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JPH08237529A - Optical device - Google Patents

Optical device

Info

Publication number
JPH08237529A
JPH08237529A JP7065103A JP6510395A JPH08237529A JP H08237529 A JPH08237529 A JP H08237529A JP 7065103 A JP7065103 A JP 7065103A JP 6510395 A JP6510395 A JP 6510395A JP H08237529 A JPH08237529 A JP H08237529A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
optical
optical device
light amount
solid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7065103A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shigeo Ogura
栄夫 小倉
Nobuhiro Takeda
伸弘 竹田
Yoshihiro Uchino
美洋 内野
Toshiya Kurihashi
俊也 栗橋
Toshikazu Yanai
敏和 柳井
Kenichi Kimura
研一 木村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP7065103A priority Critical patent/JPH08237529A/en
Priority to US08/606,845 priority patent/US5825560A/en
Publication of JPH08237529A publication Critical patent/JPH08237529A/en
Priority to US08/957,118 priority patent/US5847887A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE: To provide the optical device with which the photographic optical means of a light quantity control means can be positioned corresponding to an optical axis with simple work procedure and high accuracy. CONSTITUTION: This optical device is provided with a substrate 1 mounting an image pickup optical system and a mechanism system on its surface. An iris part 30 is provided with two iris fans 31 and 32 point-symmetrically arranged with an optical axis K matched with the axial line of an opening part 1a as a center. The respective iris fans 31 and 32 are constituted to be rotated on parallel planes with respectively provided shafts 33 and 34 as centers. The shaft 33 of the iris fan 31 is inserted to a positioning hole 37 provided on the substrate 1 so as to be rotated and the shaft 34 of the iris fan 32 is inserted to a positioning hole 41 on the substrate 1 so as to be rotated. By inserting the correspondent shafts 33 and 34 to the respective positioning holes 37 and 38, the respective iris fans 31 and 32 are positioned so that the optical axis K can be matched with the central position of the iris opening regulated by their rotations.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、被写体像を撮影光学部
材を介して固体撮像素子に結像させる光学装置に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical device for forming an image of a subject on a solid-state image pickup device via a photographing optical member.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、固体撮像素子を用いている光学
装置には、所望の撮影範囲が得られるように、ズームレ
ンズ機構が設けられている。
2. Description of the Related Art Generally, an optical device using a solid-state image pickup device is provided with a zoom lens mechanism so as to obtain a desired photographing range.

【0003】この光学装置のズームレンズ機構の構成に
ついて図23を参照しながら説明する。図23は従来の
光学装置のズームレンズ機構の構成を示す縦断面図であ
る。
The structure of the zoom lens mechanism of this optical device will be described with reference to FIG. FIG. 23 is a vertical cross-sectional view showing the configuration of a zoom lens mechanism of a conventional optical device.

【0004】光学装置は、図27に示すように、第1レ
ンズ群101a,第2レンズ群101b、第3レンズ群
101c、第4レンズ群101dからなる複数のレンズ
群を備える。第2レンズ群101bおよび第4レンズ群
101dは所定の範囲内で光軸方向に沿ってそれぞれ移
動される。第2レンズ群101bの移動によってズーム
動作が行われ、第4レンズ群101dの移動によって焦
点調節が行われる。
As shown in FIG. 27, the optical device comprises a plurality of lens groups including a first lens group 101a, a second lens group 101b, a third lens group 101c and a fourth lens group 101d. The second lens group 101b and the fourth lens group 101d are each moved within the predetermined range along the optical axis direction. The zoom operation is performed by moving the second lens group 101b, and the focus adjustment is performed by moving the fourth lens group 101d.

【0005】第4レンズ群101dの後方の光軸上に
は、光学ローパスフィルタ102およびCCDなどの固
体撮像素子103が順次に配置されている。
On the optical axis behind the fourth lens group 101d, an optical low-pass filter 102 and a solid-state image sensor 103 such as a CCD are sequentially arranged.

【0006】第1レンズ群101a、第3レンズ郡10
1c、光学ローパスフィルタ102、固体撮像素子10
3などは筐筒104に保持されている。
First lens group 101a, third lens group 10
1c, optical low-pass filter 102, solid-state image sensor 10
3 and the like are held in the casing 104.

【0007】これに対し、第2レンズ群101bは光学
保持部材105に保持されている。光学保持部材105
は、光軸方向に平行に伸びるガイドピン106およびね
じ部材107によって光軸方向に移動可能に支持されて
いる。ガイドピン106の各端部は筐筒104にそれぞ
れ支持されている。
On the other hand, the second lens group 101b is held by the optical holding member 105. Optical holding member 105
Are movably supported in the optical axis direction by guide pins 106 and screw members 107 extending parallel to the optical axis direction. Each end of the guide pin 106 is supported by the casing 104.

【0008】ねじ部材107には光学保持部材105に
係合されるねじ部が形成されている。ねじ部材107の
各端部は筐筒104にそれぞれ回転可能に支持され、ね
じ部材107にはギア群101を介してステップモータ
110からの駆動力が伝達される。ねじ部材107がス
テップモータ110からの駆動力によって回転される
と、ねじ部材107の回転に伴い光学保持部材105
は、ガイドピン106に案内されながら光軸方向に移動
され、光学保持部材105の移動によって第2レンズ1
01bによるズーム動作が行われる。ねじ部材107と
光学保持部材105との間における遊びは、片寄せばね
108と片寄せ部材109とによって取り除かれる。
The screw member 107 is formed with a screw portion to be engaged with the optical holding member 105. Each end of the screw member 107 is rotatably supported by the casing 104, and the driving force from the step motor 110 is transmitted to the screw member 107 via the gear group 101. When the screw member 107 is rotated by the driving force from the step motor 110, the optical holding member 105 is rotated along with the rotation of the screw member 107.
Is moved in the optical axis direction while being guided by the guide pin 106, and the second lens 1 is moved by the movement of the optical holding member 105.
The zoom operation by 01b is performed. The play between the screw member 107 and the optical holding member 105 is eliminated by the biasing spring 108 and the biasing member 109.

【0009】第4レンズ群101dは、第2レンズ群1
01bと同様に、光学保持部材116に保持されてい
る。光学保持部材116は、光軸方向に平行に伸びるガ
イドピン117およびねじ部材113によって光軸方向
に移動可能に支持されている。ガイドピン117の各端
部は筐筒104にそれぞれ支持されている。
The fourth lens group 101d is the second lens group 1
Like 01b, it is held by the optical holding member 116. The optical holding member 116 is supported by a guide pin 117 extending in parallel with the optical axis direction and a screw member 113 so as to be movable in the optical axis direction. Each end of the guide pin 117 is supported by the casing 104.

【0010】ねじ部材113には光学保持部材116に
係合されるねじ部が形成されている。ねじ部材113の
一端部は筐筒104に回転可能に支持されている。ねじ
部材113の他端部は、筐筒104に回転可能に支持さ
れるとともに、ステップモータ112の出力軸に直接接
続されている。ねじ部材113がステップモータ112
からの駆動力によって回転されると、ねじ部材113の
回転に伴い光学保持部材116は、ガイドピン117に
案内されながら光軸方向に移動され、光学保持部材11
6の移動によって第4レンズ101dによる焦点調節が
行われる。ねじ部材113と光学保持部材116との間
における遊びは、片寄せばね108と片寄せ部材109
とによって取り除かれる。
The screw member 113 is formed with a screw portion which is engaged with the optical holding member 116. One end of the screw member 113 is rotatably supported by the casing 104. The other end of the screw member 113 is rotatably supported by the casing 104 and is directly connected to the output shaft of the step motor 112. The screw member 113 is the step motor 112.
When the optical holding member 116 is rotated by the driving force from the optical holding member 116, the optical holding member 116 is moved in the optical axis direction while being guided by the guide pin 117 as the screw member 113 rotates.
By the movement of 6, the focus adjustment by the fourth lens 101d is performed. The play between the screw member 113 and the optical holding member 116 is caused by the bias spring 108 and the bias member 109.
Removed by and.

【0011】第2レンズ群102bと第3レンズ群10
1cとの間には絞り114が配置され、絞り114の開
口径は、モータ115からの駆動力によって調節され
る。この絞り114の開口径の調節によって、露光量が
調整される。
The second lens group 102b and the third lens group 10
An aperture 114 is arranged between the aperture 1c and the aperture 1c, and the aperture diameter of the aperture 114 is adjusted by the driving force from the motor 115. The exposure amount is adjusted by adjusting the aperture diameter of the diaphragm 114.

【0012】[0012]

【発明が解決しようする課題】近年、メモリ、マイコン
などの半導体チップの進歩により、携帯型情報機器が普
及し、その小型化、高性能化がさらに進められている。
この携帯型情報機器には、携帯性が必要条件として要求
されているが、その携帯性の中で特に、薄くすることが
強く要求されている。
In recent years, with advances in semiconductor chips such as memories and microcomputers, portable information devices have become widespread and their miniaturization and high performance have been further promoted.
Portability is required as a necessary condition for this portable information device, and in particular, it is strongly required to be thin.

【0013】このような携帯型情報機器としては、被写
体像を撮像する光学装置、またはこの光学装置を含む情
報機器などがあるが、この光学装置を薄型化するために
は、撮像光学系(例えば、図23に示す各レンズ群、絞
りおよび固体撮像素子から構成される系)、機構系(例
えば、図23に示すレンズ群を駆動するギア、モータ、
絞りを駆動するモータなどから構成される系)を含めて
装置全体を薄くしなければならない。
As such portable information equipment, there is an optical device for picking up a subject image, or an information equipment including this optical device. In order to reduce the thickness of this optical device, an imaging optical system (for example, 23, a system including each lens group shown in FIG. 23, a diaphragm and a solid-state image sensor, a mechanical system (for example, a gear that drives the lens group shown in FIG. 23, a motor,
The entire device must be thinned, including the system that consists of the motor that drives the diaphragm.

【0014】しかし、従来の光学装置では、例えば、光
学保持部材105が、ガイドピン106およびねじ部材
107によって光軸に対称に支持されているから、第2
レンズ群101bの外径に比して筐筒104の外径が大
きくなり、筐筒104外部に、絞り114を駆動するた
めのモータ115、第2レンズ群101bを駆動するた
めのモータ110、第4レンズ群101dを駆動するた
めのモータ112などが保持されているから、光軸と直
交する方向の寸法をさらに小さくすること、すなわち光
軸に直交する方向に対して薄くすることは非常に困難で
あり、装置全体を薄型化することは非常に難しい。
However, in the conventional optical device, for example, the optical holding member 105 is supported by the guide pin 106 and the screw member 107 symmetrically with respect to the optical axis.
The outer diameter of the casing 104 is larger than the outer diameter of the lens group 101b, and a motor 115 for driving the diaphragm 114, a motor 110 for driving the second lens group 101b, and Since the motor 112 for driving the four-lens group 101d is held, it is very difficult to further reduce the dimension in the direction orthogonal to the optical axis, that is, to reduce the thickness in the direction orthogonal to the optical axis. Therefore, it is very difficult to reduce the thickness of the entire device.

【0015】また、絞り114の開口径を調節するため
のモータ115は筐筒104の外部に配置されているか
ら、絞り114の構成によって装置全体の薄型化が阻ま
れる。
Further, since the motor 115 for adjusting the aperture diameter of the diaphragm 114 is arranged outside the casing 104, the structure of the diaphragm 114 prevents the thinning of the entire apparatus.

【0016】さらに、絞り114の開口径の調節によっ
て露光量が調整されるから、絞り114の開口径の中心
と光軸とを高い精度で一致させるように絞り114の光
軸に対する位置決めを行う必要があり、絞り114の筐
筒104への組込時に、この位置決め作業手順が非常に
複雑になる。
Further, since the exposure amount is adjusted by adjusting the aperture diameter of the diaphragm 114, it is necessary to position the diaphragm 114 with respect to the optical axis so that the center of the aperture diameter of the diaphragm 114 and the optical axis coincide with each other with high accuracy. Therefore, when the diaphragm 114 is installed in the casing 104, the positioning work procedure becomes very complicated.

【0017】本発明の目的は、光量調整手段およびその
駆動手段によって、装置全体の薄型化が阻止される恐れ
がない光学装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide an optical device in which there is no fear that the light amount adjusting means and the driving means thereof will prevent the entire device from being made thin.

【0018】本発明の他の目的は、簡単な作業手順でか
つ高い精度で光量調整手段の撮影光学系の光軸に対する
位置決めを行うことができる光学装置を提供することに
ある。
Another object of the present invention is to provide an optical device capable of positioning the light amount adjusting means with respect to the optical axis of the photographing optical system with a high accuracy by a simple work procedure.

【0019】[0019]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
被写体像を撮影光学系を介して固体撮像素子に結像させ
る光学装置において、前記撮影光学系および前記固体撮
像素子が搭載されている基板と、前記被写体像の光量を
調節する光量調整動作を行う光量調節手段と、前記光量
調整手段が光量調整動作を行うための駆動力を発生する
駆動手段とを備え、前記光量調整手段と前記駆動手段と
が前記基板に平行な面上にそれぞれ配置されていること
を特徴とする。
According to the first aspect of the present invention,
In an optical device for forming a subject image on a solid-state image sensor through a photographing optical system, a light amount adjusting operation for adjusting a light amount of the subject image and a substrate on which the photographing optical system and the solid-state image sensor are mounted is performed. A light quantity adjusting means and a driving means for generating a driving force for the light quantity adjusting means to perform a light quantity adjusting operation, wherein the light quantity adjusting means and the driving means are respectively arranged on a plane parallel to the substrate. It is characterized by being

【0020】請求項2記載の発明は、請求項1記載の光
学装置において、前記撮影光学系によって形成される光
路には、前記基板に垂直に伸びる光路部分が含まれ、前
記光量調整手段は、前記光路部分を通過する光量を調整
するように配置されていることを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, in the optical device according to the first aspect, the optical path formed by the photographing optical system includes an optical path portion extending perpendicularly to the substrate, and the light amount adjusting means is It is arranged so as to adjust the amount of light passing through the optical path portion.

【0021】請求項3記載の発明は、請求項2記載の光
学装置において、前記光量調整手段は、前記光路部分の
光量通過領域を調整することによって前記光量調整動作
を行う可動調整部材を有し、前記可動調整部材は、前記
基板にほぼ平行な面に沿って動作することを特徴とす
る。
According to a third aspect of the present invention, in the optical device according to the second aspect, the light amount adjusting means has a movable adjusting member for performing the light amount adjusting operation by adjusting a light amount passing region of the optical path portion. The movable adjusting member operates along a plane substantially parallel to the substrate.

【0022】請求項4記載の発明は、請求項3記載の光
学装置において、前記可動調整部材に、前記基板に回転
可能にかつ垂直に支持されている軸が設けられ、前記可
動調整部材は前記軸を中心に回転運動することを特徴と
する。
According to a fourth aspect of the present invention, in the optical device according to the third aspect, the movable adjusting member is provided with a shaft rotatably and vertically supported by the substrate, and the movable adjusting member is provided with the shaft. It is characterized by rotational movement about an axis.

