JPH075472A - 液晶配向膜用組成物、液晶配向膜の製造法、液晶配向膜、液晶挾持基板および液晶表示素子 - Google Patents
液晶配向膜用組成物、液晶配向膜の製造法、液晶配向膜、液晶挾持基板および液晶表示素子Info
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- GFYHSKONPJXCDE-UHFFFAOYSA-N sym-collidine Natural products CC1=CN=C(C)C(C)=C1 GFYHSKONPJXCDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHUUYVZLXJHWDV-UHFFFAOYSA-N trimethyl(methylsilyloxy)silane Chemical compound C[SiH2]O[Si](C)(C)C UHUUYVZLXJHWDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLNPWTHGTVSSEU-UHFFFAOYSA-N undecane-1,11-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCCCN KLNPWTHGTVSSEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 プレチルト角が3°以上となる液晶配向膜を
形成でき、アクティブマトリクス方式の液晶表示素子用
として好適な液晶配向膜用組成物を提供する。 【構成】 (1)ジアミン化合物およびテトラカルボン
酸二無水物を溶媒中で反応させることにより得られるポ
リアミド酸をイミド化したポリイミドを含むポリイミド
溶液および一般式(I) 【化1】 (式中、Rは4価の炭化水素基またはシリコンおよび/
またはシロキサン結合を含む炭化水素基を意味する)で
表されるテトラカルボン酸を含有してなる液晶配向膜用
組成物、この組成物を用いた液晶配向膜等。
形成でき、アクティブマトリクス方式の液晶表示素子用
として好適な液晶配向膜用組成物を提供する。 【構成】 (1)ジアミン化合物およびテトラカルボン
酸二無水物を溶媒中で反応させることにより得られるポ
リアミド酸をイミド化したポリイミドを含むポリイミド
溶液および一般式(I) 【化1】 (式中、Rは4価の炭化水素基またはシリコンおよび/
またはシロキサン結合を含む炭化水素基を意味する)で
表されるテトラカルボン酸を含有してなる液晶配向膜用
組成物、この組成物を用いた液晶配向膜等。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は液晶配向膜用組成物、液
晶配向膜の製造法、液晶配向膜、液晶挾持基板および液
晶表示素子に関する。
晶配向膜の製造法、液晶配向膜、液晶挾持基板および液
晶表示素子に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、液晶表示素子の各画素ごとにスイ
ッチング用のアクティブ素子(TFT型、MIM型)を
設けたアクティブマトリクス方式の液晶表示素子が知ら
れている。該表示素子には、ポリイミド系の配向膜が使
用されており、素子内での液晶分子のねじり角が90°
であるTN型が用いられている。しかし、従来のポリイ
ミド系配向膜は、液晶分子と配向膜のなす角度(プレチ
ルト角)が3°未満であったため、液晶表示素子駆動時
にリバースチルト現象を引き起こし、表示不良となるこ
とがある。該表示不良は、特にアクティブ素子上の段差
部で発生し易く、これを防止するためプレチルト角が3
°以上となる配向膜用材料が求められている。
ッチング用のアクティブ素子(TFT型、MIM型)を
設けたアクティブマトリクス方式の液晶表示素子が知ら
れている。該表示素子には、ポリイミド系の配向膜が使
用されており、素子内での液晶分子のねじり角が90°
であるTN型が用いられている。しかし、従来のポリイ
ミド系配向膜は、液晶分子と配向膜のなす角度(プレチ
ルト角)が3°未満であったため、液晶表示素子駆動時
にリバースチルト現象を引き起こし、表示不良となるこ
とがある。該表示不良は、特にアクティブ素子上の段差
部で発生し易く、これを防止するためプレチルト角が3
°以上となる配向膜用材料が求められている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記の従来
技術の問題を解決し、プレチルト角を3°以上とするこ
とができる液晶配向膜用組成物、液晶配向膜の製造法、
液晶配向膜、液晶挾持基板および液晶表示素子を提供す
るものである。
技術の問題を解決し、プレチルト角を3°以上とするこ
とができる液晶配向膜用組成物、液晶配向膜の製造法、
液晶配向膜、液晶挾持基板および液晶表示素子を提供す
るものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の従
