JPH07142673A - 集積回路装置 - Google Patents
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- JPH07142673A JPH07142673A JP5284801A JP28480193A JPH07142673A JP H07142673 A JPH07142673 A JP H07142673A JP 5284801 A JP5284801 A JP 5284801A JP 28480193 A JP28480193 A JP 28480193A JP H07142673 A JPH07142673 A JP H07142673A
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- circuit device
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ディジタルコンピュータの処理速度の高速化
と、内部メモリーの大容量化に対応できる集積回路装置
を提供する。 【構成】 フィルムキャリア2b上にメモリーICのベ
アチップ2aを有し、かつ、このフィルムキャリア2b
のどちらか一方にアウターリード2cを備え、正方形形
状の集積回路基板上に設けたアウターリードパッド1c
に電気的に接続する。また、この集積回路基板1は、そ
のエッジ近辺に端子パッド1bが設けられている。この
構成により、処理速度の高速化と、内部メモリーの大容
量化に対応できる。
と、内部メモリーの大容量化に対応できる集積回路装置
を提供する。 【構成】 フィルムキャリア2b上にメモリーICのベ
アチップ2aを有し、かつ、このフィルムキャリア2b
のどちらか一方にアウターリード2cを備え、正方形形
状の集積回路基板上に設けたアウターリードパッド1c
に電気的に接続する。また、この集積回路基板1は、そ
のエッジ近辺に端子パッド1bが設けられている。この
構成により、処理速度の高速化と、内部メモリーの大容
量化に対応できる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばワークステーシ
ョン、パーソナルコンピュータなどのディジタルコンピ
ュータで用いる内部メモリー回路を、モノリシック構造
のメモリーICと、それを実装する基板とリードフレー
ム端子とで構成した集積回路装置に関するものである。
ョン、パーソナルコンピュータなどのディジタルコンピ
ュータで用いる内部メモリー回路を、モノリシック構造
のメモリーICと、それを実装する基板とリードフレー
ム端子とで構成した集積回路装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の内部メモリー回路はプリ
ント基板にメモリーICを半田付け実装したものが使わ
れる。
ント基板にメモリーICを半田付け実装したものが使わ
れる。
【0003】以下、図面を参照しながらディジタルコン
ピュータで用いる従来の内部メモリー回路について説明
する。
ピュータで用いる従来の内部メモリー回路について説明
する。
【0004】図11は、従来の内部メモリー回路の回路
図を示すものである。図11において、11−1〜11
−4はメモリーICであり、12はアドレスバスであ
り、13はデータバスであり、メモリーIC11−1〜
11−4は記憶保持動作が必要なDRAM(ダイナミッ
ク・ランダム・アクセス・メモリ)のICであり、/R
AS(ロウ・アドレス・ストローブ)信号と/CAS
(カラム・アドレス・ストローブ)信号を各々のメモリ
ーICに入力することで、アクセスするメモリーICを
選択するようにしており、そのアクセスは/WE(ライ
ト・イネーブル)信号を入力するとデータを書込み、/
OE(アウトプット・イネーブル)信号を入力するとデ
ータを読出す様にしている。
図を示すものである。図11において、11−1〜11
−4はメモリーICであり、12はアドレスバスであ
り、13はデータバスであり、メモリーIC11−1〜
11−4は記憶保持動作が必要なDRAM(ダイナミッ
