JPH07176103A - 光磁気記録再生システムならびにこれに用いる磁気ヘッド及び光磁気記録媒体 - Google Patents
光磁気記録再生システムならびにこれに用いる磁気ヘッド及び光磁気記録媒体Info
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- JPH07176103A JPH07176103A JP5320291A JP32029193A JPH07176103A JP H07176103 A JPH07176103 A JP H07176103A JP 5320291 A JP5320291 A JP 5320291A JP 32029193 A JP32029193 A JP 32029193A JP H07176103 A JPH07176103 A JP H07176103A
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- G11B11/10582—Record carriers characterised by the selection of the material or by the structure or form
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 光磁気記録再生システムにおける磁気ヘッド
と光磁気ディスクとの吸着の発生を抑制して、良好な磁
気ヘッド浮上走行性を確保し、良好なアクセスや情報の
良好な記録・再生・消去を可能ならしめる。 【構成】 光磁気ディスク１０の表面に形成した保護膜
１３に対し磁気ヘッド１４の底面を浮上走行させて光磁
気ディスク１０に対する情報の記録を行なう磁界変調方
式オーバーライト光磁気記録再生システムにおいて、中
心線平均山高さ（Ｒpm）で表された磁気ヘッド１４の底
面の表面粗さα及び光磁気ディスク１０の保護膜１３の
表面粗さβが０．１５≦（α＋β）≦１．０の関係式を
満たす。磁気ヘッド１４の底面の表面粗さが光磁気ディ
スク１０に対する相対的移動の方向に沿った方向性を有
する凹凸により形成されている。
と光磁気ディスクとの吸着の発生を抑制して、良好な磁
気ヘッド浮上走行性を確保し、良好なアクセスや情報の
良好な記録・再生・消去を可能ならしめる。 【構成】 光磁気ディスク１０の表面に形成した保護膜
１３に対し磁気ヘッド１４の底面を浮上走行させて光磁
気ディスク１０に対する情報の記録を行なう磁界変調方
式オーバーライト光磁気記録再生システムにおいて、中
心線平均山高さ（Ｒpm）で表された磁気ヘッド１４の底
面の表面粗さα及び光磁気ディスク１０の保護膜１３の
表面粗さβが０．１５≦（α＋β）≦１．０の関係式を
満たす。磁気ヘッド１４の底面の表面粗さが光磁気ディ
スク１０に対する相対的移動の方向に沿った方向性を有
する凹凸により形成されている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光ビーム更には磁界を
用いて記録媒体に対する情報の記録、再生及び／または
消去を行うことが可能な光磁気記録再生システム、なら
びにこれに用いる磁気ヘッド及び光磁気記録媒体に関す
るものである。
用いて記録媒体に対する情報の記録、再生及び／または
消去を行うことが可能な光磁気記録再生システム、なら
びにこれに用いる磁気ヘッド及び光磁気記録媒体に関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】記録媒体として光磁気ディスクを用いた
書き換え可能な光磁気記録再生システムが、記録密度が
高いこと、記録容量が大きいこと、記録媒体に可搬性が
あること等の利点のためにデータファイルシステム等に
利用されている。
書き換え可能な光磁気記録再生システムが、記録密度が