【0023】請求項5記載の発明は、請求項1ないし4
記載の光学装置において、前記駆動手段の構成部材の少
なくとも一部が前記基板に設けられていることを特徴と
する。
The invention according to claim 5 is the same as claims 1 to 4.
In the optical device described above, at least a part of the constituent members of the driving unit is provided on the substrate.

【0024】請求項6記載の発明は、被写体像を撮影光
学系を介して固体撮像素子に結像させる光学装置におい
て、前記撮影光学系、前記固体撮像素子および前記被写
体像の光量を調節する光量調整動作を行う光量調節手段
とが搭載されている基板を有し、前記基板に前記光量調
節手段の位置を規制するための規制部が設けられている
ことを特徴とする。
According to a sixth aspect of the present invention, in an optical device for forming a subject image on a solid-state image sensor through a photographing optical system, a light amount for adjusting the light amounts of the photographing optical system, the solid-state image sensor and the subject image. It has a substrate on which a light amount adjusting means for performing an adjusting operation is mounted, and the substrate is provided with a restricting portion for restricting the position of the light amount adjusting means.

【0025】請求項7記載の発明は、請求項6記載の光
学装置において、前記撮影光学系によって形成される光
路には、前記基板に垂直に伸びる光路部分が含まれ、前
記光量調整手段は、前記光路部分を通過する光量を調整
するように前記基板の規制部によって位置決めされてい
ることを特徴とする。
According to a seventh aspect of the present invention, in the optical device according to the sixth aspect, the optical path formed by the photographing optical system includes an optical path portion extending perpendicularly to the substrate, and the light quantity adjusting means is It is characterized in that it is positioned by the restriction portion of the substrate so as to adjust the amount of light passing through the optical path portion.

【0026】[0026]

【作用】請求項1記載の光学装置の構成では、撮影光学
系および固体撮像素子が搭載されている基板に、被写体
像の光量を調節する光量調整動作を行う光量調節手段と
光量調整手段が光量調整動作を行うための駆動力を発生
する駆動手段とが基板に平行な面上にそれぞれ配置され
ているから、光量調節手段およびその駆動手段に起因す
る基板の厚さ方向における厚さの増大を極力抑えること
ができる。
According to the structure of the optical device of claim 1, the light amount adjusting means and the light amount adjusting means for performing the light amount adjusting operation for adjusting the light amount of the object image are provided on the substrate on which the photographing optical system and the solid-state image pickup device are mounted. Since the driving means for generating the driving force for performing the adjusting operation are arranged on the plane parallel to the substrate, the light amount adjusting means and the increase in the thickness of the substrate due to the driving means are prevented. It can be suppressed as much as possible.

【0027】請求項2記載の光学装置の構成では、撮影
光学系によって形成される光路に基板に垂直に伸びる光
路部分が含まれ、光量調整手段が光路部分を通過する光
量を調整するように配置されているから、基板の厚さ方
向の厚さを増大させることなく、基板に垂直に伸びる光
路部分の光量を光量調整手段で調整することができる。
According to a second aspect of the present invention, the optical path formed by the photographing optical system includes an optical path portion extending perpendicularly to the substrate, and the light quantity adjusting means is arranged so as to adjust the amount of light passing through the optical path portion. Therefore, it is possible to adjust the light amount of the optical path portion extending vertically to the substrate by the light amount adjusting means without increasing the thickness of the substrate in the thickness direction.

【0028】請求項3記載の光学装置の構成では、光量
調整手段が、光路部分の光量通過領域を調整することに
よって光量調整動作を行う可動調整部材を有し、可動調
整部材が基板にほぼ平行な面に沿って動作するから、可
動調整部材による基板の厚さ方向における厚さの増大を
極力抑えることができる。
In the structure of the optical device according to the third aspect, the light amount adjusting means has a movable adjusting member for performing the light amount adjusting operation by adjusting the light amount passing region of the optical path portion, and the movable adjusting member is substantially parallel to the substrate. Since the movable adjusting member operates along the flat surface, it is possible to suppress the increase in the thickness of the substrate in the thickness direction of the movable adjusting member as much as possible.

【0029】請求項4記載の光学装置の構成では、可動
調整部材に基板に回転可能にかつ垂直に支持されている
軸が設けられ、可動調整部材が軸を中心に回転運動する
から、基板の厚さ方向の厚さを増大させることなく、基
板に垂直に伸びる光路部分の光量を可動調整部材で調整
することができる。
In the optical device according to the present invention, the movable adjusting member is provided with the shaft rotatably and vertically supported by the substrate, and the movable adjusting member rotates about the shaft. The amount of light in the optical path portion extending perpendicularly to the substrate can be adjusted by the movable adjusting member without increasing the thickness in the thickness direction.

【0030】請求項5記載の光学装置の構成では、駆動
手段の構成部材の少なくとも一部が基板に設けられてい
るから、駆動手段による基板の厚さ方向における厚さの
増大をさらに抑えることができる。
In the structure of the optical device according to the fifth aspect, since at least a part of the constituent members of the driving means is provided on the substrate, it is possible to further suppress the increase in the thickness of the substrate in the thickness direction due to the driving means. it can.

【0031】請求項6記載の光学装置の構成では、撮影
光学系、固体撮像素子および被写体像の光量を調節する
光量調整動作を行う光量調節手段とが搭載されている基
板に、光量調節手段の位置を規制するための規制部が設
けられているから、光量調整手段の撮影光学系の光軸に
対する位置を位置規制部で予め決定することができる。
In the optical device according to the sixth aspect of the present invention, the light amount adjusting means is mounted on the substrate on which the photographing optical system, the solid-state image sensor, and the light amount adjusting means for adjusting the light amount of the subject image are mounted. Since the regulating portion for regulating the position is provided, the position of the light amount adjusting means with respect to the optical axis of the photographing optical system can be determined in advance by the position regulating portion.

【0032】請求項7記載の光学装置の構成では、撮影
光学系によって形成される光路に基板に垂直に伸びる光
路部分が含まれ、光量調整手段が光路部分を通過する光
量を調整するように基板の規制部によって位置決めされ
ているから、撮影光学系に形成された、基板に垂直に伸
びる光路部分に対する位置決めを容易に行うことができ
る。
In the optical device according to the present invention, the optical path formed by the photographing optical system includes an optical path portion extending perpendicularly to the substrate, and the light amount adjusting means adjusts the amount of light passing through the optical path portion. Since the positioning is performed by the restricting portion, it is possible to easily perform the positioning with respect to the optical path portion formed in the photographing optical system and extending perpendicularly to the substrate.

【0033】[0033]

【実施例】以下に、本発明の実施例について図を参照し
ながら説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0034】図1は本発明の光学装置の一実施例の構成
を示す分解斜視図、図2は図1の光学装置の絞り部の構
成を示す分解斜視図、図3は図1の光学装置の光学部材
G2のアクチュエータの構成を示す縦断面図、図4は図
3のB−B線に沿って得られた断面図、図5は図3のA
−A線に沿って得られた断面図、図6は光学部材G2の
アクチュエータの他の構成例を示す縦断面図、図7は図
1の光学装置の固体撮像素子の周辺を示す縦断面図、図
8は図1の光学装置の固体撮像素子の周辺を示す分解斜
視図、図9は図1の光学装置の固体撮像素子の基板裏面
側の周辺を示す分解斜視図、図10は固体撮像素子の撮
像面を保護するガラス部材の他の取付例を示す縦断面
図、図11は固体撮像素子の撮像面を保護するガラス部
材の他の取付例を示す縦断面図、図12は図1の光学装
置の構成を示すブロック図、図13はフォーカシング時
の合焦特性図、図14はズームトラッキングカーブを示
す図である。
FIG. 1 is an exploded perspective view showing the configuration of an embodiment of the optical device of the present invention, FIG. 2 is an exploded perspective view showing the configuration of the diaphragm of the optical device of FIG. 1, and FIG. 3 is the optical device of FIG. 3 is a vertical cross-sectional view showing the configuration of the actuator of the optical member G2 of FIG. 4, FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line BB of FIG. 3, and FIG.
-A sectional view taken along line A, Fig. 6 is a longitudinal sectional view showing another configuration example of the actuator of the optical member G2, and Fig. 7 is a longitudinal sectional view showing the periphery of the solid-state imaging device of the optical device of Fig. 1. 8 is an exploded perspective view showing the periphery of the solid-state image sensor of the optical device of FIG. 1, FIG. 9 is an exploded perspective view showing the periphery of the back surface side of the substrate of the solid-state image sensor of the optical device of FIG. 1, and FIG. 1 is a vertical cross-sectional view showing another mounting example of a glass member for protecting the image pickup surface of the device, FIG. 11 is a vertical cross-sectional view showing another mounting example of the glass member for protecting the image pickup surface of the solid-state image pickup device, and FIG. FIG. 13 is a block diagram showing the configuration of the optical device, FIG. 13 is a focusing characteristic diagram during focusing, and FIG. 14 is a diagram showing a zoom tracking curve.

【0035】光学装置は、図1に示すように、表面に撮
像光学系および機構系が搭載されている基板1を備え
る。基板1には、複数の開口部1a,1b,1cが形成
されている。開口部1aは、ガラスなどで密閉部材で光
束通過可能に密閉され、基板1とシールドケース49と
の間に形成された搭載部品の収容空間内にごみ、埃など
の侵入が防止されている。
As shown in FIG. 1, the optical device comprises a substrate 1 on the surface of which an imaging optical system and a mechanical system are mounted. A plurality of openings 1a, 1b, 1c are formed in the substrate 1. The opening 1a is hermetically sealed by a sealing member such as glass so that a light flux can pass therethrough, and dust and dirt are prevented from entering the accommodation space of the mounted component formed between the substrate 1 and the shield case 49.

【0036】基板1に搭載されている撮像光学系は、開
口部1aから導かれた被写体の光量を調節する絞り部3
0と、自由曲面の反射面が形成されているガラス、プラ
スチックなどのプリズム状の複数の光学部材G1,G
2,G3,G4と、光学部材G4から射出された光を受
光し、この光を電気信号に変換する固定撮像素子2とを
有する。
The imaging optical system mounted on the substrate 1 has a diaphragm unit 3 for adjusting the amount of light of a subject guided from the opening 1a.
0, and a plurality of prism-shaped optical members G1 and G made of glass, plastic, or the like on which a free-form reflecting surface is formed.
2, G3 and G4, and a fixed image sensor 2 that receives light emitted from the optical member G4 and converts the light into an electric signal.

【0037】紋り部30は、図2に示すように、開口部
1aの軸線に一致する光軸Kを中心に点対称に配置され
ている2枚の絞り羽根31,32を有する。各絞り羽根
31,32は、それぞれに設けられた軸33,34を中
心として回転するように構成され、各絞り羽根31,3
2の回転運動は基板1に平行な面上で行われる。絞り羽
根31の軸33は基板1に設けられている位置決め穴3
7に回転可能に挿入され、絞り羽根32の軸34が基板
1の位置決め穴41に回転可能に挿入されている。各位
置決め穴37,38に対応する軸33,34を挿入する
ことより、各絞り羽根31,32は、その回転によって
規制される絞り開口の中心位置と光軸Kとが一致するよ
うに位置決めされる。各絞り羽根31,32の回転によ
って絞り開口量が変化し、光量が調整される。
As shown in FIG. 2, the pattern portion 30 has two diaphragm blades 31 and 32 arranged point-symmetrically with respect to an optical axis K which coincides with the axis of the opening 1a. Each diaphragm blade 31, 32 is configured to rotate about a shaft 33, 34 provided on each diaphragm blade 31, 32.
The rotational movement of 2 is carried out on a plane parallel to the substrate 1. The shaft 33 of the diaphragm blade 31 is a positioning hole 3 provided in the substrate 1.
7, the shaft 34 of the diaphragm blade 32 is rotatably inserted into the positioning hole 41 of the substrate 1. By inserting the shafts 33 and 34 corresponding to the positioning holes 37 and 38, the diaphragm blades 31 and 32 are positioned so that the center position of the diaphragm opening regulated by the rotation thereof and the optical axis K coincide with each other. It The rotation of the diaphragm blades 31 and 32 changes the diaphragm aperture amount to adjust the light amount.

【0038】各絞り羽根31,32には、アクチュエー
タの一部としてそれぞれ永久磁石35,36が設けられ
ている。この永久磁石35,36は、それぞれ紋り羽根
31,32の位置を検出するための磁気スケールとして
も用いられている。各永久磁石35,36は、各絞り羽
根31,32の回転方向に垂直な方向にかつ基板1に対
し垂直方向に磁極が配置されるように着磁されている。
The diaphragm blades 31 and 32 are provided with permanent magnets 35 and 36, respectively, as a part of the actuator. The permanent magnets 35 and 36 are also used as magnetic scales for detecting the positions of the pattern blades 31 and 32, respectively. The permanent magnets 35 and 36 are magnetized so that their magnetic poles are arranged in a direction perpendicular to the rotation direction of the diaphragm blades 31 and 32 and in a direction perpendicular to the substrate 1.

【0039】永久磁石35に対向する基板1上の位置に
は、コイル38およびヨーク39と位置センサ40とが
配置され、永久磁石36に対向する基板1上の位置に
は、コイル42およびヨーク43と位置センサ44とが
配置されている。なお、ヨーク39は、後述するよう
に、基板1に形成された凹部(図示せず)に基板1と一
体化するように嵌め込まれている。
A coil 38, a yoke 39 and a position sensor 40 are arranged at a position on the substrate 1 opposed to the permanent magnet 35, and a coil 42 and a yoke 43 are arranged at a position on the substrate 1 opposed to the permanent magnet 36. And a position sensor 44 are arranged. The yoke 39 is fitted in a recess (not shown) formed in the substrate 1 so as to be integrated with the substrate 1, as described later.

【0040】永久磁石35は、コイル38およびヨーク
39と共働して絞り羽根31を駆動するためのアクチュ
エータを構成する。このアクチュエータにおいては、永
久磁石35とヨーク39との間に磁束が通過する状態で
コイル38に電流を流すと、前記磁束と電流との相互作
用によって永久磁石35すなわち紋り羽根31を、軸3
3を中心として回転させる。位置センサ40はホールセ
ンサからなり、このホールセンサは、紋り羽根31の回
転による永久磁石35の磁界の変化を検出する。位置セ
ンサ40による検出値は、所定の紋り値になるように絞
り羽根31の回転量を制御するための制御量として用い
られる。
The permanent magnet 35 cooperates with the coil 38 and the yoke 39 to form an actuator for driving the diaphragm blade 31. In this actuator, when a current is passed through the coil 38 while a magnetic flux passes between the permanent magnet 35 and the yoke 39, the interaction between the magnetic flux and the current causes the permanent magnet 35, that is, the pattern blade 31, to move the shaft 3 to the shaft 3.
Rotate around 3. The position sensor 40 comprises a Hall sensor, and this Hall sensor detects a change in the magnetic field of the permanent magnet 35 due to the rotation of the pattern blade 31. The value detected by the position sensor 40 is used as a control amount for controlling the rotation amount of the diaphragm blade 31 so as to obtain a predetermined print value.

