JPH07199006A - 光サブアセンブリ及び光モジュール - Google Patents
光サブアセンブリ及び光モジュールInfo
- Publication number
- JPH07199006A JPH07199006A JP6001107A JP110794A JPH07199006A JP H07199006 A JPH07199006 A JP H07199006A JP 6001107 A JP6001107 A JP 6001107A JP 110794 A JP110794 A JP 110794A JP H07199006 A JPH07199006 A JP H07199006A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical
- optical element
- wiring board
- groove
- subassembly
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Semiconductor Lasers (AREA)
- Light Receiving Elements (AREA)
- Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】組立コストを低減し、かつ実装密度を向上した
光サブアセンブリ及び光モジュールを提供する。 【構成】光サブアセンブリは、面方位〈100〉のシリ
コン配線基板10と、〈111〉面21,22,23か
ら成り、表面11の所定位置から側面12へ達する〈1
10〉方向の溝20と、所定位置の近傍に載置される光
素子30と、溝に平行な光軸とを有する。 【効果】光素子は、結晶異方性エッチングにより加工さ
れた溝を基準にして配線基板に載置される。したがっ
て、光素子を動作させて光軸合わせを行う必要がなく、
組立コストを低減することができる。
光サブアセンブリ及び光モジュールを提供する。 【構成】光サブアセンブリは、面方位〈100〉のシリ
コン配線基板10と、〈111〉面21,22,23か
ら成り、表面11の所定位置から側面12へ達する〈1
10〉方向の溝20と、所定位置の近傍に載置される光
素子30と、溝に平行な光軸とを有する。 【効果】光素子は、結晶異方性エッチングにより加工さ
れた溝を基準にして配線基板に載置される。したがっ
て、光素子を動作させて光軸合わせを行う必要がなく、
組立コストを低減することができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は光素子と配線基板から成
る光サブアセンブリ、及びこれをパッケージングした光
モジュールに係り、特に、多数の光素子を用いる光イン
タコネクション技術に関する。
る光サブアセンブリ、及びこれをパッケージングした光
モジュールに係り、特に、多数の光素子を用いる光イン
タコネクション技術に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、例えば、光インタコネクションに
用いられる光サブアセンブリと光モジュールとして、ア
イ・イー・イー・イー トランザクションズ オン コ
ンポーネンツ、ハイブリッズ、アンド マニュファクチ
ャリング テクノロジー、第16巻,第1号,1993
年,第89頁から第94頁(IEEE Transactions onComp
onents,Hybrids,and Manufacturing Technology,vol.1
6,no.1,1993,pp.89−94)、またはプロシーディングス
オブ 43 エレクトロニック コンポーネンツ ア
ンド テクノロジー コンファレンス、1993年、第
795頁から第801頁(Proceedings of 43rd Electr
onic Components and Technology Conference ,199
3,pp.795−801)に記載のものが知られている。
用いられる光サブアセンブリと光モジュールとして、ア
イ・イー・イー・イー トランザクションズ オン コ
ンポーネンツ、ハイブリッズ、アンド マニュファクチ
ャリング テクノロジー、第16巻,第1号,1993
年,第89頁から第94頁(IEEE Transactions onComp
onents,Hybrids,and Manufacturing Technology,vol.1
6,no.1,1993,pp.89−94)、またはプロシーディングス
オブ 43 エレクトロニック コンポーネンツ ア
ンド テクノロジー コンファレンス、1993年、第
795頁から第801頁(Proceedings of 43rd Electr
onic Components and Technology Conference ,199
3,pp.795−801)に記載のものが知られている。
【0003】前者の文献の光サブアセンブリは、レーザ
ダイオードアレイとシリコン製サブマウント(配線基
板)、またはホトダイオードアレイとガラス製サブマウ
ント(配線基板)から成る。光素子はサブマウントに半
田固定されている。光モジュールは、光サブアセンブリ
とパッケージとピグテイル光ファイバリボンから成る
(通常、ピグテイル型モジュールと呼ばれる)。リボン
を構成するファイバは、シリコン製V溝基板により配列
され、ファイバアレイとしてバット(突合せ)または先
球レンズにより光素子に結合されている。光サブアセン
ブリとファイバアレイは、光軸合わせの後、パッケージ
に搭載される。パッケージは半田により気密封止されて
いる。パッケージ外部では、ピグテイルの先端にファイ
バコネクタが取り付けられている。
ダイオードアレイとシリコン製サブマウント(配線基
板)、またはホトダイオードアレイとガラス製サブマウ
ント(配線基板)から成る。光素子はサブマウントに半
田固定されている。光モジュールは、光サブアセンブリ
とパッケージとピグテイル光ファイバリボンから成る
(通常、ピグテイル型モジュールと呼ばれる)。リボン
を構成するファイバは、シリコン製V溝基板により配列
され、ファイバアレイとしてバット(突合せ)または先
球レンズにより光素子に結合されている。光サブアセン
ブリとファイバアレイは、光軸合わせの後、パッケージ
に搭載される。パッケージは半田により気密封止されて
いる。パッケージ外部では、ピグテイルの先端にファイ
バコネクタが取り付けられている。
【0004】後者の文献の光サブアセンブリは、レーザ
ダイオードアレイまたはホトダイオードアレイと、シリ
コン製サブマウント(配線基板)と、シリコン製キャッ
プから成る。光素子は、サブマウントとキャップに挟ま
れて半田固定されている。光モジュールは、光サブアセ
ンブリとパッケージとピグテイルファイバリボンから成
る。ピグテイルの一端では、シリコン製V溝基板により
配列されたファイバアレイが、光サブアセンブリにガイ
ドピンとねじにより接続され、光素子にバット結合され
ている。ピグテイルのもう一端には、ファイバコネクタ
が取り付けられている。パッケージは気密封止されてい
ない。
ダイオードアレイまたはホトダイオードアレイと、シリ
コン製サブマウント(配線基板)と、シリコン製キャッ
プから成る。光素子は、サブマウントとキャップに挟ま
れて半田固定されている。光モジュールは、光サブアセ
ンブリとパッケージとピグテイルファイバリボンから成
る。ピグテイルの一端では、シリコン製V溝基板により
配列されたファイバアレイが、光サブアセンブリにガイ
ドピンとねじにより接続され、光素子にバット結合され
ている。ピグテイルのもう一端には、ファイバコネクタ
が取り付けられている。パッケージは気密封止されてい
ない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】近年、多数の光素子と
光ファイバケーブルを用いる並列光インタコネクション
技術が注目されている。この技術は、電気同軸ケーブル
に比べて、高速または長距離のデータ転送と高密度の信
号配線を行える利点がある。但し、同軸ケーブルでは送
受信端にコネクタだけが取り付けられているが、光イン
タコネクションでは電気/光変換または光/電気変換を
行う光モジュールと光ファイバコネクタを取り付ける必
要がある。したがって、光モジュールとファイバコネク
タの高密度実装と低コスト製造が重要な課題になってい
る。
光ファイバケーブルを用いる並列光インタコネクション
技術が注目されている。この技術は、電気同軸ケーブル
に比べて、高速または長距離のデータ転送と高密度の信
号配線を行える利点がある。但し、同軸ケーブルでは送
受信端にコネクタだけが取り付けられているが、光イン
タコネクションでは電気/光変換または光/電気変換を
行う光モジュールと光ファイバコネクタを取り付ける必
要がある。したがって、光モジュールとファイバコネク
タの高密度実装と低コスト製造が重要な課題になってい
る。
【0006】従来技術では、光モジュールにピグテイル
ファイバが付随しており、ピグテイルの先端にファイバ
コネクタが取り付けられている。これらを実装する場合
には、モジュールとコネクタの実装面積に加えてピグテ
イルの敷設面積が余分に必要になる。すなわち、ピグテ
イルが高密度実装の妨げになっている。
ファイバが付随しており、ピグテイルの先端にファイバ
コネクタが取り付けられている。これらを実装する場合
には、モジュールとコネクタの実装面積に加えてピグテ
イルの敷設面積が余分に必要になる。すなわち、ピグテ
イルが高密度実装の妨げになっている。
【0007】実装密度を向上させるには、ピグテイルフ
ァイバを除去してモジュールとコネクタを一体化するこ
とが有利である。このようなモジュールは、パッケージ
にコネクタのレセプタクル(雌側)が直接取り付けられ
るので、レセプタクル型モジュールと呼ばれる。従来技
術のうち後者の文献には、将来計画としてレセプタクル
型モジュールの外観概念図が描かれている。しかし、詳
細な構造は明らかにされていない。
ァイバを除去してモジュールとコネクタを一体化するこ
とが有利である。このようなモジュールは、パッケージ
