JPH09143274A - 新規含フッ素ポリエーテル - Google Patents
新規含フッ素ポリエーテルInfo
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- JPH09143274A JPH09143274A JP30730695A JP30730695A JPH09143274A JP H09143274 A JPH09143274 A JP H09143274A JP 30730695 A JP30730695 A JP 30730695A JP 30730695 A JP30730695 A JP 30730695A JP H09143274 A JPH09143274 A JP H09143274A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 撥水性、撥油性という特異な性質を有し、か
つ他の材料との相溶性が良好な含フッ素化合物の提供。 【解決手段】 式A−Q−B で表される新規含フッ素
ポリエーテル。〔Aは Y-Rf1-又は D-O-Rf2-、Bは -Rf
1'-Y又は -Rf2'-0-D、Qは -Z-、-Z'-O-Rf1-Z-又は-Z-R
f2'-O-Rf2-Z'-で表される基で、-Rf1-は-CF2-、-CF2O
-、-C2F4O-、-C3F6O- 又は-CF(CF3)CF2O-を2〜10000
個有する基、-Rf2-は -CH2CH(CF3)O-を2〜5000個有す
る基、-Rf1'- は-CF2- 、-OCF2-、-OC2F4-、-OC3F6-又
は-OCF2CF(CF3)-を2〜10000 個有する基、-Rf2'- は-O
CH(CF3)CH2-を2〜5000個有する基、Y はH 又はF 、D
はC1-22 のアルキル基等、-Z- は-C2F4CO-、-CF2CO- 又
は-CF(CF3)CO- 、-Z'-は-COC2F4-、-COCF2- 又は -COC
F(CF3)- を示す。〕
つ他の材料との相溶性が良好な含フッ素化合物の提供。 【解決手段】 式A−Q−B で表される新規含フッ素
ポリエーテル。〔Aは Y-Rf1-又は D-O-Rf2-、Bは -Rf
1'-Y又は -Rf2'-0-D、Qは -Z-、-Z'-O-Rf1-Z-又は-Z-R
f2'-O-Rf2-Z'-で表される基で、-Rf1-は-CF2-、-CF2O
-、-C2F4O-、-C3F6O- 又は-CF(CF3)CF2O-を2〜10000
個有する基、-Rf2-は -CH2CH(CF3)O-を2〜5000個有す
る基、-Rf1'- は-CF2- 、-OCF2-、-OC2F4-、-OC3F6-又
は-OCF2CF(CF3)-を2〜10000 個有する基、-Rf2'- は-O
CH(CF3)CH2-を2〜5000個有する基、Y はH 又はF 、D
はC1-22 のアルキル基等、-Z- は-C2F4CO-、-CF2CO- 又
は-CF(CF3)CO- 、-Z'-は-COC2F4-、-COCF2- 又は -COC
F(CF3)- を示す。〕
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、化粧品原料等に有
用な新規含フッ素ポリエーテルに関する。
用な新規含フッ素ポリエーテルに関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】含フッ
素化合物は一般にその表面自由エネルギーが非常に低い
ため、撥水性、撥油性、防汚性、非粘着性、低摩擦性を
有し、液状物はその低い表面張力により高い濡れ性、浸
透性といった特異な性質を示すことが知られている(参
考文献;ふっ素樹脂ハンドブック,里川孝臣編,日刊工
業新聞社,1990年)。
素化合物は一般にその表面自由エネルギーが非常に低い
ため、撥水性、撥油性、防汚性、非粘着性、低摩擦性を
有し、液状物はその低い表面張力により高い濡れ性、浸
透性といった特異な性質を示すことが知られている(参
考文献;ふっ素樹脂ハンドブック,里川孝臣編,日刊工
業新聞社,1990年)。
【0003】中でも、フッ素系ポリエーテルは、さまざ
まな物質の表面改質等に用いられており、例えば、化粧
品、磁気記録材料や、精密機械用の潤滑剤、繊維処理剤
などの用途が挙げられる。現在、そのようなフッ素系ポ
リエーテルとして、何種類かが開発されている(アウジ
モント社製;商品名フォンブリン、デュポン社製;商品
名クライトックス、ダイキン(株)製;商品名デムナ
ム)。しかしながら、これらはいずれも他の材料との相
溶性に乏しいため、それらを配合物とすることが困難で
あるという問題点があった。
まな物質の表面改質等に用いられており、例えば、化粧
品、磁気記録材料や、精密機械用の潤滑剤、繊維処理剤
などの用途が挙げられる。現在、そのようなフッ素系ポ
リエーテルとして、何種類かが開発されている(アウジ
モント社製;商品名フォンブリン、デュポン社製;商品
名クライトックス、ダイキン(株)製;商品名デムナ
ム)。しかしながら、これらはいずれも他の材料との相
溶性に乏しいため、それらを配合物とすることが困難で
あるという問題点があった。
【0004】従って、本発明の課題は、撥水性、撥油性
等の特異な性質を有し、かつ他の材料との相溶性が良好
な含フッ素化合物を提供することにある。
等の特異な性質を有し、かつ他の材料との相溶性が良好