ク・ランダム・アクセス・メモリ)のICであり、/R
AS(ロウ・アドレス・ストローブ)信号と/CAS
(カラム・アドレス・ストローブ)信号を各々のメモリ
ーICに入力することで、アクセスするメモリーICを
選択するようにしており、そのアクセスは/WE(ライ
ト・イネーブル)信号を入力するとデータを書込み、/
OE(アウトプット・イネーブル)信号を入力するとデ
ータを読出す様にしている。
【0005】図12は、図11に示した従来の内部メモ
リー回路をプリント基板にメモリーICを半田付け実装
した斜視図を示すものである。
リー回路をプリント基板にメモリーICを半田付け実装
した斜視図を示すものである。
【0006】図12において、14はプリント基板であ
り、プリント基板14はガラス織布をエポキシ樹脂に含
浸させた基材と、その基材の表裏両面をアドレスバス1
2やデータバス13などの信号配線を主に布線し、電源
ラインと接地ラインの配線を各々内挿した4層の銅張り
積層板である。メモリーICはモノリシック構造のベア
ICチップをリードフレームにダイボンディングおよび
ワイヤーボンディングし、樹脂材料で封止したパッケー
ジになっており、前記リードフレームのリード端子によ
って封止樹脂の外と電気的接続が可能になっている。
り、プリント基板14はガラス織布をエポキシ樹脂に含
浸させた基材と、その基材の表裏両面をアドレスバス1
2やデータバス13などの信号配線を主に布線し、電源
ラインと接地ラインの配線を各々内挿した4層の銅張り
積層板である。メモリーICはモノリシック構造のベア
ICチップをリードフレームにダイボンディングおよび
ワイヤーボンディングし、樹脂材料で封止したパッケー
ジになっており、前記リードフレームのリード端子によ
って封止樹脂の外と電気的接続が可能になっている。
【0007】メモリーIC11−1〜11−4のリード
端子は、プリント基板14の表面の信号配線に半田付け
によって接続され、内部メモリー回路を構成している。
端子は、プリント基板14の表面の信号配線に半田付け
によって接続され、内部メモリー回路を構成している。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】ディジタルコンピュー
タの基本性能である処理速度を上げる方法の一つとし
て、システムのクロック周波数を高速にするとともに、
内部メモリー回路の記憶容量を大容量にする方法があ
る。
タの基本性能である処理速度を上げる方法の一つとし
て、システムのクロック周波数を高速にするとともに、
内部メモリー回路の記憶容量を大容量にする方法があ
る。
【0009】以下、図12によって記憶容量を大容量に
する方法について説明する。内部メモリー回路の記憶容
量を大容量にするためには、記憶容量に応じた多数のメ
モリーIC11−1〜11−4をプリント基板14に実
装しなければならない。その際、従来から行われている
ようなプリント基板14にメモリーIC11−1〜11
−4を平面実装すると、配線の終端までの配線長が長く
なり、以下のような問題点が生ずる。 (1)配線長が長くなると配線インピーダンスが大きく
なり、信号の伝搬特性が劣化するために高速処理が困難
になる。 (2)配線長が長くなると配線の終端で信号の反射が起
こり、配線を伝搬中の信号波形を変形させる。
する方法について説明する。内部メモリー回路の記憶容
量を大容量にするためには、記憶容量に応じた多数のメ
モリーIC11−1〜11−4をプリント基板14に実
装しなければならない。その際、従来から行われている
ようなプリント基板14にメモリーIC11−1〜11
−4を平面実装すると、配線の終端までの配線長が長く
なり、以下のような問題点が生ずる。 (1)配線長が長くなると配線インピーダンスが大きく
なり、信号の伝搬特性が劣化するために高速処理が困難
になる。 (2)配線長が長くなると配線の終端で信号の反射が起
こり、配線を伝搬中の信号波形を変形させる。
【0010】配線の終端で起こる信号の反射の影響によ
って、配線の終端に実装したメモリーIC11−4に入
力される信号波形と、始端近辺に実装したメモリーIC