にコネクタのレセプタクル(雌側)が直接取り付けられ
るので、レセプタクル型モジュールと呼ばれる。従来技
術のうち後者の文献には、将来計画としてレセプタクル
型モジュールの外観概念図が描かれている。しかし、詳
細な構造は明らかにされていない。
【0008】レセプタクル型モジュールでは、レセプタ
クルはパッケージ外部に取り付けられ、光素子は信頼性
を確保するためにパッケージ内部に気密封止される。ピ
グテイル型のようにファイバをパッケージ内部に導入し
て、光素子に近接させることはできない。パッケージに
封止固定される光学窓(ガラス板)は、通常0.2mm以
上の厚みを有している。従来技術では、光結合方式とし
てバット方式または先球レンズ方式を採用しているが、
光素子とファイバ間の距離が数10ミクロン以上離れる
場合には結合損失が極端に増大してしまう。したがっ
て、従来技術の結合方式は、レセプタクル型モジュール
に適していない。
クルはパッケージ外部に取り付けられ、光素子は信頼性
を確保するためにパッケージ内部に気密封止される。ピ
グテイル型のようにファイバをパッケージ内部に導入し
て、光素子に近接させることはできない。パッケージに
封止固定される光学窓(ガラス板)は、通常0.2mm以
上の厚みを有している。従来技術では、光結合方式とし
てバット方式または先球レンズ方式を採用しているが、
光素子とファイバ間の距離が数10ミクロン以上離れる
場合には結合損失が極端に増大してしまう。したがっ
て、従来技術の結合方式は、レセプタクル型モジュール
に適していない。
【0009】レセプタクル型において低損失光結合を行
うためには、光素子とファイバとは別個のレンズ光学系
を採用する必要がある。但し、従来技術のバット結合ま
たは先球レンズ結合では光素子とファイバとの位置合わ
せだけを行えばよいのに対して、レンズ光学系では光素
子とレンズ、及びレンズとファイバの光軸合わせを行う
必要がある。すなわち、従来より光軸合わせ箇所が増え
るので、モジュール組立コストが増大してしまう可能性
がある。したがって、レンズ光学系の光軸合わせを簡略
化することが課題である。
うためには、光素子とファイバとは別個のレンズ光学系
を採用する必要がある。但し、従来技術のバット結合ま
たは先球レンズ結合では光素子とファイバとの位置合わ
せだけを行えばよいのに対して、レンズ光学系では光素
子とレンズ、及びレンズとファイバの光軸合わせを行う
必要がある。すなわち、従来より光軸合わせ箇所が増え
るので、モジュール組立コストが増大してしまう可能性
がある。したがって、レンズ光学系の光軸合わせを簡略
化することが課題である。
【0010】なお、レセプタクルには、ファイバコネク
タのプラグ(雄側)が直接着脱されるので、機械的応力
に対する配慮が必要である。また、パッケージ外部に固
定されるので、温度や湿度に対する耐環境性に対する配
慮も必要になる。
タのプラグ(雄側)が直接着脱されるので、機械的応力
に対する配慮が必要である。また、パッケージ外部に固
定されるので、温度や湿度に対する耐環境性に対する配
慮も必要になる。
【0011】本発明の主な目的は、高密度かつ低コスト
の実装と、低損失な光結合を実現する光サブアセンブリ
及び光モジュールを提供することにある。
の実装と、低損失な光結合を実現する光サブアセンブリ
及び光モジュールを提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明による基本的な光サブアセンブリは、面方位
〈100〉のシリコン配線基板に、三つの〈111〉面
から成り、基板表面の所定位置から側面へ達する〈11
0〉方向の溝を設け、光素子を所定位置の近傍に載置
し、溝に平行な光軸を備えたものである。
め、本発明による基本的な光サブアセンブリは、面方位
〈100〉のシリコン配線基板に、三つの〈111〉面
から成り、基板表面の所定位置から側面へ達する〈11
0〉方向の溝を設け、光素子を所定位置の近傍に載置
し、溝に平行な光軸を備えたものである。
【0013】また、上記サブアセンブリにおいて、三つ
の〈111〉面に接するボールレンズを設けたものであ
る。
の〈111〉面に接するボールレンズを設けたものであ
る。
【0014】さらに、サブアセンブリにおいて、端面発
光型レーザダイオードから成る光素子を、配線基板へジ
ャンクションダウン形式で載置したものである。
光型レーザダイオードから成る光素子を、配線基板へジ
ャンクションダウン形式で載置したものである。
【0015】また、基本的サブアセンブリにおいて、三
つの〈111〉面のうちの一つの〈111〉面により光
軸を反射したものである。
つの〈111〉面のうちの一つの〈111〉面により光
軸を反射したものである。
【0016】さらに、サブアセンブリにおいて、裏面入
射型ホトダイオードから成る光素子を、配線基板へジャ
ンクションアップ形式で載置したものである。
射型ホトダイオードから成る光素子を、配線基板へジャ
ンクションアップ形式で載置したものである。
【0017】本発明による光モジュールは、光学窓に側
面を接した状態で面方位〈100〉のシリコン配線基板
をパッケージに搭載し、この基板には三つの〈111〉
面から成り、基板表面の所定位置から側面へ達する〈1
10〉方向の溝を設け、光素子を所定位置の近傍に載置
し、溝に平行な光軸を備えたものである。
面を接した状態で面方位〈100〉のシリコン配線基板
をパッケージに搭載し、この基板には三つの〈111〉
面から成り、基板表面の所定位置から側面へ達する〈1
10〉方向の溝を設け、光素子を所定位置の近傍に載置
し、溝に平行な光軸を備えたものである。
【0018】また、上記モジュールにおいて、光ファイ
バコネクタレセプタクルを光学窓周辺のパッケージ外面
に堅固に固定し、光素子に光ファイバを結合させたもの
である。
バコネクタレセプタクルを光学窓周辺のパッケージ外面
に堅固に固定し、光素子に光ファイバを結合させたもの
である。
【0019】さらに、上記モジュールにおいて、レセプ
タクルに接続される光ファイバコネクタプラグの端面に
プレーナレンズを設けたものである。
タクルに接続される光ファイバコネクタプラグの端面に
プレーナレンズを設けたものである。
【0020】
【作用】本発明による光サブアセンブリでは、シリコン
配線基板の〈100〉表面から側面にかけて〈110〉
方向の溝が加工される。溝を成す三つの〈111〉面の
加工は、結晶異方性エッチングによりサブミクロン精度
で行われる。この溝を位置決めマークとして、光素子の
ボンディングパッドと配線が基板上にホトリソグラフィ
により形成される。その後、光素子がパッド上に載置さ
れ、固定される。溝に対する光素子の位置は、ほぼリソ
グラフィ精度とボンディング精度で決まる。リソグラフ
ィは、通常の半導体プロセスで行われているようにサブ
ミクロン精度で行われる。ボンディングは、装置(顕微
鏡,ステージ等)の分解能を上げることにより容易にミ
クロン以下の精度で行われる。したがって、このサブア
センブリでは、光素子と溝とがミクロンまたはそれ以下
の精度で位置決めされる。光軸合わせは実質的に省略さ
れ、光素子を動作させて位置を捜す必要がなくなる。光
素子の出射光または入射光は、溝の中及びその周辺を伝
播し、基板側面を通過する。
配線基板の〈100〉表面から側面にかけて〈110〉
方向の溝が加工される。溝を成す三つの〈111〉面の
加工は、結晶異方性エッチングによりサブミクロン精度
で行われる。この溝を位置決めマークとして、光素子の
ボンディングパッドと配線が基板上にホトリソグラフィ
により形成される。その後、光素子がパッド上に載置さ
れ、固定される。溝に対する光素子の位置は、ほぼリソ
グラフィ精度とボンディング精度で決まる。リソグラフ
ィは、通常の半導体プロセスで行われているようにサブ
ミクロン精度で行われる。ボンディングは、装置(顕微
鏡,ステージ等)の分解能を上げることにより容易にミ
クロン以下の精度で行われる。したがって、このサブア
センブリでは、光素子と溝とがミクロンまたはそれ以下
の精度で位置決めされる。光軸合わせは実質的に省略さ
れ、光素子を動作させて位置を捜す必要がなくなる。光
素子の出射光または入射光は、溝の中及びその周辺を伝
播し、基板側面を通過する。
【0021】ボールレンズを設けたサブアセンブリで
は、三つの〈111〉面から成る溝によりレンズが保持
される。レンズにより光素子の出射光のコリメート、ま
たは入射光のフォーカスが行われる。溝に対するレンズ
の位置は、レンズ自身の形状精度で決まる。光素子に対
するレンズの位置は、レンズの形状精度と上記のリソグ
ラフィ/ボンディング精度で決まる。ボールレンズの研
磨加工は他の形状のレンズに比べて行い易いので、量産
が容易であり、直径,真球度ともに1ミクロン以下の精
度が得られる。したがって、光素子とレンズとの光軸合
わせを行う必要はない。
は、三つの〈111〉面から成る溝によりレンズが保持
される。レンズにより光素子の出射光のコリメート、ま
たは入射光のフォーカスが行われる。溝に対するレンズ
の位置は、レンズ自身の形状精度で決まる。光素子に対
するレンズの位置は、レンズの形状精度と上記のリソグ
ラフィ/ボンディング精度で決まる。ボールレンズの研
磨加工は他の形状のレンズに比べて行い易いので、量産
が容易であり、直径,真球度ともに1ミクロン以下の精
度が得られる。したがって、光素子とレンズとの光軸合
わせを行う必要はない。
【0022】端面発光型レーザダイオードを用いたサブ
アセンブリでは、レーザのpnジャンクション側の電極
を下、半導体基板側の電極を上にして、シリコン配線基
板の上にレーザが半田固定される。共振器端面における
レーザのスポットサイズは通常1ミクロン程度である。
配線基板の表面からスポットまでの高さは、半田層の厚
さと、ジャンクション側電極から活性層までの厚さによ
り決まる。半田層は蒸着により配線基板に形成される。
活性層までの厚さは、半導体基板上にエピタキシャル結
晶成長を行うときに制御される。したがって、配線基板
の表面に対する光軸の高さはサブミクロン精度で決ま
る。なお、半導体基板は、レーザチップを劈開する前に
