JPH08165289A - チエニルエーテル誘導体の製造方法 - Google Patents
チエニルエーテル誘導体の製造方法Info
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- JPH08165289A JPH08165289A JP30774294A JP30774294A JPH08165289A JP H08165289 A JPH08165289 A JP H08165289A JP 30774294 A JP30774294 A JP 30774294A JP 30774294 A JP30774294 A JP 30774294A JP H08165289 A JPH08165289 A JP H08165289A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 下記一般式（１）、
【化１】
（式中、Ａはカリウム等、Ｒ1ハアルキル基等、Ｒ2はシ
アノ基等）で表されるヒドロキシチオフェン誘導体アル
カリ金属塩をアルコール中、ジアルキル硫酸と１０℃以
下で反応させてチエニルエーテル誘導体を製造する。 【効果】 ジアゾメタンでは反応の進行が抑制されるア
ルコール系溶媒中でも高収率でチエニルエーテル誘導体
を得ることが可能である。また、従来法ではアルコール
中で収率良く３−アルコキシチオフェンカルボン酸誘導
体を得ることが困難であったが、本発明の製造方法に従
い、１０℃以下で反応させることにより、高収率でチエ
ニルエーテル誘導体を製造することができる。
アノ基等）で表されるヒドロキシチオフェン誘導体アル
カリ金属塩をアルコール中、ジアルキル硫酸と１０℃以
下で反応させてチエニルエーテル誘導体を製造する。 【効果】 ジアゾメタンでは反応の進行が抑制されるア
ルコール系溶媒中でも高収率でチエニルエーテル誘導体
を得ることが可能である。また、従来法ではアルコール
中で収率良く３−アルコキシチオフェンカルボン酸誘導
体を得ることが困難であったが、本発明の製造方法に従
い、１０℃以下で反応させることにより、高収率でチエ
ニルエーテル誘導体を製造することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はチエニルエーテル誘導体
を選択性よく、しかも高収率で製造する新規な製造方法
に関する。
を選択性よく、しかも高収率で製造する新規な製造方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】チエニルエーテル誘導体は、農薬、医薬
や機能性高分子モノマーの中間体として広範囲に利用し
得る有用な化合物である。
や機能性高分子モノマーの中間体として広範囲に利用し
得る有用な化合物である。
【０００３】従来、３−メトキシチオフェンカルボン酸
誘導体は３−ヒドロキシチオフェンカルボン酸誘導体に
ジアゾメタンやジアルキル硫酸を反応させて得られてい
た。一方、３ーヒドロキシチオフェンカルボン酸誘導体
は、一般に、アルコール溶媒中、チオグリコール酸誘導
体の環化反応によって得られる。例えば、３ーヒドロキ
シー２チオフェンカルボン酸メチルは、α、βージクロ
ロプロピオン酸メチルとチオグリコール酸メチルからメ
タノール溶媒中で生成することが、シンセティックコミ
ニケーション［Ｓｙｎｔｈ．Ｃｏｍｍｕｎ．，９，７３
１（１９７９）］に記載されている。従って、目的とす
るチエニルエーテル誘導体の製造を環化反応からの連続
反応により行う場合には、前記アルキル化を主としてア
ルコール中で行うことが好ましい。
誘導体は３−ヒドロキシチオフェンカルボン酸誘導体に
ジアゾメタンやジアルキル硫酸を反応させて得られてい
た。一方、３ーヒドロキシチオフェンカルボン酸誘導体
は、一般に、アルコール溶媒中、チオグリコール酸誘導
体の環化反応によって得られる。例えば、３ーヒドロキ
シー２チオフェンカルボン酸メチルは、α、βージクロ
ロプロピオン酸メチルとチオグリコール酸メチルからメ
タノール溶媒中で生成することが、シンセティックコミ
ニケーション［Ｓｙｎｔｈ．Ｃｏｍｍｕｎ．，９，７３
１（１９７９）］に記載されている。従って、目的とす
るチエニルエーテル誘導体の製造を環化反応からの連続
反応により行う場合には、前記アルキル化を主としてア
ルコール中で行うことが好ましい。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、そのア
ルコール中で使用されるアルキル化剤として前記のジア
ゾメタンを用いると、収率良くチエニルエーテル誘導体
を製造することは困難であった。しかもジアゾメタンに
は、爆発生があり、工業的に使用しづらいという問題も
ある。アルキル化剤としてジアルキル硫酸を用いた場
合、従来法では収率良く３−アルコキシチオフェンカル
ボン酸誘導体を得ることは困難であった。
ルコール中で使用されるアルキル化剤として前記のジア
ゾメタンを用いると、収率良くチエニルエーテル誘導体
を製造することは困難であった。しかもジアゾメタンに
は、爆発生があり、工業的に使用しづらいという問題も
ある。アルキル化剤としてジアルキル硫酸を用いた場
合、従来法では収率良く３−アルコキシチオフェンカル
ボン酸誘導体を得ることは困難であった。
【０００５】従って、上記の問題を解決すること、即
ち、チエニルエーテル誘導体をアルコール溶媒中で収率
良く製造することが問題となっている。
ち、チエニルエーテル誘導体をアルコール溶媒中で収率
良く製造することが問題となっている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、ジアルキ
ル硫酸とヒドロキシチオフェン誘導体アルカリ金属塩を
特定の温度で反応させると、収率良く、チエニルエーテ
ル誘導体を製造しうることを見い出し、本発明を完成す
るに至った。
ル硫酸とヒドロキシチオフェン誘導体アルカリ金属塩を
特定の温度で反応させると、収率良く、チエニルエーテ
ル誘導体を製造しうることを見い出し、本発明を完成す
るに至った。
【０００７】即ち、本発明は、一般式（１）、
【０００８】
【化３】
【０００９】（式中、Ａはアルカリ金属を示し、Ｒ1は
水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、アルコキシカルボ
ニル基、フェノキシカルボニル基、あるいはハロゲン原
子、ニトロ基またはフェニル基で置換されてもよい置換
もしくは非置換のアルキル基、あるいはハロゲン原子、
アルキル基またはハロゲノアルキル基で置換されてもよ
い置換もしくは非置換のフェニル基を示し、Ｒ2はシア
ノ基、アルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル
基またはアミノカルボニル基を示す。）で表されるヒド
ロキシチオフェン誘導体アルカリ金属塩をアルコール
中、ジアルキル硫酸と１０℃以下で反応させることを特
徴とする一般式（２）
水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、アルコキシカルボ
ニル基、フェノキシカルボニル基、あるいはハロゲン原
子、ニトロ基またはフェニル基で置換されてもよい置換
もしくは非置換のアルキル基、あるいはハロゲン原子、
アルキル基またはハロゲノアルキル基で置換されてもよ
い置換もしくは非置換のフェニル基を示し、Ｒ2はシア
ノ基、アルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル
基またはアミノカルボニル基を示す。）で表されるヒド
ロキシチオフェン誘導体アルカリ金属塩をアルコール
中、ジアルキル硫酸と１０℃以下で反応させることを特
徴とする一般式（２）
【００１０】
【化４】
【００１１】〔式中、Ｒ1、Ｒ2は前記一般式（１）にお
ける基と同義である。Ｒ3はアルキル基を示す。〕で表