【0041】永久磁石36は、コイル42およびヨーク
43と共働して絞り羽根32を駆動するためのアクチュ
エータを構成する。コイル42の一部およびヨーク43
は、基板1に形成された凹部(図示せず)に嵌め込まれ
ている。位置センサ44は、位置センサ42と同様に、
紋り羽根32の回転による永久磁石36の磁界の変化を
検出するホールセンサからなる。
The permanent magnet 36 constitutes an actuator for driving the diaphragm blade 32 in cooperation with the coil 42 and the yoke 43. Part of coil 42 and yoke 43
Are fitted into recesses (not shown) formed in the substrate 1. The position sensor 44, like the position sensor 42,
It is composed of a Hall sensor that detects a change in the magnetic field of the permanent magnet 36 due to the rotation of the pattern blade 32.

【0042】なお、永久磁石35,36をプラスチック
マグネットで構成し、プラスチックマグネットを絞り羽
根31,32の一部分となるように一体化することもで
きる。
The permanent magnets 35 and 36 may be made of plastic magnets, and the plastic magnets may be integrated so as to be a part of the diaphragm blades 31 and 32.

【0043】各光学部材G1,G2,G3,G4は、例
えば、開口部1aから絞り部30を介して入射された光
が、光学部材G1の内部で複数回の反射を繰り返した後
に、光学部材G2に導かれるように、複数の球面レンズ
を組み合わせて構成されたレンズ群と同等の機能を有す
る。
In each of the optical members G1, G2, G3, and G4, for example, the light incident from the opening 1a through the diaphragm 30 is repeatedly reflected a plurality of times inside the optical member G1, and then the optical members It has the same function as a lens group configured by combining a plurality of spherical lenses so as to be guided to G2.

【0044】光学部材G1は基板1に固定されている。
光学部材G1には、基板1に対する位置決めをするため
の1対の軸G1aが設けられ、各軸G1aを対応する基
板1の開口部1bに嵌合することによって、基板1に対
する光学部材G1の位置決め固定が行われている。な
お、本実施例では、各軸G1aと対応する開口部1bと
の嵌合によって、基板1と光学部材G1との位置決め固
定をしているが、これに代えて、基板1に対し光学部材
G1を位置決め手段で位置決めをした後に、基板1と光
学部材G1とを接着剤で固定する方法を用いることもで
きる。
The optical member G1 is fixed to the substrate 1.
The optical member G1 is provided with a pair of shafts G1a for positioning with respect to the substrate 1, and each shaft G1a is fitted into the corresponding opening 1b of the substrate 1 to position the optical member G1 with respect to the substrate 1. It is fixed. In the present embodiment, the substrate 1 and the optical member G1 are positioned and fixed by fitting the respective shafts G1a and the corresponding openings 1b, but instead of this, the optical member G1 is attached to the substrate 1. It is also possible to use a method in which the substrate 1 and the optical member G1 are fixed with an adhesive after the positioning is performed by the positioning means.

【0045】光学部材G2,G3のそれぞれは、基板1
の表面に対し平行に所定の方向(基板1の長手方向)に
移動されることによって、ズーミング(焦点距離調整)
動作、フォーカシング(焦点調整)動作を行うための光
学部材である。
Each of the optical members G2 and G3 has a substrate 1
By moving in a predetermined direction (longitudinal direction of the substrate 1) parallel to the surface of the, the zooming (focal length adjustment)
It is an optical member for performing an operation and a focusing (focus adjustment) operation.

【0046】光学部材G2は、移動台3に接着剤で固定
されている。移動台3は、平板状に形成された鉄などの
高透磁率材からなる。移動台3には、それを基板1に対
し平行にかつ所定の方向に移動させるためのアクチュエ
ータの一部、移動位置を検出するための位置検出部と、
移動方向をガイドするとともに移動位置を規制するため
の位置規制部とが設けられている。
The optical member G2 is fixed to the moving table 3 with an adhesive. The moving table 3 is made of a high magnetic permeability material such as iron formed in a flat plate shape. The moving table 3 includes a part of an actuator for moving the moving table 3 in a predetermined direction in parallel with the substrate 1, and a position detecting section for detecting a moving position.
A position restricting portion is provided for guiding the moving direction and restricting the moving position.

【0047】本実施例では、図1、図3ないし図5に示
すように、アクチュエータの一部として永久磁石5が、
位置検出部として磁気スケール7が、位置規制部として
移動方向に垂直な面内においてV字の断面形状を有する
溝部9および凹状の溝部11がそれぞれ設けられてい
る。永久磁石5は、光学部材G2移動方向に対して直角
方向に着磁された2組の磁石から構成され、各磁石は基
板1に平行な方向に配列されている。
In this embodiment, as shown in FIGS. 1 and 3 to 5, the permanent magnet 5 is provided as a part of the actuator.
A magnetic scale 7 is provided as a position detecting portion, and a groove portion 9 and a concave groove portion 11 each having a V-shaped cross-section in a plane perpendicular to the moving direction are provided as position regulating portions. The permanent magnet 5 is composed of two sets of magnets magnetized in a direction perpendicular to the moving direction of the optical member G2, and each magnet is arranged in a direction parallel to the substrate 1.

【0048】移動台3、永久磁石5と共働してアクチュ
エータを構成するコイル17およびヨーク19は基板1
に設けられている。コイルの一部およびヨーク19は、
図3に示すように、基板1に形成された凹部1eに嵌め
込まれている。
The coil 17 and the yoke 19 which cooperate with the movable table 3 and the permanent magnet 5 to form an actuator are the substrate 1
It is provided in. A part of the coil and the yoke 19 are
As shown in FIG. 3, it is fitted in a recess 1 e formed in the substrate 1.

【0049】磁気スケール7の磁力は、MRセンサ、ホ
ールセンサなどからなる位置センサ21で検出され、こ
の位置センサ21は磁気スケール7に対向するように基
板1に設けられている。
The magnetic force of the magnetic scale 7 is detected by a position sensor 21 including an MR sensor and a Hall sensor, and the position sensor 21 is provided on the substrate 1 so as to face the magnetic scale 7.

【0050】各溝部9,11に対向する基板1上のそれ
ぞれの位置には、移動台3の移動方向をガイドするとと
もに移動位置を規制するためのレール部13,14が設
けられている。レール部13,14には、移動台3の移
動方向に垂直な面内においてV字の断面形状を有する溝
が形成されている。各溝部9,11と対応するレール部
13,14との間には、ボール46が挿入されている。
Rail portions 13 and 14 for guiding the moving direction of the moving table 3 and restricting the moving position are provided at respective positions on the substrate 1 facing the respective groove portions 9 and 11. Grooves having a V-shaped cross section are formed in the rail portions 13 and 14 in a plane perpendicular to the moving direction of the moving table 3. A ball 46 is inserted between each groove 9 and 11 and the corresponding rail 13 and 14.

【0051】移動台3、永久磁石5、コイル17、ヨー
ク19によって構成されたアクチュエータにおいては、
コイル17に電流を流すと、後述する磁気回路と電流と
の相互作用により駆動力が発生し、この駆動力によって
移動台3すなわち光学部材G2が光軸方向(図3におい
て紙面と垂直方向)に移動される。具体的には、図5
(b)に示すように、永久磁石5、透磁性がある移動台
3、ヨーク19の間には図中に点線で示す磁路が形成さ
れている。永久磁石5とヨーク19との間の磁路中に存
在するコイル17に電流を流すと、磁力と電流との相互
作用により発生する駆動力によって移動台3すなわち光
学部材G2は図中に示す矢印方向に移動される。電流の
流れ方向を変化させることによって移動台3の移動方向
は変化し、例えば、移動台3を図5(b)に示す位置か
ら図5(a)に示す位置へ移動させることができ、移動
台3を図5(b)に示す位置から図5(c)に示す位置
へ移動させることができる。
In the actuator composed of the moving table 3, the permanent magnet 5, the coil 17 and the yoke 19,
When a current is applied to the coil 17, a driving force is generated by the interaction between a magnetic circuit and a current, which will be described later, and the driving force causes the movable table 3 or the optical member G2 to move in the optical axis direction (direction perpendicular to the paper surface in FIG. 3). Be moved. Specifically, FIG.
As shown in (b), a magnetic path indicated by a dotted line in the drawing is formed between the permanent magnet 5, the movable base 3 having magnetic permeability, and the yoke 19. When an electric current is passed through the coil 17 existing in the magnetic path between the permanent magnet 5 and the yoke 19, the moving base 3, that is, the optical member G2 is moved by the driving force generated by the interaction between the magnetic force and the electric current, and the arrow mark shown in the figure. Is moved in the direction. By changing the direction of the current flow, the moving direction of the moving table 3 changes. For example, the moving table 3 can be moved from the position shown in FIG. 5B to the position shown in FIG. The table 3 can be moved from the position shown in FIG. 5 (b) to the position shown in FIG. 5 (c).

【0052】移動台3の移動時、図4に示すように、永
久磁石5とヨーク19との間には磁力による吸引力が働
いているから、移動台3とレール部13とはボール46
を介してガタなく密着している。移動台3が図4(a)
に示す方向に移動するときにはボール46は右回転を
し、また図4(c)に示す方向に移動するときにはボー
ル46は左回転をし、移動台3の姿勢はレール部13に
対しボール46を介して安定に保持される。また、移動
台3に移動中、ボール46は転がるから、ボール46に
対して移動台3およびレール部13との接触面に働く転
がり摩擦は、従来例で記載したガイドピンとレンズの保
持部材の接触部に働くすべり摩按に比べると、無視でき
るほど小きく、摩擦による光学部材G2の移動時におけ
る負荷を低減することができる。移動台3の移動に伴い
磁気スケール7の磁界は変化し、その変化は位置センサ
21で読み取られる。位置センサ21からの検出値は、
移動台3の移動制御に用いられる。
When the movable table 3 is moved, as shown in FIG. 4, a magnetic attraction force acts between the permanent magnet 5 and the yoke 19, so that the movable table 3 and the rail portion 13 have a ball 46.
It is in close contact without play through. The moving table 3 is shown in FIG.
The ball 46 rotates to the right when moving in the direction shown in FIG. 4, and the ball 46 rotates to the left when moving in the direction shown in FIG. Holds stable through. Further, since the ball 46 rolls while moving to the moving table 3, the rolling friction acting on the contact surface between the moving table 3 and the rail portion 13 with respect to the ball 46 causes the contact between the guide pin and the lens holding member described in the conventional example. It is negligibly smaller than the sliding friction applied to the parts, and the load when the optical member G2 is moved due to friction can be reduced. The magnetic field of the magnetic scale 7 changes as the movable table 3 moves, and the change is read by the position sensor 21. The detected value from the position sensor 21 is
It is used for movement control of the moving table 3.

【0053】本実施例では、基板1に平行な方向に配列
されている2組の磁石からなる永久磁石5を用いている
が、これに代えて、図6に示すように、それぞれ光軸と
垂直方向に着磁されている永久磁石51,52を用い、
各永久磁石51,52をバックヨーク53に固着するよ
うに構成することもできる。このような構成によって、
磁路は最も空間的ギャップが少ない永久磁石51,52
の下面とヨーク19との間に集中し、駆動力および磁路
の安定化を図ることができる。
In this embodiment, the permanent magnet 5 composed of two sets of magnets arranged in the direction parallel to the substrate 1 is used, but instead of this, as shown in FIG. Using permanent magnets 51 and 52 that are vertically magnetized,
The permanent magnets 51 and 52 may be fixed to the back yoke 53. With such a configuration,
The magnetic path has permanent magnets 51, 52 with the smallest spatial gap.
The magnetic field is concentrated between the lower surface and the yoke 19 to stabilize the driving force and the magnetic path.

【0054】同様に、光学部材G3は、移動台4に接着
剤で固定されている。移動台4は、移動台3と同じ構成
を有し、移動台4には、アクチュエータの一部として永
久磁石6が、位置検出部として磁気スケール8が、位置
規制部として移動台4の移動方向に垂直な面内において
V字の断面形状を有する溝部10および凹状の溝部12
がそれぞれ設けられている。
Similarly, the optical member G3 is fixed to the movable table 4 with an adhesive. The moving table 4 has the same configuration as the moving table 3, and the moving table 4 includes a permanent magnet 6 as a part of an actuator, a magnetic scale 8 as a position detecting section, and a moving direction of the moving table 4 as a position restricting section. Groove 10 and concave groove 12 having a V-shaped cross-section in a plane perpendicular to the plane
Are provided respectively.

【0055】移動台4、永久磁石6と共働してアクチュ
エータを構成するコイル18およびヨーク20は、基板
1に設けられている。ヨーク20は、後述するように、
基板1に形成された開口部(図示せず)に基板1に一体
化するように嵌め込まれた鉄ベースからなる。
The coil 18 and the yoke 20 which cooperate with the movable table 4, the permanent magnet 6 and constitute the actuator are provided on the substrate 1. The yoke 20 is, as described later,
It is made of an iron base that is fitted into the opening (not shown) formed in the substrate 1 so as to be integrated with the substrate 1.

【0056】移動台4、永久磁石6、コイル18、ヨー
ク20によって構成されたアクチュエータは、上述の永
久磁石5、コイル17、ヨーク19によって構成された
アクチュエータと同じ動作を行う。
The actuator composed of the movable table 4, the permanent magnet 6, the coil 18 and the yoke 20 performs the same operation as the actuator composed of the permanent magnet 5, the coil 17 and the yoke 19 described above.

【0057】磁気スケール9の磁力は、MRセンサ、ホ
ールセンサなどからなる位置センサ22で検出され、こ
の位置センサ22は磁気スケール9に対向するように基
板1に設けられている。
The magnetic force of the magnetic scale 9 is detected by a position sensor 22 including an MR sensor and a Hall sensor, and the position sensor 22 is provided on the substrate 1 so as to face the magnetic scale 9.

【0058】各溝部10,12に対向する基板1上のそ
れぞれの位置には、移動台4の移動方向をガイドすると
ともに移動位置を規制するためのレール部15,16が
設けられている。レール部15,16には、移動台3の
移動方向に垂直な面内においてV字の断面形状を有する
溝が形成され、各溝部10,12と対応するレール部1
5,16との間にはボール47が挿入されている。この
移動台4の移動に伴い光学部材G3は所定の方向に移動
され、移動台4の移動時に溝部10,12と対応するレ
ール部15,16との間に発生する摩擦力は、ボール4
7の転がりによって低減される。
Rail portions 15 and 16 for guiding the moving direction of the moving table 4 and restricting the moving position are provided at respective positions on the substrate 1 facing the respective groove portions 10 and 12. Grooves having a V-shaped cross-sectional shape are formed in the rail portions 15 and 16 in a plane perpendicular to the moving direction of the moving table 3, and the rail portions 1 corresponding to the respective groove portions 10 and 12 are formed.
A ball 47 is inserted between the parts 5 and 16. The optical member G3 is moved in a predetermined direction in accordance with the movement of the movable table 4, and the frictional force generated between the groove portions 10 and 12 and the corresponding rail portions 15 and 16 when the movable table 4 is moved is equal to that of the ball 4
Reduced by 7 rolling.

【0059】なお、本実施例では、各光学部材G2,G
3と各移動台3,4とを接着剤で固定しているが、これ
に代えて、各光学部材G2,G3を各移動台3,4に対
しインサート成形またはアウトサート成形することによ
って各光学部材G2,G3と各移動台3,4と一体化す
ることもできる。
In this embodiment, each optical member G2, G
3 and the movable bases 3 and 4 are fixed by an adhesive, but instead of this, the optical members G2 and G3 are insert-molded or outsert-molded to the movable bases 3 and 4, respectively, so that the optical components G3 and G3 are fixed. It is also possible to integrate the members G2 and G3 with the respective movable bases 3 and 4.