な含フッ素化合物を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意研究した結果、極めて特定の構造
を有する含フッ素化合物が、他の材料(例えば化粧品原
料等)との相溶性に優れ、且つフッ素化合物の本来の特
性、即ち撥水性、撥油性、防汚性、非粘着性、低摩擦性
等の優れた物性を有する化合物であることを見いだし、
本発明を完成するに到った。
を解決するために鋭意研究した結果、極めて特定の構造
を有する含フッ素化合物が、他の材料(例えば化粧品原
料等)との相溶性に優れ、且つフッ素化合物の本来の特
性、即ち撥水性、撥油性、防汚性、非粘着性、低摩擦性
等の優れた物性を有する化合物であることを見いだし、
本発明を完成するに到った。
【0006】即ち、本発明は、一般式(1) で表される新
規含フッ素ポリエーテルを提供するものである。
規含フッ素ポリエーテルを提供するものである。
【0007】A−Q−B (1) 〔式中、 A:式 Y-Rf1- 又は D-O-Rf2- で表される基を示す。こ
こで -Rf1-は-CF2- 、-CF2O-、-C2F4O- 、-C3F6O- 及び
-CF(CF3)CF2O-からなる群より選択される少なくとも1
種の繰り返し単位を有し、その繰り返し単位の平均合計
数が2〜10000 である基を示す。-Rf2- は -CH2CH(CF3)
O-で表される繰り返し単位を有し、その繰り返し単位の
平均合計数が2〜5000である基を示す。Y 基は水素原子
又はフッ素原子を示す。D 基は直鎖又は分岐鎖の炭素数
1〜22のアルキル基もしくはアルケニル基を示すか、又
はアルキル基で置換されていてもよい総炭素数6〜24の
アリール基を示す。
こで -Rf1-は-CF2- 、-CF2O-、-C2F4O- 、-C3F6O- 及び
-CF(CF3)CF2O-からなる群より選択される少なくとも1
種の繰り返し単位を有し、その繰り返し単位の平均合計
数が2〜10000 である基を示す。-Rf2- は -CH2CH(CF3)
O-で表される繰り返し単位を有し、その繰り返し単位の
平均合計数が2〜5000である基を示す。Y 基は水素原子
又はフッ素原子を示す。D 基は直鎖又は分岐鎖の炭素数
1〜22のアルキル基もしくはアルケニル基を示すか、又
はアルキル基で置換されていてもよい総炭素数6〜24の
アリール基を示す。
【0008】B:式 -Rf1'-Y又は -Rf2'-O-Dで表される
基を示す。ここで -Rf1'- は-CF2- 、-OCF2-、-OC2F4-
、-OC3F6-及び-OCF2CF(CF3)-からなる群より選択され
る少なくとも1種の繰り返し単位を有し、その繰り返し
単位の平均合計数が2〜10000 である基を示す。-Rf2'-
は -OCH(CF3)CH2-で表される繰り返し単位を有し、そ
の繰り返し単位の平均合計数が2〜5000である基を示
す。Y 基及び D基は前記の意味を示す。
基を示す。ここで -Rf1'- は-CF2- 、-OCF2-、-OC2F4-
、-OC3F6-及び-OCF2CF(CF3)-からなる群より選択され
る少なくとも1種の繰り返し単位を有し、その繰り返し
単位の平均合計数が2〜10000 である基を示す。-Rf2'-
は -OCH(CF3)CH2-で表される繰り返し単位を有し、そ
の繰り返し単位の平均合計数が2〜5000である基を示
す。Y 基及び D基は前記の意味を示す。
【0009】Q:式 -Z-、-Z'-O-Rf1-Z-又は -Z-Rf2'-O
-Rf2-Z'-で表される基を示す。ここで -Z-は -C2F4CO-
、-CF2CO- 又は-CF(CF3)CO- で表される基を示す。-Z'
-は -COC2F4-、-COCF2- 又は -COCF(CF3)- で表される
基を示す。但し、Q=-Z- の場合、A=Y-Rf1-、B= -
Rf2'-O-Dであり、Q=-Z'-O-Rf1-Z-の場合、A=D-O-Rf
2-、B= -Rf2'-O-Dであり、Q= -Z-Rf2'-O-Rf2-Z'-の
場合、A=Y-Rf1-、B=-Rf1'-Yである。この場合にお
いて、-Rf1- 、-Rf2- 、 -Rf1'- 、-Rf2'-、Y 基及び D
基は前記の意味を示す。〕
-Rf2-Z'-で表される基を示す。ここで -Z-は -C2F4CO-
、-CF2CO- 又は-CF(CF3)CO- で表される基を示す。-Z'
-は -COC2F4-、-COCF2- 又は -COCF(CF3)- で表される
基を示す。但し、Q=-Z- の場合、A=Y-Rf1-、B= -
Rf2'-O-Dであり、Q=-Z'-O-Rf1-Z-の場合、A=D-O-Rf
2-、B= -Rf2'-O-Dであり、Q= -Z-Rf2'-O-Rf2-Z'-の
場合、A=Y-Rf1-、B=-Rf1'-Yである。この場合にお
いて、-Rf1- 、-Rf2- 、 -Rf1'- 、-Rf2'-、Y 基及び D
基は前記の意味を示す。〕
【0010】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。
て詳細に説明する。
【0011】一般式(1) で表される含フッ素ポリエーテ
ルの具体例として、一般式(2) で表される化合物が例示
される。 F(CF(CF3)CF2O)mCF(CF3)COO(CH(CF3)CH2O)nD (2) 〔式中、 m:平均値を示す2〜50、好ましくは2〜30の数であ