来技術の問題に鑑み、鋭意研究した結果、ポリイミド溶
液中にテトラカルボン酸を含んでなる組成物を用いて液
晶配向膜を形成するとプレチルト角が3°以上となるこ
とを見出し、本発明に到達した。すなわち、本発明は、
(1)ジアミン化合物およびテトラカルボン酸二無水物
を溶媒中で反応させることにより得られるポリアミド酸
をイミド化したポリイミドを含むポリイミド溶液および
(2)一般式(I)
来技術の問題に鑑み、鋭意研究した結果、ポリイミド溶
液中にテトラカルボン酸を含んでなる組成物を用いて液
晶配向膜を形成するとプレチルト角が3°以上となるこ
とを見出し、本発明に到達した。すなわち、本発明は、
(1)ジアミン化合物およびテトラカルボン酸二無水物
を溶媒中で反応させることにより得られるポリアミド酸
をイミド化したポリイミドを含むポリイミド溶液および
(2)一般式(I)
【化5】 (式中、Rは4価の炭化水素基またはシリコンおよび/
またはシロキサン結合を含む炭化水素基を意味する)で
表されるテトラカルボン酸を含有してなる液晶配向膜用
組成物、この組成物を用いる液晶配向膜の製造法、この
組成物から形成された液晶配向膜、この液晶配向膜の形
成された液晶挾持基板および該液晶挾持基板を有する液
晶表示素子に関するものである。
またはシロキサン結合を含む炭化水素基を意味する)で
表されるテトラカルボン酸を含有してなる液晶配向膜用
組成物、この組成物を用いる液晶配向膜の製造法、この
組成物から形成された液晶配向膜、この液晶配向膜の形
成された液晶挾持基板および該液晶挾持基板を有する液
晶表示素子に関するものである。
【0005】本発明に用いられる前記一般式(I)で表
されるテトラカルボン酸としては、ピロメリット酸、
3,3′,4,4′−ジフェニルテトラカルボン酸、
3,3′,4,4′−ジシクロヘキシルテトラカルボン
酸、1,3−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−
1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、ビス
(3,4−ジカルボキシフェニル)−ジメチルシラン、
下記の一般式(II)で表されるテトラカルボン酸など
が挙げられ、これらは1種でまたは2種以上を組み合わ
せて使用することができる。
されるテトラカルボン酸としては、ピロメリット酸、
3,3′,4,4′−ジフェニルテトラカルボン酸、
3,3′,4,4′−ジシクロヘキシルテトラカルボン
酸、1,3−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−
1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、ビス
(3,4−ジカルボキシフェニル)−ジメチルシラン、
下記の一般式(II)で表されるテトラカルボン酸など
が挙げられ、これらは1種でまたは2種以上を組み合わ
せて使用することができる。
【0006】一般式(II)
【化6】 (式中、Ar1およびAr2は芳香族基、R1、R2、R3
およびR4は炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜
10の置換アルキル基または置換もしくは非置換の芳香
族基、X1およびX2は
およびR4は炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜
10の置換アルキル基または置換もしくは非置換の芳香
族基、X1およびX2は
【化7】
【化8】 を示し(nは1〜10の整数を示す)、aおよびcは0
または1、bは0または1〜5の整数を示す)で表され
るテトラカルボン酸を用いることが好ましい。
または1、bは0または1〜5の整数を示す)で表され
るテトラカルボン酸を用いることが好ましい。
【0007】前記一般式(II)で表されるテトラカルボ
ン酸としては、1,3−ビス(3,4−ジカルボキシフ
ェニル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサ
ン、1,3−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−
1,1,3,3−テトラエチルジシロキサン、1,3−
ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,3,
3−テトラフェニルジシロキサン、1,3−ビス{3−
(3,4−ジカルボキシベンゾイルオキシ)プロピル}
−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、1,3
−ビス{2−(3,4−ジカルボキシベンゾイルオキ
シ)エチル}−1,1,3,3−テトラメチルジシロキ
サン、1,3−ビス{5−(3,4−ジカルボキシベン
ゾイルオキシ)ペンチル}−1,1,3,3−テトラメ
チルジシロキサン、1,3−ビス{3−(3,4−ジカ
ルボキシベンゾイルオキシ)プロピル}−1,1,3,
