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JPH08335026A - 回折格子プロッター - Google Patents

回折格子プロッター

Info

Publication number
JPH08335026A
JPH08335026A JP14297895A JP14297895A JPH08335026A JP H08335026 A JPH08335026 A JP H08335026A JP 14297895 A JP14297895 A JP 14297895A JP 14297895 A JP14297895 A JP 14297895A JP H08335026 A JPH08335026 A JP H08335026A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser beam
diffraction grating
incident
laser
optical element
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP14297895A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshitaka Toda
敏貴 戸田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toppan Printing Co Ltd filed Critical Toppan Printing Co Ltd
Priority to JP14297895A priority Critical patent/JPH08335026A/ja
Publication of JPH08335026A publication Critical patent/JPH08335026A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/04Processes or apparatus for producing holograms
    • G03H1/0476Holographic printer
    • G03H2001/0482Interference based printer
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/04Processes or apparatus for producing holograms
    • G03H1/0493Special holograms not otherwise provided for, e.g. conoscopic, referenceless holography
    • G03H2001/0497Dot matrix holograms

Landscapes

  • Holo Graphy (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】小型・軽量であり、簡便な構成の回折格子プロ
ッターの提供。 【構成】分岐された2本のレーザービームを乾板上で同
一位置に交叉させる光学素子が、少なくとも1本のレー
ザービームを透過回折させる機能を有する回折光学素子
であると共に、光分岐手段と前記素子が1つのユニット
内に収められており、ユニット全体が、制御手段によっ
て、乾板が載置されたX−Yステージに垂直な軸を中心
に回動される構成の回折格子プロッター。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、基板の表面に微細な回
折格子(グレーティング)をセル(ドット)毎に配置す
ることにより形成される回折格子パターンを作製する装
置に関し、レーザービームの2光束干渉によって、略ド
ット状の回折格子からなるパターンを作製する装置(プ
ロッター)に関する。
【0002】
【従来の技術】コヒーレント光(レーザービーム)の2
光束干渉によって、基板の表面に回折格子からなる複数
の微少なドットを所望に配置し、回折格子パターンから
なるディスプレイを得る方法として、本出願人による特
開昭60−156004号公報・特開平2−72319
号公報・特開平5−72406号公報などに代表される
方法が公知である。
【0003】これらの方法は、2本のレーザービームを
感光材料上で交叉させ、ドット単位で露光することによ
り双方のレーザービームを干渉させて、各ドットに形成