る。 n:平均値を示す2〜1000、好ましくは5〜500 の数で
ある。 D:前記の意味を示す。〕 上記一般式(2) おいて、D 基は直鎖又は分岐鎖の炭素数
1〜22のアルキル基もしくはアルケニル基を示すか、又
はアルキル基で置換されていてもよい総炭素数6〜24の
アリール基を示すが、好ましくは、直鎖又は分岐鎖の炭
素数1〜18のアルキル基、オレイル基、又は炭素数6〜
18のアルキル基1個で置換されたフェニル基であり、特
に好ましくは炭素数1〜8のアルキル基である。
ルの具体例として、一般式(2) で表される化合物が例示
される。 F(CF(CF3)CF2O)mCF(CF3)COO(CH(CF3)CH2O)nD (2) 〔式中、 m:平均値を示す2〜50、好ましくは2〜30の数であ
る。 n:平均値を示す2〜1000、好ましくは5〜500 の数で
ある。 D:前記の意味を示す。〕 上記一般式(2) おいて、D 基は直鎖又は分岐鎖の炭素数
1〜22のアルキル基もしくはアルケニル基を示すか、又
はアルキル基で置換されていてもよい総炭素数6〜24の
アリール基を示すが、好ましくは、直鎖又は分岐鎖の炭
素数1〜18のアルキル基、オレイル基、又は炭素数6〜
18のアルキル基1個で置換されたフェニル基であり、特
に好ましくは炭素数1〜8のアルキル基である。
【0012】一般式(2) で表される化合物は、下記反応
式に示すように、一般式(10)で表される化合物と一般式
(11)で表される化合物とを塩基性化合物又は酸性化合物
の存在下に反応させることにより得られる。
式に示すように、一般式(10)で表される化合物と一般式
(11)で表される化合物とを塩基性化合物又は酸性化合物
の存在下に反応させることにより得られる。
【0013】
【化1】
【0014】〔式中、m, n, D :前記の意味を示す。 X :水酸基もしくはF、Cl、Br、I等のハロゲン原
子を示す。〕 この場合において、一般式(10)で表される化合物と一般
式(11)で表される化合物のモル比、〔化合物(10)/化合
物(11)〕は1/3〜3/1が好ましく、1/1.5 〜 1.5
/1が更に好ましい。
子を示す。〕 この場合において、一般式(10)で表される化合物と一般
式(11)で表される化合物のモル比、〔化合物(10)/化合
物(11)〕は1/3〜3/1が好ましく、1/1.5 〜 1.5
/1が更に好ましい。
【0015】また、この反応に用いられる塩基性化合物
又は酸性化合物としては、 Xがハロゲン原子の場合は、
ピリジン、トリエチルアミン、ジメチルアニリン、テト
ラメチル尿素などの有機塩基や、水酸化カリウム、水酸
化ナトリウムなどのアルカリ金属水酸化物が例示され、
Xが水酸基の場合は、硫酸、塩酸などの鉱酸、芳香族ス
ルホン酸などの有機酸、あるいはフッ化ホウ素エノラー
トなどのルイス酸が例示される。これらの塩基性化合物
又は酸性化合物の添加量は、 Xがハロゲン原子の場合
は、一般式(10)で表される酸ハロゲン化物に対して1〜
5倍当量であり、Xが水酸基の場合は、一般式(10)で表
されるカルボン酸に対して0.05〜2倍当量である。
又は酸性化合物としては、 Xがハロゲン原子の場合は、
ピリジン、トリエチルアミン、ジメチルアニリン、テト
ラメチル尿素などの有機塩基や、水酸化カリウム、水酸
化ナトリウムなどのアルカリ金属水酸化物が例示され、
Xが水酸基の場合は、硫酸、塩酸などの鉱酸、芳香族ス
ルホン酸などの有機酸、あるいはフッ化ホウ素エノラー
トなどのルイス酸が例示される。これらの塩基性化合物
又は酸性化合物の添加量は、 Xがハロゲン原子の場合
は、一般式(10)で表される酸ハロゲン化物に対して1〜
5倍当量であり、Xが水酸基の場合は、一般式(10)で表
されるカルボン酸に対して0.05〜2倍当量である。
【0016】また、この一般式(10)で表される化合物と
一般式(11)で表される化合物の反応に用いられる溶媒と
しては、ジエチルエーテル、THF、1,2−ジメトキ
シエタンなどのエーテル系溶媒;クロロホルム、塩化メ
チレン、フロン113などのハロゲン系溶媒;トルエ
ン、キシレン等の芳香族系溶媒等が挙げられる。更にこ
の反応温度は−10℃〜 150℃が好ましく、0〜100 ℃が
更に好ましい。反応時間は1〜10時間が好ましい。
一般式(11)で表される化合物の反応に用いられる溶媒と
しては、ジエチルエーテル、THF、1,2−ジメトキ
シエタンなどのエーテル系溶媒;クロロホルム、塩化メ
チレン、フロン113などのハロゲン系溶媒;トルエ
ン、キシレン等の芳香族系溶媒等が挙げられる。更にこ
の反応温度は−10℃〜 150℃が好ましく、0〜100 ℃が
更に好ましい。反応時間は1〜10時間が好ましい。
【0017】一般式(1) で表される含フッ素ポリエーテ
ルの別の具体例として、一般式(3)で表される化合物が
例示される。 F(C3F6O)mC2F4COO(CH(CF3)CH2O)nD (3) 〔式中、m, n, D :前記の意味を示す。〕 一般式(3) で表される化合物は、下記反応式に示すよう
に、一般式(12) で表される化合物と、一般式(11)で表
される化合物とを塩基性化合物又は酸性化合物の存在下
に反応させることにより得られる。
ルの別の具体例として、一般式(3)で表される化合物が
例示される。 F(C3F6O)mC2F4COO(CH(CF3)CH2O)nD (3) 〔式中、m, n, D :前記の意味を示す。〕 一般式(3) で表される化合物は、下記反応式に示すよう