高いこと、記録容量が大きいこと、記録媒体に可搬性が
あること等の利点のためにデータファイルシステム等に
利用されている。
【０００３】従来のシステムでは、データ書き換えの際
には、先ず所望の書き換え部分に対しバイアス磁界を記
録時とは反対向きにして印加し且つ光を連続照射する第
１回目の走査を行って旧データを消去し、次に該旧デー
タ消去済の前記所望部分に対しバイアス磁界の向きを記
録の向きとし且つ光を照射する第２回目の走査を行って
新データを記録することがなされていた。しかし、この
様な方法では、アクセスにかなりの時間を要し、バイア
スコイルに大きな電力を要することになる。
には、先ず所望の書き換え部分に対しバイアス磁界を記
録時とは反対向きにして印加し且つ光を連続照射する第
１回目の走査を行って旧データを消去し、次に該旧デー
タ消去済の前記所望部分に対しバイアス磁界の向きを記
録の向きとし且つ光を照射する第２回目の走査を行って
新データを記録することがなされていた。しかし、この
様な方法では、アクセスにかなりの時間を要し、バイア
スコイルに大きな電力を要することになる。
【０００４】そこで、近年、磁界変調オーバーライト方
式及び光変調オーバーライト方式の２通りの重ね書き方
法が研究開発されている［例えば、信学技報ＭＲ８７−
６１、ｐｐ１９−２５（１９８７）］。
式及び光変調オーバーライト方式の２通りの重ね書き方
法が研究開発されている［例えば、信学技報ＭＲ８７−
６１、ｐｐ１９−２５（１９８７）］。
【０００５】磁界変調方式は、光磁気記録媒体の光入射
側とは反対の側に浮上磁気ヘッドを設け、レーザ照射し
ながら前記浮上磁気ヘッドによるバイアス磁界の向きを
高速で反転させてオーバーライトする方法であり、記録
ビットの大きさはレーザ光スポット径と浮上磁気ヘッド
の磁界反転時間とで決定される［例えば、特開昭６３−
２１７５４８号公報］。一方、光変調方式は、記録層を
２層に構成し、一層をバイアス層として用い、レーザ光
パワーの大きさで記録及び消去を行うものである。
側とは反対の側に浮上磁気ヘッドを設け、レーザ照射し
ながら前記浮上磁気ヘッドによるバイアス磁界の向きを
高速で反転させてオーバーライトする方法であり、記録
ビットの大きさはレーザ光スポット径と浮上磁気ヘッド
の磁界反転時間とで決定される［例えば、特開昭６３−
２１７５４８号公報］。一方、光変調方式は、記録層を
２層に構成し、一層をバイアス層として用い、レーザ光
パワーの大きさで記録及び消去を行うものである。
【０００６】本発明は、前者の磁界変調方式に関連する
ものである。磁界変調方式においては、Ｍｎ−Ｚｎフェ
ライト等のフェライト材料を用いてなる浮上磁気ヘッド
を、光入射側の光ヘッド部と同期させて動作させるた
め、浮上機構は可能な限り簡素化され重量の低減がはか
られる。そして、アクセス及び記録再生のために、磁気
ヘッドを光磁気ディスクの表面に対し接触させ停止させ
た状態から、光磁気ディスクを回転させて磁気ヘッドを
浮上走行させ、次いで光磁気ディスクの回転を停止させ
磁気ヘッドを光磁気ディスクの表面に対し接触状態とな
す一連の動作、即ちＣＳＳ（Ｃｏｎｔａｃｔ Ｓｔａｒ
ｔ Ｓｔｏｐ）方式が主として採用されている。このＣ
ＳＳでの接触による耐久性を向上させるため、光磁気デ
ィスクの磁性薄膜上に紫外線硬化型樹脂をスピンコート
して保護膜が形成されている。
ものである。磁界変調方式においては、Ｍｎ−Ｚｎフェ
ライト等のフェライト材料を用いてなる浮上磁気ヘッド
を、光入射側の光ヘッド部と同期させて動作させるた
め、浮上機構は可能な限り簡素化され重量の低減がはか
られる。そして、アクセス及び記録再生のために、磁気
ヘッドを光磁気ディスクの表面に対し接触させ停止させ
た状態から、光磁気ディスクを回転させて磁気ヘッドを
浮上走行させ、次いで光磁気ディスクの回転を停止させ
磁気ヘッドを光磁気ディスクの表面に対し接触状態とな
