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JPH0822033A - Liquid crystal display device - Google Patents

Liquid crystal display device

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Publication number
JPH0822033A
JPH0822033A JP15336394A JP15336394A JPH0822033A JP H0822033 A JPH0822033 A JP H0822033A JP 15336394 A JP15336394 A JP 15336394A JP 15336394 A JP15336394 A JP 15336394A JP H0822033 A JPH0822033 A JP H0822033A
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JP
Japan
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electrode
display
substrate
resistance element
liquid crystal
Prior art date
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JP15336394A
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Japanese (ja)
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JP3291396B2 (en
Inventor
Yasushi Kaneko
金子  靖
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Citizen Watch Co Ltd
Original Assignee
Citizen Watch Co Ltd
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Filing date
Publication date
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  • Liquid Crystal Display Device Control (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obviate the inversion of a halftone contrast display even when a visual angle is inclined forward as the voltages impressed to respective display electrodes constituting one pixel vary, to obtain a high contrast as a nonlinear resistance element structure is Ta-Ta2O5-ITO and to obtain a specified display characteristic even if a photoetching stage fluctuates as the areas of the nonlinear resistance elements are constant. CONSTITUTION:This liquid crystal display device has a first substrate having the nonlinear resistance elements consisting of first electrodes 2, nonlinear resistance layers and second electrodes 4 formed of indium tin oxide films, display electrodes and driving electrodes 9 and a second substrate having counter electrodes 11. The one pixel is composed of the one counter electrode 11, the plural display electrodes 6, 8 and the nonlinear resistance elements 5, 7 connected to these display electrodes 6, 8 and is so constituted that the areas of the display electrodes are the same and that the areas of the nonlinear resistance elements 5, 7 vary.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、アクティブマトリクス
液晶表示パネルに適用する液晶スイッチング素子に用い
られる金属−絶縁体−金属、あるいは金属−絶縁体−透
明導電体構造(以下MIMと記載する)を有する非線形
抵抗素子をもつ液晶表示パネルの構造に関する。
The present invention relates to a metal-insulator-metal or metal-insulator-transparent conductor structure (hereinafter referred to as MIM) used in a liquid crystal switching element applied to an active matrix liquid crystal display panel. The present invention relates to the structure of a liquid crystal display panel having a nonlinear resistance element.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、液晶表示パネルを用いた液晶表示
装置の表示容量は、大容量化の一途をたどっている。そ
して、単純マトリクス構成の表示装置にマルチプレクス
駆動を用いる表示方式は、高時分割化するに従ってコン
トラストの低下、あるいは応答速度の低下が生じる。し
たがって、200本程度の走査線をもゆ表示装置では、
充分なコントラストを得ることが難しくなる。
2. Description of the Related Art In recent years, the display capacity of a liquid crystal display device using a liquid crystal display panel has been increasing. In the display system using the multiplex drive for the display device having the simple matrix configuration, the contrast or the response speed is lowered as the time division is increased. Therefore, in a display device having about 200 scanning lines,
It becomes difficult to obtain sufficient contrast.

【0003】そこで、このような欠点を除去するため
に、個々の画素にスイッチング素子を設けるアクティブ
マトリクス方式の液晶表示パネルが採用されてきてい
る。
Therefore, in order to eliminate such a defect, an active matrix type liquid crystal display panel in which a switching element is provided in each pixel has been adopted.

【0004】このアクティブマトリクス方式の液晶表示
パネルには、スイッチング素子として、薄膜トランジス
タ(TFT)を用いる三端子系と、非線形抵抗素子を用
いる二端子系とがある。そして、これらのなかでは構造
や製造方法が簡単な点で、二端子系が優れている。
This active matrix type liquid crystal display panel has a three-terminal system using thin film transistors (TFTs) as a switching element and a two-terminal system using a non-linear resistance element. Among them, the two-terminal system is superior in that the structure and the manufacturing method are simple.

【0005】この二端子系には、ダイオード型や、バリ
スタ型や、MIM型などが開発されている。このうち、
MIM型はとくに構造が簡単で、そのうえ製造工程が短
いという特徴を備えている。
For the two-terminal system, diode type, varistor type, MIM type, etc. have been developed. this house,
The MIM type is characterized by a particularly simple structure and a short manufacturing process.

【0006】図6は、非線形抵抗素子を用いた従来のM
IM型液晶表示装置の構成を示す平面図である。さらに
図7は、図6の平面図におけるA−A線での断面を示す
断面図である。以下図6と図7とを交互に用いて従来技
術を説明する。
FIG. 6 shows a conventional M using a non-linear resistance element.
It is a top view which shows the structure of an IM type liquid crystal display device. Further, FIG. 7 is a cross-sectional view showing a cross section taken along the line AA in the plan view of FIG. The prior art will be described below by alternately using FIG. 6 and FIG. 7.

【0007】第1の基板31上には、第1の電極32を
設け、この第1の電極32上に、非線形抵抗層33を設
ける。さらに第2の電極34を非線形抵抗層33上にオ
ーバーラップするように設けて、非線形抵抗素子30を
構成している。この第2の電極34の一部は、表示電極
35を兼ねている。
A first electrode 32 is provided on the first substrate 31, and a non-linear resistance layer 33 is provided on the first electrode 32. Further, the second electrode 34 is provided so as to overlap the non-linear resistance layer 33 to form the non-linear resistance element 30. A part of the second electrode 34 also serves as the display electrode 35.

【0008】そして第2の基板36には、表示電極35
と対向するように対向電極39を設けている。
The display electrode 35 is formed on the second substrate 36.
A counter electrode 39 is provided so as to face the.

【0009】第1の基板31上に設ける第1の電極32
は、図6の平面図に示すように、通常は第1の電極32
と同一材料で形成する駆動電極38と接続し、表示電極
35とは一定の間隔寸法を隔てて配置している。
A first electrode 32 provided on a first substrate 31
Is normally the first electrode 32, as shown in the plan view of FIG.
It is connected to the drive electrode 38 formed of the same material as the above, and is arranged with a constant space dimension from the display electrode 35.

【0010】表示電極35は、対向電極39と重なり合
うように配置することにより、液晶表示パネルの1画素
を構成する。
The display electrode 35 constitutes one pixel of the liquid crystal display panel by arranging the display electrode 35 so as to overlap the counter electrode 39.

【0011】さらに第1の基板31と第2の基板36と
は、液晶41の分子を規則的に並べるための処理層とし
て、それぞれ配向膜40、40を設ける。
Further, the first substrate 31 and the second substrate 36 are provided with alignment films 40 and 40, respectively, as processing layers for regularly arranging the molecules of the liquid crystal 41.

【0012】さらにそのうえスペーサー42によって、
第1の基板31と第2の基板36とを所定の間隔をもっ
て対向させ、第1の基板31と第2の基板36との間に
は、液晶41を封入する。
Furthermore, by means of the spacer 42,
The first substrate 31 and the second substrate 36 are opposed to each other with a predetermined gap, and the liquid crystal 41 is sealed between the first substrate 31 and the second substrate 36.

【0013】駆動電極38に走査信号を印加するとき
は、対向電極39にデータ信号を印加することによっ
て、表示電極35を所望の明るさに制御することができ
る。
When the scanning signal is applied to the drive electrode 38, the display electrode 35 can be controlled to a desired brightness by applying the data signal to the counter electrode 39.

【0014】また逆に、対向電極39に走査信号を印加
し、駆動電極38にデータ信号を印加しても、表示電極
35を所望の明るさに制御することが可能である。
Conversely, even if a scanning signal is applied to the counter electrode 39 and a data signal is applied to the drive electrode 38, the display electrode 35 can be controlled to have a desired brightness.

【0015】書込み時に駆動電極38と対向電極39の
間に印加する書込み電圧Vinのうち、非線形抵抗素子
30に印加する電圧Vmimは、表示電極35の容量C
lcを非線形抵抗素子30の容量Cmimで除した値で
ある容量比CRを用い、Vmim=Vin×CR/(1
+CR)で決定される。
Of the write voltage Vin applied between the drive electrode 38 and the counter electrode 39 during writing, the voltage Vmim applied to the nonlinear resistance element 30 is the capacitance C of the display electrode 35.
Using the capacitance ratio CR which is a value obtained by dividing lc by the capacitance Cmim of the nonlinear resistance element 30, Vmim = Vin × CR / (1
+ CR).

【0016】非線形抵抗素子30の抵抗は、印加電圧が
高いほど低くなるため、容量比CRが大きいとVmim
が大きくなり、非線形抵抗素子30は低抵抗になり、液
晶にデータ信号を有効に書込むことができる。
Since the resistance of the non-linear resistance element 30 becomes lower as the applied voltage becomes higher, if the capacitance ratio CR is large, Vmim.
Becomes large, the resistance of the nonlinear resistance element 30 becomes low, and a data signal can be effectively written in the liquid crystal.

【0017】書込み終了後の保持時には、表示電極35
と対向電極39間の液晶41に保持する電圧Vlcは、
ClcとCmimの容量結合によりΔVだけ電圧降下
し、ΔV=Vin/(1+CR)で示される。
At the time of holding after writing is completed, the display electrode 35
The voltage Vlc held in the liquid crystal 41 between the counter electrode 39 and the counter electrode 39 is
The voltage drops by ΔV due to capacitive coupling between Clc and Cmim, and is represented by ΔV = Vin / (1 + CR).

【0018】したがって、容量比CRが大きいほどΔV
が小さくなる。その結果、液晶41に保持する電圧Vl
cは大きくできる。その後、つぎの書込みまで、液晶4
1に保持する電圧Vlcは液晶容量Clcにより保持さ
れる。
Therefore, the larger the capacity ratio CR, the more ΔV
Becomes smaller. As a result, the voltage Vl held in the liquid crystal 41
c can be increased. After that, until the next writing, liquid crystal 4
The voltage Vlc held at 1 is held by the liquid crystal capacitance Clc.