3−テトラフェニルジシロキサン、ビス(3,4−ジカ
ルボキシベンゾイルオキシ)ジフェニルシラン、ビス
(3,4−ジカルボキシベンゾイルオキシ)ジメチルシ
ラン、ビス(3,4−ジカルボキシベンゾイルオキシ)
エチルメチルシラン、1,3−ビス(3,4−ジカルボ
キシフェニル)−1,3−ジメチル−1,3−ジエチル
ジシロキシサン、1,3−ビス(3,4−ジカルボキシ
フェニル)−1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルト
リシロキサン、1,3−ビス(3,4−ジカルボキシフ
ェニル)−1,1,3,3,5,5,7,7−オクタメ
チルテトラシロキサン、1,3−ビス(3,4−ジカル
ボキシフェニル)−1,1,3,3,5,5,7,7,
9,9−デカメチルペンタシロキサン、1,3−ビス
(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,3,3,
5,5,7,7,9,9,11,11−ドデカメチルヘ
キサシロキサンなどが挙げられ、これらは1種でまたは
2種以上を組み合わせて使用することができる。
ン酸としては、1,3−ビス(3,4−ジカルボキシフ
ェニル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサ
ン、1,3−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−
1,1,3,3−テトラエチルジシロキサン、1,3−
ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,3,
3−テトラフェニルジシロキサン、1,3−ビス{3−
(3,4−ジカルボキシベンゾイルオキシ)プロピル}
−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、1,3
−ビス{2−(3,4−ジカルボキシベンゾイルオキ
シ)エチル}−1,1,3,3−テトラメチルジシロキ
サン、1,3−ビス{5−(3,4−ジカルボキシベン
ゾイルオキシ)ペンチル}−1,1,3,3−テトラメ
チルジシロキサン、1,3−ビス{3−(3,4−ジカ
ルボキシベンゾイルオキシ)プロピル}−1,1,3,
3−テトラフェニルジシロキサン、ビス(3,4−ジカ
ルボキシベンゾイルオキシ)ジフェニルシラン、ビス
(3,4−ジカルボキシベンゾイルオキシ)ジメチルシ
ラン、ビス(3,4−ジカルボキシベンゾイルオキシ)
エチルメチルシラン、1,3−ビス(3,4−ジカルボ
キシフェニル)−1,3−ジメチル−1,3−ジエチル
ジシロキシサン、1,3−ビス(3,4−ジカルボキシ
フェニル)−1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルト
リシロキサン、1,3−ビス(3,4−ジカルボキシフ
ェニル)−1,1,3,3,5,5,7,7−オクタメ
チルテトラシロキサン、1,3−ビス(3,4−ジカル
ボキシフェニル)−1,1,3,3,5,5,7,7,
9,9−デカメチルペンタシロキサン、1,3−ビス
(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,3,3,
5,5,7,7,9,9,11,11−ドデカメチルヘ
キサシロキサンなどが挙げられ、これらは1種でまたは
2種以上を組み合わせて使用することができる。
【0008】本発明に用いられるポリイミド溶液は、ジ
アミン化合物およびテトラカルボン酸二無水物を有機溶
媒中で反応させることにより得られるポリアミド酸をイ
ミド化したポリイミドを含むポリイミド溶液であれば特
に制限はない。ジアミン化合物とテトラカルボン酸二無
水物とはほぼ等モルとして反応させることが好ましい。
アミン化合物およびテトラカルボン酸二無水物を有機溶
媒中で反応させることにより得られるポリアミド酸をイ
ミド化したポリイミドを含むポリイミド溶液であれば特
に制限はない。ジアミン化合物とテトラカルボン酸二無
水物とはほぼ等モルとして反応させることが好ましい。
【0009】ジアミン化合物としては、例えばm−フェ
ニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、4,4′−
ジアミノジフェニルエーテル、4,4′−ジアミノジフ
ェニルメタン、3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミ
ノジフェニルメタン、3,3′,5,5′−テトラメチ
ル−4,4′−ジアミノジフェニルメタン、2,2−ビ
ス(4−アミノフェニル)プロパン、4,4′−ジアミ
ノジフェニルスルフィド、4,4′−ジアミノジフェニ
ルスルホン、1,5−ジアミノナフタレン、2,6−ジ
アミノナフタレン、2,2−ビス(4−アミノフェノキ
シフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−アミノフェ
ノキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフ
ルオロプロパン、1,3−ビスアミノプロピル−1,
1,3,3−テトラメチルジシロキサン、ビス(4−
(3−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン、1,3
−ジアミノ−2,3,5,6−テトラメチルベンゼン
9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、9,
9−ビス(4−アミノフェニル)アントラセン(1
0)、3,3′−ジアミノジフェニルスルホン、4,
4′−ジアミノジフェニルエーテル−3−カルボンアミ
ド、1,4−ジアミノシクロヘキサン、1,6−ジアミ
ノヘキサン、1,7−ジアミノヘプタン、1,8−ジア
ミノオクタン、1,9−ジアミノノナン、1,10−ジ
アミノデカン、1,11−ジアミノウンデカン、1,1
2−ジアミノドデカンなどが挙げられ、これらは2種以
上を併用することもできる。
ニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、4,4′−
ジアミノジフェニルエーテル、4,4′−ジアミノジフ
ェニルメタン、3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミ
ノジフェニルメタン、3,3′,5,5′−テトラメチ
ル−4,4′−ジアミノジフェニルメタン、2,2−ビ
ス(4−アミノフェニル)プロパン、4,4′−ジアミ
ノジフェニルスルフィド、4,4′−ジアミノジフェニ
ルスルホン、1,5−ジアミノナフタレン、2,6−ジ
アミノナフタレン、2,2−ビス(4−アミノフェノキ
シフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−アミノフェ
ノキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフ
ルオロプロパン、1,3−ビスアミノプロピル−1,
1,3,3−テトラメチルジシロキサン、ビス(4−
(3−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン、1,3
−ジアミノ−2,3,5,6−テトラメチルベンゼン
9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、9,
9−ビス(4−アミノフェニル)アントラセン(1
0)、3,3′−ジアミノジフェニルスルホン、4,
4′−ジアミノジフェニルエーテル−3−カルボンアミ
ド、1,4−ジアミノシクロヘキサン、1,6−ジアミ
ノヘキサン、1,7−ジアミノヘプタン、1,8−ジア
ミノオクタン、1,9−ジアミノノナン、1,10−ジ
アミノデカン、1,11−ジアミノウンデカン、1,1
2−ジアミノドデカンなどが挙げられ、これらは2種以
上を併用することもできる。
【0010】テトラカルボン酸二無水物としては、例え
ばピロメリット酸二無水物、3,3′,4,4′−ジフ
ェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3′,4,4′
−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,3,
6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,
2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、
2,2′,3,3′−ジフェニルテトラカルボン酸二無
水物、3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン酸二
無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテ
ル二無水物、3,3′,4,4′−ジシクロヘキシルテ
トラカルボン酸二無水物、ビス{エキソ−ビシクロ
(2,2,1)ヘプタン−2,3−ジカルボン酸二無水
物}スルホンなどが挙げられ、これらは2種以上を併用
することができる。
ばピロメリット酸二無水物、3,3′,4,4′−ジフ
ェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3′,4,4′
−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,3,
6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,
2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、
2,2′,3,3′−ジフェニルテトラカルボン酸二無
水物、3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン酸二