【0060】光学部材G4は、基板1に接着剤で固定さ
れている。光学部材G4は、その射出光の光軸が基板1
の開口部1cの軸線に一致するように、基板1上に配置
されている。光学部材G4には、被写体像に含まれる不
要な高周波成分、赤外線を取り除くための光学フィルタ
(図示せず)が貼り付られている。なお、この光学フィ
ルタを蒸着によって光学部材G4に一体的に形成するこ
ともできる。
The optical member G4 is fixed to the substrate 1 with an adhesive. The optical axis of the emitted light of the optical member G4 is the substrate 1
Is arranged on the substrate 1 so as to coincide with the axis of the opening 1c. An optical filter (not shown) for removing unnecessary high frequency components and infrared rays included in the subject image is attached to the optical member G4. The optical filter may be integrally formed with the optical member G4 by vapor deposition.

【0061】各光学部材G1,G2,G3,G4で構成
される光学系においては、光学部材G1で基板1の開口
部1aから絞り部30を介して入射した光を基板1の表
面に平行な方向に反射し、その反射された光を光学部材
G2,G3で光学部材G4に導き、光学部材G4で光を
基板1の表面に対し垂直な方向に射出する。
In the optical system composed of the respective optical members G1, G2, G3, G4, the light incident on the optical member G1 from the opening 1a of the substrate 1 through the diaphragm 30 is parallel to the surface of the substrate 1. Direction, the reflected light is guided to the optical member G4 by the optical members G2 and G3, and the light is emitted in the direction perpendicular to the surface of the substrate 1 by the optical member G4.

【0062】光学部材G4から射出された光は、基板1
の開口部1cを介して固体撮像素子2に導かれる。
The light emitted from the optical member G4 is emitted from the substrate 1
Is guided to the solid-state image sensor 2 through the opening 1c.

【0063】固体撮像素子2は、図1、図7ないし図9
に示すように、基板1の裏面に取り付けられている。固
体撮像素子2は、図8に示すように、蓄積された信号を
出力するための端子、タイミングパルスなどを入力する
ための端子を含む複数の端子904を有する。各端子9
04は、固体撮像素子2の撮像面905側に設けられて
いる。固体撮像素子2は、撮像面905の光軸が基板1
の開口部1cの軸線に一致するように、基板1の裏面側
に配置されている。各端子904は、基板1の裏面に設
けられている端子907にそれぞれ直接にはんだ付けな
どによって接続されているから、ノイズなどの影響を受
け難くなる。
The solid-state image pickup device 2 is shown in FIGS.
As shown in, it is attached to the back surface of the substrate 1. As shown in FIG. 8, the solid-state image sensor 2 has a plurality of terminals 904 including terminals for outputting accumulated signals and terminals for inputting timing pulses and the like. Each terminal 9
04 is provided on the imaging surface 905 side of the solid-state imaging device 2. In the solid-state imaging device 2, the optical axis of the imaging surface 905 is the substrate 1
Is arranged on the back surface side of the substrate 1 so as to coincide with the axis of the opening 1c. Since each terminal 904 is directly connected to the terminal 907 provided on the back surface of the substrate 1 by soldering or the like, it is less likely to be affected by noise or the like.

【0064】固体撮像素子2はその裏面側から樹脂部材
903で封止されている。この樹脂部材903によっ
て、固体撮像素子2が保護されるとともに、固体撮像素
子2の基板1に対する取付強度が増す。
The solid-state image pickup element 2 is sealed with a resin member 903 from the back side thereof. The resin member 903 protects the solid-state image sensor 2 and increases the mounting strength of the solid-state image sensor 2 to the substrate 1.

【0065】基板1の開口部1cは、ガラス部材50で
覆われ、ガラス部材50は、光学部材G4と基板1との
間に配置されている。このガラス部材50によって、固
体撮像素子2の撮像面905は保護されている。
The opening 1c of the substrate 1 is covered with the glass member 50, and the glass member 50 is arranged between the optical member G4 and the substrate 1. The glass member 50 protects the imaging surface 905 of the solid-state imaging device 2.

【0066】なお、本実施例では、撮像面905を保護
するためのガラス部材50が基板1と光学部材G4との
間に配置されているが、これに代えて、図10に示すよ
うに、固体撮像素子2の撮像面905を保護するための
ガラス部材902を基板1の開口部901にはめ込むよ
うに構成することもできる。この構成では、ガラス部材
902が基板1の表面に突出せず、固体撮像素子2周辺
の基板1の厚さ方向に沿う厚さの増大を抑制することが
でき、ひいては、装置全体の厚さを薄くすることができ
る。
In the present embodiment, the glass member 50 for protecting the image pickup surface 905 is arranged between the substrate 1 and the optical member G4, but instead of this, as shown in FIG. A glass member 902 for protecting the image pickup surface 905 of the solid-state image pickup device 2 may be fitted in the opening 901 of the substrate 1. With this configuration, the glass member 902 does not project to the surface of the substrate 1, and it is possible to suppress an increase in the thickness of the substrate 1 around the solid-state imaging device 2 in the thickness direction, and thus to reduce the thickness of the entire device. Can be thinned.

【0067】また、ガラス部材50に代えて、図11に
示すように、光学部材G4の一部を基板1の開口部90
1にはめ込むように構成することによって、光学部材G
4を固体撮像素子2の撮像面905を保護するためのガ
ラス部材として兼用することもできるとともに、固体撮
像素子2に対する光学部材G4に位置決めが容易にな
る。
Further, instead of the glass member 50, as shown in FIG. 11, a part of the optical member G4 is provided with an opening 90 of the substrate 1.
1 so that the optical member G
4 can also be used as a glass member for protecting the image pickup surface 905 of the solid-state image pickup element 2, and the optical member G4 can be easily positioned with respect to the solid-state image pickup element 2.

【0068】さらに、本実施例では、撮像面側に電極9
04が形成されている固体撮像素子2を用いているが、
この固体撮像素子2をセラミックなどの基板に予め装着
した組立体を用いることもできる。この組立体では、固
体撮像素子2の電極904とを接続する電極が設けら
れ、この電極と基板1の裏面に設けられている電極とを
直接接続するようにすることもできる。
Further, in this embodiment, the electrode 9 is provided on the image pickup surface side.
Although the solid-state image sensor 2 in which 04 is formed is used,
It is also possible to use an assembly in which the solid-state imaging device 2 is mounted in advance on a substrate such as ceramic. In this assembly, an electrode that connects to the electrode 904 of the solid-state image sensor 2 is provided, and this electrode and the electrode provided on the back surface of the substrate 1 can be directly connected.

【0069】基板1には、図1に示すように、上述の光
学撮像系を構成する部品に加えて、複数の回路素子45
a,45bが搭載されている。各回路素子45aは、光
学部材G2,G3を搭載する各移動台3,4のアクチュ
エータ、絞り部3のアクチュエータ、各位置センサの駆
動回路を構成する素子からなる。回路素子45bは、固
体撮像素子2の駆動回路および映像信号処理回路を構成
する素子からなる。
As shown in FIG. 1, on the substrate 1, a plurality of circuit elements 45 are provided in addition to the above-mentioned components constituting the optical image pickup system.
a and 45b are mounted. Each circuit element 45a is composed of an actuator of each of the movable bases 3 and 4 on which the optical members G2 and G3 are mounted, an actuator of the diaphragm unit 3, and an element forming a drive circuit of each position sensor. The circuit element 45b includes an element that constitutes a drive circuit and a video signal processing circuit of the solid-state image sensor 2.

【0070】基板1には、各回路素子45a,45bを
外部回路に接続するためのコネクタ48が設けられてい
る。
The board 1 is provided with a connector 48 for connecting the circuit elements 45a and 45b to an external circuit.

【0071】基板1には、基板1に搭載されている部品
を磁気およぴ外部からの光から遮蔽し、内面反射を抑
え、外部からのほこりの侵入を防ぐように、シールドケ
ース49が取り付けられ、シールドケース49は、例え
ば内面を黒く塗装した鉄板などから形成されている。
A shield case 49 is attached to the substrate 1 so as to shield the components mounted on the substrate 1 from magnetism and light from the outside, suppress internal reflection, and prevent dust from entering from the outside. The shield case 49 is formed of, for example, an iron plate whose inner surface is painted black.

【0072】次に、本実施例の光学装置の組立手順につ
いて説明する。
Next, the procedure for assembling the optical device of this embodiment will be described.

【0073】まず、第1工程では、固接部品の基板1上
への配置を行う。この固接部品としては、固体撮像素子
2と、光学部材G1,G4と、各光学部材G2,G3の
アクチュエータを構成するコイル17,18、ヨーク1
9,20、レール部13,14,15,16と、位置セ
ンサ21,22と、絞り部30のコイル38,42、ヨ
ーク39,43、位置センサ40,44と、各回路素子
45a,45bとがある。
First, in the first step, the fixed contact parts are arranged on the substrate 1. As the solid contact parts, the solid-state image pickup element 2, the optical members G1 and G4, the coils 17 and 18 and the yoke 1 which constitute the actuators of the optical members G2 and G3.
9, 20, rail portions 13, 14, 15, 16, position sensors 21, 22, coils 38, 42 of the diaphragm portion 30, yokes 39, 43, position sensors 40, 44, and circuit elements 45a, 45b. There is.

【0074】まず、固体撮像素子2は、基板1の裏面に
半田付け、接着などによって固設され、固体撮像素子2
の端子905と基板1の端子907とは電気的に接続さ
れる。
First, the solid-state image sensor 2 is fixed to the back surface of the substrate 1 by soldering, bonding or the like.
Of the terminal 905 and the terminal 907 of the substrate 1 are electrically connected.

【0075】次いで、ガラス部材50が開口部1aを覆
うように取り付けられ、光学部材G4が基板1の表面に
固定される。光学部材G4は、基板1に対して接着剤な
どにより固着されている。
Next, the glass member 50 is attached so as to cover the opening 1a, and the optical member G4 is fixed to the surface of the substrate 1. The optical member G4 is fixed to the substrate 1 with an adhesive or the like.

【0076】光学部材G4の取り付け後、光学部材G1
の軸G1aは対応する開口部1bに嵌合され、光学部材
G1の基板1上での位置が決定される。
After mounting the optical member G4, the optical member G1
The axis G1a of is fitted into the corresponding opening 1b, and the position of the optical member G1 on the substrate 1 is determined.

【0077】次いで、他の固設部品が順次に位置決めさ
れ、半田付け、接着などにより基板1に対し固定され
る。コイル17,18、ヨーク19,20、位置センサ
21,22、コイル38,42、ヨーク39,43、位
置センサ40,44、各回路素子45a,45bは基板
1に形成された配線パターンに接続される。
Next, the other fixed components are sequentially positioned and fixed to the substrate 1 by soldering, bonding or the like. The coils 17 and 18, the yokes 19 and 20, the position sensors 21 and 22, the coils 38 and 42, the yokes 39 and 43, the position sensors 40 and 44, and the circuit elements 45a and 45b are connected to a wiring pattern formed on the substrate 1. It

【0078】この第1工程の完了に伴い、固設部品の基
板1上への搭載、絞り部30の絞り羽根31,32、光
学部材G2,G3を搭載する移動台3、4などの可動部
材を駆動制御するためのコイル、位置センサなどの電気
的接続は完了する。このように、固体撮像素子2を含む
基板1と電気的接続が必要な固設部品は、リード線、フ
レキシブルプリント板を介さずに、直接基板1にハンダ
などに電気的に接続されるから、電気配線に要する組立
工程が省略され、コストが低減する。
With the completion of this first step, mounting of fixed parts on the substrate 1, movable blades 3 and 4 for mounting the diaphragm blades 31 and 32 of the diaphragm portion 30 and the optical members G2 and G3. The electrical connection of the coil, position sensor, etc. for driving and controlling the motor is completed. In this way, the fixed component that needs to be electrically connected to the substrate 1 including the solid-state image sensor 2 is directly electrically connected to the substrate 1 such as solder without passing through the lead wire or the flexible printed board. The assembly process required for electric wiring is omitted, and the cost is reduced.

【0079】次に、第2工程が実行される。この第2工
程では、可動部材である絞り羽根31,32が基板1に
装着される。具体的には、絞り羽根31の軸33が基板
1の穴37に挿入され、同様に、絞り羽根32の軸34
が基板1の穴41に挿入される。
Next, the second step is executed. In this second step, the diaphragm blades 31 and 32 that are movable members are mounted on the substrate 1. Specifically, the shaft 33 of the diaphragm blade 31 is inserted into the hole 37 of the substrate 1, and similarly, the shaft 34 of the diaphragm blade 32.
Are inserted into the holes 41 of the substrate 1.

【0080】次に、第3工程が実行される。この第3工
程では、撮像光学系である光学部材G2,G3およびそ
のアクチュエータを構成する可動部材の装着を行う。移
動台3,4がそれぞれボール46,47を介してレール
部13,…,16に搭載され、移動第3,4に対し光学
部材G2,G3の位置が定められる。
Next, the third step is executed. In this third step, the optical members G2 and G3, which are the image pickup optical system, and the movable member that constitutes the actuator thereof are mounted. The movable bases 3 and 4 are mounted on the rail portions 13, ..., 16 via balls 46 and 47, respectively, and the positions of the optical members G2 and G3 are determined with respect to the movable third and fourth.

【0081】次に、第4工程が実行され、この第4工程
では、シールドケース49の取り付けを行う。このシー
ルドケース49は、基板1の表面を覆うように基板1に
置かれ、対応する部位を基板1のグランドパターンにハ
ンダ付けをすることによって、固定が行われる。
Next, the fourth step is executed, and in this fourth step, the shield case 49 is attached. The shield case 49 is placed on the substrate 1 so as to cover the surface of the substrate 1, and the corresponding portion is fixed to the ground pattern of the substrate 1 by soldering.

【0082】第4工程の完了によって、基板1上への部
品の装着は終了する。
By the completion of the fourth step, the mounting of the component on the substrate 1 is completed.

【0083】このように、従来レンズ等の光学系を保持
していた筐体という複雑で高価な部品を用いることな
く、また組立工程を簡略化することができ、低コストな
撮像光学系を堤供することができる。
As described above, it is possible to simplify the assembly process without using a complicated and expensive component such as a housing that conventionally holds an optical system such as a lens, and to provide a low-cost imaging optical system. Can be offered.

【0084】また、平面的な基板1上に上述の各部材ま
たは部品を配置することによって、基板1の厚さ方向の
寸法が極力増加しないように各部品の配置、姿勢を決定
することが容易になり、その結果、薄型の光学装置を簡
単に得ることができる。
Further, by arranging the above-mentioned members or parts on the flat board 1, it is easy to determine the arrangement and posture of each part so that the dimension of the board 1 in the thickness direction is not increased as much as possible. As a result, a thin optical device can be easily obtained.