【0019】[0019]

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の液晶
表示パネルは、液晶41の配向状態が第1の基板31と
第2の基板36の間で80〜100度ねじれた状態にあ
るツイストネマティック(TN)モードである。このT
Nモードの液晶表示パネルは、この液晶表示パネルを前
後左右に傾けて見たときの明るさが変わり、視角特性が
悪い。
By the way, in the conventional liquid crystal display panel, the twisted nematic (in which the alignment state of the liquid crystal 41 is twisted by 80 to 100 degrees between the first substrate 31 and the second substrate 36). TN) mode. This T
The N-mode liquid crystal display panel changes in brightness when the liquid crystal display panel is tilted to the front, rear, left and right, and has a bad viewing angle characteristic.

【0020】図8に従来例の液晶表示パネルの前後方向
の表示特性を示す。横軸は表示電極35と対向電極39
間への印加電圧を示し、縦軸は透過率を示す。90゜ツ
イストのTNモードの液晶表示パネルに、上下の偏光板
を90゜直交する状態で設置し、ノーマリ白モ−ドのと
きである。
FIG. 8 shows the display characteristics of the conventional liquid crystal display panel in the front-rear direction. The horizontal axis represents the display electrode 35 and the counter electrode 39.
The applied voltage between the two is shown, and the vertical axis shows the transmittance. In a normally white mode, the upper and lower polarizing plates are installed in a 90 ° twisted TN mode liquid crystal display panel so as to be orthogonal to each other by 90 °.

【0021】図8のグラフの実線Lは、液晶表示パネル
を正面から見たときの透過率−電圧特性を示し、実線M
は前方向に40゜傾けたときの透過率−電圧特性を示
し、実線Nは後方向に40゜傾けたときの透過率−電圧
特性を示す。
The solid line L in the graph of FIG. 8 shows the transmittance-voltage characteristics when the liquid crystal display panel is viewed from the front, and the solid line M.
Indicates the transmittance-voltage characteristic when tilted forward by 40 °, and the solid line N indicates the transmittance-voltage characteristic when tilted backward by 40 °.

【0022】正面で、黒表示を出すためにはV1の電圧
を印加すればよく、白表示を出すためにはV3の電圧を
印加し、中間調の灰色表示をするためにはV2の電圧を
印加する。
On the front side, the voltage of V1 may be applied for producing a black display, the voltage of V3 may be applied for producing a white display, and the voltage of V2 may be applied for producing a gray display of halftone. Apply.

【0023】灰色表示と黒表示とを表示した状態で、液
晶表示パネルを後方向に40゜傾けると、黒表示は実線
Lと直線V1の交点から、実線Nと直線V1の交点へ変
わり明るくなる。これに対して、灰色表示は実線Lと直
線V2の交点から、実線Nと直線V2への交点に変わ
り、かなり白くなりコントラストが低下する。
When the liquid crystal display panel is tilted backward by 40 ° while displaying the gray display and the black display, the black display changes from the intersection of the solid line L and the straight line V1 to the intersection of the solid line N and the straight line V1 and becomes bright. . On the other hand, the gray display changes from the intersection of the solid line L and the straight line V2 to the intersection of the solid line N and the straight line V2, and the display becomes considerably white and the contrast decreases.

【0024】これとは反対に、液晶表示パネルを前方向
に40゜傾けると、黒表示は実線Lと直線V1の交点か
ら、実線Mと直線V1の交点へ変わり明るくなるが、灰
色表示は実線Lと直線V2の交点から、実線Mと直線V
2への交点に変わり、逆に黒くなり、黒と灰色表示の反
転が生じる。このため、著しく表示品質が低下するとい
う問題点が発生する。
On the contrary, when the liquid crystal display panel is tilted by 40 ° in the forward direction, the black display changes from the intersection of the solid line L and the straight line V1 to the intersection of the solid line M and the straight line V1 and becomes bright, but the gray display shows the solid line. From the intersection of L and the straight line V2, the solid line M and the straight line V
It changes to the intersection of 2 and becomes black on the contrary, and inversion of black and gray display occurs. Therefore, there is a problem that the display quality is significantly reduced.

【0025】この視角特性を改善する手段として、特開
平5−53150号公報に開示されている手段がある。
この公報には、1画素を複数の表示電極とその表示電極
に接続する非線形抵抗素子で構成し、しかも表示電極と
非線形抵抗素子の容量比を異なるように構成することが
記載されている。
As a means for improving the viewing angle characteristic, there is a means disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 53150/1993.
This publication describes that one pixel is composed of a plurality of display electrodes and a non-linear resistance element connected to the display electrodes, and that the display electrodes and the non-linear resistance elements have different capacitance ratios.

【0026】特開平5−53150号公報で図1として
記載されている図面を、90゜回転した形で転記した図
9を用いて、この公報に記載の液晶表示装置の構成を説
明する。
The configuration of the liquid crystal display device described in this publication will be described with reference to FIG. 9, which is a drawing rotated 90 ° from the drawing shown in FIG. 1 in JP-A-5-53150.

【0027】1画素を1つの対向電極51と、第1の表
示電極54と第2の表示電極55とで構成する。しか
も、第1の表示電極54と第1の非線形抵抗素子58の
面積比と、第2の表示電極55と第2の非線形抵抗素子
59との面積比を変える。
One pixel is composed of one counter electrode 51, a first display electrode 54 and a second display electrode 55. Moreover, the area ratio between the first display electrode 54 and the first nonlinear resistance element 58 and the area ratio between the second display electrode 55 and the second nonlinear resistance element 59 are changed.

【0028】したがって、第1の表示電極54と第1の
非線形抵抗素子58との容量比と、第2の表示電極55
と第2の非線形抵抗素子59の容量比が異なり、同一の
データ信号で書込んでも、第1の表示電極54と第2の
表示電極55の駆動電圧が変わるようになる。
Therefore, the capacitance ratio between the first display electrode 54 and the first non-linear resistance element 58, and the second display electrode 55.
And the capacitance ratio of the second non-linear resistance element 59 is different, and even if the same data signal is written, the drive voltage of the first display electrode 54 and the second display electrode 55 changes.

【0029】図5のグラフを使用して、液晶表示装置で
視角特性が改善される作用を説明する。図5の横軸は駆
動電極50と対向電極51間に印加する電圧を示し、縦
軸は液晶表示装置の透過率を示す。
The operation of improving the viewing angle characteristics in the liquid crystal display device will be described with reference to the graph of FIG. The horizontal axis of FIG. 5 represents the voltage applied between the drive electrode 50 and the counter electrode 51, and the vertical axis represents the transmittance of the liquid crystal display device.

【0030】実線Xは、容量比CR=表示電極容量Cl
c/非線形抵抗素子容量Cmimの大きな第2の表示電
極55のときの前方向に40゜傾けた電圧−透過率曲線
を示し、実線Yは、容量比の小さな第1の表示電極54
のときの前方向に40゜傾けた電圧−透過率特性を示
す。
The solid line X indicates the capacitance ratio CR = display electrode capacitance Cl.
c / non-linear resistance element shows a voltage-transmittance curve tilted by 40 ° in the forward direction when the second display electrode 55 has a large capacitance Cmim, and the solid line Y indicates the first display electrode 54 having a small capacitance ratio.
In this case, the voltage-transmittance characteristic inclined by 40 ° in the forward direction is shown.

【0031】容量比の小さい第1の表示電極54では、
書込み時の非線形抵抗素子への印加電圧が低くなり、非
線形抵抗素子の抵抗が充分小さくならず、書込み効率が
低下する。さらに、保持時の電圧降下量ΔVも大きくな
るため、容量比の高い表示電極に比べて高電圧を印加し
なくてはならないため、実線Yは実線Xよりも高電圧側
へ移動する。
In the first display electrode 54 having a small capacitance ratio,
The voltage applied to the non-linear resistance element at the time of writing decreases, the resistance of the non-linear resistance element does not become sufficiently small, and the writing efficiency decreases. Furthermore, since the voltage drop amount ΔV during holding also becomes large, a high voltage must be applied as compared with a display electrode having a high capacitance ratio, and therefore the solid line Y moves to a higher voltage side than the solid line X.

【0032】画素の明るさは、複数の表示電極の平均と
なる。平均の電圧−透過率曲線を破線Zで示す。正面か
ら見て黒表示の印加電圧V1と灰色表示のV2を印加す
るとき、実線Xでは黒灰の反転が起きているが、破線Z
では、黒灰反転はおきず、前方向の視角特性が改善され
る。
The brightness of a pixel is the average of a plurality of display electrodes. The average voltage-transmittance curve is shown by the dashed line Z. When the applied voltage V1 for black display and V2 for gray display are applied when viewed from the front, black gray inversion occurs in the solid line X, but the broken line Z
In, black ash inversion does not occur, and the viewing angle characteristic in the forward direction is improved.

【0033】しかしながら、図5の破線Zの急峻性が、
実線Xの急峻性よりも低下していることからもわかるよ
うに、正面の電圧−透過率曲線Lの急峻性も低下する。
このため、黒表示をするためには、図8における電圧V
1以上の電圧が必要となり、非線形抵抗素子の駆動能力
として、V1−V3よりも、さらに大きな駆動能力が必
要になる。
However, the steepness of the broken line Z in FIG.
As can be seen from the fact that the steepness of the solid line X is lower, the steepness of the front voltage-transmittance curve L is also lower.
Therefore, in order to display black, the voltage V in FIG.
A voltage of 1 or more is required, and a driving capability of the non-linear resistance element is required to be higher than V1-V3.

【0034】MIM素子の駆動能力は、素子構造や素子
構成や素子材料や製造条件により決定されるが、最も影
響が大きいのか素子材料である。
The driving ability of the MIM element is determined by the element structure, the element configuration, the element material, and the manufacturing conditions. The element material has the greatest influence.

【0035】さきの特開平5−053150号公報で使
用している非線形抵抗素子は、図9に示すように第1の
電極52と、第1の電極52を陽極酸化して設ける非線
形抵抗層と、第2の電極56と第2の電極57とで構成
している。
The non-linear resistance element used in the above-mentioned Japanese Patent Laid-Open No. 05-053150 has a first electrode 52 and a non-linear resistance layer provided by anodizing the first electrode 52 as shown in FIG. , The second electrode 56 and the second electrode 57.