されるチエニルエーテル誘導体の製造方法である。
ける基と同義である。Ｒ3はアルキル基を示す。〕で表
されるチエニルエーテル誘導体の製造方法である。
【００１２】本発明において使用する原料の一つは、前
記した一般式（１）で表されるヒドロキシチオフェン誘
導体アルカリ金属塩である。
記した一般式（１）で表されるヒドロキシチオフェン誘
導体アルカリ金属塩である。
【００１３】一般式（１）中、Ａで示されるアルカリ金
属原子としてはナトリウム、カリウム、リチウム等が好
適に挙げられる。
属原子としてはナトリウム、カリウム、リチウム等が好
適に挙げられる。
【００１４】一般式（１）中、Ｒ1で示されるハロゲン
原子はフッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。
原子はフッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。
【００１５】一般式（１）中、Ｒ1及びＲ2で示されるア
ルコキシカルボニル基はその炭素数には特に制限されな
いが、炭素数２〜７のものが好適に用いられ、具体的に
は、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ
−プロポキシカルボニル基、ｉｓｏ−プロポキシカルボ
ニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｉｓｏ−ブトキシ
カルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−ペント
キシカルボニル基、ｎ−ヘキソキシカルボニル基等が挙
げられる。
ルコキシカルボニル基はその炭素数には特に制限されな
いが、炭素数２〜７のものが好適に用いられ、具体的に
は、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ
−プロポキシカルボニル基、ｉｓｏ−プロポキシカルボ
ニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｉｓｏ−ブトキシ
カルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−ペント
キシカルボニル基、ｎ−ヘキソキシカルボニル基等が挙
げられる。
【００１６】一般式（１）中、Ｒ1で示されるアルキル
基はその炭素数には特に制限されないが、炭素数１〜６
のものが好適に使用される。該アルキル基を例示する
と、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プ
ロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｔ−ブチ
ル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられ
る。
基はその炭素数には特に制限されないが、炭素数１〜６
のものが好適に使用される。該アルキル基を例示する
と、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プ
ロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｔ−ブチ
ル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられ
る。
【００１７】一般式（１）中、Ｒ1で示される置換アル
キル基及び置換フェニル基の置換基であるハロゲン原子
としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。
ハロゲン置換アルキル基を例示すると、クロロメチル
基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、トリ
クロロメチル基、トリフルオロエチル基、ペンタフルオ
ロエチル基等が挙げられる。ハロゲン置換フェニル基を
例示すると、３ークロロフェニル基、２ークロロフェニ
ル基、４ークロロフェニル基、２、４ージクロロフェニ
ル基、３、４ージクロロフェニル基、２、６ージクロロ
フェニル基、３ーブロモフェニル基、２ーブロモフェニ
ル基、４ーブロモフェニル基、２、４ージブロモフェニ
ル基、３、４ージブロモフェニル基、２、６ージブロモ
フェニル基、３ーフルオロフェニル基、２ーフルオロフ
ェニル基、４ーフルオロフェニル基等が挙げられる。
キル基及び置換フェニル基の置換基であるハロゲン原子
としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。
ハロゲン置換アルキル基を例示すると、クロロメチル
基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、トリ
クロロメチル基、トリフルオロエチル基、ペンタフルオ
ロエチル基等が挙げられる。ハロゲン置換フェニル基を
例示すると、３ークロロフェニル基、２ークロロフェニ
ル基、４ークロロフェニル基、２、４ージクロロフェニ
ル基、３、４ージクロロフェニル基、２、６ージクロロ
フェニル基、３ーブロモフェニル基、２ーブロモフェニ
ル基、４ーブロモフェニル基、２、４ージブロモフェニ
ル基、３、４ージブロモフェニル基、２、６ージブロモ
フェニル基、３ーフルオロフェニル基、２ーフルオロフ
ェニル基、４ーフルオロフェニル基等が挙げられる。
【００１８】一般式（１）中、Ｒ1で示される置換フェ
ニル基の置換基であるアルキル基はその炭素数には特に
制限されないが、炭素数１〜６のものが好適に使用され
る。該アルキル基を例示すると、メチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、
ｉｓｏ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ
−ヘキシル基等が挙げられる。
ニル基の置換基であるアルキル基はその炭素数には特に
制限されないが、炭素数１〜６のものが好適に使用され
る。該アルキル基を例示すると、メチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、
ｉｓｏ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ
−ヘキシル基等が挙げられる。
【００１９】一般式（１）中、Ｒ1で示される置換フェ
ニル基の置換基であるハロゲノアルキル基はその炭素数
には特に制限されないが、炭素数１〜６のものが好適に
使用される。該ハロゲノアルキル基を例示すると、クロ
ロメチル基、ジフロロメチル基、トリフルオロメチル
基、トリクロロメチル基、トリフルオロエチル基、ペン
タフルオロエチル基等が挙げられる。
ニル基の置換基であるハロゲノアルキル基はその炭素数
には特に制限されないが、炭素数１〜６のものが好適に
使用される。該ハロゲノアルキル基を例示すると、クロ
ロメチル基、ジフロロメチル基、トリフルオロメチル
基、トリクロロメチル基、トリフルオロエチル基、ペン
タフルオロエチル基等が挙げられる。
【００２０】一般式（１）中、Ｒ2で示されるアミノカ
ルボニル基は、無置換のアミノカルボニル基に加えて窒
素原子上の水素の１つまたは２つがアルキル基またはア
ルコキシ基で置換されたものを含む。該アルキル基を例
示すると、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓ
ｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｔ
−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げ
られる。また、該アルコキシ基を例示すると、メトキシ
基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキ
シ基、ｎ−ブトキシ基等が挙げられる。
ルボニル基は、無置換のアミノカルボニル基に加えて窒
素原子上の水素の１つまたは２つがアルキル基またはア
ルコキシ基で置換されたものを含む。該アルキル基を例
示すると、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓ
ｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｔ
−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げ
られる。また、該アルコキシ基を例示すると、メトキシ
基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキ
シ基、ｎ−ブトキシ基等が挙げられる。
【００２１】上述のヒドロキシチオフェン誘導体アルカ
リ金属塩を具体的に例示すると次のとおりである。
リ金属塩を具体的に例示すると次のとおりである。
【００２２】３−ヒドロキシ−２−チオフェンカルボン
酸メチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−２−チオフェンカル
ボン酸メチルＫ塩、３−ヒドロキシ−２−チオフェンカ
ルボン酸エチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−２−チオフェ
ンカルボン酸エチルＫ塩、３−ヒドロキシ−２−チオフ
ェンカルボン酸プロピルＫ塩、３−ヒドロキシ−２−チ
オフェンカルボン酸ブチルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−
メチル−２−チオフェンカルボン酸メチルＮａ塩、３−
ヒドロキシ−５−メチル−２−チオフェンカルボン酸エ
チルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５−メチル−２−チオフ
ェンカルボン酸メチルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−メチ
ル−２−チオフェンカルボン酸エチルＫ塩、３−ヒドロ
キシ−５−メチル−２−チオフェンカルボン酸プロピル
Ｋ塩、３−ヒドロキシ−５−メチル−２−チオフェンカ
ルボン酸ブチルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−ブロモ−２
−チオフェンカルボン酸メチルＮａ塩、３−ヒドロキシ
−５−ブロモ−２−チオフェンカルボン酸メチルＫ塩、
３−ヒドロキシ−５−クロロ−２−チオフェンカルボン
酸メチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５−クロロ−２−チ
オフェンカルボン酸メチルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−
ヨード−２−チオフェンカルボン酸メチルＫ塩、３−ヒ
ドロキシ−５−フルオロ−２−チオフェンカルボン酸メ
チルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−ニトロ−２−チオフェ
ンカルボン酸メチルＫ塩、３−ヒドロキシ−２，５−ジ
チオフェンカルボン酸メチルＫ塩。
酸メチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−２−チオフェンカル
ボン酸メチルＫ塩、３−ヒドロキシ−２−チオフェンカ
ルボン酸エチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−２−チオフェ
ンカルボン酸エチルＫ塩、３−ヒドロキシ−２−チオフ
ェンカルボン酸プロピルＫ塩、３−ヒドロキシ−２−チ
オフェンカルボン酸ブチルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−
メチル−２−チオフェンカルボン酸メチルＮａ塩、３−
ヒドロキシ−５−メチル−２−チオフェンカルボン酸エ
チルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５−メチル−２−チオフ
ェンカルボン酸メチルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−メチ
ル−２−チオフェンカルボン酸エチルＫ塩、３−ヒドロ
キシ−５−メチル−２−チオフェンカルボン酸プロピル
Ｋ塩、３−ヒドロキシ−５−メチル−２−チオフェンカ
ルボン酸ブチルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−ブロモ−２
−チオフェンカルボン酸メチルＮａ塩、３−ヒドロキシ
−５−ブロモ−２−チオフェンカルボン酸メチルＫ塩、
３−ヒドロキシ−５−クロロ−２−チオフェンカルボン
酸メチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５−クロロ−２−チ
オフェンカルボン酸メチルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−
ヨード−２−チオフェンカルボン酸メチルＫ塩、３−ヒ
ドロキシ−５−フルオロ−２−チオフェンカルボン酸メ
チルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−ニトロ−２−チオフェ
ンカルボン酸メチルＫ塩、３−ヒドロキシ−２，５−ジ
チオフェンカルボン酸メチルＫ塩。
【００２３】３−ヒドロキシ−２−エトキシカルボニル
−５−チオフェンカルボン酸メチルＫ塩、３−ヒドロキ
シ−２−フェノキシカルボニル−５−チオフェンカルボ
ン酸メチルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−エチル−２−チ
オフェンカルボン酸メチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５
−エチル−２−チオフェンカルボン酸メチルＫ塩、３−
ヒドロキシ−５−エチル−２−チオフェンカルボン酸エ
チルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５−エチル−２−チオフ
ェンカルボン酸エチルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−ｎプ
ロピル−２−チオフェンカルボン酸メチルＮａ塩、３−
ヒドロキシ−５−ｎプロピル−２−チオフェンカルボン
酸メチルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−ｉｓｏプロピル−
２−チオフェンカルボン酸メチルＮａ塩、３−ヒドロキ
シ−５−ｉｓｏプロピル−２−チオフェンカルボン酸メ
チルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−ｉｓｏプロピル−２−
チオフェンカルボン酸エチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−
５−ｎブチル−２−チオフェンカルボン酸メチルＮａ
塩、３−ヒドロキシ−５−ｎブチル−２−チオフェンカ
ルボン酸メチルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−ｎブチル−
２−チオフェンカルボン酸エチルＫ塩、３−ヒドロキシ
−５−ｉｓｏブチル−２−チオフェンカルボン酸メチル
Ｋ塩、３−ヒドロキシ−５−ｉｓｏブチル−２−チオフ
ェンカルボン酸エチルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−ｔｅ
ｒｔブチル−２−チオフェンカルボン酸メチルＫ塩、３