される微少な干渉縞(回折格子)を、そのピッチ・方向
・光強度を適宜変化させて、次々と露光記録し、回折格
子ドット(セル)の集まりからなるパターンを作製する
方法である。
【0004】干渉縞(回折格子)は、感光材料に入射す
る2光束の角度によって、そのピッチ(空間周波数の逆
数)が変わり、干渉縞(回折格子)の方向は2光束の入
射する方向によって変わる。作製されたパターンの観察
時には、前記ピッチは見える色に、前記方向は見える方
向に、それぞれ関係する。また、露光の際の光強度は、
干渉縞の深さを変更することになり、観察時には見える
明るさとして関係することになる。
【0005】上記の作製方法においては、それぞれ以下
に示すような問題がある。 (1) 特開昭60−156004号公報 回折格子のピッチ・方向を適宜変化させる場合に、その
都度、光学系(露光ヘッド)を適宜移動する必要があ
る。本方法では、乾板がシリンダ表面に装着されてお
り、露光箇所の変更にあたっては、前記シリンダの回転
と露光ヘッドの水平移動(シリンダの軸方向)の双方に
よることになる。露光ヘッドの移動は、水平移動以外に
回転移動も必要とし、回転移動によって2本のレーザー
ビームの交叉する角度(回折格子の方向)を変更するこ
とになる。露光ヘッドは、その内部に比較的複雑な構成
の光学系(複数枚の光学レンズの集まりからなる、2本
のレーザービームを結像させる結像系)を具備してお
り、比較的大きく重い構成である。従って、露光ヘッド
の移動後には振動減衰のために長い待ち時間が必要とな
るだけでなく、外部からの振動の影響を受けやすい。こ
のため、パターンの作製に長時間を要するだけでなく、
安定性も良好でなく、均一な(精度がよい)回折格子が
作製しづらいという問題を有している。
【0006】(2) 特開平2−72319号公報 本方法では、レーザービームを、1本の参照光と複数本
の物体光とに分岐し、参照光と選択された1本の物体光
とを交叉させ、作製する回折格子のピッチを決めている
ことから、光の利用効率が低い(選択されない物体光は
損失分となる)という問題がある。加えて、それぞれの
物体光の光強度を均一にするのが難しいと共に、レーザ
ービーム(複数本の物体光それぞれと、参照光)を同位
置に交叉させるための調整作業が困難であるという問題
も有している。また、光学系が複雑であるため、露光ヘ
ッドとして1つのユニットにまとめた光学系全体を自由
に制御することはできず、露光箇所(および2本のレー
ザービームの交叉する角度)の変更にあたっては、感光
性フィルム(乾板)を載置したX−Yステージをコンピ
ューター制御で移動させている。さらに、レーザービー
ムを分岐する本数も、光学系の空間的な配置や光の利用
効率の問題から3本程度が限界である。そのため、回折
格子のピッチの種類は3種類程度に制限され、パターン
の多様化の上で制限を受けることになる。
【0007】(3) 特開平5−72406号公報 本公報に記載された回折格子プロッターは、パターン
(回折格子のピッチの種類)を多様化するために、2本
に分岐したレーザービームのうち1本を物体光として機
能させる際、乾板に入射する角度を任意に変更させるた
めに、所定方向に移動可能なミラーを用いて物体光の光
路を変調している。本方法においても、露光系の構成上
の理由より、露光箇所の変更にあたっては、乾板を載置
したX−Yステージをコンピューター制御で移動させて
いる。2本のレーザービームの交叉する角度(回折格子
の方向)は、乾板を載置したθステージをコンピュータ
ー制御で回転移動させて変更している。すなわち、本方
法では、乾板を載置したX−Y−θステージの移動によ
って、露光箇所および回折格子の方向を変更している。
本方法では、θステージの回転中心とレーザービームの
交叉位置とが一致するように調整しなければならず、そ
の負担が増えることになる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】上記したように、それ
ぞれの従来技術にはそれぞれ固有な問題を有しており、
それと共に、光学系に用いられるレンズとして、装置
(プロッター)をコンパクトにするためには、焦点距離
の短いレンズが必要であり、重量が増すばかりでなく、
収差によって回折格子の輪郭が所望とならないという問
題を有している。本発明は、 1)露光ヘッド部分が小型・軽量であり、簡便な装置構
成であり、 2)2光束の交叉角度を任意に変更でき、パターンの多
様化が自在であり、 3)調整作業の負担が少なく、高精度であり、 4)個々の輪郭が所望な回折格子を連続的に作製できる