100ミクロン程度の厚さになるように研磨される。基
板側の電極からスポットまでの高さには通常10μm程
度のばらつきがある。したがって、ジャンクションアッ
プ形式でレーザを配線基板上に固定した場合には、本発
明のようにジャンクションダウン形式で固定した場合と
異なり、光軸がずれてしまうことになる。
アセンブリでは、レーザのpnジャンクション側の電極
を下、半導体基板側の電極を上にして、シリコン配線基
板の上にレーザが半田固定される。共振器端面における
レーザのスポットサイズは通常1ミクロン程度である。
配線基板の表面からスポットまでの高さは、半田層の厚
さと、ジャンクション側電極から活性層までの厚さによ
り決まる。半田層は蒸着により配線基板に形成される。
活性層までの厚さは、半導体基板上にエピタキシャル結
晶成長を行うときに制御される。したがって、配線基板
の表面に対する光軸の高さはサブミクロン精度で決ま
る。なお、半導体基板は、レーザチップを劈開する前に
100ミクロン程度の厚さになるように研磨される。基
板側の電極からスポットまでの高さには通常10μm程
度のばらつきがある。したがって、ジャンクションアッ
プ形式でレーザを配線基板上に固定した場合には、本発
明のようにジャンクションダウン形式で固定した場合と
異なり、光軸がずれてしまうことになる。
【0023】溝により光軸を反射させるサブアセンブリ
では、三つの〈111〉面のうち二つの面は光軸の〈1
10〉方向に平行であるから、残りの〈111〉面が光
軸を反射する。配線基板の〈100〉表面に対して、
〈111〉面は約55度の角度で交わっており、反射さ
れた光軸は約71度傾く。したがって、面発光/面受光
型光素子を配線基板に垂直に立てて載置する必要はな
く、配線基板の表面に平行に搭載した状態で光素子の活
性領域に光軸がつながる。溝に対する光素子の位置はリ
ソグラフィ/ボンディング精度で決まり、光素子を動作
させて光軸合わせを行う必要はない。
では、三つの〈111〉面のうち二つの面は光軸の〈1
10〉方向に平行であるから、残りの〈111〉面が光
軸を反射する。配線基板の〈100〉表面に対して、
〈111〉面は約55度の角度で交わっており、反射さ
れた光軸は約71度傾く。したがって、面発光/面受光
型光素子を配線基板に垂直に立てて載置する必要はな
く、配線基板の表面に平行に搭載した状態で光素子の活
性領域に光軸がつながる。溝に対する光素子の位置はリ
ソグラフィ/ボンディング精度で決まり、光素子を動作
させて光軸合わせを行う必要はない。
【0024】面受光型の裏面入射型ホトダイオードを用
いたサブアセンブリでは、ホトダイオードのpnジャン
クション側を上、半導体基板側(裏面側)を下にして、
シリコン配線基板の上にホトダイオードが固定される。
〈111〉面により反射された光軸は、半導体基板を通
ってホトダイオードの受光面のほぼ中心にくる。受光面
の直径は、通常、数10ミクロン以上あり、溝に対する
ホトダイオードの位置はリソグラフィとボンディングに
よりミクロン以下の精度で決まる。したがって、光軸合
わせを行う必要はない。半導体基板の厚さは、通常、数
100ミクロンであり、10μm程度のばらつきがある
が、光軸方向の位置ずれに対するトレランスは大きいの
で支障はない。
いたサブアセンブリでは、ホトダイオードのpnジャン
クション側を上、半導体基板側(裏面側)を下にして、
シリコン配線基板の上にホトダイオードが固定される。
〈111〉面により反射された光軸は、半導体基板を通
ってホトダイオードの受光面のほぼ中心にくる。受光面
の直径は、通常、数10ミクロン以上あり、溝に対する
ホトダイオードの位置はリソグラフィとボンディングに
よりミクロン以下の精度で決まる。したがって、光軸合
わせを行う必要はない。半導体基板の厚さは、通常、数
100ミクロンであり、10μm程度のばらつきがある
が、光軸方向の位置ずれに対するトレランスは大きいの
で支障はない。
【0025】本発明による光モジュールでは、光サブア
センブリのシリコン配線基板の側面が光学窓に接してお
り、光軸は光学窓に垂直になる。光軸方向に関して、パ
ッケージ外側の光学窓表面に対する光素子の位置は、配
線基板のサイズ(溝の長さ)と光学窓の厚さの精度で決
まる。配線基板は、ダイシングソーによりシリコンウエ
ハから10ミクロン以下の精度で切り出される。光学窓
の厚さは、通常、数100ミクロンであり、精度は約1
0ミクロンである。したがって、このモジュールでは、
光学窓の外面に対して光素子の位置が10ミクロンオー
ダの精度で決まる。光軸方向の精度としては十分であ
る。配線基板の側面を光学窓に押し当てて光サブアセン
ブリをパッケージに搭載するだけで、特別な位置調整を
行う必要はない。
センブリのシリコン配線基板の側面が光学窓に接してお
り、光軸は光学窓に垂直になる。光軸方向に関して、パ
ッケージ外側の光学窓表面に対する光素子の位置は、配
線基板のサイズ(溝の長さ)と光学窓の厚さの精度で決
まる。配線基板は、ダイシングソーによりシリコンウエ
ハから10ミクロン以下の精度で切り出される。光学窓
の厚さは、通常、数100ミクロンであり、精度は約1
0ミクロンである。したがって、このモジュールでは、
光学窓の外面に対して光素子の位置が10ミクロンオー
ダの精度で決まる。光軸方向の精度としては十分であ
る。配線基板の側面を光学窓に押し当てて光サブアセン
ブリをパッケージに搭載するだけで、特別な位置調整を
行う必要はない。
【0026】光ファイバコネクタレセプタクルを設けた
モジュールでは、サブアセンブリを内蔵したパッケージ
を気密封止した後、光素子と光ファイバが結合するよう
に光軸合わせを行い、レセプタクルをパッケージ外面に
YAGレーザ溶接により堅固に固定する。パッケージと
レセプタクルは一体化されており、ファイバコネクタプ
ラグが直接モジュールに接続される。レセプタクル型モ
ジュールの実装では、ピグテイル型モジュールのように
ピグテイルファイバの敷設面積を必要としない。また、
パッケージ内部の組立では光軸合わせを行わないので、
モジュール組立に必要な光軸合わせは1回だけで済む。
サブアセンブリに対するファイバの光軸の位置はレーザ
溶接により決まる。通常、溶接は10ミクロン以下の精
度で行われる。溶接では、半田のようなクリープ変形,
熱疲労,樹脂のような変質,膨潤等が生じない。レセプ
タクルにプラグを着脱するときの応力,温度,湿度等に
対する信頼性が確保され、長期的に安定に光軸が維持さ
れる。
モジュールでは、サブアセンブリを内蔵したパッケージ
を気密封止した後、光素子と光ファイバが結合するよう
に光軸合わせを行い、レセプタクルをパッケージ外面に
YAGレーザ溶接により堅固に固定する。パッケージと
レセプタクルは一体化されており、ファイバコネクタプ
ラグが直接モジュールに接続される。レセプタクル型モ
ジュールの実装では、ピグテイル型モジュールのように
ピグテイルファイバの敷設面積を必要としない。また、
パッケージ内部の組立では光軸合わせを行わないので、
モジュール組立に必要な光軸合わせは1回だけで済む。
サブアセンブリに対するファイバの光軸の位置はレーザ
溶接により決まる。通常、溶接は10ミクロン以下の精
度で行われる。溶接では、半田のようなクリープ変形,
熱疲労,樹脂のような変質,膨潤等が生じない。レセプ
タクルにプラグを着脱するときの応力,温度,湿度等に
対する信頼性が確保され、長期的に安定に光軸が維持さ
れる。
【0027】プレーナレンズには、ガラス基板の表面か
らドーパントを拡散させて、屈折率分布が形成されてい
る。ファイバ端面の画像またはファイバ端面からの出射
光に対して位置合わせを行った後、レンズをプラグの端
面に数ミクロン以下の精度で固定する。レンズ付きファ
イバでは、サブアセンブリに対する位置のトレランスが
拡大される。したがって、レセプタクルをパッケージに
溶接したときの位置ずれによる過剰結合損失が抑制され
る。
らドーパントを拡散させて、屈折率分布が形成されてい
る。ファイバ端面の画像またはファイバ端面からの出射
光に対して位置合わせを行った後、レンズをプラグの端
面に数ミクロン以下の精度で固定する。レンズ付きファ
イバでは、サブアセンブリに対する位置のトレランスが
拡大される。したがって、レセプタクルをパッケージに
溶接したときの位置ずれによる過剰結合損失が抑制され
る。
【0028】
【実施例】図1は本発明による第一実施例の光サブアセ
ンブリの斜視図、図2は部分断面図である。第一実施例
の光サブアセンブリは、面方位〈100〉のシリコン結
晶から成る配線基板10と、三つの〈111〉面21,
22,23と〈100〉面24から成り、配線基板10
の表面11の所定位置から側面12へ達する〈110〉
方向の溝20と、所定位置の近傍に載置される光素子3
0と、三つの〈111〉面21,22,23に接するボ
ールレンズ40と、溝20に平行光軸50とを有してい
る。
ンブリの斜視図、図2は部分断面図である。第一実施例
の光サブアセンブリは、面方位〈100〉のシリコン結
晶から成る配線基板10と、三つの〈111〉面21,
22,23と〈100〉面24から成り、配線基板10
の表面11の所定位置から側面12へ達する〈110〉
方向の溝20と、所定位置の近傍に載置される光素子3
0と、三つの〈111〉面21,22,23に接するボ
ールレンズ40と、溝20に平行光軸50とを有してい
る。
【0029】溝20の三つの〈111〉面21,22,
23は、化学気相堆積による窒化シリコン(Si3N4)
マスクを用いて、〈100〉シリコン基板10を水酸化
カリウム(KOH)溶液中で異方性エッチングすること
により加工されている。溝20の幅は235μmであ
り、〈111〉面21,22,23は〈100〉表面1
1に対して54.7 度傾いている。溝20の幅及び深さ
に関する加工精度は±0.5μm である。
23は、化学気相堆積による窒化シリコン(Si3N4)
マスクを用いて、〈100〉シリコン基板10を水酸化
カリウム(KOH)溶液中で異方性エッチングすること
により加工されている。溝20の幅は235μmであ
り、〈111〉面21,22,23は〈100〉表面1