11−1に入力される信号波形では、メモリーIC11
−1に入力される信号波形が配線終端のインピーダンス
の不整合による反射によって変形し、メモリーIC11
−1とメモリーIC11−4のアクセスのタイミングが
異なるため大幅なタイミングマージンが必要になり、高
速処理ができなくなる。 (3)記憶容量を大容量にするために多数のメモリーI
C11をプリント基板14に平面実装するためにプリン
ト基板の面積が広くなるとともに4層の銅張り積層板を
用いたプリント基板は高価なため、ディジタルコンピュ
ータの記憶容量を上げると装置の大型化とコストの上昇
を招く。
って、配線の終端に実装したメモリーIC11−4に入
力される信号波形と、始端近辺に実装したメモリーIC
11−1に入力される信号波形では、メモリーIC11
−1に入力される信号波形が配線終端のインピーダンス
の不整合による反射によって変形し、メモリーIC11
−1とメモリーIC11−4のアクセスのタイミングが
異なるため大幅なタイミングマージンが必要になり、高
速処理ができなくなる。 (3)記憶容量を大容量にするために多数のメモリーI
C11をプリント基板14に平面実装するためにプリン
ト基板の面積が広くなるとともに4層の銅張り積層板を
用いたプリント基板は高価なため、ディジタルコンピュ
ータの記憶容量を上げると装置の大型化とコストの上昇
を招く。
【0011】このような課題があるため、ディジタルコ
ンピュータの処理速度を上げることが困難であった。
ンピュータの処理速度を上げることが困難であった。
【0012】本発明はこのような課題を解決するもの
で、処理速度を向上させることを目的とするものであ
る。
で、処理速度を向上させることを目的とするものであ
る。
【0013】
【課題を解決するための手段】このような課題を解決す
るために本発明は、フィルムキャリア上にメモリーIC
のベアチップを有し、かつフィルムキャリアのどちらか
一方にこのベアチップと電気的に接続されたアウターリ
ードとを備えたTABパッケージと、角型形状の基板
と、この基板のエッジ近辺の表面に配設した端子パッド
と、この端子パッドの基板の中心側に配設しかつ電気的
に接続したアウターリードパッドを構成したものであ
る。
るために本発明は、フィルムキャリア上にメモリーIC
のベアチップを有し、かつフィルムキャリアのどちらか
一方にこのベアチップと電気的に接続されたアウターリ
ードとを備えたTABパッケージと、角型形状の基板
と、この基板のエッジ近辺の表面に配設した端子パッド
と、この端子パッドの基板の中心側に配設しかつ電気的
に接続したアウターリードパッドを構成したものであ
る。
【0014】
【作用】この構成により多階層化したモジュールをプリ
ント基板に実装することで、メモリーICを平面実装か
ら3次元実装化することでプリント基板の配線長を短く
でき、配線を伝搬中の信号波形の変形を最小限に押さえ
られるものである。
ント基板に実装することで、メモリーICを平面実装か
ら3次元実装化することでプリント基板の配線長を短く
でき、配線を伝搬中の信号波形の変形を最小限に押さえ
られるものである。
【0015】
【実施例】以下、本発明の一実施例について図面を参照
して説明する。
して説明する。
【0016】図1は本発明の一実施例におけるベアチッ
プをフィルムキャリアに実装した集積回路基板の表面側
の組み立て斜視図である。図1において、2はTABパ
ッケージで、略長方形状フィルムキャリア2b上にメモ
リーICのベアチップ2aを有し、かつフィルムキャリ
ア2bの長辺側のどちらか一方にアウターリード2cを
備えている。ここで、TABパッケージ2のベアチップ
2aとアウターリード2cとは、フィルムキャリア2b
に形成したインナーリード(図示せず)により、電気的
に接続されている。
プをフィルムキャリアに実装した集積回路基板の表面側
の組み立て斜視図である。図1において、2はTABパ
ッケージで、略長方形状フィルムキャリア2b上にメモ
リーICのベアチップ2aを有し、かつフィルムキャリ
ア2bの長辺側のどちらか一方にアウターリード2cを
備えている。ここで、TABパッケージ2のベアチップ