【0036】この公報中では、詳細には記載されていな
いが、第2の電極56、57と表示電極54、55の材
質が異なっているのは明白でる。そして、第2の電極5
6、57としては、クロム(Cr)などの金属膜が使用
されていると推定される。
Although not described in detail in this publication, it is clear that the materials of the second electrodes 56 and 57 and the display electrodes 54 and 55 are different. And the second electrode 5
It is presumed that a metal film of chromium (Cr) or the like is used as each of 6, 57.

【0037】第1の電極52としてタンタル(Ta)膜
を用いて、Ta−Ta25 −Crの素子材料で形成す
る非線形抵抗素子は駆動能力が少ない。このため、充分
大きな駆動電圧を印加することができず、表示コントラ
ストが低下するために、視角特性が改善されても、実用
化が難しい。
A non-linear resistance element formed of a Ta-Ta 2 O 5 -Cr element material using a tantalum (Ta) film as the first electrode 52 has a small driving ability. For this reason, a sufficiently large driving voltage cannot be applied, and the display contrast is lowered, so that it is difficult to put it into practical use even if the viewing angle characteristic is improved.

【0038】またさらに、特開平5−53150号公報
の図1、図5、図6のいずれにおいても、面積の大きな
表示電極には面積の大きな非線形抵抗素子を、面積の小
さな表示電極には面積の小さな非線形抵抗素子を接続し
ている。
Furthermore, in any of FIGS. 1, 5 and 6 of Japanese Patent Laid-Open No. 53150/1993, a large area non-linear resistance element is used for a large area display electrode, and an area large area is used for a small area display electrode. Is connected to a small non-linear resistance element.

【0039】したがって、表示電極と非線形抵抗素子と
の面積比の変化量が少なくなっており、容量比の差も少
なくなり、表示電極間の駆動電圧差を大きくすることは
困難であるといわざるをえない。
Therefore, the amount of change in the area ratio between the display electrodes and the non-linear resistance element is small, the difference in the capacitance ratio is small, and it is difficult to increase the drive voltage difference between the display electrodes. I can't get it.

【0040】さらに、非常に小さな第2の非線形抵抗素
子59を使用しているため、非線形抵抗素子を形成する
フォトエッチング工程でのオーバーエッチングやアンダ
ーエッチングによる面積比の変動を受ける確率が、第1
の非線形抵抗素子58よりも第2の非線形抵抗素子59
の方が大きい。このために、駆動電圧が基板毎に変動す
る。
Furthermore, since the very small second non-linear resistance element 59 is used, the probability that the area ratio is changed by over-etching or under-etching in the photo-etching process for forming the non-linear resistance element is the first.
Second non-linear resistance element 59 rather than the non-linear resistance element 58 of
Is bigger. For this reason, the drive voltage varies from substrate to substrate.

【0041】本発明の目的は、駆動能力の大きなMIM
素子と、表示電極と非線形抵抗素子との容量比が大きく
異なる複数の表示電極を用いて、液晶表示パネルを前方
向へ傾けたときに発生する黒と灰色表示の反転を押さえ
て、良好な視角特性を有し、しかもコントラストも充分
な液晶表示装置の構造を提供することである。
An object of the present invention is to provide a MIM having a large driving ability.
By using multiple display electrodes that have a large difference in capacitance ratio between the display element and the non-linear resistance element, it is possible to suppress the inversion of black and gray display that occurs when the liquid crystal display panel is tilted forward and to achieve a good viewing angle. An object of the present invention is to provide a structure of a liquid crystal display device having characteristics and having sufficient contrast.

【0042】さらに本発明の目的は、フォトエッチング
工程でのオーバーエッチングやアンダーエッチングがあ
っても、複数の表示電極の駆動電圧差があまり変化せ
ず、常に一定の表示特性が得られる液晶表示装置の構造
を提供することである。
Further, an object of the present invention is to provide a liquid crystal display device in which even if over-etching or under-etching in the photo-etching process is performed, the driving voltage difference between a plurality of display electrodes does not change so much and constant display characteristics are always obtained. Is to provide the structure of.

【0043】[0043]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の液晶表示装置は、第1の電極と非線形抵抗
層と第2の電極とからなる非線形抵抗素子と表示電極と
駆動電極とを有する第1の基板と、対向電極を有する第
2の基板と、第1の基板と第2の基板との間に封入する
液晶とを備え、1画素を1つの対向電極と複数の表示電
極と各表示電極に接続する非線形抵抗素子とで構成し、
そしてそれぞれの非線形抵抗素子の面積は同一で、かつ
表示電極の面積が異なるように構成し、非線形抵抗素子
と表示電極との容量比が異なることを特徴とする。
In order to achieve the above object, a liquid crystal display device of the present invention comprises a non-linear resistance element comprising a first electrode, a non-linear resistance layer and a second electrode, a display electrode and a drive electrode. A first substrate having a counter electrode, a second substrate having a counter electrode, and a liquid crystal sealed between the first substrate and the second substrate, and one pixel having one counter electrode and a plurality of displays. It consists of an electrode and a non-linear resistance element connected to each display electrode,
Each of the non-linear resistance elements has the same area and the display electrodes have different areas, and the non-linear resistance element and the display electrode have different capacitance ratios.

【0044】また本発明の液晶表示装置は、第1の電極
と非線形抵抗層と第2の電極とからなる非線形抵抗素子
と表示電極と駆動電極とを有する第1の基板と、対向電
極を有する第2の基板と、第1の基板と第2の基板との
間に封入する液晶とを備え、1画素を1つの対向電極と
複数の表示電極と各表示電極に接続する非線形抵抗素子
とで構成し、そしてそれぞれの表示電極の面積は同一
で、かつ非線形抵抗素子の面積が異なるように構成し、
非線形抵抗素子と表示電極との容量比が異なることを特
徴とする。
Further, the liquid crystal display device of the present invention has a first substrate having a non-linear resistance element including a first electrode, a non-linear resistance layer and a second electrode, a display electrode and a drive electrode, and a counter electrode. A second substrate and a liquid crystal sealed between the first substrate and the second substrate are provided, and one pixel includes one counter electrode, a plurality of display electrodes, and a non-linear resistance element that connects each display electrode. And the area of each display electrode is the same, and the area of the non-linear resistance element is different,
The non-linear resistance element and the display electrode have different capacitance ratios.

【0045】また本発明の液晶表示装置は、第1の電極
と非線形抵抗層と第2の電極とからなる非線形抵抗素子
と表示電極と駆動電極を有する第1の基板と、対向電極
を有する第2の基板と、第1の基板と第2の基板との間
に封入する液晶とを備え、1画素を1つの対向電極と複
数の大きさの異なる表示電極と各表示電極に接続する複
数の大きさの異なる非線形抵抗素子とで構成し、そして
面積の大きな表示電極には面積の小さい非線形抵抗素子
を接続し、面積の小さな表示電極には面積の大きな非線
形抵抗素子を接続し、非線形抵抗素子と表示電極との容
量比が異なることを特徴とする。
Further, the liquid crystal display device of the present invention has a first substrate having a non-linear resistance element including a first electrode, a non-linear resistance layer and a second electrode, a display electrode and a drive electrode, and a first substrate having a counter electrode. A second substrate and liquid crystal sealed between the first substrate and the second substrate, and one pixel is connected to one counter electrode, a plurality of display electrodes of different sizes, and a plurality of display electrodes. The non-linear resistance element is composed of non-linear resistance elements of different sizes, and a large-area display electrode is connected to a small-area non-linear resistance element, and a small-area display electrode is connected to a large-area non-linear resistance element. And a display electrode having a different capacitance ratio.

【0046】さらにまた本発明の液晶表示装置は、第1
の基板に形成する第2の電極は、表示電極と同一材料で
ある透明導電膜で構成ることを特徴とする。
Furthermore, the liquid crystal display device of the present invention comprises the first
The second electrode formed on the substrate is formed of a transparent conductive film that is the same material as the display electrode.

【0047】またさらに本発明の液晶表示装置は、第1
の基板の非線形抵抗素子の上、あるいは第1の基板の非
線形抵抗素子と表示電極上には、絶縁薄膜を備えること
を特徴とする。
Furthermore, the liquid crystal display device of the present invention comprises the first
An insulating thin film is provided on the non-linear resistance element of the substrate, or on the non-linear resistance element and the display electrode of the first substrate.

【0048】[0048]

【作用】本発明の液晶表示装置の画素構造は、1画素を
非線形抵抗素子容量と表示電極容量との容量比が異なる
複数の画素に分割した構造となり、容量比が異なってい
る。このため、同一のデータ信号で書込んでも、それぞ
れの表示電極への印加電圧が変わるようになり、電圧−
透過率特性がなだらかになり、視角特性を改善すること
ができる。
The pixel structure of the liquid crystal display device of the present invention is a structure in which one pixel is divided into a plurality of pixels having different capacitance ratios of the nonlinear resistance element capacitance and the display electrode capacitance, and the capacitance ratios are different. Therefore, even if the same data signal is written, the applied voltage to each display electrode changes, and the voltage-
The transmittance characteristic becomes gentle, and the viewing angle characteristic can be improved.

【0049】さらに、1画素を構成する複数の表示電極
と、表示電極に接続する非線形抵抗素子とは、非線形抵
抗素子の面積を一定にして、そして表示電極の面積のみ
を異なるようにする。このことで、従来例よりも容量比
の変化率を大きくすることができ、視角特性の改善効果
が大きくすることができる。
Further, a plurality of display electrodes forming one pixel and a non-linear resistance element connected to the display electrode are made to have a constant area of the non-linear resistance element and different only in the area of the display electrode. As a result, the rate of change of the capacitance ratio can be made larger than that of the conventional example, and the effect of improving the viewing angle characteristics can be made larger.

【0050】さらに、フォトエッチング工程におけるオ
ーバーエッチングやアンダーエッチングが生じても、非
線形抵抗素子の面積が同じである。このために、容量比
の変動率が少なく、常に一定の表示特性が得られる。
Further, even if over-etching or under-etching occurs in the photo-etching process, the area of the non-linear resistance element remains the same. Therefore, the variation ratio of the capacity ratio is small, and a constant display characteristic can be obtained.