−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔブチル−２−チオフェンカ
ルボン酸エチルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−フェニル−
２−チオフェンカルボン酸メチルＫ塩、３−ヒドロキシ
−５−フェニル−２−チオフェンカルボン酸エチルＫ
塩、３−ヒドロキシ−５−（３′−クロロフェニル）−
２−チオフェンカルボン酸メチルＮａ塩、３−ヒドロキ
シ−５−（２′−クロロフェニル）−２−チオフェンカ
ルボン酸メチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５−（４′−
クロロフェニル）−２−チオフェンカルボン酸メチルＮ
ａ塩、３−ヒドロキシ−５−（２′，４′−ジクロロフ
ェニル）−２−チオフェンカルボン酸メチルＮａ塩、３
−ヒドロキシ−５−（３′，４′−ジクロロフェニル）
−２−チオフェンカルボン酸メチルＮａ塩、３−ヒドロ
キシ−５−（４′−トリフルオロメチルフェニル）−２
−チオフェンカルボン酸メチルＮａ塩、３−ヒドロキシ
−５−（４′−イソプロピルフェニル）−２−チオフェ
ンカルボン酸メチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５−
（４′−トリクロロメチルフェニル）−２−チオフェン
カルボン酸メチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５−（４′
−トリクロロメチルフェニル）−２−チオフェンカルボ
ン酸エチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５−トリフルオロ
メチル−２−チオフェンカルボン酸メチルＮａ塩、３−
ヒドロキシ−５−ジフルオロメチル−２−チオフェンカ
ルボン酸メチルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−フルオロメ
チル−２−チオフェンカルボン酸メチルＫ塩、３−ヒド
ロキシ−５−ニトロメチル−２−チオフェンカルボン酸
メチルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−フェニルメチル−２
−チオフェンカルボン酸メチルＫ塩、３−ヒドロキシ−
２−チオフェンカルボン酸フェニルＮａ塩、３−ヒドロ
キシ−２−チオフェンカルボン酸フェニルＫ塩、３−ヒ
ドロキシ−５−メチル−２−チオフェンカルボン酸フェ
ニルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−エチル−２−チオフェ
ンカルボン酸フェニルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−フェ
ニル−２−チオフェンカルボン酸フェニルＫ塩、３−ヒ
ドロキシ−５−メトキシカルボニル−２−チオフェンカ
ルボキサミドＮａ塩、Ｎ−メチル−３−ヒドロキシ−５
−メトキシカルボニル−２−チオフェンカルボキサミド
Ｎａ塩、Ｎ−メトキシ−３−ヒドロキシ−５−メトキシ
カルボニル−２−チオフェンカルボキサミドＮａ塩、Ｎ
−エトキシ−３−ヒドロキシ−５−メトキシカルボニル
−２−チオフェンカルボキサミドＮａ塩、Ｎ−フェノキ
シ−３−ヒドロキシ−５−メトキシカルボニル−２−チ
オフェンカルボキサミドＫ塩、３−ヒドロキシ−２−シ
アノチオフェンＫ塩、３−ヒドロキシ−５−メチル−２
−シアノチオフェンＫ塩、３−ヒドロキシ−２−シアノ
−５−チオフェンカルボン酸メチルＫ塩、３−ヒドロキ
シ−２−シアノ−５−チオフェンカルボン酸エチルＫ
塩、３−ヒドロキシ−２−シアノ−５−チオフェンカル
ボン酸ｉｓｏ−プロピルＫ塩、３−ヒドロキシ−２−シ
アノ−５−チオフェンカルボン酸ｉｓｏ−プロピルＫ
塩、３−ヒドロキシ−２−シアノ−５−チオフェンカル
ボン酸フェニルＫ塩。
−５−チオフェンカルボン酸メチルＫ塩、３−ヒドロキ
シ−２−フェノキシカルボニル−５−チオフェンカルボ
ン酸メチルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−エチル−２−チ
オフェンカルボン酸メチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５
−エチル−２−チオフェンカルボン酸メチルＫ塩、３−
ヒドロキシ−５−エチル−２−チオフェンカルボン酸エ
チルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５−エチル−２−チオフ
ェンカルボン酸エチルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−ｎプ
ロピル−２−チオフェンカルボン酸メチルＮａ塩、３−
ヒドロキシ−５−ｎプロピル−２−チオフェンカルボン
酸メチルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−ｉｓｏプロピル−
２−チオフェンカルボン酸メチルＮａ塩、３−ヒドロキ
シ−５−ｉｓｏプロピル−２−チオフェンカルボン酸メ
チルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−ｉｓｏプロピル−２−
チオフェンカルボン酸エチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−
５−ｎブチル−２−チオフェンカルボン酸メチルＮａ
塩、３−ヒドロキシ−５−ｎブチル−２−チオフェンカ
ルボン酸メチルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−ｎブチル−
２−チオフェンカルボン酸エチルＫ塩、３−ヒドロキシ
−５−ｉｓｏブチル−２−チオフェンカルボン酸メチル
Ｋ塩、３−ヒドロキシ−５−ｉｓｏブチル−２−チオフ
ェンカルボン酸エチルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−ｔｅ
ｒｔブチル−２−チオフェンカルボン酸メチルＫ塩、３
−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔブチル−２−チオフェンカ
ルボン酸エチルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−フェニル−
２−チオフェンカルボン酸メチルＫ塩、３−ヒドロキシ
−５−フェニル−２−チオフェンカルボン酸エチルＫ
塩、３−ヒドロキシ−５−（３′−クロロフェニル）−
２−チオフェンカルボン酸メチルＮａ塩、３−ヒドロキ
シ−５−（２′−クロロフェニル）−２−チオフェンカ
ルボン酸メチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５−（４′−
クロロフェニル）−２−チオフェンカルボン酸メチルＮ
ａ塩、３−ヒドロキシ−５−（２′，４′−ジクロロフ
ェニル）−２−チオフェンカルボン酸メチルＮａ塩、３
−ヒドロキシ−５−（３′，４′−ジクロロフェニル）
−２−チオフェンカルボン酸メチルＮａ塩、３−ヒドロ
キシ−５−（４′−トリフルオロメチルフェニル）−２
−チオフェンカルボン酸メチルＮａ塩、３−ヒドロキシ
−５−（４′−イソプロピルフェニル）−２−チオフェ
ンカルボン酸メチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５−
（４′−トリクロロメチルフェニル）−２−チオフェン
カルボン酸メチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５−（４′
−トリクロロメチルフェニル）−２−チオフェンカルボ
ン酸エチルＮａ塩、３−ヒドロキシ−５−トリフルオロ
メチル−２−チオフェンカルボン酸メチルＮａ塩、３−