2aとアウターリード2cとは、フィルムキャリア2b
に形成したインナーリード(図示せず)により、電気的
に接続されている。
【0017】1は略角型形状の集積回路用の基板(以
下、「集積回路基板」と記す。)で、この集積回路基板
1の4辺の集積回路基板エッジ近辺の表面に平行に配設
した短冊状の外部接続用の端子パッド1bと、この端子
パッド1bより集積回路基板1の内側に各々配設しTA
Bパッケージ2のアウターリード2cとを電気的に接続
するアウターリードパッド1cである。ここで、集積回
路基板1上に平行に配設した端子パッド1bとアウター
リードパッド1cは、集積回路基板1に付設した配線パ
ターン(図示せず)により選択的に接続されている。集
積回路基板1上に設けられた各々のTABパッケージ2
は、アウターリード2cを集積回路基板1のエッジ方向
とベアチップ2aを集積回路基板1の内側方向にして、
TABパッケージ2のアウターリード2cとアウターリ
ードパッド1cを各々実装接続する。その際、各々のT
ABパッケージ2に対向して実装接続する2つのTAB
パッケージ2は、これに直交して実装接続する他の2つ
のTABパッケージ2の上に積み重ねて実装接続してい
る。
下、「集積回路基板」と記す。)で、この集積回路基板
1の4辺の集積回路基板エッジ近辺の表面に平行に配設
した短冊状の外部接続用の端子パッド1bと、この端子
パッド1bより集積回路基板1の内側に各々配設しTA
Bパッケージ2のアウターリード2cとを電気的に接続
するアウターリードパッド1cである。ここで、集積回
路基板1上に平行に配設した端子パッド1bとアウター
リードパッド1cは、集積回路基板1に付設した配線パ
ターン(図示せず)により選択的に接続されている。集
積回路基板1上に設けられた各々のTABパッケージ2
は、アウターリード2cを集積回路基板1のエッジ方向
とベアチップ2aを集積回路基板1の内側方向にして、
TABパッケージ2のアウターリード2cとアウターリ
ードパッド1cを各々実装接続する。その際、各々のT
ABパッケージ2に対向して実装接続する2つのTAB
パッケージ2は、これに直交して実装接続する他の2つ
のTABパッケージ2の上に積み重ねて実装接続してい
る。
【0018】図2は、図1のベアチップをフィルムキャ
リアに実装した集積回路基板の表面に面実装型コンデン
サを実装した斜視図である。図2において、3は面実装
型のコンデンサ(以下、「チップコンデンサ」と記
す。)で、集積回路基板1上の各々アウターリードパッ
ド1c間に、つまり、TABパッケージ2の空領域に実
装し、チップに供給される電源のリップル、サージ等の
ノイズ低減のためにする。
リアに実装した集積回路基板の表面に面実装型コンデン
サを実装した斜視図である。図2において、3は面実装
型のコンデンサ(以下、「チップコンデンサ」と記
す。)で、集積回路基板1上の各々アウターリードパッ
ド1c間に、つまり、TABパッケージ2の空領域に実
装し、チップに供給される電源のリップル、サージ等の
ノイズ低減のためにする。
【0019】図3は本発明の一実施例におけるベアチッ
プをフィルムキャリアに実装した集積回路基板の裏面側
の組み立て斜視図である。図3において、2はTABパ
ッケージで、略長方形状フィルムキャリア2b上にメモ
リーICのベアチップ2aを有し、フィルムキャリア2
bの長辺側の一方にアウターリード2cを備えている。
ここで、TABパッケージ2のベアチップ2aとアウタ
ーリード2cとは、フィルムキャリア2bに形成したイ
ンナーリード(図示せず)により、電気的に接続されて
いる。1は略4角形形状の集積回路基板で、この集積回
路基板1の4辺の集積回路基板エッジ近辺の表面に平行
配設した短冊状の外部接続用の端子パッド1bと、この
端子パッド1bより集積回路基板内側に各々配設しTA
Bパッケージ2のアウターリード2cと電気的に接続す
るアウターリードパッド1cである。ここで、集積回路
基板1上に平行に配設した端子パッド1bとアウターリ
ードパッド1cは、集積回路基板1に付設した配線パタ
ーン(図示せず)により選択的に接続されている。集積