【0051】さらに、第2の電極材料に表示電極と同一
材料である透明導電膜である酸化インジウムスズ膜を用
いて、Ta−Ta25 −ITOの素子構造にする。こ
のことで、MIM素子の駆動能力が向上し、コントラス
トを低下させずに視角特性を改善することができる。
Furthermore, an indium tin oxide film, which is a transparent conductive film, which is the same material as the display electrode, is used as the second electrode material to form an element structure of Ta-Ta 2 O 5 -ITO. As a result, the driving capability of the MIM element is improved, and the viewing angle characteristics can be improved without lowering the contrast.

【0052】[0052]

【実施例】以下に本発明の実施例における液晶表示装置
の構成を、図面を使用して説明する。
The structure of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0053】図1は、本発明の第1の実施例における液
晶表示装置の構造を示す平面図である。図2は、図1の
平面図のB−B線における断面を示す断面図である。以
下、図1と図2とを交互に用いて本発明の第1の実施例
の液晶表示装置の構成を説明する。
FIG. 1 is a plan view showing the structure of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view showing a cross section taken along the line BB in the plan view of FIG. Hereinafter, the configuration of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention will be described by alternately using FIG. 1 and FIG.

【0054】第1の基板1上には、タンタル(Ta)膜
からなる第1の電極2を設ける。さらにこの第1の電極
2上には、第1の電極2を陽極酸化処理して設ける酸化
タンタル(Ta25 )膜からなる非線形抵抗層3を設
ける。
A first electrode 2 made of a tantalum (Ta) film is provided on the first substrate 1. Further, a non-linear resistance layer 3 made of a tantalum oxide (Ta 2 O 5 ) film provided by anodizing the first electrode 2 is provided on the first electrode 2.

【0055】さらに非線形抵抗層3上に、透明導電膜と
して酸化インジウムスズ(ITO)膜からなる第2の電
極4を設ける。
Further, a second electrode 4 made of an indium tin oxide (ITO) film is provided as a transparent conductive film on the nonlinear resistance layer 3.

【0056】この第1の電極2と非線形抵抗層3と第2
の電極4とによって、MIM構造の第1の非線形抵抗素
子5と第2の非線形素子7とを構成している。
The first electrode 2, the non-linear resistance layer 3 and the second
The first non-linear resistance element 5 and the second non-linear element 7 of the MIM structure are constituted by the electrode 4 of the above.

【0057】なお図1の平面図に示すように、第2の電
極4の一部領域は、第1の表示電極6と第2の表示電極
8を兼ねている。また、第1の電極2はタンタル膜から
なる駆動電極9に接続している。
As shown in the plan view of FIG. 1, a partial region of the second electrode 4 serves as both the first display electrode 6 and the second display electrode 8. The first electrode 2 is connected to the drive electrode 9 made of a tantalum film.

【0058】第1の表示電極6と第2の表示電極8との
面積は異なるように構成している。本発明の実施例にお
いては、第1の表示電極6の面積は、第2の表示電極8
よりおよそ30%大きくなるように構成している。
The areas of the first display electrode 6 and the second display electrode 8 are different from each other. In the embodiment of the present invention, the area of the first display electrode 6 is equal to the area of the second display electrode 8.
It is configured to be about 30% larger.

【0059】さらに第2の基板10には、第1の表示電
極6と第2の表示電極8と対向するように、酸化インジ
ウムスズ膜からなる対向電極11を設ける。
Further, a counter electrode 11 made of an indium tin oxide film is provided on the second substrate 10 so as to face the first display electrode 6 and the second display electrode 8.

【0060】第1の表示電極6と第2の表示電極8と
は、それぞれ対向電極11と重なり合うように配置する
ことにより、第1の表示電極6と第2の表示電極8との
2つで液晶表示装置の1画素となり、所定の表示を行
う。
By arranging the first display electrode 6 and the second display electrode 8 so as to overlap with the counter electrode 11, respectively, the first display electrode 6 and the second display electrode 8 are provided. It becomes one pixel of the liquid crystal display device and performs a predetermined display.

【0061】さらに第1の基板1と第2の基板10と
は、液晶13の分子を規則的に並べるための処理層とし
て、それぞれ配向膜12、12を設ける。さらにそのう
えスペーサー14によって、第1の基板1と第2の基板
10とを所定の間隔をもって対向させ、そしてこの第1
の基板1と第2の基板10との間には、液晶13を封入
している。
Further, the first substrate 1 and the second substrate 10 are provided with alignment films 12 and 12, respectively, as processing layers for regularly aligning the molecules of the liquid crystal 13. Furthermore, the spacer 14 causes the first substrate 1 and the second substrate 10 to face each other with a predetermined distance, and
A liquid crystal 13 is sealed between the substrate 1 and the second substrate 10.

【0062】つぎに以上説明した本発明の第1の実施例
における液晶表示装置による、動作について説明する。
Next, the operation of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention described above will be described.

【0063】本発明の第1の実施例では、4型の白黒液
晶表示装置を用いる。表示部の対角10cmで横640
画素×縦240画素、画素ピッチは横125μm×縦2
40μmである。
In the first embodiment of the present invention, a 4-inch black and white liquid crystal display device is used. 640 horizontal by 10 cm diagonally across the display
Pixel x 240 pixels vertically, pixel pitch is 125 μm horizontally x 2 pixels vertically
It is 40 μm.

【0064】第1の表示電極6は横65μm×縦200
μmで、第2の表示電極8は横45μm×縦200μ
m、第1の非線形抵抗素子5と第2の非線形抵抗素子7
の面積は3μm×3μm、液晶ギャップは4μmであ
る。
The first display electrode 6 is 65 μm wide × 200 vertical.
The second display electrode 8 has a width of 45 μm and a length of 200 μm.
m, the first nonlinear resistance element 5 and the second nonlinear resistance element 7
Has an area of 3 μm × 3 μm, and the liquid crystal gap is 4 μm.

【0065】非線形抵抗層3は、約0.07μmと薄
く、誘電率は25〜30と液晶の誘電率3〜5と比較し
て5〜10倍も大きい。このため、第1の表示電極6と
第1の非線形抵抗素子5の容量比は約4で、第2の表示
電極8と第2の非線形抵抗素子7の容量比は約3とな
る。
The nonlinear resistance layer 3 is as thin as about 0.07 μm, and has a dielectric constant of 25 to 30, which is 5 to 10 times larger than the dielectric constant of 3 to 5 of the liquid crystal. Therefore, the capacitance ratio between the first display electrode 6 and the first non-linear resistance element 5 is about 4, and the capacitance ratio between the second display electrode 8 and the second non-linear resistance element 7 is about 3.

【0066】したがって、書込時に第1の非線形抵抗素
子5に印加される電圧Vmim1は4/5Vinとな
り、第2の非線形抵抗素子7に印加される電圧Vmim
2は3/4Vinとなり、Vmim2=Vmim1×1
5/16となる。
Therefore, the voltage Vmim1 applied to the first nonlinear resistance element 5 at the time of writing becomes 4/5 Vin, and the voltage Vmim applied to the second nonlinear resistance element 7.
2 becomes 3/4 Vin, and Vmim2 = Vmim1 × 1
It becomes 5/16.

【0067】駆動電極9と対向電極11間の印加電圧V
inとして、およそ10V印加したとき、第1の表示電
極6と第2の表示電極8との間に約0.5Vの電圧差が
発生する。
Applied voltage V between the drive electrode 9 and the counter electrode 11
When about 10 V is applied as in, a voltage difference of about 0.5 V is generated between the first display electrode 6 and the second display electrode 8.

【0068】図5において、実線Xは容量比4の第1の
表示電極6における前方向に40゜傾けた電圧−透過率
特性を示し、実線Yは容量比3の第2の表示電極8にお
ける前方向に40゜傾けた電圧−透過率特性を示す。
In FIG. 5, the solid line X represents the voltage-transmittance characteristic of the first display electrode 6 having a capacitance ratio of 4 tilted forward by 40 °, and the solid line Y represents the second display electrode 8 having a capacitance ratio of 3. It shows the voltage-transmittance characteristic inclined by 40 ° in the forward direction.

【0069】画素の明るさは、2つの表示電極の平均と
なり、平均の電圧−透過率曲線を破線Zで示す。正面か
ら見て黒表示の印加電圧V1と灰色表示のV2を印加す
るとき、実線Xでは黒灰の反転が起きているが、本発明
の特性を示す破線Zでは、黒灰反転は発生せず、前方向
の視角特性が改善されている。
The pixel brightness is the average of the two display electrodes, and the average voltage-transmittance curve is shown by the broken line Z. When the applied voltage V1 for black display and V2 for gray display are applied when viewed from the front, black grey inversion occurs in the solid line X, but black grey inversion does not occur in the broken line Z showing the characteristics of the present invention. , The viewing angle characteristics in the forward direction have been improved.

【0070】第1の非線形抵抗素子5と第2の非線形抵
抗素子7として、Ta−Ta25−ITOの材料を用
いているために、MIM素子の駆動能力が高く、充分な
コントラスト特性も得ることができる。
Since the material of Ta-Ta 2 O 5 -ITO is used for the first non-linear resistance element 5 and the second non-linear resistance element 7, the driving capability of the MIM element is high and sufficient contrast characteristics are obtained. Obtainable.

【0071】本発明の第1の実施例では、さらに、第1
の非線形抵抗素子5と第2の非線形抵抗素子7の面積を
一定にして、そして第1の表示電極6と第2の表示電極
8との表示電極の面積のみを異なるように構成する。こ
のことで、従来例よりも容量比の変化率を大きくでき、
視角特性の改善効果が大きくすることができる。
In the first embodiment of the present invention, the first
The areas of the non-linear resistance element 5 and the second non-linear resistance element 7 are made constant, and only the areas of the display electrodes of the first display electrode 6 and the second display electrode 8 are different from each other. This makes it possible to increase the rate of change of the capacity ratio compared to the conventional example,
The effect of improving the viewing angle characteristics can be increased.

【0072】さらに、フォトエッチング工程におけるオ
ーバーエッチングやアンダーエッチングが生じ、非線形
抵抗素子面積が変化しても、第1の非線形抵抗素子5と
第2の非線形抵抗素子7の面積は同じである。このため
に、第1の表示電極6と第2の表示電極8の電圧差の変
化は少なく、常に一定の表示特性が得られる。
Further, even if the non-linear resistance element area changes due to over-etching or under-etching in the photo-etching process, the areas of the first non-linear resistance element 5 and the second non-linear resistance element 7 are the same. For this reason, the change in voltage difference between the first display electrode 6 and the second display electrode 8 is small, and constant display characteristics can always be obtained.

