JPH0740239A - 研削研磨装置及び方法 - Google Patents
研削研磨装置及び方法Info
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- JPH0740239A JPH0740239A JP19134193A JP19134193A JPH0740239A JP H0740239 A JPH0740239 A JP H0740239A JP 19134193 A JP19134193 A JP 19134193A JP 19134193 A JP19134193 A JP 19134193A JP H0740239 A JPH0740239 A JP H0740239A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 荒削り研削加工工程と仕上げ研削加工工程と
ラップ研磨工程の3つの工程を連続的に1つの工程とし
て構成することを目的とする。 【構成】 荒研削用の第1の研削装置11と仕上げ研削
用の第2の研削装置21とラップ仕上げ用のラップ研磨
装置31とを有する研削研磨装置において、第1の研削
装置11によって研削された加工品の寸法を計測する第
1の測定装置15と、第2の研削装置21によって研削
された加工品の寸法を計測する第2の測定装置25と、
ラップ研磨装置31によってラップ仕上げ加工された加
工品の寸法を計測する第3の計測装置35と、第2の研
削装置21による研削量とラップ研磨装置31による研
磨量を演算する演算装置39と、を備える。
ラップ研磨工程の3つの工程を連続的に1つの工程とし
て構成することを目的とする。 【構成】 荒研削用の第1の研削装置11と仕上げ研削
用の第2の研削装置21とラップ仕上げ用のラップ研磨
装置31とを有する研削研磨装置において、第1の研削
装置11によって研削された加工品の寸法を計測する第
1の測定装置15と、第2の研削装置21によって研削
された加工品の寸法を計測する第2の測定装置25と、
ラップ研磨装置31によってラップ仕上げ加工された加
工品の寸法を計測する第3の計測装置35と、第2の研
削装置21による研削量とラップ研磨装置31による研
磨量を演算する演算装置39と、を備える。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はセラミック等の硬質の微
小加工品を研削加工し研磨加工する装置及び方法に関す
る。
小加工品を研削加工し研磨加工する装置及び方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来、荒削り研削加工工程と仕上げ研削
加工工程とラップ研磨工程の3つの工程を含む製造法に
て製品を製造する場合、3つの工程はそれぞれ別個にな
されていた。
加工工程とラップ研磨工程の3つの工程を含む製造法に
て製品を製造する場合、3つの工程はそれぞれ別個にな
されていた。
【0003】例えば、荒削り研削加工工程は荒削り用研
削盤によってなされ、仕上げ研削は仕上げ研削用研削盤
によってなされ、研削切り込み量及び送り量はそれぞれ
別個に設定される。またラップ研磨はラップ盤によって
なされ、所定の研磨時間が設定される。
削盤によってなされ、仕上げ研削は仕上げ研削用研削盤
によってなされ、研削切り込み量及び送り量はそれぞれ
別個に設定される。またラップ研磨はラップ盤によって
なされ、所定の研磨時間が設定される。
【0004】研削加工では、切り込み量及び送り量を一
定値に設定しても、砥石の磨耗により実際の研削量は徐
々に減少していく。斯かる砥石の磨耗による加工誤差を
回避するために、切り込み量及び送り量を補正する必要
がある。従来、斯かる切り込み量及び送り量の補正は荒
削り研削加工工程及び仕上げ研削加工工程の各々にて個
別になされていた。
定値に設定しても、砥石の磨耗により実際の研削量は徐
々に減少していく。斯かる砥石の磨耗による加工誤差を
回避するために、切り込み量及び送り量を補正する必要
がある。従来、斯かる切り込み量及び送り量の補正は荒
削り研削加工工程及び仕上げ研削加工工程の各々にて個
別になされていた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従って、荒削り研削加
工工程と仕上げ研削加工工程とラップ研磨工程の3つの
工程を連続的に1つの工程として構成し、砥石の磨耗に
よる加工誤差を回避するために切り込み量及び送り量を
補正しながら、加工品を順次自動的に研削研磨すること
は困難であった。
工工程と仕上げ研削加工工程とラップ研磨工程の3つの
工程を連続的に1つの工程として構成し、砥石の磨耗に
よる加工誤差を回避するために切り込み量及び送り量を
補正しながら、加工品を順次自動的に研削研磨すること
は困難であった。
【0006】また従来の研削盤では加工物に対して所定
の距離だけ離れた位置より砥石の送り(又は切り込み)
が開始される。一般に、研削加工時間のうち、砥石が移
動して加工物に接触するまでの時間が長く、それに比較
して砥石が実際に加工物を研削する時間は短い。仕上げ
研削加工工程では、砥石の送り量は数十μm/分程度で
あり、砥石が加工物に到達するまでの時間が長くかか
り、結果的に研削加工時間が長くなる欠点があった。
の距離だけ離れた位置より砥石の送り(又は切り込み)
が開始される。一般に、研削加工時間のうち、砥石が移
動して加工物に接触するまでの時間が長く、それに比較
して砥石が実際に加工物を研削する時間は短い。仕上げ
研削加工工程では、砥石の送り量は数十μm/分程度で
あり、砥石が加工物に到達するまでの時間が長くかか
り、結果的に研削加工時間が長くなる欠点があった。
【0007】従来のラップ研磨工程では、加工品の寸法
を測定し、ラップ研磨率を推定し、それによって研磨時
間を設定していた。しかしながら、ラップ研磨率は実際
には様々な条件によって変化する。例えば、加工品が定
盤に取り付けられる状態によっても変化する。したがっ
て、従来の方法では、研磨時間を短く設定して研磨し、
加工品の寸法を測定し、再び研磨する作業が繰り返され
た。
を測定し、ラップ研磨率を推定し、それによって研磨時
間を設定していた。しかしながら、ラップ研磨率は実際