す一連の動作、即ちＣＳＳ（Ｃｏｎｔａｃｔ Ｓｔａｒ
ｔ Ｓｔｏｐ）方式が主として採用されている。このＣ
ＳＳでの接触による耐久性を向上させるため、光磁気デ
ィスクの磁性薄膜上に紫外線硬化型樹脂をスピンコート
して保護膜が形成されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、以上の
様な光磁気ディスクを用いた記録再生システムでは、Ｃ
ＳＳの際に磁気ヘッドの表面と光磁気ディスク保護膜の
表面とが平面どうしで接触するため、しばしば磁気ヘッ
ドが光磁気ディスクに吸着し、良好なアクセスや情報の
良好な記録・再生・消去が阻害されるという技術的課題
があった。
様な光磁気ディスクを用いた記録再生システムでは、Ｃ
ＳＳの際に磁気ヘッドの表面と光磁気ディスク保護膜の
表面とが平面どうしで接触するため、しばしば磁気ヘッ
ドが光磁気ディスクに吸着し、良好なアクセスや情報の
良好な記録・再生・消去が阻害されるという技術的課題
があった。
【０００８】本発明は、この様な課題に鑑み、光磁気記
録再生システムにおける磁気ヘッドと光磁気記録媒体と
の吸着の発生を抑制して、良好な磁気ヘッド浮上走行性
を確保し、良好なアクセスや情報の良好な記録・再生・
消去を可能ならしめることを目的とするものである。
録再生システムにおける磁気ヘッドと光磁気記録媒体と
の吸着の発生を抑制して、良好な磁気ヘッド浮上走行性
を確保し、良好なアクセスや情報の良好な記録・再生・
消去を可能ならしめることを目的とするものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、以上の
如き目的を達成するものとして、光磁気記録媒体の表面
に形成した保護膜に対し磁気ヘッドの底面を浮上走行さ
せて前記光磁気記録媒体に対する情報の記録を行なう磁
界変調方式オーバーライト光磁気記録再生システムにお
いて、中心線平均山高さ（Ｒpm）で表された前記磁気ヘ
ッドの底面の表面粗さα及び前記光磁気記録媒体の保護
膜の表面粗さβが０．１５≦（α＋β）≦１．０の関係
式を満たすことを特徴とする光磁気記録再生システム、
が提供される。
如き目的を達成するものとして、光磁気記録媒体の表面
に形成した保護膜に対し磁気ヘッドの底面を浮上走行さ
せて前記光磁気記録媒体に対する情報の記録を行なう磁
界変調方式オーバーライト光磁気記録再生システムにお
いて、中心線平均山高さ（Ｒpm）で表された前記磁気ヘ
ッドの底面の表面粗さα及び前記光磁気記録媒体の保護
膜の表面粗さβが０．１５≦（α＋β）≦１．０の関係
式を満たすことを特徴とする光磁気記録再生システム、
が提供される。
【００１０】本発明の一態様においては、ＣＳＳ方式を
採用してなる。更に、本発明の一態様においては、前記
磁気ヘッドの底面の表面粗さが前記光磁気記録媒体に対
する相対的移動の方向に沿った方向性を有する凹凸によ
り形成されている。
採用してなる。更に、本発明の一態様においては、前記
磁気ヘッドの底面の表面粗さが前記光磁気記録媒体に対
する相対的移動の方向に沿った方向性を有する凹凸によ
り形成されている。
【００１１】また、本発明によれば、以上の如き目的を
達成するものとして、光磁気記録媒体の表面に形成した
保護膜に対し磁気ヘッドの底面を浮上走行させて前記光
磁気記録媒体に対する情報の記録を行なう磁界変調方式
オーバーライト光磁気記録再生システムで使用される磁
気ヘッドであって、中心線平均山高さ（Ｒpm）で表され
た底面の表面粗さαが０．０３≦α≦０．２５の関係式
を満たすことを特徴とする磁気ヘッド、が提供される。
達成するものとして、光磁気記録媒体の表面に形成した
保護膜に対し磁気ヘッドの底面を浮上走行させて前記光
磁気記録媒体に対する情報の記録を行なう磁界変調方式
オーバーライト光磁気記録再生システムで使用される磁