ような、 回折格子プロッターを提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明の請求
項1に記載の回折格子プロッターは、(a)感光材料を
塗布した乾板が載置され、回折格子の配置データに基づ
いて当該乾板を移動させるX−Yステージと、(b)レ
ーザービームを発生するレーザー光源と、(c)レーザ
ー光源からのレーザービームを受け、その開閉によって
露光・非露光を制御するシャッターと、(d)シャッタ
ーを通過したレーザービームを2本に分岐する光分岐手
段と、(e)光分岐手段からの2本のレーザービームを
前記乾板上で同一位置に入射させる光学素子と、(f)
X−Yステージの移動およびシャッターの開閉をそれぞ
れ制御する制御手段、などを備え、レーザービームの2
光束干渉によって、略ドット状の回折格子を乾板表面に
露光作製し、所望に配置する回折格子プロッターにおい
て、光学素子(e)が、分岐された少なくとも1本のレ
ーザービームを透過回折させる機能を有する回折光学素
子であると共に、上記(d)(e)が1つのユニット内
に収められており、前記ユニット全体が、制御手段
(f)によって、X−Yステージ(a)に垂直な軸を中
心に回動される構成であることを特徴とする。
【0010】請求項2に記載の回折格子プロッターは、
光分岐手段(d)が、透過するレーザービームと反射す
るレーザービームとの2本に分岐するビーム・スプリッ
ターであり、前記ユニット内で移動する可動ステージ
に、ビーム・スプリッターまたはミラーを搭載し、反射
する側のレーザービームの光路を変調することにより、
乾板表面でのレーザービームの交叉角度を任意に変化さ
せることを特徴とする。
【0011】請求項3に記載の回折格子プロッターは、
光分岐手段(d)として、格子縞のピッチがセル毎に任
意に異なる回折格子セルが配置された回折格子を用い、
前記ユニット内で移動する可動ステージに前記光分岐手
段を搭載し、前記ステージの移動によって、レーザービ
ームの入射する回折格子セルを任意に変更することによ
って、分岐される2本のレーザービームの光路を変調
し、乾板表面でのレーザービームの交叉角度を任意に変
化させることを特徴とする。
【0012】
【作用】2本のレーザービームを結像(交叉)させる光
学素子が、回折光学素子であるため、従来のレンズに比
べて軽量・小型である。
【0013】前記光学素子が分岐されたレーザービーム
の1本だけを透過回折させ、他方のレーザービームは直
接乾板に入射する構成であると、露光ヘッド(ユニッ
ト)の構造が一層簡便になる。
【0014】露光ヘッド(ユニット)が軽量・簡便な構
造であるため、乾板に対して回動させた後に、振動減衰
のために長い待ち時間が必要となることはなく、外部か
らの振動の影響も受けにくい。
【0015】露光ヘッド(ユニット)内で移動する可動
ステージによってレーザービームの光路を変調するた
め、2光束の交叉角度を任意に変更できる。
【0016】
【実施例】以下、本発明の実施例について、図面を参照
して詳細に説明する。図1は、本発明による回折格子プ
ロッターの構成例を示す概要図である。すなわち、回折
格子を形成するための感光材料を塗布した乾板1が載置
され、当該乾板1を移動させるX−Yステージ2と、レ
ーザービーム3を発生するレーザー光源4と、レーザー
光源4からのレーザービーム3を受け、その開閉によっ
て露光/非露光を制御するシャッター5と、シャッター
5を通過したレーザービーム3を反射するミラー6と、
ミラー6で反射したレーザービーム3を2本に分岐した
後、分岐されたレーザービームを任意の角度で乾板1上
で同一位置に入射させる機能を有する露光ヘッド7と、
露光ヘッド7を乾板に垂直な軸を中心に回転させる回転
駆動装置8と、パターンの作製データに基づいて、X−
Yステージ2の移動・シャッター5の開閉・露光ヘッド
7の回転駆動装置8、などをそれぞれ制御する制御手段
であるコントローラ9とから構成されている。
【0017】<実施例1>図2・図3は、レーザービー
ム3の光軸を含む露光ヘッド7の周辺を示す断面説明図
である。すなわち、露光ヘッド7に入射したレーザービ
ーム3は、光分岐手段であるハーフミラー10によっ
て、透過するレーザービーム31と反射するレーザービ
ーム32に分けられ、レーザービーム31は直接乾板1
に入射し、レーザービーム32はミラー12を経由し
て、2光束を結像(交叉)させる光学素子である回折光
学素子13に入射し、回折光学素子13での透過回折に
