JPH08241940A - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
半導体装置およびその製造方法Info
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- JPH08241940A JPH08241940A JP7070509A JP7050995A JPH08241940A JP H08241940 A JPH08241940 A JP H08241940A JP 7070509 A JP7070509 A JP 7070509A JP 7050995 A JP7050995 A JP 7050995A JP H08241940 A JPH08241940 A JP H08241940A
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- H—ELECTRICITY
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- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
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- H01L2924/14—Integrated circuits
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
- Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 多ピンで高い放熱性能のBGA・ICを安価
に提供する。 【構成】 低熱抵抗形のBGA・IC53はペレット3
1が配線基板10にフエイスダウンに配置されて内部端
子12群にTABでボンディングされ、ペレットの反対
側主面にヒートスプレッタ6が接続されており、ヒート
スプレッタ6には配線基板10のペレット側主面に固定
されたアンカー4に他端連結のスプリング7の一端が連
結されている。その製造に際してはヒートスプレッタ6
を独立懸架したアンカー4がフレームに吊持された単位
ヒートスプレッタフレームを多連に成形し、各単位フレ
ーム毎に配線基板10が組み付けられる。 【効果】 ペレットの発熱はヒートスプレッタに熱伝導
で伝達されるため、ペレットは効果的に冷却される。ヒ
ートスプレッタを多連構成することでコスト高の配線基
板を多連構成しなくて済み配線基板の材料歩留りを低減
できる分、製造コストを低減できる。
に提供する。 【構成】 低熱抵抗形のBGA・IC53はペレット3
1が配線基板10にフエイスダウンに配置されて内部端
子12群にTABでボンディングされ、ペレットの反対
側主面にヒートスプレッタ6が接続されており、ヒート
スプレッタ6には配線基板10のペレット側主面に固定
されたアンカー4に他端連結のスプリング7の一端が連
結されている。その製造に際してはヒートスプレッタ6
を独立懸架したアンカー4がフレームに吊持された単位
ヒートスプレッタフレームを多連に成形し、各単位フレ
ーム毎に配線基板10が組み付けられる。 【効果】 ペレットの発熱はヒートスプレッタに熱伝導
で伝達されるため、ペレットは効果的に冷却される。ヒ
ートスプレッタを多連構成することでコスト高の配線基
板を多連構成しなくて済み配線基板の材料歩留りを低減
できる分、製造コストを低減できる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置の製造技
術、特に、配線基板の一主面に半導体ペレットが配され
て樹脂封止されている半導体集積回路装置の放熱性能を
向上させる技術に関するもので、例えば、多ピン、低熱
抵抗で、小型かつ低価格化が要求される半導体集積回路
装置(以下、ICという。)に利用して有効なものに関
する。
術、特に、配線基板の一主面に半導体ペレットが配され
て樹脂封止されている半導体集積回路装置の放熱性能を
向上させる技術に関するもので、例えば、多ピン、低熱
抵抗で、小型かつ低価格化が要求される半導体集積回路
装置(以下、ICという。)に利用して有効なものに関
する。
【0002】
【従来の技術】多ピン化が進む今日、クワッド・フラッ
ト・パッケージICやテープ・キャリア・パッケージI
Cのような周辺部からピン(外部端子)を取り出すパッ
ケージでは、ピッチが狭くなるため、パッケージの製造
限界とボード・アセンブリの限界に近づいている。そこ
で、パッケージの主面全体に外部端子を配置することに
よってパッケージのサイズを大きくせずに多ピンを実現
する表面実装形ICとして、ボール・グリッド・アレー
パッケージを備えているIC(以下、BGA・ICとい
う。)が提案されている。
ト・パッケージICやテープ・キャリア・パッケージI
Cのような周辺部からピン(外部端子)を取り出すパッ
ケージでは、ピッチが狭くなるため、パッケージの製造
限界とボード・アセンブリの限界に近づいている。そこ
で、パッケージの主面全体に外部端子を配置することに
よってパッケージのサイズを大きくせずに多ピンを実現
する表面実装形ICとして、ボール・グリッド・アレー
パッケージを備えているIC(以下、BGA・ICとい
う。)が提案されている。
【0003】すなわち、このBGA・ICは内部端子群
と外部端子群とが表側主面と裏側主面とにそれぞれ形成
されているとともに、各内部端子と各外部端子とが互い
に電気的に接続されている配線基板を備えており、配線
基板の内部端子を形成された側の主面には半導体ペレッ
トがボンディングされているとともに、内部端子群にボ
ンディングワイヤによって電気的に接続されており、配
線基板の半導体ペレット側主面が半導体ペレットを含め
て樹脂封止体によって樹脂封止されている。そして、配
線基板の反対側主面で露出されている各外部端子にはは
んだバンプがそれぞれ突設されている。
と外部端子群とが表側主面と裏側主面とにそれぞれ形成
されているとともに、各内部端子と各外部端子とが互い
に電気的に接続されている配線基板を備えており、配線
基板の内部端子を形成された側の主面には半導体ペレッ
トがボンディングされているとともに、内部端子群にボ
ンディングワイヤによって電気的に接続されており、配
線基板の半導体ペレット側主面が半導体ペレットを含め
て樹脂封止体によって樹脂封止されている。そして、配
線基板の反対側主面で露出されている各外部端子にはは
んだバンプがそれぞれ突設されている。
【0004】なお、BGA・ICを述べてある例として
は、株式会社日経BP社発行「VLSIパッケージング
技術(下)」1993年5月31日発行 P173〜P
178、がある。
は、株式会社日経BP社発行「VLSIパッケージング
技術(下)」1993年5月31日発行 P173〜P
178、がある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで、ICの多機
能化、高集積化、高速化が進む最近にあっては、BGA
・ICにおいても熱放散性能(放熱性能)の良好なパッ
ケージ、ないしは、低熱抵抗形パッケージの開発が要望
されている。そして、従来のBGA・ICにおいてパッ
ケージの放熱性能を高めるのに放熱フィンを付設するこ
とが、一般的に考えられる。
能化、高集積化、高速化が進む最近にあっては、BGA
・ICにおいても熱放散性能(放熱性能)の良好なパッ
ケージ、ないしは、低熱抵抗形パッケージの開発が要望
されている。そして、従来のBGA・ICにおいてパッ
ケージの放熱性能を高めるのに放熱フィンを付設するこ
とが、一般的に考えられる。
【0006】しかしながら、従来のBGA・ICに放熱
フィンが付設される場合においては、樹脂封止体の表面
に接着されることになるため、放熱効率が低く放熱性能
の向上に限界がある。
フィンが付設される場合においては、樹脂封止体の表面
に接着されることになるため、放熱効率が低く放熱性能
の向上に限界がある。
【0007】本発明の目的は、多ピンで、かつ、高い放
熱性能を発揮することができる半導体装置を提供するこ
とにある。
熱性能を発揮することができる半導体装置を提供するこ
とにある。
【0008】また、本発明の他の目的は、製造コストの
増加を抑制することができる半導体装置の製造方法を提
供することにある。
増加を抑制することができる半導体装置の製造方法を提
供することにある。
【0009】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
【0010】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を説明すれば、次の通り
である。
発明のうち代表的なものの概要を説明すれば、次の通り
である。
【0011】すなわち、半導体装置は、半導体ペレット
が配線基板にフエイスダウンに配置されて内部端子群に
一括的にボンディングされており、この半導体ペレット
の反対側主面にヒートスプレッタが熱的に接続されてい
るとともに、このヒートスプレッタには配線基板の半導
体ペレット側主面に固定されたアンカーに他端が連結さ
れたスプリングの一端が連結されていることを特徴とす
る。
が配線基板にフエイスダウンに配置されて内部端子群に
一括的にボンディングされており、この半導体ペレット
の反対側主面にヒートスプレッタが熱的に接続されてい
るとともに、このヒートスプレッタには配線基板の半導
体ペレット側主面に固定されたアンカーに他端が連結さ