気ヘッドであって、中心線平均山高さ（Ｒpm）で表され
た底面の表面粗さαが０．０３≦α≦０．２５の関係式
を満たすことを特徴とする磁気ヘッド、が提供される。
【００１２】更に、本発明によれば、以上の如き目的を
達成するものとして、光磁気記録媒体の表面に形成した
保護膜に対し磁気ヘッドの底面を浮上走行させて前記光
磁気記録媒体に対する情報の記録を行なう磁界変調方式
オーバーライト光磁気記録再生システムで使用される光
磁気記録媒体であって、中心線平均山高さ（Ｒpm）で表
された保護膜の表面粗さβが０．１≦β≦０．８５の関
係式を満たすことを特徴とする光磁気記録媒体、が提供
される。
達成するものとして、光磁気記録媒体の表面に形成した
保護膜に対し磁気ヘッドの底面を浮上走行させて前記光
磁気記録媒体に対する情報の記録を行なう磁界変調方式
オーバーライト光磁気記録再生システムで使用される光
磁気記録媒体であって、中心線平均山高さ（Ｒpm）で表
された保護膜の表面粗さβが０．１≦β≦０．８５の関
係式を満たすことを特徴とする光磁気記録媒体、が提供
される。
【００１３】
【実施例】以下、図面を参照しながら本発明の具体的実
施例を説明する。
施例を説明する。
【００１４】図１は、本発明の磁界変調方式オーバーラ
イト光磁気記録再生システムにおける記録の様子を示す
図である。図１に示すように、光磁気ディスク１０をは
さんで、浮上磁気ヘッド１４と光ヘッド１５とが対向配
置されている。１６はこれら浮上磁気ヘッド１４と光ヘ
ッド１５との支持部材である。
イト光磁気記録再生システムにおける記録の様子を示す
図である。図１に示すように、光磁気ディスク１０をは
さんで、浮上磁気ヘッド１４と光ヘッド１５とが対向配
置されている。１６はこれら浮上磁気ヘッド１４と光ヘ
ッド１５との支持部材である。
【００１５】光磁気ディスク１０は、プリフォーマット
信号及び案内溝を形成した透明樹脂基板１１の片面に、
スパッタにより形成されたＳｉ3 Ｎ4 等の無機保護膜と
ＴｂＦｅＣｏ等の磁性膜と更にＳｉ3 Ｎ4 等の無機保護
膜とを順に形成してなる記録部薄膜層１２が形成されて
おり、更に、その上に有機保護膜１３が形成されてい
る。
信号及び案内溝を形成した透明樹脂基板１１の片面に、
スパッタにより形成されたＳｉ3 Ｎ4 等の無機保護膜と
ＴｂＦｅＣｏ等の磁性膜と更にＳｉ3 Ｎ4 等の無機保護
膜とを順に形成してなる記録部薄膜層１２が形成されて
おり、更に、その上に有機保護膜１３が形成されてい
る。
【００１６】この保護膜１３は、例えば以下に示す作製
法で得ることができる。
法で得ることができる。
【００１７】保護膜作製方法Ａ：エポキシアクリレート
系紫外線硬化型樹脂に所望粒径のアルミナフィラーを２
５ｗｔ％配合した樹脂を記録部薄膜層１２上にスピンコ
ートした後、紫外線ランプ（２００ｍＷ／ｃｍ2 ）を１
０秒間照射して該樹脂を硬化させる。
系紫外線硬化型樹脂に所望粒径のアルミナフィラーを２
５ｗｔ％配合した樹脂を記録部薄膜層１２上にスピンコ
ートした後、紫外線ランプ（２００ｍＷ／ｃｍ2 ）を１
０秒間照射して該樹脂を硬化させる。
【００１８】保護膜作製方法Ｂ：ウレタンアクリレート
系紫外線硬化型樹脂を記録部薄膜層１２上にスピンコー
トした後、上から所望表面粗さのポリエステルフィルム
を押し当て、その状態を保持したままポリエステルフィ
ルム上から紫外線ランプ（２３０ｍＷ／ｃｍ2 ）を３０
秒間照射して該樹脂を硬化させ、次にポリエステルフィ
ルムを除去する。
系紫外線硬化型樹脂を記録部薄膜層１２上にスピンコー
トした後、上から所望表面粗さのポリエステルフィルム
を押し当て、その状態を保持したままポリエステルフィ
ルム上から紫外線ランプ（２３０ｍＷ／ｃｍ2 ）を３０
秒間照射して該樹脂を硬化させ、次にポリエステルフィ
ルムを除去する。
【００１９】保護膜作製方法Ｃ：導電性チタンウィスカ