よって乾板1上のレーザービーム31と同位置に入射す
る。
【0018】ここで、ハーフミラー10は、露光ヘッド
7内を移動する可動ステージ11に載置されており、コ
ントローラ9によって、前記ステージ11を光軸方向に
移動制御することにより、レーザービーム32の回折光
学素子13への入射位置(入射角度)を変えることがで
きる。
【0019】回折光学素子13は、入射したレーザービ
ーム32を、常に乾板1上の同位置に入射させるように
透過回折させる機能を有している。
【0020】従って、図2〜図3に示すように、可動ス
テージ11の駆動により、レーザービーム32の光路を
変調でき、乾板1上での2光束の交叉角度を任意に変更
することができる。
【0021】レーザービームの2光束の入射角と形成さ
れる回折格子には、下記式のような関係がある。 λ=d(sinα−sinθ) ここで、λはレーザービームの波長、dは形成される回
折格子のピッチ(空間周波数の逆数)、αはレーザービ
ーム31の乾板1への入射角度、θはレーザービーム3
2の乾板1への入射角度である。
【0022】本実施例では、αは一定であるため、形成
される回折格子のピッチはθに依存して任意に変更され
る。
【0023】図4は、本実施例における、露光ヘッド7
から乾板1に到るレーザービームの光路を示す斜視説明
図である。入射したレーザービーム3、分岐後のレーザ
ービーム31・32が全て面60上にあり、形成される
回折格子は、面60と乾板1の表面とが交わる線と垂直
な方向の格子縞となる。
【0024】このとき、レーザービーム3(および3
1)の光路を回転軸にこの系を回転しても、図示された
系の相対関係は維持されており、乾板1上に形成される
回折格子の方向は、面60の回転に依存して決まること
になる。
【0025】従って、回転駆動装置8を制御することに
より、面60、すなわち露光ヘッドを回転させ、レーザ
ービーム31・32の乾板1への入射面を変えることが
でき、形成される回折格子の向きは、面60に垂直な向
きになるため、任意の方向の回折格子が作製可能であ
る。
【0026】以上のように、本発明の回折格子プロッタ
ーでは、1回のシャッター5の開閉により、レーザービ
ーム31・32の2光束干渉が行われ、乾板1上に1つ
のドット状の回折格子が作製される。
【0027】従って、1ドット毎に予め用意されたデー
タを読み込みながら、そのデータに基づき、回折格子の
ピッチや方向を決定し、これを実現するようにX−Yス
テージ2や回転駆動装置8、ステージ11を移動もしく
は回転させてから、シャッター5の開閉を行い、これら
の操作をコントローラ9により自動で連続して行うこと
により、回折格子から成る物品が作製できる。
【0028】図5に、回折光学素子13の一例を示す。
同図では、回折光学素子13は、徐々にピッチが変化し
ている直線状の回折格子からなり、前記ピッチは、分岐
後のレーザービーム32の回折光学素子13への入射位
置(入射角度)、および透過回折して出射する角度に依
存している。
【0029】図6に、回折光学素子13の他例を示す。
同図では、回折光学素子は、回折格子セル14が複数個
並べて配置された構成である。各セル14では、それぞ
れの位置に対応して、分岐後のレーザービーム32の回
折光学素子13への入射角度および透過回折して出射す
る角度に依存して、回折格子のピッチが決められている
が、各セル14内では一定のピッチである。
【0030】上記のような回折光学素子13では、回折
光学素子13への分岐後のレーザービーム32の入射位
置(入射角度)が変化しても、乾板1上での入射位置は
変わらないように設計されているため、前記の入射位置
(入射角度)の変化は乾板1への入射角度(2光束の交
叉角度)の変化となる。
【0031】回折光学素子13として、ブレーズド型を
含む位相変調型のホログラフィック光学素子などの、高
い回折効率のものを使用することで、レーザー光の損失
が少なくなる。
【0032】<実施例2>図7・図8は、本発明の別の
実施例における、レーザービーム3の光軸を含む露光ヘ
ッド7の周辺を示す断面説明図である。すなわち、露光
ヘッド7に入射したレーザービーム3は、光分岐手段で
あるビームスプリッター40によって、透過するレーザ
ービーム31と反射するレーザービーム32に分けら
れ、レーザービーム31は直接乾板1に入射し、レーザ
ービーム32はミラー12を経由して、2光束を結像
(交叉)させる光学素子である回折光学素子13に入射
し、回折光学素子13での透過回折によって乾板1上の
レーザービーム31と同位置に入射する。