【0085】さらに、絞り部30の絞り羽根31,32
を基板1に平行な面に回転運動させるとともに、ヨーク
39,43を基板1に形成された凹部に嵌め込むことに
よって、絞り部30の絞り羽根31,32、ヨーク3
9,43などによる基板1の厚さ方向における厚さの増
大を抑制することができ、より薄型の光学装置を実現す
ることができる。
Further, the diaphragm blades 31, 32 of the diaphragm unit 30.
Is rotated in a plane parallel to the substrate 1, and the yokes 39 and 43 are fitted into the recesses formed in the substrate 1, so that the diaphragm blades 31 and 32 of the diaphragm unit 30 and the yoke 3 are formed.
It is possible to suppress an increase in the thickness of the substrate 1 in the thickness direction due to 9, 43, etc., and it is possible to realize a thinner optical device.

【0086】さらに、固体撮像素子2が装着された基板
1に対して各光学部材、光学部材の規制部、絞り部30
が配置されるから、それぞれの位置精度を高精度化する
ことができる。
Further, with respect to the substrate 1 on which the solid-state image pickup device 2 is mounted, each optical member, the restricting portion of the optical member, and the diaphragm portion 30
Since the positions are arranged, the positional accuracy of each can be improved.

【0087】さらに、絞り羽根31の軸33を基板1の
穴37に挿入し、絞り羽根32の軸34を基板1の穴4
1に挿入することによって、各絞り羽根31、32が規
制する開口と光軸Kとが一致するように、各絞り羽根3
1、32に対する位置決めを行うことができ、絞り部3
0の光軸Kに対する位置決めを簡単な手順でかつ高い精
度で行うことができる。
Further, the shaft 33 of the diaphragm blade 31 is inserted into the hole 37 of the substrate 1, and the shaft 34 of the diaphragm blade 32 is inserted into the hole 4 of the substrate 1.
When the aperture blades 3 and 3 are inserted into the aperture blades 1, the aperture blades 31 and 32 are aligned with the optical axis K.
Positioning can be performed with respect to 1, 32, and the diaphragm 3
Positioning with respect to the optical axis K of 0 can be performed with a simple procedure and with high accuracy.

【0088】なお、本実施例では、各光学部材G1,G
2,G3,G4による撮像光学系を例に説明したが、従
来例で説明したような屈折光学系によるレンズ群による
撮像光学系あるいは屈折光学系によるレンズ群を付け加
えた撮像光学系において、これらの光学系を基板上に直
接または移動台上に配置することによって可動とするよ
うに構成することは可能である。
In this embodiment, each optical member G1, G
Although the imaging optical system based on G2, G3, and G4 has been described as an example, in the imaging optical system including the imaging optical system including the lens group including the refracting optical system or the lens group including the refracting optical system as described in the conventional example, these are described. It is possible to make the optical system movable by directly disposing the optical system on the substrate or on the movable table.

【0089】次に、本実施例の構成を電気的に図12を
参照しながら説明する。図12は図1の光学装置の構成
を示すブロック図である。
Next, the structure of this embodiment will be described electrically with reference to FIG. FIG. 12 is a block diagram showing the configuration of the optical device of FIG.

【0090】光学装置は、図12に示すように、撮像光
学系601を備える。撮像光学系601は、入射光の光
量を制限する絞り部G12(図1に示す絞り部30)
と、位置固定の光学部材G1と、位置移動によって撮影
倍率を変化させる光学部材G2と、位置移動により焦点
調節を行う光学部材G3と、位置固定で、被写体像の不
要な高周波成分や赤外線を除去するための光学フィルタ
が形成されている光学部材G4とからなる。
As shown in FIG. 12, the optical device has an image pickup optical system 601. The imaging optical system 601 includes a diaphragm unit G12 (a diaphragm unit 30 shown in FIG. 1) that limits the amount of incident light.
An optical member G1 for fixing the position, an optical member G2 for changing the photographing magnification by moving the position, an optical member G3 for adjusting the focus by moving the position, and an unnecessary high frequency component and infrared rays of the subject image by fixing the position. And an optical member G4 on which an optical filter for performing the operation is formed.

【0091】光学部材G4から射出された光は固体撮像
素子2に入射され、その入射光は、固体撮像素子2で電
気信号に変換される。固体撮像素子2は、撮像素子駆動
回路604で駆動され、撮像素子駆動回路604は、ク
ロック回路603が発生するタイミング信号を増幅し、
その増幅された信号で固体撮像素子2を駆動する。クロ
ック回路603におけるタイミング信号の発生タイミン
グは、CPU616によって制御される。
The light emitted from the optical member G4 is incident on the solid-state image sensor 2, and the incident light is converted into an electric signal by the solid-state image sensor 2. The solid-state image sensor 2 is driven by the image sensor drive circuit 604, and the image sensor drive circuit 604 amplifies the timing signal generated by the clock circuit 603,
The solid-state imaging device 2 is driven by the amplified signal. The generation timing of the timing signal in the clock circuit 603 is controlled by the CPU 616.

【0092】固体撮像素子2から出力された電気信号
は、前置処理回路605に与えられる。前置処理回路6
05は、固体撮像素子2からの電気信号に対し増幅、C
DS処理などを行う。前置処理回路605からの信号
は、A/D変換器606でデジタル信号化され、このデ
ジタル信号はプロセス回路607に与えられる。プロセ
ス回路607は、デジタル信号に対し各種の処理を行
い、映像化する。
The electric signal output from the solid-state image sensor 2 is applied to the preprocessing circuit 605. Preprocessing circuit 6
Reference numeral 05 is an amplifier for the electric signal from the solid-state image sensor 2, and C
Performs DS processing and the like. The signal from the preprocessing circuit 605 is converted into a digital signal by the A / D converter 606, and this digital signal is given to the process circuit 607. The process circuit 607 performs various kinds of processing on the digital signal to visualize it.

【0093】プロセス回路607からの映像信号は、D
/A変換器608を介して表示装置609に、D/A変
換器610を介してアナログ出力611に、メモリ61
2に、デジタル出力に、合焦情報検出回路614、輝度
情報検出回路615にそれぞれ与えられる。
The video signal from the process circuit 607 is D
The display device 609 via the A / A converter 608, the analog output 611 via the D / A converter 610, and the memory 61.
2, the digital output is supplied to the focus information detection circuit 614 and the brightness information detection circuit 615, respectively.

【0094】表示装置609は、映像信号が示す映像を
表示するLCDからなる。アナログ出力611は、例え
ばテレビモニタなどに信号を出力するためのアナログ信
号出力端子からなる。メモリ612は、映像信号を記録
する。デジタル出力613は、例えば外部の記録媒体な
どに信号を出力するための端子からなる。
The display device 609 is composed of an LCD for displaying the image indicated by the image signal. The analog output 611 includes an analog signal output terminal for outputting a signal to, for example, a television monitor. The memory 612 records the video signal. The digital output 613 includes a terminal for outputting a signal to, for example, an external recording medium.

【0095】合焦情報検出回路614は、プロセス回路
607からの映像信号に基づき被写体像の合焦状態を検
出する。その検出結果は、CPU616に与えられる。
The focus information detection circuit 614 detects the focus state of the subject image based on the video signal from the process circuit 607. The detection result is given to the CPU 616.

【0096】輝度情報検出回路615は、プロセス回路
607からの映像信号に基づき被写体像の明るさ情報を
検出する。その検出結果は、CPU616に与えられ
る。
The brightness information detection circuit 615 detects the brightness information of the subject image based on the video signal from the process circuit 607. The detection result is given to the CPU 616.

【0097】光学部材G2は、アクチュエータ617で
所定の方向に移動される。このアクチュエータ617
は、図1に示すように、移動台3、永久磁石5、コイル
17、ヨーク19によって構成される。アクチュエータ
617の駆動制御はアクチュエータ制御回路619から
の制御信号によって行われ、この制御信号はドライブ回
路620で増幅された後にアクチュエータ617に与え
られる。光学部材G2の位置は位置検出器618で検出
され、この位置検出器618は、図1に示す位置センサ
21から構成される。位置検出器618からの信号は、
増幅器621で増幅された後に、A/D変換器622を
介してCPU616に与えられる。
The optical member G2 is moved in a predetermined direction by the actuator 617. This actuator 617
As shown in FIG. 1, is composed of a moving table 3, a permanent magnet 5, a coil 17, and a yoke 19. Drive control of the actuator 617 is performed by a control signal from the actuator control circuit 619, and this control signal is amplified by the drive circuit 620 and then given to the actuator 617. The position of the optical member G2 is detected by the position detector 618, and this position detector 618 includes the position sensor 21 shown in FIG. The signal from the position detector 618 is
After being amplified by the amplifier 621, it is given to the CPU 616 via the A / D converter 622.

【0098】光学部材G3は、アクチュエータ623で
所定の方向に移動される。このアクチュエータ623
は、図1に示すように、移動台4、永久磁石6、コイル
18、ヨーク20によって構成される。アクチュエータ
623の駆動制御はアクチュエータ制御回路625から
の制御信号によって行われ、この制御信号はドライブ回
路626で増幅された後にアクチュエータ623に与え
られる。光学部材G3の位置は位置検出器624で検出
され、この位置検出器624は、図1に示す位置センサ
22から構成される。位置検出器624からの信号は、
増幅器627で増幅された後に、A/D変換器628を
介してCPU616に与えられる。
The optical member G3 is moved in a predetermined direction by the actuator 623. This actuator 623
As shown in FIG. 1, is composed of a moving table 4, a permanent magnet 6, a coil 18, and a yoke 20. The drive control of the actuator 623 is performed by a control signal from the actuator control circuit 625, and this control signal is amplified by the drive circuit 626 and then given to the actuator 623. The position of the optical member G3 is detected by the position detector 624, and this position detector 624 is composed of the position sensor 22 shown in FIG. The signal from the position detector 624 is
After being amplified by the amplifier 627, it is given to the CPU 616 via the A / D converter 628.

【0099】絞り部G12は、アクチュエータ629で
所定の絞り量になるように駆動される。このアクチュエ
ータ629は、図1に示すように、絞り羽根31,3
2、永久磁石35,36、コイル38,42、ヨーク3
9,43によって構成される。アクチュエータ629の
駆動制御はアクチュエータ制御回路631からの制御信
号によって行われ、この制御信号はドライブ回路632
で増幅された後にアクチュエータ629に与えられる。
絞り部G12の絞り量すなわち絞り羽根31,32の回
転位置は位置検出器630で検出され、この位置検出器
630は、図1に示す位置センサ40,44から構成さ
れる。位置検出器630からの信号は、増幅器633で
増幅された後に、A/D変換器634を介してCPU6
16に与えられる。
The diaphragm G12 is driven by the actuator 629 so that the diaphragm amount becomes a predetermined diaphragm amount. This actuator 629, as shown in FIG.
2, permanent magnets 35, 36, coils 38, 42, yoke 3
It is composed of 9,43. The drive control of the actuator 629 is performed by the control signal from the actuator control circuit 631, and this control signal is used as the drive circuit 632.
It is given to the actuator 629 after being amplified by.
The diaphragm amount of the diaphragm portion G12, that is, the rotational positions of the diaphragm blades 31 and 32 are detected by the position detector 630, and the position detector 630 is composed of the position sensors 40 and 44 shown in FIG. The signal from the position detector 630 is amplified by the amplifier 633, and then is transmitted to the CPU 6 via the A / D converter 634.
Given to 16.

【0100】CPU616は、各検出器618,62
4,630からの検出結果、合焦情報検出回路614か
らの検出結果、および輝度情報検出回路615からの検
出結果に基づき対応するアクチュエータ制御回路62
0,626,630を制御する。
The CPU 616 uses the detectors 618 and 62.
4, 630, the focus information detection circuit 614, and the luminance information detection circuit 615 detect the corresponding actuator control circuit 62.
0, 626, 630 are controlled.

【0101】CPU616には、操作部635から操作
指示信号が与えられる。操作部635は撮影者による操
作に対応する操作指示信号を生成する。
An operation instruction signal is given to the CPU 616 from the operation unit 635. The operation unit 635 generates an operation instruction signal corresponding to the operation by the photographer.

【0102】このような回路構成において、撮像光学系
601とアクチュエータ駆動回路636と固体撮像素子
2からの電気信号を処理する映像信号処理回路637と
に分類することができる。アクチュエータ駆動回路63
6には、各アクチュエータ制御回路619,625,6
31が含まれ、アクチュエータ駆動回路636は、図1
に示す回路素子45a内に構成される。映像信号処理回
路637は、撮像素子駆動回路604とクロック回路6
03とともに、図1に示す回路素子45b内に構成され
る。
In such a circuit structure, it can be classified into an image pickup optical system 601, an actuator drive circuit 636, and a video signal processing circuit 637 which processes an electric signal from the solid-state image pickup device 2. Actuator drive circuit 63
6 includes actuator control circuits 619, 625, 6
31 is included, and the actuator drive circuit 636 is similar to that shown in FIG.
The circuit element 45a shown in FIG. The video signal processing circuit 637 includes an image sensor driving circuit 604 and a clock circuit 6.
03, and the circuit element 45b shown in FIG.

【0103】なお、CPU616、合焦情報検出回路6
14、輝度情報検出回路615は、基板1上に搭載する
ことも可能であるが、特に、その搭載位置は限定されな
い。
The CPU 616 and the focus information detection circuit 6
The brightness information detection circuit 615 and the brightness information detection circuit 615 can be mounted on the substrate 1, but the mounting position is not particularly limited.

【0104】表示装置609、メモリ612および操作
部635は、外部に配置されている。
The display device 609, the memory 612 and the operating section 635 are arranged outside.

【0105】次に、光学装置の動作について説明する。Next, the operation of the optical device will be described.

【0106】まず、撮影者が操作部635を操作するこ
とにより、撮影開始の命令がCPU616に入力され
る。CPU616では、その命令を受けて各回路の電源
を入れ、クロック回路603に固体撮像素子2用のタイ
ミング信号の出力を命令する。クロック回路603から
出力されたタイミング信号は、撮像素子駆動回路604
で、固体撮像素子2を駆動可能な信号に増幅される。こ
の駆動信号により固体撮像素子2に入射された光は電気
信号に変換され、この電気信号は前置直処理部回路60
5に与えられる。前置処理回路605は、固体撮像素子
602からの電気信号に対し、例えばCDS処理、非線
形化、信号増幅などの処理を行う。前置処理回路605
の出力信号は、A/D変換器606でデジタル化された
後、プロセス回路607に与えられる。プロセス回路6
07は、A/D変換器606からのデジタル信号を映像
化するための各種処理、例えば原色分離、ホワイトバラ
ンス、ガンマ補正、アパーチャ補正、輝度信号、色差信
号の生成などの処理を行う。この映像化信号はD/A変
換器608でアナログ信号に変換され、アナログ信号が
示す映像が表示装置609に表示される。また、映像信
号は必要に応じてメモリ612にデジタル信号として記
録され、または外部の機器に出力される。
First, a photographer operates the operation unit 635 to input a photographing start command to the CPU 616. In response to the instruction, the CPU 616 turns on the power of each circuit and instructs the clock circuit 603 to output the timing signal for the solid-state image sensor 2. The timing signal output from the clock circuit 603 is used as the image sensor drive circuit 604.
Then, it is amplified into a signal capable of driving the solid-state imaging device 2. The light incident on the solid-state image sensor 2 is converted into an electric signal by the drive signal, and the electric signal is transferred to the front direct processing unit circuit 60.
Given to 5. The pre-processing circuit 605 performs processing such as CDS processing, non-linearization, and signal amplification on the electric signal from the solid-state image sensor 602. Preprocessing circuit 605
Is output to the process circuit 607 after being digitized by the A / D converter 606. Process circuit 6
Reference numeral 07 performs various processes for visualizing the digital signal from the A / D converter 606, such as primary color separation, white balance, gamma correction, aperture correction, luminance signal, and color difference signal generation. This image signal is converted into an analog signal by the D / A converter 608, and the image represented by the analog signal is displayed on the display device 609. Further, the video signal is recorded in the memory 612 as a digital signal as needed, or is output to an external device.