に、一般式(12) で表される化合物と、一般式(11)で表
される化合物とを塩基性化合物又は酸性化合物の存在下
に反応させることにより得られる。
【0018】
【化2】
【0019】〔式中、m, n, D, X:前記の意味を示
す。〕 この場合における反応条件は、前記一般式(2) で表され
る化合物を得る場合と同様の条件が採用され得る。
す。〕 この場合における反応条件は、前記一般式(2) で表され
る化合物を得る場合と同様の条件が採用され得る。
【0020】一般式(1) で表される含フッ素ポリエーテ
ルの更に別の具体例として、一般式(4) で表される化合
物が例示される。 Y(CF2)qCF2COO(CH(CF3)CH
2O)nD (4) 〔式中、 n,D, Y:前記の意味を示す。 q:平均値を示す0〜9の数である。〕 一般式(4) で表される化合物は、下記反応式に示すよう
に、一般式(13) で表される化合物と、一般式(11)で表
される化合物とを塩基性化合物又は酸性化合物の存在下
に反応させることにより得られる。
ルの更に別の具体例として、一般式(4) で表される化合
物が例示される。 Y(CF2)qCF2COO(CH(CF3)CH
2O)nD (4) 〔式中、 n,D, Y:前記の意味を示す。 q:平均値を示す0〜9の数である。〕 一般式(4) で表される化合物は、下記反応式に示すよう
に、一般式(13) で表される化合物と、一般式(11)で表
される化合物とを塩基性化合物又は酸性化合物の存在下
に反応させることにより得られる。
【0021】
【化3】
【0022】〔式中、n, q, D, X, Y :前記の意味を示
す。〕 この場合における反応条件は、前記一般式(2) で表され
る化合物を得る場合と同様の条件が採用され得る。
す。〕 この場合における反応条件は、前記一般式(2) で表され
る化合物を得る場合と同様の条件が採用され得る。
【0023】一般式(1) で表される含フッ素ポリエーテ
ルの更に別の具体例として、一般式(5) で表される化合
物が例示される。 F(CF(CF3)CF2O)mCF(CF3)CO-(OCH(CF3)CH2)n- -O-(CH2CH(CF3)O)n-COCF(CF3)(OCF2CF(CF3))mF (5) (式中、m, n:前記の意味を示す。〕 一般式(5) で表される化合物は、下記反応式に示すよう
に、一般式(10)で表される化合物と、一般式(14)で表さ
れる化合物とを反応させることにより得られる。
ルの更に別の具体例として、一般式(5) で表される化合
物が例示される。 F(CF(CF3)CF2O)mCF(CF3)CO-(OCH(CF3)CH2)n- -O-(CH2CH(CF3)O)n-COCF(CF3)(OCF2CF(CF3))mF (5) (式中、m, n:前記の意味を示す。〕 一般式(5) で表される化合物は、下記反応式に示すよう
に、一般式(10)で表される化合物と、一般式(14)で表さ
れる化合物とを反応させることにより得られる。
【0024】
【化4】
【0025】〔式中、m, n, X :前記の意味を示す。〕 この場合における反応条件は、前記一般式(2) で表され
る化合物を得る場合と同様の条件が採用され得るが、使
用される一般式(10)で表される化合物と一般式(14)で表
される化合物のモル比、〔化合物(10)/化合物(14)〕は
2/1〜6/1が好ましい。
る化合物を得る場合と同様の条件が採用され得るが、使
用される一般式(10)で表される化合物と一般式(14)で表
される化合物のモル比、〔化合物(10)/化合物(14)〕は
2/1〜6/1が好ましい。
【0026】一般式(1) で表される含フッ素ポリエーテ
ルの更に別の具体例として、一般式(6) で表される化合
物が例示される。 D(OCH2CH(CF3))nOCOCF2O(CF(CF3)CF2O)p(CF2O)rCF2COO(CH(CF3)CH2O)nD (6) 〔式中、 n, D :前記の意味を示す。 p:平均値を示す1〜40、好ましくは4〜20の数であ
る。 r:平均値を示す1〜10、好ましくは1〜5の数であ
る。但し p+r =2〜50である。〕 一般式(6) で表される化合物は、下記反応式に示すよう
に、一般式(15)で表される化合物と一般式(11)で表され
る化合物とを反応させることにより得られる。
ルの更に別の具体例として、一般式(6) で表される化合
物が例示される。 D(OCH2CH(CF3))nOCOCF2O(CF(CF3)CF2O)p(CF2O)rCF2COO(CH(CF3)CH2O)nD (6) 〔式中、 n, D :前記の意味を示す。 p:平均値を示す1〜40、好ましくは4〜20の数であ
る。 r:平均値を示す1〜10、好ましくは1〜5の数であ
る。但し p+r =2〜50である。〕 一般式(6) で表される化合物は、下記反応式に示すよう
に、一般式(15)で表される化合物と一般式(11)で表され
る化合物とを反応させることにより得られる。
【0027】
【化5】
【0028】〔式中、n, p, r, D, X :前記の意味を示
す。〕 この場合における反応条件は、前記一般式(2) で表され
る化合物を得る場合と同様の条件が採用され得るが、使
用される一般式(15) で表される化合物と一般式(11)で