1に対して54.7 度傾いている。溝20の幅及び深さ
に関する加工精度は±0.5μm である。
【0030】基板10に形成された配線(ボンディング
パッド)13,14はチタン/ニッケル/金(Ti/N
i/Au)から成り、溝20を位置決めマークとしてホ
トリソグラフィにより±0.5μm の精度でパターンニ
ングされている。配線13の光素子が搭載される位置に
は金/錫(Au/Sn)共晶半田が3±0.2μm の厚
さで蒸着されている。
パッド)13,14はチタン/ニッケル/金(Ti/N
i/Au)から成り、溝20を位置決めマークとしてホ
トリソグラフィにより±0.5μm の精度でパターンニ
ングされている。配線13の光素子が搭載される位置に
は金/錫(Au/Sn)共晶半田が3±0.2μm の厚
さで蒸着されている。
【0031】基板10は、溝20の加工と配線13,1
4の形成が終了したシリコン結晶ウエハから、ダイシン
グソーにより溝20を位置基準として所定のサイズで切
り出される。基板10の側面12はこのとき同時に研磨
される。ダイシングソーの加工精度すなわち溝20の長
さの精度は±5μmである。
4の形成が終了したシリコン結晶ウエハから、ダイシン
グソーにより溝20を位置基準として所定のサイズで切
り出される。基板10の側面12はこのとき同時に研磨
される。ダイシングソーの加工精度すなわち溝20の長
さの精度は±5μmである。
【0032】光素子30は端面発光型レーザダイオード
から成り、InP半導体基板上にエピタキシャル結晶成
長によりInGaAsP活性層31が形成されている。
発振波長は1.3μm 、ファーフィールドパターンの半
値全角は30度(活性層31に平行)×40度(垂直)
である。活性層31からジャンクション側の電極までの
高さは4±0.2μm である。光素子30はジャンクシ
ョン側の電極を下に向けてジャンクションダウン形式で
配線13の上にダイボンディングされている。InP基
板側の電極は、配線14に金(Au)ワイヤによりボン
ディングされている。
から成り、InP半導体基板上にエピタキシャル結晶成
長によりInGaAsP活性層31が形成されている。
発振波長は1.3μm 、ファーフィールドパターンの半
値全角は30度(活性層31に平行)×40度(垂直)
である。活性層31からジャンクション側の電極までの
高さは4±0.2μm である。光素子30はジャンクシ
ョン側の電極を下に向けてジャンクションダウン形式で
配線13の上にダイボンディングされている。InP基
板側の電極は、配線14に金(Au)ワイヤによりボン
ディングされている。
【0033】ダイボンディングでは、光素子30を真空
チャックにより保持し、面23のエッジから8μm離れ
て溝20の中心に位置するようにモニタカメラ付き顕微
鏡と微動ステージにより調節する。その後、ヒータによ
り配線13の半田を溶融し、光素子30を固定する。顕
微鏡とステージの分解能はそれぞれ0.5μmと0.1μ
mである。溝20に対する活性層31の位置の精度は、
基板10に平行な方向に関して±1.5μm 、垂直な方
向に関して±1μmである。
チャックにより保持し、面23のエッジから8μm離れ
て溝20の中心に位置するようにモニタカメラ付き顕微
鏡と微動ステージにより調節する。その後、ヒータによ
り配線13の半田を溶融し、光素子30を固定する。顕
微鏡とステージの分解能はそれぞれ0.5μmと0.1μ
mである。溝20に対する活性層31の位置の精度は、
基板10に平行な方向に関して±1.5μm 、垂直な方
向に関して±1μmである。
【0034】ボールレンズ40は屈折率1.78の光学
ガラスから成る。直径は0.2mm±1μm、真球度は0.
5μm 、焦点距離は114μmである。レンズ40の
表面には無反射コーティングが施されている。溝20の
中に予め低融点ガラスを塗布しておき、レンズ40を真
空チャックにより保持して三つの〈111〉面21,2
2,23に押し当てながら、低融点ガラスを加熱により
硬化させてレンズ40を固定する。溝20に対するレン
ズ40の位置の精度は±1.5μm である。
ガラスから成る。直径は0.2mm±1μm、真球度は0.
5μm 、焦点距離は114μmである。レンズ40の
表面には無反射コーティングが施されている。溝20の
中に予め低融点ガラスを塗布しておき、レンズ40を真
空チャックにより保持して三つの〈111〉面21,2
2,23に押し当てながら、低融点ガラスを加熱により
硬化させてレンズ40を固定する。溝20に対するレン
ズ40の位置の精度は±1.5μm である。
【0035】光学系では、光素子30の出射端面とレン
ズ40の主面との距離が126μmに設定されており、
像倍率は9.7 である。光素子30の出射光は、溝20
の中及び上側を伝播し、側面12を抜け、レンズ40の
主面から1.2mm の位置にフォーカスされる。光学設計
値に対する光素子30とレンズ40間の相対的な位置ず
れは、光軸50及び基板10に平行な方向に関して±3
μm、光軸50に垂直かつ基板10に平行な方向に関し
て±3μm、光軸50及び基板10に垂直な方向に関し
て±2.5μmに抑えられている。これらの値はレンズ
40のサイズに対して十分小さいから、収差とパワーロ
スの小さいフォーカッシングが行われる。
ズ40の主面との距離が126μmに設定されており、
像倍率は9.7 である。光素子30の出射光は、溝20
の中及び上側を伝播し、側面12を抜け、レンズ40の
主面から1.2mm の位置にフォーカスされる。光学設計
値に対する光素子30とレンズ40間の相対的な位置ず
れは、光軸50及び基板10に平行な方向に関して±3
μm、光軸50に垂直かつ基板10に平行な方向に関し
て±3μm、光軸50及び基板10に垂直な方向に関し
て±2.5μmに抑えられている。これらの値はレンズ
40のサイズに対して十分小さいから、収差とパワーロ
スの小さいフォーカッシングが行われる。
【0036】第一実施例によれば、光素子30及びレン
ズ40を配線基板10に載置するとき、光素子30を動
作させて位置合わせを行う必要がない。すなわち、光素
子30とレンズ40との光軸合わせを実質的に省略する
ことができ、光サブアセンブリの組立コストを低減する
ことができる。
ズ40を配線基板10に載置するとき、光素子30を動
作させて位置合わせを行う必要がない。すなわち、光素
子30とレンズ40との光軸合わせを実質的に省略する
ことができ、光サブアセンブリの組立コストを低減する
ことができる。
【0037】図3は本発明による第二実施例の光サブア
センブリの斜視図、図4は部分断面図である。第二実施
例の光サブアセンブリは、面方位〈100〉のシリコン
結晶から成る配線基板60と、三つの〈111〉面7
1,72,73と〈100〉面74から成り、配線基板
60の表面61の所定位置から側面62へ達する〈11
0〉方向の溝70と、前記所定位置の近傍に載置される
光素子80と、溝70に平行であり、〈111〉面73
により反射される光軸90とを有している。
センブリの斜視図、図4は部分断面図である。第二実施
例の光サブアセンブリは、面方位〈100〉のシリコン
結晶から成る配線基板60と、三つの〈111〉面7
1,72,73と〈100〉面74から成り、配線基板
60の表面61の所定位置から側面62へ達する〈11
0〉方向の溝70と、前記所定位置の近傍に載置される
光素子80と、溝70に平行であり、〈111〉面73
により反射される光軸90とを有している。
【0038】溝70の〈111〉面71,72,73と
〈100〉面74は、第1実施例と同様に、結晶異方性
エッチングにより加工されている。〈111〉面73の
表面には高反射コーティングが施されている。配線6
3,64はホトリソグラフィによりパターンニングされ
ている。配線63の光素子80が搭載される位置には半
田が蒸着されている。
〈100〉面74は、第1実施例と同様に、結晶異方性
エッチングにより加工されている。〈111〉面73の
表面には高反射コーティングが施されている。配線6
3,64はホトリソグラフィによりパターンニングされ
ている。配線63の光素子80が搭載される位置には半
田が蒸着されている。
【0039】光素子80は裏面入射型ホトダイオードか
ら成り、InP基板上にエピタキシャル成長によりIn
GaAs活性領域(受光面)81が形成されている。検
出波長領域は1μm帯、受光面81の直径は50μmで
ある。InP基板の厚さは200±10μmである。I
nP基板側の表面(受光面81の裏面)には無反射コー
ティングが施されている。
ら成り、InP基板上にエピタキシャル成長によりIn
GaAs活性領域(受光面)81が形成されている。検
出波長領域は1μm帯、受光面81の直径は50μmで
ある。InP基板の厚さは200±10μmである。I
nP基板側の表面(受光面81の裏面)には無反射コー
ティングが施されている。
【0040】光素子80は、溝70に対する受光面81
の位置を顕微鏡と微動ステージにより調節した後、In
P基板側の電極を下に向けてジャンクションアップ形式
で配線63の上にダイボンディングされる。光素子80
は溝70の上にオーバーハングしており、受光面81の
中心が面73のエッジから約100μmの位置にある。
ジャンクション側の電極は、ワイヤ65により配線64
に接続されている。
の位置を顕微鏡と微動ステージにより調節した後、In
P基板側の電極を下に向けてジャンクションアップ形式
で配線63の上にダイボンディングされる。光素子80
は溝70の上にオーバーハングしており、受光面81の
中心が面73のエッジから約100μmの位置にある。
ジャンクション側の電極は、ワイヤ65により配線64
に接続されている。
【0041】光軸90に沿って基板60の側面62から
入射した光は、〈111〉面73により表面61の方に
反射される。このとき光軸90は表面61に対して7
0.5度傾く。光はさらに光素子80の裏面から入射
し、InP基板での屈折により表面61に対して17
4.4 度傾き、受光面81にほぼ垂直に入射する。光軸
90に対する受光面81の位置ずれは、基板60に垂直
な方向に関して±10μm、平行な方向に関して±1.
