JPH083143B2 - クロム―窒素合金表面コーティング及びその形成方法 - Google Patents
クロム―窒素合金表面コーティング及びその形成方法Info
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Description
平衡のクロム−窒素合金表面コーティングに関する。本
発明はさらに、そのようなコーティングの塗布方法に関
する。
用語は、時間の経過に伴い進行していく表面又はコーテ
ィングの摩擦の態様を決定する性質をいう。この態様を
表すパラメーターには、摩擦摩耗率及び摩擦係数が含ま
れる。
擦であり、潤滑剤のフィルムが二つの固体表面間に介在
し、フィルム中の潤滑剤層の間に相対的な運動が生じる
場合の潤滑化摩擦ではない。
では、摩耗抵抗性は、摩擦表面の高い硬度を意味する。
しかしながら、摩擦コーティングの硬度の増加は、通
常、腐食による早期摩耗の危険と共に脆性を増加する。
劣化エネルギーが増加するので、摩耗率と摩擦係数の間
には一定の関連があり、摩耗率は劣化エネルギーに比例
する。
は、付与されたエネルギーのほんの少量の部分のみを表
す。その後、さらに重要なことには、摩擦係数を単独で
減少するよりも、むしろ硬度、脆性、及び摩擦特性に依
存する摩耗特性全体の減少を試みることがより重要とな
る。
に摩耗抵抗性が良好であること、例えば脆性のコーティ
ングが腐食により摩耗することに対する抵抗性が良好で
あることを意味する。典型的な試験には、摩耗率の測
定、水中において20daNの深で平らなコーティング上を
0.55m/sの速度でスライドする高速の鋼製の環に接触さ
せた平らなコーティング上の材料の除去速度の測定が含
まれる。
P−A−0 074 322には、良好な摩擦特性を有し、クロム
及びクロムの準安定性の侵入型固溶体の炭素又は窒素の
形態の合金元素を、クロム中の合金元素の平衡固溶体の
飽和を示す最小濃度と、侵入型固溶体中の飽和を示す最
大濃度の間の濃度で含む合金が記載されている。
いる。この系においては、窒素の含有量は、クロム−窒
素合金原子の100原子当たりの窒素原子の数として表さ
れる。
素含量を増加する方向に移動すると、合金100原子当た
り0〜0.15原子の窒素を有する固溶体領域に、合金100
原子当たり窒素33.3原子のCr2N窒化物領域が続き、さら
に合金100原子当たり窒素50原子のCrN窒化物領域が続
く。Cr2N窒化物は、六方晶構造を有し、CrN窒化物はNaC
l型の立方晶構造を有する。このCrN窒化物はセラミック
の特性の全てを有する。立方晶クロム層及び六方晶Cr2N
窒化物相を有する2相のクロム−窒素合金は、通常の方
法により製造される。
2の文献は、特に、実質的に12原子%の窒素を表す窒素
3.5重量%に対するクロム中の窒素の準安定性の侵入型
固溶体の飽和を示唆する。これらの文献は侵入型固溶体
がクロムの硬度よりはるかに高い硬度を有すること(ビ
ッカース硬度2200以下、例えばクロムのビッカース硬度
は600である)、及び侵入固溶体の飽和度より合金原子
の濃度が大きい場合は、合金の組成は平衡図から予期さ
れるようになることを示唆する。
するが調和しない状態、又は自由な状態で合金元素を含
む稀ガスからなる雰囲気中、減圧下、高速の陰極スパッ
ターを行うことにより得られる。
を引き起こし、これは硬度の向上に寄与しうる。
り、クロム−窒素系内で上記の侵入型固溶体よりも多い
窒素を含み、及び減少した摩耗率、脆性がないこと、及
び比較的低い摩擦係数とともに得られることを見出し
た。
原子のクロム原子、及び13〜32原子の窒素原子を含み、
且つ、介在窒素を含む立方晶微結晶性クロム相、及びCr
2N窒化物についての化学量論量に比べて窒素が欠乏して
いる正方晶窒化クロム相の2相を含む非平衡のクロム−
窒素合金を含む基材上に良好な摩擦特性を付与するため
のコーティングからなる。
のヌープ硬度)を有し、公知の比較しうる硬度のクロム
−窒素合金と比べて重要な利点を有する: 即ち、摩耗率が飽和の付近でクロム中の窒素の侵入型
固溶体の1/3以下であり、 摩耗率がCrN及びCr2N窒化物の摩耗率、並びにクロム
及びCr2N窒化物からなる2相化合物の摩耗率と実質的に
同じであるが、平衡窒化化合物よりも脆性がかなり低
く、脆性によりスケールが見られないため有効寿命がは