れたスプリングの一端が連結されていることを特徴とす
る。
【0012】この半導体装置の製造方法においては、ヒ
ートスプレッタを独立懸架したアンカーがフレームに吊
持された単位ヒートスプレッタフレームが多数個連設さ
れている多連ヒートスプレッタフレームが予め用意さ
れ、この多連ヒートスプレッタフレームの各単位ヒート
スプレッタフレームに各配線基板が半導体ペレットのボ
ンディング以前または以後にそれぞれ組み付けられる。
ートスプレッタを独立懸架したアンカーがフレームに吊
持された単位ヒートスプレッタフレームが多数個連設さ
れている多連ヒートスプレッタフレームが予め用意さ
れ、この多連ヒートスプレッタフレームの各単位ヒート
スプレッタフレームに各配線基板が半導体ペレットのボ
ンディング以前または以後にそれぞれ組み付けられる。
【0013】
【作用】前記した半導体装置によれば、半導体ペレット
の発熱はヒートスプレッタに熱伝導によって直接伝達さ
れるため、相対的に半導体ペレットはきわめて効果的に
冷却されることになる。
の発熱はヒートスプレッタに熱伝導によって直接伝達さ
れるため、相対的に半導体ペレットはきわめて効果的に
冷却されることになる。
【0014】また、前記した半導体装置の製造に際して
は、多連ヒートスプレッタフレームを使用することによ
り、コストの高い配線基板を多連に構成しなくて済むた
め、配線基板の材料歩留りを低減することができる分、
製造コストを低減させることができる。他方、多連ヒー
トスプレッタフレームの各単位ヒートスプレッタフレー
ムに各配線基板をそれぞれ組み付けることにより、各組
み立て工程において多数の中間製品を一括して取り扱う
ことができるため、ヒートスプレッタを付設するにもか
かわらず、製造コストの増加を抑制することができる。
は、多連ヒートスプレッタフレームを使用することによ
り、コストの高い配線基板を多連に構成しなくて済むた
め、配線基板の材料歩留りを低減することができる分、
製造コストを低減させることができる。他方、多連ヒー
トスプレッタフレームの各単位ヒートスプレッタフレー
ムに各配線基板をそれぞれ組み付けることにより、各組
み立て工程において多数の中間製品を一括して取り扱う
ことができるため、ヒートスプレッタを付設するにもか
かわらず、製造コストの増加を抑制することができる。
【0015】
【実施例】図1は本発明の一実施例である低熱抵抗形B
GA・ICを示しており、(a)は一部切断正面図、
(b)は左側半分が一部切断平面図、右側半分が一部切
断底面図である。図2以降は本発明の一実施例であるそ
のBGA・ICの製造方法を示す各説明図である。
GA・ICを示しており、(a)は一部切断正面図、
(b)は左側半分が一部切断平面図、右側半分が一部切
断底面図である。図2以降は本発明の一実施例であるそ
のBGA・ICの製造方法を示す各説明図である。
【0016】本実施例において、本発明に係る半導体装
置は、低熱抵抗を実現するための半導体集積回路装置
(以下、ICという。)である放熱性の良好なBGA・
IC(以下、低熱抵抗形BGA・ICという。)として
構成されている。この低熱抵抗形BGA・IC53は図
1に示されているように構成されている。
置は、低熱抵抗を実現するための半導体集積回路装置
(以下、ICという。)である放熱性の良好なBGA・
IC(以下、低熱抵抗形BGA・ICという。)として
構成されている。この低熱抵抗形BGA・IC53は図
1に示されているように構成されている。
【0017】すなわち、低熱抵抗形BGA・IC53は
内部端子12群と外部端子13群とが表側主面と裏側主
面とにそれぞれ形成されている配線基板10を備えてお
り、各内部端子12と各外部端子13とは配線基板10
の本体11を貫通して互いに電気的に接続されている。
半導体素子群を含む半導体集積回路が作り込まれた半導
体ペレット31(以下、ペレットという。)は配線基板
10の内部端子12側主面においてフエイスダウンに配
置されて内部端子12群にテープ・オートメイテッド・
ボンディング(以下、TABという。)によって電気的
かつ機械的に接続されている。ペレット31のTAB側
と反対側の主面にはヒートスプレッタ6が熱的に接続さ
れているとともに、このヒートスプレッタ6には配線基
板10のペレット31側主面に固定されたアンカー4に
他端が連結されたスプリング7の一端が連結されてい
る。配線基板10のペレット31側主面および側面には
樹脂封止体38がペレット31、内部端子12群、スプ
リング7およびアンカー4を樹脂封止するように成形さ
れており、ヒートスプレッタ6のペレット31と反対側
の主面は樹脂封止体38の一主面から露出されている。
また、配線基板10の反対側主面で露出されている各外
部端子13にははんだバンプ52がそれぞれ突設されて
いる。そして、この低熱抵抗形BGA・IC53は次に
説明される製造方法によって製造されている。
内部端子12群と外部端子13群とが表側主面と裏側主
面とにそれぞれ形成されている配線基板10を備えてお
り、各内部端子12と各外部端子13とは配線基板10
の本体11を貫通して互いに電気的に接続されている。
半導体素子群を含む半導体集積回路が作り込まれた半導
体ペレット31(以下、ペレットという。)は配線基板
10の内部端子12側主面においてフエイスダウンに配
置されて内部端子12群にテープ・オートメイテッド・
ボンディング(以下、TABという。)によって電気的
かつ機械的に接続されている。ペレット31のTAB側
と反対側の主面にはヒートスプレッタ6が熱的に接続さ
れているとともに、このヒートスプレッタ6には配線基
板10のペレット31側主面に固定されたアンカー4に
他端が連結されたスプリング7の一端が連結されてい
る。配線基板10のペレット31側主面および側面には
樹脂封止体38がペレット31、内部端子12群、スプ
リング7およびアンカー4を樹脂封止するように成形さ
れており、ヒートスプレッタ6のペレット31と反対側
の主面は樹脂封止体38の一主面から露出されている。
また、配線基板10の反対側主面で露出されている各外
部端子13にははんだバンプ52がそれぞれ突設されて
いる。そして、この低熱抵抗形BGA・IC53は次に
説明される製造方法によって製造されている。
【0018】以下、本発明の一実施例であるこの低熱抵
抗形BGA・ICの製造方法を説明する。この説明によ
り、前記低熱抵抗形BGA・IC53についての構成の
詳細が共に明らかにされる。
抗形BGA・ICの製造方法を説明する。この説明によ
り、前記低熱抵抗形BGA・IC53についての構成の
詳細が共に明らかにされる。
【0019】本実施例において、低熱抵抗形BGA・I
Cの製造方法には、図2に示されている多連ヒートスプ
レッタフレーム1が使用されている。この多連ヒートス
プレッタフレーム1は熱伝導性の良好な材料の一例であ
る銅系材料(銅または銅合金)や鉄系材料(鉄またはそ
の合金)からなる薄板が用いられて、打ち抜きプレス加
工またはエッチング加工等の適当な手段により一体成形
されている。この多連ヒートスプレッタフレーム1は複
数の単位ヒートスプレッタフレーム(以下、ヒートスプ
レッタフレームという。)2が横方向に1列に並設され
て構成されている。なお、多連ヒートスプレッタフレー
ム1は図2の一点鎖線間のパターンが繰り返されるた
め、説明および図示は原則として一単位について行われ
ている。
Cの製造方法には、図2に示されている多連ヒートスプ
レッタフレーム1が使用されている。この多連ヒートス
プレッタフレーム1は熱伝導性の良好な材料の一例であ
る銅系材料(銅または銅合金)や鉄系材料(鉄またはそ
の合金)からなる薄板が用いられて、打ち抜きプレス加
工またはエッチング加工等の適当な手段により一体成形
されている。この多連ヒートスプレッタフレーム1は複
数の単位ヒートスプレッタフレーム(以下、ヒートスプ
レッタフレームという。)2が横方向に1列に並設され
て構成されている。なお、多連ヒートスプレッタフレー
ム1は図2の一点鎖線間のパターンが繰り返されるた
め、説明および図示は原則として一単位について行われ
ている。
【0020】ヒートスプレッタフレーム2はトップレー
ル、ボトムレール、一対のサイドレール)が正方形の枠
形状に組まれたフレーム(外枠)3を備えている。フレ
ーム3の枠の平面から見た内形は樹脂封止体38の平面
から見た外形に対応されており、この枠によって、後述
するトランスファ成形時におけるダムが実質的に構成さ
れるようになっている。フレーム3のトップレールおよ
びボトムレールには各パイロットホール3aがそれぞれ
開設されている。
ル、ボトムレール、一対のサイドレール)が正方形の枠
形状に組まれたフレーム(外枠)3を備えている。フレ
ーム3の枠の平面から見た内形は樹脂封止体38の平面
から見た外形に対応されており、この枠によって、後述
するトランスファ成形時におけるダムが実質的に構成さ
れるようになっている。フレーム3のトップレールおよ
びボトムレールには各パイロットホール3aがそれぞれ
開設されている。
【0021】フレーム3の枠内にはそれよりも小径の正
方形の枠形状に形成されたアンカー4が同心的に配され
て、吊り部材5によって吊持されている。さらに、アン
カー4の正方形の枠内にはそれよりも小径の正方形の平
板形状に形成されたヒートスプレッタ6が同心的に配さ
れて、3本のスプリング7によって吊持されている。ヒ
ートスプレッタ6の正方形はペレット31と略等しくな
るように設定されている。3本のスプリング7はヒート