5μm に抑えられている。前者は光軸90の方向の位
置ずれであり、後者は受光面81のサイズに対して十分
小さいから、ホトダイオードとして支障はない。
入射した光は、〈111〉面73により表面61の方に
反射される。このとき光軸90は表面61に対して7
0.5度傾く。光はさらに光素子80の裏面から入射
し、InP基板での屈折により表面61に対して17
4.4 度傾き、受光面81にほぼ垂直に入射する。光軸
90に対する受光面81の位置ずれは、基板60に垂直
な方向に関して±10μm、平行な方向に関して±1.
5μm に抑えられている。前者は光軸90の方向の位
置ずれであり、後者は受光面81のサイズに対して十分
小さいから、ホトダイオードとして支障はない。
【0042】第二実施例によれば、光素子80を配線基
板60に載置するとき、光素子80を動作させて光軸合
わせを行う必要がなく、光サブアセンブリの組立コスト
を低減することができる効果がある。
板60に載置するとき、光素子80を動作させて光軸合
わせを行う必要がなく、光サブアセンブリの組立コスト
を低減することができる効果がある。
【0043】図5は本発明による第三実施例の光モジュ
ールの上面図、図6は光モジュールの側面図、図7は光
モジュールに接続される光ファイバコネクタプラグの斜
視図、図8は光ファイバコネクタプラグが接続された状
態の光モジュールの部分側面図である。
ールの上面図、図6は光モジュールの側面図、図7は光
モジュールに接続される光ファイバコネクタプラグの斜
視図、図8は光ファイバコネクタプラグが接続された状
態の光モジュールの部分側面図である。
【0044】第三実施例の光モジュールは、光学窓21
0を有するパッケージ200と、配線基板110と溝1
20と光素子130とボールレンズ140から成り、光
学窓210に配線基板110の側面を接してパッケージ
200に搭載される光サブアセンブリと、光素子130
を駆動する半導体素子150と、光サブアセンブリと半
導体素子150が接続される配線基板160と、光素子
130と光ファイバコネクタプラグ240の光ファイバ
251とを結合するための光ファイバコネクタレセプタ
クル220とを有している。
0を有するパッケージ200と、配線基板110と溝1
20と光素子130とボールレンズ140から成り、光
学窓210に配線基板110の側面を接してパッケージ
200に搭載される光サブアセンブリと、光素子130
を駆動する半導体素子150と、光サブアセンブリと半
導体素子150が接続される配線基板160と、光素子
130と光ファイバコネクタプラグ240の光ファイバ
251とを結合するための光ファイバコネクタレセプタ
クル220とを有している。
【0045】第三実施例の光サブアセンブリは、第一実
施例と同様に、面方位〈100〉のシリコン結晶から成
る配線基板110と、三つの〈111〉面から成り、配
線基板110の表面の所定位置から側面へ達する〈11
0〉方向の溝120と、前記所定位置の近傍に載置され
る光素子130と、三つの〈111〉面に接するボール
レンズ140と、溝120に平行な光軸とを有してい
る。
施例と同様に、面方位〈100〉のシリコン結晶から成
る配線基板110と、三つの〈111〉面から成り、配
線基板110の表面の所定位置から側面へ達する〈11
0〉方向の溝120と、前記所定位置の近傍に載置され
る光素子130と、三つの〈111〉面に接するボール
レンズ140と、溝120に平行な光軸とを有してい
る。
【0046】光素子130は、10個のレーザダイオー
ドが250μmピッチでモノリシックに集積されたレー
ザダイオードアレイから成る。光素子130に対応し
て、配線基板110には10本の溝120が同じピッチ
で加工されており、溝120には10個のボールレンズ
140が固定されている。光素子130は、レンズ140
と光学窓210を経て、レセプタクル220とプラグ2
40により10本のファイバ251に結合される。光素
子130とレンズ140の光学的配置は、第1実施例と
同様である。光軸は配線基板110の側面すなわち光学
窓210に垂直である。配線基板110の側面までの溝
120の長さは約800μm,精度は±5μmである。
ドが250μmピッチでモノリシックに集積されたレー
ザダイオードアレイから成る。光素子130に対応し
て、配線基板110には10本の溝120が同じピッチ
で加工されており、溝120には10個のボールレンズ
140が固定されている。光素子130は、レンズ140
と光学窓210を経て、レセプタクル220とプラグ2
40により10本のファイバ251に結合される。光素
子130とレンズ140の光学的配置は、第1実施例と
同様である。光軸は配線基板110の側面すなわち光学
窓210に垂直である。配線基板110の側面までの溝
120の長さは約800μm,精度は±5μmである。
【0047】シリコン製半導体素子150には、10個
のレーザダイオードを独立に駆動する集積回路が形成さ
れている。半導体素子150の入力側電極は、配線基板
160とフレーム203を介してリード204に接続され
ている。出力側電極は、配線基板110を介して光素子
130に接続されている。
のレーザダイオードを独立に駆動する集積回路が形成さ
れている。半導体素子150の入力側電極は、配線基板
160とフレーム203を介してリード204に接続され
ている。出力側電極は、配線基板110を介して光素子
130に接続されている。
【0048】配線基板160は、窒化アルミ(AlN)
セラミックから成る。基板材料として通常よく使用され
るアルミナに比べて、高い熱伝導率と半導体に近い熱膨
張係数を有している。配線基板160はパッケージ20
0に鉛/錫(Pb/Sn)共晶半田により固定されてい
る。光サブアセンブリは、光学窓210に側面を接した
状態で、同じ半田により配線基板160上に固定されて
いる。半導体素子150は、配線基板160に金/シリ
コン(Au/Si)ろう材により固定されている。光素
子130と半導体素子150が発生した熱は、配線基板
160を介してパッケージ200のベース201に放出
される。
セラミックから成る。基板材料として通常よく使用され
るアルミナに比べて、高い熱伝導率と半導体に近い熱膨
張係数を有している。配線基板160はパッケージ20
0に鉛/錫(Pb/Sn)共晶半田により固定されてい
る。光サブアセンブリは、光学窓210に側面を接した
状態で、同じ半田により配線基板160上に固定されて
いる。半導体素子150は、配線基板160に金/シリ
コン(Au/Si)ろう材により固定されている。光素
子130と半導体素子150が発生した熱は、配線基板
160を介してパッケージ200のベース201に放出
される。
【0049】パッケージ200はベース201,フレー
ム202,203,リード204から成り、これらは互
いにろう付けされている。ベース201は高熱伝導率を
有する銅−タングステン(Cu−W)複合材料から成
る。フレーム202とリード204は鉄−ニッケル−コ
バルト合金(Fe−Ni−Co)から成り、フレーム2
03は絶縁性のアルミナ(Al2O3)セラミックから成
る。リッド206はフレーム202と同じ材料から成
り、フレーム202にシーム溶接により固定されてい
る。光学窓210は屈折率1.49、厚さ0.3±0.0
1mm の光学ガラスから成り、フレーム202に低融点
ガラスにより封止固定されている。光学窓210があるフ
レーム202の側面には、貫通孔205が加工されてい
る。なお、パッケージ200のサイズは、リッド206
を含めて長さ11×幅8×高さ5.5mm3である。
ム202,203,リード204から成り、これらは互
いにろう付けされている。ベース201は高熱伝導率を
有する銅−タングステン(Cu−W)複合材料から成
る。フレーム202とリード204は鉄−ニッケル−コ
バルト合金(Fe−Ni−Co)から成り、フレーム2
03は絶縁性のアルミナ(Al2O3)セラミックから成
る。リッド206はフレーム202と同じ材料から成
り、フレーム202にシーム溶接により固定されてい
る。光学窓210は屈折率1.49、厚さ0.3±0.0
1mm の光学ガラスから成り、フレーム202に低融点
ガラスにより封止固定されている。光学窓210があるフ
レーム202の側面には、貫通孔205が加工されてい
る。なお、パッケージ200のサイズは、リッド206
を含めて長さ11×幅8×高さ5.5mm3である。
【0050】レセプタクル220は鉄−ニッケル−コバ
ルト合金(Fe−Ni−Co)から成り、フレーム20
2にYAGレーザ溶接により±10μmの精度で固定さ
れている。サイズは長さ8×幅7×高さ3.2mm3であ
る。レセプタクル220の中にはソケット230が機械
的に嵌め込まれている。ソケット230は精密樹脂成型
により加工されており、ガイド孔231と貫通孔232
が形成されている。
ルト合金(Fe−Ni−Co)から成り、フレーム20
2にYAGレーザ溶接により±10μmの精度で固定さ
れている。サイズは長さ8×幅7×高さ3.2mm3であ
る。レセプタクル220の中にはソケット230が機械
的に嵌め込まれている。ソケット230は精密樹脂成型
により加工されており、ガイド孔231と貫通孔232
が形成されている。
【0051】プラグ240は、ソケット230と同じく
精密樹脂成型により加工されている。先端にはフェルー
ル242が形成されており、ファイバ251が250μ
mピッチで固定されている。ファイバ251は外径12
5μm、コア径50μmの屈折率分布型マルチモードフ
ァイバから成り、光ファイバリボン250として被覆さ
れている。フェルール242の横にはガイドピン241
が固定されている。
精密樹脂成型により加工されている。先端にはフェルー
ル242が形成されており、ファイバ251が250μ
mピッチで固定されている。ファイバ251は外径12
5μm、コア径50μmの屈折率分布型マルチモードフ
ァイバから成り、光ファイバリボン250として被覆さ
れている。フェルール242の横にはガイドピン241
が固定されている。
【0052】プラグ240とレセプタクル220は、ガ
イドピン241をガイド孔231に挿入することにより
接続される。このとき、フェルール242は貫通孔23
2,205に挿入され、ファイバ251の端面は光学窓
210の表面から100±5μmの位置にくる。レセプ
タクル220に対するファイバ251の配列精度は±1
μmである。
イドピン241をガイド孔231に挿入することにより
接続される。このとき、フェルール242は貫通孔23
2,205に挿入され、ファイバ251の端面は光学窓
210の表面から100±5μmの位置にくる。レセプ
タクル220に対するファイバ251の配列精度は±1
μmである。
【0053】光モジュールの組立では、予め、光サブア
センブリの組立と、半導体素子150の組立を行ってお
く。半導体素子150を配線基板160に固定し、ワイ
ヤボンディングを行っておく。次に、配線基板160を
パッケージ200に固定し、配線基板110の側面を光
学窓210に押し当てながら光サブアセンブリを配線基
板160に固定する。光サブアセンブリと半導体素子1
50,配線基板160とフレーム203との間にワイヤ
ボンディングを行う。その後、フレーム202にリッド