【0033】ここで、ミラー12は、露光ヘッド7内を
移動する可動ステージ11に載置されており、コントロ
ーラ9によって、前記ステージ11を光軸方向に移動制
御することにより、レーザービーム32の回折光学素子
13への入射位置(入射角度)を変えることができる。
【0034】回折光学素子13は、入射したレーザービ
ーム32を、常に乾板1上の同位置に入射させるように
透過回折させる機能を有している。
【0035】従って、図7〜図8に示すように、可動ス
テージ11の駆動により、レーザービーム32の光路を
変調でき、乾板1上での2光束の交叉角度を任意に変更
することができる。
【0036】<実施例3>図9・図10は、本発明の別
の実施例における、レーザービーム3の光軸を含む露光
ヘッド7の周辺を示す断面説明図である。すなわち、レ
ーザービーム3は、光分岐手段である回折格子アレイ5
1に形成された回折格子50に入射し、0次の回折光
(透過光)であるレーザービーム30と、±1次の回折
光であるレーザービーム31・32に分岐され、露光干
渉に用いないレーザービーム30は遮光板52で遮光さ
れ、レーザービーム31・32は、それぞれ回折光学素
子13・14を経由して、乾板1上の同位置に入射す
る。
【0037】ここで、回折光学素子13・14は、同一
の素子をレーザービーム3の光軸に対し、対称に配置し
たものである。
【0038】回折格子アレイ51は、図6に示されるよ
うに、空間周波数(ピッチ)の異なる回折格子50が複
数配置された構成である。
【0039】回折格子アレイ51は、露光ヘッド7内を
移動する可動ステージ11に載置されており、コントロ
ーラ9によって位置制御される。それによって、レーザ
ービーム3が入射する回折格子50を変更することがで
き、空間周波数(ピッチ)の異なる回折格子は50は、
入射するレーザービーム3を異なる角度で光を回折する
(±1次の2本ずつの回折光)ため、レーザービーム3
1・32の回折光学素子13・14への入射位置(入射
角度)を変えることができ、回折光学素子13・14に
より回折したレーザービーム31・32は、常に乾板1
上の同位置に入射し、交叉するようになる。
【0040】従って、図9〜図10に示すように、可動
ステージ11の駆動により、レーザービーム31・32
の光路を変調でき、乾板1上での2光束の交叉角度を任
意に変更することができる。
【0041】尚、本発明は、上述した実施例に限定され
るものではなく、以下に例示するようにしても同様に実
施することができる。 (a)光分岐手段として、ハーフミラー10・ビームス
プリッター40・回折格子50を使用する例に限らず、
光を2本以上に効率よく分岐するものであればよい。 (b)光分岐手段を、ステージ11により直線的に移動
させる場合に限らず、入射するレーザービーム3に対し
て、相対的な角度変化として制御が可能なステージに載
置してもよい。この場合、光分岐手段として図2のよう
なハーフミラーを用いるとき、ハーフミラーの角度変化
によって、反射するレーザービーム32の反射角度が変
わり、それに依存して回折光学素子13への入射位置
(入射角度が変わることになり、上述した実施例と同様
に、乾板1への2光束の入射角度の制御が可能となる。 (c)光分岐手段として、音響光学素子中に音波(超音
波を含む)を伝搬させて回折格子として用い、この音波
の周波数をコントローラで制御することによって、回折
格子の空間周波数を変えて用いてもよい。この場合、可
動部分が少なくなるため系が一層安定し、さらに音波の
周波数を連続的に変化させれば、レーザービーム31・
32の交叉角度を連続的に変化させる(1ドット内で
も)ことも可能である。
【0042】
【発明の効果】本発明は、以下に挙げるような利点を有
する。 (a)レーザービームを光分岐手段で分岐した後、ほと
んど損失なく、2光束干渉に利用できるため、光の利用
効率が高く、従って、露光時間も短くてすみ、振動など
の影響に強い。 (b)安定した系である露光ヘッドを回転させること
で、回折格子の方向を任意にできる。 (c)レンズ類を使用していないため、レンズ類の収差
などの影響を避けることができる。 (d)装置の小型化・軽量化・および自動化を図ること
が可能となり、特に露光ヘッドは、非常に小型・軽量に
でき、装置の安定性が高く、高精度な回折格子の作製が
できる。
【0043】従って、本発明によって、 1)露光ヘッド部分が小型・軽量であり、簡便な装置構
成であり、 2)2光束の交叉角度を任意に変更でき、パターンの多