回路基板1上に設けられた各々のTABパッケージ2
は、アウターリード2cを集積回路基板1のエッジ方向
とベアチップ2aを集積回路基板1の内側方向にして、
TABパッケージ2のアウターリード2cとアウターリ
ードパッド1cを各々実装接続する。その際、各々のT
ABパッケージ2に対向して実装接続する2つのTAB
パッケージ2は、これに直交して実装接続する他の2つ
のTABパッケージ2の上に積み重ねて実装接続してい
る。
プをフィルムキャリアに実装した集積回路基板の裏面側
の組み立て斜視図である。図3において、2はTABパ
ッケージで、略長方形状フィルムキャリア2b上にメモ
リーICのベアチップ2aを有し、フィルムキャリア2
bの長辺側の一方にアウターリード2cを備えている。
ここで、TABパッケージ2のベアチップ2aとアウタ
ーリード2cとは、フィルムキャリア2bに形成したイ
ンナーリード(図示せず)により、電気的に接続されて
いる。1は略4角形形状の集積回路基板で、この集積回
路基板1の4辺の集積回路基板エッジ近辺の表面に平行
配設した短冊状の外部接続用の端子パッド1bと、この
端子パッド1bより集積回路基板内側に各々配設しTA
Bパッケージ2のアウターリード2cと電気的に接続す
るアウターリードパッド1cである。ここで、集積回路
基板1上に平行に配設した端子パッド1bとアウターリ
ードパッド1cは、集積回路基板1に付設した配線パタ
ーン(図示せず)により選択的に接続されている。集積
回路基板1上に設けられた各々のTABパッケージ2
は、アウターリード2cを集積回路基板1のエッジ方向
とベアチップ2aを集積回路基板1の内側方向にして、
TABパッケージ2のアウターリード2cとアウターリ
ードパッド1cを各々実装接続する。その際、各々のT
ABパッケージ2に対向して実装接続する2つのTAB
パッケージ2は、これに直交して実装接続する他の2つ
のTABパッケージ2の上に積み重ねて実装接続してい
る。
【0020】図4は、図3のベアチップをフィルムキャ
リアに実装した集積回路基板の裏面にチップコンデンサ
を実装した斜視図である。図4において、3はチップコ
ンデンサで、基板1上の実装したTABパッケージ2の
空領域に実装する。
リアに実装した集積回路基板の裏面にチップコンデンサ
を実装した斜視図である。図4において、3はチップコ
ンデンサで、基板1上の実装したTABパッケージ2の
空領域に実装する。
【0021】以上のように、TABパッケージ2を集積
回路基板1に対向して実装接続し、かつ、この対向して
実装したTABパッケージ2に直交するとともに積み重
ねて他のTABパッケージ2を実装接続することによ
り、従来のワイヤボンディング実装や、フェースダウン
実装がメモリーICのベアチップ面積が大きくなるとそ
れに応じて基板寸法も大きくなるのに対して、小さい基
板で実現することができる。
回路基板1に対向して実装接続し、かつ、この対向して
実装したTABパッケージ2に直交するとともに積み重
ねて他のTABパッケージ2を実装接続することによ
り、従来のワイヤボンディング実装や、フェースダウン
実装がメモリーICのベアチップ面積が大きくなるとそ
れに応じて基板寸法も大きくなるのに対して、小さい基
板で実現することができる。
【0022】なお、本実施例では、正方形の例で説明し
たが、n≧3の正n角形でも同様の効果が得られる。
たが、n≧3の正n角形でも同様の効果が得られる。
【0023】また、TABパッケージ2のベアチップ2
aは、集積回路基板1上に設けた相対するアウターリー
ド2cの距離の1/2よりも短い方がTABパッケージ
2の空領域が広くなり、チップコンデンサ3を実装しや
すくなる。
aは、集積回路基板1上に設けた相対するアウターリー
ド2cの距離の1/2よりも短い方がTABパッケージ
2の空領域が広くなり、チップコンデンサ3を実装しや
すくなる。
【0024】図5は、図1〜図4で説明した集積回路基
板1を使った集積回路装置の斜視図である。図5におい
て、4はリードフレームであり、リード端子5とリード
端子5を支持枠6で支持した構造になっており、集積回