【0107】次に、撮像光学系601の動作について説
明する。
Next, the operation of the image pickup optical system 601 will be described.

【0108】フォーカシングは通常、自動的に行われ
る。合焦情報検出回路614にプロセス回路607から
の映像信号が入力されると、合焦情報検出回路614
は、入力された映像信号の高域成分の量(以下、合焦情
報という)を検出する。合焦情報は、図13に示すよう
に、撮像光学系601が被写体に対して合焦状態にある
場合に最大となり、デフォーカスするに従い減少してい
く特性を示す。
Focusing is usually done automatically. When the video signal from the process circuit 607 is input to the focus information detection circuit 614, the focus information detection circuit 614
Detects the amount of high frequency components of the input video signal (hereinafter referred to as focus information). As shown in FIG. 13, the focus information has a maximum characteristic when the imaging optical system 601 is in focus with respect to the subject, and has a characteristic that decreases as defocusing occurs.

【0109】CPU616は、光学部材G3動かしなが
ら合焦情報の変化を検出し、合焦情報が最大となる位置
まで以下のように光学部材G3を移動させるようにアク
チュエータ制御回路625を制御する。CPU616
は、合焦情報より算出される目標レンズ位置と実際のレ
ンズ位置が迫従するようにフォーカスレンズ移動信号を
出力する。光学部材G3の実際のレンズ位置は、位置検
出器624で検出された位置情報が増幅器627で増幅
され、A/D変換器628でデジタル化された後、CP
U616に入力され、算出される。
The CPU 616 detects a change in the focus information while moving the optical member G3, and controls the actuator control circuit 625 so as to move the optical member G3 to the position where the focus information becomes maximum as follows. CPU616
Outputs a focus lens movement signal so that the target lens position calculated from the focus information and the actual lens position follow each other. The actual lens position of the optical member G3 is CP after the position information detected by the position detector 624 is amplified by the amplifier 627 and digitized by the A / D converter 628.
It is input to U616 and calculated.

【0110】アクチュエータ制御回路625はフォーカ
スレンズ移動信号に基づきアクチュエータ制御信号を発
生する。アクチュエータ制御信号はドライブ回路626
でアクチュエータ623を駆動可能な信号に増幅され、
アクチュエータ623が駆動される。アクチュエータ6
23の駆動に伴い光学部材G3は移動され、フォーカシ
ングが行われる。
The actuator control circuit 625 generates an actuator control signal based on the focus lens movement signal. The actuator control signal is the drive circuit 626.
Is amplified to a signal that can drive the actuator 623 with
The actuator 623 is driven. Actuator 6
The optical member G3 is moved in accordance with the driving of 23, and focusing is performed.

【0111】ズーミングは撮影者が操作部635を操作
することにより行われる。操作部635より入力された
指示に従い、CPU616は、光学部材G2の目標位置
を算出する。現在の光学部材G2のレンズ位置は、位置
検出器618で検出される。位置検出器618の出力信
号は増幅器621で増幅され、A/D変換器622に入
力される。A/D変換器622でデジタル化された位置
検出器618からの出力は、CPU616に入力され、
光学部材G2のレンズ位置情報が算出される。CPU6
16は、目標レンズ位置と実際のレンズ位置が追従する
ように光学部材G2に対する移動信号を出力する。アク
チュエータ制御回路619は、光学部材G2に対する移
動信号に基づきアクチュエータ制御信号を発生する。ア
クチュエータ制御信号は、ドライブ回路620でアクチ
ュエータを駆動可能な信号に増幅され、アクチュエータ
617が駆動される。アクチュエータ617の駆動に伴
い光学部材G2は移動され、ズーミングが行われる。
Zooming is performed by the photographer operating the operation unit 635. According to the instruction input from the operation unit 635, the CPU 616 calculates the target position of the optical member G2. The current lens position of the optical member G2 is detected by the position detector 618. The output signal of the position detector 618 is amplified by the amplifier 621 and input to the A / D converter 622. The output from the position detector 618 digitized by the A / D converter 622 is input to the CPU 616,
The lens position information of the optical member G2 is calculated. CPU6
Reference numeral 16 outputs a movement signal for the optical member G2 so that the target lens position and the actual lens position follow each other. The actuator control circuit 619 generates an actuator control signal based on the movement signal for the optical member G2. The actuator control signal is amplified by the drive circuit 620 into a signal capable of driving the actuator, and the actuator 617 is driven. The optical member G2 is moved along with the driving of the actuator 617, and zooming is performed.

【0112】本実施例のように、インナーフォーカス方
式ズームレンズにおいて、被写体にピントがあった状態
でズーミングを行うためには、光学部材G2の位置と光
学部材G3の位置とは決められた曲線(ズームトラッキ
ングカーブ)上を移動する必要がある。ズームトラッキ
ングカーブの例を図14に示す。図中、0.6m、1.
2m、1.0mは、被写体距離を表す。
In the inner focus type zoom lens as in the present embodiment, in order to perform zooming while the subject is in focus, the position of the optical member G2 and the position of the optical member G3 are determined by a predetermined curve ( It is necessary to move on the zoom tracking curve). An example of the zoom tracking curve is shown in FIG. In the figure, 0.6 m, 1.
2 m and 1.0 m represent subject distances.

【0113】位置検出器618から得られる光学部材G
2の位置情報と位置検出器624から得られる光学部材
G3の位置情報とから、現在の被写体距離が算出され、
ズーミング中は現在の被写体距離に対応するトラッキン
グカーブに基づき光学部材G3の目標位置が算出され
る。光学部材G2と同様に、現在の光学部材G3のレン
ズ位置は位置検出器624で検出され、位置検出器62
4の出力信号は増幅器627で増幅され、A/D変換器
628に人力される。A/D変換器628でデジタル化
された位置検出器624の出力は、CPU616に入力
され、光学部材G3のレンズ位置情報が算出される。C
PU616は、目標レンズ位置と実際のレンズ位置とが
迫従するようにフォーカスレンズ移動信号を出力する。
アクチュエータ制御回路625はフオーカスレンズ移動
信号に基づきアクチュエータ制御信号を発生する。アク
チュエータ制御信号はドライブ回路626でアクチュエ
ータを駆動可能な信号に増幅され、アクチュエータ62
3が駆動され、光学部材G3が移動される。従って、ズ
ーミング中も被写体がぼやけることなく固体撮像素子2
に結像される。
Optical member G obtained from the position detector 618
2 from the position information of the optical member G3 obtained from the position detector 624, the current subject distance is calculated,
During zooming, the target position of the optical member G3 is calculated based on the tracking curve corresponding to the current subject distance. Similar to the optical member G2, the current lens position of the optical member G3 is detected by the position detector 624, and the position detector 62
The output signal of No. 4 is amplified by the amplifier 627 and input to the A / D converter 628. The output of the position detector 624 digitized by the A / D converter 628 is input to the CPU 616, and the lens position information of the optical member G3 is calculated. C
The PU 616 outputs a focus lens movement signal so that the target lens position and the actual lens position closely follow each other.
The actuator control circuit 625 generates an actuator control signal based on the focus lens movement signal. The actuator control signal is amplified by the drive circuit 626 into a signal capable of driving the actuator, and the actuator 62
3 is driven and the optical member G3 is moved. Therefore, the solid-state image sensor 2 does not blur the subject even during zooming.
Is imaged.

【0114】露光量は、アクチュエータ629で絞り部
材G12を制御し、撮像光学系601に対する開口量を
変化させることで調節される。通常、この露光量は自動
的に行われる。輝度情報検出回路615には、プロセス
回路607かららの映像信号が入力される。輝度情報検
出回路615は入力された映像信号から被写体像の明る
さ(以下、輝度情報とい)を検出する。現在の絞り部G
12の位置は、位置検出器630で検出される。位置検
出器630の出力信号は増幅器633で増幅され、A/
D変換器634に入力される。A/D変換器634でデ
ジタル化された位置検出器630の出力は、CPU61
6に入力され、紋り部G12の絞り位置情報が求められ
る。CPU616は、入力された被写体像の輝度情報に
基づき最適な露光量を算出し、さらに最適な露光量と現
在の絞り位置情報とから、目標絞り位置を算出する。こ
の目標絞り位置と実際の紋り位置とが追従するように絞
り移動信号が出力される。アクチュエータ制御回路63
1は、紋り移動信号に基づきアクチュエータ制御信号を
発生する。アクチュエータ制御信号は、ドライブ回路6
32でアクチュエータ629を駆動可能な信号に増幅さ
れ、アクチュエータ629が駆動される。アクチュエー
タ629の駆動に伴い絞り部G12が駆動され、露光量
調節が行われる。
The exposure amount is adjusted by controlling the diaphragm member G12 with the actuator 629 and changing the aperture amount for the image pickup optical system 601. Normally, this exposure amount is automatically performed. The video signal from the process circuit 607 is input to the luminance information detection circuit 615. The brightness information detection circuit 615 detects the brightness of the subject image (hereinafter referred to as brightness information) from the input video signal. Current diaphragm G
The 12 positions are detected by the position detector 630. The output signal of the position detector 630 is amplified by the amplifier 633, and A /
It is input to the D converter 634. The output of the position detector 630 digitized by the A / D converter 634 is the CPU 61.
6, and the aperture position information of the print portion G12 is obtained. The CPU 616 calculates the optimum exposure amount based on the input brightness information of the subject image, and further calculates the target aperture position from the optimum exposure amount and the current aperture position information. A diaphragm movement signal is output so that the target diaphragm position and the actual print position follow each other. Actuator control circuit 63
1 generates an actuator control signal based on the print movement signal. The actuator control signal is supplied to the drive circuit 6
The signal is amplified by 32 to a signal capable of driving the actuator 629, and the actuator 629 is driven. The diaphragm G12 is driven according to the driving of the actuator 629, and the exposure amount is adjusted.

【0115】次に、基板1の構成、製造方法について図
を参照しながら説明する。図15は図1の光学装置の基
板の構成を示す縦断面図、図16は図1の光学装置の基
板の製造方法における工程の一部を示す分解斜視図であ
る。
Next, the structure and manufacturing method of the substrate 1 will be described with reference to the drawings. 15 is a vertical cross-sectional view showing the structure of the substrate of the optical device of FIG. 1, and FIG. 16 is an exploded perspective view showing a part of the steps in the method of manufacturing the substrate of the optical device of FIG.

【0116】基板1は、図15に示すように、セラミッ
クベース801、鉄ベース801a、およびアルミニウ
ムベース801bから構成される。セラミックベース8
01の材質には、寸法安定性、放熱性に優れたセラミッ
クが用いられ、セラミックベース801は基板1の骨組
を形成するベ一スである。鉄ベース801aの材質に
は、透磁率の高い鉄が用いられ、鉄ベース801aはア
クチュエータの一部を形成するヨーク(図1の19,2
0、図2の39,44に相当する)を構成する。アルミ
ニウムベース801bは、撮像素子駆動回路または映像
信号処理回路を形成し、熱伝導率が高いアルミニウムを
ベ一スとしている。これらのベース801,801a,
801bの材質は、上記のものに限るものではなく、例
えば、ベース801aの材質としては、透磁率の高い材
質すなわち、電磁軟鉄、パーマロイなどを用いることも
できる。ベース801bの材質としては、銅などの熱伝
導率が高い材質を用いることもできる。各ベース80
1,801a,801bの表面には、絶縁層801cが
形成されている。
As shown in FIG. 15, the substrate 1 is composed of a ceramic base 801, an iron base 801a and an aluminum base 801b. Ceramic base 8
As the material of 01, ceramic excellent in dimensional stability and heat dissipation is used, and the ceramic base 801 is a base that forms the frame of the substrate 1. Iron having a high magnetic permeability is used as the material of the iron base 801a, and the iron base 801a is a yoke (19, 2 in FIG. 1) forming a part of the actuator.
0, which corresponds to 39 and 44 in FIG. 2). The aluminum base 801b forms an image pickup element drive circuit or a video signal processing circuit, and is made of aluminum having high thermal conductivity as a base. These bases 801, 801a,
The material of 801b is not limited to the above, and for example, as the material of the base 801a, a material having high magnetic permeability, that is, electromagnetic soft iron, permalloy, or the like can be used. As the material of the base 801b, a material having high thermal conductivity such as copper can be used. Each base 80
An insulating layer 801c is formed on the surfaces of 1, 801a and 801b.

【0117】次に、基板1の製造方法について図16を
参照しながら説明する。
Next, a method of manufacturing the substrate 1 will be described with reference to FIG.

【0118】図16を参照するに、まず、鉄ベ一ス80
1aとアルミニウムベース801bに相当する部分に予
め穴を形成したセラミックベース801と、鉄ベース8
01aと、アルミニウムベース801bとが準備され
る。
Referring to FIG. 16, first, the iron base 80
1a and an aluminum base 801b, a ceramic base 801 having holes previously formed in a portion corresponding to the aluminum base 801b
01a and an aluminum base 801b are prepared.

【0119】次いで、セラミックベース801の一方の
穴に鉄ベース801aが、他方の穴にアルミニウムベー
ス801bがそれぞれ嵌め込まれる。セラミックベース
801と鉄ベース801aとが、セラミックベース80
1とアルミニウムベース801bとがそれぞれ接着剤で
固定され、1枚のベース材が形成される。
Next, the iron base 801a is fitted in one hole of the ceramic base 801, and the aluminum base 801b is fitted in the other hole. Ceramic base 801 and iron base 801a are ceramic base 80
1 and the aluminum base 801b are fixed to each other with an adhesive to form one sheet of base material.

【0120】次いで、樹脂を銅箔に塗布し、ベ一ス材に
積層することにより、図15に示すセラミックベース8
01、鉄ベース801a、アルミニウムベース801b
の各表面に絶縁層801cが形成される。なお、この方
法に代わる絶縁層801cの形成方法としては、ベース
材側に絶縁層を形成する樹脂を塗布した後に銅箔を積層
する方法もあるが、連続加工が可能な点で前者の方が優
れている。
Next, the resin is applied to the copper foil and laminated on the base material to form the ceramic base 8 shown in FIG.
01, iron base 801a, aluminum base 801b
An insulating layer 801c is formed on each surface of the. As an alternative method of forming the insulating layer 801c, there is a method of laminating a copper foil after applying a resin for forming the insulating layer on the base material side, but the former is preferable in that continuous processing is possible. Are better.