206をシーム溶接し、パッケージ200を気密封止す
る。最後に、レセプタクル220とプラグ240を接続
した状態で、光素子130を動作させてファイバ251
に結合した光パワーをモニタしながらレセプタクル22
0の位置を調節し、レセプタクル220をフレーム20
2にYAGレーザにより溶接する。
センブリの組立と、半導体素子150の組立を行ってお
く。半導体素子150を配線基板160に固定し、ワイ
ヤボンディングを行っておく。次に、配線基板160を
パッケージ200に固定し、配線基板110の側面を光
学窓210に押し当てながら光サブアセンブリを配線基
板160に固定する。光サブアセンブリと半導体素子1
50,配線基板160とフレーム203との間にワイヤ
ボンディングを行う。その後、フレーム202にリッド
206をシーム溶接し、パッケージ200を気密封止す
る。最後に、レセプタクル220とプラグ240を接続
した状態で、光素子130を動作させてファイバ251
に結合した光パワーをモニタしながらレセプタクル22
0の位置を調節し、レセプタクル220をフレーム20
2にYAGレーザにより溶接する。
【0054】組立後のモジュールでは、レンズ140の
主面からファイバ251の端面までの光路長は1.2mm
であり、光素子130から出射した光はファイバ251
の端面にフォーカスされる。光サブアセンブリに対する
ファイバ251の位置ずれは、光軸に平行な方向に関し
て±20μm、垂直な方向に関して±11μmである。
光素子130とファイバ251との結合損失は5±1d
Bという低い値に抑えられている。
主面からファイバ251の端面までの光路長は1.2mm
であり、光素子130から出射した光はファイバ251
の端面にフォーカスされる。光サブアセンブリに対する
ファイバ251の位置ずれは、光軸に平行な方向に関し
て±20μm、垂直な方向に関して±11μmである。
光素子130とファイバ251との結合損失は5±1d
Bという低い値に抑えられている。
【0055】第三実施例のレセプタクル型モジュールに
よれば、光サブアセンブリをパッケージ200に搭載す
るとき、配線基板110と光学窓210を密着させるだ
けでよく、光軸合わせ作業を行う必要がない。すなわ
ち、組立コストを低減することができる効果がある。ま
た、モジュールのサイズは19×8×5.5mm3に小型化
されている上、モジュールにプラグ240が直接着脱さ
れるので、ピグテイル型モジュールのようなファイバの
敷設面積が不要である。したがって、モジュールの実装
密度を向上することができる効果がある。さらに、レセ
プタクル220はパッケージ200に溶接により堅固に
固定されており、半田や樹脂による固定方法に比べて外
部環境に対する信頼性に優れている。
よれば、光サブアセンブリをパッケージ200に搭載す
るとき、配線基板110と光学窓210を密着させるだ
けでよく、光軸合わせ作業を行う必要がない。すなわ
ち、組立コストを低減することができる効果がある。ま
た、モジュールのサイズは19×8×5.5mm3に小型化
されている上、モジュールにプラグ240が直接着脱さ
れるので、ピグテイル型モジュールのようなファイバの
敷設面積が不要である。したがって、モジュールの実装
密度を向上することができる効果がある。さらに、レセ
プタクル220はパッケージ200に溶接により堅固に
固定されており、半田や樹脂による固定方法に比べて外
部環境に対する信頼性に優れている。
【0056】図9は本発明による第四実施例を示す図で
あり、光コネクタプラグが接続された状態の光モジュー
ルの部分側面図である。第四実施例のパッケージ,レセ
プタクル等の基本的な構成は第三実施例と同様である
が、光素子130とファイバ251との間の光学系の構
成が異なっている。第三実施例ではボールレンズ140に
より単レンズ光学系が構成されていたのに対して、第四
実施例ではボールレンズ140とフェルール242の先
端のプレーナレンズ260とにより擬似共焦点光学系が
構成されている。
あり、光コネクタプラグが接続された状態の光モジュー
ルの部分側面図である。第四実施例のパッケージ,レセ
プタクル等の基本的な構成は第三実施例と同様である
が、光素子130とファイバ251との間の光学系の構
成が異なっている。第三実施例ではボールレンズ140に
より単レンズ光学系が構成されていたのに対して、第四
実施例ではボールレンズ140とフェルール242の先
端のプレーナレンズ260とにより擬似共焦点光学系が
構成されている。
【0057】プレーナレンズ260は、ガラス基板を溶
融塩中でイオン交換することにより屈折率分布すなわち
レンズが形成されている。レンズ260の直径と配列ピ
ッチは250μm,焦点距離は600μmである。レン
ズ260は、ファイバ251の端面自身または端面から
の出射光の像を観察しながら位置合わせを行った後、フ
ァイバ251と屈折率が等しい樹脂によりフェルール2
42の端面に±3μmの精度で固定されている。
融塩中でイオン交換することにより屈折率分布すなわち
レンズが形成されている。レンズ260の直径と配列ピ
ッチは250μm,焦点距離は600μmである。レン
ズ260は、ファイバ251の端面自身または端面から
の出射光の像を観察しながら位置合わせを行った後、フ
ァイバ251と屈折率が等しい樹脂によりフェルール2
42の端面に±3μmの精度で固定されている。
【0058】第四実施例の擬似共焦点光学系では、光素
子130とボールレンズ140の主面との距離がボール
レンズ140の焦点距離にほぼ等しくなるように、光サ
ブアセンブリにおける配線基板110への光素子130
の搭載位置、溝120の長さ等が設定されている。ま
た、プレーナレンズ260の主面とファイバ251の端
面との光路長がプレーナレンズ260の焦点距離にほぼ
等しくなるように、ガラス基板の厚さが設定されてい
る。厚さの精度は±10μmである。レンズ260とフ
ァイバ251との位置ずれは光軸に平行な方向に関して
±10μm,垂直な方向に関して±4μmである。
子130とボールレンズ140の主面との距離がボール
レンズ140の焦点距離にほぼ等しくなるように、光サ
ブアセンブリにおける配線基板110への光素子130
の搭載位置、溝120の長さ等が設定されている。ま
た、プレーナレンズ260の主面とファイバ251の端
面との光路長がプレーナレンズ260の焦点距離にほぼ
等しくなるように、ガラス基板の厚さが設定されてい
る。厚さの精度は±10μmである。レンズ260とフ
ァイバ251との位置ずれは光軸に平行な方向に関して
±10μm,垂直な方向に関して±4μmである。
【0059】光素子130からの出射光はボールレンズ
140を経てほぼ平行光になり、パッケージ200の光
学窓210から出射され、プレーナレンズ260により
ファイバ251の端面にフォーカスされる。光学窓21
0のところでは、スポットサイズが40μm程度にまで
拡大されている。
140を経てほぼ平行光になり、パッケージ200の光
学窓210から出射され、プレーナレンズ260により
ファイバ251の端面にフォーカスされる。光学窓21
0のところでは、スポットサイズが40μm程度にまで
拡大されている。
【0060】第四実施例のモジュールでは、パッケージ
200の気密封止までの組立工程は第三実施例と同様で
ある。パッケージ200へのレセプタクル220のレー
ザ溶接工程では、第三実施例よりもスポットサイズが拡
大されているので、位置ずれに対するトレランスが大き
い。したがって、位置ずれによる過剰結合損失が低減さ
れ、光素子130とファイバ251との結合損失として
第三実施例よりもさらに低い4±0.5dB という値が
実現されている。
200の気密封止までの組立工程は第三実施例と同様で
ある。パッケージ200へのレセプタクル220のレー
ザ溶接工程では、第三実施例よりもスポットサイズが拡
大されているので、位置ずれに対するトレランスが大き
い。したがって、位置ずれによる過剰結合損失が低減さ
れ、光素子130とファイバ251との結合損失として
第三実施例よりもさらに低い4±0.5dB という値が
実現されている。
【0061】第四実施例によれば、第三実施例と同様に
パッケージ200の組立における光軸合わせが省略され
ている。第三実施例に比べてプレーナレンズ260自身
のコスト、プレーナレンズ260とプラグ240との組
立コストは増加しているが、プレーナレンズ260によ
りトレランスが拡大されるので、パッケージ200とレ
セプタクル220の組立における光軸合わせ作業を軽減
し、過剰結合損失を抑制することができる効果がある。
パッケージ200の組立における光軸合わせが省略され
ている。第三実施例に比べてプレーナレンズ260自身
のコスト、プレーナレンズ260とプラグ240との組
立コストは増加しているが、プレーナレンズ260によ
りトレランスが拡大されるので、パッケージ200とレ
セプタクル220の組立における光軸合わせ作業を軽減
し、過剰結合損失を抑制することができる効果がある。
【0062】図10は本発明による第五実施例を示す図
であり、光コネクタプラグが接続された状態の光モジュ
ールの部分側面図である。第五実施例のパッケージ,レ
セプタクル等の基本的な構成は第三実施例と同様である
が、光サブアセンブリの構成と、フェルール242の先
端にプレーナレンズ270を設けた点とが異なってい
る。
であり、光コネクタプラグが接続された状態の光モジュ
ールの部分側面図である。第五実施例のパッケージ,レ
セプタクル等の基本的な構成は第三実施例と同様である
が、光サブアセンブリの構成と、フェルール242の先
端にプレーナレンズ270を設けた点とが異なってい
る。
【0063】第五実施例の光サブアセンブリは、第2実
施例と同様に、面方位〈100〉のシリコン結晶から成
る配線基板310と、三つの〈111〉面から成り、配
線基板310の表面の所定位置から側面へ達する〈11
0〉方向の溝320と、所定位置の近傍に載置される光
素子330と、溝320に平行であり、〈111〉面に
より反射される光軸とを有している。
施例と同様に、面方位〈100〉のシリコン結晶から成
る配線基板310と、三つの〈111〉面から成り、配
線基板310の表面の所定位置から側面へ達する〈11
0〉方向の溝320と、所定位置の近傍に載置される光
素子330と、溝320に平行であり、〈111〉面に
より反射される光軸とを有している。
【0064】光素子330は、10個のホトダイオード
が250μmピッチでモノリシックに集積されたホトダ
イオードアレイから成る。光素子330に対応して、配
線基板310には10本の溝320が同じピッチで加工
されており、プレーナレンズ270には10個のレンズ
が形成されている。プレーナレンズ270の直径,配列
ピッチ、焦点距離は第四実施例のレンズ260と同様で
ある。
が250μmピッチでモノリシックに集積されたホトダ
イオードアレイから成る。光素子330に対応して、配
線基板310には10本の溝320が同じピッチで加工
されており、プレーナレンズ270には10個のレンズ
が形成されている。プレーナレンズ270の直径,配列
ピッチ、焦点距離は第四実施例のレンズ260と同様で
ある。
【0065】第五実施例の光学系では、ファイバ251