路基板1の端子パッド1bにリードフレーム4のリード
端子5を接続して、集積回路基板1と外部接続可能に集
積回路装置のモジュールを構成している。
板1を使った集積回路装置の斜視図である。図5におい
て、4はリードフレームであり、リード端子5とリード
端子5を支持枠6で支持した構造になっており、集積回
路基板1の端子パッド1bにリードフレーム4のリード
端子5を接続して、集積回路基板1と外部接続可能に集
積回路装置のモジュールを構成している。
【0025】図5において、メモリーICのTABパッ
ケージ2は基板1aの表面と裏面に各々4つのTABパ
ッケージ2を実装しており、リードフレーム4に支持さ
れるリード端子5の4辺の端子列の1つにつき2つのメ
モリーICのTABパッケージ2がアウターリードパッ
ド1cを介して接続されている。
ケージ2は基板1aの表面と裏面に各々4つのTABパ
ッケージ2を実装しており、リードフレーム4に支持さ
れるリード端子5の4辺の端子列の1つにつき2つのメ
モリーICのTABパッケージ2がアウターリードパッ
ド1cを介して接続されている。
【0026】サージ電圧吸収用の面実装型のチップコン
デンサ3は、本実施例では2つのメモリーICのTAB
パッケージについて1つ実装し、集積回路基板1の表面
と裏面に各々2つの面実装型のチップコンデンサを実装
しているが、1つのメモリーICのTABパッケージ2
について1つ実装し、基板1aの表面と裏面に各々4つ
の面実装型のチップコンデンサを実装しても、4つのメ
モリーICのTABパッケージ2について1つ実装し、
基板1aの表面と裏面に各々1つのチップコンデンサ3
を実装しても、8つのメモリーICのTABパッケージ
について1つ実装し基板1aの表面または裏面のどちら
かに1つの面実装型のチップコンデンサを実装してもよ
い。
デンサ3は、本実施例では2つのメモリーICのTAB
パッケージについて1つ実装し、集積回路基板1の表面
と裏面に各々2つの面実装型のチップコンデンサを実装
しているが、1つのメモリーICのTABパッケージ2
について1つ実装し、基板1aの表面と裏面に各々4つ
の面実装型のチップコンデンサを実装しても、4つのメ
モリーICのTABパッケージ2について1つ実装し、
基板1aの表面と裏面に各々1つのチップコンデンサ3
を実装しても、8つのメモリーICのTABパッケージ
について1つ実装し基板1aの表面または裏面のどちら
かに1つの面実装型のチップコンデンサを実装してもよ
い。
【0027】図6(a)〜(d)は図5に示した集積回
路装置の表面、裏面の回路図である。図6(a)〜
(d)において、メモリーIC2−1−aとメモリーI
C2−1−bは端子列5−1に接続され、メモリーIC
2−2−aとメモリーIC2−2−bは端子列5−2に
接続され、メモリーIC2−3−aとメモリーIC2−
3−bは端子列5−3に接続され、メモリーIC2−4
−aとメモリーIC2−4−bは端子列5−1に接続さ
れ、メモリーIC2−1−aとメモリーIC2−2−a
とメモリーIC2−3−aとメモリーIC2−4−aは
基板1aの表面に実装され、メモリーIC2−1−bと
メモリーIC2−2−bとメモリーIC2−3−bとメ
モリーIC2−4−bは基板1aの裏面に実装されてい
る。
路装置の表面、裏面の回路図である。図6(a)〜
(d)において、メモリーIC2−1−aとメモリーI
C2−1−bは端子列5−1に接続され、メモリーIC
2−2−aとメモリーIC2−2−bは端子列5−2に
接続され、メモリーIC2−3−aとメモリーIC2−
3−bは端子列5−3に接続され、メモリーIC2−4
−aとメモリーIC2−4−bは端子列5−1に接続さ
れ、メモリーIC2−1−aとメモリーIC2−2−a
とメモリーIC2−3−aとメモリーIC2−4−aは
基板1aの表面に実装され、メモリーIC2−1−bと
メモリーIC2−2−bとメモリーIC2−3−bとメ
モリーIC2−4−bは基板1aの裏面に実装されてい
る。
【0028】この端子列5−1〜5−4の端子配列は、
電源端子、接地端子、アドレスバス端子群5−1A〜5
−4A、2つのデータ端子群5−1D1〜5−4D1、