表される化合物のモル比、〔化合物(15)/化合物(11)〕
は1/2〜1/6が好ましい。
す。〕 この場合における反応条件は、前記一般式(2) で表され
る化合物を得る場合と同様の条件が採用され得るが、使
用される一般式(15) で表される化合物と一般式(11)で
表される化合物のモル比、〔化合物(15)/化合物(11)〕
は1/2〜1/6が好ましい。
【0029】一般式(1) で表される含フッ素ポリエーテ
ルの更に別の具体例として、一般式(7) で表される化合
物が例示される。 D(OCH2CH(CF3))nOCOCF2O(C2F4O)p(CF2O)rCF2COO(CH(CF3)CH2O)nD (7) 〔式中、n, p, r, D:前記の意味を示す。〕 一般式(7) で表される化合物は、下記反応式に示すよう
に、一般式(16)で表される化合物と一般式(11)で表され
る化合物とを反応させることにより得られる。
ルの更に別の具体例として、一般式(7) で表される化合
物が例示される。 D(OCH2CH(CF3))nOCOCF2O(C2F4O)p(CF2O)rCF2COO(CH(CF3)CH2O)nD (7) 〔式中、n, p, r, D:前記の意味を示す。〕 一般式(7) で表される化合物は、下記反応式に示すよう
に、一般式(16)で表される化合物と一般式(11)で表され
る化合物とを反応させることにより得られる。
【0030】
【化6】
【0031】〔式中、n, p, r, D, X :前記の意味を示
す。〕 この場合における反応条件は、前記一般式(2) で表され
る化合物を得る場合と同様の条件が採用され得るが、使
用される一般式(16)で表される化合物と一般式(11)で表
される化合物のモル比、〔化合物(16)/化合物(11)〕は
1/2〜1/6が好ましい。
す。〕 この場合における反応条件は、前記一般式(2) で表され
る化合物を得る場合と同様の条件が採用され得るが、使
用される一般式(16)で表される化合物と一般式(11)で表
される化合物のモル比、〔化合物(16)/化合物(11)〕は
1/2〜1/6が好ましい。
【0032】
【発明の効果】従来の含フッ素ポリエーテルは他の材料
への親和性が乏しかったが、本発明の含フッ素ポリエー
テルにより、フッ素化合物特有の性質を損なうことな
く、他の材料との親和性を改善することができた。従っ
て、本発明の含フッ素ポリエーテルは化粧品、磁気記録
材料や、精密機械用の潤滑剤、繊維処理剤、自動車用塗
装面仕上げ剤をはじめとする広い用途に使用できる。
への親和性が乏しかったが、本発明の含フッ素ポリエー
テルにより、フッ素化合物特有の性質を損なうことな
く、他の材料との親和性を改善することができた。従っ
て、本発明の含フッ素ポリエーテルは化粧品、磁気記録
材料や、精密機械用の潤滑剤、繊維処理剤、自動車用塗
装面仕上げ剤をはじめとする広い用途に使用できる。
【0033】
【実施例】以下に実施例を挙げ更に詳しく本発明を説明
するが、本発明はこれらによってなんら限定されるもの
ではない。
するが、本発明はこれらによってなんら限定されるもの
ではない。
【0034】実施例1 式(a)
【0035】
【化7】
【0036】で表される含フッ素オリゴマー(特公平7
−2837号記載の方法により合成することができる)
10.0g(5.5mmol) 及びモレキュラーシーブス4Aで乾燥
したピリジン0.44g(5.5mmol) をモレキュラーシーブス
4Aで乾燥したフロン113(50ml)に溶かし、かき混
ぜながら、式(b)
−2837号記載の方法により合成することができる)
10.0g(5.5mmol) 及びモレキュラーシーブス4Aで乾燥
したピリジン0.44g(5.5mmol) をモレキュラーシーブス
4Aで乾燥したフロン113(50ml)に溶かし、かき混
ぜながら、式(b)
【0037】
【化8】
【0038】で表される含フッ素カルボン酸フロリド
(ダイキン化成販売(株)製、商標C−2404) 5.5 g
(6.6mmol) のフロン113(20ml)溶液を、10℃にて10
分間で滴下した。滴下後2時間攪拌した。なお、反応の
終了は、IR分析により酸フロリドの吸収(1880cm-1)
が消失し、エステル結合の吸収(1800cm-1) が出現した
ことにより確認した。反応終了後、1Nの硫酸で2回洗
浄した。フロン113で抽出し、芒硝で乾燥した後、溶
媒を減圧にて留去し、粗生成物を得た(14.9g)。粗生
成物をシリカゲルカラムにて精製することにより、下記
式(c) で表される無色透明の生成物を得た(12.6g、収
率87%)。
(ダイキン化成販売(株)製、商標C−2404) 5.5 g
(6.6mmol) のフロン113(20ml)溶液を、10℃にて10
分間で滴下した。滴下後2時間攪拌した。なお、反応の
終了は、IR分析により酸フロリドの吸収(1880cm-1)
が消失し、エステル結合の吸収(1800cm-1) が出現した
ことにより確認した。反応終了後、1Nの硫酸で2回洗
浄した。フロン113で抽出し、芒硝で乾燥した後、溶
媒を減圧にて留去し、粗生成物を得た(14.9g)。粗生
成物をシリカゲルカラムにて精製することにより、下記
式(c) で表される無色透明の生成物を得た(12.6g、収
率87%)。
【0039】
【化9】
【0040】生成物のIRチャートを図1に、 1H−N
MRチャートを図2に示す。IR分析値及び 1H−NM