ヒドロキシ−５−ジフルオロメチル−２−チオフェンカ
ルボン酸メチルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−フルオロメ
チル−２−チオフェンカルボン酸メチルＫ塩、３−ヒド
ロキシ−５−ニトロメチル−２−チオフェンカルボン酸
メチルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−フェニルメチル−２
−チオフェンカルボン酸メチルＫ塩、３−ヒドロキシ−
２−チオフェンカルボン酸フェニルＮａ塩、３−ヒドロ
キシ−２−チオフェンカルボン酸フェニルＫ塩、３−ヒ
ドロキシ−５−メチル−２−チオフェンカルボン酸フェ
ニルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−エチル−２−チオフェ
ンカルボン酸フェニルＫ塩、３−ヒドロキシ−５−フェ
ニル−２−チオフェンカルボン酸フェニルＫ塩、３−ヒ
ドロキシ−５−メトキシカルボニル−２−チオフェンカ
ルボキサミドＮａ塩、Ｎ−メチル−３−ヒドロキシ−５
−メトキシカルボニル−２−チオフェンカルボキサミド
Ｎａ塩、Ｎ−メトキシ−３−ヒドロキシ−５−メトキシ
カルボニル−２−チオフェンカルボキサミドＮａ塩、Ｎ
−エトキシ−３−ヒドロキシ−５−メトキシカルボニル
−２−チオフェンカルボキサミドＮａ塩、Ｎ−フェノキ
シ−３−ヒドロキシ−５−メトキシカルボニル−２−チ
オフェンカルボキサミドＫ塩、３−ヒドロキシ−２−シ
アノチオフェンＫ塩、３−ヒドロキシ−５−メチル−２
−シアノチオフェンＫ塩、３−ヒドロキシ−２−シアノ
−５−チオフェンカルボン酸メチルＫ塩、３−ヒドロキ
シ−２−シアノ−５−チオフェンカルボン酸エチルＫ
塩、３−ヒドロキシ−２−シアノ−５−チオフェンカル
ボン酸ｉｓｏ−プロピルＫ塩、３−ヒドロキシ−２−シ
アノ−５−チオフェンカルボン酸ｉｓｏ−プロピルＫ
塩、３−ヒドロキシ−２−シアノ−５−チオフェンカル
ボン酸フェニルＫ塩。
【００２４】本発明で用いられる原料の他の一つは、ジ
アルキル硫酸である。ジアルキル硫酸のアルキル基は製
造する目的化合物の構造によって選択され、その炭素数
には特に制限されないが、炭素数１〜４のものが好適に
用いられる。該アルキル基を例示すると、メチル基、エ
チル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブ
チル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチ
ル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられる。該ジアルキル硫
酸を具体的に例示すると、ジメチル硫酸、ジエチル硫
酸、ジプロピル硫酸、ジブチル硫酸等が挙げられる。
アルキル硫酸である。ジアルキル硫酸のアルキル基は製
造する目的化合物の構造によって選択され、その炭素数
には特に制限されないが、炭素数１〜４のものが好適に
用いられる。該アルキル基を例示すると、メチル基、エ
チル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブ
チル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチ
ル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられる。該ジアルキル硫
酸を具体的に例示すると、ジメチル硫酸、ジエチル硫
酸、ジプロピル硫酸、ジブチル硫酸等が挙げられる。
【００２５】本発明の反応は、アルコール中で行う。ア
ルコールとしては特に制限されないが、炭素数１〜４の
ものが好適に用いられる。該アルコールを具体的に例示
するとメタノール、エタノール、イソプロピルアルコー
ル、ｔ−ブタノール等が挙げられる。又、これらの溶媒
は、通常ヒドロキシチオフェン誘導体アルカリ金属塩を
基準に１〜１００倍溶量使用する。
ルコールとしては特に制限されないが、炭素数１〜４の
ものが好適に用いられる。該アルコールを具体的に例示
するとメタノール、エタノール、イソプロピルアルコー
ル、ｔ−ブタノール等が挙げられる。又、これらの溶媒
は、通常ヒドロキシチオフェン誘導体アルカリ金属塩を
基準に１〜１００倍溶量使用する。
【００２６】本発明において、原料のヒドロキシチオフ
ェン誘導体アルカリ金属塩とジアルキル硫酸の使用モル
比は、特に限定されるものではないが、一般には１：
０．５〜１：１００、好ましくは１：０．５〜１：２０
の範囲で使用するのがよい。
ェン誘導体アルカリ金属塩とジアルキル硫酸の使用モル
比は、特に限定されるものではないが、一般には１：
０．５〜１：１００、好ましくは１：０．５〜１：２０
の範囲で使用するのがよい。
【００２７】本発明において、反応温度は、一般には−
７０℃〜１０℃の範囲、好ましくは−１０℃〜１０℃、
特に好ましくは５℃〜１０℃の範囲から選ぶのがよい。
１０℃を越えると目的とするチエニルエーテル誘導体の
収率は高々２０％程度となってしまう。これは、この温
度を越えるとジアルキル硫酸が溶媒のアルコールと反応
してしまうためである。
７０℃〜１０℃の範囲、好ましくは−１０℃〜１０℃、
特に好ましくは５℃〜１０℃の範囲から選ぶのがよい。
１０℃を越えると目的とするチエニルエーテル誘導体の
収率は高々２０％程度となってしまう。これは、この温
度を越えるとジアルキル硫酸が溶媒のアルコールと反応
してしまうためである。
【００２８】また、本発明の反応時間は、使用原料及び
使用量、反応温度等の反応条件により異なるが、通常１
〜４０時間、好ましくは４〜２４時間である。
使用量、反応温度等の反応条件により異なるが、通常１
〜４０時間、好ましくは４〜２４時間である。
【００２９】本発明の製造方法において、使用する原料
等の添加順序について特に制限されるものではないが、
通常、ヒドロキシチオフェン誘導体アルカリ金属塩をア
ルコールに溶解した後、撹拌しながらジアルキル硫酸を
徐々に滴下することによって本発明のチエニルエーテル
誘導体を生成することができる。
等の添加順序について特に制限されるものではないが、
通常、ヒドロキシチオフェン誘導体アルカリ金属塩をア
ルコールに溶解した後、撹拌しながらジアルキル硫酸を
徐々に滴下することによって本発明のチエニルエーテル
誘導体を生成することができる。
【００３０】本発明の方法により得られるチエニルエー
テル誘導体の精製方法は、特に限定されるものではない
が、一般に、反応液を濃縮後、残渣に水を加え、反応生
成物を溶解させる溶剤によって抽出、水層と分離し、次
いで溶剤を蒸留等により除去することにより純度の高い
チエニルエーテル誘導体が得られる。更に、必要に応じ
て常圧蒸留、減圧蒸留、再結晶またはクロマトグラフィ
ーによって精製することができる。
テル誘導体の精製方法は、特に限定されるものではない
が、一般に、反応液を濃縮後、残渣に水を加え、反応生
成物を溶解させる溶剤によって抽出、水層と分離し、次
いで溶剤を蒸留等により除去することにより純度の高い
チエニルエーテル誘導体が得られる。更に、必要に応じ
て常圧蒸留、減圧蒸留、再結晶またはクロマトグラフィ
ーによって精製することができる。
【００３１】上述の方法によって得られる本発明のチエ
ニルエーテル誘導体を例示すると下記の通りである。
ニルエーテル誘導体を例示すると下記の通りである。
【００３２】（１００）３−メトキシ−２−チオフェン
カルボン酸メチル、（１０２）３−メトキシ−２−チオ
フェンカルボン酸エチル、（１０４）３−メトキシ−２
−チオフェンカルボン酸プロピル、（１０６）３−メト
キシ−２−チオフェンカルボン酸ブチル、（１０８）３
−エトキシ−２−チオフェンカルボン酸メチル、（１１
０）３−エトキシ−２−チオフェンカルボン酸エチル、
（１１２）３−エトキシ−２−チオフェンカルボン酸プ
ロピル、（１１４）３−エトキシ−２−チオフェンカル