5−1D2〜5−4D2、/WE信号、/OE信号の端
子群5−1E〜5−4Eについては同じであるが/RA
S信号の端子、/CAS信号の端子については4辺の端
子列の何れも重複することなく配置されている。
電源端子、接地端子、アドレスバス端子群5−1A〜5
−4A、2つのデータ端子群5−1D1〜5−4D1、
5−1D2〜5−4D2、/WE信号、/OE信号の端
子群5−1E〜5−4Eについては同じであるが/RA
S信号の端子、/CAS信号の端子については4辺の端
子列の何れも重複することなく配置されている。
【0029】すなわち、端子列5−1の/RAS信号お
よび/CAS信号の端子配置は端子列5−2,5−3,
5−4においてはノンコネクトであり、端子列5−2の
/RAS信号および/CAS信号の端子配置は端子列5
−1,5−3,5−4においてはノンコネクトであり、
端子列5−3の/RAS信号および/CAS信号の端子
配置は端子列5−1,5−2,5−4においてはノンコ
ネクトであり、端子列5−4の/RAS信号および/C
AS信号の端子配置は端子列5−1,5−2,5−3に
おいてはノンコネクトである。5−1D1〜5−4D1
は基板1aの表面に実装したメモリーICのデータ端子
群であり、5−1D2〜5−4D2は基板1aの裏面に
実装したメモリーICのデータ端子群であり、電源端
子、接地端子、アドレスバス端子群5−1A〜5−4
A、/WE信号、/OE信号の端子群5−1E〜5−4
Eについては同じであるが、/RAS信号の端子、/C
AS信号の端子については基板1aの表裏両面に実装し
た2つのメモリーICに共通に接続されている。
よび/CAS信号の端子配置は端子列5−2,5−3,
5−4においてはノンコネクトであり、端子列5−2の
/RAS信号および/CAS信号の端子配置は端子列5
−1,5−3,5−4においてはノンコネクトであり、
端子列5−3の/RAS信号および/CAS信号の端子
配置は端子列5−1,5−2,5−4においてはノンコ
ネクトであり、端子列5−4の/RAS信号および/C
AS信号の端子配置は端子列5−1,5−2,5−3に
おいてはノンコネクトである。5−1D1〜5−4D1
は基板1aの表面に実装したメモリーICのデータ端子
群であり、5−1D2〜5−4D2は基板1aの裏面に
実装したメモリーICのデータ端子群であり、電源端
子、接地端子、アドレスバス端子群5−1A〜5−4
A、/WE信号、/OE信号の端子群5−1E〜5−4
Eについては同じであるが、/RAS信号の端子、/C
AS信号の端子については基板1aの表裏両面に実装し
た2つのメモリーICに共通に接続されている。
【0030】このように構成したモジュールは例えばメ
モリーICのデータ幅が4bitであれば各端子列から
8bit幅のデータをアクセスできる。
モリーICのデータ幅が4bitであれば各端子列から
8bit幅のデータをアクセスできる。
【0031】図7(a),(b)にモジュール7を多階
層化に接続する際の端子配列の説明図を示す。
層化に接続する際の端子配列の説明図を示す。
【0032】図7(a)において、モジュール7−1,
7−2,7−3,7−4は同一構造のモジュールであ
り、端子列5−1−1、端子列5−1−2、端子列5−
1−3、端子列5−1−4は同じ端子配列であり、端子
列5−2−1、端子列5−2−2、端子列5−2−3、
端子列5−2−4は同じ端子配列であり、端子列5−3
−1、端子列5−3−2、端子列5−3−3、端子列5
−3−4は同じ端子配列であり、端子列5−4−1、端
子列5−4−2、端子列5−4−3、端子列5−4−4
は同じ端子配列である。
7−2,7−3,7−4は同一構造のモジュールであ
り、端子列5−1−1、端子列5−1−2、端子列5−
1−3、端子列5−1−4は同じ端子配列であり、端子
列5−2−1、端子列5−2−2、端子列5−2−3、
端子列5−2−4は同じ端子配列であり、端子列5−3
−1、端子列5−3−2、端子列5−3−3、端子列5
−3−4は同じ端子配列であり、端子列5−4−1、端
子列5−4−2、端子列5−4−3、端子列5−4−4