から光素子330への像倍率がほぼ2倍に等しくなるよ
うに、レンズ270のガラス基板の厚さ、光サブアセン
ブリの溝320の長さ等が設定されている。10本のフ
ァイバ251から出射された光は、それぞれレンズ27
0と光学窓210を経て光素子330の受光面にフォー
カスされ、半導体素子350に形成された集積回路によ
り電気信号に変換される。
から光素子330への像倍率がほぼ2倍に等しくなるよ
うに、レンズ270のガラス基板の厚さ、光サブアセン
ブリの溝320の長さ等が設定されている。10本のフ
ァイバ251から出射された光は、それぞれレンズ27
0と光学窓210を経て光素子330の受光面にフォー
カスされ、半導体素子350に形成された集積回路によ
り電気信号に変換される。
【0066】モジュールの組立は第三実施例とほぼ同様
に行われる。異なる点は、レンズ270が取り付けられ
たプラグ240をレセプタクル220に接続した状態
で、光素子330を動作させて受光パワーが最大になる
ようにレセプタクル220の位置を調節し、レセプタク
ル220をフレーム202にレーザ溶接することであ
る。レンズ270付きファイバ251と光サブアセンブ
リとの位置ずれは、光軸に平行な方向に関して±20μ
m、垂直な方向に関して±10μmである。ファイバ2
51と光素子330の結合損失は3±0.5dB という
低い値に抑えられている。
に行われる。異なる点は、レンズ270が取り付けられ
たプラグ240をレセプタクル220に接続した状態
で、光素子330を動作させて受光パワーが最大になる
ようにレセプタクル220の位置を調節し、レセプタク
ル220をフレーム202にレーザ溶接することであ
る。レンズ270付きファイバ251と光サブアセンブ
リとの位置ずれは、光軸に平行な方向に関して±20μ
m、垂直な方向に関して±10μmである。ファイバ2
51と光素子330の結合損失は3±0.5dB という
低い値に抑えられている。
【0067】第五実施例によれば、光検出素子を搭載し
たレセプタクル型受信モジュールを簡便な組立工程によ
り製作することができる。第三実施例または第四実施例
に示したような発光素子を搭載したレセプタクル型送信
モジュールと共通のパッケージ200やレセプタクル2
20が使用されており、部品コストが軽減される。受信
モジュールのサイズは送信モジュールと同じく小型であ
り、実装密度を向上することができる。
たレセプタクル型受信モジュールを簡便な組立工程によ
り製作することができる。第三実施例または第四実施例
に示したような発光素子を搭載したレセプタクル型送信
モジュールと共通のパッケージ200やレセプタクル2
20が使用されており、部品コストが軽減される。受信
モジュールのサイズは送信モジュールと同じく小型であ
り、実装密度を向上することができる。
【0068】なお、本実施例の効果は光サブアセンブリ
または光モジュールの構成により発揮されるものであっ
て、実施例に示した光素子や光学系の設計により制限を
受けるものではない。本発明は、レセプタクル型モジュ
ールを用いる光インタコネクションに限らず、光素子を
配線基板に搭載する光サブアセンブリ及びこれを用いた
光モジュールにおいて広く適用され得る。
または光モジュールの構成により発揮されるものであっ
て、実施例に示した光素子や光学系の設計により制限を
受けるものではない。本発明は、レセプタクル型モジュ
ールを用いる光インタコネクションに限らず、光素子を
配線基板に搭載する光サブアセンブリ及びこれを用いた
光モジュールにおいて広く適用され得る。
【0069】
【発明の効果】本発明によれば、光サブアセンブリ及び
レセプタクル型光送受信モジュールの光軸合わせを簡略
化し、組立コストを低減することができる。また、レセ
プタクル型モジュールは、ピグテイル型に比べて小型で
あり、ピグテイルファイバの敷設面積も不要であるか
ら、実装密度を向上することができる。したがって、本
発明の光サブアセンブリを搭載した送受信モジュールを
用いることにより、高密度かつ低コストの並列光インタ
コネクションを実現することができる。
レセプタクル型光送受信モジュールの光軸合わせを簡略
化し、組立コストを低減することができる。また、レセ
プタクル型モジュールは、ピグテイル型に比べて小型で
あり、ピグテイルファイバの敷設面積も不要であるか
ら、実装密度を向上することができる。したがって、本
発明の光サブアセンブリを搭載した送受信モジュールを
用いることにより、高密度かつ低コストの並列光インタ
コネクションを実現することができる。
【図1】本発明の第一実施例の光サブアセンブリの斜視
図。
図。
【図2】本発明の第一実施例の光サブアセンブリの部分
断面図。
断面図。
【図3】本発明の第二実施例の光サブアセンブリの斜視
図。
図。
【図4】本発明の第二実施例の光サブアセンブリの部分
断面図。
断面図。
【図5】本発明の第三実施例の光モジュールの上面図。
【図6】本発明の第三実施例の光モジュールの側面図。
【図7】本発明の第三実施例の光モジュールに接続され
る光ファイバコネクタプラグの斜視図。
る光ファイバコネクタプラグの斜視図。
【図8】光ファイバコネクタプラグが接続された状態の
本発明の第三実施例の光モジュールの部分側面図。
本発明の第三実施例の光モジュールの部分側面図。
【図9】光ファイバコネクタプラグが接続された状態の
本発明の第四実施例の光モジュールの部分側面図。
本発明の第四実施例の光モジュールの部分側面図。
【図10】光ファイバコネクタプラグが接続された状態
の本発明の第五実施例の光モジュールの部分側面図。
の本発明の第五実施例の光モジュールの部分側面図。
10…配線基板、11…表面、12…側面、13,14
…配線、20…溝、30…光素子、40…ボールレン
ズ、50…光軸。
…配線、20…溝、30…光素子、40…ボールレン
ズ、50…光軸。
Claims (8)
- 【請求項1】面方位〈100〉のシリコン結晶から成る
配線基板と、三つの〈111〉面から成り、前記配線基
板の表面の所定位置から側面へ達する〈110〉方向の
溝と、前記所定位置の近傍に載置される光素子と、前記
溝に平行な光軸とを有することを特徴とする光サブアセ
ンブリ。 - 【請求項2】請求項1において、前記三つの〈111〉
面に接するボールレンズを有する光サブアセンブリ。 - 【請求項3】請求項2において、端面発光型レーザダイ
オードから成り、前記配線基板へジャンクションダウン
形式により載置される光素子を有する光サブアセンブ
リ。 - 【請求項4】請求項1において、前記三つの〈111〉
面のうち一つの〈111〉面により反射される光軸を有
する光サブアセンブリ。 - 【請求項5】請求項4において、裏面入射型ホトダイオ
ードから成り、前記配線基板へジャンクションアップ形
式により載置される光素子を有する光サブアセンブリ。 - 【請求項6】光学窓を有するパッケージと、面方位〈1
00〉のシリコン結晶から成り、前記光学窓に側面を接
して前記パッケージに搭載される配線基板と、三つの
〈111〉面から成り、前記配線基板の表面の所定位置
から前記側面へ達する〈110〉方向の溝と、前記所定
位置の近傍に載置される光素子と、前記溝に平行な光軸
とを有することを特徴とする光モジュール。 - 【請求項7】請求項6において、前記光学窓の周辺の前
記パッケージの外面に堅固に固定され、前記光素子と光
ファイバとを結合する光ファイバコネクタレセプタクル
を有する光モジュール。 - 【請求項8】請求項7において、前記レセプタクルに接
続される光ファイバコネクタプラグの端面にプレーナレ
ンズを有する光モジュール。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6001107A JPH07199006A (ja) | 1994-01-11 | 1994-01-11 | 光サブアセンブリ及び光モジュール |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6001107A JPH07199006A (ja) | 1994-01-11 | 1994-01-11 | 光サブアセンブリ及び光モジュール |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07199006A true JPH07199006A (ja) | 1995-08-04 |
Family
ID=11492261
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6001107A Pending JPH07199006A (ja) | 1994-01-11 | 1994-01-11 | 光サブアセンブリ及び光モジュール |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07199006A (ja) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1136862A2 (en) * | 2000-02-28 | 2001-09-26 | Alps Electric Co., Ltd. | Optical semiconductor device provided with high numerical aperture lens |
JP2003303975A (ja) * | 2002-04-08 | 2003-10-24 | Opnext Japan Inc | モニタ用フォトダイオード付光モジュール。 |
US6683733B2 (en) | 2001-05-02 | 2004-01-27 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | Optical member with handling portion and method for manufacturing optical member and method for mounting optical member and optical module |
US6870990B2 (en) | 2002-06-11 | 2005-03-22 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | Optical device, optical device mounting method, and optical module |
US7021841B2 (en) | 2002-10-15 | 2006-04-04 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Optical receiver and method of producing the optical receiver |
JP2007073711A (ja) * | 2005-09-06 | 2007-03-22 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 気密封止パッケージおよび光サブモジュール |
JP2010073758A (ja) * | 2008-09-16 | 2010-04-02 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 半導体レーザモジュール |