スプレッタ6の3箇所のコーナー部にそれぞれ配置され
て、ヒートスプレッタ6のコーナー部とアンカー4のコ
ーナー部とを連結するように架設されている。スプリン
グ7の配置されていない1箇所のコーナー部は後述する
トランスファ成形装置におけるゲートを配置し得るよう
に設定されている。
方形の枠形状に形成されたアンカー4が同心的に配され
て、吊り部材5によって吊持されている。さらに、アン
カー4の正方形の枠内にはそれよりも小径の正方形の平
板形状に形成されたヒートスプレッタ6が同心的に配さ
れて、3本のスプリング7によって吊持されている。ヒ
ートスプレッタ6の正方形はペレット31と略等しくな
るように設定されている。3本のスプリング7はヒート
スプレッタ6の3箇所のコーナー部にそれぞれ配置され
て、ヒートスプレッタ6のコーナー部とアンカー4のコ
ーナー部とを連結するように架設されている。スプリン
グ7の配置されていない1箇所のコーナー部は後述する
トランスファ成形装置におけるゲートを配置し得るよう
に設定されている。
【0022】スプリング7はヒートスプレッタ6とアン
カー4とを連結する連結部片を実質的に構成している。
スプリング7はこの連結部片の両端辺に複数本の切込み
部8を交互に配されて切設されることにより構成されて
おり、スプリング7は各切込み部8の間隔を拡張したり
収縮することにより伸縮するようになっている。したが
って、ヒートスプレッタ6はアンカー4にスプリング7
の弾性力によって独立懸架された状態になっている。
カー4とを連結する連結部片を実質的に構成している。
スプリング7はこの連結部片の両端辺に複数本の切込み
部8を交互に配されて切設されることにより構成されて
おり、スプリング7は各切込み部8の間隔を拡張したり
収縮することにより伸縮するようになっている。したが
って、ヒートスプレッタ6はアンカー4にスプリング7
の弾性力によって独立懸架された状態になっている。
【0023】本実施例において、低熱抵抗形BGA・I
Cの製造方法には、図3に示されている配線基板10が
使用されている。配線基板10は絶縁性を有する基板が
使用されて正方形の平板形状に形成されたベース11を
備えている。ベース11の外径はペレット31の外径よ
りも大きく、樹脂封止体38の外径よりも小さく設定さ
れている。本実施例において、ベース11はガラス繊維
にエポキシ樹脂が含浸されたガラス・エポキシ樹脂を使
用して多層構造(図示せず)に形成されている。但し、
ベース11はセラミック等の他の絶縁基板を使用して形
成することができる。
Cの製造方法には、図3に示されている配線基板10が
使用されている。配線基板10は絶縁性を有する基板が
使用されて正方形の平板形状に形成されたベース11を
備えている。ベース11の外径はペレット31の外径よ
りも大きく、樹脂封止体38の外径よりも小さく設定さ
れている。本実施例において、ベース11はガラス繊維
にエポキシ樹脂が含浸されたガラス・エポキシ樹脂を使
用して多層構造(図示せず)に形成されている。但し、
ベース11はセラミック等の他の絶縁基板を使用して形
成することができる。
【0024】ベース11の一主面(以下、上面とす
る。)には小径の円形薄板形状に形成された内部端子1
2が複数個(ペレット31の電極パッドに対応する数と
する。)、正方形の線上に整列されて固着されている。
また、ベース11の下面には小径の円形薄板形状に形成
された外部端子13が内部端子12に対応する数だけ、
正方形の全面に略均等になるように散点的に配置されて
固着されている。本実施例において、内部端子12群お
よび外部端子13群はベース11の表面に被着された銅
箔がリソグラフィー処理およびエッチング処理によって
パターンニングされて形成されている。但し、内部端子
12および外部端子13はスクリーン印刷法やめっき
法、メタルマスクによる蒸着法等のによって形成するこ
とができる。
る。)には小径の円形薄板形状に形成された内部端子1
2が複数個(ペレット31の電極パッドに対応する数と
する。)、正方形の線上に整列されて固着されている。
また、ベース11の下面には小径の円形薄板形状に形成
された外部端子13が内部端子12に対応する数だけ、
正方形の全面に略均等になるように散点的に配置されて
固着されている。本実施例において、内部端子12群お
よび外部端子13群はベース11の表面に被着された銅
箔がリソグラフィー処理およびエッチング処理によって
パターンニングされて形成されている。但し、内部端子
12および外部端子13はスクリーン印刷法やめっき
法、メタルマスクによる蒸着法等のによって形成するこ
とができる。
【0025】ベース11の上面に配置された内部端子1
2とベース11の上面に配置された外部端子13とは各
内部端子12同士および各外部端子13同士がそれぞれ
電気的に独立されて、ベース11の内部に配線された電
気配線14によって互いに電気的に接続されている。多
数本が互いに電気的に絶縁した状態で配線された電気配
線14は、多層構造に形成されたベース11の各層にパ
ターニングされた後にスルーホールによって上層と下層
とが互いに接続されることにより所謂多層配線構造に形
成されている。
2とベース11の上面に配置された外部端子13とは各
内部端子12同士および各外部端子13同士がそれぞれ
電気的に独立されて、ベース11の内部に配線された電
気配線14によって互いに電気的に接続されている。多
数本が互いに電気的に絶縁した状態で配線された電気配
線14は、多層構造に形成されたベース11の各層にパ
ターニングされた後にスルーホールによって上層と下層
とが互いに接続されることにより所謂多層配線構造に形
成されている。
【0026】本実施例において、ベース11の上面にお
ける各コーナー部には配線基板10をヒートスプレッタ
フレーム2に組み付けるための各結合用パッド15がそ
れぞれ固着されており、各結合用パッド15はヒートス
プレッタフレーム2におけるアンカー4のコーナー部に
対向してこれをカバーし得る大きさの円形の平板形状に
形成されている。この結合用パッド15は内部端子12
群と共にパターニングされて形成されている。
ける各コーナー部には配線基板10をヒートスプレッタ
フレーム2に組み付けるための各結合用パッド15がそ
れぞれ固着されており、各結合用パッド15はヒートス
プレッタフレーム2におけるアンカー4のコーナー部に
対向してこれをカバーし得る大きさの円形の平板形状に
形成されている。この結合用パッド15は内部端子12
群と共にパターニングされて形成されている。
【0027】このように構成されている配線基板10は
前記構成に係る多連ヒートスプレッタフレーム1のヒー
トスプレッタフレーム2に1枚ずつ、図4に示されてい
るように重ね合わされて固定的に組み付けられる。すな
わち、配線基板10の各結合用パッド15および/また
はヒートスプレッタフレーム2のアンカー4の各コーナ
ー部に接着剤が塗布された後、配線基板10は各結合用
パッド15がアンカー4の各コーナー部にそれぞれ整合
するように配されてヒートスプレッタフレーム2に重ね
合わされる。この配線基板10とヒートスプレッタフレ
ーム2とが重ね合わされた状態で、接着剤が硬化される
と、配線基板10はヒートスプレッタフレーム2のアン
カー4に各接着剤層16によって結合された状態にな
る。
前記構成に係る多連ヒートスプレッタフレーム1のヒー
トスプレッタフレーム2に1枚ずつ、図4に示されてい
るように重ね合わされて固定的に組み付けられる。すな
わち、配線基板10の各結合用パッド15および/また
はヒートスプレッタフレーム2のアンカー4の各コーナ
ー部に接着剤が塗布された後、配線基板10は各結合用
パッド15がアンカー4の各コーナー部にそれぞれ整合
するように配されてヒートスプレッタフレーム2に重ね
合わされる。この配線基板10とヒートスプレッタフレ
ーム2とが重ね合わされた状態で、接着剤が硬化される
と、配線基板10はヒートスプレッタフレーム2のアン
カー4に各接着剤層16によって結合された状態にな
る。
【0028】なお、接着剤塗布作業、重ね合わせ作業お
よび接着剤硬化作業は、複数個のヒートスプレッタフレ
ーム2および配線基板10について同時に実施すること
ができる。したがって、作業性はきわめて良好である。
よび接着剤硬化作業は、複数個のヒートスプレッタフレ
ーム2および配線基板10について同時に実施すること
ができる。したがって、作業性はきわめて良好である。
【0029】このようにしてヒートスプレッタフレーム
2と配線基板10とが上下に重ね合わされて結合された
結合体17において、上側のヒートスプレッタフレーム
2におけるアンカー4は下側の配線基板10におけるベ
ース11の外周縁部に上から見て僅かに内側に入って重
なった状態で、ベース11に4箇所の接着剤層16によ
って固着されている。また、ヒートスプレッタ6はその
下面が配線基板10のベース11の上面から接着剤層1
6の厚さの分だけ極僅かに浮かされた状態で、各コーナ
ー部に連結された3本のスプリング7によってベース1
1に対してフローティング支持されている。
2と配線基板10とが上下に重ね合わされて結合された
結合体17において、上側のヒートスプレッタフレーム
2におけるアンカー4は下側の配線基板10におけるベ
ース11の外周縁部に上から見て僅かに内側に入って重
なった状態で、ベース11に4箇所の接着剤層16によ
って固着されている。また、ヒートスプレッタ6はその
下面が配線基板10のベース11の上面から接着剤層1
6の厚さの分だけ極僅かに浮かされた状態で、各コーナ