R分析値は以下の通りである。 IR:2950、2900、1800、1460、1370、1260、1100、98
0 、850 、820 、7001 H−NMR:4.4〜3.9 及び3.75〜3.55ppm(CH,CH2) 、
3.4ppm(OCH3)。
MRチャートを図2に示す。IR分析値及び 1H−NM
R分析値は以下の通りである。 IR:2950、2900、1800、1460、1370、1260、1100、98
0 、850 、820 、7001 H−NMR:4.4〜3.9 及び3.75〜3.55ppm(CH,CH2) 、
3.4ppm(OCH3)。
【0041】実施例2 実施例1において式(a) で表される含フッ素オリゴマー
の代わりに、式(d)
の代わりに、式(d)
【0042】
【化10】
【0043】で表される含フッ素オリゴマーを用いる以
外はほぼ同様にして、目的とする式(e) で表される生成
物を得た(11.6g、収率75%)。
外はほぼ同様にして、目的とする式(e) で表される生成
物を得た(11.6g、収率75%)。
【0044】
【化11】
【0045】生成物のIR分析値及び 1H−NMR分析
値は以下の通りである。 IR:2960、2900、1800、1450、1370、1300、1250、12
00、1140、980 、810 、820 、740 、7001 H−NMR:4.4〜3.9 及び3.75〜3.55ppm(CH,CH2) 、
3.4ppm(OCH3)。
値は以下の通りである。 IR:2960、2900、1800、1450、1370、1300、1250、12
00、1140、980 、810 、820 、740 、7001 H−NMR:4.4〜3.9 及び3.75〜3.55ppm(CH,CH2) 、
3.4ppm(OCH3)。
【0046】実施例3 前記式(a) で表される含フッ素オリゴマー 10.0g(5.5mm
ol) に、式(f) F(CF2CF2CF2O)mCF2CF2CO2H (f) (m=30(平均値))で表される含フッ素カルボン酸34.0g
(6.6mmol)を加えて混合した。次いで濃硫酸5mlを加
え、攪拌下、1000℃で6時間反応を行った。なお、反応
の終了は、IR分析によりカルボン酸の1780cm-1の吸収
が消失し、1800cm-1のエステル結合の吸収が出現したこ
とにより確認した。反応終了後、2%NaHCO3 の水
溶液で洗浄した。フロン113で抽出し、芒硝で乾燥し
た後、溶媒を減圧にて留去し、粗生成物を得た(43.2
g)。粗生成物をシリカゲルカラムにて精製することに
より、下記式(g) で表される無色透明の生成物を得た
(27.5g、収率72%) 。
ol) に、式(f) F(CF2CF2CF2O)mCF2CF2CO2H (f) (m=30(平均値))で表される含フッ素カルボン酸34.0g
(6.6mmol)を加えて混合した。次いで濃硫酸5mlを加
え、攪拌下、1000℃で6時間反応を行った。なお、反応
の終了は、IR分析によりカルボン酸の1780cm-1の吸収
が消失し、1800cm-1のエステル結合の吸収が出現したこ
とにより確認した。反応終了後、2%NaHCO3 の水
溶液で洗浄した。フロン113で抽出し、芒硝で乾燥し
た後、溶媒を減圧にて留去し、粗生成物を得た(43.2
g)。粗生成物をシリカゲルカラムにて精製することに
より、下記式(g) で表される無色透明の生成物を得た
(27.5g、収率72%) 。
【0047】
【化12】
【0048】生成物のIR分析値及び 1H−NMR分析
値は以下の通りである。 IR:2950、2900、1800、1460、1360、1300、1200、11
00、1010、1000、980 、850 、820 、7001 H−NMR:4.4〜3.9 及び3.75〜3.55ppm(CH,CH2) 、
3.4ppm(OCH3)。
値は以下の通りである。 IR:2950、2900、1800、1460、1360、1300、1200、11
00、1010、1000、980 、850 、820 、7001 H−NMR:4.4〜3.9 及び3.75〜3.55ppm(CH,CH2) 、
3.4ppm(OCH3)。
【0049】実施例4 実施例1において、式(b) で表される含フッ素カルボン
酸フロリドの代わりに、式(h)
酸フロリドの代わりに、式(h)
【0050】
【化13】
【0051】で表される含フッ素カルボン酸フロリドを
用いる以外はほぼ同様にして、目的とする下記式(i) で
表される生成物を得た(12.0g、収率71%)。
用いる以外はほぼ同様にして、目的とする下記式(i) で
表される生成物を得た(12.0g、収率71%)。
【0052】
【化14】
【0053】生成物のIR分析値及び 1H−NMR分析
値は以下の通りである。 IR:2950、2900、1800、1450、1400、1350〜1100、98
0 、850 、820 、700 、6801 H−NMR:4.4〜3.9 及び3.75〜3.55ppm(CH,CH2) 、
3.4ppm(OCH3)。
値は以下の通りである。 IR:2950、2900、1800、1450、1400、1350〜1100、98
0 、850 、820 、700 、6801 H−NMR:4.4〜3.9 及び3.75〜3.55ppm(CH,CH2) 、
3.4ppm(OCH3)。