JP2011040764A (ja) * | 1999-06-29 | 2011-02-24 | Kyocera Corp | 光モジュール及びその接続構造体 |
CN103003731A (zh) * | 2010-06-28 | 2013-03-27 | 英特尔公司 | 利用镜面化衬底的光接收器体系结构 |
WO2015046488A1 (ja) * | 2013-09-30 | 2015-04-02 | 京セラ株式会社 | 光コネクタ、光伝送モジュールおよび光コネクタ用プラグ |
JP2019192832A (ja) * | 2018-04-26 | 2019-10-31 | 株式会社デンソー | 光学装置およびその製造方法 |
-
1994
- 1994-01-11 JP JP6001107A patent/JPH07199006A/ja active Pending
Cited By (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011040764A (ja) * | 1999-06-29 | 2011-02-24 | Kyocera Corp | 光モジュール及びその接続構造体 |
EP1136862A3 (en) * | 2000-02-28 | 2004-06-23 | Alps Electric Co., Ltd. | Optical semiconductor device provided with high numerical aperture lens |
EP1136862A2 (en) * | 2000-02-28 | 2001-09-26 | Alps Electric Co., Ltd. | Optical semiconductor device provided with high numerical aperture lens |
US7102835B2 (en) | 2001-05-02 | 2006-09-05 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | Optical member with handling portion and method for manufacturing optical member and method for mounting optical member and optical module |
US6683733B2 (en) | 2001-05-02 | 2004-01-27 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | Optical member with handling portion and method for manufacturing optical member and method for mounting optical member and optical module |
US6798589B2 (en) | 2001-05-02 | 2004-09-28 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | Optical member with handling portion and method for manufacturing optical member and method for mounting optical member and optical module |
US7016127B2 (en) | 2001-05-02 | 2006-03-21 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | Optical member with handling portion and method for manufacturing optical member and method for mounting optical member and optical module |
JP2003303975A (ja) * | 2002-04-08 | 2003-10-24 | Opnext Japan Inc | モニタ用フォトダイオード付光モジュール。 |
CN100365452C (zh) * | 2002-06-11 | 2008-01-30 | 冲电气工业株式会社 | 光学元件、光学元件的安装方法和光模块 |
US6870990B2 (en) | 2002-06-11 | 2005-03-22 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | Optical device, optical device mounting method, and optical module |
US7021841B2 (en) | 2002-10-15 | 2006-04-04 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Optical receiver and method of producing the optical receiver |
JP2007073711A (ja) * | 2005-09-06 | 2007-03-22 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 気密封止パッケージおよび光サブモジュール |
JP2010073758A (ja) * | 2008-09-16 | 2010-04-02 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 半導体レーザモジュール |
KR101467166B1 (ko) * | 2010-06-28 | 2014-12-01 | 인텔 코포레이션 | 미러링된 기판을 사용한 광 수신기 아키텍처 |
JP2013533984A (ja) * | 2010-06-28 | 2013-08-29 | インテル コーポレイション | 鏡面基板を用いた光受信器アーキテクチャ |
CN103003731A (zh) * | 2010-06-28 | 2013-03-27 | 英特尔公司 | 利用镜面化衬底的光接收器体系结构 |
WO2015046488A1 (ja) * | 2013-09-30 | 2015-04-02 | 京セラ株式会社 | 光コネクタ、光伝送モジュールおよび光コネクタ用プラグ |
CN105556357A (zh) * | 2013-09-30 | 2016-05-04 | 京瓷株式会社 | 光连接器、光传输模块以及光连接器用插头 |
JPWO2015046488A1 (ja) * | 2013-09-30 | 2017-03-09 | 京セラ株式会社 | 光コネクタおよび光伝送モジュール |
US9720186B2 (en) | 2013-09-30 | 2017-08-01 | Kyocera Corporation | Optical connector, optical transmission module, and plug for optical connector |
CN105556357B (zh) * | 2013-09-30 | 2019-06-28 | 京瓷株式会社 | 光连接器、光传输模块以及光连接器用插头 |
JP2019192832A (ja) * | 2018-04-26 | 2019-10-31 | 株式会社デンソー | 光学装置およびその製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5854867A (en) | Optical module having lenses aligned on lens-positioning V-groove and fabrication method thereof | |
EP1151454B1 (en) | An optoelectronic assembly | |
US5883988A (en) | Optical module including a photoreception device | |
US5737467A (en) | Resin molded optical assembly | |
US20060239612A1 (en) | Flip-chip devices formed on photonic integrated circuit chips | |
US8233757B2 (en) | Wafer based optical chassis and associated methods | |
US6533471B2 (en) | Optical subassembly | |
US20100247043A1 (en) | Optical module and wavelength division multiplexing optical module | |
KR100302144B1 (ko) | 실리콘온인슐레이터 광도파로를 이용한 커넥터형 광트랜시버 | |
US7543999B2 (en) | Optical module hermetically packaged in micro-machined structures | |
JPH07199006A (ja) | 光サブアセンブリ及び光モジュール | |
EP0477842B1 (en) | Semiconducteur laser amplifier | |
JP3256489B2 (ja) | 光結合構造、光デバイス、それらの製造方法及び製造装置 | |
JP3795869B2 (ja) | 光モジュール | |
US6643420B2 (en) | Optical subassembly | |
US20050232547A1 (en) | Active optical alignment and attachment thereto of an optical component with an optical element formed on a planar lightwave circuit | |
JP2003520353A (ja) | マルチファイバアレー用光電子モジュール | |
KR100527160B1 (ko) | 양방향 광 모듈 팩키지 | |
JP3348122B2 (ja) | 光伝送モジュール及びその製造方法 | |
KR100583649B1 (ko) | 콜리메이팅 검출장치 및 이를 이용한 광모듈 패키징 장치 | |
US7021835B1 (en) | Alignment of optical components in an optical subassembly | |
US12038610B2 (en) | Wafer-level optoelectronic packaging | |
JPH10117043A (ja) | 発光素子 | |
JP2757350B2 (ja) | 光半導体モジュール | |
JP2757351B2 (ja) | 光半導体モジュール |