ー部に連結された3本のスプリング7によってベース1
1に対してフローティング支持されている。
【0030】以上のようにしてヒートスプレッタフレー
ム2と配線基板10とが結合された結合体17にはペレ
ットのTAB構造体20が配線基板10に、後述する図
6に示されているアウタリードボンディング工程におい
て各ヒートスプレッタフレーム2毎に電気的かつ機械的
に接続される。この際、結合体17が多連に構成されて
いるため、この接続作業は結合体17が長手方向にピッ
チ送りされることにより各単位毎に順次実施される。
ム2と配線基板10とが結合された結合体17にはペレ
ットのTAB構造体20が配線基板10に、後述する図
6に示されているアウタリードボンディング工程におい
て各ヒートスプレッタフレーム2毎に電気的かつ機械的
に接続される。この際、結合体17が多連に構成されて
いるため、この接続作業は結合体17が長手方向にピッ
チ送りされることにより各単位毎に順次実施される。
【0031】本実施例において、ペレット31はTAB
構造に構成されて低熱抵抗形BGA・ICの製造方法に
供される。このペレットTAB構造体20は図5に示さ
れているテープキャリア21から製造される。
構造に構成されて低熱抵抗形BGA・ICの製造方法に
供される。このペレットTAB構造体20は図5に示さ
れているテープキャリア21から製造される。
【0032】図5において、テープキャリア21の本体
であるキャリアテープ22はポリイミド等のような絶縁
性樹脂を用いて、同一パターンが長手方向に連続するよ
うに一体成形されている。但し、説明および図示は一単
位だけについて行われている。キャリアテープ22にお
ける幅方向の両側端辺部には位置決め等に使用される小
孔23が等ピッチに配されて開設されており、両側の小
孔23群間にはサポートリング24が等ピッチをもって
1列縦隊に配されて形成されている。サポートリング2
4は略正方形の枠形状に形成されており、その枠の内側
空所には後記するペレット31を収容するためのペレッ
ト収容部25が実質的に構成されている。サポートリン
グ24の外側空所26には保持部材27が四隅に配され
て、サポートリング24を保持するように一体的に架設
されている。
であるキャリアテープ22はポリイミド等のような絶縁
性樹脂を用いて、同一パターンが長手方向に連続するよ
うに一体成形されている。但し、説明および図示は一単
位だけについて行われている。キャリアテープ22にお
ける幅方向の両側端辺部には位置決め等に使用される小
孔23が等ピッチに配されて開設されており、両側の小
孔23群間にはサポートリング24が等ピッチをもって
1列縦隊に配されて形成されている。サポートリング2
4は略正方形の枠形状に形成されており、その枠の内側
空所には後記するペレット31を収容するためのペレッ
ト収容部25が実質的に構成されている。サポートリン
グ24の外側空所26には保持部材27が四隅に配され
て、サポートリング24を保持するように一体的に架設
されている。
【0033】集積回路を電気的に外部に引き出すための
リード28は複数本が、キャリアテープ22の片側平面
(以下、第1主面とする。)上に配されて、銅箔等のよ
うな導電性材料を用いて溶着や接着等のような適当な手
段により固定的に付設されている。リード28群はサポ
ートリング24における4辺に分けられて、サポートリ
ング24を径方向に貫通するように配設されており、各
リード28同士が互いに電気的に非接続になるように形
成されている。各リード28におけるペレット収容部2
5内に突き出された内側先端部によってインナ部として
のインナリード29が構成されており、各リード28に
おける外側空所26を横断して外方に突き出された外側
端部によってアウタ部としてのアウタリード30が構成
されている。アウタリード30はキャリアテープ22上
に固着されており、リード28群の表面にはソルダビリ
ティーを高めるために錫めっき膜(図示せず)が被着さ
れている。
リード28は複数本が、キャリアテープ22の片側平面
(以下、第1主面とする。)上に配されて、銅箔等のよ
うな導電性材料を用いて溶着や接着等のような適当な手
段により固定的に付設されている。リード28群はサポ
ートリング24における4辺に分けられて、サポートリ
ング24を径方向に貫通するように配設されており、各
リード28同士が互いに電気的に非接続になるように形
成されている。各リード28におけるペレット収容部2
5内に突き出された内側先端部によってインナ部として
のインナリード29が構成されており、各リード28に
おける外側空所26を横断して外方に突き出された外側
端部によってアウタ部としてのアウタリード30が構成
されている。アウタリード30はキャリアテープ22上
に固着されており、リード28群の表面にはソルダビリ
ティーを高めるために錫めっき膜(図示せず)が被着さ
れている。
【0034】一方、詳細な説明は省略するが、この低熱
抵抗形BGA・ICに使用されるペレット31は半導体
装置の製造工程における所謂前工程において、ウエハ状
態にて所望の半導体素子群を含む集積回路を適宜作り込
まれる。そして、集積回路(図示せず)が作り込まれた
ペレット31はサポートリング24のペレット収容部2
5に収容され得る略正方形の小片にダイシングされてお
り、その一方の主面(以下、第1主面とする。)におけ
る周辺部には金系材料を用いて形成されたバンプ32が
複数個、キャリアテープ22における各インナリード2
9に整合し得るように配されて突設されている。
抵抗形BGA・ICに使用されるペレット31は半導体
装置の製造工程における所謂前工程において、ウエハ状
態にて所望の半導体素子群を含む集積回路を適宜作り込
まれる。そして、集積回路(図示せず)が作り込まれた
ペレット31はサポートリング24のペレット収容部2
5に収容され得る略正方形の小片にダイシングされてお
り、その一方の主面(以下、第1主面とする。)におけ
る周辺部には金系材料を用いて形成されたバンプ32が
複数個、キャリアテープ22における各インナリード2
9に整合し得るように配されて突設されている。
【0035】このように構成されたペレット31はTA
BによるICの製造方法における所謂インナリードボン
ディング工程において、キャリアテープ22に組み付け
られる。この際、キャリアテープ22は複数のスプロケ
ットやガイドレール(図示せず)間に張設されて一方向
に間欠送りされる。そして、張設されたキャリアテープ
22の途中に配設されているインナリードボンディング
ステージにおいて、ペレット31はペレット収容部25
内にサポートリング24の下方から収容されるととも
に、各バンプを各インナリード29にそれぞれ整合され
てボンディング工具によって熱圧着されることにより、
キャリアテープ22に組み付けられる。すなわち、リー
ド28の表面に被着されている錫めっき膜と金系材料か
ら成るバンプ32と間において、金−錫の共晶が形成さ
れるため、リード28のインナリード29とバンプ32
とは一体的に結合されることになる。
BによるICの製造方法における所謂インナリードボン
ディング工程において、キャリアテープ22に組み付け
られる。この際、キャリアテープ22は複数のスプロケ
ットやガイドレール(図示せず)間に張設されて一方向
に間欠送りされる。そして、張設されたキャリアテープ
22の途中に配設されているインナリードボンディング
ステージにおいて、ペレット31はペレット収容部25
内にサポートリング24の下方から収容されるととも
に、各バンプを各インナリード29にそれぞれ整合され
てボンディング工具によって熱圧着されることにより、
キャリアテープ22に組み付けられる。すなわち、リー
ド28の表面に被着されている錫めっき膜と金系材料か
ら成るバンプ32と間において、金−錫の共晶が形成さ
れるため、リード28のインナリード29とバンプ32
とは一体的に結合されることになる。
【0036】このようにしてペレット31がキャリアテ
ープ22に組み付けられると、テープキャリア21が組
み立てられたことになる。このテープキャリア21の組
立状態で、ペレット31は電気的特性試験等のような検
査を受ける。通例、検査されたペレット31はテープキ
ャリア21の状態のままアウタリードボンディング工程
に供給される。そして、アウタリードボンディング工程
において、テープキャリア21におけるサポートリング
24の外側の位置でアウタリード30群が切断されるこ
とにより、ペレットのTAB構造体20が製造される。
ちなみに、検査が終了した後に、テープキャリア21か
らペレットのTAB構造体20を切出してトレー等のキ
ャリア治具に移し換えた状態で、ペレットのTAB構造
体20をアウタリードボンディング工程に供給してもよ
い。
ープ22に組み付けられると、テープキャリア21が組
み立てられたことになる。このテープキャリア21の組
立状態で、ペレット31は電気的特性試験等のような検
査を受ける。通例、検査されたペレット31はテープキ
ャリア21の状態のままアウタリードボンディング工程
に供給される。そして、アウタリードボンディング工程
において、テープキャリア21におけるサポートリング
24の外側の位置でアウタリード30群が切断されるこ
とにより、ペレットのTAB構造体20が製造される。
ちなみに、検査が終了した後に、テープキャリア21か
らペレットのTAB構造体20を切出してトレー等のキ
ャリア治具に移し換えた状態で、ペレットのTAB構造
体20をアウタリードボンディング工程に供給してもよ