【0054】実施例5 実施例3において、式(f) で表される含フッ素カルボン
酸の代わりに、式(j)
酸の代わりに、式(j)
【0055】
【化15】
【0056】で表される含フッ素カルボン酸(アウジモ
ント(Ausimont)社製、商標フォンブリンZDIAC)を
用いる以外はほぼ同様にして、目的とする下記(k) で表
される生成物を得た(9.8g、収率68%)。
ント(Ausimont)社製、商標フォンブリンZDIAC)を
用いる以外はほぼ同様にして、目的とする下記(k) で表
される生成物を得た(9.8g、収率68%)。
【0057】
【化16】
【0058】生成物のIR分析値及び 1H−NMR分析
値は以下の通りである。 IR:2940、2900、1800、1450、1400、1350〜1100、98
0 、840 、820 、700 、6801 H−NMR:4.4〜3.9 及び3.75〜3.55ppm(CH,CH2) 、
3.4ppm(OCH3)。
値は以下の通りである。 IR:2940、2900、1800、1450、1400、1350〜1100、98
0 、840 、820 、700 、6801 H−NMR:4.4〜3.9 及び3.75〜3.55ppm(CH,CH2) 、
3.4ppm(OCH3)。
【0059】実施例6 実施例1において、式(b) で表される含フッ素カルボン
酸フロリドの代わりに式(l) C7F15COF (l) で表される含フッ素カルボン酸フロリド(セントラル薬
品(株)製、商標F06161)を用いる以外はほぼ同様にし
て、目的とする下記式(m) で表される生成物を得た(9.9
g、収率81%)。
酸フロリドの代わりに式(l) C7F15COF (l) で表される含フッ素カルボン酸フロリド(セントラル薬
品(株)製、商標F06161)を用いる以外はほぼ同様にし
て、目的とする下記式(m) で表される生成物を得た(9.9
g、収率81%)。
【0060】
【化17】
【0061】生成物のIR分析値及び 1H−NMR分析
値は以下の通りである。 IR:2950、2900、1800、1460、1430、1320〜1100、10
80、1050、1000、980 、900 、880 、850 、800 、700
、660 、560 、5201 H−NMR:4.4〜3.9 及び3.75〜3.55ppm(CH,CH2) 、
3.4ppm(OCH3) 試験例 上記実施例1〜6で得られた含フッ素ポリエーテル、表
1に示す比較例1及び2の含フッ素ポリエーテルについ
て、下記方法により接触角及び溶解性を測定した。結果
を表1に示す。
値は以下の通りである。 IR:2950、2900、1800、1460、1430、1320〜1100、10
80、1050、1000、980 、900 、880 、850 、800 、700
、660 、560 、5201 H−NMR:4.4〜3.9 及び3.75〜3.55ppm(CH,CH2) 、
3.4ppm(OCH3) 試験例 上記実施例1〜6で得られた含フッ素ポリエーテル、表
1に示す比較例1及び2の含フッ素ポリエーテルについ
て、下記方法により接触角及び溶解性を測定した。結果
を表1に示す。
【0062】<接触角の測定法>含フッ素ポリエーテル
のクロロホルム溶液を、ポリエチレンテレフタレートフ
ィルム表面に塗布し、デシケータ内にて常圧で一日以上
放置することにより乾燥したものを試料とし、協和界面
科学(株)製CA−D型接触角計を用いて水及びスクア
レンに対する接触角を測定した。
のクロロホルム溶液を、ポリエチレンテレフタレートフ
ィルム表面に塗布し、デシケータ内にて常圧で一日以上
放置することにより乾燥したものを試料とし、協和界面
科学(株)製CA−D型接触角計を用いて水及びスクア
レンに対する接触角を測定した。
【0063】<溶解性の測定法>含フッ素ポリエーテル
を表1に示す各種溶剤に対して10重量%加え、その溶解
性を、以下の評価基準で目視評価した。 ○:透明溶解 △:乳化 ×:不溶(分層)
を表1に示す各種溶剤に対して10重量%加え、その溶解
性を、以下の評価基準で目視評価した。 ○:透明溶解 △:乳化 ×:不溶(分層)
【0064】
【表1】
【図1】 実施例1で得られた生成物のIRチャートで
ある。
ある。
【図2】 実施例1で得られた生成物の 1H−NMRチ
ャートである。
ャートである。
Claims (7)
- 【請求項1】 一般式(1) で表される新規含フッ素ポリ
エーテル。 A−Q−B (1) 〔式中、 A:式 Y-Rf1- 又は D-O-Rf2- で表される基を示す。こ
こで -Rf1-は-CF2- 、-CF2O-、-C2F4O- 、-C3F6O- 及び
-CF(CF3)CF2O-からなる群より選択される少なくとも1
種の繰り返し単位を有し、その繰り返し単位の平均合計
数が2〜10000 である基を示す。-Rf2- は -CH2CH(CF3)
O-で表される繰り返し単位を有し、その繰り返し単位の
平均合計数が2〜5000である基を示す。Y 基は水素原子
又はフッ素原子を示す。D 基は直鎖又は分岐鎖の炭素数
1〜22のアルキル基もしくはアルケニル基を示すか、又
はアルキル基で置換されていてもよい総炭素数6〜24の
アリール基を示す。 B:式 -Rf1'-Y又は -Rf2'-O-Dで表される基を示す。こ
こで -Rf1'- は-CF2- 、-OCF2-、-OC2F4- 、-OC3F6-及
