観点から、マット加工の無いものの方が本発明では好
ましい。
きやすいため、表面保護の目的で、シリコーンゴム層上
に透明なフィルム、例えばポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビリニデン、ポリビニル
アルコール、ポリエチレンテレフタレート、セロファン
等をラミネートしたり、ポリマーのコーティングを施し
ても良い。これらのフィルムは延伸して用いても良い。
また、表面にマット加工を施しても良いが、画像再現性
の観点から、マット加工の無いものの方が本発明では好
ましい。
【0051】本発明において、水なし平版原版を露光す
るのに使用されるレーザーは、シリコーンゴム層が剥離
除去されるのに十分な密着力の低下が起きるのに必要な
露光量を与えるものであれば特に制限はなく、Arレー
ザー、炭酸ガスレーザーのごときガスレーザー、YAG
レーザーのような固体レーザー、そして半導体レーザー
等が使用できる。通常出力が50mWクラス以上のレー
ザーが必要となる。保守性、価格等の実用的な面から
は、半導体レーザー及び半導体励起の固体レーザー(Y
AGレーザー等)が好適に使用される。
るのに使用されるレーザーは、シリコーンゴム層が剥離
除去されるのに十分な密着力の低下が起きるのに必要な
露光量を与えるものであれば特に制限はなく、Arレー
ザー、炭酸ガスレーザーのごときガスレーザー、YAG
レーザーのような固体レーザー、そして半導体レーザー
等が使用できる。通常出力が50mWクラス以上のレー
ザーが必要となる。保守性、価格等の実用的な面から
は、半導体レーザー及び半導体励起の固体レーザー(Y
AGレーザー等)が好適に使用される。
【0052】これらのレーザーの記録波長は赤外線の波
長領域であり、800nmから1100nmの発振波長
を利用することが多い。
長領域であり、800nmから1100nmの発振波長
を利用することが多い。
【0053】また、特開平6−186750号公報に記
載されているイメージング装置を用いて露光することも
可能である。
載されているイメージング装置を用いて露光することも
可能である。
【0054】前記の如くシリコーンゴム層の表面保護の
ためのフィルムを設ける場合には、レーザー露光する際
には光透過性のフィルムであればそのまま露光しても良
いし、剥がした後に露光しても良い。
ためのフィルムを設ける場合には、レーザー露光する際
には光透過性のフィルムであればそのまま露光しても良
いし、剥がした後に露光しても良い。
【0055】本発明の水なし平版原版を製版する際に用
いられる現像液としては、水なし平版原版の現像液とし
て公知のもの、例えば、炭化水素類、極性溶媒、水及び
これらの組み合わせ等、が使用できるが、安全性の観点
から、水又は水を主成分とする有機溶剤の水溶液を用い
ることが好ましく、安全性及び引火性等を考慮すると有
機溶剤の濃度は40重量%未満が望ましい。
いられる現像液としては、水なし平版原版の現像液とし
て公知のもの、例えば、炭化水素類、極性溶媒、水及び
これらの組み合わせ等、が使用できるが、安全性の観点
から、水又は水を主成分とする有機溶剤の水溶液を用い
ることが好ましく、安全性及び引火性等を考慮すると有
機溶剤の濃度は40重量%未満が望ましい。
【0056】用い得る炭化水素類としては、脂肪族炭化
水素類〔具体的には、例えば、ヘキサン、ヘプタン、ガ
ソリン、灯油、市販の溶剤である”アイソパーE、H、
G”(エッソ化学社製)等〕、芳香族炭化水素類(例え
ば、トルエン、キシレン等)、あるいはハロゲン化炭化
水素(トリクレン等)等が挙げられる。また、極性溶媒
としては、アルコール類(具体的には、例えば、メタノ
ール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、
ベンジルアルコール、エチレングリコールモノメチルエ
ーテル、2−エトキシエタノール、ジエチレングリコー
ルモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキ
シルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエー
テル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレン
グリコールモノメチルエーテル、ポリプロピレングリコ
ール、テトラエチレングリコール等)、ケトン類(例え
ば、アセトン、メチルエチルケトン等)、エステル類
(例えば、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸ブチル、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエ
チレングリコールアセテート、ジエチルフタレート
等)、その他、トリエチルホスフェート、トリクレジル
ホスフェート等が挙げられる。また、単に水道水、純
水、蒸留水等の水そのものを用いることもできる。これ
らは単独で用いてもよく、2種以上、例えば、炭化水素
類に水を添加したり、極性溶媒に水を添加したり、炭化
水素類と極性溶媒を組み合わせて、用いることもでき
る。
水素類〔具体的には、例えば、ヘキサン、ヘプタン、ガ
ソリン、灯油、市販の溶剤である”アイソパーE、H、
G”(エッソ化学社製)等〕、芳香族炭化水素類(例え
ば、トルエン、キシレン等)、あるいはハロゲン化炭化
水素(トリクレン等)等が挙げられる。また、極性溶媒
としては、アルコール類(具体的には、例えば、メタノ
ール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、
ベンジルアルコール、エチレングリコールモノメチルエ
ーテル、2−エトキシエタノール、ジエチレングリコー
ルモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキ
シルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエー
テル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレン
グリコールモノメチルエーテル、ポリプロピレングリコ
ール、テトラエチレングリコール等)、ケトン類(例え
ば、アセトン、メチルエチルケトン等)、エステル類
(例えば、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸ブチル、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエ
チレングリコールアセテート、ジエチルフタレート
等)、その他、トリエチルホスフェート、トリクレジル
ホスフェート等が挙げられる。また、単に水道水、純
水、蒸留水等の水そのものを用いることもできる。これ
らは単独で用いてもよく、2種以上、例えば、炭化水素
類に水を添加したり、極性溶媒に水を添加したり、炭化
水素類と極性溶媒を組み合わせて、用いることもでき
る。
【0057】さらに、上記炭化水素類や極性溶媒のうち
水に対する親和性の低いものについては界面活性剤等を
添加して水に対する溶解性を向上させてもよい。また、
界面活性剤とともにアルカリ剤(例えば、炭酸ナトリウ
ム、ジエタノールアミン、水酸化ナトリウム等)を添加
することもできる。
水に対する親和性の低いものについては界面活性剤等を
添加して水に対する溶解性を向上させてもよい。また、
界面活性剤とともにアルカリ剤(例えば、炭酸ナトリウ
ム、ジエタノールアミン、水酸化ナトリウム等)を添加
することもできる。
【0058】現像は、例えば、上記のような現像液を含
む現像用パッドで版面をこすったり、現像液を版面に注
いだ後に水中にて現像ブラシでこする等、公知の方法で
行うことができる。現像液温は任意の温度とすることが
できるが、好ましくは10℃〜50℃である。これによ
り画像部のインキ反撥層であるシリコーンゴム層が除か
れ、その部分がインキ受容部となる。
む現像用パッドで版面をこすったり、現像液を版面に注
いだ後に水中にて現像ブラシでこする等、公知の方法で
行うことができる。現像液温は任意の温度とすることが
できるが、好ましくは10℃〜50℃である。これによ
り画像部のインキ反撥層であるシリコーンゴム層が除か
れ、その部分がインキ受容部となる。
【0059】以上のような現像処理、又はそれに続く水