ボン酸ブチル、（１１６）３−ｎプロポキシ−２−チオ
フェンカルボン酸メチル、（１１８）３−ｎプロポキシ
−２−チオフェンカルボン酸エチル、（１２０）３−ｉ
ｓｏプロポキシ−２−チオフェンカルボン酸メチル、
（１２２）３−ｎブトキシ−２−チオフェンカルボン酸
メチル、（１２４）３−メトキシ−５−メチル−２−チ
オフェンカルボン酸メチル、（１２６）３−メトキシ−
５−メチル−２−チオフェンカルボン酸プロピル、（１
２８）３−メトキシ−５−メチル−２−チオフェンカル
ボン酸ブチル、（１３０）３−エトキシ−５−メチル−
２−チオフェンカルボン酸メチル、（１３２）３−ｎプ
ロポキシ−５−メチル−２−チオフェンカルボン酸メチ
ル、（１３４）３−ｉｓｏプロポキシ−５−メチル−２
−チオフェンカルボン酸メチル、（１３６）３−メトキ
シ−５−ブロモ−２−チオフェンカルボン酸メチル、
（１３８）３−メトキシ−５−クロロ−２−チオフェン
カルボン酸メチル、（１４０）３−エトキシ−５−クロ
ロ−２−チオフェンカルボン酸メチル、（１４２）３−
メトキシ−５−ヨード−２−チオフェンカルボン酸メチ
ル、（１４４）３−メトキシ−５−フルオロ−２−チオ
フェンカルボン酸メチル、（１４６）３−メトキシ−５
−ニトロ−２−チオフェンカルボン酸メチル、（１４
８）３−メトキシ−２，５−ジチオフェンカルボン酸メ
チル、（１５０）３−メトキシ−２−エトキシカルボニ
ル−５−チオフェンカルボン酸メチル、（１５２）３−
メトキシ−２−フェノキシカルボニル−５−チオフェン
カルボン酸メチル、（１５４）３−メトキシ−５−エチ
ル−２−チオフェンカルボン酸メチル、（１５６）３−
メトキシ−５−エチル−２−チオフェンカルボン酸エチ
ル、（１５８）３−エメトキシ−５−エチル−２−チオ
フェンカルボン酸メチル、（１６０）３−メトキシ−５
−ｎプロピル−２−チオフェンカルボン酸メチル、（１
６２）３−エトキシ−５−ｎプロピル−２−チオフェン
カルボン酸メチル、（１６４）３−メトキシ−５−ｉｓ
ｏプロピル−２−チオフェンカルボン酸メチル、（１６
６）３−メトキシ−５−ｎブチル−２−チオフェンカル
ボン酸メチル、（１６８）３−メトキシ−５−ｉｓｏブ
チル−２−チオフェンカルボン酸メチル、（１７０）３
−メトキシ−５−ｔｅｒｔブチル−２−チオフェンカル
ボン酸メチル、（１７２）３−メトキシ−５−フェニル
−２−チオフェンカルボン酸メチル、（１７４）３−エ
トキシ−５−フェニル−２−チオフェンカルボン酸メチ
ル、（１７６）３−メトキシ−５−（３′−クロロフェ
ニル）−２−チオフェンカルボン酸メチル、（１７８）
３−メトキシ−５−（２′−クロロフェニル）−２−チ
オフェンカルボン酸メチル、（１８０）３−メトキシ−
５−（４′−クロロフェニル）−２−チオフェンカルボ
ン酸メチル、（１８２）３−メトキシ−５−（２′，
４′−ジクロロフェニル）−２−チオフェンカルボン酸
メチル、（１８４）３−メトキシ−５−（３′，４′−
ジクロロフェニル）−２−チオフェンカルボン酸メチ
ル、（１８６）３−メトキシ−５−（４′−トリフルオ
ロメチルフェニル）−２−チオフェンカルボン酸メチ
ル、（１８８）３−メトキシ−５−（４′−イソプロピ
ルフェニル）−２−チオフェンカルボン酸メチル、（１
９０）３−メトキシ−５−（４′−トリクロロメチルフ
ェニル）−２−チオフェンカルボン酸メチル、（１９
２）３−メトキシ−５−（４′−トリクロロメチルフェ
ニル）−２−チオフェンカルボン酸エチル、（１９４）
３−メトキシ−５−トリフルオロメチル−２−チオフェ
ンカルボン酸メチル、（１９６）３−メトキシ−５−ジ
フルオロメチル−２−チオフェンカルボン酸メチル、
（１９８）３−メトキシ−５−フルオロメチル−２−チ
オフェンカルボン酸メチル、（２００）３−メトキシ−
５−ニトロメチル−２−チオフェンカルボン酸メチル、
（２０２）３−メトキシ−５−フェニルメチル−２−チ
オフェンカルボン酸メチル、（２０４）３−メトキシ−
２−チオフェンカルボン酸フェニル、（２０６）３−メ
トキシ−２−チオフェンカルボン酸フェニル、（２０
８）３−メトキシ−５−メチル−２−チオフェンカルボ
ン酸フェニル、（２１０）３−メトキシ−５−エチル−
２−チオフェンカルボン酸フェニル、（２１２）３−メ
トキシ−５−フェニル−２−チオフェンカルボン酸フェ
ニル、（２１４）３−メトキシ−５−メトキシカルボニ
ル−２−チオフェンカルボキサミド、（２１６）Ｎ−メ
チル−３−メトキシ−５−メトキシカルボニル−２−チ
オフェンカルボキサミド、（２１８）Ｎ−メトキシ−３
−メトキシ−５−メトキシカルボニル−２−チオフェン
カルボキサミド、（２２０）Ｎ−エトキシ−４−メトキ
シ−５−メトキシカルボニル−２−チオフェンカルボキ
サミド、（２２２）Ｎ−フェノキシ−４−メトキシ−５
−メトキシカルボニル−２−チオフェンカルボキサミ
ド、（２２４）３−メトキシ−２−シアノチオフェン、
（２２６）３−エトキシ−２−シアノチオフェン、（２
２８）３−メトキシ−５−メチル−２−シアノチオフェ
ン、（２３０）３−エトキシ−５−メチル−２−シアノ
チオフェン、（２３２）３−メトキシ−２−シアノ−５
−チオフェンカルボン酸メチル、（２３４）３−エトキ
シ−２−シアノ−５−チオフェンカルボン酸メチル、
（２３６）３−メトキシ−２−シアノ−５−チオフェン
カルボン酸エチル。
カルボン酸メチル、（１０２）３−メトキシ−２−チオ
フェンカルボン酸エチル、（１０４）３−メトキシ−２
−チオフェンカルボン酸プロピル、（１０６）３−メト
キシ−２−チオフェンカルボン酸ブチル、（１０８）３
−エトキシ−２−チオフェンカルボン酸メチル、（１１
０）３−エトキシ−２−チオフェンカルボン酸エチル、
（１１２）３−エトキシ−２−チオフェンカルボン酸プ
ロピル、（１１４）３−エトキシ−２−チオフェンカル
ボン酸ブチル、（１１６）３−ｎプロポキシ−２−チオ
フェンカルボン酸メチル、（１１８）３−ｎプロポキシ
−２−チオフェンカルボン酸エチル、（１２０）３−ｉ
ｓｏプロポキシ−２−チオフェンカルボン酸メチル、
（１２２）３−ｎブトキシ−２−チオフェンカルボン酸
メチル、（１２４）３−メトキシ−５−メチル−２−チ
オフェンカルボン酸メチル、（１２６）３−メトキシ−
５−メチル−２−チオフェンカルボン酸プロピル、（１
２８）３−メトキシ−５−メチル−２−チオフェンカル
ボン酸ブチル、（１３０）３−エトキシ−５−メチル−
２−チオフェンカルボン酸メチル、（１３２）３−ｎプ
ロポキシ−５−メチル−２−チオフェンカルボン酸メチ
ル、（１３４）３−ｉｓｏプロポキシ−５−メチル−２
−チオフェンカルボン酸メチル、（１３６）３−メトキ
シ−５−ブロモ−２−チオフェンカルボン酸メチル、
（１３８）３−メトキシ−５−クロロ−２−チオフェン
カルボン酸メチル、（１４０）３−エトキシ−５−クロ
ロ−２−チオフェンカルボン酸メチル、（１４２）３−
メトキシ−５−ヨード−２−チオフェンカルボン酸メチ
ル、（１４４）３−メトキシ−５−フルオロ−２−チオ
フェンカルボン酸メチル、（１４６）３−メトキシ−５
−ニトロ−２−チオフェンカルボン酸メチル、（１４
８）３−メトキシ−２，５−ジチオフェンカルボン酸メ
チル、（１５０）３−メトキシ−２−エトキシカルボニ
ル−５−チオフェンカルボン酸メチル、（１５２）３−
メトキシ−２−フェノキシカルボニル−５−チオフェン
カルボン酸メチル、（１５４）３−メトキシ−５−エチ
ル−２−チオフェンカルボン酸メチル、（１５６）３−
メトキシ−５−エチル−２−チオフェンカルボン酸エチ
ル、（１５８）３−エメトキシ−５−エチル−２−チオ
フェンカルボン酸メチル、（１６０）３−メトキシ−５
−ｎプロピル−２−チオフェンカルボン酸メチル、（１
６２）３−エトキシ−５−ｎプロピル−２−チオフェン
カルボン酸メチル、（１６４）３−メトキシ−５−ｉｓ
ｏプロピル−２−チオフェンカルボン酸メチル、（１６