るかに長く、 物理的蒸気相付着を用いる場合に、粒径が基材への付
着の入射角には影響されない。このことは、同じ方法を
用いる慣用の付着においては、粒径が入射角より著しく
変化することと対照的である。この粒径と入射角との独
立性により、基材の表面の全ての部分が同じ入射角で付
着される配置で使用される必要なしに、比較的複雑な形
の基板への付着が促進される。
いは、結晶構造のX線回折により、及び例えばそれらの
全組成が同じである場合にさえ窒化物相が正方晶である
か六方晶であるかによって2相合金の性質が明らかに異
なることにより確認される。しかしながら、正方晶窒化
物の化学組成を調べることは現在では不可能である。特
に、窒化物の準安定性が相分離を非常に困難にしてお
り、組成の再配列をもたらす危険を伴うことは容易に理
解されるであろう。いずれにしても、窒化物の化学組成
が科学的な好奇心のためのものにすぎず、該窒化物の同
定又は獲得は実際には行うことができないことに注意す
べきである。
る。結晶格子定数の比は、1.02〜1.5でなければならな
いが、この範囲内で好ましい値は特記されていない。
り好ましくは5〜20μmである。この厚さは摩耗率、目
的とする用途及び許容されうる許容性に依存する。より
薄いコーティングを用いる場合には、合金の粒径を考慮
にいれるべきである。
ス中の窒素の反応性雰囲気中、マグネトロンスパッター
手段を備えた室内で、陽極基材と陰極クロムターゲット
の間に形成させた電場を磁場と組み合わせて使用して、
プラズマを発生させながら、非平衡のクロム−窒素合金
が付着されるような操作条件でクロムをスパッタリング
することを含む導電性基材上に良好な摩擦特性を付与す
るために該基材をコーティングする方法であって、該方
法において、稀ガス中の窒素分圧を、1相合金が介在窒
素で飽和される予め決められる最低限の圧力と、六方晶
の窒化クロム(Cr2N)が形成され始める予め決められる
最大限の圧力との間に設定し、その結果、合金が100原
子当たり87〜68原子のクロム原子、及び13〜32原子の窒
素原子を含み、且つ、介在窒素を含む立方晶微結晶性ク
ロム相、及び六方晶窒化クロムについての化学量論量に
比べて窒素が欠乏している正方晶窒化クロム相の2相を
含む非平衡のクロム−窒素合金を含むことを特徴とする
方法からなる。
り平衡合金を表す絶対的な最小値から離れた、相対的内
部結晶化エネルギーを有する準安定性合金の形成は、結
晶内の原子配列がそれらの付着形状に固定されるのに十
分な付着率を意味する。
材の届くイオン化クロム及び窒素原子の角フラックス及
びこれらの原子のエネルギーレベルである。支配する法
則はよく知られていないが、実際には、オペレーターが
測定しうる付着パラメーター、即ち室内の全圧、窒息分
圧、放電を横切る電位降下、放電の強度、及びある程度
まではイオンの軌道を変化させるだけでよい。これらの
パラメーターは部分的には放電領域において相互に依存
し合い、オペレーターは総括的なパラメーターを調整す
る。
ンプシステムに常時結合される室内のガス流入量の調整
により得られる。圧力の分配は室内では均一であり得な
いと理解されるであろう。さらに放電領域における種々
の要因(ターゲット及び基材の支持)及び放電自体の存
在が局所的な圧力の変動を引き起こす。
び最大圧力は、実験的に決定されなければならず、特別
なスパッター室及び特別な付着条件によってのみ変化し
うる。
びプラズマの電力量については、前記室中、前記操作条
件で、特にクロムの基材への適当な付着率が得られるよ
うに室内の全圧及びプラズマ発生電力が基材上にクロム
が適当な速度で付着されるように設定して、前記室及び
前記操作条件についての窒素分圧の最小値及び最大値を
決定するために、多数の基材上へ多数の付着を窒素分圧
を変動させながら行い、得られた付着物に結晶学的分析
を行うのが好ましい。
分圧は好ましくは0.01〜0.1Paである。
について250〜1200w/dm2である。
関する下記の記載から明らかである。
ネトロン陰極スッター真空蒸着装置を使用した。
ロムである。室内の雰囲気は、0.24Paの全圧のアルゴン
及び窒素の混合物である。
して使用した。陰極の電力量は1800Wに設定した。
ティングが得られた。これは3nm/sの付着率を示す。
Paに増加させながらコーティングした。
比較的強い格子の歪みを有する立方晶の単一相の合金を