無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテ
ル二無水物、3,3′,4,4′−ジシクロヘキシルテ
トラカルボン酸二無水物、ビス{エキソ−ビシクロ
(2,2,1)ヘプタン−2,3−ジカルボン酸二無水
物}スルホンなどが挙げられ、これらは2種以上を併用
することができる。
【0011】ジアミン化合物とテトラカルボン酸二無水
物を反応させるために用いられる有機溶媒としては、反
応で生成するポリアミド酸を溶解するものであれば特に
制限はなく、例えばN−メチル−2−ピロリドン、N,
N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムア
ミド、N,N−ジエチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド、ヘキサメチルホスホルアミド、テトラメチルス
ルホン、1,4−ジオキサン、γ−ブチロラクトンなど
が1種でまたは2種以上を組み合わせて用いられる。
物を反応させるために用いられる有機溶媒としては、反
応で生成するポリアミド酸を溶解するものであれば特に
制限はなく、例えばN−メチル−2−ピロリドン、N,
N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムア
ミド、N,N−ジエチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド、ヘキサメチルホスホルアミド、テトラメチルス
ルホン、1,4−ジオキサン、γ−ブチロラクトンなど
が1種でまたは2種以上を組み合わせて用いられる。
【0012】本発明に用いられるポリイミド溶液は、上
記したポリアミド酸を加熱して、または脱水剤およびイ
ミド化触媒の存在下でイミド化することにより調整され
る。加熱によりイミド化する場合の反応温度は、通常6
0〜200℃、好ましくは100〜170℃である。ま
た脱水剤およびイミド化触媒の存在下でのイミド化は、
前記した有機溶媒中で行うことができ、反応温度は通常
0〜180℃、好ましくは60〜150℃である。脱水
剤としては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリフ
ルオロ酢酸などを用いることができる。またイミド化触
媒としては、例えばピリジン、コリジン、ルチジン、ト
リエチルアミンなどの3級アミンを用いることができる
が、これらに制限されるもではない。ポリイミド溶液
は、ポリアミド酸溶液をイミド化してそのまま用いても
よく、また、ポリアミド酸溶液をイミド化後、ポリイミ
ドを分離して溶媒に溶かしてポリイミド溶液としてもよ
い。
記したポリアミド酸を加熱して、または脱水剤およびイ
ミド化触媒の存在下でイミド化することにより調整され
る。加熱によりイミド化する場合の反応温度は、通常6
0〜200℃、好ましくは100〜170℃である。ま
た脱水剤およびイミド化触媒の存在下でのイミド化は、
前記した有機溶媒中で行うことができ、反応温度は通常
0〜180℃、好ましくは60〜150℃である。脱水
剤としては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリフ
ルオロ酢酸などを用いることができる。またイミド化触
媒としては、例えばピリジン、コリジン、ルチジン、ト
リエチルアミンなどの3級アミンを用いることができる
が、これらに制限されるもではない。ポリイミド溶液
は、ポリアミド酸溶液をイミド化してそのまま用いても
よく、また、ポリアミド酸溶液をイミド化後、ポリイミ
ドを分離して溶媒に溶かしてポリイミド溶液としてもよ
い。
【0013】本発明の液晶配向膜用組成物は、前記のポ
リイミド溶液に前記一般式(I)で表されるテトラカル
ボン酸、好ましくは前記一般式(II)で表されるテトラ
カルボン酸を添加し、充分混合することによって得られ
る。該一般式(I)で表されるテトラカルボン酸、好ま
しくは前記一般式(II)で表されるテトラカルボン酸の
添加量は、液晶配向膜の成膜性の点から、ポリイミドに
対して0.05〜40重量%が好ましく、より好ましく
は0.5〜20重量%である。
リイミド溶液に前記一般式(I)で表されるテトラカル
ボン酸、好ましくは前記一般式(II)で表されるテトラ
カルボン酸を添加し、充分混合することによって得られ
る。該一般式(I)で表されるテトラカルボン酸、好ま
しくは前記一般式(II)で表されるテトラカルボン酸の
添加量は、液晶配向膜の成膜性の点から、ポリイミドに
対して0.05〜40重量%が好ましく、より好ましく
は0.5〜20重量%である。
【0014】またこの液晶配向膜用組成物には、ガラス
基板への塗れ性をよくするための溶媒を添加することも
できる。これらの溶媒として例えばブチルセロソルブ、
ブチルセロソルブアセテート、キシレン、トルエンなど
が用いられる。さらに基板との接着性を改善する目的
で、シランカップリング剤等を添加することも可能であ