洗、乾燥処理は、自動処理機で行うこともできる。この
ような自動処理機の好ましいものは、特開平2−220
061号公報に記載されている。
洗、乾燥処理は、自動処理機で行うこともできる。この
ような自動処理機の好ましいものは、特開平2−220
061号公報に記載されている。
【0060】また、本発明の水なし平版原版は接着層を
シリコーンゴム層表面に張り合わせた後に、接着層を剥
離することにより現像することも可能である。接着層
は、シリコーンゴム層の表面に密着できる公知のものが
いずれも使用できる。これらの接着層を可撓性支持体に
設けたものは、例えば、住友スリーエム社の「スコッチ
テープ#851A」の商品名で市販されている。
シリコーンゴム層表面に張り合わせた後に、接着層を剥
離することにより現像することも可能である。接着層
は、シリコーンゴム層の表面に密着できる公知のものが
いずれも使用できる。これらの接着層を可撓性支持体に
設けたものは、例えば、住友スリーエム社の「スコッチ
テープ#851A」の商品名で市販されている。
【0061】また、このように処理された刷版を積み重
ねて保管する場合には、刷版を保護するために合紙を挿
入し挟んでおくことが好ましい。
ねて保管する場合には、刷版を保護するために合紙を挿
入し挟んでおくことが好ましい。
【0062】
【実施例】本発明を実施例によりさらに詳細に説明す
る。ただし、本発明は下記の実施例に限定されるもので
はない。実施例1、比較例1及び2 (カーボンブラック分散液の作成)下記の混合液をペイ
ントシェーカーにて30分間分散した後、ガラスビーズ
をろ別してカーボンブラック分散液を作成した。
る。ただし、本発明は下記の実施例に限定されるもので
はない。実施例1、比較例1及び2 (カーボンブラック分散液の作成)下記の混合液をペイ
ントシェーカーにて30分間分散した後、ガラスビーズ
をろ別してカーボンブラック分散液を作成した。
【0063】 〔カーボンブラック分散液組成〕 カーボンブラック(#40 三菱カーボン(株)製) 5.0g クリスボン3006LV(大日本インキ化学工業(株)製ポリウレタン) 4.0g ニトロセルロース(n−プロパノール30%含有) 1.3g ソルスパースS27000(ICI社製) 0.4g プロピレングリコールモノメチルエーテル 45g ガラスビーズ 160g (光熱変換層の形成)ミクロボイド生成法により製造さ
れ、空隙率が約20%、空洞の形状が円盤状で大きさが
約100〜500μm3 であり、フィルムの厚さが18
8μmのコロナ放電処理を施した白色の空洞含有ポリエ
ステルフィルム「クリスパーG1212」(東洋紡績社
製)上に、下記の塗布液を乾燥膜厚1μmとなるように
塗布し、光熱変換層を形成した。
れ、空隙率が約20%、空洞の形状が円盤状で大きさが
約100〜500μm3 であり、フィルムの厚さが18
8μmのコロナ放電処理を施した白色の空洞含有ポリエ
ステルフィルム「クリスパーG1212」(東洋紡績社
製)上に、下記の塗布液を乾燥膜厚1μmとなるように
塗布し、光熱変換層を形成した。
【0064】 〔光熱変換層塗布液組成〕 上記のカーボンブラック分散液 55g ニトロセルロース(n−プロパノール30%含有) 5g クリスボン3006LV 20g プロピレングリコールモノメチルエーテル 200g (シリコーンゴム層の形成)下記の塗布液を前記光熱変
換層上に塗布し、130℃で1分間加熱、乾燥すること
により、乾燥膜厚2μmの付加型シリコーンゴム層を形
成した。
換層上に塗布し、130℃で1分間加熱、乾燥すること
により、乾燥膜厚2μmの付加型シリコーンゴム層を形
成した。
【0065】 〔シリコーンゴム層塗布液組成〕 α,ω−ジビニルポリジメチルシロキサン(重合度500) 9g (CH3)3-Si-O-(SiH(CH3)-O)8-Si(CH3)3 0.8g オレフィン−塩化白金酸 0.001g 制御剤[HC≡C-C(CH3)2-O-Si(CH3)3) ] 0.3g アイソパーG(エッソ化学(株)製) 120g 上記のようにして得られたシリコーンゴム層の表面に6
μmのポリエチレンテレフタレートをラミネートし、実
施例1の水なし平版原版を得た。