い。
【0037】図6に示されているアウタリードボンディ
ング工程において、結合体17はヒートスプレッタ6を
ヒートスプレッタ保持用コレット33によって真空吸着
保持されて配線基板10の上面から所定の間隔だけ持ち
上げられる。ヒートスプレッタ6が配線基板10から所
定の間隔浮かされると、ペレット31の第2主面をペレ
ットのTAB構造体保持用コレット34によって真空吸
着保持されたペレットのTAB構造体20がヒートスプ
レッタ6と配線基板10との間に水平方向横から挿入さ
れる。この挿入とともに、ペレットのTAB構造体20
の各アウタリード30は配線基板10の各内部端子12
にそれぞれ整合されて当接される。ここで、配線基板1
0の各内部端子12の上面には予めクリームはんだ(図
示せず)が塗布されており、各アウタリード30が各内
部端子12に整合されて当接されると、各アウタリード
30は各内部端子12にクリームはんだによって粘着さ
れた状態になる。
ング工程において、結合体17はヒートスプレッタ6を
ヒートスプレッタ保持用コレット33によって真空吸着
保持されて配線基板10の上面から所定の間隔だけ持ち
上げられる。ヒートスプレッタ6が配線基板10から所
定の間隔浮かされると、ペレット31の第2主面をペレ
ットのTAB構造体保持用コレット34によって真空吸
着保持されたペレットのTAB構造体20がヒートスプ
レッタ6と配線基板10との間に水平方向横から挿入さ
れる。この挿入とともに、ペレットのTAB構造体20
の各アウタリード30は配線基板10の各内部端子12
にそれぞれ整合されて当接される。ここで、配線基板1
0の各内部端子12の上面には予めクリームはんだ(図
示せず)が塗布されており、各アウタリード30が各内
部端子12に整合されて当接されると、各アウタリード
30は各内部端子12にクリームはんだによって粘着さ
れた状態になる。
【0038】続いて、ペレットのTAB構造体保持用コ
レット34がヒートスプレッタ6と配線基板10との間
から引き抜かれると、ヒートスプレッタ保持用コレット
33の保持が解除される。保持が解除されると、ヒート
スプレッタ6はスプリング7の弾性力によって下方引っ
張られるため、ペレット31の上面に押接された状態に
なって各アウタリード30と各内部端子12とのクリー
ムはんだによる粘着を維持する。この状態で、アウタリ
ード30と内部端子12との間がリフローはんだ処理さ
れ、クリームはんだによって形成されたはんだ付け部3
5によってアウタリード30と内部端子12とが電気的
かつ機械的に接続される。このとき、リード28の表面
には錫めっき膜が被着されているため、ソルダビリティ
ーは良好になる。
レット34がヒートスプレッタ6と配線基板10との間
から引き抜かれると、ヒートスプレッタ保持用コレット
33の保持が解除される。保持が解除されると、ヒート
スプレッタ6はスプリング7の弾性力によって下方引っ
張られるため、ペレット31の上面に押接された状態に
なって各アウタリード30と各内部端子12とのクリー
ムはんだによる粘着を維持する。この状態で、アウタリ
ード30と内部端子12との間がリフローはんだ処理さ
れ、クリームはんだによって形成されたはんだ付け部3
5によってアウタリード30と内部端子12とが電気的
かつ機械的に接続される。このとき、リード28の表面
には錫めっき膜が被着されているため、ソルダビリティ
ーは良好になる。
【0039】なお、ペレット31が配線基板10にボン
ディングされる前に、ペレット31と配線基板10との
対向面間にはシリコーンゴム等の弾性体36が塗布等の
適当な手段により介設される。
ディングされる前に、ペレット31と配線基板10との
対向面間にはシリコーンゴム等の弾性体36が塗布等の
適当な手段により介設される。
【0040】このようにして配線基板10にペレット3
1が電気的かつ機械的に接続されると、図6(b)に示
されている配線基板とペレットとの組立体(以下、組立
体という。)37が製造されたことになる。この組立体
37は結合体17に組み付けられた状態になっているた
め、多連組立体を構成することになる。
1が電気的かつ機械的に接続されると、図6(b)に示
されている配線基板とペレットとの組立体(以下、組立
体という。)37が製造されたことになる。この組立体
37は結合体17に組み付けられた状態になっているた
め、多連組立体を構成することになる。
【0041】次に、この多連組立体には各組立体37毎
に樹脂封止体38が、図7に示されているトランスファ
成形装置40を使用されて成形される。
に樹脂封止体38が、図7に示されているトランスファ
成形装置40を使用されて成形される。
【0042】図7に示されているトランスファ成形装置
40はシリンダ装置(図示せず)によって互いに型締め
される一対の上型41と下型42とを備えており、上型
41と下型42との合わせ面には上型キャビティー凹部
43aと、下型キャビティー凹部43bとが互いに協働
してキャビティー43を形成するように複数組(1組の
みが図示されている。)没設されている。上型41の合
わせ面にはポット44が開設されており、ポット44に
はシリンダ装置(図示せず)により進退されるプランジ
ャ45が成形材料としての樹脂(以下、レジンとい
う。)を送給し得るように挿入されている。下型42の
合わせ面にはカル46がポット44との対向位置に配さ
れて没設されているとともに、複数条のランナ47がポ
ット44にそれぞれ接続するように放射状に配されて没
設されている。各ランナ47の他端部は下側キャビティ
ー凹部43bにそれぞれ接続されており、その接続部に
はゲート48がレジンをキャビティー43内に注入し得
るように形成されている。また、下型42の合わせ面に
は逃げ凹所49が多連ヒートスプレッタフレーム1の厚
みを逃げ得るように、多連ヒートスプレッタフレーム1
の外形よりも若干大きめの長方形で、その厚さと略等し
い寸法の一定深さに没設されている。
40はシリンダ装置(図示せず)によって互いに型締め
される一対の上型41と下型42とを備えており、上型
41と下型42との合わせ面には上型キャビティー凹部
43aと、下型キャビティー凹部43bとが互いに協働
してキャビティー43を形成するように複数組(1組の
みが図示されている。)没設されている。上型41の合
わせ面にはポット44が開設されており、ポット44に
はシリンダ装置(図示せず)により進退されるプランジ
ャ45が成形材料としての樹脂(以下、レジンとい
う。)を送給し得るように挿入されている。下型42の
合わせ面にはカル46がポット44との対向位置に配さ
れて没設されているとともに、複数条のランナ47がポ
ット44にそれぞれ接続するように放射状に配されて没
設されている。各ランナ47の他端部は下側キャビティ
ー凹部43bにそれぞれ接続されており、その接続部に
はゲート48がレジンをキャビティー43内に注入し得
るように形成されている。また、下型42の合わせ面に
は逃げ凹所49が多連ヒートスプレッタフレーム1の厚
みを逃げ得るように、多連ヒートスプレッタフレーム1
の外形よりも若干大きめの長方形で、その厚さと略等し
い寸法の一定深さに没設されている。
【0043】トランスファ成形に際して、多連組立体は
下型42に没設されている逃げ凹所49内に収容され
る。これにより、ヒートスプレッタフレーム2における
フレーム3の内周縁辺は下型キャビティー凹部43bの
外周縁辺に沿った状態なって、ダムを構成する状態にな
る。そして、配線基板10、アンカー4、サポートリン
グ24およびペレットのTAB構造体20は下型キャビ
ティー凹部43b内に収容された状態になる。また、配
線基板10のベース11の下面は下型キャリア凹部43
bの底面に当接した状態になる。
下型42に没設されている逃げ凹所49内に収容され
る。これにより、ヒートスプレッタフレーム2における
フレーム3の内周縁辺は下型キャビティー凹部43bの
外周縁辺に沿った状態なって、ダムを構成する状態にな
る。そして、配線基板10、アンカー4、サポートリン
グ24およびペレットのTAB構造体20は下型キャビ
ティー凹部43b内に収容された状態になる。また、配
線基板10のベース11の下面は下型キャリア凹部43
bの底面に当接した状態になる。
【0044】続いて、上型41と下型42とが型締めさ
れる。これにより、ヒートスプレッタ6の上面が上型4
1の天井面に押接した状態になる。ここで、配線基板本
体11の上面とペレット31の下面との間にシリコーン
ゴム等の弾性体36が予め介設されているため、ヒート
スプレッタ6が上型41に隙間なく確実に押接する。す
なわち、下型42の底面に当接した配線基板10に反力
をとった弾性体36によってペレット31が押し上げら
れるため、ペレット31の上面に押接したヒートスプレ
ッタ6は上型41の天井面に押接される状態になる。
れる。これにより、ヒートスプレッタ6の上面が上型4
1の天井面に押接した状態になる。ここで、配線基板本
体11の上面とペレット31の下面との間にシリコーン
ゴム等の弾性体36が予め介設されているため、ヒート
スプレッタ6が上型41に隙間なく確実に押接する。す
なわち、下型42の底面に当接した配線基板10に反力
をとった弾性体36によってペレット31が押し上げら
れるため、ペレット31の上面に押接したヒートスプレ
ッタ6は上型41の天井面に押接される状態になる。
【0045】その後、ポット44からプランジャ45に
よりレジン50がランナ47およびゲート48を通じて
各キャビティー43に送給されて圧入される。このと