示す。これは、EP−A−0074322号の書類に記載された
合金に典型的な図であった。
ては、該図は0.03Paで生成した合金に類似する立方晶を
有し、微細な結晶に典型的な線の拡大を有する2相合金
を示す。他の相は、1.1〜1.3の格子定数比を有する正方
晶構造を有していた。
(クロム)及び六方晶相(公知のCr2N窒化物)を有する
2相の合金を示した。
晶窒化物相を有する2相合金が形成する窒素分圧の最小
値及び最大値が、各々0.035及び0.085Paであることが推
測されうる。0.03、0.04、0.08及び0.09Paの窒素分圧で
得られたコーティングの化学分析は、これらの限定に対
応する窒素原子の比率が実質的に13原子%及び32原子%
であること(可能な測定の精密度において)を示す。本
方法により決定された分圧の限定は、本実施例の操作条
件についてのみ有効であることに注意すべきである。
0.2Paとし、窒素分圧は0.04Paとした。
た。
化物であり、(絶対)格子パラメーターは下記のとおり
である。
作条件をわずかに変化させた。
られた。
物を有する2相構造: a=280.7pm c=350.4pm 比 1.25 ヌープ硬度: 2300 実施例4 14dm2の陰極を有する1m3の真空蒸着室を使用した。
テーブルに載せた。
物を有する2相構造: a=286.5pm c=321.7pm ヌープ硬度: 1800 輝かしい外観(微細な粒を意味する) 実施例5 平行なパイプ状の鋼サンプル上に10μmの厚さのコー
ティングについて試験を行った。他の摩擦部材は、高速
鋼環であり、摩擦は水中で0.55m/sの速度で、20daNの負
荷で生じさせた。摩擦部材の間の接触は、平面/シリン
ダー型であった。摩擦係数及び摩耗率を調べた。
(クロム)を有する過飽和固溶体の形態の単一相のクロ
ム−窒素合金コーティング C)クロム相及び立方晶Cr2N窒化クロム相を有する2相
のクロム−窒素合金 結果を下記に示す。
は摩擦領域内に欠陥のない磨かれた外観を有していた。
耗する前に中断されなければならず、これは約40分間で
生じた。
20分後に中断すなければならなかった。プロファイルプ
ロジェクション及び摩擦領域のスキャンニング電子顕微
鏡により、その脆性の原因となりうるコーティングのス
ケールが見出された。タイプCの層の脆性は、負荷を増
加させていきながら、ダイヤモンド圧子を用いる試験下
で表面を摩擦すること及び生じる雑音のレベルを測定す
ること含むスクラッチ試験により示された。タイプAの
コーティングについては、圧子がコーティングを貫通し
て基材に達するまで雑音が生じなかった。しかしなが
ら、タイプCのコーティングについては、圧子は雑音を
生じるスケールを引き起こした。
の試験は特に、正方晶窒化物が現れうる領域の境界を決
定することに関し、窒素の濃度がクロム中の侵入型固溶
体の飽和直後の13原子%からの範囲であること、及び32
原子%を越えると公知の熱力学的に安定な六方晶Cr2N窒
化物のみが形成されることを示す。このことにより、正
方晶窒化物がクロムと組み合わされた場合にのみ安定で
ありうることが提案される。
又は1.5を越えることはできないことも示した。
さの増加率により表され、これは1〜10mm/sである。
極(又はターゲット)の250〜1200w/dm2である。最も適
する圧力は、全圧が0.1〜0.5Paであり、窒素分圧が0.01
〜0.1Paである。
に速く摩耗することが見出されている。それらの持続性
は、基材が完全に磨かれていない場合には疑わしい。他
方、50μm以上の厚さの場合は、通常摩擦に抵抗するの
に適当な厚さより多いが、それらを得るための時間が長
く成り過ぎるであろう。また、そのようなコーティング
は、基材のもとの寸法に深刻な変化を与えるかもしれな
い。
れうる。
はなく、特許請求の範囲に記載された全範囲を包含する
ものである。
Claims (9)
- 【請求項1】100原子当たり87〜68原子のクロム原子、
及び13〜32原子の窒素原子を含み、且つ、介在窒素を含
む立方晶微結晶性クロム相、及びCr2N窒化物についての
化学量論量に比べて窒素が欠乏している正方晶窒化クロ
ム相の2相を含む非平衡のクロム−窒素合金を含む基材
上に良好な摩擦特性を付与するためのコーティング。 - 【請求項2】正方晶窒化物の格子定数の比が、1.02〜1.