様化が自在であり、 3)調整作業の負担が少なく、高精度であり、 4)個々の輪郭が所望な回折格子を連続的に作製できる
ような、 上記の全てを満足する回折格子プロッターが提供され
る。
【0044】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による回折格子プロッターの概要を示す
全体構成図。
【図2】実施例1にかかる露光ヘッドを示す断面説明
図。
【図3】実施例1にかかる露光ヘッドを示す断面説明
図。
【図4】露光ヘッドから乾板に到るレーザービームの光
路を示す斜視説明図。
【図5】回折光学素子の一例を示す説明図。
【図6】回折光学素子の他例を示す説明図。
【図7】実施例2にかかる露光ヘッドを示す断面説明
図。
【図8】実施例2にかかる露光ヘッドを示す断面説明
図。
【図9】実施例3にかかる露光ヘッドを示す断面説明
図。
【図10】実施例3にかかる露光ヘッドを示す断面説明
図。
【符号の説明】
1…乾板 2…X−Yステージ 3…レーザービーム 4…レーザー光源 5…シャッター 6…ミラー 7…露光ヘッド 8…回転駆動装置 9…コントローラ 10…ハーフミラー 11…ステージ 12…ミラー 13,14…回折光学素子 30,31,32…レーザービーム 40…ビームスプリッター 50…回折格子 51…回折格子アレイ 52…遮光板

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】(a)感光材料を塗布した乾板が載置さ
    れ、回折格子の配置データに基づいて当該乾板を移動さ
    せるX−Yステージと、 (b)レーザービームを発生するレーザー光源と、 (c)レーザー光源からのレーザービームを受け、その
    開閉によって露光・非露光を制御するシャッターと、 (d)シャッターを通過したレーザービームを2本に分
    岐する光分岐手段と、 (e)光分岐手段からの2本のレーザービームを前記乾
    板上で同一位置に入射させる光学素子と、 (f)X−Yステージの移動およびシャッターの開閉を
    それぞれ制御する制御手段、 などを備え、レーザービームの2光束干渉によって、略
    ドット状の回折格子を乾板表面に露光作製し、所望に配
    置する回折格子プロッターにおいて、 光学素子(e)が、分岐された少なくとも1本のレーザ
    ービームを透過回折させる機能を有する回折光学素子で
    あると共に、上記(d)(e)が1つのユニット内に収
    められており、前記ユニット全体が、制御手段(f)に
    よって、X−Yステージ(a)に垂直な軸を中心に回動
    される構成であることを特徴とする回折格子プロッタ
    ー。
  2. 【請求項2】光分岐手段(d)が、透過するレーザービ
    ームと反射するレーザービームとの2本に分岐するビー
    ム・スプリッターであり、 前記ユニット内で移動する可動ステージに、ビーム・ス
    プリッターまたはミラーを搭載し、 反射する側のレーザービームの光路を変調することによ
    り、乾板表面でのレーザービームの交叉角度を任意に変
    化させることを特徴とする請求項1記載の回折格子プロ
    ッター。
  3. 【請求項3】光分岐手段(d)として、格子縞のピッチ
    がセル毎に任意に異なる回折格子セルが配置された回折
    格子を用い、 前記ユニット内で移動する可動ステージに前記光分岐手
    段を搭載し、前記ステージの移動によって、レーザービ
    ームの入射する回折格子セルを任意に変更することによ
    って、 分岐される2本のレーザービームの光路を変調し、乾板
    表面でのレーザービームの交叉角度を任意に変化させる
    ことを特徴とする請求項1記載の回折格子プロッター。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005121840A (ja) * 2003-10-15 2005-05-12 Dainippon Printing Co Ltd 光学システム、該光学システムを用いたホログラム形成方法、およびホログラム

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005121840A (ja) * 2003-10-15 2005-05-12 Dainippon Printing Co Ltd 光学システム、該光学システムを用いたホログラム形成方法、およびホログラム

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