【0073】つぎに、本発明における第1の実施例の液
晶表示装置の製造方法について、図1と図2を用いて簡
単に説明する。
Next, a method of manufacturing the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention will be briefly described with reference to FIGS.

【0074】第1の基板1には、アルカリ金属の含有率
の少ないガラスがよく、本発明の第1の実施例では、日
本電気硝子製の商品名OA2を用い、厚さ1.1mmの
ものを使用する。
The first substrate 1 is preferably made of glass having a low content of alkali metals. In the first embodiment of the present invention, a product name OA2 manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd. having a thickness of 1.1 mm is used. To use.

【0075】つぎに、第1の基板1に第1の電極2と駆
動電極9の材料として、全面に厚さ0.1〜0.3μm
のタンタル膜をスパッタリング法や真空蒸着法により形
成する。その後、エッチングガスとしてSF6 とヘリウ
ムと酸素の混合ガスを用いたドライエッチングによりタ
ンタル薄膜をパタ−ンニングし、第1の電極2と駆動電
極9を形成する。駆動電極9の配線線幅は20μmで、
第1の電極2の非線形素子部線幅3μmとする。
Next, as the material of the first electrode 2 and the drive electrode 9 on the first substrate 1, the entire surface has a thickness of 0.1 to 0.3 μm.
The tantalum film is formed by a sputtering method or a vacuum evaporation method. After that, the tantalum thin film is patterned by dry etching using SF 6 and a mixed gas of helium and oxygen as an etching gas to form the first electrode 2 and the driving electrode 9. The wiring line width of the drive electrode 9 is 20 μm,
The line width of the nonlinear element portion of the first electrode 2 is 3 μm.

【0076】つぎに、クエン酸やほう酸アンモニウムな
どの陽極酸化液を満たした陽極酸化槽に第1の基板1を
浸漬し、30V〜50Vの直流電圧を印加して、陽極酸
化処理により厚さ0.05〜0.1μmの酸化タンタル
(Ta25 )膜からなる非線形抵抗層3を形成する。
Next, the first substrate 1 is immersed in an anodizing bath filled with an anodizing solution such as citric acid or ammonium borate, and a direct current voltage of 30V to 50V is applied to the anodizing treatment to achieve a thickness of 0. A nonlinear resistance layer 3 made of a tantalum oxide (Ta 2 O 5 ) film having a thickness of 0.05 to 0.1 μm is formed.

【0077】さらに、第2の電極4の材料と表示電極と
の材料として、全面に透明導電膜である酸化インジウム
スズ膜をスパッタリング法や真空蒸着法により厚さ0.
1から0.3μmに設け、フォトエッチング処理によ
り、第2の電極4と第1の表示電極6と第2の表示電極
8を設ける。本発明の第1の実施例では、塩化第2鉄と
塩酸の混合溶液を用いて酸化インジウムスズ膜のエッチ
ングを行い、第2の電極4の線幅は3μmとする。
Further, as a material for the second electrode 4 and a material for the display electrode, an indium tin oxide film, which is a transparent conductive film, is formed on the entire surface by a sputtering method or a vacuum evaporation method to a thickness of 0.1.
The second electrode 4, the first display electrode 6, and the second display electrode 8 are provided by a photo etching process. In the first embodiment of the present invention, the indium tin oxide film is etched using a mixed solution of ferric chloride and hydrochloric acid, and the line width of the second electrode 4 is set to 3 μm.

【0078】つぎに、第2の基板10の製造方法につい
て説明する。第2の基板10も、第1の基板1と同一の
ガラス基板を用い、対向電極11の材料として、厚さ
0.1から0.4μmの酸化インジウムスズ膜をスパッ
タリング法や真空蒸着法により設け、フォトエッチング
により対向電極11を設ける。
Next, a method of manufacturing the second substrate 10 will be described. The second substrate 10 is also the same glass substrate as the first substrate 1, and an indium tin oxide film having a thickness of 0.1 to 0.4 μm is provided as a material of the counter electrode 11 by a sputtering method or a vacuum evaporation method. The counter electrode 11 is provided by photo etching.

【0079】第1の基板1と第2の基板10の両基板に
配向膜12を印刷法で形成後、ラビング処理を行い、ス
ペ−サ−14を挟んで、エポキシ系接着材で両基板を所
定の間隔で張り合わせ、液晶13を注入する。
After the alignment film 12 is formed on both the first substrate 1 and the second substrate 10 by a printing method, a rubbing process is performed, and the spacer 14 is sandwiched between the two substrates by an epoxy adhesive. The liquid crystal 13 is injected by laminating at a predetermined interval.

【0080】そして第1の基板1と第2の基板10との
外側に偏光板を偏光軸が90゜に交差するように張り付
けて、ノーマリー白モードのMIM方式アクティブマト
リクス液晶表示装置となる。
Then, a polarizing plate is attached to the outside of the first substrate 1 and the second substrate 10 so that the polarization axes intersect each other at 90 °, and the normally white mode MIM active matrix liquid crystal display device is obtained.

【0081】本発明の第1の実施例では、液晶13は、
フッソ系でΔn=0.13の材料を用い、セルギャップ
は4μmにする。
In the first embodiment of the present invention, the liquid crystal 13 is
A fluorine-based material with Δn = 0.13 is used, and the cell gap is 4 μm.

【0082】本発明の実施例における4型のMIM方式
の白黒液晶表示装置は、正面でも充分なコントラスト特
性をもち、さらに前後方向に傾けたときの視角特性が改
善され、中間階調の反転のない良好な表示品質が得られ
ている。またさらに、左右方向に傾けたときの視角特性
は、数値上では従来と変わらないが、目視時は上下視野
角の成分が含まれるので、従来より広く見える。
The 4-type MIM type black and white liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention has a sufficient contrast characteristic even on the front side, and further the viewing angle characteristic when tilted in the front-back direction is improved. Good display quality is obtained. Furthermore, the viewing angle characteristic when tilted in the left-right direction is numerically the same as that of the conventional one, but when viewed, the vertical viewing angle component is included, so that it appears wider than before.

【0083】本発明の第1の実施例においては、好まし
くは第1の基板1の第1の非線形抵抗素子5と第2の非
線形抵抗素子7の上、あるいは第1の基板1の第1の非
線形抵抗素子5と第2の非線形抵抗素子7と第1の表示
電極6と第2の表示電極8の上に、スパッタリング法を
用いて厚さ0.1〜0.5μmの2酸化シリコンや酸化
タンタルの絶縁膜を設ける。この絶縁膜は、第1の非線
形抵抗素子5および第2の非線形抵抗素子7と液晶13
の相互作用を取り除く。このことで、焼き付き現象が低
減し、さらに高品質の表示画像を提供することができ
る。
In the first embodiment of the present invention, it is preferable that the first non-linear resistance element 5 and the second non-linear resistance element 7 of the first substrate 1 are provided, or the first non-linear resistance element 7 of the first substrate 1 is provided. On the non-linear resistance element 5, the second non-linear resistance element 7, the first display electrode 6 and the second display electrode 8, a silicon dioxide or an oxide having a thickness of 0.1 to 0.5 μm is formed by a sputtering method. An insulating film of tantalum is provided. This insulating film is used for the first non-linear resistance element 5 and the second non-linear resistance element 7 and the liquid crystal 13.
Remove the interaction of. As a result, the image sticking phenomenon is reduced, and a display image of higher quality can be provided.

【0084】本発明の第1の実施例では、1画素を2組
の非線形抵抗素子と表示電極で構成したが、3組以上の
非線形抵抗素子と表示電極で構成することも可能であ
る。
In the first embodiment of the present invention, one pixel is composed of two sets of non-linear resistance elements and display electrodes, but it is also possible to compose three or more sets of non-linear resistance elements and display electrodes.

【0085】つぎに、本発明の液晶表示装置における第
2の実施例を図3と図4とを用いて説明する。図4は、
本発明の第2の実施例の構成を示す断面図で、図3の平
面図のC−C線における断面を示している。以下、図3
と図4とを交互に用いて本発明の第2の実施例における
液晶表示装置の構成を説明する。
Next, a second embodiment of the liquid crystal display device of the present invention will be described with reference to FIGS. 3 and 4. FIG.
It is sectional drawing which shows the structure of the 2nd Example of this invention, and shows the cross section in the CC line of the top view of FIG. Below, FIG.
The configuration of the liquid crystal display device according to the second embodiment of the present invention will be described by alternately using FIG.

【0086】第1の基板1上には、タンタル(Ta)膜
からなる第1の電極2を設け、さらにこの第1の電極2
上には、第1の電極2を陽極酸化処理して設ける酸化タ
ンタル(Ta25 )膜からなる非線形抵抗層3を設け
る。
A first electrode 2 made of a tantalum (Ta) film is provided on the first substrate 1, and the first electrode 2 is further provided.
A non-linear resistance layer 3 made of a tantalum oxide (Ta 2 O 5 ) film provided by anodizing the first electrode 2 is provided thereon.

【0087】さらに非線形抵抗層3上に透明導電膜とし
て、酸化インジウムスズ(ITO)膜からなる第2の電
極4を設ける。
Further, a second electrode 4 made of an indium tin oxide (ITO) film is provided as a transparent conductive film on the nonlinear resistance layer 3.

【0088】この第1の電極2と非線形抵抗層3と第2
の電極4とによって、MIM構造の第1の非線形抵抗素
子5と第2の非線形素子7とを設ける構成としている。
The first electrode 2, the non-linear resistance layer 3 and the second
The first non-linear resistance element 5 and the second non-linear element 7 having the MIM structure are provided by the electrode 4 of FIG.

【0089】なお図3の平面図に示すように、第2の電
極4の一部領域は、第1の表示電極6と第2の表示電極
8を兼ねている。また、第1の電極2はタンタル膜から
なる駆動電極9に接続している。
As shown in the plan view of FIG. 3, a partial region of the second electrode 4 serves as both the first display electrode 6 and the second display electrode 8. The first electrode 2 is connected to the drive electrode 9 made of a tantalum film.