６）３−メトキシ−５−ｎブチル−２−チオフェンカル
ボン酸メチル、（１６８）３−メトキシ−５−ｉｓｏブ
チル−２−チオフェンカルボン酸メチル、（１７０）３
−メトキシ−５−ｔｅｒｔブチル−２−チオフェンカル
ボン酸メチル、（１７２）３−メトキシ−５−フェニル
−２−チオフェンカルボン酸メチル、（１７４）３−エ
トキシ−５−フェニル−２−チオフェンカルボン酸メチ
ル、（１７６）３−メトキシ−５−（３′−クロロフェ
ニル）−２−チオフェンカルボン酸メチル、（１７８）
３−メトキシ−５−（２′−クロロフェニル）−２−チ
オフェンカルボン酸メチル、（１８０）３−メトキシ−
５−（４′−クロロフェニル）−２−チオフェンカルボ
ン酸メチル、（１８２）３−メトキシ−５−（２′，
４′−ジクロロフェニル）−２−チオフェンカルボン酸
メチル、（１８４）３−メトキシ−５−（３′，４′−
ジクロロフェニル）−２−チオフェンカルボン酸メチ
ル、（１８６）３−メトキシ−５−（４′−トリフルオ
ロメチルフェニル）−２−チオフェンカルボン酸メチ
ル、（１８８）３−メトキシ−５−（４′−イソプロピ
ルフェニル）−２−チオフェンカルボン酸メチル、（１
９０）３−メトキシ−５−（４′−トリクロロメチルフ
ェニル）−２−チオフェンカルボン酸メチル、（１９
２）３−メトキシ−５−（４′−トリクロロメチルフェ
ニル）−２−チオフェンカルボン酸エチル、（１９４）
３−メトキシ−５−トリフルオロメチル−２−チオフェ
ンカルボン酸メチル、（１９６）３−メトキシ−５−ジ
フルオロメチル−２−チオフェンカルボン酸メチル、
（１９８）３−メトキシ−５−フルオロメチル−２−チ
オフェンカルボン酸メチル、（２００）３−メトキシ−
５−ニトロメチル−２−チオフェンカルボン酸メチル、
（２０２）３−メトキシ−５−フェニルメチル−２−チ
オフェンカルボン酸メチル、（２０４）３−メトキシ−
２−チオフェンカルボン酸フェニル、（２０６）３−メ
トキシ−２−チオフェンカルボン酸フェニル、（２０
８）３−メトキシ−５−メチル−２−チオフェンカルボ
ン酸フェニル、（２１０）３−メトキシ−５−エチル−
２−チオフェンカルボン酸フェニル、（２１２）３−メ
トキシ−５−フェニル−２−チオフェンカルボン酸フェ
ニル、（２１４）３−メトキシ−５−メトキシカルボニ
ル−２−チオフェンカルボキサミド、（２１６）Ｎ−メ
チル−３−メトキシ−５−メトキシカルボニル−２−チ
オフェンカルボキサミド、（２１８）Ｎ−メトキシ−３
−メトキシ−５−メトキシカルボニル−２−チオフェン
カルボキサミド、（２２０）Ｎ−エトキシ−４−メトキ
シ−５−メトキシカルボニル−２−チオフェンカルボキ
サミド、（２２２）Ｎ−フェノキシ−４−メトキシ−５
−メトキシカルボニル−２−チオフェンカルボキサミ
ド、（２２４）３−メトキシ−２−シアノチオフェン、
（２２６）３−エトキシ−２−シアノチオフェン、（２
２８）３−メトキシ−５−メチル−２−シアノチオフェ
ン、（２３０）３−エトキシ−５−メチル−２−シアノ
チオフェン、（２３２）３−メトキシ−２−シアノ−５
−チオフェンカルボン酸メチル、（２３４）３−エトキ
シ−２−シアノ−５−チオフェンカルボン酸メチル、
（２３６）３−メトキシ−２−シアノ−５−チオフェン
カルボン酸エチル。
【００３３】上記生成物は、1Ｈ−ＮＭＲ分析によるδ
値、即ちアルコキシ基プロトンに起因するδ値が１．５
〜２．５ｐｐｍ及び３．２〜５．０ｐｐｍ付近に、チオ
フェン環プロトンに起因するδ値が６．５〜８．５ｐｐ
ｍ付近に、及び各種の置換基プロトンに起因する特定の
δ値によりその構造を確認できるが、その他元素分析、
ＩＲ分析等を用いて正確に決定される。
値、即ちアルコキシ基プロトンに起因するδ値が１．５
〜２．５ｐｐｍ及び３．２〜５．０ｐｐｍ付近に、チオ
フェン環プロトンに起因するδ値が６．５〜８．５ｐｐ
ｍ付近に、及び各種の置換基プロトンに起因する特定の
δ値によりその構造を確認できるが、その他元素分析、
ＩＲ分析等を用いて正確に決定される。
【００３４】本発明によって得られるチエニルエーテル
誘導体の一般的性状は、黄色または黄褐色の粘調液体も
しくは固体である。
誘導体の一般的性状は、黄色または黄褐色の粘調液体も
しくは固体である。
【００３５】本発明においては、目的とするチエニルエ
ーテル誘導体の製造を前段の環化反応からの連続反応に
より行い、しかも比較的短時間で収率よく製造すること
を考えると、下記一般式（３）、
ーテル誘導体の製造を前段の環化反応からの連続反応に
より行い、しかも比較的短時間で収率よく製造すること
を考えると、下記一般式（３）、
【００３６】
【化５】
【００３７】（式中、Ａ’はナトリウム原子もしくはカ
リウム原子を示し、Ｒ4は水素原子、非置換アルキル基
もしくは非置換フェニル基を示し、Ｒ5はシアノ基もし
くはアルコキシカルボニル基を示す。）で表されるヒド
ロキシチオフェン誘導体アルカリ金属塩を低級アルコー
ル中、ジアルキル硫酸と５〜１０℃で反応させる一般式
（４）、
リウム原子を示し、Ｒ4は水素原子、非置換アルキル基
もしくは非置換フェニル基を示し、Ｒ5はシアノ基もし
くはアルコキシカルボニル基を示す。）で表されるヒド
ロキシチオフェン誘導体アルカリ金属塩を低級アルコー
ル中、ジアルキル硫酸と５〜１０℃で反応させる一般式
（４）、
【００３８】
【化６】
【００３９】（式中、Ｒ4、Ｒ5は一般式（３）における
基と同義である。Ｒ6はアルキル基を示す。）で表され
るチエニルエーテル誘導体の製造方法が特に好ましい。
基と同義である。Ｒ6はアルキル基を示す。）で表され
るチエニルエーテル誘導体の製造方法が特に好ましい。
【００４０】
【発明の効果】ジアゾメタンでは反応の進行が抑制され
るアルコール系溶媒中でも高収率でチエニルエーテル誘
導体を得ることが可能である。また、比較例に示したよ
うにヒドロキシチオフェン誘導体アルカリ金属塩とジア
ルキル硫酸を１０℃を越える温度で反応させると、目的
とするチエニルエーテル誘導体の収率は高々２０％程度
である。しかしながら、本発明の製造方法に従い、１０
℃以下で反応させることにより、高収率でチエニルエー
テル誘導体を製造することができる。
るアルコール系溶媒中でも高収率でチエニルエーテル誘
導体を得ることが可能である。また、比較例に示したよ
うにヒドロキシチオフェン誘導体アルカリ金属塩とジア
ルキル硫酸を１０℃を越える温度で反応させると、目的
とするチエニルエーテル誘導体の収率は高々２０％程度
である。しかしながら、本発明の製造方法に従い、１０
℃以下で反応させることにより、高収率でチエニルエー
テル誘導体を製造することができる。
【００４１】本発明をさらに具体的に説明するため、以
下に実施例及び比較例を示すが、本発明はこれらの実施
例に限定されるものではない。
下に実施例及び比較例を示すが、本発明はこれらの実施
例に限定されるものではない。
【００４２】
実施例１ ３−ヒドロキシ−２−チオフェンカルボン酸メチルのナ
トリウム塩２７ｇ（０．１５ｍｏｌ）のメタノール２０
０ｍｌ溶液に、５℃以下でジメチル硫酸３７．８ｇ
（０．３０ｍｏｌ）を１時間かけて滴下した後、１０℃
で６時間反応させた。
トリウム塩２７ｇ（０．１５ｍｏｌ）のメタノール２０
０ｍｌ溶液に、５℃以下でジメチル硫酸３７．８ｇ
（０．３０ｍｏｌ）を１時間かけて滴下した後、１０℃
で６時間反応させた。
【００４３】反応終了後、反応液を濾過、濾液を濃縮し
た。水１００ｍｌと塩化メチレン２００ｍｌを加え、塩
化メチレン層を水層から分離し、次いで塩化メチレンを
留去することにより、淡黄色固体である３−メトキシ−
２−チオフェンカルボン酸メチル（化合物番号１００）
をほぼ定量的に得た。
た。水１００ｍｌと塩化メチレン２００ｍｌを加え、塩
化メチレン層を水層から分離し、次いで塩化メチレンを
留去することにより、淡黄色固体である３−メトキシ−
２−チオフェンカルボン酸メチル（化合物番号１００）