る。シランカップリング剤としては、γ−グリシドキシ
プロピルトリメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプ
ロピルトリメトキシシラン、δ−アミノプロピル・メチ
ルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシ
シラン等が挙げられる。
基板への塗れ性をよくするための溶媒を添加することも
できる。これらの溶媒として例えばブチルセロソルブ、
ブチルセロソルブアセテート、キシレン、トルエンなど
が用いられる。さらに基板との接着性を改善する目的
で、シランカップリング剤等を添加することも可能であ
る。シランカップリング剤としては、γ−グリシドキシ
プロピルトリメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプ
ロピルトリメトキシシラン、δ−アミノプロピル・メチ
ルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシ
シラン等が挙げられる。
【0015】本発明の液晶配向膜用組成物を、例えば、
あらかじめITO(Indium Tin Oxide)等の透明電極が
形成された液晶挾持基板上に浸漬法、印刷法、吹付け法
等の方法により塗布し、80〜230℃、好ましくは1
20〜200℃の温度で加熱し、乾燥してポリイミド層
を形成し、その表面をラビングすることによって液晶配
向膜とされる。この液晶配向膜を有する液晶挾持基板を
用いて公知の方法により液晶表示素子を得ることができ
る。
あらかじめITO(Indium Tin Oxide)等の透明電極が
形成された液晶挾持基板上に浸漬法、印刷法、吹付け法
等の方法により塗布し、80〜230℃、好ましくは1
20〜200℃の温度で加熱し、乾燥してポリイミド層
を形成し、その表面をラビングすることによって液晶配
向膜とされる。この液晶配向膜を有する液晶挾持基板を
用いて公知の方法により液晶表示素子を得ることができ
る。
【0016】本発明の液晶配向膜用組成物を用いて得ら
れる液晶配向膜はアクティブマトリクス方式の液晶表示
素子に特に適している。
れる液晶配向膜はアクティブマトリクス方式の液晶表示
素子に特に適している。
【0017】
【実施例】以下本発明を比較例及び実施例により説明す
る。なお、例中の%は重量%である。 実施例1 2,2−ビス{4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル}プロパン15.770g(0.038モル)をN−
メチル−2−ピロリドン170gに溶解し、充分撹拌し
た後、ビス{エキソ−ビシクロ(2,2,1)ヘプタン
−2,3−ジカルボン酸二無水物}スルホン14.23
0g(0.038モル)を加え、50℃で5時間反応さ
せ、ポリアミド酸溶液を合成した。得られたポリアミド
酸溶液に無水酢酸84gおよびピリジン42gを添加
し、2時間撹はんした後、室温で12時間静置した。次
いで、ミキサでの高せん断下で樹脂をメタノール中に沈
殿させた(メタノール/ポリアミド酸溶液=10/1
(重量比)、撹はん時間2〜3時間)。沈殿樹脂を回収
し、大量のメタノールで煮沸洗浄(30分を3回)し
た。次いで、80℃で10時間減圧乾燥して粉末のポリ
イミドを得た。このポリイミド粉末5gをN−メチル−
2−ピロリドン95gに溶解し、総固形分5重量%のポ
リイミド溶液(ポリイミド溶液I)を調整した。この溶
液に、1,3−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)
−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン0.25
gを添加し、充分撹はんしてテトラカルボン酸を含んだ
ポリイミド溶液を得た。この溶液を2枚のITO透明電
極付きガラス基板上にスピンナー塗布し、200℃で1
時間加熱し、溶媒の除去を行い、ポリイミド層を形成し
た。2枚のガラス基板上のこの層の表面をラビング処理
し、これをラビング方向がアンチパラレルになるように
2枚のポリイミド層を対向させて組み合わせ、周りをエ
ポキシ系シール剤EN−1000(日立化成工業株式会
社製商品名)で封止し、内部に液晶ZLI−4792
(メルク社製商品名)を封止し、液晶セルを形成した。
次にこの液晶セルを安定させるためエージング処理とし
て液晶ZLI−4792のTNI(95℃)以上の温度で
ある120℃で1時間加熱した後、プレチルト角をレー
ザー光を用いて測定したところ、プレチルト角は3.2
°であり、アクティブマトリクス方式の液晶表示素子用
配向膜の必要条件を満たしていた。
る。なお、例中の%は重量%である。 実施例1 2,2−ビス{4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル}プロパン15.770g(0.038モル)をN−
メチル−2−ピロリドン170gに溶解し、充分撹拌し