には様々な条件によって変化する。例えば、加工品が定
盤に取り付けられる状態によっても変化する。したがっ
て、従来の方法では、研磨時間を短く設定して研磨し、
加工品の寸法を測定し、再び研磨する作業が繰り返され
た。
【0008】本発明は斯かる点に鑑み、荒削り研削加工
工程と仕上げ研削加工工程とラップ研磨工程の3つの工
程を連続的に1つの工程として構成し、砥石の磨耗によ
る加工誤差とラップ研磨率の変化に起因する加工誤差と
を除去し、連続的に且つ効率的に研削研磨加工するため
の研削研磨装置及び方法を提供することを目的とする。
工程と仕上げ研削加工工程とラップ研磨工程の3つの工
程を連続的に1つの工程として構成し、砥石の磨耗によ
る加工誤差とラップ研磨率の変化に起因する加工誤差と
を除去し、連続的に且つ効率的に研削研磨加工するため
の研削研磨装置及び方法を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、例えば
図1に示すように、荒研削用の第1の研削装置11と仕
上げ研削用の第2の研削装置21とラップ仕上げ用のラ
ップ研磨装置31とを有する研削研磨装置において、第
1の研削装置11によって研削された加工品の寸法を計
測する第1の測定装置15と、第2の研削装置21によ
って研削された加工品の寸法を計測する第2の測定装置
25と、ラップ研磨装置31によってラップ仕上げ加工
された加工品の寸法を計測する第3の計測装置35と、
第1の測定装置15によって計測された加工品の寸法よ
り第2の研削装置21による研削量を演算して第2の研
削装置21に指令信号を供給し、第2の測定装置21に
よって計測された加工品の寸法よりラップ研磨装置31
による研磨量を演算してラップ研磨装置31に指令信号
を供給する演算装置39と、を有する。
図1に示すように、荒研削用の第1の研削装置11と仕
上げ研削用の第2の研削装置21とラップ仕上げ用のラ
ップ研磨装置31とを有する研削研磨装置において、第
1の研削装置11によって研削された加工品の寸法を計
測する第1の測定装置15と、第2の研削装置21によ
って研削された加工品の寸法を計測する第2の測定装置
25と、ラップ研磨装置31によってラップ仕上げ加工
された加工品の寸法を計測する第3の計測装置35と、
第1の測定装置15によって計測された加工品の寸法よ
り第2の研削装置21による研削量を演算して第2の研
削装置21に指令信号を供給し、第2の測定装置21に
よって計測された加工品の寸法よりラップ研磨装置31
による研磨量を演算してラップ研磨装置31に指令信号
を供給する演算装置39と、を有する。
【0010】本発明によれば、研削研磨装置において、
ラップ研磨装置31による研磨量が漸次増加して所定の
値を超えたとき、第2の研削装置21による研削切り込
み量を補正するように構成されている。
ラップ研磨装置31による研磨量が漸次増加して所定の
値を超えたとき、第2の研削装置21による研削切り込
み量を補正するように構成されている。
【0011】本発明によれば、例えば図9Bに示すよう
に、研削研磨装置において、加工品の寸法は加工品とそ
れを支持する治具51の合計寸法を測定することによっ
て計測される。
に、研削研磨装置において、加工品の寸法は加工品とそ
れを支持する治具51の合計寸法を測定することによっ
て計測される。
【0012】本発明によれば、研削研磨装置において、
第2の研削装置21による研削開始時の砥石の位置は第
1の測定装置15からの命令信号に基づいて設定され
る。
第2の研削装置21による研削開始時の砥石の位置は第
1の測定装置15からの命令信号に基づいて設定され
る。
【0013】本発明によれば、研削研磨装置において、
測定装置15、25による加工品の寸法は複数箇所測定
して得られた測定値の中央値によって求める。
測定装置15、25による加工品の寸法は複数箇所測定
して得られた測定値の中央値によって求める。
【0014】本発明によれば、例えば図1に示すよう
に、研削研磨装置において、加工品に付された識別符号
59を識別する識別装置17、27、37を有する。
に、研削研磨装置において、加工品に付された識別符号
59を識別する識別装置17、27、37を有する。
【0015】本発明によれば、研削研磨方法において、
荒研削用の第1の研削加工工程と、第1の研削加工工程
後の加工品の寸法を計測する第1の計測工程と、第1の
計測工程による計測値に基づいて設定された切り込み量
にて仕上げ研削する第2の研削加工工程と、第2の研削
加工工程後の加工品の寸法を計測する第2の計測工程
と、第2の計測工程による計測値に基づいて設定された
研磨量にてラップ研磨するラップ仕上げ工程と、を含
み、研磨量が所定の値を超えたときに第2の研削加工工
程における切り込み量を補正するように構成されてい
る。
荒研削用の第1の研削加工工程と、第1の研削加工工程
後の加工品の寸法を計測する第1の計測工程と、第1の
計測工程による計測値に基づいて設定された切り込み量
にて仕上げ研削する第2の研削加工工程と、第2の研削
加工工程後の加工品の寸法を計測する第2の計測工程
と、第2の計測工程による計測値に基づいて設定された
研磨量にてラップ研磨するラップ仕上げ工程と、を含
み、研磨量が所定の値を超えたときに第2の研削加工工
程における切り込み量を補正するように構成されてい
る。
【0016】
【作用】本発明によれば、研削装置によって研削された
加工品の寸法よりラップ研磨装置による研磨量及び研磨
時間を演算するように構成されており、砥石の磨耗によ
って研削量が減少し研磨量及び研磨時間が増加した場合
には、研削加工の切り込み量又は送り量の設定値が補正
され、従って研磨量及び研磨時間は所定の値以上に増加
することはない。
加工品の寸法よりラップ研磨装置による研磨量及び研磨
時間を演算するように構成されており、砥石の磨耗によ
って研削量が減少し研磨量及び研磨時間が増加した場合
には、研削加工の切り込み量又は送り量の設定値が補正
され、従って研磨量及び研磨時間は所定の値以上に増加
することはない。
【0017】
【実施例】以下に図1〜図10を参照して本発明の実施
例について説明する。図1は本発明による研削研磨装置
の例を示す図である。本例の研削研磨装置は、加工品1