き、ゲート48はヒートスプレッタフレーム2における
スプリング7が配置されていないコーナー部に開設され
ているため、レジン50はスプリング7に干渉されずに
キャビティー43の内部に良好に圧入される。
よりレジン50がランナ47およびゲート48を通じて
各キャビティー43に送給されて圧入される。このと
き、ゲート48はヒートスプレッタフレーム2における
スプリング7が配置されていないコーナー部に開設され
ているため、レジン50はスプリング7に干渉されずに
キャビティー43の内部に良好に圧入される。
【0046】注入後、レジンが熱硬化されて樹脂封止体
38が成形されると、上型41および下型42は型開き
されるとともに、エジェクタ・ピン(図示せず)により
樹脂封止体38群が離型される。
38が成形されると、上型41および下型42は型開き
されるとともに、エジェクタ・ピン(図示せず)により
樹脂封止体38群が離型される。
【0047】以上のトランスファ成形工程によって、図
8に示されている成形品51が成形されたことになる。
図8において、樹脂封止体38の内部には、ペレット3
1、リード28群、サポートリング24と共に、ペレッ
ト31の第2主面に結合されたヒートスプレッタ6の一
部、配線基板10の一部も樹脂封止されることになる。
この状態において、配線基板10のベース11のペレッ
ト取付面とは反対側の端面は樹脂封止体38の下面にお
いて表面から露出しており、外部端子13群が露出した
状態になっている。また、ヒートスプレッタ6のペレッ
ト取付面とは反対側の端面は樹脂封止体38の上面にお
いて表面から露出している。ちなみに、露出したヒート
スプレッタ6には必要に応じて、放熱フィンが取り付け
られたり、プリント配線基板に押さえ付けるための押さ
え具が取り付けられたりする。
8に示されている成形品51が成形されたことになる。
図8において、樹脂封止体38の内部には、ペレット3
1、リード28群、サポートリング24と共に、ペレッ
ト31の第2主面に結合されたヒートスプレッタ6の一
部、配線基板10の一部も樹脂封止されることになる。
この状態において、配線基板10のベース11のペレッ
ト取付面とは反対側の端面は樹脂封止体38の下面にお
いて表面から露出しており、外部端子13群が露出した
状態になっている。また、ヒートスプレッタ6のペレッ
ト取付面とは反対側の端面は樹脂封止体38の上面にお
いて表面から露出している。ちなみに、露出したヒート
スプレッタ6には必要に応じて、放熱フィンが取り付け
られたり、プリント配線基板に押さえ付けるための押さ
え具が取り付けられたりする。
【0048】その後、配線基板10のベース11下面に
露出した外部端子13群にははんだバンプ52がスクリ
ーン印刷法やメタルマスク蒸着法等の適当な方法によっ
てそれぞれ突設される。そして、ヒートスプレッタフレ
ーム2の吊り部材5が樹脂封止体38の基端部において
切断されることにより、図1に示されている前記構成に
係る低熱抵抗形BGA・IC53が製造されたことにな
る。
露出した外部端子13群にははんだバンプ52がスクリ
ーン印刷法やメタルマスク蒸着法等の適当な方法によっ
てそれぞれ突設される。そして、ヒートスプレッタフレ
ーム2の吊り部材5が樹脂封止体38の基端部において
切断されることにより、図1に示されている前記構成に
係る低熱抵抗形BGA・IC53が製造されたことにな
る。
【0049】この低熱抵抗形BGA・IC53はプリン
ト配線基板(図示せず)に各はんだバンプ52をプリン
ト配線基板のパッドにそれぞれ整合された状態で、リフ
ローはんだ付け処理されることにより電気的かつ機械的
に接続される。
ト配線基板(図示せず)に各はんだバンプ52をプリン
ト配線基板のパッドにそれぞれ整合された状態で、リフ
ローはんだ付け処理されることにより電気的かつ機械的
に接続される。
【0050】そして、この実装状態で、低熱抵抗形BG
A・IC53が稼働されてペレット31が発熱した場
合、その熱はペレット31からヒートスプレッタ6に直
接的に熱伝導されるとともに、ヒートスプレッタ6の広
い表面積から外気に放熱されるため、相対的にペレット
31は充分に冷却される。また、ヒートスプレッタ6に
放熱フィンや、押さえ具等が連設されている場合には、
ヒートスプレッタ6の熱が放熱フィンや、押さえ具等を
通じてさらに広い範囲に熱伝導されるため、放熱効果は
より一層高くなる。
A・IC53が稼働されてペレット31が発熱した場
合、その熱はペレット31からヒートスプレッタ6に直
接的に熱伝導されるとともに、ヒートスプレッタ6の広
い表面積から外気に放熱されるため、相対的にペレット
31は充分に冷却される。また、ヒートスプレッタ6に
放熱フィンや、押さえ具等が連設されている場合には、
ヒートスプレッタ6の熱が放熱フィンや、押さえ具等を
通じてさらに広い範囲に熱伝導されるため、放熱効果は
より一層高くなる。
【0051】前記実施例によれば次の効果が得られる。 (1) ペレットを配線基板にフエイスダウンに配置し
て内部端子群に一括的にボンディングし、このペレット
の反対側主面にヒートスプレッタを熱的に接続すること
により、ペレットの発熱をヒートスプレッタに熱伝導に
よって直接伝達させることができるため、相対的にペレ
ットはきわめて効果的に冷却させることができ、放熱性
能を高めることができる。
て内部端子群に一括的にボンディングし、このペレット
の反対側主面にヒートスプレッタを熱的に接続すること
により、ペレットの発熱をヒートスプレッタに熱伝導に
よって直接伝達させることができるため、相対的にペレ
ットはきわめて効果的に冷却させることができ、放熱性
能を高めることができる。
【0052】(2) パッケージのサイズを大きくせず
に多ピンを実現することができるBGA・ICに前記
(1)を採用することにより、低熱抵抗形のBGA・I
Cを実現することができる。
に多ピンを実現することができるBGA・ICに前記
(1)を採用することにより、低熱抵抗形のBGA・I
Cを実現することができる。
【0053】(3) ヒートスプレッタをスプリングを
介して独立懸架したアンカーがフレームに吊持された単
位ヒートスプレッタフレームが多数個連設されている多
連ヒートスプレッタフレームを予め用意し、この多連ヒ
ートスプレッタフレームの各単位ヒートスプレッタフレ
ームに各配線基板をペレットのボンディング以前にそれ
ぞれ組み付けることにより、コストの高い配線基板を多
連に構成しなくて済むため、配線基板の材料歩留りを低
減することができる分、製造コストを低減させることが
できる。
介して独立懸架したアンカーがフレームに吊持された単
位ヒートスプレッタフレームが多数個連設されている多
連ヒートスプレッタフレームを予め用意し、この多連ヒ
ートスプレッタフレームの各単位ヒートスプレッタフレ
ームに各配線基板をペレットのボンディング以前にそれ
ぞれ組み付けることにより、コストの高い配線基板を多
連に構成しなくて済むため、配線基板の材料歩留りを低
減することができる分、製造コストを低減させることが
できる。
【0054】(4) また、多連ヒートスプレッタフレ
ームの各単位ヒートスプレッタフレームに各配線基板を
それぞれ組み付けることにより、各組み立て工程におい
て多数の中間製品を一括して取り扱うことができるた
め、ヒートスプレッタを付設するにもかかわらず、製造
コストの増加を抑制することができる。
ームの各単位ヒートスプレッタフレームに各配線基板を
それぞれ組み付けることにより、各組み立て工程におい
て多数の中間製品を一括して取り扱うことができるた
め、ヒートスプレッタを付設するにもかかわらず、製造
コストの増加を抑制することができる。
【0055】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変更可能であることはいうまでもない。
例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変更可能であることはいうまでもない。
【0056】例えば、配線基板は多連ヒートスプレッタ
フレームの各単位ヒートスプレッタフレームにペレット
のボンディング以前に組み付けるに限らず、ペレットが
ボンディングされた後に多連ヒートスプレッタフレーム
の各単位ヒートスプレッタフレームに組み付けてもよ
い。この場合には、配線基板へのペレットのTAB構造
体のアウタリードボンディング作業がやり易くなる。
フレームの各単位ヒートスプレッタフレームにペレット
のボンディング以前に組み付けるに限らず、ペレットが
ボンディングされた後に多連ヒートスプレッタフレーム
の各単位ヒートスプレッタフレームに組み付けてもよ
い。この場合には、配線基板へのペレットのTAB構造
体のアウタリードボンディング作業がやり易くなる。
【0057】配線基板へのペレットのTAB構造体のア
ウタリードボンディング工程は、はんだ付け処理を使用
するに限らず、異方性導電接着剤を使用してもよい。
ウタリードボンディング工程は、はんだ付け処理を使用
するに限らず、異方性導電接着剤を使用してもよい。
【0058】さらに、ペレットは配線基板にTAB構造
によりボンディングするに限らず、CCB法やフリップ
チップ法等のフエイスダウン・ボンディング法によって
一括的にボンディングしてもよい。
によりボンディングするに限らず、CCB法やフリップ
チップ法等のフエイスダウン・ボンディング法によって
一括的にボンディングしてもよい。
【0059】配線基板の外部端子にははんだバンプを突
設するに限らず、ピンを突設してもよい。
設するに限らず、ピンを突設してもよい。
【0060】樹脂封止体およびヒートスプレッタの形状
は、正方形に限らず、長方形等の四辺形に形成してもよ
い。特に、ヒートスプレッタは正四辺形に限らず、円形
や多角形に形成してもよい。
は、正方形に限らず、長方形等の四辺形に形成してもよ
い。特に、ヒートスプレッタは正四辺形に限らず、円形
や多角形に形成してもよい。
【0061】ヒートスプレッタは樹脂封止体の内部に一
部が埋め込まれるように構成するに限らず、全体が埋め
込まれるように構成してもよい。
部が埋め込まれるように構成するに限らず、全体が埋め
込まれるように構成してもよい。
【0062】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野であるBGA
・ICに適用した場合について説明したが、それに限定
されるものではなく、樹脂封止形のピン・グリッド・ア
レーパッケージを備えているIC(P−PGA・IC)
等の外部端子がパッケージ全面に配置されてIC、その
パッケージを備えたパワートランジスタや、その他の電
子装置全般に適用することができる。特に、本発明は、
小型軽量、多ピンで、しかも、低価格であり、高い放熱
性能が要求される半導体装置に利用して優れた効果が得
られる。
なされた発明をその背景となった利用分野であるBGA
・ICに適用した場合について説明したが、それに限定
されるものではなく、樹脂封止形のピン・グリッド・ア
レーパッケージを備えているIC(P−PGA・IC)
等の外部端子がパッケージ全面に配置されてIC、その
パッケージを備えたパワートランジスタや、その他の電
子装置全般に適用することができる。特に、本発明は、
小型軽量、多ピンで、しかも、低価格であり、高い放熱
性能が要求される半導体装置に利用して優れた効果が得
られる。
【0063】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、次
の通りである。
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、次
の通りである。
【0064】半導体ペレットを配線基板にフエイスダウ
ンに配置して内部端子群に一括的にボンディングし、こ
の半導体ペレットの反対側主面にヒートスプレッタを熱
的に接続することにより、半導体ペレットの発熱をヒー
トスプレッタに熱伝導によって直接伝達させることがで
きるため、相対的に半導体ペレットはきわめて効果的に
冷却させることができ、放熱性能を高めることができ
る。
ンに配置して内部端子群に一括的にボンディングし、こ
の半導体ペレットの反対側主面にヒートスプレッタを熱
的に接続することにより、半導体ペレットの発熱をヒー
トスプレッタに熱伝導によって直接伝達させることがで
きるため、相対的に半導体ペレットはきわめて効果的に
冷却させることができ、放熱性能を高めることができ
る。
【0065】ヒートスプレッタをスプリングを介して独
立懸架したアンカーがフレームに吊持された単位ヒート
スプレッタフレームが多数個連設されている多連ヒート
スプレッタフレームを予め用意し、この多連ヒートスプ
レッタフレームの各単位ヒートスプレッタフレームに各
配線基板を半導体ペレットのボンディング以前にそれぞ
れ組み付けることにより、コストの高い配線基板を多連
に構成しなくて済むため、配線基板の材料歩留りを低減
することができる分、製造コストを低減させることがで
き、また、多連ヒートスプレッタフレームの各単位ヒー
トスプレッタフレームに各配線基板をそれぞれ組み付け
ることにより、各組み立て工程において多数の中間製品
を一括して取り扱うことができるため、ヒートスプレッ
タを付設するにもかかわらず、製造コストの増加を抑制
することができる。
立懸架したアンカーがフレームに吊持された単位ヒート
スプレッタフレームが多数個連設されている多連ヒート
スプレッタフレームを予め用意し、この多連ヒートスプ
レッタフレームの各単位ヒートスプレッタフレームに各
配線基板を半導体ペレットのボンディング以前にそれぞ
れ組み付けることにより、コストの高い配線基板を多連
に構成しなくて済むため、配線基板の材料歩留りを低減
することができる分、製造コストを低減させることがで
き、また、多連ヒートスプレッタフレームの各単位ヒー
トスプレッタフレームに各配線基板をそれぞれ組み付け
ることにより、各組み立て工程において多数の中間製品
を一括して取り扱うことができるため、ヒートスプレッ
タを付設するにもかかわらず、製造コストの増加を抑制
することができる。
【図1】本発明の一実施例である低熱抵抗形BGA・I
Cを示し、(a)は正面断面図、(b)は左側半分が一
部切断平面図、右側半分が一部切断底面図である。
Cを示し、(a)は正面断面図、(b)は左側半分が一
部切断平面図、右側半分が一部切断底面図である。
【図2】本発明の一実施例であるそのBGA・ICの製
造方法に使用される多連ヒートスプレッタフレームを示
しており、(a)は一部省略平面図、(b)は正面断面
図である。
造方法に使用される多連ヒートスプレッタフレームを示
しており、(a)は一部省略平面図、(b)は正面断面
図である。
【図3】同じく配線基板を示しており、(a)は左側半
分が平面図、右側半分が底面図であり、(b)は一部切
断正面図である。
分が平面図、右側半分が底面図であり、(b)は一部切
断正面図である。
【図4】その製造方法におけるヒートスプレッタフレー
ムと配線基板との結合工程後の結合体を示しており、
(a)は左側半分が平面図、右側半分が底面図であり、
(b)は正面断面図である。
ムと配線基板との結合工程後の結合体を示しており、
(a)は左側半分が平面図、右側半分が底面図であり、
(b)は正面断面図である。
【図5】その製造方法に使用されるペレットのTAB構
造体を製造するテープキャリアを示しており、(a)は
左側半分が平面図、右側半分が底面図であり、(b)は
一部切断正面図である。
造体を製造するテープキャリアを示しており、(a)は
左側半分が平面図、右側半分が底面図であり、(b)は
一部切断正面図である。
【図6】その製造方法におけるアウタリードボンディン
グ工程を示しており、(a)は斜視図、(b)はボンデ
ィング後の正面断面図である。
グ工程を示しており、(a)は斜視図、(b)はボンデ
ィング後の正面断面図である。
【図7】その製造方法における樹脂封止体成形工程を示
す縦断面図である。
す縦断面図である。
【図8】樹脂封止体成形後を示しており、(a)は左側
半分が平面図、右側半分が底面図であり、(b)は一部
切断正面図である。
半分が平面図、右側半分が底面図であり、(b)は一部
切断正面図である。
1…多連ヒートスプレッタフレーム、2…単位ヒートス
プレッタフレーム(ヒートスプレッタフレーム)、3…
フレーム(外枠)、3a…パイロットホール、4…アン
カー、5…吊り部材、6…ヒートスプレッタ、7…スプ
リング、8…切込み部、10…配線基板、11…ベー
ス、12…内部端子、13…外部端子、14…電気配
線、15…パッド、16…接着剤層、17…ヒートスプ
レッタフレームと配線基板との結合体、20…ペレット
のTAB構造体、21…テープキャリア、22…キャリ
アテープ、23…小孔、24…サポートリング、25…
ペレット収容部、26…外側空所、27…保持部材、2
8…リード、29…インナリード、30…アウタリー
ド、31…ペレット、32…バンプ、33…ヒートスプ
レッタ保持用コレット、34…ペレットのTAB構造体
保持用コレット、35…はんだ付け部、36…弾性体、
37…配線基板とペレットとの組立体、38…樹脂封止
体、40…トランスファ成形装置、41…上型、42…
下型、43…キャビティー、43a…上型キャビティー
凹部、43b…下型キャビティー凹部、44…ポット、
45…プランジャ、46…カル、47…ランナ、48…
ゲート、49…逃げ凹部、50…レジン、51…成形
品、52…はんだバンプ、53…低熱抵抗形BGA・I
C(半導体装置)。
プレッタフレーム(ヒートスプレッタフレーム)、3…
フレーム(外枠)、3a…パイロットホール、4…アン
カー、5…吊り部材、6…ヒートスプレッタ、7…スプ
リング、8…切込み部、10…配線基板、11…ベー
ス、12…内部端子、13…外部端子、14…電気配
線、15…パッド、16…接着剤層、17…ヒートスプ
レッタフレームと配線基板との結合体、20…ペレット
のTAB構造体、21…テープキャリア、22…キャリ
アテープ、23…小孔、24…サポートリング、25…
ペレット収容部、26…外側空所、27…保持部材、2
8…リード、29…インナリード、30…アウタリー
ド、31…ペレット、32…バンプ、33…ヒートスプ
レッタ保持用コレット、34…ペレットのTAB構造体
保持用コレット、35…はんだ付け部、36…弾性体、
37…配線基板とペレットとの組立体、38…樹脂封止
体、40…トランスファ成形装置、41…上型、42…
下型、43…キャビティー、43a…上型キャビティー
凹部、43b…下型キャビティー凹部、44…ポット、
45…プランジャ、46…カル、47…ランナ、48…
ゲート、49…逃げ凹部、50…レジン、51…成形
品、52…はんだバンプ、53…低熱抵抗形BGA・I
C(半導体装置)。
Claims (7)
- 【請求項1】 半導体ペレットが配線基板の一主面に配
置されて内部端子群に電気的に接続されているととも
に、配線基板の半導体ペレット側主面が半導体ペレット
を含めて樹脂封止体によって樹脂封止されており、外部