【0121】絶縁層801cの形成後、銅箔をエッチン
グすることにより配線パターンの形成、ソルダーレジス
トの塗布、露出した銅箔表面へのはんだメッキ、はんだ
レベラーなどの表面処理が順次に実行される。
After forming the insulating layer 801c, the wiring pattern is formed by etching the copper foil, the application of the solder resist, the solder plating on the exposed copper foil surface, and the surface treatment such as the solder leveler are sequentially performed.

【0122】次いで、固体撮像素子2、コイル17,1
8,38,42、回路素子45a,45b、位置センサ
21,22がそれぞれはんだなどによって基板1に形成
された配線パターンと電気的に接続される。コイル1
7,18,38,42およびレール部13,14,1
5,16が基板1上に接着剤で接着される。
Next, the solid-state image pickup device 2, the coils 17 and 1
8, 38, 42, the circuit elements 45a, 45b, and the position sensors 21, 22 are electrically connected to the wiring pattern formed on the substrate 1 by soldering or the like. Coil 1
7, 18, 38, 42 and rail portions 13, 14, 1
5, 16 are adhered onto the substrate 1 with an adhesive.

【0123】このように、基板1のベース材として一つ
の部材を用いるのではなく、基板1上に実装される部品
が要求する特性に適合した性質を有する材料がベース材
として用いられている。すなわち、基板の骨組となり平
面性など寸法安定性に優れたセラミックベース材、アク
チュエータが形成される部分に透磁率が高い鉄ベ一ス
材、電子部品の放熱を必要とする撮像素子駆動回路また
は映像信号処理回路が実装される部分にアルミニウムあ
るいは銅べース材と、基板1上のそれぞれの部位におい
て最適な材質を選択することで、それぞれのベース材の
長所が生かせる基板を作ることができる。特に、電子部
品の放熱に極めて効果があり、電子部品の発熱による基
板の変形を未然に防止することができ、基板1の変形に
起因よる各光学部材と固体撮像素子2との相対的な位置
のずれ、光学部材の倒れなどを抑制することができる。
よって、基板1の変形に起因する撮影画像の劣化を未然
に防止することができる。
As described above, a single member is not used as the base material of the substrate 1, but a material having properties suitable for the characteristics required by the components mounted on the substrate 1 is used as the base material. That is, a ceramic base material that is a skeleton of the substrate and has excellent dimensional stability such as flatness, an iron base material with high magnetic permeability in the portion where the actuator is formed, an image sensor drive circuit or image that requires heat dissipation of electronic parts. By selecting an aluminum or copper base material for the portion on which the signal processing circuit is mounted and an optimum material for each portion on the substrate 1, a substrate can be produced in which the advantages of each base material can be utilized. In particular, it is extremely effective in radiating heat from the electronic components, and it is possible to prevent the deformation of the substrate due to heat generation of the electronic components, and the relative positions of the respective optical members and the solid-state image sensor 2 due to the deformation of the substrate 1. It is possible to suppress the deviation of the optical member, the collapse of the optical member, and the like.
Therefore, it is possible to prevent deterioration of the captured image due to the deformation of the substrate 1.

【0124】なお、本実施例では、コイルとしてシート
状のコイルを用い、このコイルを基板1上に接着剤など
で接着するようにしたが、基板1上のパターンと同様
に、銅箔をエッチングすることによりコイルを形成する
ことも可能である。この場合、コイルの巻数にある程度
の限界があるが、配線パターンと同様に形成できるか
ら、シートコイルの接着などの工程を省略することがで
き、かつシートコイルの基板1に対する位置決め作業を
なくすことができる。
In this embodiment, a sheet-shaped coil is used as the coil and the coil is adhered onto the substrate 1 with an adhesive or the like. However, similar to the pattern on the substrate 1, the copper foil is etched. By doing so, it is possible to form a coil. In this case, although there is a certain limit to the number of turns of the coil, since it can be formed in the same manner as the wiring pattern, steps such as adhering the sheet coil can be omitted, and positioning work of the sheet coil with respect to the substrate 1 can be eliminated. it can.

【0125】次に、基板のベース材として1つの部材を
用いた場合について図17を参照しながら説明する。図
17は図1の光学装置に用いられる他の基板を示す斜視
図である。
Next, the case where one member is used as the base material of the substrate will be described with reference to FIG. 17 is a perspective view showing another substrate used in the optical device of FIG.

【0126】基板802は、図17に示すように、金属
板上に絶縁層を介して配線パターンを形成した金属基板
からなる。金属の材質は、透磁率が高い鉄、または放熱
性に優れたアルミニウムまたは銅などである。絶縁層、
配線パターンの形成は前述したものと同様であるから、
その説明は省略する。
As shown in FIG. 17, the substrate 802 is made of a metal substrate having a wiring pattern formed on a metal plate via an insulating layer. The material of the metal is iron having high magnetic permeability, or aluminum or copper having excellent heat dissipation. Insulation layer,
Since the formation of the wiring pattern is the same as that described above,
The description is omitted.

【0127】基板802の準備後、まず、撮像素子2は
基板802の裏面から、コイル17,18,38,4
2、回路素子45a,45b、位置センサー21,22
は基板802の表面から、それぞれはんだなどによって
基板802に形成された配線パターンと電気的に接続さ
れ、コイル17,18,38,42、レール部13,
…,16は基板802に接着剤などで固着される。本方
法によると、1枚の金属板をベースに基板を形成するこ
とができるから、低コストで、平面性が良い基板を形成
することができるという効果に加え、基板の金属部の材
質に応じて、それぞれ以下の効果(a)、(b)を奏す
る。
After the substrate 802 is prepared, first, the image pickup device 2 is arranged from the back surface of the substrate 802 to the coils 17, 18, 38, 4.
2, circuit elements 45a and 45b, position sensors 21 and 22
Are electrically connected to the wiring patterns formed on the substrate 802 from the surface of the substrate 802 by soldering, respectively, and the coils 17, 18, 38, 42, the rail portion 13,
, 16 are fixed to the substrate 802 with an adhesive or the like. According to this method, the substrate can be formed on the basis of one metal plate, so that it is possible to form a substrate having low cost and good flatness, and in addition, depending on the material of the metal portion of the substrate. The following effects (a) and (b) are obtained, respectively.

【0128】(a)鉄などの透磁率が高い材料の場合 駆動により光学系を駆動する場合、基板の一部がヨーク
として作用するから、部品としてのヨークが不要にな
り、コストダウンに寄与する。
(A) In the case of a material having a high magnetic permeability such as iron When the optical system is driven by driving, a part of the substrate acts as a yoke, so that the yoke as a component is not required, which contributes to cost reduction. .

【0129】(b)アルミニウムなどの放熱性が良い材
料の場合 撮像素子駆動回路または映像信号処理回路の周辺、アク
チュエータのコイルなどの周辺で発生した熱が良好に放
散され、基板の反りなどの変形を防止することができ
る。
(B) In the case of a material having a good heat dissipation property such as aluminum The heat generated around the image pickup device drive circuit or the video signal processing circuit and around the actuator coil is satisfactorily dissipated, and the substrate is deformed such as warped. Can be prevented.

【0130】次に、基板上の電子部品の発熱による変
形、さらに機械的な変形を防ぐより効果的な方法につい
て図18ないし図20を参照しながら説明する。図18
は図1の光学装置に用いられる他の基板を示す斜視図、
図19は図1の光学装置に用いられる他の基板を示す斜
視図、図20は図19の基板の取付状態を示す図であ
る。
Next, a more effective method for preventing the deformation of the electronic components on the substrate due to heat generation and further mechanical deformation will be described with reference to FIGS. 18 to 20. FIG.
Is a perspective view showing another substrate used in the optical device of FIG.
19 is a perspective view showing another substrate used in the optical device of FIG. 1, and FIG. 20 is a diagram showing a mounting state of the substrate of FIG.

【0131】この方法としては、図18に示すように、
放熱を必要とするCPUなどの電子部品812の周囲に
切欠809を設ける方法、図19に示すように、基板の
平面性を保つ必要がある光学系全体の周囲にV溝810
を設ける方法がある。
As for this method, as shown in FIG.
A method of providing a notch 809 around an electronic component 812 such as a CPU that requires heat dissipation. As shown in FIG. 19, a V groove 810 is provided around the entire optical system in which the planarity of the substrate needs to be maintained.
There is a method of providing.

【0132】これらの方法による基板1の機器への取付
方法について図18ないし図20を参照しながら説明す
る。
A method of attaching the substrate 1 to the equipment by these methods will be described with reference to FIGS. 18 to 20.

【0133】各方法による基板1に四隅には、図18お
よび図19に示すように、取付穴811がそれぞれ設け
られている。基板1における発熱が大きいCPUなどの
電子部品の搭載領域は、切欠809またはV溝810で
区分けされている。
As shown in FIGS. 18 and 19, mounting holes 811 are provided at the four corners of the substrate 1 by each method. The mounting area of the electronic component such as the CPU, which generates a large amount of heat on the substrate 1, is divided by the notch 809 or the V groove 810.

【0134】これらの基板1の取付方法を図19に示す
基板1を例に説明する。
A method of mounting these substrates 1 will be described by taking the substrate 1 shown in FIG. 19 as an example.

【0135】基板1は、図20に示すように、取付穴8
11に挿通されたビス813で機器内部に設けられた基
板取付部814に固定される。
As shown in FIG. 20, the board 1 has a mounting hole 8
It is fixed to a board mounting portion 814 provided inside the device with a screw 813 inserted through 11.

【0136】基板取付部814が機器外部からの力によ
り変形され、または加工の精度により変形していると
き、基板1には外力が作用するが、その外力によってV
溝810の部分が変形されるだけで、基板1の他の部分
は平面を保つことができる。
When the board mounting portion 814 is deformed by a force from the outside of the device or is deformed by the processing accuracy, an external force acts on the substrate 1, but the external force causes V.
Only the portion of the groove 810 is deformed, and the other portion of the substrate 1 can be kept flat.

【0137】なお、図18に示す切欠809を設けた基
板1の場合も同様の効果を奏する。
The same effect can be obtained in the case of the substrate 1 having the cutout 809 shown in FIG.

【0138】次に、図18に示す基板1における熱的変
形の吸収構造について説明する。
Next, a structure for absorbing thermal deformation in the substrate 1 shown in FIG. 18 will be described.

【0139】具体的には、電子部品812を切欠809
と縁部との間の領域に配置することによって、電子部品
812の発熱時、その周辺の基板1の反りなどの変形
は、前記機械的変形がV溝810で吸収されたとのと同
じように、熱的変形は切欠809で吸収され、切欠80
9からの内方に向かう領域は平面を保つことができる。
Specifically, the electronic component 812 is cut out 809.
When the electronic component 812 is heated, the deformation such as the warp of the substrate 1 around the electronic component 812 is the same as that when the mechanical deformation is absorbed by the V-groove 810 by arranging the same in the region between the edge and the edge. , The thermal deformation is absorbed by the notch 809, the notch 80
The area going inward from 9 can remain flat.

【0140】次に、他の基板構成例について図21およ
び図22を参照しながら説明する。図21は図1の光学
装置に用いられる他の基板を示す斜視図、図22は図2
1の基板を示す縦断面図である。
Next, another substrate configuration example will be described with reference to FIGS. 21 is a perspective view showing another substrate used in the optical device of FIG. 1, and FIG.
It is a longitudinal cross-sectional view showing the substrate of No. 1.

【0141】図21および図22を参照するに、基板8
21は、金属板上に絶縁層を介して配線パターンを形成
した2つのザブ基板821a,821bから構成され
る。
Referring to FIGS. 21 and 22, the substrate 8
21 is composed of two sub-boards 821a and 821b each having a wiring pattern formed on a metal plate via an insulating layer.

【0142】アクチュエータを形成するサブ基板821
aには透磁率が高い鉄をベースとして、撮像素子駆動回
路または映像信号処理回路を形成するサブ基板821b
には熱伝導率が高い銅、アルミニウムなどをベースとし
て用いている。各サブ基板821a,821bの表面に
は絶縁層821c,821dが形成されている。サブ基
板821aおよび絶縁層821cには、同軸上に伸びる
開口部829が形成され、サブ基板821bおよび絶縁
層821dには、同軸上に伸びる開口部830が形成さ
れている。開口部830には、固体撮像素子2が挿入さ
れ、固体撮像素子2はサブ基板821bの裏面に装着さ
れている。固体撮像素子2には、開口部830を介して
被写体光が入射される。
Sub-substrate 821 forming the actuator
Sub-board 821b for forming an image sensor drive circuit or a video signal processing circuit is formed on a by using iron having high magnetic permeability as a base.
Is based on copper, aluminum, etc., which have high thermal conductivity. Insulating layers 821c and 821d are formed on the surfaces of the sub substrates 821a and 821b. The sub-substrate 821a and the insulating layer 821c are formed with an opening 829 extending coaxially, and the sub-substrate 821b and the insulating layer 821d are formed with an opening 830 extending coaxially. The solid-state image sensor 2 is inserted into the opening 830, and the solid-state image sensor 2 is mounted on the back surface of the sub-board 821b. Object light is incident on the solid-state imaging device 2 through the opening 830.

【0143】次に、基板821の製造方法について説明
する。
Next, a method of manufacturing the substrate 821 will be described.

【0144】まず、アクチュエータを形成する鉄ベース
のサブ基板821aと、銅ベースまたはアルミニウムベ
一スのサブ基板821bとが準備される。
First, an iron-based sub-substrate 821a forming an actuator and a copper-based or aluminum-based sub-substrate 821b are prepared.

【0145】次いで、樹脂を銅箔に塗布し、それぞれの
ベース材に積層することにより、サブ基板821a,8
21bの表面に絶縁層821c,821dが形成され
る。
Next, the resin is applied to the copper foil and laminated on each of the base materials, so that the sub substrates 821a and 821 are formed.
Insulating layers 821c and 821d are formed on the surface of 21b.

【0146】絶縁層821c,821dの形成後,箔を
エッチングして、サブ基板821aにはアクチュエータ
回路の配線パターンが、サブ基板821bには撮像素子
駆動回路または映像信号処理回路の配線パターンがそれ
ぞれ形成される。
After forming the insulating layers 821c and 821d, the foil is etched to form a wiring pattern of the actuator circuit on the sub-substrate 821a and a wiring pattern of the image pickup device driving circuit or the video signal processing circuit on the sub-substrate 821b. To be done.

【0147】次いで、、ソルダーレジストの塗布、露出
した銅箔表面に対するはんだメッキ、はんだレベラーな
どの表面処理が順次に行われる。
Next, surface treatment such as application of solder resist, solder plating on the exposed copper foil surface, and solder leveler is sequentially performed.

【0148】それぞれのサプ基板821a,821bは
絶縁性の接着剤を介して積層される。
Each of the sub substrates 821a and 821b is laminated via an insulating adhesive.