た後、ビス{エキソ−ビシクロ(2,2,1)ヘプタン
−2,3−ジカルボン酸二無水物}スルホン14.23
0g(0.038モル)を加え、50℃で5時間反応さ
せ、ポリアミド酸溶液を合成した。得られたポリアミド
酸溶液に無水酢酸84gおよびピリジン42gを添加
し、2時間撹はんした後、室温で12時間静置した。次
いで、ミキサでの高せん断下で樹脂をメタノール中に沈
殿させた(メタノール/ポリアミド酸溶液=10/1
(重量比)、撹はん時間2〜3時間)。沈殿樹脂を回収
し、大量のメタノールで煮沸洗浄(30分を3回)し
た。次いで、80℃で10時間減圧乾燥して粉末のポリ
イミドを得た。このポリイミド粉末5gをN−メチル−
2−ピロリドン95gに溶解し、総固形分5重量%のポ
リイミド溶液(ポリイミド溶液I)を調整した。この溶
液に、1,3−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)
−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン0.25
gを添加し、充分撹はんしてテトラカルボン酸を含んだ
ポリイミド溶液を得た。この溶液を2枚のITO透明電
極付きガラス基板上にスピンナー塗布し、200℃で1
時間加熱し、溶媒の除去を行い、ポリイミド層を形成し
た。2枚のガラス基板上のこの層の表面をラビング処理
し、これをラビング方向がアンチパラレルになるように
2枚のポリイミド層を対向させて組み合わせ、周りをエ
ポキシ系シール剤EN−1000(日立化成工業株式会
社製商品名)で封止し、内部に液晶ZLI−4792
(メルク社製商品名)を封止し、液晶セルを形成した。
次にこの液晶セルを安定させるためエージング処理とし
て液晶ZLI−4792のTNI(95℃)以上の温度で
ある120℃で1時間加熱した後、プレチルト角をレー
ザー光を用いて測定したところ、プレチルト角は3.2
°であり、アクティブマトリクス方式の液晶表示素子用
配向膜の必要条件を満たしていた。
【0018】実施例2 実施例1で用いたポリイミド溶液Iに1,3−ビス
(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,3,3−
テトラメチルジシロキサン0.75gを添加し、半分撹
はんしてテトラカルボン酸を含んだポリイミド溶液を得
た。この溶液を用いて実施例1と同様な方法で液晶セル
を形成しプレチルト角を測定したところ、プレチルト角
は4.0°であり、アクティブマトリクス方式の液晶表
示素子用配向膜の必要条件を満たしていた。
(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,3,3−
テトラメチルジシロキサン0.75gを添加し、半分撹
はんしてテトラカルボン酸を含んだポリイミド溶液を得
た。この溶液を用いて実施例1と同様な方法で液晶セル
を形成しプレチルト角を測定したところ、プレチルト角
は4.0°であり、アクティブマトリクス方式の液晶表
示素子用配向膜の必要条件を満たしていた。
【0019】実施例3 実施例1で用いたポリイミド溶液Iに1,3−ビス
(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,3,3−
テトラメチルジシロキサン1.25gを添加し、充分撹
はんしてテトラカルボン酸を含んだポリイミド溶液を得
た。この溶液を用いて実施例1と同様な方法で液晶セル
を形成しプレチルト角を測定したところ、プレチルト角
は4.2°であり、アクティブマトリクス方式の液晶表
示素子用配向膜の必要条件を満たしていた。
(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,3,3−
テトラメチルジシロキサン1.25gを添加し、充分撹
はんしてテトラカルボン酸を含んだポリイミド溶液を得
た。この溶液を用いて実施例1と同様な方法で液晶セル
を形成しプレチルト角を測定したところ、プレチルト角
は4.2°であり、アクティブマトリクス方式の液晶表
示素子用配向膜の必要条件を満たしていた。
【0020】比較例1 実施例1で用いたポリイミド溶液Iを用いて、実施例1
と同様な方法で液晶セルを形成しプレチルト角を測定し
たところ、プレチルト角は2.5°であり、アクティブ
マトリクス方式の液晶表示素子用配向膜の必要条件を満
たしていなかった。
と同様な方法で液晶セルを形成しプレチルト角を測定し
たところ、プレチルト角は2.5°であり、アクティブ
マトリクス方式の液晶表示素子用配向膜の必要条件を満
たしていなかった。
【0021】
【発明の効果】本発明の液晶配向膜用組成物によれば、
プレチルト角が3°以上となる液晶配向膜を形成するこ
とができる。またこの液晶配向膜は200℃以下の温度
で膜形成が可能であるため、特にアクティブマトリクス
方式の液晶表示素子用として好適に用いることができ
る。
プレチルト角が3°以上となる液晶配向膜を形成するこ