μmのポリエチレンテレフタレートをラミネートし、実
施例1の水なし平版原版を得た。
【0066】比較例1の水なし平版原版は、上記実施例
1の支持体の代わりに、厚さ188μmの空洞を含有し
ない透明なポリエチレンテレフタレートフィルムE51
01(東洋紡績社製)を用いた以外は実施例1と同様に
して作成した。
1の支持体の代わりに、厚さ188μmの空洞を含有し
ない透明なポリエチレンテレフタレートフィルムE51
01(東洋紡績社製)を用いた以外は実施例1と同様に
して作成した。
【0067】比較例2の水なし平版原版は、上記実施例
1の支持体の代わりに、厚さ188μmの空洞を含有し
ない白色のポリエチレンテレフタレートフィルム メリ
ネックス329(ICI社製)を用いた以外は実施例1
と同様にして作成した。
1の支持体の代わりに、厚さ188μmの空洞を含有し
ない白色のポリエチレンテレフタレートフィルム メリ
ネックス329(ICI社製)を用いた以外は実施例1
と同様にして作成した。
【0068】得られた本発明の水なし平版原版のカバー
フィルムを剥離した後に、波長1064nm、ビーム径
40μm(1/e2 )、出力500mWの半導体励起Y
AGレーザーを用いて書き込み速度を変えて、連続線の
書き込みを行った。その後、イソプロパノールを含ませ
た現像用パッドで版面を拭き、レーザー照射部のシリコ
ーンゴム層を除去した。
フィルムを剥離した後に、波長1064nm、ビーム径
40μm(1/e2 )、出力500mWの半導体励起Y
AGレーザーを用いて書き込み速度を変えて、連続線の
書き込みを行った。その後、イソプロパノールを含ませ
た現像用パッドで版面を拭き、レーザー照射部のシリコ
ーンゴム層を除去した。
【0069】照射部のシリコーンゴム層を連続線として
除去可能な版面エネルギーは、本発明の空洞含有プラス
チックフィルムを支持体とした水なし平版原版が90mJ
/cm2であり、比較例1の空洞を含有しない透明なプラス
チックフィルムを支持体とした水なし平版原版は182
mJ/cm2であり、比較例2の空洞を含有しない白色のプラ
スチックフィルムを支持体とした水なし平版原版は16
0mJ/cm2であった。このことより、本発明の水なし平版
原版は感度が高いことが明らかである。実施例2、比較例3及び4 (光熱変換層の形成)ミクロボイド生成法により製造さ
れ、空隙率が約20%、空洞の形状が円盤状で大きさが
約100〜500μm3 であり、フィルムの厚さが18
8μmのコロナ放電処理を施した白色の空洞含有ポリエ
ステルフィルム「クリスパーG1212」(東洋紡績社
製)上に、5×10-5Torrの条件でチタンをOD=0.
5(1064nm)となるように蒸着し、光熱変換層を
形成した。 (シリコーンゴム層の形成)下記の塗布液を作成し、上
記チタン蒸着面に塗布し、110℃で1分間加熱、乾燥
することにより、乾燥膜厚2μmの縮合型シリコーンゴ
ム層を形成した。 [シリコーンゴム層塗布液組成] 両末端に水酸基を有するジメチルポリシロキサン(重合度700) 9g メチルトリアセトキシシラン 0.5g ジブチル錫ジオクタネート 0.2g アイソパーG(エッソ化学(株)製) 160g 上記のようにして得られたシリコーンゴム層の表面に6
μmのポリエチレンテレフタレートをラミネートし、実
施例2の水なし平版原版を得た。
除去可能な版面エネルギーは、本発明の空洞含有プラス
チックフィルムを支持体とした水なし平版原版が90mJ
/cm2であり、比較例1の空洞を含有しない透明なプラス
チックフィルムを支持体とした水なし平版原版は182
mJ/cm2であり、比較例2の空洞を含有しない白色のプラ
スチックフィルムを支持体とした水なし平版原版は16
0mJ/cm2であった。このことより、本発明の水なし平版
原版は感度が高いことが明らかである。実施例2、比較例3及び4 (光熱変換層の形成)ミクロボイド生成法により製造さ
れ、空隙率が約20%、空洞の形状が円盤状で大きさが
約100〜500μm3 であり、フィルムの厚さが18
8μmのコロナ放電処理を施した白色の空洞含有ポリエ
ステルフィルム「クリスパーG1212」(東洋紡績社
製)上に、5×10-5Torrの条件でチタンをOD=0.