ーを２０ｗｔ％配合した２液熱硬化型ウレタン系樹脂を
所望表面粗さのポリエステルフィルム上に塗布し硬化後
更に該ウレタン系硬化型樹脂上に粘着剤を塗布し加熱乾
燥させたものであるＨＡＣ６００１［リンテック（株）
製］を、記録部薄膜層１２上に貼り合わせる。尚、硬化
型樹脂層の厚さは５μｍ、粘着剤層の厚さは２μｍであ
る。また、記録部薄膜層１２上に貼り合わせを行った後
に、上記ポリエステルフィルムを剥離する。
ーを２０ｗｔ％配合した２液熱硬化型ウレタン系樹脂を
所望表面粗さのポリエステルフィルム上に塗布し硬化後
更に該ウレタン系硬化型樹脂上に粘着剤を塗布し加熱乾
燥させたものであるＨＡＣ６００１［リンテック（株）
製］を、記録部薄膜層１２上に貼り合わせる。尚、硬化
型樹脂層の厚さは５μｍ、粘着剤層の厚さは２μｍであ
る。また、記録部薄膜層１２上に貼り合わせを行った後
に、上記ポリエステルフィルムを剥離する。
【００２０】また、上記磁気ヘッド１４は、例えば次の
様な作製法で得ることができる。即ち、Ｍｎ−Ｚｎフェ
ライトを所定の形状に加工後、底面をヘッド走行方向に
沿って所望粗さのラッピングテープでラッピングを行
い、底面を所望の表面粗さにする。この様にヘッド走行
方向に沿った方向性の凹凸により表面粗さを形成するこ
とにより、得られる磁気ヘッドは一層安定した浮上走行
が可能となる。
様な作製法で得ることができる。即ち、Ｍｎ−Ｚｎフェ
ライトを所定の形状に加工後、底面をヘッド走行方向に
沿って所望粗さのラッピングテープでラッピングを行
い、底面を所望の表面粗さにする。この様にヘッド走行
方向に沿った方向性の凹凸により表面粗さを形成するこ
とにより、得られる磁気ヘッドは一層安定した浮上走行
が可能となる。
【００２１】上記保護膜作製方法Ａで使用するアルミナ
フィラーの粒径を種々変化させ、上記保護膜作製方法Ｂ
で使用するポリエステルフィルムの表面粗さを種々変化
させ、上記保護膜作製方法Ｃで使用するポリエステルフ
ィルムの表面粗さを種々変化させ、あるいは、上記磁気
ヘッド作製方法で使用するラッピングテープの表面粗さ
を種々変化させて、作製した光磁気ディスク保護膜１３
及び磁気ヘッド１４の組み合わせを用いて、ＣＳＳテス
ト（回転数３０００ｒｐｍ）を２５℃、６０％ＲＨの条
件下で行った。その結果を表１に示す。尚、表面粗さ
は、中心線平均山高さ（Ｒpm）で表され、その測定はラ
ンクホーラーホブソン社製の表面粗さ計タリステップを
用いて行った。
フィラーの粒径を種々変化させ、上記保護膜作製方法Ｂ
で使用するポリエステルフィルムの表面粗さを種々変化
させ、上記保護膜作製方法Ｃで使用するポリエステルフ
ィルムの表面粗さを種々変化させ、あるいは、上記磁気
ヘッド作製方法で使用するラッピングテープの表面粗さ
を種々変化させて、作製した光磁気ディスク保護膜１３
及び磁気ヘッド１４の組み合わせを用いて、ＣＳＳテス
ト（回転数３０００ｒｐｍ）を２５℃、６０％ＲＨの条
件下で行った。その結果を表１に示す。尚、表面粗さ
は、中心線平均山高さ（Ｒpm）で表され、その測定はラ
ンクホーラーホブソン社製の表面粗さ計タリステップを
用いて行った。
【００２２】
【表１】 尚、表１のＣＳＳテスト評価結果の浮上性の評価の欄に
おいて、○はヘッドが安定浮上する状態を示し、×はヘ
ッドが安定浮上しない状態を示す。
おいて、○はヘッドが安定浮上する状態を示し、×はヘ
ッドが安定浮上しない状態を示す。
【００２３】以上の様に、（α＋β）が本発明の範囲内
である実施例１〜５では、保護膜と浮上磁気ヘッドとの
間の吸着の発生はなく、且つ浮上中の浮上距離は１．５
〜１．８μｍと安定していた。これに対し、（α＋β）
が本発明の範囲外である比較例１〜５では、（α＋β）
が小さすぎると吸着が発生することがあり、（α＋β）
が大きすぎると浮上特性が劣化してヘッドクラッシュを