端子群が配線基板の反対側主面に配置されている半導体
装置において、 前記半導体ペレットが前記配線基板にフエイスダウンに
配置されて内部端子群に一括的にボンディングされてお
り、この半導体ペレットの反対側主面にヒートスプレッ
タが熱的に接続されているとともに、このヒートスプレ
ッタには前記配線基板の半導体ペレット側主面に固定さ
れたアンカーに他端が連結されたスプリングの一端が連
結されていることを特徴とする半導体装置。 - 【請求項2】 前記半導体ペレットが前記配線基板にテ
ープ・オートメイテッド・ボンディング構造によって電
気的かつ機械的にボンディングされていることを特徴と
する請求項1に記載の半導体装置。 - 【請求項3】 前記ヒートスプレッタの半導体ペレット
と反対側の主面が、前記樹脂封止体の一主面から露出さ
れていることを特徴とする請求項1または請求項2に記
載の半導体装置。 - 【請求項4】 請求項1に記載の半導体装置の製造方法
であって、 前記アンカーがフレームに吊持された単位ヒートスプレ
ッタフレームが多数個連設されている多連ヒートスプレ
ッタフレームが用意される工程を備えていることを特徴
とする半導体装置の製造方法。 - 【請求項5】 前記スプリングは単位ヒートスプレッタ
フレームに一体的に成形されているとともに、ヒートス
プレッタとフレームとを連結する連結部片の両端辺に複
数本の切込み部が交互に切設されて形成されていること
を特徴とする請求項4に記載の半導体装置の製造方法。 - 【請求項6】 前記多連ヒートスプレッタフレームの各
単位ヒートスプレッタフレームに前記配線基板が半導体
ペレットのボンディング以前に組み付けられることを特
徴とする請求項4または請求項5に記載の半導体装置の
製造方法。 - 【請求項7】 前記多連ヒートスプレッタフレームの各
単位ヒートスプレッタフレームに前記配線基板が半導体
ペレットのボンディング以後に組み付けられることを特
徴とする請求項4または請求項5に記載の半導体装置の
製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7070509A JPH08241940A (ja) | 1995-03-03 | 1995-03-03 | 半導体装置およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7070509A JPH08241940A (ja) | 1995-03-03 | 1995-03-03 | 半導体装置およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08241940A true JPH08241940A (ja) | 1996-09-17 |
Family
ID=13433581
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7070509A Pending JPH08241940A (ja) | 1995-03-03 | 1995-03-03 | 半導体装置およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08241940A (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100308394B1 (ko) * | 1998-11-20 | 2001-12-17 | 마이클 디. 오브라이언 | 반도체패키지및그제조방법_ |
JP2002190555A (ja) * | 2000-12-20 | 2002-07-05 | Ibiden Co Ltd | ヒートシンク集合体およびヒートシンク |
EP1003214A3 (en) * | 1998-11-17 | 2002-09-11 | Fujitsu Limited | Semiconductor device and method of producing the same |
DE10235332A1 (de) * | 2002-08-01 | 2004-02-19 | Infineon Technologies Ag | Mehrlagiger Schaltungsträger und Herstellung desselben |
KR100424382B1 (ko) * | 2000-07-13 | 2004-03-24 | 엔이씨 일렉트로닉스 코포레이션 | 열확산기를 부착한 반도체 장치 및 그 제조 방법 |
US6900549B2 (en) * | 2001-01-17 | 2005-05-31 | Micron Technology, Inc. | Semiconductor assembly without adhesive fillets |
JP2008072153A (ja) * | 2003-01-30 | 2008-03-27 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 半導体パッケージおよびその製造方法 |
EP3226289A1 (fr) | 2016-03-30 | 2017-10-04 | Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives | Dispositif électronique pourvu d'un organe de dissipation de la chaleur |
-
1995
- 1995-03-03 JP JP7070509A patent/JPH08241940A/ja active Pending
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1003214A3 (en) * | 1998-11-17 | 2002-09-11 | Fujitsu Limited | Semiconductor device and method of producing the same |
KR100308394B1 (ko) * | 1998-11-20 | 2001-12-17 | 마이클 디. 오브라이언 | 반도체패키지및그제조방법_ |
KR100424382B1 (ko) * | 2000-07-13 | 2004-03-24 | 엔이씨 일렉트로닉스 코포레이션 | 열확산기를 부착한 반도체 장치 및 그 제조 방법 |
US6720650B2 (en) | 2000-07-13 | 2004-04-13 | Nec Electronics Corporation | Semiconductor device having heat spreader attached thereto and method of manufacturing the same |
JP2002190555A (ja) * | 2000-12-20 | 2002-07-05 | Ibiden Co Ltd | ヒートシンク集合体およびヒートシンク |
US6900549B2 (en) * | 2001-01-17 | 2005-05-31 | Micron Technology, Inc. | Semiconductor assembly without adhesive fillets |
DE10235332A1 (de) * | 2002-08-01 | 2004-02-19 | Infineon Technologies Ag | Mehrlagiger Schaltungsträger und Herstellung desselben |
US7221048B2 (en) | 2002-08-01 | 2007-05-22 | Infineon Technologies Ag | Multilayer circuit carrier, panel, electronic device, and method for producing a multilayer circuit carrier |
JP2008072153A (ja) * | 2003-01-30 | 2008-03-27 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 半導体パッケージおよびその製造方法 |
EP3226289A1 (fr) | 2016-03-30 | 2017-10-04 | Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives | Dispositif électronique pourvu d'un organe de dissipation de la chaleur |
FR3049764A1 (fr) * | 2016-03-30 | 2017-10-06 | Commissariat Energie Atomique | Dispositif electronique pourvu d'un organe de dissipation de la chaleur |
US9997431B2 (en) | 2016-03-30 | 2018-06-12 | Stmicroelectronics (Crolles 2) Sas | Electronic device provided with a thermal dissipation member |
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