5(1064nm)となるように蒸着し、光熱変換層を
形成した。 (シリコーンゴム層の形成)下記の塗布液を作成し、上
記チタン蒸着面に塗布し、110℃で1分間加熱、乾燥
することにより、乾燥膜厚2μmの縮合型シリコーンゴ
ム層を形成した。 [シリコーンゴム層塗布液組成] 両末端に水酸基を有するジメチルポリシロキサン(重合度700) 9g メチルトリアセトキシシラン 0.5g ジブチル錫ジオクタネート 0.2g アイソパーG(エッソ化学(株)製) 160g 上記のようにして得られたシリコーンゴム層の表面に6
μmのポリエチレンテレフタレートをラミネートし、実
施例2の水なし平版原版を得た。
【0070】比較例3の水なし平版原版は、上記実施例
2の支持体の代わりに、厚さ188μmの空洞を含有し
ない透明なポリエチレンテレフタレートフィルムE51
01を用いた以外は実施例2と同様にして作成した。
2の支持体の代わりに、厚さ188μmの空洞を含有し
ない透明なポリエチレンテレフタレートフィルムE51
01を用いた以外は実施例2と同様にして作成した。
【0071】比較例4の水なし平版原版は、上記実施例
2の支持体の代わりに、厚さ188μmの空洞を含有し
ない白色のポリエチレンテレフタレートフィルム メリ
ネックス329を用いた以外は実施例2と同様にして作
成した。
2の支持体の代わりに、厚さ188μmの空洞を含有し
ない白色のポリエチレンテレフタレートフィルム メリ
ネックス329を用いた以外は実施例2と同様にして作
成した。
【0072】得られた本発明の水なし平版原版のカバー
フィルムを剥離した後に、波長1064nm、ビーム径
40μm(1/e2 )、出力500mWの半導体励起Y
AGレーザーを用いて書き込み速度を変えて、連続線の
書き込みを行った。その後、水を含ませた現像用パッド
で版面を拭き、レーザー照射部のシリコーンゴム層を除
去した。
フィルムを剥離した後に、波長1064nm、ビーム径
40μm(1/e2 )、出力500mWの半導体励起Y
AGレーザーを用いて書き込み速度を変えて、連続線の
書き込みを行った。その後、水を含ませた現像用パッド
で版面を拭き、レーザー照射部のシリコーンゴム層を除
去した。
【0073】照射部のシリコーンゴム層を連続線として
除去可能な版面エネルギーは本発明の空洞含有ポリエス
テルを支持体とした水なし平版原版が102mJ/cm2であ
り、比較例3の空洞を含有しない透明なプラスチックフ
ィルムを支持体とした水なし平版原版は198mJ/cm2で
あり、比較例4の空洞を含有しない白色のプラスチック
フィルムを支持体とした水なし平版原版は180mJ/cm2
であった。このことより、本発明の水なし平版原版は感
度が高いことが明らかである。実施例3 実施例3の水なし平版原版は、上記実施例1の支持体の
代わりに、フィルムの厚さが35μmの白色の空洞含有
ポリプロピレンフィルム「トレファンBO YP22」
(東レ社製)を用い、光熱変換層及びシリコーンゴム層
を積層する支持体表面とは反対側の支持体表面に、接着
剤を用いて厚さ0.13mmのアルミニウム基板を貼り
合わせた以外は実施例1と同様にして作成した。
除去可能な版面エネルギーは本発明の空洞含有ポリエス
テルを支持体とした水なし平版原版が102mJ/cm2であ
り、比較例3の空洞を含有しない透明なプラスチックフ
ィルムを支持体とした水なし平版原版は198mJ/cm2で
あり、比較例4の空洞を含有しない白色のプラスチック
フィルムを支持体とした水なし平版原版は180mJ/cm2
であった。このことより、本発明の水なし平版原版は感
度が高いことが明らかである。実施例3 実施例3の水なし平版原版は、上記実施例1の支持体の
代わりに、フィルムの厚さが35μmの白色の空洞含有
ポリプロピレンフィルム「トレファンBO YP22」
(東レ社製)を用い、光熱変換層及びシリコーンゴム層
を積層する支持体表面とは反対側の支持体表面に、接着
剤を用いて厚さ0.13mmのアルミニウム基板を貼り
合わせた以外は実施例1と同様にして作成した。
【0074】得られた水なし平版原版のカバーフィルム
を剥離した後に、波長1064nm、ビーム径40μm
(1/e2 )の半導体励起YAGレーザーを用いて連続
線の書き込みを行った。記録エネルギーは300mJ/cm2
とした。その後、スコッチテープ#851A(住友スリ
ーエム社製)をシリコーンゴム層表面に張り合わせた後
剥離して、レーザー照射部のシリコーンゴム層を除去し
た。一方、レーザー未照射部のシリコーン層は除去され