とができる。またこの液晶配向膜は200℃以下の温度
で膜形成が可能であるため、特にアクティブマトリクス
方式の液晶表示素子用として好適に用いることができ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐藤 任廷 茨城県日立市東町四丁目13番1号 日立化 成工業株式会社山崎工場内
Claims (7)
- 【請求項1】 (1)ジアミン化合物およびテトラカル
ボン酸二無水物を溶媒中で反応させることにより得られ
るポリアミド酸をイミド化したポリイミドを含むポリイ
ミド溶液および(2)一般式(I) 【化1】 (式中、Rは4価の炭化水素基またはシリコンおよび/
またはシロキサン結合を含む炭化水素基を意味する)で
表されるテトラカルボン酸を含有してなる液晶配向膜用
組成物。 - 【請求項2】 テトラカルボン酸が一般式(II) 【化2】 (式中、Ar1およびAr2は芳香族基、R1、R2、R3
およびR4は炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜
10の置換アルキル基または置換もしくは非置換の芳香
族基、X1およびX2は 【化3】 【化4】 を示し(nは1〜10の整数を示す)、aおよびcは0
または1、bは0または1〜5の整数を示す)で表され
るテトラカルボン酸である請求項1記載の液晶配向膜用
組成物。 - 【請求項3】 一般式(I)で表されるテトラカルボン
酸または一般式(II)で表されるテトラカルボン酸を
ポリイミドに対して0.05〜40重量%含ませてなる
請求項1記載の液晶配向膜用組成物。 - 【請求項4】 請求項1、2または3記載の液晶配向膜
用組成物を、液晶挾持基板の電極を形成した面上に、塗
布乾燥してポリイミド層を形成し、ついでこのポリイミ
ド層の表面をラビングする液晶配向膜の製造法。 - 【請求項5】 請求項1、2または3記載の液晶配向膜
用組成物から形成された液晶配向膜。 - 【請求項6】 請求項1、2または3記載の液晶配向膜
用組成物から形成された液晶配向膜を有する液晶挾持基
板。 - 【請求項7】 液晶に面して電極が設けられた液晶挾持
基板上に、請求項1、2または3記載の液晶配向膜用組
成物から得られる液晶配向膜を有する液晶表示素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14311693A JPH075472A (ja) | 1993-06-15 | 1993-06-15 | 液晶配向膜用組成物、液晶配向膜の製造法、液晶配向膜、液晶挾持基板および液晶表示素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14311693A JPH075472A (ja) | 1993-06-15 | 1993-06-15 | 液晶配向膜用組成物、液晶配向膜の製造法、液晶配向膜、液晶挾持基板および液晶表示素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH075472A true JPH075472A (ja) | 1995-01-10 |
Family
ID=15331294
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14311693A Pending JPH075472A (ja) | 1993-06-15 | 1993-06-15 | 液晶配向膜用組成物、液晶配向膜の製造法、液晶配向膜、液晶挾持基板および液晶表示素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH075472A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0806698A1 (en) * | 1996-05-08 | 1997-11-12 | Hitachi, Ltd. | Active-matrix liquid crystal display |
JP2002220483A (ja) * | 2001-01-26 | 2002-08-09 | Chisso Corp | 液晶配向膜の形成方法および液晶表示素子 |
-
1993
- 1993-06-15 JP JP14311693A patent/JPH075472A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0806698A1 (en) * | 1996-05-08 | 1997-11-12 | Hitachi, Ltd. | Active-matrix liquid crystal display |
JP2002220483A (ja) * | 2001-01-26 | 2002-08-09 | Chisso Corp | 液晶配向膜の形成方法および液晶表示素子 |
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