【0090】本発明の第2の実施例では第1の表示電極
6の面積と、第2の表示電極8の面積は同じである。し
かしながら、第1の非線形抵抗素子5を構成する第1の
電極2の線幅は3μm、第2の非線形抵抗素子7を構成
する第1の電極2の線幅は4μmと第1の電極2の線幅
寸法を異なるように構成する。
In the second embodiment of the present invention, the area of the first display electrode 6 and the area of the second display electrode 8 are the same. However, the line width of the first electrode 2 forming the first nonlinear resistance element 5 is 3 μm, and the line width of the first electrode 2 forming the second nonlinear resistance element 7 is 4 μm. Configure with different line width dimensions.

【0091】さらに第2の基板10には、クロム膜を図
3で右下がり斜線で示す形状にパターンニングして形成
するブラックマトリクス15を設ける。さらに、表示部
上にカラーフィルター16、17を設ける。
Further, the second substrate 10 is provided with a black matrix 15 formed by patterning a chrome film into a shape shown by a diagonal line descending to the right in FIG. Further, color filters 16 and 17 are provided on the display section.

【0092】カラーフィルター16、17の上に、アク
リル系樹脂からなる絶縁膜18を設ける。さらに第1の
表示電極6と第2の表示電極8とに対向するように、酸
化インジウムスズ膜からなる対向電極11を設ける。
An insulating film 18 made of acrylic resin is provided on the color filters 16 and 17. Further, a counter electrode 11 made of an indium tin oxide film is provided so as to face the first display electrode 6 and the second display electrode 8.

【0093】第1の表示電極6と第2の表示電極8と
は、対向電極11と重なり合うように配置する。このこ
とにより、第1の表示電極6と第2の表示電極8との両
方で液晶表示パネルの1画素となり、所定の表示を行
う。
The first display electrode 6 and the second display electrode 8 are arranged so as to overlap the counter electrode 11. As a result, one pixel of the liquid crystal display panel is formed by both the first display electrode 6 and the second display electrode 8, and a predetermined display is performed.

【0094】さらに第1の基板1と第2の基板10と
は、液晶13の分子を規則的に並べるための処理層とし
て、それぞれ配向膜12、12を設ける。さらにそのう
えスペーサー14により、第1の基板1と第2の基板1
0とを所定の間隔をもって対向させる。そして、第1の
基板1と第2の基板10との間には、液晶13を封入し
ている。
Further, the first substrate 1 and the second substrate 10 are provided with alignment films 12 and 12, respectively, as processing layers for regularly aligning the molecules of the liquid crystal 13. Furthermore, the spacer 14 allows the first substrate 1 and the second substrate 1 to be
0 and 0 are opposed to each other at a predetermined interval. Liquid crystal 13 is sealed between the first substrate 1 and the second substrate 10.

【0095】つぎに、本発明の第2の実施例における液
晶表示装置による動作について説明する。
The operation of the liquid crystal display device according to the second embodiment of the present invention will be described next.

【0096】本発明の第2の実施例では、4型のカラー
液晶表示装置を用いる。表示部の対角10cmで横64
0画素×縦240画素、画素ピッチ寸法は、横125μ
m×縦240μmである。
In the second embodiment of the present invention, a 4-type color liquid crystal display device is used. The width of the display is 10 cm and the width is 64 cm.
0 pixels x 240 pixels vertically, pixel pitch size is 125μ horizontally
m × length 240 μm.

【0097】第1の表示電極6と第2の表示電極8は、
横55μm×縦200μmと同一であるが、第1の非線
形抵抗素子5の第1の電極2の線幅は3μm、第2の電
極4の線幅は3μmで、面積は9μm2 、第2の非線形
抵抗素子7の第1の電極2の線幅は4μm、第2の電極
4の線幅は3μmで、面積は12μm2 となる。液晶ギ
ャップは4μmである。
The first display electrode 6 and the second display electrode 8 are
The width is the same as 55 μm × 200 μm in length, but the line width of the first electrode 2 of the first non-linear resistance element 5 is 3 μm, the line width of the second electrode 4 is 3 μm, and the area is 9 μm 2 . The line width of the first electrode 2 of the nonlinear resistance element 7 is 4 μm, the line width of the second electrode 4 is 3 μm, and the area is 12 μm 2 . The liquid crystal gap is 4 μm.

【0098】非線形抵抗層3は、約0.07μmと薄
く、誘電率は25〜30と液晶の誘電率3〜5と比較し
て5〜10倍も大きい。
The nonlinear resistance layer 3 is as thin as about 0.07 μm and has a dielectric constant of 25 to 30 which is 5 to 10 times larger than the dielectric constant of 3 to 5 of the liquid crystal.

【0099】このため、第1の表示電極6と第1の非線
形抵抗素子5の容量比は約4で、第2の表示電極8と第
2の非線形抵抗素子7の容量比は約3となる。
Therefore, the capacitance ratio between the first display electrode 6 and the first non-linear resistance element 5 is about 4, and the capacitance ratio between the second display electrode 8 and the second non-linear resistance element 7 is about 3. .

【0100】したがって、書込時に第1の非線形抵抗素
子5に印加する電圧Vmim1は4/5Vinとなり、
第2の非線形抵抗素子7に印加する電圧Vmim2は3
/4Vinとなり、Vmim2=Vmim1×15/1
6となる。
Therefore, the voltage Vmim1 applied to the first nonlinear resistance element 5 at the time of writing becomes 4/5 Vin,
The voltage Vmim2 applied to the second nonlinear resistance element 7 is 3
Becomes / 4 Vin, and Vmim2 = Vmim1 × 15/1
It becomes 6.

【0101】駆動電極9と対向電極11間の印加電圧V
inとして、およそ10V印加したとき、第1の表示電
極6と第2の表示電極8との間に約0.5Vの電圧差が
発生する。
Applied voltage V between the drive electrode 9 and the counter electrode 11
When about 10 V is applied as in, a voltage difference of about 0.5 V is generated between the first display electrode 6 and the second display electrode 8.

【0102】図5において、実線Xは容量比4の第1の
表示電極6における前方向に40゜傾けた電圧−透過率
特性を示し、実線Yは容量比3の第2の表示電極8にお
ける前方向に40゜傾けた電圧−透過率特性を示す。
In FIG. 5, the solid line X represents the voltage-transmittance characteristic of the first display electrode 6 having a capacitance ratio of 4 tilted forward by 40 °, and the solid line Y represents the second display electrode 8 having a capacitance ratio of 3. It shows the voltage-transmittance characteristic inclined by 40 ° in the forward direction.

【0103】画素の明るさは、複数の表示電極の平均と
なり、平均の電圧−透過率曲線を破線Zで示す。正面か
ら見て黒表示の印加電圧V1と灰色表示のV2を印加す
るとき、実線Xでは黒灰の反転が起きているが、本発明
の特性を示す破線Zでは、黒灰反転はおきず、前方向の
視角特性が改善している。
The brightness of a pixel is the average of a plurality of display electrodes, and the average voltage-transmittance curve is shown by a broken line Z. When applying the applied voltage V1 for black display and V2 for gray display as viewed from the front, black grey inversion occurs in the solid line X, but in the broken line Z showing the characteristics of the present invention, black grey inversion does not occur, The viewing angle characteristics in the forward direction are improved.

【0104】第1の非線形抵抗素子5と第2の非線形抵
抗素子7として、Ta−Ta25−ITOの材料を用
いているために、MIM素子の駆動能力が高く、充分な
コントラスト特性も得ることができる。
Since the material of Ta-Ta 2 O 5 -ITO is used for the first nonlinear resistance element 5 and the second nonlinear resistance element 7, the driving ability of the MIM element is high and sufficient contrast characteristics are obtained. Obtainable.

【0105】さらに、第1の表示電極6と第2の表示電
極8の面積を一定にして、第1の非線形抵抗素子7と第
2の非線形抵抗素子7の面積のみを異なるように構成し
ている。このことで、従来例よりも容量比の変化率を大
きくでき、視角特性の改善効果が大きくすることができ
る。
Further, the areas of the first display electrode 6 and the second display electrode 8 are made constant, and only the areas of the first nonlinear resistance element 7 and the second nonlinear resistance element 7 are different. There is. As a result, the rate of change of the capacitance ratio can be made larger than that of the conventional example, and the effect of improving the viewing angle characteristics can be made larger.

【0106】さらに、表示電極形成工程におけるオーバ
ーエッチングやアンダーエッチングが生じ、表示電極面
積が変化しても、第1の表示電極6と第2の表示電極8
の面積が同じである。このために、第1の表示電極6と
第2の表示電極8の電圧差の変化は少なく、常に一定の
表示特性が得られる。
Further, even if the display electrode area changes due to over-etching or under-etching in the display electrode forming step, the first display electrode 6 and the second display electrode 8 are formed.
Have the same area. For this reason, the change in voltage difference between the first display electrode 6 and the second display electrode 8 is small, and constant display characteristics can always be obtained.

【0107】非線形抵抗素子形成工程におけるオーバー
エッチングやアンダーエッチングが生じ、非線形抵抗面
積が変化しても、従来例よりも第1の非線形抵抗素子5
と第2の非線形抵抗素子7の面積差が少ない。このた
め、第1の表示電極6と第2の表示電極8の電圧差の変
化は少なくなり、一定の表示特性が得られる。
Even if the non-linear resistance area changes due to over-etching or under-etching in the process of forming the non-linear resistance element, the first non-linear resistance element 5 is provided more than the conventional example.
And the area difference between the second non-linear resistance element 7 is small. Therefore, the change in the voltage difference between the first display electrode 6 and the second display electrode 8 is reduced, and a constant display characteristic can be obtained.

【0108】つぎに、本発明における第2の実施例の液
晶表示装置の製造方法について、図3と図4を用いて簡
単に説明する。
Next, a method of manufacturing the liquid crystal display device according to the second embodiment of the present invention will be briefly described with reference to FIGS.