ひきおこすことがあり、安定した記録再生ができなかっ
た。
である実施例１〜５では、保護膜と浮上磁気ヘッドとの
間の吸着の発生はなく、且つ浮上中の浮上距離は１．５
〜１．８μｍと安定していた。これに対し、（α＋β）
が本発明の範囲外である比較例１〜５では、（α＋β）
が小さすぎると吸着が発生することがあり、（α＋β）
が大きすぎると浮上特性が劣化してヘッドクラッシュを
ひきおこすことがあり、安定した記録再生ができなかっ
た。
【００２４】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、磁気ヘッドの浮上特性に優れ且つ該ヘッドと
光磁気記録媒体との吸着発生を防ぐことができ、低摩擦
により少ない駆動電力で良好な浮上走行性を得ることが
できる。
によれば、磁気ヘッドの浮上特性に優れ且つ該ヘッドと
光磁気記録媒体との吸着発生を防ぐことができ、低摩擦
により少ない駆動電力で良好な浮上走行性を得ることが
できる。
【図１】本発明の磁界変調方式オーバーライト光磁気記
録再生システムにおける記録の様子を示す図である。
録再生システムにおける記録の様子を示す図である。
１０ 光磁気ディスク １１ 透明基板 １２ 記録部薄膜層 １３ 保護膜 １４ 浮上磁気ヘッド １５ 光ヘッド １６ 支持部材
Claims (5)
- 【請求項１】 光磁気記録媒体の表面に形成した保護膜
に対し磁気ヘッドの底面を浮上走行させて前記光磁気記
録媒体に対する情報の記録を行なう磁界変調方式オーバ
ーライト光磁気記録再生システムにおいて、 中心線平均山高さ（Ｒpm）で表された前記磁気ヘッドの
底面の表面粗さα及び前記光磁気記録媒体の保護膜の表
面粗さβが０．１５≦（α＋β）≦１．０の関係式を満
たすことを特徴とする光磁気記録再生システム。 - 【請求項２】 ＣＳＳ方式を採用してなることを特徴と
する、請求項１に記載の光磁気記録再生システム。 - 【請求項３】 前記磁気ヘッドの底面の表面粗さが前記
光磁気記録媒体に対する相対的移動の方向に沿った方向
性を有する凹凸により形成されていることを特徴とす
る、請求項１または２に記載の光磁気記録再生システ
ム。 - 【請求項４】 光磁気記録媒体の表面に形成した保護膜
に対し磁気ヘッドの底面を浮上走行させて前記光磁気記
録媒体に対する情報の記録を行なう磁界変調方式オーバ
ーライト光磁気記録再生システムで使用される磁気ヘッ
ドであって、中心線平均山高さ（Ｒpm）で表された底面
の表面粗さαが０．０３≦α≦０．２５の関係式を満た
すことを特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項５】 光磁気記録媒体の表面に形成した保護膜
に対し磁気ヘッドの底面を浮上走行させて前記光磁気記
録媒体に対する情報の記録を行なう磁界変調方式オーバ
ーライト光磁気記録再生システムで使用される光磁気記
録媒体であって、中心線平均山高さ（Ｒpm）で表された
保護膜の表面粗さβが０．１≦β≦０．８５の関係式を
満たすことを特徴とする光磁気記録媒体。
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| JP5320291A JPH07176103A (ja) | 1993-12-20 | 1993-12-20 | 光磁気記録再生システムならびにこれに用いる磁気ヘッド及び光磁気記録媒体 |
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| JP5320291A JPH07176103A (ja) | 1993-12-20 | 1993-12-20 | 光磁気記録再生システムならびにこれに用いる磁気ヘッド及び光磁気記録媒体 |
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