5である請求項(1)記載のコーティング。 - 【請求項3】厚さが0.1〜50μmである請求項(1)記
載のコーティング。 - 【請求項4】厚さが5〜20μmである請求項(3)記載
のコーティング。 - 【請求項5】低圧に規制された稀ガス中の窒素の反応性
雰囲気中、マグネトロンスパッター手段を備えた室内
で、陽極基材と陰極クロムターゲットの間に形成させた
電場を磁場と組み合わせて使用して、プラズマを発生さ
せながら、非平衡のクロム−窒素合金が付着されるよう
な操作条件でクロムをスパッタリングすることを含む導
電性基材上に良好な摩擦特性を付与するために該基材を
コーティングする方法であって、該方法において、稀ガ
ス中の窒素分圧を、1相合金が介在窒素で飽和される予
め決められる最低限の圧力と、六方晶の窒化クロム(Cr
2N)が形成され始める予め決められる最大限の圧力との
間に設定し、その結果、合金が100原子当たり87〜68原
子のクロム原子、及び13〜32原子の窒素原子を含み、且
つ、介在窒素を含む立方晶微結晶性クロム相、及び六方
晶窒化クロムについての化学量論量に比べて窒素が欠乏
している正方晶窒化クロム相の2相を含む非平衡のクロ
ム−窒素合金を含むことを特徴とする方法。 - 【請求項6】クロムの基材への適当な付着率が得られる
ような室及び操作条件、特に室内の全圧及びプラズマ発
生電力で、前記室及び前記操作条件についての窒素分圧
の最小値及び最大値を決定するために、多数の基材上へ
多数の付着を窒素分圧を変動させながら行い、得られた
付着物に結晶学的分析を行うことを特徴とする請求項
(5)記載の方法。 - 【請求項7】稀ガスの圧力が0.1〜0.5Paであり、窒素分
圧が0.01〜0.1Paであることを特徴とする請求項(5)
記載の方法。 - 【請求項8】電力量が陰極表面に対して250〜1200w/dm2
であることを特徴とする請求項(5)記載の方法。 - 【請求項9】付着の厚さの増加率が1〜10nm/sであるこ
とを特徴とする請求項(5)記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR8913739A FR2653452B1 (fr) | 1989-10-20 | 1989-10-20 | Revetement de substrat, pour conferer a celui-ci de bonnes proprietes tribologiques, en alliage chrome-azote, et procede d'obtention. |
FR8913739 | 1989-10-20 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03140461A JPH03140461A (ja) | 1991-06-14 |
JPH083143B2 true JPH083143B2 (ja) | 1996-01-17 |
Family
ID=9386596
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2278879A Expired - Lifetime JPH083143B2 (ja) | 1989-10-20 | 1990-10-17 | クロム―窒素合金表面コーティング及びその形成方法 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5160537A (ja) |
EP (1) | EP0425336B1 (ja) |
JP (1) | JPH083143B2 (ja) |
KR (1) | KR960015374B1 (ja) |
BR (1) | BR9005291A (ja) |
CA (1) | CA2027972C (ja) |
DE (1) | DE69010305T2 (ja) |
ES (1) | ES2058851T3 (ja) |
FR (1) | FR2653452B1 (ja) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1068388C (zh) * | 1994-07-30 | 2001-07-11 | 株式会社理研 | 滑动部件 |
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US9416434B2 (en) * | 2012-03-16 | 2016-08-16 | Tpr Co., Ltd. | High-toughness coating film and sliding member |
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Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2512070A1 (fr) * | 1981-09-03 | 1983-03-04 | Commissariat Energie Atomique | Couche de chrome de haute durete, capable de resister a la fois a l'usure, a la deformation, a la fatigue des surfaces et a la corrosion |
JPS6287423A (ja) * | 1985-10-11 | 1987-04-21 | Olympus Optical Co Ltd | 光学素子成形用型 |
-
1989
- 1989-10-20 FR FR8913739A patent/FR2653452B1/fr not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-10-11 ES ES90402840T patent/ES2058851T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1990-10-11 DE DE69010305T patent/DE69010305T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-10-11 EP EP90402840A patent/EP0425336B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1990-10-16 US US07/597,011 patent/US5160537A/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-10-17 KR KR1019900016548A patent/KR960015374B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1990-10-17 JP JP2278879A patent/JPH083143B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1990-10-18 CA CA002027972A patent/CA2027972C/fr not_active Expired - Lifetime
- 1990-10-19 BR BR909005291A patent/BR9005291A/pt not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA2027972A1 (fr) | 1991-04-21 |
EP0425336B1 (fr) | 1994-06-29 |
DE69010305T2 (de) | 1994-10-13 |
KR910008161A (ko) | 1991-05-30 |
US5160537A (en) | 1992-11-03 |
CA2027972C (fr) | 2000-01-18 |
ES2058851T3 (es) | 1994-11-01 |
FR2653452B1 (fr) | 1992-01-24 |
JPH03140461A (ja) | 1991-06-14 |
DE69010305D1 (de) | 1994-08-04 |
EP0425336A1 (fr) | 1991-05-02 |
KR960015374B1 (ko) | 1996-11-11 |
FR2653452A1 (fr) | 1991-04-26 |
BR9005291A (pt) | 1991-09-17 |
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