0を搬送するコンベヤ41と斯かるコンベヤ41に沿っ
て配置された荒研削用の第1の研削盤11と仕上げ研削
用の第2の研削盤21とラップ仕上げ用のラップ盤31
とを有する。研削盤11、21は例えば数値制御装置を
有するものであってよい。
例について説明する。図1は本発明による研削研磨装置
の例を示す図である。本例の研削研磨装置は、加工品1
0を搬送するコンベヤ41と斯かるコンベヤ41に沿っ
て配置された荒研削用の第1の研削盤11と仕上げ研削
用の第2の研削盤21とラップ仕上げ用のラップ盤31
とを有する。研削盤11、21は例えば数値制御装置を
有するものであってよい。
【0018】更に本例の研削研磨装置は、第1の研削盤
11に対応して配置された第1の自動投入排出装置13
と第2の研削盤21に対応して配置された第2の自動投
入排出装置23とラップ盤31に対応して配置された第
3の自動投入排出装置33とを有する。
11に対応して配置された第1の自動投入排出装置13
と第2の研削盤21に対応して配置された第2の自動投
入排出装置23とラップ盤31に対応して配置された第
3の自動投入排出装置33とを有する。
【0019】第1の研削盤11の下流側には第1の測定
装置15と第1の識別装置17が配置されており、第2
の研削盤21の下流側には第2の測定装置25と第2の
識別装置27が配置されており、ラップ盤31に対応し
て第3の測定装置35及び第3の識別装置37が配置さ
れている。
装置15と第1の識別装置17が配置されており、第2
の研削盤21の下流側には第2の測定装置25と第2の
識別装置27が配置されており、ラップ盤31に対応し
て第3の測定装置35及び第3の識別装置37が配置さ
れている。
【0020】次に本例の研削研磨装置及び方法の動作の
概略を説明する。コンベヤ41によって本例の研削研磨
装置に加工品10が搬送される。加工品10は、後に説
明するように、円盤状の治具51の上に支持され、斯か
る治具51は矩形のプラテン53の上に支持されてコン
ベヤ41によって搬送される。
概略を説明する。コンベヤ41によって本例の研削研磨
装置に加工品10が搬送される。加工品10は、後に説
明するように、円盤状の治具51の上に支持され、斯か
る治具51は矩形のプラテン53の上に支持されてコン
ベヤ41によって搬送される。
【0021】加工品10は、先ず、第1の自動投入排出
装置13によって第1の研削盤11に投入され、そこで
荒研削される。荒研削の後、第1の自動投入排出装置1
3によって第1の研削盤11よりコンベヤ41に排出さ
れ、第1の測定装置15に搬送され、そこで加工品10
の寸法が測定される。
装置13によって第1の研削盤11に投入され、そこで
荒研削される。荒研削の後、第1の自動投入排出装置1
3によって第1の研削盤11よりコンベヤ41に排出さ
れ、第1の測定装置15に搬送され、そこで加工品10
の寸法が測定される。
【0022】このとき同時に第1の識別装置17によっ
て加工品10が識別される。斯かる識別は、例えば、加
工品10を支持する治具51又はプラテン53に識別標
識を付し、斯かる識別標識を適当な検出器によって検出
することによってなされてよい。識別標識は数字、符
号、色等が使用される。
て加工品10が識別される。斯かる識別は、例えば、加
工品10を支持する治具51又はプラテン53に識別標
識を付し、斯かる識別標識を適当な検出器によって検出
することによってなされてよい。識別標識は数字、符
号、色等が使用される。
【0023】次に加工品10は第2の自動投入排出装置
23によって第2の研削盤21に投入され、そこで仕上
げ研削される。仕上げ研削の後、第2の自動投入排出装
置23によってコンベヤ41に排出され、第2の測定装
置25に搬送され、そこで加工品10の寸法が測定され
る。このとき同時に第2の識別装置27によって加工品
10又は加工品10を支持する治具51又はプラテン5
3が識別される。最後に、加工品10は第3の自動投入
排出装置33によってラップ盤31に供給され、そこで
ラップ仕上げされる。
23によって第2の研削盤21に投入され、そこで仕上
げ研削される。仕上げ研削の後、第2の自動投入排出装
置23によってコンベヤ41に排出され、第2の測定装
置25に搬送され、そこで加工品10の寸法が測定され
る。このとき同時に第2の識別装置27によって加工品
10又は加工品10を支持する治具51又はプラテン5
3が識別される。最後に、加工品10は第3の自動投入
排出装置33によってラップ盤31に供給され、そこで
ラップ仕上げされる。
【0024】本例によれば、適当な演算装置39が設け
られており、斯かる演算装置39によって各測定装置に
よって測定された測定値とそれに対応する識別標識が記
憶され、第1の研削盤11の切り込み量又は送り量が設
定され、第2の研削盤21の切り込み量又は送り量が演
算され、ラップ盤31の研磨量又は研磨時間が演算され
る。斯かる演算結果に基づいて演算装置39より第1の
研削盤11、第2の研削盤21及びラップ盤31に命令
信号が供給される。斯かる演算装置39は例えば第2の
測定装置25に設けてよい。
られており、斯かる演算装置39によって各測定装置に
よって測定された測定値とそれに対応する識別標識が記
憶され、第1の研削盤11の切り込み量又は送り量が設
定され、第2の研削盤21の切り込み量又は送り量が演
算され、ラップ盤31の研磨量又は研磨時間が演算され
る。斯かる演算結果に基づいて演算装置39より第1の
研削盤11、第2の研削盤21及びラップ盤31に命令
信号が供給される。斯かる演算装置39は例えば第2の
測定装置25に設けてよい。
【0025】図2を参照して、本例の研削研磨装置及び
方法にて生ずる加工誤差と研削量又は研磨量の関係を説
明する。図2Aにて、荒削り用の第1の研削盤11に供
給された加工品の寸法をx0とし、第1の研削盤11に
よって研削量a1だけ研削されて寸法がx1になったも
のとする。次に仕上げ加工用の第2の研削盤21によっ
て研削量a2だけ研削されて寸法がx2になり、最後に
ラップ盤31によって研磨量a3だけ研磨されて寸法が
x3の製品が製造される。
方法にて生ずる加工誤差と研削量又は研磨量の関係を説
明する。図2Aにて、荒削り用の第1の研削盤11に供