【0109】第1の基板1には、アルカリ金属の含有率
の少ないガラスがよく、本発明の第2の実施例では、日
本電気硝子製の商品名OA2を用い、厚さ1.1mmの
ものを使用する。
The first substrate 1 is preferably made of glass having a low content of alkali metal. In the second embodiment of the present invention, a product name OA2 manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd. having a thickness of 1.1 mm is used. To use.

【0110】つぎに、第1の基板1に、第1の電極2と
駆動電極9の材料として、全面に厚さ0.1〜0.3μ
mのタンタル膜をスパッタリング法や真空蒸着法により
設ける。その後、エッチングガスとしてSF6 とヘリウ
ムと酸素の混合ガスを用いたドライエッチングにより、
タンタル膜をパタ−ンニングして、第1の電極2と駆動
電極9とを設ける。ここで駆動電極9の配線線幅は20
μmで、第1の非線形抵抗素子5の第1の電極2の線幅
は3μmで、第2の非線形抵抗素子7の第1の電極2の
線幅は4μmである。
Next, on the first substrate 1, as a material of the first electrode 2 and the driving electrode 9, a thickness of 0.1 to 0.3 μm is formed on the entire surface.
A tantalum film of m is provided by a sputtering method or a vacuum evaporation method. After that, by dry etching using a mixed gas of SF 6 , helium and oxygen as an etching gas,
The tantalum film is patterned to provide the first electrode 2 and the drive electrode 9. Here, the wiring line width of the drive electrode 9 is 20
μm, the line width of the first electrode 2 of the first nonlinear resistance element 5 is 3 μm, and the line width of the first electrode 2 of the second nonlinear resistance element 7 is 4 μm.

【0111】つぎに、クエン酸やほう酸アンモニウムな
どの陽極酸化液を満たした陽極酸化槽に第1の基板1を
浸漬し、30V〜50Vの直流電圧を印加して、陽極酸
化処理により厚さ0.05〜0.1μmの酸化タンタル
(Ta25 )膜からなる非線形抵抗層3を設ける。
Next, the first substrate 1 is immersed in an anodizing tank filled with an anodizing solution such as citric acid or ammonium borate, and a direct current voltage of 30V to 50V is applied to the anodizing treatment to achieve a thickness of 0. A non-linear resistance layer 3 made of a tantalum oxide (Ta 2 O 5 ) film having a thickness of 0.05 to 0.1 μm is provided.

【0112】さらに、第2の電極4の材料と表示電極の
材料として、全面に透明導電膜である酸化インジウムス
ズ膜をスパッタリング法や真空蒸着法により厚さ0.1
から0.3μmに設ける。そして、フォトエッチング処
理によって、第2の電極4と第1の表示電極6と第2の
表示電極8を設ける。本発明の実施例では、塩化第2鉄
と塩酸の混合溶液を用いてエッチングを行う。なお、第
2の電極4の線幅は3μmとする。
Further, as a material for the second electrode 4 and a material for the display electrode, an indium tin oxide film which is a transparent conductive film is formed on the entire surface to a thickness of 0.1 by a sputtering method or a vacuum evaporation method.
To 0.3 μm. Then, the second electrode 4, the first display electrode 6, and the second display electrode 8 are provided by photoetching. In the example of the present invention, etching is performed using a mixed solution of ferric chloride and hydrochloric acid. The line width of the second electrode 4 is 3 μm.

【0113】つぎに、第2の基板6の製造方法について
説明する。第2の基板10も、第1の基板1と同一のガ
ラス基板を用い、その全面に厚さ0.1〜0.2μmの
クロム膜をスパッタリング法や真空蒸着法で形成する。
その後、硝酸セリウムアンモニウムと過塩素酸の混合溶
液を用いてクロム膜をフォトエッチングして、ブラック
マトリクス15とする。
Next, a method of manufacturing the second substrate 6 will be described. The second substrate 10 is also the same glass substrate as the first substrate 1, and a chromium film having a thickness of 0.1 to 0.2 μm is formed on the entire surface by sputtering or vacuum evaporation.
Then, the chromium film is photoetched using a mixed solution of cerium ammonium nitrate and perchloric acid to form the black matrix 15.

【0114】その後、全面に回転塗布法を用いて、ゼラ
チンやカゼインなどの感光性有機材料を形成する。そし
て、乾燥処理後、フォトエッチングを行い、第2の基板
10を染色槽に含浸して染色し、固着槽に含浸して固着
することにより、厚さ1μmの緑のカラ−フィルタ−1
6を設ける。この工程を3回繰り返し、青のカラ−フィ
ルタ−17と赤のカラ−フィルタ−(図示せず)とを設
ける。
Then, a photosensitive organic material such as gelatin or casein is formed on the entire surface by spin coating. Then, after the drying treatment, photoetching is performed to impregnate the second substrate 10 into the dyeing tank for dyeing, and to impregnate the fixing tank by impregnating the second substrate 10 to fix the green color filter-1 having a thickness of 1 μm.
6 is provided. This process is repeated 3 times to provide a blue color filter 17 and a red color filter (not shown).

【0115】カラ−フィルタ−16,17上に、絶縁膜
18の材料として、回転塗布法を用いて、アクリル系の
有機材料を形成後、温度150〜200゜Cの熱処理を
行って、有機材料を硬化させて、厚さ2〜5μmの絶縁
膜18を設ける。
After the acrylic organic material is formed on the color filters 16 and 17 as the material of the insulating film 18 by the spin coating method, the organic material is heat-treated at a temperature of 150 to 200 ° C. Is cured to form an insulating film 18 having a thickness of 2 to 5 μm.

【0116】つぎに、対向電極11の材料として、厚さ
0.2〜0.4μmの酸化インジウムスズ膜を低温スパ
ッタリング法により設け、フォトエッチングにより対向
電極11を設ける。
Next, as a material for the counter electrode 11, an indium tin oxide film having a thickness of 0.2 to 0.4 μm is provided by the low temperature sputtering method, and the counter electrode 11 is provided by photoetching.

【0117】第1の基板1と第2の基板10との両基板
に配向膜12を印刷法で形成後、ラビング処理を行い、
スペ−サ−14を挟んで、エポキシ系接着材で両基板を
所定の間隔で張り合わせ、液晶13を注入する。
After the alignment film 12 is formed on both the first substrate 1 and the second substrate 10 by a printing method, a rubbing process is performed.
Both substrates are bonded at a predetermined interval with an epoxy adhesive sandwiching the spacer 14, and the liquid crystal 13 is injected.

【0118】両基板の外側に偏光板を偏光軸が90゜に
交差するように張り付けて、ノーマリー白モードのMI
M方式アクティブマトリクス液晶表示装置となる。
Polarizing plates were attached to the outside of both substrates so that the polarization axes crossed 90 °, and the MI of normally white mode was set.
It becomes an M type active matrix liquid crystal display device.

【0119】本発明の実施例では、液晶13は、フッソ
系でΔn=0.13の材料を用い、セルギャップは4μ
mにする。
In the embodiment of the present invention, the liquid crystal 13 is made of a fluorine-based material with Δn = 0.13 and has a cell gap of 4 μm.
to m.

【0120】本発明の第2の実施例の4型のMIM方式
カラー液晶表示装置は、正面でも充分なコントラスト特
性をもち、さらに、前後方向に傾けたときの視角特性を
改善することができ、中間階調の反転のない良好な表示
品質が得られる。また、左右方向に傾けたときの視角特
性は、数値上では従来と変わらないが、目視時は上下視
野角の成分が含まれるので、従来より広く見える。
The 4-type MIM type color liquid crystal display device of the second embodiment of the present invention has a sufficient contrast characteristic even on the front side, and can further improve the viewing angle characteristic when tilted in the front-back direction. It is possible to obtain good display quality without inversion of halftone. Further, the viewing angle characteristic when tilted in the left-right direction is the same as that of the conventional one in terms of numerical values, but when viewed, the component of the vertical viewing angle is included, so that it looks wider than before.

【0121】本発明の第2の実施例では、好ましくは第
1の基板1の第1の非線形抵抗素子5と第2の非線形抵
抗素子7の上、あるいは第1の基板1の第1の非線形抵
抗素子5と第2の非線形抵抗素子7と第1の表示電極6
と第2の表示電極8の上に、スパッタリング法を用いて
厚さ0.1から0.5μmの2酸化シリコンや酸化タン
タルの絶縁膜を設ける。この絶縁膜は、第1の非線形抵
抗素子5と第2の非線形抵抗素子7と液晶13の相互作
用を取り除く役割をもつ。このことで、焼き付き現象が
低減し、さらに高品質の表示画像を提供することができ
る。
In the second embodiment of the present invention, it is preferable that the first non-linear resistance element 5 and the second non-linear resistance element 7 of the first substrate 1 are provided, or the first non-linear resistance element of the first substrate 1 is made. Resistance element 5, second nonlinear resistance element 7, and first display electrode 6
An insulating film of silicon dioxide or tantalum oxide having a thickness of 0.1 to 0.5 μm is provided on the second display electrode 8 by the sputtering method. This insulating film has a role of removing the interaction between the first nonlinear resistance element 5, the second nonlinear resistance element 7 and the liquid crystal 13. As a result, the image sticking phenomenon is reduced, and a display image of higher quality can be provided.

【0122】本発明の第2の実施例では、1画素を2組
の非線形抵抗素子と表示電極で構成したが、3組以上の
非線形抵抗素子と表示電極で構成することも可能であ
る。
In the second embodiment of the present invention, one pixel is composed of two sets of nonlinear resistance elements and display electrodes, but it is also possible to form three pixels or more of non-linear resistance elements and display electrodes.

【0123】本発明の第2の実施例では、第1の非線形
抵抗素子5と第2の非線形抵抗素子7で、第2の電極4
の線幅は3μmと同一にして、第1の電極2の線幅を3
μmと4μmとに変化させたが、第1の電極2の線幅寸
法は3μmと同一にして、第2の電極4の線幅寸法を3
μmと4μmに変化させても、まったく同一の効果が得
られる。
In the second embodiment of the present invention, the first non-linear resistance element 5 and the second non-linear resistance element 7 are used to form the second electrode 4.
And the line width of the first electrode 2 is 3 μm.
Although the line width of the first electrode 2 is changed to 3 μm, the line width of the second electrode 4 is changed to 3 μm.
Even if the thickness is changed to μm and 4 μm, the same effect can be obtained.