ずに水なし平版原版表面に保持され、シャープなエッジ
のシリコーン画像が形成できた。
を剥離した後に、波長1064nm、ビーム径40μm
(1/e2 )の半導体励起YAGレーザーを用いて連続
線の書き込みを行った。記録エネルギーは300mJ/cm2
とした。その後、スコッチテープ#851A(住友スリ
ーエム社製)をシリコーンゴム層表面に張り合わせた後
剥離して、レーザー照射部のシリコーンゴム層を除去し
た。一方、レーザー未照射部のシリコーン層は除去され
ずに水なし平版原版表面に保持され、シャープなエッジ
のシリコーン画像が形成できた。
【0075】また、水なし平版原版を出力110mW、
波長825nm、ビーム径10μm(1/e2 )の半導
体レーザーを用いて、主操作速度5m/秒にて書き込み
を行い、同様の処理をしてレーザー照射部のシリコーン
ゴム層を除去した。解像力は7μmでシャープなエッジ
の水なし平版印刷版が形成された。この記録条件にて、
200線の網点形成を行ったところ網点面積率2%から
98%までが版上に形成できた。
波長825nm、ビーム径10μm(1/e2 )の半導
体レーザーを用いて、主操作速度5m/秒にて書き込み
を行い、同様の処理をしてレーザー照射部のシリコーン
ゴム層を除去した。解像力は7μmでシャープなエッジ
の水なし平版印刷版が形成された。この記録条件にて、
200線の網点形成を行ったところ網点面積率2%から
98%までが版上に形成できた。
【0076】また、得られた水なし平版印刷板を印刷機
を用いて印刷したところ10万枚の汚れのない良好な印
刷物が得られた。
を用いて印刷したところ10万枚の汚れのない良好な印
刷物が得られた。
【0077】
【発明の効果】本発明の湿し水不要平版印刷原版によれ
ば、レーザー光によるヒートモード記録が可能であり、
高感度である。
ば、レーザー光によるヒートモード記録が可能であり、
高感度である。
Claims (1)
- 【請求項1】 空洞含有プラスチックフィルム支持体上
に、レーザー光を熱に変換し、その熱によりアブレーシ
ョンする光熱変換層を設け、該光熱変換層上にインキ反
撥性のシリコーンゴム層を積層してなることを特徴とす
る湿し水不要平版原版。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8135508A JPH09314794A (ja) | 1996-05-29 | 1996-05-29 | 湿し水不要平版原版 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8135508A JPH09314794A (ja) | 1996-05-29 | 1996-05-29 | 湿し水不要平版原版 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09314794A true JPH09314794A (ja) | 1997-12-09 |
Family
ID=15153406
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8135508A Pending JPH09314794A (ja) | 1996-05-29 | 1996-05-29 | 湿し水不要平版原版 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09314794A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1039497A (ja) * | 1996-07-19 | 1998-02-13 | Toray Ind Inc | 直描型水なし平版印刷版原版 |
-
1996
- 1996-05-29 JP JP8135508A patent/JPH09314794A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1039497A (ja) * | 1996-07-19 | 1998-02-13 | Toray Ind Inc | 直描型水なし平版印刷版原版 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050912 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20051025 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060307 |