給された加工品の寸法をx0とし、第1の研削盤11に
よって研削量a1だけ研削されて寸法がx1になったも
のとする。次に仕上げ加工用の第2の研削盤21によっ
て研削量a2だけ研削されて寸法がx2になり、最後に
ラップ盤31によって研磨量a3だけ研磨されて寸法が
x3の製品が製造される。
【0026】第1の研削盤11によって研削量a1だけ
研削するために第1の切り込み量t1が設定され、第2
の研削盤21によって研削量a2だけ研削するために第
2の切り込み量t2が設定され、ラップ盤31によって
研磨量a3だけ研磨するために研磨時間t3が設定され
たものとする。
研削するために第1の切り込み量t1が設定され、第2
の研削盤21によって研削量a2だけ研削するために第
2の切り込み量t2が設定され、ラップ盤31によって
研磨量a3だけ研磨するために研磨時間t3が設定され
たものとする。
【0027】第1の研削盤11による第1の切り込み量
t1は経験的に所定の値に設定され、第2の研削盤21
による第2の切り込み量t2は第1の研削盤11によっ
て荒研削された加工品10の寸法x1に基づいて設定さ
れる。ラップ盤31による研磨量a3及び研磨時間t3
は第2の研削盤21によって仕上げ研削された後の加工
品10の寸法x2に基づいて設定される。
t1は経験的に所定の値に設定され、第2の研削盤21
による第2の切り込み量t2は第1の研削盤11によっ
て荒研削された加工品10の寸法x1に基づいて設定さ
れる。ラップ盤31による研磨量a3及び研磨時間t3
は第2の研削盤21によって仕上げ研削された後の加工
品10の寸法x2に基づいて設定される。
【0028】図2Bは多数の加工品を製造した後の状態
を示す。即ち、第1の研削盤11によって研削量b1だ
け研削されて加工品の寸法がx0からx1になり、次に
第2の研削盤21によって研削量b2だけ研削されて加
工品の寸法がx1からx2になり、最後にラップ盤31
によって研磨量b3だけ研磨されて加工品の寸法がx2
からx3になったものとする。
を示す。即ち、第1の研削盤11によって研削量b1だ
け研削されて加工品の寸法がx0からx1になり、次に
第2の研削盤21によって研削量b2だけ研削されて加
工品の寸法がx1からx2になり、最後にラップ盤31
によって研磨量b3だけ研磨されて加工品の寸法がx2
からx3になったものとする。
【0029】図2Aと図2Bとを比較すると明らかなよ
うに、最初は図2Aに示すように、第1の研削盤11に
よる実際の研削量a1は第1の切り込み量t1に等し
く、第2の研削盤21による実際の研削量a2は第2の
切り込み量t2は等しい。しかしながら、多数の加工品
を研削した後では砥石が磨耗しているため、図2Bに示
すように、第1の研削盤11による実際の研削量a1は
第1の切り込み量t1より小さく、第2の研削盤21に
よる実際の研削量a2は第2の切り込み量t2より小さ
い。
うに、最初は図2Aに示すように、第1の研削盤11に
よる実際の研削量a1は第1の切り込み量t1に等し
く、第2の研削盤21による実際の研削量a2は第2の
切り込み量t2は等しい。しかしながら、多数の加工品
を研削した後では砥石が磨耗しているため、図2Bに示
すように、第1の研削盤11による実際の研削量a1は
第1の切り込み量t1より小さく、第2の研削盤21に
よる実際の研削量a2は第2の切り込み量t2より小さ
い。
【0030】従って、多数の加工品10を研削した後で
は研削盤11、21の砥石の磨耗に起因して、ラップ盤
31による研磨量b3及び研磨時間t3が増大する。そ
れによって加工品10の製造時間が増加する。
は研削盤11、21の砥石の磨耗に起因して、ラップ盤
31による研磨量b3及び研磨時間t3が増大する。そ
れによって加工品10の製造時間が増加する。
【0031】本例によれば、ラップ盤31による研磨量
b3が所定の値より大きくなったとき、第1の切り込み
量t1と第2の切り込み量t2の少なくとも一方が補正
される。例えば、ラップ盤31によって研磨する好まし
い研磨量をa3とし、現在の研磨量をb3とすると、b
3−a3=εが補正量である。第1の切り込み量t1と
第2の切り込み量t2は斯かる補正量εによって補正さ
れる。
b3が所定の値より大きくなったとき、第1の切り込み
量t1と第2の切り込み量t2の少なくとも一方が補正
される。例えば、ラップ盤31によって研磨する好まし
い研磨量をa3とし、現在の研磨量をb3とすると、b
3−a3=εが補正量である。第1の切り込み量t1と
第2の切り込み量t2は斯かる補正量εによって補正さ
れる。
【0032】補正後の第1の切り込み量をr1、補正後
の第2の切り込み量をr2、各補正量をε1、ε2とす
ると、r1=t1+ε1、r2=t2+ε2、ε=ε1
+ε2である。
の第2の切り込み量をr2、各補正量をε1、ε2とす
ると、r1=t1+ε1、r2=t2+ε2、ε=ε1
+ε2である。
【0033】こうして本例によれば、研削盤11、21
の砥石の磨耗に起因する研削加工誤差が回避され、更
に、ラップ盤31による研磨量b3及び研磨時間の増加
が回避される。従って、研削盤11、21の砥石の磨耗
に起因して加工品の製造時間が増加することが回避され
る。
の砥石の磨耗に起因する研削加工誤差が回避され、更
に、ラップ盤31による研磨量b3及び研磨時間の増加
が回避される。従って、研削盤11、21の砥石の磨耗
に起因して加工品の製造時間が増加することが回避され
る。
【0034】斯かる補正量ε、ε1、ε2は上述の演算
装置39によって演算され、補正後の切り込み量r1、
r2を指示する命令信号が各研削盤11、21に供給さ
れる。
装置39によって演算され、補正後の切り込み量r1、
r2を指示する命令信号が各研削盤11、21に供給さ
れる。
【0035】図3に本例の治具51を示す。本例の治具
51は円盤状に形成されており、その上に加工品10が
配置されている。加工品10は多数の微小部品であり、
それらが半径方向に沿って配置されている。円盤状治具
51の円周側面は、U字形断面を形成するように凹部5
1Aを有する。後に説明するように、斯かる凹部51A
にチャックが係合する。
51は円盤状に形成されており、その上に加工品10が
配置されている。加工品10は多数の微小部品であり、
それらが半径方向に沿って配置されている。円盤状治具
51の円周側面は、U字形断面を形成するように凹部5
1Aを有する。後に説明するように、斯かる凹部51A
にチャックが係合する。
【0036】図4に示すように、斯かる治具51は略矩
形のプラテン53の上に取り付けられ、斯かるプラテン
53はコンベヤ41によって搬送される。この例では斯
かるプラテン53に識別標識59が付されており、プラ
テン53が識別される。コンベヤ41は2列に配置され
た回転輪55を有し、斯かる回転輪55の上をプラテン
53が走行するように構成されている。
形のプラテン53の上に取り付けられ、斯かるプラテン
53はコンベヤ41によって搬送される。この例では斯
かるプラテン53に識別標識59が付されており、プラ
テン53が識別される。コンベヤ41は2列に配置され
た回転輪55を有し、斯かる回転輪55の上をプラテン
53が走行するように構成されている。
【0037】図5は本例の研削研磨装置に使用されるコ
ンベヤ41の例を示す。この例では、プラテン53の上
には図示のようにボス57が装着されており斯かるボス
57を介して治具51が装着されている。
ンベヤ41の例を示す。この例では、プラテン53の上
には図示のようにボス57が装着されており斯かるボス
57を介して治具51が装着されている。
【0038】図6に研削盤11、21によって加工品1
0が研削される状態を示す。研削盤11、21は例えば
横軸平研削盤であってよく、水平な回転軸を有する円筒
状の砥石61を有する。斯かる砥石61の円形端面61
Aによって加工品10が研削される。図示のように、円
盤状の治具51は研削盤11、21のチャック63によ
って支持されており、その中心軸線が円筒状砥石61の
回転軸線と平行となるように配置される。砥石61によ
って研削される間、円盤状の治具51を支持するチャッ
ク63も中心軸線回りに回転する。
0が研削される状態を示す。研削盤11、21は例えば
横軸平研削盤であってよく、水平な回転軸を有する円筒
状の砥石61を有する。斯かる砥石61の円形端面61
Aによって加工品10が研削される。図示のように、円
盤状の治具51は研削盤11、21のチャック63によ
って支持されており、その中心軸線が円筒状砥石61の
回転軸線と平行となるように配置される。砥石61によ
って研削される間、円盤状の治具51を支持するチャッ
ク63も中心軸線回りに回転する。
【0039】図7に本例の研削研磨装置に使用される自
動投入排出装置13、23、33の例を示す。例えば図
7にてコンベヤ41の走行方向にX軸をとり垂直方向に
Z軸をとり両者に直交する方向にY軸をとる。自動投入
排出装置13、23、33は治具51をX、Y、Zの3
軸方向に移動し且つY軸回りに回転させるように構成さ
れている。
動投入排出装置13、23、33の例を示す。例えば図
7にてコンベヤ41の走行方向にX軸をとり垂直方向に
Z軸をとり両者に直交する方向にY軸をとる。自動投入
排出装置13、23、33は治具51をX、Y、Zの3
軸方向に移動し且つY軸回りに回転させるように構成さ
れている。
【0040】自動投入排出装置は13、23、33は円
盤状の治具51を挟んで保持するチャック71と斯かる
チャック71の開閉動作を制御するチャック開閉用ロー
ダ73と斯かるチャック71を回転軸線(Y軸)回りに
回転させるためのチャック旋回用ローダ75と斯かるチ
ャック71の上下方向(Z軸方向)の運動を制御するた
めのチャック上下運動用ローダ77とチャック71の横
断方向(X軸方向)の運動を制御するためのチャックト
ラバース運動用ローダ79とを有する。
盤状の治具51を挟んで保持するチャック71と斯かる
チャック71の開閉動作を制御するチャック開閉用ロー
ダ73と斯かるチャック71を回転軸線(Y軸)回りに
回転させるためのチャック旋回用ローダ75と斯かるチ
ャック71の上下方向(Z軸方向)の運動を制御するた
めのチャック上下運動用ローダ77とチャック71の横
断方向(X軸方向)の運動を制御するためのチャックト
ラバース運動用ローダ79とを有する。
【0041】加工品10は治具51及びプラテン53と
ともにコンベヤ41によって搬送され、自動投入排出装
置13、23、33の前にて停止する。コンベヤ41の
回転輪55の列の間にはストッパ81が配置されてお
り、プラテン53は斯かるストッパ81に当接すること
によって停止する。
ともにコンベヤ41によって搬送され、自動投入排出装
置13、23、33の前にて停止する。コンベヤ41の
回転輪55の列の間にはストッパ81が配置されてお
り、プラテン53は斯かるストッパ81に当接すること
によって停止する。
【0042】ストッパ81の手前には同様にコンベヤ4
1の回転輪55の列の間にてバックアップ装置83が配
置されており、斯かるバックアップ装置83はプラテン
53が停止したときその下側に配置されるように構成さ
れている。斯かるバックアップ装置83が上昇すること
によってプラテン53は上昇する。
1の回転輪55の列の間にてバックアップ装置83が配
置されており、斯かるバックアップ装置83はプラテン
53が停止したときその下側に配置されるように構成さ
れている。斯かるバックアップ装置83が上昇すること
によってプラテン53は上昇する。
【0043】円盤状の治具51がチャック71と同一の
高さになると、チャックトラバース運動用ローダ79が
作動してチャック71は治具51を挟む位置まで前進す
る。次にチャック開閉用ローダ73が作動してチャック
71は閉方向に移動して治具51を掴む。チャック71
が治具51の円周面に形成された凹部51Aに係合する
ことによって、治具51は確実に保持され脱落すること
が阻止される。
高さになると、チャックトラバース運動用ローダ79が
作動してチャック71は治具51を挟む位置まで前進す
る。次にチャック開閉用ローダ73が作動してチャック
71は閉方向に移動して治具51を掴む。チャック71
が治具51の円周面に形成された凹部51Aに係合する
ことによって、治具51は確実に保持され脱落すること
が阻止される。
【0044】チャック71が治具51を掴むと、バック
アップ装置83は下降し、チャック上下運動用ローダ7
7が作動してチャック71は所定の高さまで上昇する。
次に、チャックトラバース運動用ローダ79が作動して
チャック71は研削盤11、21又はラップ盤31の定
盤まで移動する。治具51を研削盤11、21に取り付
ける場合には、更に、チャック旋回用ローダ75が作動
してチャック71は回転軸線(Y軸)回りに回転し、図
6に示したように、治具51は垂直に配置される。
アップ装置83は下降し、チャック上下運動用ローダ7
7が作動してチャック71は所定の高さまで上昇する。
次に、チャックトラバース運動用ローダ79が作動して
チャック71は研削盤11、21又はラップ盤31の定
盤まで移動する。治具51を研削盤11、21に取り付
ける場合には、更に、チャック旋回用ローダ75が作動
してチャック71は回転軸線(Y軸)回りに回転し、図
6に示したように、治具51は垂直に配置される。
【0045】治具51が研削盤11、21又はラップ盤
31のチャックによって支持されると、チャックトラバ
ース運動用ローダ79が作動してチャック71は元の位
置に戻る。
31のチャックによって支持されると、チャックトラバ
ース運動用ローダ79が作動してチャック71は元の位
置に戻る。
【0046】次に図8を参照して本例の研削研磨装置に
使用される測定装置15、25の例を示す。本例の測定
装置15、25は円盤状の治具51を挟んで保持するチ
ャック91と斯かるチャック91によって保持された治
具51を上下方向及び前後方向に移動させるためのチャ
ックローダ93と治具51を支持する支持装置95A、
95Bと加工品10の寸法を測定する測定器97A、9
7B、97Cとを有する。
使用される測定装置15、25の例を示す。本例の測定
装置15、25は円盤状の治具51を挟んで保持するチ
ャック91と斯かるチャック91によって保持された治
具51を上下方向及び前後方向に移動させるためのチャ
ックローダ93と治具51を支持する支持装置95A、
95Bと加工品10の寸法を測定する測定器97A、9
7B、97Cとを有する。
【0047】治具51を支持する支持装置95A、95
Bは円盤状のステージ95Aとその周囲に配置された3
本の爪95B、95B、95Bとを有し、ステージ95
Aはモータ99によって中心軸線回りに回転可能であ
り、且つ上下方向に移動可能である。3本の爪95B、
95B、95Bは固定されている。図示のように、コン
ベヤ41には測定装置15、25の位置に対応して、同
様に、ストッパ81及びバックアップ装置83が配置さ
れている。
Bは円盤状のステージ95Aとその周囲に配置された3
本の爪95B、95B、95Bとを有し、ステージ95
Aはモータ99によって中心軸線回りに回転可能であ
り、且つ上下方向に移動可能である。3本の爪95B、
95B、95Bは固定されている。図示のように、コン
ベヤ41には測定装置15、25の位置に対応して、同
様に、ストッパ81及びバックアップ装置83が配置さ
れている。
【0048】図9を参照して本例の測定装置15、25
によって加工品10の寸法を測定する方法を説明する。
本例によれば、図9Aに示すように治具51の上に配置
された加工品10の厚さが測定されてよく、又は図9B
に示すように治具51とその上に配置された加工品10
の合計厚さが測定されてよい。図9Aに示すように治具
51の上の加工品10の厚さを測定する場合には、測定
器97A、97Bは治具51及び加工品10の上側に配
置され、図9Bに示すように治具51と加工品10の合
計厚さが測定される場合には測定器97A、97Cは治
具51及び加工品10の上下両側に配置される。
によって加工品10の寸法を測定する方法を説明する。
本例によれば、図9Aに示すように治具51の上に配置
された加工品10の厚さが測定されてよく、又は図9B
に示すように治具51とその上に配置された加工品10
の合計厚さが測定されてよい。図9Aに示すように治具
51の上の加工品10の厚さを測定する場合には、測定
器97A、97Bは治具51及び加工品10の上側に配
置され、図9Bに示すように治具51と加工品10の合
計厚さが測定される場合には測定器97A、97Cは治
具51及び加工品10の上下両側に配置される。
【0049】本例によれば、斯かる測定は数箇所にて、
例えば、3箇所にてなされる。こうして得られた複数の
測定値の平均値が採用されてよいが、好ましくは中央値
が採用される。治具51又は加工品10の測定位置を変
える場合には、モータ99によってステージ95Aが回
転される。
例えば、3箇所にてなされる。こうして得られた複数の
測定値の平均値が採用されてよいが、好ましくは中央値
が採用される。治具51又は加工品10の測定位置を変
える場合には、モータ99によってステージ95Aが回
転される。
【0050】図10を参照して本例の研削研磨装置に使
用されるラップ盤31及びそれに付属して配置された第
3の測定装置35の動作を説明する。ラップ盤31は通
常の形式のものが使用されてよく、水平に配置された定
盤101の上面に加工品10が配置されるように構成さ
れている。本例によれば、第3の自動投入排出装置33
によって治具51が定盤101上に配置される。治具5
1は加工品10が下側になるように即ち加工品10が定
盤101に接触するように配置される。次にホルダ10
3が治具51の上側に配置され、加工品10は定盤10
1の上面に所定の力によって押しつけられる。ホルダ1
03が中心軸線回りに回転することによって加工品10
は研磨される。
用されるラップ盤31及びそれに付属して配置された第
3の測定装置35の動作を説明する。ラップ盤31は通
常の形式のものが使用されてよく、水平に配置された定
盤101の上面に加工品10が配置されるように構成さ
れている。本例によれば、第3の自動投入排出装置33
によって治具51が定盤101上に配置される。治具5
1は加工品10が下側になるように即ち加工品10が定
盤101に接触するように配置される。次にホルダ10
3が治具51の上側に配置され、加工品10は定盤10
1の上面に所定の力によって押しつけられる。ホルダ1
03が中心軸線回りに回転することによって加工品10
は研磨される。
【0051】図10に示すように第3の測定装置35に
よって治具51の上面の高さが測定されるように構成さ
れている。斯かる高さHの減少量がラップ盤31による
研磨量に相当する。従って、第3の測定装置35によっ
て測定された研磨量が所定の値になったときラップ研磨
作業は終了する。こうして、本例によれば、推定ラップ
研磨率に基づいて研磨時間を設定するのではなく、実際
の研磨量を計測しながら研磨するから、計測のために加
工品10又は治具51を定盤101より取り外す必要が
なく、ラップ研磨時間を減少させることができる。
よって治具51の上面の高さが測定されるように構成さ
れている。斯かる高さHの減少量がラップ盤31による
研磨量に相当する。従って、第3の測定装置35によっ
て測定された研磨量が所定の値になったときラップ研磨
作業は終了する。こうして、本例によれば、推定ラップ
研磨率に基づいて研磨時間を設定するのではなく、実際
の研磨量を計測しながら研磨するから、計測のために加
工品10又は治具51を定盤101より取り外す必要が
なく、ラップ研磨時間を減少させることができる。
【0052】一般に、加工品10又は治具51を定盤1
01より取り外し再び取り付けると、取り付け条件の変
化によって、研磨率が変化することがある。しかしなが
ら、本例によれば、研磨加工中に加工品10又は治具5
1を定盤101より取り外すことがないから、研磨率の
変化に起因する誤差を除去することができる。
01より取り外し再び取り付けると、取り付け条件の変
化によって、研磨率が変化することがある。しかしなが
ら、本例によれば、研磨加工中に加工品10又は治具5
1を定盤101より取り外すことがないから、研磨率の
変化に起因する誤差を除去することができる。
【0053】再び図6を参照して、本例による研削時間
の短縮化の例を示す。図示のように、砥石61の円形端
面61Aと加工品10との間の距離をXとする。砥石6
1又は加工品10が軸線方向に沿って距離Xだけ移動し
て互いに接触してから実際の研削がなされる。研作加工
時間を短くするためには、この距離Xが小さい値になる
ように配置してから研削作業を開始したほうがよい。
の短縮化の例を示す。図示のように、砥石61の円形端
面61Aと加工品10との間の距離をXとする。砥石6
1又は加工品10が軸線方向に沿って距離Xだけ移動し
て互いに接触してから実際の研削がなされる。研作加工
時間を短くするためには、この距離Xが小さい値になる
ように配置してから研削作業を開始したほうがよい。
【0054】斯かる距離をXとし切り込み量をt2とす
ると、砥石61の移動距離の合計はX+t2である。砥
石61の送り量をT/分とすれば、研削加工時間は(X
+t2)/T分である。
ると、砥石61の移動距離の合計はX+t2である。砥
石61の送り量をT/分とすれば、研削加工時間は(X
+t2)/T分である。
【0055】本例によれば、研削盤11、21のチャッ
ク63にマスター治具51を取り付け、斯かるマスター
治具51の端面に砥石61の円形端面61Aを接触さ
せ、その時の砥石61の座標を検出して記憶しておく。
一方第1の測定装置15によって加工品10と治具51
の合計寸法又は加工品10の寸法が測定されており、斯
かる測定値より設定すべき砥石61の座標が求められ
る。こうして、研削加工に先立って、砥石61の座標は
所望の値に設定されるから、砥石61の円形端面61A
と加工品10との間の距離をXが最小化され、研削加工
時間が最小化されることができる。
ク63にマスター治具51を取り付け、斯かるマスター
治具51の端面に砥石61の円形端面61Aを接触さ
せ、その時の砥石61の座標を検出して記憶しておく。
一方第1の測定装置15によって加工品10と治具51
の合計寸法又は加工品10の寸法が測定されており、斯
かる測定値より設定すべき砥石61の座標が求められ
る。こうして、研削加工に先立って、砥石61の座標は
所望の値に設定されるから、砥石61の円形端面61A
と加工品10との間の距離をXが最小化され、研削加工
時間が最小化されることができる。
【0056】以上本発明の実施例について詳細に説明し
てきたが、本発明は上述の実施例に限ることなく本発明
の要旨を逸脱することなく他の種々の構成が採り得るこ
とは当業者にとって容易に理解されよう。
てきたが、本発明は上述の実施例に限ることなく本発明
の要旨を逸脱することなく他の種々の構成が採り得るこ
とは当業者にとって容易に理解されよう。
【0057】例えば、荒研削工程と仕上げ研削工程とラ
ップ研磨工程の3つの工程を含む研削研磨工程について
説明したが、4つ以上の工程を含む場合にも、本発明の
装置及び方法は適用されよう。
ップ研磨工程の3つの工程を含む研削研磨工程について
説明したが、4つ以上の工程を含む場合にも、本発明の
装置及び方法は適用されよう。
【0058】
【発明の効果】本発明によれば、荒研削工程と仕上げ研
削工程とラップ研磨工程の3つの工程を含む研削研磨工
程を1つの連続的な工程として効率的に構成することが
できる利点がある。
削工程とラップ研磨工程の3つの工程を含む研削研磨工
程を1つの連続的な工程として効率的に構成することが
できる利点がある。
【0059】本発明によれば、荒研削工程と仕上げ研削
工程とラップ研磨工程の3つの工程を含む研削研磨工程
を1つの連続的な工程として構成し、且つ各研削工程に
て生ずる砥石の磨耗に起因する誤差を効率的に除去する
ことができる利点がある。
工程とラップ研磨工程の3つの工程を含む研削研磨工程
を1つの連続的な工程として構成し、且つ各研削工程に
て生ずる砥石の磨耗に起因する誤差を効率的に除去する
ことができる利点がある。
【0060】本発明によれば、研削盤11、21の砥石
の磨耗に起因する研削加工誤差が回避されるから、ラッ
プ盤31による研磨量b3及び研磨時間の増加が回避さ
れ、従って、研削加工及びラップ研磨加工を含む工程を
短縮化することができる利点がある。
の磨耗に起因する研削加工誤差が回避されるから、ラッ
プ盤31による研磨量b3及び研磨時間の増加が回避さ
れ、従って、研削加工及びラップ研磨加工を含む工程を
短縮化することができる利点がある。
【0061】本発明によれば、研削加工において砥石6
1の研削面61Aと加工品10との間の距離Xが最小化
されるから、研削加工時間を最小化することができる利
点がある。
1の研削面61Aと加工品10との間の距離Xが最小化
されるから、研削加工時間を最小化することができる利
点がある。
【0062】本発明によれば、測定のためにラップ研磨
中に加工品10又は治具51を定盤101より取り外す
ことがないから、取り付け条件の変化により研磨率が変
化することはなく、従ってそれに起因する誤差を除去す
ることができ且つラップ研磨時間を短縮化することがで
きる利点がある。
中に加工品10又は治具51を定盤101より取り外す
ことがないから、取り付け条件の変化により研磨率が変
化することはなく、従ってそれに起因する誤差を除去す
ることができ且つラップ研磨時間を短縮化することがで
きる利点がある。
【図1】本発明による研削研磨装置に例を示す図であ
る。
る。
【図2】研削量又は研磨量と加工誤差の関係を説明する
説明図である。
説明図である。
【図3】治具の例を示す図である。
【図4】治具及びプラテンの例を示す図である。
【図5】プラテンがコンベヤによって搬送される状態を
示す図である。
示す図である。
【図6】研削盤の砥石によって加工品が研削される状態
を示す図である。
を示す図である。
【図7】本発明に使用される自動投入排出装置の例を示
す図である。
す図である。
【図8】本発明に使用される測定装置の例を示す図であ
る。
る。
【図9】加工品及び治具の寸法を測定する方法を示す図
である。
である。
【図10】ラップ盤による研磨方法と研磨量の測定方法
を示す図である。
を示す図である。
10 加工品 11 第1の研削盤 13 第1の自動投入排出装置 15 第1の測定装置 17 第1の識別装置 21 第2の研削盤 23 第2の自動投入排出装置 25 第2の測定装置 27 第2の識別装置 31 ラップ盤 33 第3の自動投入排出装置 35 第3の測定装置 37 第3の識別装置 39 演算装置 41 コンベヤ 51 治具 51A 凹部 53 プラテン 55 回転輪 57 ボス 59 識別標識 61 砥石 61A 円形端面 63 チャック 71 チャック 73 チャック開閉用ローダ 75 チャック旋回用ローダ 77 チャック上下運動用ローダ 79 チャックトラバース運動用ローダ 81 ストッパ 83 バックアップ装置 91 チャック 93 チャックローダ 95A ステージ 95B 爪 97A、97B、97C 測定器 99 モータ 101 定盤 103 ホルダ
Claims (7)
- 【請求項1】 荒研削用の第1の研削装置と仕上げ研削
用の第2の研削装置とラップ仕上げ用のラップ研磨装置
とを有する研削研磨装置において、 第1の研削装置によって研削された加工品の寸法を計測
する第1の測定装置と、 第2の研削装置によって研削された加工品の寸法を計測
する第2の測定装置と、 ラップ研磨装置によってラップ仕上げ加工された加工品
の寸法を計測する第3の計測装置と、 上記第1の測定装置によって計測された加工品の寸法よ
り上記第2の研削装置による研削量を演算して上記第2
の研削装置に指令信号を供給し、上記第2の測定装置に
よって計測された加工品の寸法より上記ラップ研磨装置
による研磨量を演算して上記ラップ研磨装置に指令信号
を供給する演算装置と、 を有することを特徴とする研削研磨装置。 - 【請求項2】 請求項1記載の研削研磨装置において、
上記ラップ研磨装置による研磨量が漸次増加して所定の
値を超えたとき、上記第2の研削装置による研削切り込
み量を補正するように構成されていることを特徴とする
研削研磨装置。 - 【請求項3】 請求項1又は2記載の研削研磨装置にお
いて、上記加工品の寸法は加工品とそれを支持する治具
の合計寸法を測定することによって計測されることを特
徴とする研削研磨装置。 - 【請求項4】 請求項1、2又は3記載の研削研磨装置
において、上記第2の研削装置による研削開始時の砥石
の位置は第1の測定装置からの命令信号に基づいて設定
されることを特徴とする研削研磨装置。 - 【請求項5】 請求項1、2、3又は4記載の研削研磨
装置において、上記測定装置による加工品の寸法は複数
箇所測定して得られた測定値の中央値によって求めるこ
とを特徴とする研削研磨装置。 - 【請求項6】 請求項1、2、3、4又は5記載の研削
研磨装置において、上記加工品に付された識別符号を識
別する識別装置を有することを特徴とする研削研磨装
置。 - 【請求項7】 荒研削用の第1の研削加工工程と、 上記第1の研削加工工程後の加工品の寸法を計測する第
1の計測工程と、 上記第1の計測工程による計測値に基づいて設定された
切り込み量にて仕上げ研削する第2の研削加工工程と、 上記第2の研削加工工程後の加工品の寸法を計測する第
2の計測工程と、 上記第2の計測工程による計測値に基づいて設定された
研磨量にてラップ研磨するラップ仕上げ工程と、 を含み、上記研磨量が所定の値を超えたときに上記第2
の研削加工工程における切り込み量を補正することを特
徴とする研削研磨方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19134193A JPH0740239A (ja) | 1993-08-02 | 1993-08-02 | 研削研磨装置及び方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19134193A JPH0740239A (ja) | 1993-08-02 | 1993-08-02 | 研削研磨装置及び方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0740239A true JPH0740239A (ja) | 1995-02-10 |
Family
ID=16272957
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19134193A Pending JPH0740239A (ja) | 1993-08-02 | 1993-08-02 | 研削研磨装置及び方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0740239A (ja) |
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