【0149】この基板821を用いることによって、図
15に示す基板と同様の効果が得られることに加え、ノ
イズの発生源となるアクチュエータ駆動系すなわち回路
素子45aおよびアクチュエータを形成するサブ基板8
21aに対して、ノイズの影を受け易い撮像素子駆動回
路または映像信号処理のための回路素子45bおよび撮
像素子駆動回路または映像信号処理回路を形成するサブ
基板821bとを基板821上の全く異なる層に形成す
ることができ、基板821内でのノイズの影響を極力小
さくすることができる。なお、上記映像信号処理回路
は、図12に示す映像信号処理回路637と等価である
が、その内部構成は限定されることはない。
By using this substrate 821, the same effect as that of the substrate shown in FIG. 15 can be obtained, and in addition, the actuator drive system, that is, the circuit element 45a and the sub-substrate 8 forming the actuator, which are sources of noise.
21a, an image pickup element drive circuit which is susceptible to noise shadow or a circuit element 45b for video signal processing and a sub-board 821b which forms an image pickup element drive circuit or a video signal processing circuit are formed on a completely different layer on the board 821. Can be formed, and the influence of noise in the substrate 821 can be minimized. The video signal processing circuit is equivalent to the video signal processing circuit 637 shown in FIG. 12, but the internal configuration thereof is not limited.

【0150】また、基板821の製造においては、先に
図16で示した基板1のように、予めベースに形成され
た穴に他のベースを嵌め込み、1枚のベースとすること
をせず、2枚のベースをそれぞれ独立に従来の形成方法
で製造することができ、製造工程の簡略化が図れ、製造
コストを下げることが可能となる。
Further, in manufacturing the substrate 821, unlike the substrate 1 shown in FIG. 16, it is not necessary to fit another base into a hole formed in the base in advance to form one base. The two bases can be independently manufactured by the conventional forming method, the manufacturing process can be simplified, and the manufacturing cost can be reduced.

【0151】[0151]

【発明の効果】以上に説明したように、請求項1記載の
光学装置によれば、撮影光学系および固体撮像素子が搭
載されている基板に、被写体像の光量を調節する光量調
整動作を行う光量調節手段と光量調整手段が光量調整動
作を行うための駆動力を発生する駆動手段とが基板に平
行な面上にそれぞれ配置されているから、光量調節手段
およびその駆動手段に起因する基板の厚さ方向における
厚さの増大を極力抑えることができ、光量調整手段およ
びその駆動手段によって、装置全体の薄型化が阻止され
る恐れがない。
As described above, according to the optical device of the first aspect, the light amount adjusting operation for adjusting the light amount of the subject image is performed on the substrate on which the photographing optical system and the solid-state image sensor are mounted. Since the light quantity adjusting means and the driving means for generating the driving force for the light quantity adjusting means to perform the light quantity adjusting operation are respectively arranged on the planes parallel to the substrate, the light quantity adjusting means and the substrate caused by the driving means are provided. It is possible to suppress an increase in thickness in the thickness direction as much as possible, and there is no fear that the light amount adjusting means and the driving means prevent the device from becoming thin.

【0152】請求項2記載の光学装置によれば、撮影光
学系によって形成される光路に基板に垂直に伸びる光路
部分が含まれ、光量調整手段が光路部分を通過する光量
を調整するように配置されているから、基板の厚さ方向
の厚さを増大させることなく、基板に垂直に伸びる光路
部分の光量を光量調整手段で調整することができる。
According to the optical device of the second aspect, the optical path formed by the photographing optical system includes an optical path portion extending perpendicularly to the substrate, and the light amount adjusting means is arranged so as to adjust the amount of light passing through the optical path portion. Therefore, it is possible to adjust the light amount of the optical path portion extending vertically to the substrate by the light amount adjusting means without increasing the thickness of the substrate in the thickness direction.

【0153】請求項3記載の光学装置によれば、光量調
整手段が、光路部分の光量通過領域を調整することによ
って光量調整動作を行う可動調整部材を有し、可動調整
部材が基板にほぼ平行な面に沿って動作するから、可動
調整部材による基板の厚さ方向における厚さの増大を極
力抑えることができる。
According to the optical device of the third aspect, the light amount adjusting means has a movable adjusting member for performing the light amount adjusting operation by adjusting the light amount passing region of the optical path portion, and the movable adjusting member is substantially parallel to the substrate. Since the movable adjusting member operates along the flat surface, it is possible to suppress the increase in the thickness of the substrate in the thickness direction of the movable adjusting member as much as possible.

【0154】請求項4記載の光学装置によれば、可動調
整部材に基板に回転可能にかつ垂直に支持されている軸
が設けられ、可動調整部材が軸を中心に回転運動するか
ら、基板の厚さ方向の厚さを増大させることなく、基板
に垂直に伸びる光路部分の光量を可動調整部材で調整す
ることができる。
According to the optical device of the fourth aspect, the movable adjusting member is provided with the shaft rotatably and vertically supported by the substrate, and the movable adjusting member rotates about the axis. The amount of light in the optical path portion extending perpendicularly to the substrate can be adjusted by the movable adjusting member without increasing the thickness in the thickness direction.

【0155】請求項5記載の光学装置によれば、駆動手
段の構成部材の少なくとも一部が基板に設けられている
から、駆動手段による基板の厚さ方向における厚さの増
大をさらに抑えることができる。
According to the optical device of the fifth aspect, since at least a part of the constituent members of the driving means is provided on the substrate, it is possible to further suppress the increase in the thickness of the substrate due to the driving means. it can.

【0156】請求項6記載の光学装置によれば、撮影光
学系、固体撮像素子および被写体像の光量を調節する光
量調整動作を行う光量調節手段とが搭載されている基板
に、光量調節手段の位置を規制するための規制部が設け
られているから、光量調整手段の撮影光学系の光軸に対
する位置を位置規制部で予め決定することができ、簡単
な作業手順でかつ高い精度で光量調整手段の撮影光学系
の光軸に対する位置決めを行うことができる。
According to the optical device of the sixth aspect, the light amount adjusting means is mounted on the substrate on which the photographing optical system, the solid-state image sensor, and the light amount adjusting means for performing the light amount adjusting operation for adjusting the light amount of the subject image are mounted. Since the regulating portion for regulating the position is provided, the position of the light amount adjusting means with respect to the optical axis of the photographing optical system can be determined in advance by the position regulating portion, and the light amount adjustment can be performed with a simple operation procedure and high accuracy. The means can be positioned with respect to the optical axis of the photographing optical system.

【0157】請求項7記載の光学装置によれば、撮影光
学系によって形成される光路に基板に垂直に伸びる光路
部分が含まれ、光量調整手段が光路部分を通過する光量
を調整するように基板の規制部によって位置決めされて
いるから、撮影光学系に形成された、基板に垂直に伸び
る光路部分に対する位置決めを容易に行うことができ
る。
According to the optical device of the seventh aspect, the optical path formed by the photographing optical system includes an optical path portion extending perpendicularly to the substrate, and the light amount adjusting means adjusts the amount of light passing through the optical path portion. Since the positioning is performed by the restricting portion, it is possible to easily perform the positioning with respect to the optical path portion formed in the photographing optical system and extending perpendicularly to the substrate.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の光学装置の一実施例の構成を示す分解
斜視図である。
FIG. 1 is an exploded perspective view showing a configuration of an embodiment of an optical device of the present invention.

【図2】図1の光学装置の絞り部の構成を示す分解斜視
図である。
FIG. 2 is an exploded perspective view showing a configuration of a diaphragm unit of the optical device of FIG.

【図3】図1の光学装置の光学部材G2のアクチュエー
タの構成を示す縦断面図である。
3 is a vertical cross-sectional view showing a configuration of an actuator of an optical member G2 of the optical device of FIG.

【図4】は図3のB−B線に沿って得られた断面図であ
る。
FIG. 4 is a sectional view taken along line BB of FIG.

【図5】図3のA−A線に沿って得られた断面図であ
る。
5 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG.

【図6】光学部材G2のアクチュエータの他の構成例を
示す縦断面図である。
FIG. 6 is a vertical cross-sectional view showing another configuration example of the actuator of the optical member G2.

【図7】図1の光学装置の固体撮像素子の周辺を示す縦
断面図である。
7 is a vertical cross-sectional view showing the periphery of the solid-state image sensor of the optical device of FIG.

【図8】図1の光学装置の固体撮像素子の周辺を示す分
解斜視図である。
8 is an exploded perspective view showing the periphery of a solid-state image sensor of the optical device of FIG.

【図9】図1の光学装置の固体撮像素子の基板裏面側の
周辺を示す分解斜視図である。
9 is an exploded perspective view showing the periphery of the back surface side of the substrate of the solid-state image sensor of the optical device of FIG.

【図10】固体撮像素子の撮像面を保護するガラス部材
の他の取付例を示す縦断面図である。
FIG. 10 is a vertical cross-sectional view showing another example of mounting a glass member for protecting the image pickup surface of the solid-state image pickup element.

【図11】固体撮像素子の撮像面を保護するガラス部材
の他の取付例を示す縦断面図である。
FIG. 11 is a vertical cross-sectional view showing another mounting example of the glass member for protecting the image pickup surface of the solid-state image pickup element.

【図12】図1の光学装置の構成を示すブロック図であ
る。
12 is a block diagram showing a configuration of the optical device of FIG.

【図13】フォーカシング時の合焦特性図である。FIG. 13 is a focusing characteristic diagram during focusing.

【図14】ズームトラッキングカーブを示す図である。FIG. 14 is a diagram showing a zoom tracking curve.

【図15】図1の光学装置の基板の構成を示す縦断面図
である。
15 is a vertical cross-sectional view showing a configuration of a substrate of the optical device shown in FIG.

【図16】図1の光学装置の基板の製造方法における工
程の一部を示す分解斜視図である。
16 is an exploded perspective view showing a part of the steps in the method for manufacturing the substrate of the optical device in FIG.

【図17】図1の光学装置に用いられる他の基板を示す
斜視図である。
17 is a perspective view showing another substrate used in the optical device of FIG.

【図18】図1の光学装置に用いられる他の基板を示す
斜視図である。
18 is a perspective view showing another substrate used in the optical device of FIG. 1. FIG.

【図19】図1の光学装置に用いられる他の基板を示す
斜視図である。
19 is a perspective view showing another substrate used in the optical device of FIG. 1. FIG.

【図20】図19の基板の取付状態を示す図である。20 is a diagram showing a mounting state of the board of FIG.

【図21】図1の光学装置に用いられる他の基板を示す
斜視図である。
21 is a perspective view showing another substrate used in the optical device of FIG. 1. FIG.

【図22】図21の基板を示す縦断面図である。22 is a vertical sectional view showing the substrate of FIG. 21. FIG.

【図23】従来の光学装置の構成を示す縦断面図であ
る。
FIG. 23 is a vertical cross-sectional view showing the configuration of a conventional optical device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,802 基板 2 固体撮像素子 3,4 移動台 7 磁気スケール 5,6,35,36 永久磁石 13,14,15,16 レール部 17,18,38,42 コイル 19,20,39,43 ヨーク 21,22 位置センサ 30 絞り部 31,32 絞り羽根 33,34 軸 37,41 位置決め穴(規制部) 45a,45b 回路素子 46,47 ボール G1 光学部材 G2 光学部材 G3 光学部材 G4 光学部材 1,802 Substrate 2 Solid-state imaging device 3,4 Moving stand 7 Magnetic scale 5,6,35,36 Permanent magnet 13,14,15,16 Rail part 17,18,38,42 Coil 19,20,39,43 Yoke 21 and 22 Position sensor 30 Aperture part 31,32 Aperture blade 33,34 Shaft 37,41 Positioning hole (regulating part) 45a, 45b Circuit element 46,47 Ball G1 Optical member G2 Optical member G3 Optical member G4 Optical member

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 栗橋 俊也 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 柳井 敏和 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 木村 研一 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Toshiya Kurihashi 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inc. (72) Inventor Toshikazu Yanai 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Incorporated (72) Inventor Kenichi Kimura 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inc.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被写体像を撮影光学系を介して固体撮像
素子に結像させる光学装置において、前記撮影光学系お
よび前記固体撮像素子が搭載されている基板と、前記被
写体像の光量を調節する光量調整動作を行う光量調節手
段と、前記光量調整手段が光量調整動作を行うための駆
動力を発生する駆動手段とを備え、前記光量調整手段と
前記駆動手段とが前記基板に平行な面上にそれぞれ配置
されていることを特徴とする光学装置。
1. An optical device for forming a subject image on a solid-state image sensor through a photographing optical system, wherein a substrate on which the photographing optical system and the solid-state image sensor are mounted and a light amount of the subject image are adjusted. A light quantity adjusting means for performing a light quantity adjusting operation, and a driving means for generating a driving force for the light quantity adjusting means to perform the light quantity adjusting operation, wherein the light quantity adjusting means and the driving means are on a plane parallel to the substrate. An optical device, characterized in that they are respectively arranged in
【請求項2】 前記撮影光学系によって形成される光路
には、前記基板に垂直に伸びる光路部分が含まれ、前記
光量調整手段は、前記光路部分を通過する光量を調整す
るように配置されていることを特徴とする請求項1記載
の光学装置。
2. The optical path formed by the photographing optical system includes an optical path portion extending perpendicularly to the substrate, and the light amount adjusting means is arranged to adjust the amount of light passing through the optical path portion. The optical device according to claim 1, wherein:
【請求項3】 前記光量調整手段は、前記光路部分の光
量通過領域を調整することによって前記光量調整動作を
行う可動調整部材を有し、前記可動調整部材は、前記基
板にほぼ平行な面に沿って動作することを特徴とする請
求項2記載の光学装置。
3. The light amount adjusting means has a movable adjusting member for performing the light amount adjusting operation by adjusting a light amount passing region of the optical path portion, and the movable adjusting member is provided on a surface substantially parallel to the substrate. The optical device according to claim 2, wherein the optical device operates along the line.
【請求項4】 前記可動調整部材に、前記基板に回転可
能にかつ垂直に支持されている軸が設けられ、前記可動
調整部材は前記軸を中心に回転運動することを特徴とす
る請求項3記載の光学装置。
4. The movable adjusting member is provided with a shaft that is rotatably and vertically supported by the substrate, and the movable adjusting member rotates about the shaft. The optical device described.
【請求項5】 前記アクチュエータの構成部材の少なく
とも一部が前記基板に設けられていることを特徴とする
請求項1ないし4記載の光学装置。
5. The optical device according to claim 1, wherein at least a part of a constituent member of the actuator is provided on the substrate.
【請求項6】 被写体像を撮影光学系を介して固体撮像
素子に結像させる光学装置において、前記撮影光学系、
前記固体撮像素子および前記被写体像の光量を調節する
光量調整動作を行う光量調節手段とが搭載されている基
板を有し、前記基板に前記光量調節手段の位置を規制す
るための規制部が設けられていることを特徴とする光学
装置。
6. An optical device for forming an image of a subject on a solid-state image sensor via a photographing optical system, the photographing optical system comprising:
The solid-state image pickup device and a light amount adjusting means for performing a light amount adjusting operation for adjusting the light amount of the subject image are provided on the substrate, and a restricting portion for restricting a position of the light amount adjusting means is provided on the substrate. An optical device characterized by being provided.
【請求項7】 前記撮影光学系によって形成される光路
には、前記基板に垂直に伸びる光路部分が含まれ、前記
光量調整手段は、前記光路部分を通過する光量を調整す
るように前記基板の規制部によって位置決めされている
ことを特徴とする請求項6記載の光学装置。
7. An optical path formed by the photographing optical system includes an optical path portion extending perpendicularly to the substrate, and the light amount adjusting means adjusts the amount of light passing through the optical path portion of the substrate. The optical device according to claim 6, wherein the optical device is positioned by a restriction portion.
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