び-OCF2CF(CF3)-からなる群より選択される少なくとも
1種の繰り返し単位を有し、その繰り返し単位の平均合
計数が2〜10000 である基を示す。-Rf2'- は -OCH(C
F3)CH2-で表される繰り返し単位を有し、その繰り返し
単位の平均合計数が2〜5000である基を示す。Y 基及び
D基は前記の意味を示す。 Q:式 -Z-、-Z'-O-Rf1-Z-又は -Z-Rf2'-O-Rf2-Z'-で表
される基を示す。ここで -Z-は -C2F4CO- 、-CF2CO- 又
は-CF(CF3)CO- で表される基を示す。-Z'-は -COC2F4-
、-COCF2- 又は -COCF(CF3)- で表される基を示す。
但し、Q=-Z- の場合、A=Y-Rf1-、B= -Rf2'-O-Dで
あり、Q=-Z'-O-Rf1-Z-の場合、A=D-O-Rf2-、B= -
Rf2'-O-Dであり、Q= -Z-Rf2'-O-Rf2-Z'-の場合、A=
Y-Rf1-、B=-Rf1'-Yである。この場合において、-Rf1-
、-Rf2- 、 -Rf1'- 、-Rf2'-、Y 基及び D基は前記の
意味を示す。〕 - 【請求項2】 一般式(2) で表される新規含フッ素ポリ
エーテル。 F(CF(CF3)CF2O)mCF(CF3)COO(CH(CF3)CH2O)nD (2) 〔式中、 m:平均値を示す2〜50の数である。 n:平均値を示す2〜1000の数である。 D:前記の意味を示す。〕 - 【請求項3】 一般式(3) で表される新規含フッ素ポリ
エーテル。 F(C3F6O)mC2F4COO(CH(CF3)CH2O)nD (3) 〔式中、m, n, D :前記の意味を示す。〕 - 【請求項4】 一般式(4) で表される新規含フッ素ポリ
エーテル。 Y(CF2)qCF2COO(CH(CF3)CH2O)nD (4) 〔式中、 n,D, Y:前記の意味を示す。 q:平均値を示す0〜9の数である。〕 - 【請求項5】 一般式(5) で表される新規含フッ素ポリ
エーテル。 F(CF(CF3)CF2O)mCF(CF3)CO-(OCH(CF3)CH2)n- -O-(CH2CH(CF3)O)n-COCF(CF3)(OCF2CF(CF3))mF (5) (式中、m, n:前記の意味を示す。〕 - 【請求項6】 一般式(6) で表される新規含フッ素ポリ
エーテル。 D(OCH2CH(CF3))nOCOCF2O(CF(CF3)CF2O)p(CF2O)rCF2COO(CH(CF3)CH2O)nD (6) 〔式中、 n, D :前記の意味を示す。 p:平均値を示す1〜40の数である。 r:平均値を示す1〜10の数である。但し p+r =2〜5
0である。〕 - 【請求項7】 一般式(7) で表される新規含フッ素ポリ
エーテル。 D(OCH2CH(CF3))nOCOCF2O(C2F4O)p(CF
2O)rCF2COO(CH(CF3)CH2O)nD (7) 〔式中、n, p, r, D:前記の意味を示す。〕
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30730695A JPH09143274A (ja) | 1995-11-27 | 1995-11-27 | 新規含フッ素ポリエーテル |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30730695A JPH09143274A (ja) | 1995-11-27 | 1995-11-27 | 新規含フッ素ポリエーテル |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09143274A true JPH09143274A (ja) | 1997-06-03 |
Family
ID=17967568
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30730695A Pending JPH09143274A (ja) | 1995-11-27 | 1995-11-27 | 新規含フッ素ポリエーテル |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09143274A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107129557A (zh) * | 2017-04-21 | 2017-09-05 | 中科院广州化学有限公司南雄材料生产基地 | 一种含氟自清洁聚合物及其在疏水抗污涂料中的应用 |
-
1995
- 1995-11-27 JP JP30730695A patent/JPH09143274A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107129557A (zh) * | 2017-04-21 | 2017-09-05 | 中科院广州化学有限公司南雄材料生产基地 | 一种含氟自清洁聚合物及其在疏水抗污涂料中的应用 |
CN107129557B (zh) * | 2017-04-21 | 2019-03-22 | 中科院广州化学有限公司南雄材料生产基地 | 一种含氟自清洁聚合物及其在疏水抗污涂料中的应用 |
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