をほぼ定量的に得た。
【００４４】実施例２ ５−フェニル−３−ヒドロキシ−２−チオフェンカルボ
ン酸メチルのカリウム塩４０．８ｇ（０．１５ｍｏｌ）
のメタノール３００ｍｌ溶液に、５℃以下でジメチル硫
酸３７．８ｇ（０．３０ｍｏｌ）を１時間かけて滴下し
た後、１０℃で１０時間反応させた。
ン酸メチルのカリウム塩４０．８ｇ（０．１５ｍｏｌ）
のメタノール３００ｍｌ溶液に、５℃以下でジメチル硫
酸３７．８ｇ（０．３０ｍｏｌ）を１時間かけて滴下し
た後、１０℃で１０時間反応させた。
【００４５】反応終了後、反応液を濾過、濾液を濃縮し
た。水１００ｍｌと塩化メチレン２００ｍｌを加え、塩
化メチレン層を水層から分離し、次いで塩化メチレンを
留去することにより、淡黄色固体である５−フェニル−
３−メトキシ−２−チオフェンカルボン酸メチル（化合
物番号１７２）をほぼ定量的に得た。
た。水１００ｍｌと塩化メチレン２００ｍｌを加え、塩
化メチレン層を水層から分離し、次いで塩化メチレンを
留去することにより、淡黄色固体である５−フェニル−
３−メトキシ−２−チオフェンカルボン酸メチル（化合
物番号１７２）をほぼ定量的に得た。
【００４６】実施例３ ３−ヒドロキシ−２、５−ジチオフェンカルボン酸メチ
ルのナトリウム塩 ３８．１ｇ（０．１５ｍｏｌ）のエ
タノール３００ｍｌ溶液に、５℃以下でジメチル硫酸３
７．８ｇ（０．３０ｍｏｌ）を１時間かけて滴下した
後、１０℃で １２時間反応させた。
ルのナトリウム塩 ３８．１ｇ（０．１５ｍｏｌ）のエ
タノール３００ｍｌ溶液に、５℃以下でジメチル硫酸３
７．８ｇ（０．３０ｍｏｌ）を１時間かけて滴下した
後、１０℃で １２時間反応させた。
【００４７】反応終了後、反応液を濾過、濾液を濃縮し
た。水１００ｍｌと塩化メチレン２００ｍｌを加え、塩
化メチレン層を水層から分離し、次いで塩化メチレンを
留去することにより、淡黄色固体である３−メトキシ−
２、５−ジチオフェンカルボン酸メチル（化合物番号１
４８）をほぼ定量的に得た。
た。水１００ｍｌと塩化メチレン２００ｍｌを加え、塩
化メチレン層を水層から分離し、次いで塩化メチレンを
留去することにより、淡黄色固体である３−メトキシ−
２、５−ジチオフェンカルボン酸メチル（化合物番号１
４８）をほぼ定量的に得た。
【００４８】実施例４ 表１に示す３−ヒドロキシチオフェンカルボン酸誘導体
アルカリ金属塩を実施例１と同様な条件で本発明を実施
した。結果もあわせて表１に示す。
アルカリ金属塩を実施例１と同様な条件で本発明を実施
した。結果もあわせて表１に示す。
【００４９】
【表１】
【００５０】
【表２】
【００５１】
【表３】
【００５２】
【表４】
【００５３】
【表５】
【００５４】
【表６】
【００５５】
【表７】
【００５６】
【表８】
【００５７】
【表９】
【００５８】比較例１ ３−ヒドロキシ−２−チオフェンカルボン酸メチルのナ
トリウム塩２７ｇ（０．１５ｍｏｌ）のメタノール２０
０ｍｌ溶液に、５℃以下でジメチル硫酸３７．８ｇ
（０．３０ｍｏｌ）を１時間かけて滴下した後、２０℃
で２４時間攪拌した。 反応液を濾過、濾液を濃縮し
た。水１００ｍｌと塩化メチレン２００ｍｌを加え、塩
酸酸性とした。塩化メチレン層を水層から分離し、次い
で塩化メチレンを留去し、３−メトキシ−２−チオフェ
ンカルボン酸メチル２０重量％と３−ヒドロキシ−２−
チオフェンカルボン酸メチル８０重量％の混合物を２
２．９ｇ得た。
トリウム塩２７ｇ（０．１５ｍｏｌ）のメタノール２０
０ｍｌ溶液に、５℃以下でジメチル硫酸３７．８ｇ
（０．３０ｍｏｌ）を１時間かけて滴下した後、２０℃
で２４時間攪拌した。 反応液を濾過、濾液を濃縮し
た。水１００ｍｌと塩化メチレン２００ｍｌを加え、塩
酸酸性とした。塩化メチレン層を水層から分離し、次い
で塩化メチレンを留去し、３−メトキシ−２−チオフェ
ンカルボン酸メチル２０重量％と３−ヒドロキシ−２−
チオフェンカルボン酸メチル８０重量％の混合物を２
２．９ｇ得た。
【００５９】比較例２ ３−ヒドロキシ−２−チオフェンカルボン酸メチルのナ
トリウム塩２７ｇ（０．１５ｍｏｌ）のメタノーＹル２
００ｍｌ溶液に、５℃以下でジメチル硫酸３７．８ｇ
（０．３０ｍｏｌ）を１時間かけて滴下した後、１５℃
で２４時間攪拌した。
トリウム塩２７ｇ（０．１５ｍｏｌ）のメタノーＹル２
００ｍｌ溶液に、５℃以下でジメチル硫酸３７．８ｇ
（０．３０ｍｏｌ）を１時間かけて滴下した後、１５℃
で２４時間攪拌した。
【００６０】反応液を濾過、濾液を濃縮した。水１００
ｍｌと塩化メチレン２００ｍｌを加え、塩酸酸性とし
た。塩化メチレン層を水層から分離し、次いで塩化メチ
レンを留去し、３−メトキシ−２−チオフェンカルボン
酸メチル２５重量％と３−ヒドロキシ−２−チオフェン
カルボン酸メチル７５重量％の混合物を２３．８ｇ得
た。
ｍｌと塩化メチレン２００ｍｌを加え、塩酸酸性とし
た。塩化メチレン層を水層から分離し、次いで塩化メチ
レンを留去し、３−メトキシ−２−チオフェンカルボン
酸メチル２５重量％と３−ヒドロキシ−２−チオフェン
カルボン酸メチル７５重量％の混合物を２３．８ｇ得
た。
Claims (1)
- 【請求項１】 一般式（１）、 【化１】 （式中、Ａはアルカリ金属を示し、Ｒ1は水素原子、ハ
ロゲン原子、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、フェ
ノキシカルボニル基、あるいはハロゲン原子、ニトロ基
またはフェニル基で置換されてもよい置換もしくは非置
換のアルキル基、あるいはハロゲン原子、アルキル基ま
たはハロゲノアルキル基で置換されてもよい置換もしく
は非置換のフェニル基を示し、Ｒ2はシアノ基、アルコ
キシカルボニル基、フェノキシカルボニル基またはアミ
ノカルボニル基を示す。）で表されるヒドロキシチオフ
ェン誘導体アルカリ金属塩をアルコール中、ジアルキル
硫酸と１０℃以下で反応させることを特徴とする一般式
（２） 【化２】 〔式中、Ｒ1、Ｒ2は前記一般式（１）における基と同義
である。Ｒ3はアルキル基を示す。〕で表されるチエニ
ルエーテル誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30774294A JP3325139B2 (ja) | 1994-12-12 | 1994-12-12 | チエニルエーテル誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30774294A JP3325139B2 (ja) | 1994-12-12 | 1994-12-12 | チエニルエーテル誘導体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08165289A true JPH08165289A (ja) | 1996-06-25 |
| JP3325139B2 JP3325139B2 (ja) | 2002-09-17 |
Family
ID=17972724
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30774294A Expired - Fee Related JP3325139B2 (ja) | 1994-12-12 | 1994-12-12 | チエニルエーテル誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3325139B2 (ja) |
-
1994
- 1994-12-12 JP JP30774294A patent/JP3325139B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3325139B2 (ja) | 2002-09-17 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |