JPH07304998A - パターニング可能な無機酸化物被膜形成用コーティング剤及びパターン形成方法 - Google Patents
パターニング可能な無機酸化物被膜形成用コーティング剤及びパターン形成方法Info
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- JPH07304998A JPH07304998A JP29517694A JP29517694A JPH07304998A JP H07304998 A JPH07304998 A JP H07304998A JP 29517694 A JP29517694 A JP 29517694A JP 29517694 A JP29517694 A JP 29517694A JP H07304998 A JPH07304998 A JP H07304998A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 （Ａ）成分として金属硝酸塩と、（Ｂ）成分
として多価アルコール（エチレングリコール等）、多価
アルコールの縮合物（ジエチレングリコール等）及びそ
れらの誘導体並びにＮ−メチルピロリドン、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキサイド、ジメチルアセト
アミド及びそれらの誘導体の中から選ばれた少なくとも
１種の化合物が、有機溶媒または／及び水に溶解してな
ることを特徴とする光（紫外線等）によりパターニング
可能な無機酸化物被膜形成用コーティング剤に関し、
又、前記コーティング剤を基材に塗布、乾燥した後、光
を照射し、光未照射部分を水により溶解除去する事を特
徴とする無機酸化物被膜のパターン形成方法に関する。 【効果】 本発明のコーティング剤は、紫外線等の光に
より、容易に所望部分にのみ、無機被膜を形成しうる。
又、光未照射部の溶解除去が、水で行える為、耐薬品性
の無い基材にも適用でき、且つ廃液、環境汚染等の問題
が無い。
として多価アルコール（エチレングリコール等）、多価
アルコールの縮合物（ジエチレングリコール等）及びそ
れらの誘導体並びにＮ−メチルピロリドン、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキサイド、ジメチルアセト
アミド及びそれらの誘導体の中から選ばれた少なくとも
１種の化合物が、有機溶媒または／及び水に溶解してな
ることを特徴とする光（紫外線等）によりパターニング
可能な無機酸化物被膜形成用コーティング剤に関し、
又、前記コーティング剤を基材に塗布、乾燥した後、光
を照射し、光未照射部分を水により溶解除去する事を特
徴とする無機酸化物被膜のパターン形成方法に関する。 【効果】 本発明のコーティング剤は、紫外線等の光に
より、容易に所望部分にのみ、無機被膜を形成しうる。
又、光未照射部の溶解除去が、水で行える為、耐薬品性
の無い基材にも適用でき、且つ廃液、環境汚染等の問題
が無い。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、必要とする部分に無機
酸化物被膜を形成しうるコーティング剤とそのパターン
形成方法に関し、更に詳しくは、コーティング剤より得
られた乾燥被膜が、光照射により、水に対して不溶化す
ることを利用し、不要部分の被膜を水により溶解除去す
ることにより、所望部分にのみ被膜を形成しうるコーテ
ィング剤及びそのパターニング方法に関する。
酸化物被膜を形成しうるコーティング剤とそのパターン
形成方法に関し、更に詳しくは、コーティング剤より得
られた乾燥被膜が、光照射により、水に対して不溶化す
ることを利用し、不要部分の被膜を水により溶解除去す
ることにより、所望部分にのみ被膜を形成しうるコーテ
ィング剤及びそのパターニング方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】所望部分にのみ無機被膜を形成させる方
法、所謂無機膜のパターニング方法には、スクリーン印
刷や転写印刷等の印刷法と、蒸着法、スパッタリング法
等で代表される気相法や酸化物被膜形成用塗布液を用い
る塗布法で全面に無機被膜を形成後、エッチング等の方
法により不必要な部分を除去する方法が用いられてい
る。
法、所謂無機膜のパターニング方法には、スクリーン印
刷や転写印刷等の印刷法と、蒸着法、スパッタリング法
等で代表される気相法や酸化物被膜形成用塗布液を用い
る塗布法で全面に無機被膜を形成後、エッチング等の方
法により不必要な部分を除去する方法が用いられてい
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】スクリーン印刷法によ
る無機被膜パターン形成法は、特開昭６１−２１５６６
８号公報に示される様に、スクリーン印刷性の問題か
ら、塗布液の粘度を上げる目的で、有機高分子化合物が
加えられる。パターン印刷後、有機高分子化合物を塗膜
中から除去する為、高温での焼成が必要となり、印刷さ
れる基材がガラス等に限定される。またスクリーン印刷
法では、１０μｍ以下のパターンを形成することは、困
難である。
る無機被膜パターン形成法は、特開昭６１−２１５６６
８号公報に示される様に、スクリーン印刷性の問題か
ら、塗布液の粘度を上げる目的で、有機高分子化合物が
加えられる。パターン印刷後、有機高分子化合物を塗膜
中から除去する為、高温での焼成が必要となり、印刷さ
れる基材がガラス等に限定される。またスクリーン印刷
法では、１０μｍ以下のパターンを形成することは、困
難である。
【０００４】特開昭６４−２４０２５号公報には、フレ
キソ印刷機を用いる転写印刷法が開示されている。転写
印刷法は、低粘度の塗布液での塗布が可能であるため、
上記、高粘度化の為の有機高分子化合物の添加は不要で
あるため、比較的低温での焼成が可能である。しかしな
がら、転写印刷は、ゴム凸版上の塗布液を基材に転写す
る方法であるため、１ｍｍ以下のパターンを形成するこ
とは困難であった。
キソ印刷機を用いる転写印刷法が開示されている。転写
印刷法は、低粘度の塗布液での塗布が可能であるため、
上記、高粘度化の為の有機高分子化合物の添加は不要で
あるため、比較的低温での焼成が可能である。しかしな
がら、転写印刷は、ゴム凸版上の塗布液を基材に転写す
る方法であるため、１ｍｍ以下のパターンを形成するこ
とは困難であった。
【０００５】気相法、塗布法で基材表面全面に無機被膜
を形成後、不要部分をエッチング除去し、所望部分にの
みパターンを形成する方法は、一般的に行われている。
この方法は、パターン部分をフォトレジスト等で保護し
た後、特定の薬剤で不要部分を除去するため、１μｍ以
下の微細パターンの形成が可能であるが、レジストの塗
布、レジストのパターンニング、無機被膜のエッチン
グ、レジストの除去と工程が長く、複雑である。また、
無機被膜をエッチング除去する為の薬剤は、フッ化水素
酸の様な毒物や、強アルカリ、強酸を用いる為、危険を
伴い、廃液の問題があった。
を形成後、不要部分をエッチング除去し、所望部分にの
みパターンを形成する方法は、一般的に行われている。
この方法は、パターン部分をフォトレジスト等で保護し
た後、特定の薬剤で不要部分を除去するため、１μｍ以
下の微細パターンの形成が可能であるが、レジストの塗
布、レジストのパターンニング、無機被膜のエッチン
グ、レジストの除去と工程が長く、複雑である。また、
無機被膜をエッチング除去する為の薬剤は、フッ化水素
酸の様な毒物や、強アルカリ、強酸を用いる為、危険を
伴い、廃液の問題があった。
【０００６】ジャーナルオブノンクリタリンソリッド１
００巻５０１頁（１９８８年）には塗布液にポリエチン
グリコールを添加し、柔軟な乾燥塗膜を凹凸を有したス
タンプと圧着させることにより、パターンを形成する事
が提案されているが、塗膜表面に凹凸は形成されるもの
の、不要部分にも薄い無機被膜が残存してしまうばかり
か、添加したポリエチングリコールを、除去する為に、
高温での焼成が必要であった。
００巻５０１頁（１９８８年）には塗布液にポリエチン
グリコールを添加し、柔軟な乾燥塗膜を凹凸を有したス
タンプと圧着させることにより、パターンを形成する事
が提案されているが、塗膜表面に凹凸は形成されるもの
の、不要部分にも薄い無機被膜が残存してしまうばかり
か、添加したポリエチングリコールを、除去する為に、
高温での焼成が必要であった。
【０００７】ジャーナルオブノンクリタリンソリッド１
４７、１４８巻４４７頁（１９９２年）には、アルコキ
シシランの光重合性有機官能基と光重合性有機モノマー
の光重合を利用したパターニング方法が提案されている
が、塗膜に多くの有機物が存在するため、無機被膜本来
の耐熱性、耐溶剤性が損なわれる問題があった。チタニ
ウムやジルコニウムのβ−ジケトン錯体の光硬化性を利
用した、無機被膜のパターニング方法が、日本セラミッ
クス協会１９９３年年次大会３Ｈ１５で報告されている
が、不要部分の除去には有機溶媒を用いているため、使
用できる基材の限定を受け、且つ廃液の問題があった。
４７、１４８巻４４７頁（１９９２年）には、アルコキ
シシランの光重合性有機官能基と光重合性有機モノマー
の光重合を利用したパターニング方法が提案されている
が、塗膜に多くの有機物が存在するため、無機被膜本来
の耐熱性、耐溶剤性が損なわれる問題があった。チタニ
ウムやジルコニウムのβ−ジケトン錯体の光硬化性を利
用した、無機被膜のパターニング方法が、日本セラミッ
クス協会１９９３年年次大会３Ｈ１５で報告されている
が、不要部分の除去には有機溶媒を用いているため、使
用できる基材の限定を受け、且つ廃液の問題があった。
【０００８】高分子学会第１１回無機高分子研究討論会
要旨５２頁（１９９２年）には、ターシャリーブトキシ
シランを含む塗膜のパターニングが報告されているが、
特殊なアルコキシシシランを用いなければならず、且つ
アルコキシシランそのものには光硬化性が無いため、光
により酸を発生する触媒を添加しなければならず、塗膜
が汚染される恐れがあった。
要旨５２頁（１９９２年）には、ターシャリーブトキシ
シランを含む塗膜のパターニングが報告されているが、
特殊なアルコキシシシランを用いなければならず、且つ
アルコキシシランそのものには光硬化性が無いため、光
により酸を発生する触媒を添加しなければならず、塗膜
が汚染される恐れがあった。
【０００９】本発明の目的は、簡単な方法で無機酸化物
被膜よりなるパターン形成ができるコーティング剤及び
パターン形成法の提供にある。
被膜よりなるパターン形成ができるコーティング剤及び
パターン形成法の提供にある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、（Ａ）
成分として金属硝酸塩と、（Ｂ）成分として多価アルコ
ール、多価アルコールの縮合物、多価アルコールのエー
テルまたはエステル誘導体、多価アルコールの縮合物の
エーテルまたはエステル誘導体及びそれらの誘導体並び
にＮ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキサイド、ジメチルアセトアミド及びそれら
の誘導体の中から選ばれた少なくとも１種の化合物が、
有機溶媒又は／及び水に溶解してなることを特徴とする
光によりパターニング可能な無機酸化物被膜形成用コー
ティング剤に関する。
成分として金属硝酸塩と、（Ｂ）成分として多価アルコ
ール、多価アルコールの縮合物、多価アルコールのエー
テルまたはエステル誘導体、多価アルコールの縮合物の
エーテルまたはエステル誘導体及びそれらの誘導体並び
にＮ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキサイド、ジメチルアセトアミド及びそれら
の誘導体の中から選ばれた少なくとも１種の化合物が、
有機溶媒又は／及び水に溶解してなることを特徴とする
光によりパターニング可能な無機酸化物被膜形成用コー
ティング剤に関する。
【００１１】また、本発明は上記コーティング剤を基材
に塗布、乾燥した後、光を照射し、光未照射部分を水に
より溶解除去することを特徴とするパターン形成方法に
関する。以下、本発明を詳細に説明する。本発明に用い
られる（Ａ）成分の金属硝酸塩としては、周期律表の、
IIa 族、IIIa族、IVa 族、Va族、IIIb族、IVb 族、Vb
族、VIIb族、VIII族の金属の硝酸塩から選ばれた少なく
とも１種の硝酸塩が挙げられる。好ましくは、バリウ
ム、マグネシウム、アルミニウム、インジウム、ナマ
リ、ビスマス、イットリウム、セリウム、ニオビウム、
タンタリウム、クロミウム、モリブデン、タングステ
ン、マンガン、鉄、コバルト、パラジウム、銅、カドミ
ウムの硝酸塩が挙げられる。特に好ましくは、アルミニ
ウム、インジュウム、ビスマス、イットリウム、セリウ
ム、クロミウム、タングステン、マンガン、鉄、コバル
ト、銅及びカドミウムの硝酸塩が挙げられる。
に塗布、乾燥した後、光を照射し、光未照射部分を水に
より溶解除去することを特徴とするパターン形成方法に
関する。以下、本発明を詳細に説明する。本発明に用い
られる（Ａ）成分の金属硝酸塩としては、周期律表の、
IIa 族、IIIa族、IVa 族、Va族、IIIb族、IVb 族、Vb
族、VIIb族、VIII族の金属の硝酸塩から選ばれた少なく
とも１種の硝酸塩が挙げられる。好ましくは、バリウ
ム、マグネシウム、アルミニウム、インジウム、ナマ
リ、ビスマス、イットリウム、セリウム、ニオビウム、
タンタリウム、クロミウム、モリブデン、タングステ
ン、マンガン、鉄、コバルト、パラジウム、銅、カドミ
ウムの硝酸塩が挙げられる。特に好ましくは、アルミニ
ウム、インジュウム、ビスマス、イットリウム、セリウ
ム、クロミウム、タングステン、マンガン、鉄、コバル
ト、銅及びカドミウムの硝酸塩が挙げられる。
【００１２】本発明に用いられる（Ｂ）成分は、金属硝
酸塩に光硬化性を発現させると共に、塗布液を基材に塗
布乾燥時、金属硝酸塩が結晶、析出し、塗膜が白濁する
ことを防止する目的で用いられる。（Ｂ）成分として
は、多価アルコール、多価アルコールの縮合物、多価ア
ルコールのエーテルまたはエステル誘導体、多価アルコ
ールの縮合物のエーテルまたはエステル誘導体それらの
他の誘導体並びにＮ−メチルピロリドン、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキサイド、ジメチルアセトア
ミド及びそれらの他の誘導体より選ばれた少なくとも１
種の化合物を用いることが出来る。特に好ましくは、多
価アルコール、多価アルコールの縮合物、多価アルコー
ルのエーテル、多価アルコールの縮合物のエーテルが挙
げられる。
酸塩に光硬化性を発現させると共に、塗布液を基材に塗
布乾燥時、金属硝酸塩が結晶、析出し、塗膜が白濁する
ことを防止する目的で用いられる。（Ｂ）成分として
は、多価アルコール、多価アルコールの縮合物、多価ア
ルコールのエーテルまたはエステル誘導体、多価アルコ
ールの縮合物のエーテルまたはエステル誘導体それらの
他の誘導体並びにＮ−メチルピロリドン、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキサイド、ジメチルアセトア
ミド及びそれらの他の誘導体より選ばれた少なくとも１
種の化合物を用いることが出来る。特に好ましくは、多
価アルコール、多価アルコールの縮合物、多価アルコー
ルのエーテル、多価アルコールの縮合物のエーテルが挙
げられる。
【００１３】具体的には、多価アルコールとしては、エ
チレングリコール、プロピレングリコール、ブチレング
リコール、ヘキシレングリコール、エトヘキサジオー
ル、グリセリン及び１，２，６−ヘキサントリオール等
が挙げられる。多価アルコール縮合物としては、ジエチ
レングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチ
レングリコール、ポリエチレングリコール、ジプロピレ
ングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプロピ
レングリコール、ポリメチレングリコール及びジブチレ
ングリコール等が挙げられる。
チレングリコール、プロピレングリコール、ブチレング
リコール、ヘキシレングリコール、エトヘキサジオー
ル、グリセリン及び１，２，６−ヘキサントリオール等
が挙げられる。多価アルコール縮合物としては、ジエチ
レングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチ
レングリコール、ポリエチレングリコール、ジプロピレ
ングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプロピ
レングリコール、ポリメチレングリコール及びジブチレ
ングリコール等が挙げられる。
【００１４】多価アルコールのエーテル誘導体として
は、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、プロピルセ
ロソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソルブ、ベ
ンジルセソロルブ、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プ
ロピレングリコールモノブチルエーテル、ブチレングリ
コールモノメチルエーテル、ブチレングリコールモノエ
チルエーテル及びブチレングリコールモノブチルエーテ
ル等のモノアルキルエーテル類、ジメチルセロソルブ、
ジエチルセロソルブ、ジブチルセロソルブ、プロピレン
グリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジ
エチルエーテル及びプロピレングリコールジブチルエー
テル等の多価アルコールのジアルキルエーテル類が挙げ
られる。
は、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、プロピルセ
ロソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソルブ、ベ
ンジルセソロルブ、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プ
ロピレングリコールモノブチルエーテル、ブチレングリ
コールモノメチルエーテル、ブチレングリコールモノエ
チルエーテル及びブチレングリコールモノブチルエーテ
ル等のモノアルキルエーテル類、ジメチルセロソルブ、
ジエチルセロソルブ、ジブチルセロソルブ、プロピレン
グリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジ
エチルエーテル及びプロピレングリコールジブチルエー
テル等の多価アルコールのジアルキルエーテル類が挙げ
られる。
【００１５】多価アルコール縮合物のエーテル誘導体と
しては、メチルカルビトール、エチルカルビトール、ブ
チルカルビトール、ジプロピレングリコールモノメチル
エーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテ
ル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル及びテ
トラエチレングリコールモノメチルエーテル等のモノア
ルキルエーテル類、ジメチルカルビトール、ジエチルカ
ルビトール、ジブチルカルビトール、ジプロピレングリ
コールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエ
チルエーテル、トリグライム及びテトラグライム等の多
価アルコール縮合物のジアルキルエーテル類が挙げられ
る。
しては、メチルカルビトール、エチルカルビトール、ブ
チルカルビトール、ジプロピレングリコールモノメチル
エーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテ
ル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル及びテ
トラエチレングリコールモノメチルエーテル等のモノア
ルキルエーテル類、ジメチルカルビトール、ジエチルカ
ルビトール、ジブチルカルビトール、ジプロピレングリ
コールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエ
チルエーテル、トリグライム及びテトラグライム等の多
価アルコール縮合物のジアルキルエーテル類が挙げられ
る。
【００１６】多価アルコールのエステル誘導体として
は、エチレングリコールモノアセテート、プロピレング
リコールモノアセテート及びモノアセチン等のモノアセ
テート類、エチレングリコールジアセテート、プロピレ
ングリコールジアセテート及びブチレングリコールジア
セテート等の多価アルコールのジアセテート類が挙げら
れる。
は、エチレングリコールモノアセテート、プロピレング
リコールモノアセテート及びモノアセチン等のモノアセ
テート類、エチレングリコールジアセテート、プロピレ
ングリコールジアセテート及びブチレングリコールジア
セテート等の多価アルコールのジアセテート類が挙げら
れる。
【００１７】多価アルコール縮合物のエステル誘導体と
しては、ジエチレングリコールモノアセテート、ジプロ
ピレングリコールモノアセテート及びトリエチレングリ
コールモノアセテート等のモノアセテート類、カルビト
ールジアセテート、ジエチレングリコールジアセテー
ト、ジプロピレングリコールジアセテート及びトリエチ
レングリコールジアセテート等の多価アルコール縮合物
のジアセテート類等が挙げられる。
しては、ジエチレングリコールモノアセテート、ジプロ
ピレングリコールモノアセテート及びトリエチレングリ
コールモノアセテート等のモノアセテート類、カルビト
ールジアセテート、ジエチレングリコールジアセテー
ト、ジプロピレングリコールジアセテート及びトリエチ
レングリコールジアセテート等の多価アルコール縮合物
のジアセテート類等が挙げられる。
【００１８】多価アルコールの他の誘導体として、多価
アルコールのモノアルキルエーテルアセテート類として
は、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブア
セテート、ブチルセロソルブアセテート、プロピレング
リコールモノメチルエーテルアセテート等が挙げられ
る。多価アルコール縮合物の他の誘導体として、多価ア
ルコール縮合物のモノアルキルエーテルアセテート類と
しては、メチルカルビトールアセテート、エチルカルビ
トールアセテート、ブチルールカルビトールアセテー
ト、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテ
ート、トリグライムアセテート等が挙げられる。
アルコールのモノアルキルエーテルアセテート類として
は、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブア
セテート、ブチルセロソルブアセテート、プロピレング
リコールモノメチルエーテルアセテート等が挙げられ
る。多価アルコール縮合物の他の誘導体として、多価ア
ルコール縮合物のモノアルキルエーテルアセテート類と
しては、メチルカルビトールアセテート、エチルカルビ
トールアセテート、ブチルールカルビトールアセテー
ト、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテ
ート、トリグライムアセテート等が挙げられる。
【００１９】上記（Ｂ）成分の配合量は、金属硝酸塩に
対して１重量部に対して０．１重量部から１００重量
部、好ましくは１重量部から６０重量部である。（Ｂ）
成分に金属硝酸塩が溶解性を示す場合には、（Ｂ）成分
に金属硝酸塩を溶解後、有機溶媒または／及び水で希釈
することにより、コーティング剤とする事ができる。
（Ｂ）成分に金属硝酸塩が溶解性を示さない場合には、
金属硝酸塩を溶解する有機溶媒または水に金属硝酸塩を
溶解後、（Ｂ）成分と混合することにより、本発明のコ
ーティング剤が得られる。
対して１重量部に対して０．１重量部から１００重量
部、好ましくは１重量部から６０重量部である。（Ｂ）
成分に金属硝酸塩が溶解性を示す場合には、（Ｂ）成分
に金属硝酸塩を溶解後、有機溶媒または／及び水で希釈
することにより、コーティング剤とする事ができる。
（Ｂ）成分に金属硝酸塩が溶解性を示さない場合には、
金属硝酸塩を溶解する有機溶媒または水に金属硝酸塩を
溶解後、（Ｂ）成分と混合することにより、本発明のコ
ーティング剤が得られる。
【００２０】本発明に用いられる有機溶媒の例として
は、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノー
ル等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等
のケトン類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素類等が挙げられ、それらを１種もしくは２種以
上混合して用いられる。上記（Ｂ）成分を溶媒として用
いても良い。
は、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノー
ル等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等
のケトン類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素類等が挙げられ、それらを１種もしくは２種以
上混合して用いられる。上記（Ｂ）成分を溶媒として用
いても良い。
【００２１】水は、金属硝酸塩が有機溶媒や（Ｂ）成分
に溶解性を示さない場合に、金属硝酸塩を溶解させ均一
なコーティング剤を得る目的で用いることが出来る。用
いる水は、コーティング剤全体の５０重量以下が好まし
く、２０重量％以下が特に好ましい。本発明のコーティ
ング剤に含まれる金属硝酸塩は、それを酸化物に換算し
て、０．１重量％〜２０重量％、特に１重量％〜１０重
量％の範囲が好ましい。
に溶解性を示さない場合に、金属硝酸塩を溶解させ均一
なコーティング剤を得る目的で用いることが出来る。用
いる水は、コーティング剤全体の５０重量以下が好まし
く、２０重量％以下が特に好ましい。本発明のコーティ
ング剤に含まれる金属硝酸塩は、それを酸化物に換算し
て、０．１重量％〜２０重量％、特に１重量％〜１０重
量％の範囲が好ましい。
【００２２】本発明のコーティング剤は、ディッピン
グ、スピンコート、印刷、刷毛塗り、スプレー等の一般
的なコーティング法で、基材に塗布する事が出来る。本
発明のコーティング剤には、パターニング性、貯蔵安定
性を損なわない範囲で、コロイド状無機粒子、無機微粒
子、有機高分子、金属塩化合物、金属アルコキシド化合
物等を添加することは、問題ない。
グ、スピンコート、印刷、刷毛塗り、スプレー等の一般
的なコーティング法で、基材に塗布する事が出来る。本
発明のコーティング剤には、パターニング性、貯蔵安定
性を損なわない範囲で、コロイド状無機粒子、無機微粒
子、有機高分子、金属塩化合物、金属アルコキシド化合
物等を添加することは、問題ない。
【００２３】本発明のコーティング剤を用いての、無機
被膜のパターニング方法は、以下に示す方法で実施され
る。コーティング剤を基材に塗布後、５０℃以上１００
℃以下の温度で乾燥後、所定のパターンを有するマスク
を用いて所望部分にのみ紫外線等の光を照射する。
被膜のパターニング方法は、以下に示す方法で実施され
る。コーティング剤を基材に塗布後、５０℃以上１００
℃以下の温度で乾燥後、所定のパターンを有するマスク
を用いて所望部分にのみ紫外線等の光を照射する。
【００２４】紫外線照射終了後、無機被膜が形成された
基材を、水により洗浄する。この段階で、紫外線未照射
部分は、水により、溶解、除去され、紫外線が照射され
た部分にのみ、無機被膜が形成された基材が得られる。
パターニング終了後、必要に応じて１００℃以上１１０
０℃以下の温度で加熱、焼成する事は差し支えない。本
発明のコーティング剤を塗布する基材としては、ガラ
ス、セラミックス、金属、プラスチック等が挙げられ
る。
基材を、水により洗浄する。この段階で、紫外線未照射
部分は、水により、溶解、除去され、紫外線が照射され
た部分にのみ、無機被膜が形成された基材が得られる。
パターニング終了後、必要に応じて１００℃以上１１０
０℃以下の温度で加熱、焼成する事は差し支えない。本
発明のコーティング剤を塗布する基材としては、ガラ
ス、セラミックス、金属、プラスチック等が挙げられ
る。
【００２５】
【作用】本発明に用いられるＢ成分の化合物は、金属硝
酸塩１重量部に対して０．１重量部未満だと、金属硝酸
塩の光硬化性が不十分となり、且つコーティング剤を基
材に塗布乾燥した時に、塗膜中に金属硝酸塩が結晶化、
析出し、塗膜の白濁が発生する。一方、１００重量部を
越えると、光硬化性、塗膜の白濁防止効果に大きな変化
は認められないばかりか、塗膜中の固形分が低下し、成
膜性に問題が発生する。
酸塩１重量部に対して０．１重量部未満だと、金属硝酸
塩の光硬化性が不十分となり、且つコーティング剤を基
材に塗布乾燥した時に、塗膜中に金属硝酸塩が結晶化、
析出し、塗膜の白濁が発生する。一方、１００重量部を
越えると、光硬化性、塗膜の白濁防止効果に大きな変化
は認められないばかりか、塗膜中の固形分が低下し、成
膜性に問題が発生する。
【００２６】本発明のコーティング剤に含まれる水の量
は、５０重量％以下が好ましく、５０重量％を越えて含
まれると、基材に対する塗れ性が低下し、塗膜のはじき
や、ピンホールが発生する。本発明のコーティング剤に
含まれる金属硝酸塩は、金属硝酸塩を酸化物に換算し
て、０．１重量％〜２０重量％の範囲で含まれる。０．
１重量％未満では、一回の塗布で形成される塗膜の厚み
が薄く、多数回の塗布が必要となり、経済的で無い。一
方、２０重量％越えると、溶液の粘度が高くなり、塗布
作業が困難となり、且つ均一な塗膜を形成することが困
難となる。
は、５０重量％以下が好ましく、５０重量％を越えて含
まれると、基材に対する塗れ性が低下し、塗膜のはじき
や、ピンホールが発生する。本発明のコーティング剤に
含まれる金属硝酸塩は、金属硝酸塩を酸化物に換算し
て、０．１重量％〜２０重量％の範囲で含まれる。０．
１重量％未満では、一回の塗布で形成される塗膜の厚み
が薄く、多数回の塗布が必要となり、経済的で無い。一
方、２０重量％越えると、溶液の粘度が高くなり、塗布
作業が困難となり、且つ均一な塗膜を形成することが困
難となる。
【００２７】本発明のコーティング剤を基材に塗布後、
乾燥は１００℃以下で行われる。１００℃以上の温度で
乾燥されると、水に対する溶解性が低下し、紫外線照射
後に、紫外線未照射部分の溶解除去が困難となる。
乾燥は１００℃以下で行われる。１００℃以上の温度で
乾燥されると、水に対する溶解性が低下し、紫外線照射
後に、紫外線未照射部分の溶解除去が困難となる。
【００２８】
実施例１ 硝酸アルミニウム９水和物３５．７ｇとエチレングリコ
ール２８．３ｇとエチルアルコール３６ｇを混合溶解
し、コーティング剤とした。このコーティング剤を、５
０×５０×１．１ｍｍのソーダライムガラス基板上に、
３０００ｒｐｍの回転数で２０秒間スピンコートし、ホ
ットプレート上で、８０℃で５分間乾燥した。乾燥後、
塗膜表面にクロムマスクを密着させ、１０００Ｗの高圧
水銀灯で１分間紫外線を照射した。塗膜面の波長３６０
ｎｍの紫外線強度は１５０ｍＷ／ｃｍ2 であった
（（株）オーク製作所製 ＵＶ−Ｍ０１による測定）。
照射終了後、基板を純水に浸漬し、１分間超音波洗浄を
行った。
ール２８．３ｇとエチルアルコール３６ｇを混合溶解
し、コーティング剤とした。このコーティング剤を、５
０×５０×１．１ｍｍのソーダライムガラス基板上に、
３０００ｒｐｍの回転数で２０秒間スピンコートし、ホ
ットプレート上で、８０℃で５分間乾燥した。乾燥後、
塗膜表面にクロムマスクを密着させ、１０００Ｗの高圧
水銀灯で１分間紫外線を照射した。塗膜面の波長３６０
ｎｍの紫外線強度は１５０ｍＷ／ｃｍ2 であった
（（株）オーク製作所製 ＵＶ−Ｍ０１による測定）。
照射終了後、基板を純水に浸漬し、１分間超音波洗浄を
行った。
【００２９】洗浄乾燥後の塗膜表面を観察した所、紫外
線照射部分にのみ、厚さ０．１５μｍの塗膜が残ってい
た。
線照射部分にのみ、厚さ０．１５μｍの塗膜が残ってい
た。
【００３０】実施例２ 硝酸アルミニウム９水和物３５．７ｇとエチレングリコ
ール２８．３ｇとエチルアルコール３６ｇを混合溶解
し、コーティング剤とした。このコーティング剤を、５
０×５０×１．１ｍｍのソーダライムガラス基板上に、
３０００ｒｐｍの回転数で２０秒間スピンコートし、ホ
ットプレート上で、８０℃で５分乾燥した。乾燥後、塗
膜表面にクロムマスクを密着させ、２００Ｗの低圧水銀
灯で１分間紫外線を照射した。塗膜面の波長２５０ｎｍ
の紫外線強度は２０ｍＷ／ｃｍ2 であった。照射終了
後、基板を純水に浸漬し、１分間超音波洗浄を行った。
ール２８．３ｇとエチルアルコール３６ｇを混合溶解
し、コーティング剤とした。このコーティング剤を、５
０×５０×１．１ｍｍのソーダライムガラス基板上に、
３０００ｒｐｍの回転数で２０秒間スピンコートし、ホ
ットプレート上で、８０℃で５分乾燥した。乾燥後、塗
膜表面にクロムマスクを密着させ、２００Ｗの低圧水銀
灯で１分間紫外線を照射した。塗膜面の波長２５０ｎｍ
の紫外線強度は２０ｍＷ／ｃｍ2 であった。照射終了
後、基板を純水に浸漬し、１分間超音波洗浄を行った。
【００３１】洗浄乾燥後の塗膜表面を観察した所、紫外
線照射部分にのみ、厚さ０．１５μｍの塗膜が残ってい
た。
線照射部分にのみ、厚さ０．１５μｍの塗膜が残ってい
た。
【００３２】実施例３ 硝酸アルミニウム９水和物３５．７ｇを水２８．３ｇに
溶解し、そこへ以下に列挙した化合物１より選ばれた１
種を３６ｇ添加混合し、均一溶液とした。この溶液を５
０×５０×１．１ｍｍのソーダライムガラス基板上に、
３０００ｒｐｍの回転数で２０秒間スピンコートし、ホ
ットプレート上で、８０℃で５分間乾燥した。乾燥後、
塗膜表面にクロムマスクを密着させ、１０００Ｗの高圧
水銀灯で１分間紫外線を照射した。照射終了後、基板を
純水に浸漬し、１分間超音波洗浄を行った。全ての塗膜
で、紫外線照射部にのみ、被膜が残っていた。
溶解し、そこへ以下に列挙した化合物１より選ばれた１
種を３６ｇ添加混合し、均一溶液とした。この溶液を５
０×５０×１．１ｍｍのソーダライムガラス基板上に、
３０００ｒｐｍの回転数で２０秒間スピンコートし、ホ
ットプレート上で、８０℃で５分間乾燥した。乾燥後、
塗膜表面にクロムマスクを密着させ、１０００Ｗの高圧
水銀灯で１分間紫外線を照射した。照射終了後、基板を
純水に浸漬し、１分間超音波洗浄を行った。全ての塗膜
で、紫外線照射部にのみ、被膜が残っていた。
【００３３】化合物１ プロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキシレ
ングリコール、エトヘキサジオール、グリセリン、１，
２，６−ヘキサントリオール、ジエチレングリコール、
ポリエチレングリコール、ブチルセロソルブ、エチルカ
ルビトール、テトラエチレングリコールモノメチルエー
テル、ジブチルセロソルブ、ジメチルカルビトール、テ
トラグライム、エチレングリコールモノアセテート、プ
ロピレングリコールモノアセテート、モノアセチン、Ｎ
−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトセトアミド、ジメチルスルホキサイド
ングリコール、エトヘキサジオール、グリセリン、１，
２，６−ヘキサントリオール、ジエチレングリコール、
ポリエチレングリコール、ブチルセロソルブ、エチルカ
ルビトール、テトラエチレングリコールモノメチルエー
テル、ジブチルセロソルブ、ジメチルカルビトール、テ
トラグライム、エチレングリコールモノアセテート、プ
ロピレングリコールモノアセテート、モノアセチン、Ｎ
−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトセトアミド、ジメチルスルホキサイド
【００３４】実施例４ 硝酸インジュウム３水和物３８．５ｇとエチレングリコ
ール２９．３ｇとエチルアルコール３６ｇを混合溶解
し、コーティング剤とした。このコーティング剤を、５
０×５０×１．１ｍｍのソーダライムガラス基板上に、
３０００ｒｐｍの回転数で２０秒間スピンコートし、ホ
ットプレート上で、８０℃で５分間乾燥した。乾燥後、
塗膜表面にクロムマスクを密着させ、１０００Ｗの高圧
水銀灯で１分間紫外線を照射した。塗膜面の波長３６０
ｎｍの紫外線強度は１５０ｍＷ／ｃｍ2 であった。照射
終了後、基板を純水に浸漬し、１分間超音波洗浄を行っ
た。
ール２９．３ｇとエチルアルコール３６ｇを混合溶解
し、コーティング剤とした。このコーティング剤を、５
０×５０×１．１ｍｍのソーダライムガラス基板上に、
３０００ｒｐｍの回転数で２０秒間スピンコートし、ホ
ットプレート上で、８０℃で５分間乾燥した。乾燥後、
塗膜表面にクロムマスクを密着させ、１０００Ｗの高圧
水銀灯で１分間紫外線を照射した。塗膜面の波長３６０
ｎｍの紫外線強度は１５０ｍＷ／ｃｍ2 であった。照射
終了後、基板を純水に浸漬し、１分間超音波洗浄を行っ
た。
【００３５】洗浄乾燥後の塗膜表面を観察した所、紫外
線照射部分にのみ、厚さ０．０８μｍの塗膜が残ってい
た。
線照射部分にのみ、厚さ０．０８μｍの塗膜が残ってい
た。
【００３６】実施例５ 硝酸セリウム６水和物４３．４ｇとエチレングリコール
２４．４ｇとエチルアルコール３６ｇを混合溶解し、コ
ーティング剤とした。このコーティング剤を、５０×５
０×１．１ｍｍのソーダライムガラス基板上に、３００
０ｒｐｍの回転数で２０秒間スピンコートし、ホットプ
レート上で、８０℃で５分間乾燥した。乾燥後、塗膜表
面にクロムマスクを密着させ、１０００Ｗの高圧水銀灯
で１分間紫外線を照射した。塗膜面の波長３６０ｎｍの
紫外線強度は１５０ｍＷ／ｃｍ2であった。照射終了
後、基板を純水に浸漬し、１分間超音波洗浄を行った。
２４．４ｇとエチルアルコール３６ｇを混合溶解し、コ
ーティング剤とした。このコーティング剤を、５０×５
０×１．１ｍｍのソーダライムガラス基板上に、３００
０ｒｐｍの回転数で２０秒間スピンコートし、ホットプ
レート上で、８０℃で５分間乾燥した。乾燥後、塗膜表
面にクロムマスクを密着させ、１０００Ｗの高圧水銀灯
で１分間紫外線を照射した。塗膜面の波長３６０ｎｍの
紫外線強度は１５０ｍＷ／ｃｍ2であった。照射終了
後、基板を純水に浸漬し、１分間超音波洗浄を行った。
【００３７】洗浄乾燥後の塗膜表面を観察した所、紫外
線照射部分にのみ、厚さ０．０５μｍの塗膜が残ってい
た。
線照射部分にのみ、厚さ０．０５μｍの塗膜が残ってい
た。
【００３８】実施例６ 硝酸イットリウム６水和物３８．３ｇとエチレングリコ
ール２９．５ｇとエチルアルコール３６ｇを混合溶解
し、コーティング剤とした。このコーティング剤を、５
０×５０×１．１ｍｍのソーダライムガラス基板上に、
３０００ｒｐｍの回転数で２０秒間スピンコートし、ホ
ットプレート上で、８０℃で５分間乾燥した。乾燥後、
塗膜表面にクロムマスクを密着させ、１０００Ｗの高圧
水銀灯で１分間紫外線を照射した。塗膜面の波長３６０
ｎｍの紫外線強度は１５０ｍＷ／ｃｍ2 であった。照射
終了後、基板を純水に浸漬し、１分間超音波洗浄を行っ
た。
ール２９．５ｇとエチルアルコール３６ｇを混合溶解
し、コーティング剤とした。このコーティング剤を、５
０×５０×１．１ｍｍのソーダライムガラス基板上に、
３０００ｒｐｍの回転数で２０秒間スピンコートし、ホ
ットプレート上で、８０℃で５分間乾燥した。乾燥後、
塗膜表面にクロムマスクを密着させ、１０００Ｗの高圧
水銀灯で１分間紫外線を照射した。塗膜面の波長３６０
ｎｍの紫外線強度は１５０ｍＷ／ｃｍ2 であった。照射
終了後、基板を純水に浸漬し、１分間超音波洗浄を行っ
た。
【００３９】洗浄乾燥後の塗膜表面を観察した所、紫外
線照射部分にのみ、厚さ０．１０μｍの塗膜が残ってい
た。
線照射部分にのみ、厚さ０．１０μｍの塗膜が残ってい
た。
【００４０】実施例７ 硝酸カドミウム４水和物３０．８ｇとエチレングリコー
ル３７．０ｇとエチルアルコール３６ｇを混合溶解し、
コーティング剤とした。このコーティング剤を、５０×
５０×１．１ｍｍのソーダライムガラス基板上に、３０
００ｒｐｍの回転数で２０秒間スピンコートし、ホット
プレート上で、８０℃で５分間乾燥した。乾燥後、塗膜
表面にクロムマスクを密着させ、１０００Ｗの高圧水銀
灯で１分間紫外線を照射した。塗膜面の波長３６０ｎｍ
の紫外線強度は１５０ｍＷ／ｃｍ 2 であった。照射終了
後、基板を純水に浸漬し、１分間超音波洗浄を行った。
ル３７．０ｇとエチルアルコール３６ｇを混合溶解し、
コーティング剤とした。このコーティング剤を、５０×
５０×１．１ｍｍのソーダライムガラス基板上に、３０
００ｒｐｍの回転数で２０秒間スピンコートし、ホット
プレート上で、８０℃で５分間乾燥した。乾燥後、塗膜
表面にクロムマスクを密着させ、１０００Ｗの高圧水銀
灯で１分間紫外線を照射した。塗膜面の波長３６０ｎｍ
の紫外線強度は１５０ｍＷ／ｃｍ 2 であった。照射終了
後、基板を純水に浸漬し、１分間超音波洗浄を行った。
【００４１】洗浄乾燥後の塗膜表面を観察した所、紫外
線照射部分にのみ、厚さ０．１２μｍの塗膜が残ってい
た。
線照射部分にのみ、厚さ０．１２μｍの塗膜が残ってい
た。
【００４２】実施例８ 硝酸第二鉄９水和物４０．４ｇとエチレングリコール２
７．４ｇとエチルアルコール３６ｇを混合溶解し、コー
ティング剤とした。このコーティング剤を、５０×５０
×１．１ｍｍのソーダライムガラス基板上に、３０００
ｒｐｍの回転数で２０秒間スピンコートし、ホットプレ
ート上で、８０℃で５分間乾燥した。乾燥後、塗膜表面
にクロムマスクを密着させ、１０００Ｗの高圧水銀灯で
１分間紫外線を照射した。塗膜面の波長３６０ｎｍの紫
外線強度は１５０ｍＷ／ｃｍ2 であった。照射終了後、
基板を純水に浸漬し、１分間超音波洗浄を行った。
７．４ｇとエチルアルコール３６ｇを混合溶解し、コー
ティング剤とした。このコーティング剤を、５０×５０
×１．１ｍｍのソーダライムガラス基板上に、３０００
ｒｐｍの回転数で２０秒間スピンコートし、ホットプレ
ート上で、８０℃で５分間乾燥した。乾燥後、塗膜表面
にクロムマスクを密着させ、１０００Ｗの高圧水銀灯で
１分間紫外線を照射した。塗膜面の波長３６０ｎｍの紫
外線強度は１５０ｍＷ／ｃｍ2 であった。照射終了後、
基板を純水に浸漬し、１分間超音波洗浄を行った。
【００４３】洗浄乾燥後の塗膜表面を観察した所、紫外
線照射部分にのみ、厚さ０．２０μｍの塗膜が残ってい
た。
線照射部分にのみ、厚さ０．２０μｍの塗膜が残ってい
た。
【００４４】実施例９ 硝酸銅３水和物２４．２ｇとエチレングリコール４３．
６ｇとエチルアルコール３６ｇを混合溶解し、コーティ
ング剤とした。このコーティング剤を、５０×５０×
１．１ｍｍのソーダライムガラス基板上に、３０００ｒ
ｐｍの回転数で２０秒間スピンコートし、ホットプレー
ト上で、８０℃で５分間乾燥した。乾燥後、塗膜表面に
クロムマスクを密着させ、１０００Ｗの高圧水銀灯で１
分間紫外線を照射した。塗膜面の波長３６０ｎｍの紫外
線強度は１５０ｍＷ／ｃｍ2 であった。照射終了後、基
板を純水に浸漬し、１分間超音波洗浄を行った。
６ｇとエチルアルコール３６ｇを混合溶解し、コーティ
ング剤とした。このコーティング剤を、５０×５０×
１．１ｍｍのソーダライムガラス基板上に、３０００ｒ
ｐｍの回転数で２０秒間スピンコートし、ホットプレー
ト上で、８０℃で５分間乾燥した。乾燥後、塗膜表面に
クロムマスクを密着させ、１０００Ｗの高圧水銀灯で１
分間紫外線を照射した。塗膜面の波長３６０ｎｍの紫外
線強度は１５０ｍＷ／ｃｍ2 であった。照射終了後、基
板を純水に浸漬し、１分間超音波洗浄を行った。
【００４５】洗浄乾燥後の塗膜表面を観察した所、紫外
線照射部分にのみ、厚さ０．１１μｍの塗膜が残ってい
た。
線照射部分にのみ、厚さ０．１１μｍの塗膜が残ってい
た。
【００４６】実施例１０ 硝酸コバルト６水和物２９．１ｇとエチレングリコール
３８．７ｇとエチルアルコール３６ｇを混合溶解し、コ
ーティング剤とした。このコーティング剤を、５０×５
０×１．１ｍｍのソーダライムガラス基板上に、３００
０ｒｐｍの回転数で２０秒間スピンコートし、ホットプ
レート上で、８０℃で５分間乾燥した。乾燥後、塗膜表
面にクロムマスクを密着させ、１０００Ｗの高圧水銀灯
で１分間紫外線を照射した。塗膜面の波長３６０ｎｍの
紫外線強度は１５０ｍＷ／ｃｍ2であった。照射終了
後、基板を純水に浸漬し、１分間超音波洗浄を行った。
３８．７ｇとエチルアルコール３６ｇを混合溶解し、コ
ーティング剤とした。このコーティング剤を、５０×５
０×１．１ｍｍのソーダライムガラス基板上に、３００
０ｒｐｍの回転数で２０秒間スピンコートし、ホットプ
レート上で、８０℃で５分間乾燥した。乾燥後、塗膜表
面にクロムマスクを密着させ、１０００Ｗの高圧水銀灯
で１分間紫外線を照射した。塗膜面の波長３６０ｎｍの
紫外線強度は１５０ｍＷ／ｃｍ2であった。照射終了
後、基板を純水に浸漬し、１分間超音波洗浄を行った。
【００４７】洗浄乾燥後の塗膜表面を観察した所、紫外
線照射部分にのみ、厚さ０．０８μｍの塗膜が残ってい
た。
線照射部分にのみ、厚さ０．０８μｍの塗膜が残ってい
た。
【００４８】実施例１１ 硝酸クロム９水和物４０．０ｇとエチレングリコール２
７．８ｇとエチルアルコール３６ｇを混合溶解し、コー
ティング剤とした。このコーティング剤を、５０×５０
×１．１ｍｍのソーダライムガラス基板上に、３０００
ｒｐｍの回転数で２０秒間スピンコートし、ホットプレ
ート上で、８０℃で５分間乾燥した。乾燥後、塗膜表面
にクロムマスクを密着させ、１０００Ｗの高圧水銀灯で
１分間紫外線を照射した。塗膜面の波長３６０ｎｍの紫
外線強度は１５０ｍＷ／ｃｍ2 であった。照射終了後、
基板を純水に浸漬し、１分間超音波洗浄を行った。
７．８ｇとエチルアルコール３６ｇを混合溶解し、コー
ティング剤とした。このコーティング剤を、５０×５０
×１．１ｍｍのソーダライムガラス基板上に、３０００
ｒｐｍの回転数で２０秒間スピンコートし、ホットプレ
ート上で、８０℃で５分間乾燥した。乾燥後、塗膜表面
にクロムマスクを密着させ、１０００Ｗの高圧水銀灯で
１分間紫外線を照射した。塗膜面の波長３６０ｎｍの紫
外線強度は１５０ｍＷ／ｃｍ2 であった。照射終了後、
基板を純水に浸漬し、１分間超音波洗浄を行った。
【００４９】洗浄乾燥後の塗膜表面を観察した所、紫外
線照射部分にのみ、厚さ０．０９μｍの塗膜が残ってい
た。
線照射部分にのみ、厚さ０．０９μｍの塗膜が残ってい
た。
【００５０】実施例１２ 硝酸ビスマス５水和物４８．５ｇとエチレングリコール
１９．３ｇとエチルアルコール３６ｇを混合溶解し、コ
ーティング剤とした。このコーティング剤を、５０×５
０×１．１ｍｍのソーダライムガラス基板上に、３００
０ｒｐｍの回転数で２０秒間スピンコートし、ホットプ
レート上で、８０℃で５分間乾燥した。乾燥後、塗膜表
面にクロムマスクを密着させ、１０００Ｗの高圧水銀灯
で１分間紫外線を照射した。塗膜面の波長３６０ｎｍの
紫外線強度は１５０ｍＷ／ｃｍ2であった。照射終了
後、基板を純水に浸漬し、１分間超音波洗浄を行った。
１９．３ｇとエチルアルコール３６ｇを混合溶解し、コ
ーティング剤とした。このコーティング剤を、５０×５
０×１．１ｍｍのソーダライムガラス基板上に、３００
０ｒｐｍの回転数で２０秒間スピンコートし、ホットプ
レート上で、８０℃で５分間乾燥した。乾燥後、塗膜表
面にクロムマスクを密着させ、１０００Ｗの高圧水銀灯
で１分間紫外線を照射した。塗膜面の波長３６０ｎｍの
紫外線強度は１５０ｍＷ／ｃｍ2であった。照射終了
後、基板を純水に浸漬し、１分間超音波洗浄を行った。
【００５１】洗浄乾燥後の塗膜表面を観察した所、紫外
線照射部分にのみ、厚さ０．１１μｍの塗膜が残ってい
た。
線照射部分にのみ、厚さ０．１１μｍの塗膜が残ってい
た。
【００５２】比較例１ 硝酸アルミニウム９水和物３５．７ｇとエチルアルコー
ル６４．３ｇを混合溶解し、コーティング剤とした。こ
のコーティング剤を、５０×５０×１．１ｍｍのソーダ
ライムガラス基板上に、２０００ｒｐｍの回転数で２０
秒間スピンコートし、ホットプレート上で、８０℃で５
分間乾燥した。乾燥後、塗膜表面にクロムマスクを密着
させ、１０００Ｗの高圧水銀灯で１分間紫外線を照射し
た。照射終了後、基板を純水に浸漬し、１分間超音波洗
浄を行った。
ル６４．３ｇを混合溶解し、コーティング剤とした。こ
のコーティング剤を、５０×５０×１．１ｍｍのソーダ
ライムガラス基板上に、２０００ｒｐｍの回転数で２０
秒間スピンコートし、ホットプレート上で、８０℃で５
分間乾燥した。乾燥後、塗膜表面にクロムマスクを密着
させ、１０００Ｗの高圧水銀灯で１分間紫外線を照射し
た。照射終了後、基板を純水に浸漬し、１分間超音波洗
浄を行った。
【００５３】洗浄乾燥後の塗膜表面を観察した所、紫外
線照射部分にのみ、厚さ０．１０μｍの塗膜が残ってい
たが、塗膜が白濁していた。
線照射部分にのみ、厚さ０．１０μｍの塗膜が残ってい
たが、塗膜が白濁していた。
【００５４】比較例２ 硝酸アルミニウム９水和物３５．７ｇと水６４．３ｇを
混合溶解し、コーティング剤とした。このコーティング
剤を、５０×５０×１．１ｍｍのソーダライムガラス基
板上に、２０００ｒｐｍの回転数で２０秒間スピンコー
トし、ホットプレート上で、８０℃で５分間乾燥した。
乾燥塗膜は部分的にはじきが観察された。乾燥後、塗膜
表面にクロムマスクを密着させ、１０００Ｗの高圧水銀
灯で１分間紫外線を照射した。照射終了後、基板を純水
に浸漬し、１分間超音波洗浄を行った。
混合溶解し、コーティング剤とした。このコーティング
剤を、５０×５０×１．１ｍｍのソーダライムガラス基
板上に、２０００ｒｐｍの回転数で２０秒間スピンコー
トし、ホットプレート上で、８０℃で５分間乾燥した。
乾燥塗膜は部分的にはじきが観察された。乾燥後、塗膜
表面にクロムマスクを密着させ、１０００Ｗの高圧水銀
灯で１分間紫外線を照射した。照射終了後、基板を純水
に浸漬し、１分間超音波洗浄を行った。
【００５５】洗浄乾燥後の塗膜表面を観察した所、ガラ
ス基板上に被膜は残存せず、全て溶解していた。
ス基板上に被膜は残存せず、全て溶解していた。
【００５６】
【効果】本発明のコーティング剤は、紫外線等の光によ
り、容易に所望部分にのみ、無機被膜を形成しうる。ま
た、光未照射部の溶解除去が、水で行える為、耐薬品性
の無い基材にも適用でき、且つ廃液、環境汚染等の問題
が無い。
り、容易に所望部分にのみ、無機被膜を形成しうる。ま
た、光未照射部の溶解除去が、水で行える為、耐薬品性
の無い基材にも適用でき、且つ廃液、環境汚染等の問題
が無い。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中田 孝和 千葉県船橋市坪井町722番地１ 日産化学 工業株式会社中央研究所内
Claims (10)
- 【請求項１】 （Ａ）成分として金属硝酸塩と、（Ｂ）
成分として多価アルコール、多価アルコールの縮合物、
多価アルコールのエーテルまたはエステル誘導体、多価
アルコールの縮合物のエーテルまたはエステル誘導体及
びそれらの誘導体並びにＮ−メチルピロリドン、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキサイド、ジメチルア
セトアミド及びそれらの誘導体の中から選ばれた少なく
とも１種の化合物が、有機溶媒又は／及び水に溶解して
なることを特徴とする光によりパターニング可能な無機
酸化物被膜形成用コーティング剤。 - 【請求項２】 金属硝酸塩が周期律表の、IIa 族、IIIa
族、IVa 族、Va族、IIIb族、IVb 族、Vb族、VIIb族及び
VIII族の中から選ばれた少なくとも１種の金属の硝酸塩
である請求項１記載のコーティング剤。 - 【請求項３】 金属硝酸塩の含量が、金属硝酸塩を酸化
物に換算して、０．１重量％〜２０重量％の範囲である
請求項１記載のコーティング剤。 - 【請求項４】 （Ｂ）成分の配合量が、金属硝酸塩に対
して１重量部に対して０．１重量部から１００重量部で
ある請求項１記載のコーティング剤。 - 【請求項５】 光が紫外線である請求項１記載のコーテ
ィング剤。 - 【請求項６】 （Ａ）成分として金属硝酸塩と、（Ｂ）
成分として多価アルコール、多価アルコールの縮合物、
多価アルコールのエーテルまたはエステル誘導体、多価
アルコールの縮合物のエーテルまたはエステル誘導体及
びそれらの誘導体並びにＮ−メチルピロリドン、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキサイド、ジメチルア
セトアミド及びそれらの誘導体の中から選ばれた少なく
とも１種の化合物が、有機溶媒又は／及び水に溶解して
なるコーティング剤を基材に塗布、乾燥した後、光を照
射し、光未照射部分を水により溶解除去することを特徴
とする無機酸化物のパターン形成方法。 - 【請求項７】 金属硝酸塩が周期律表の、IIa 族、IIIa
族、IVa 族、Va族、IIIb族、IVb 族、Vb族、VIIb族及び
VIII族の中から選ばれた少なくとも１種の金属の硝酸塩
である請求項６記載の無機酸化物のパターン形成方法。 - 【請求項８】 コーティング剤に含まれる金属硝酸塩の
含量が、金属硝酸塩を酸化物に換算して、０．１重量％
〜２０重量％の範囲である請求項６記載の無機酸化物の
パターン形成方法。 - 【請求項９】 （Ｂ）成分の配合量が、金属硝酸塩に対
して１重量部に対して０．１重量部から１００重量部で
ある請求項６記載の無機酸化物のパターン形成方法。 - 【請求項１０】 光が紫外線である請求項６記載の無機
酸化物のパターン形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29517694A JP3817748B2 (ja) | 1994-03-17 | 1994-11-29 | 紫外線照射による無機酸化物被膜のパターン形成用コーティング剤及びパターン形成方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6-46944 | 1994-03-17 | ||
| JP4694494 | 1994-03-17 | ||
| JP29517694A JP3817748B2 (ja) | 1994-03-17 | 1994-11-29 | 紫外線照射による無機酸化物被膜のパターン形成用コーティング剤及びパターン形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07304998A true JPH07304998A (ja) | 1995-11-21 |
| JP3817748B2 JP3817748B2 (ja) | 2006-09-06 |
Family
ID=26387113
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29517694A Expired - Lifetime JP3817748B2 (ja) | 1994-03-17 | 1994-11-29 | 紫外線照射による無機酸化物被膜のパターン形成用コーティング剤及びパターン形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3817748B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07305027A (ja) * | 1994-03-17 | 1995-11-21 | Nissan Chem Ind Ltd | パターニング可能なシリカ含有無機酸化物被膜形成用コーティング剤及びパターン形成方法 |
| KR100489741B1 (ko) * | 1999-07-08 | 2005-05-16 | 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 | 무기 피막 형성용 조성물 및 무기 피막 형성 방법 |
| JP2011068514A (ja) * | 2009-09-25 | 2011-04-07 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | （複合）金属酸化物多孔体の製造方法及びこれにより得られる（複合）金属酸化物多孔体 |
-
1994
- 1994-11-29 JP JP29517694A patent/JP3817748B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07305027A (ja) * | 1994-03-17 | 1995-11-21 | Nissan Chem Ind Ltd | パターニング可能なシリカ含有無機酸化物被膜形成用コーティング剤及びパターン形成方法 |
| KR100489741B1 (ko) * | 1999-07-08 | 2005-05-16 | 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 | 무기 피막 형성용 조성물 및 무기 피막 형성 방법 |
| JP2011068514A (ja) * | 2009-09-25 | 2011-04-07 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | （複合）金属酸化物多孔体の製造方法及びこれにより得られる（複合）金属酸化物多孔体 |
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| JP3817748B2 (ja) | 2006-09-06 |
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