【0124】また、第1の非線形抵抗素子5と第2の非
線形抵抗素子7で、第1の電極2の線幅と第2の電極4
の線幅との両方を変化させることも可能である。第1の
電極2と第2の電極4との両電極の線幅を変えることに
より、第1の非線形抵抗素子5と第2の非線形抵抗素子
7の面積を大きく変化させることが可能となる。
Further, in the first nonlinear resistance element 5 and the second nonlinear resistance element 7, the line width of the first electrode 2 and the second electrode 4 are
It is also possible to change both the line width and the line width. By changing the line widths of both the first electrode 2 and the second electrode 4, the areas of the first nonlinear resistance element 5 and the second nonlinear resistance element 7 can be greatly changed.

【0125】また、第1の表示電極6と第2の表示電極
8の面積を変え、しかも第1の非線形抵抗素子5と第2
の非線形抵抗素子7との面積を変えることも可能であ
る。このとき、第1の表示電極6の面積を第2の表示電
極8より大きくし、第1の非線形抵抗素子5の面積は第
2の非線形抵抗素子7より小さくする。
Further, the areas of the first display electrode 6 and the second display electrode 8 are changed, and the first nonlinear resistance element 5 and the second display electrode 8 are changed.
It is also possible to change the area with the non-linear resistance element 7. At this time, the area of the first display electrode 6 is made larger than that of the second display electrode 8, and the area of the first nonlinear resistance element 5 is made smaller than that of the second nonlinear resistance element 7.

【0126】本発明の液晶表示装置は従来例よりも、容
量比を大きく変えることができるようになり、第1の表
示電極6と第2の表示電極8との電圧差を大きくするこ
とができるようになる。
In the liquid crystal display device of the present invention, the capacitance ratio can be changed more than in the conventional example, and the voltage difference between the first display electrode 6 and the second display electrode 8 can be increased. Like

【0127】さらに、従来例と同一の容量比差であれ
ば、第1の表示電極6と第2の表示電極8との面積差、
および第1の非線形抵抗素子5と第2の非線形抵抗素子
7との面積差を小さくできる。このため、フォトエッチ
ング工程におけるオーバーエッチングやアンダーエッチ
ングが生じても、第1の表示電極6と第2の表示電極8
の電圧差の変動は少なく、一定の表示特性を得られる。
Further, if the capacitance ratio difference is the same as that of the conventional example, the area difference between the first display electrode 6 and the second display electrode 8,
Further, the area difference between the first nonlinear resistance element 5 and the second nonlinear resistance element 7 can be reduced. Therefore, even if over-etching or under-etching in the photo-etching process occurs, the first display electrode 6 and the second display electrode 8
There is little fluctuation in the voltage difference of, and constant display characteristics can be obtained.

【0128】[0128]

【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明の
液晶表示装置の構成を用いることにより、充分な正面の
コントラストもちながら、かつ前後方向の視角特性が改
善し、中間調表示の反転も起きにくく、しかも高コント
ラスト広視角特性のMIM方式の液晶表示装置を提供す
ることができる。
As is apparent from the above description, by using the configuration of the liquid crystal display device of the present invention, the viewing angle characteristics in the front-rear direction are improved while the front contrast is improved, and the halftone display is reversed. It is possible to provide a MIM type liquid crystal display device which is hard to occur and has a high contrast wide viewing angle characteristic.

【0129】さらに、フォトエッチング工程でのオーバ
ーエッチングやアンダーエッチングがあっても、複数の
表示電極の駆動電圧差があまり変化せず、常に一定の表
示特性が得られ、安定した表示特性の液晶表示装置を提
供できる。
Furthermore, even if there is over-etching or under-etching in the photo-etching process, the driving voltage difference between the plurality of display electrodes does not change so much that constant display characteristics are always obtained, and a liquid crystal display with stable display characteristics is obtained. A device can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施例における液晶表示装置を
示す平面図である。
FIG. 1 is a plan view showing a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1の実施例における液晶表示装置を
示す断面図である。
FIG. 2 is a sectional view showing a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第2の実施例における液晶表示装置を
示す平面図である。
FIG. 3 is a plan view showing a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第2の実施例における液晶表示装置を
示す断面図である。
FIG. 4 is a sectional view showing a liquid crystal display device in a second embodiment of the present invention.

【図5】液晶表示装置を前方向に40゜傾けときの印加
電圧と透過率との関係を示すグラフである。
FIG. 5 is a graph showing the relationship between applied voltage and transmittance when the liquid crystal display device is tilted forward by 40 °.

【図6】従来例における液晶表示装置を示す平面図であ
る。
FIG. 6 is a plan view showing a liquid crystal display device in a conventional example.

【図7】従来例における液晶表示装置を示す断面図であ
る。
FIG. 7 is a cross-sectional view showing a liquid crystal display device in a conventional example.

【図8】液晶表示装置の前後方向の視角特性を説明する
ための印加電圧と透過率との関係を示すグラフである。
FIG. 8 is a graph showing the relationship between applied voltage and transmittance for explaining the viewing angle characteristics of the liquid crystal display device in the front-rear direction.

【図9】従来例における液晶表示装置を示す平面図であ
る。
FIG. 9 is a plan view showing a liquid crystal display device in a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 第1の基板 2 第1の電極 3 非線形抵抗層 4 第2の電極 5 第1の非線形抵抗素子 6 第1の表示電極 7 第2の非線形抵抗素子 8 第2の表示電極 9 駆動電極 10 第2の基板 11 対向電極 12 配向膜 13 液晶 1 1st board 2 1st electrode 3 Non-linear resistance layer 4 2nd electrode 5 1st non-linear resistance element 6 1st display electrode 7 2nd non-linear resistance element 8 2nd display electrode 9 Drive electrode 10th 2 substrate 11 counter electrode 12 alignment film 13 liquid crystal

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1の電極と非線形抵抗層と第2の電極
とからなる非線形抵抗素子と表示電極と駆動電極とを有
する第1の基板と、対向電極を有する第2の基板と、第
1の基板と第2の基板との間に封入する液晶とを備え、 1画素を1つの対向電極と複数の表示電極と各表示電極
に接続する非線形抵抗素子とで構成し、そしてそれぞれ
の非線形抵抗素子の面積は同一で、かつ表示電極の面積
が異なるように構成し、非線形抵抗素子と表示電極との
容量比が異なることを特徴とする液晶表示装置。
1. A first substrate having a non-linear resistance element including a first electrode, a non-linear resistance layer and a second electrode, a display electrode and a drive electrode, a second substrate having a counter electrode, and A liquid crystal to be sealed between a first substrate and a second substrate; one pixel is composed of one counter electrode, a plurality of display electrodes and a non-linear resistance element connected to each of the display electrodes, and each non-linear A liquid crystal display device, wherein the resistance elements have the same area and the display electrodes have different areas, and the capacitance ratio between the non-linear resistance element and the display electrode is different.
【請求項2】 第1の電極と非線形抵抗層と第2の電極
とからなる非線形抵抗素子と表示電極と駆動電極とを有
する第1の基板と、対向電極を有する第2の基板と、第
1の基板と第2の基板との間に封入する液晶とを備え、 1画素を1つの対向電極と複数の表示電極と各表示電極
に接続する非線形抵抗素子とで構成し、そしてそれぞれ
の表示電極の面積は同一で、かつ非線形抵抗素子の面積
が異なるように構成し、非線形抵抗素子と表示電極との
容量比が異なることを特徴とする液晶表示装置。
2. A first substrate having a non-linear resistance element including a first electrode, a non-linear resistance layer and a second electrode, a display electrode and a drive electrode, a second substrate having a counter electrode, A liquid crystal to be sealed between a first substrate and a second substrate, and one pixel is composed of one counter electrode, a plurality of display electrodes and a non-linear resistance element connected to each display electrode, and each display A liquid crystal display device, characterized in that the areas of the electrodes are the same, the areas of the non-linear resistance elements are different, and the capacitance ratios of the non-linear resistance elements and the display electrodes are different.
【請求項3】 第1の電極と非線形抵抗層と第2の電極
とからなる非線形抵抗素子と表示電極と駆動電極を有す
る第1の基板と、対向電極を有する第2の基板と、第1
の基板と第2の基板との間に封入する液晶とを備え、 1画素を1つの対向電極と複数の大きさの異なる表示電
極と各表示電極に接続する複数の大きさの異なる非線形
抵抗素子とで構成し、そして面積の大きな表示電極には
面積の小さい非線形抵抗素子を接続し、面積の小さな表
示電極には面積の大きな非線形抵抗素子を接続し、非線
形抵抗素子と表示電極との容量比が異なることを特徴と
する液晶表示装置。
3. A first substrate having a non-linear resistance element including a first electrode, a non-linear resistance layer and a second electrode, a display electrode and a drive electrode, a second substrate having a counter electrode, and a first substrate.
And a liquid crystal sealed between the second substrate and a second substrate, and a plurality of different size non-linear resistance elements for connecting one pixel to one counter electrode, a plurality of display electrodes of different sizes, and each display electrode. And a non-linear resistance element with a small area is connected to the display electrode with a large area, a non-linear resistance element with a large area is connected to the display electrode with a small area, and the capacitance ratio between the non-linear resistance element and the display electrode is Liquid crystal display device characterized by different.
【請求項4】 第1の基板に設ける第2の電極は、表示
電極と同一材料である透明導電膜で構成することを特徴
とする請求項1、請求項2、あるいは請求項3に記載の
液晶表示装置。
4. The second electrode provided on the first substrate is made of a transparent conductive film made of the same material as that of the display electrode, according to claim 1, 2, or 3. Liquid crystal display device.
【請求項5】 第1の基板の非線形抵抗素子の上、ある
いは第1の基板の非線形抵抗素子と表示電極上とには、
絶縁膜を備えることを特徴とする請求項1、請求項2、
請求項3、あるいは請求項4に記載の液晶表示装置。
5. The non-linear resistance element of the first substrate, or the non-linear resistance element of the first substrate and the display electrode,
An insulating film is provided, Claim 1, Claim 2,
The liquid crystal display device according to claim 3 or 4.
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