は同じ端子配列である。
【0033】モジュールを多層化するに際し、各モジュ
ールを90度ずつ回転させ、図1(b)に示すように端
子列5−1−1、端子列5−2−4、端子列5−3−
3、端子列5−4−2を重ね、端子列5−1−2、端子
列5−2−1、端子列5−3−4、端子列5−4−3を
重ね、端子列5−1−3、端子列5−2−2、端子列5
−3−1、端子列5−4−4を重ね、端子列5−1−
4、端子列5−2−3、端子列5−3−2、端子列5−
4−1を重ねて多層化している。
ールを90度ずつ回転させ、図1(b)に示すように端
子列5−1−1、端子列5−2−4、端子列5−3−
3、端子列5−4−2を重ね、端子列5−1−2、端子
列5−2−1、端子列5−3−4、端子列5−4−3を
重ね、端子列5−1−3、端子列5−2−2、端子列5
−3−1、端子列5−4−4を重ね、端子列5−1−
4、端子列5−2−3、端子列5−3−2、端子列5−
4−1を重ねて多層化している。
【0034】これにより、多層化した各モジュールの電
源端子、接地端子、アドレスバス端子群5−1A〜5−
4A、データバス端子群5−1D1〜5−4D1,5−
1D2〜5−4D2、/WE信号、/OE信号の端子群
5−1E〜5−4Eは共通接続され、/RAS信号の端
子、/CAS信号の端子については4つのモジュールに
実装したメモリーICのいずれにも重複することなく接
続される。
源端子、接地端子、アドレスバス端子群5−1A〜5−
4A、データバス端子群5−1D1〜5−4D1,5−
1D2〜5−4D2、/WE信号、/OE信号の端子群
5−1E〜5−4Eは共通接続され、/RAS信号の端
子、/CAS信号の端子については4つのモジュールに
実装したメモリーICのいずれにも重複することなく接
続される。
【0035】図8に積層して多階層化するモジュールと
積層されるモジュールのリードフレームの断面図を示
す。
積層されるモジュールのリードフレームの断面図を示
す。
【0036】図8において、7−1,7−2,7−3,
・・7−nは積層して多階層化するモジュールであり、
支持枠6で支持するリード端子5の形状は積層されるモ
ジュール7−1のリード端子5−1と、積層して多層化
するモジュール7−2,7−3,・・7−nのリード端
子5−2,5−3,・・5−nと異なり、リード端子5
−2,5−3,・・5−nの断面形状はコの字形になっ
ており、モジュールを積層する際、下層のモジュールと
電気的接続をする。
・・7−nは積層して多階層化するモジュールであり、
支持枠6で支持するリード端子5の形状は積層されるモ
ジュール7−1のリード端子5−1と、積層して多層化
するモジュール7−2,7−3,・・7−nのリード端
子5−2,5−3,・・5−nと異なり、リード端子5
−2,5−3,・・5−nの断面形状はコの字形になっ
ており、モジュールを積層する際、下層のモジュールと
電気的接続をする。
【0037】このような構造のため、図7に示すよう
な、多層化した各モジュールの電源端子、接地端子、ア
ドレスバス端子群5−1A〜5−4A、データバス端子
群5−1D1〜5−4D1,5−1D2〜5−4D2、
/WE信号、/OE信号の端子群5−1E〜5−4Eが
共通接続され、/RAS信号の端子、/CAS信号の端
子については4つのモジュールに実装したメモリーIC
のいずれにも重複することなく接続することができる。
な、多層化した各モジュールの電源端子、接地端子、ア
ドレスバス端子群5−1A〜5−4A、データバス端子
群5−1D1〜5−4D1,5−1D2〜5−4D2、
/WE信号、/OE信号の端子群5−1E〜5−4Eが
共通接続され、/RAS信号の端子、/CAS信号の端
子については4つのモジュールに実装したメモリーIC
のいずれにも重複することなく接続することができる。
【0038】このようにして構成した多階層化メモリー
モジュールは図12に示した従来の内部メモりー回路の
回路図と等価でありながら、終端までの配線長を短くす
ることができるので、配線インピーダンスが小さく、信
号の伝搬特性の劣化の無い内部メモりー回路を構成でき
る。
モジュールは図12に示した従来の内部メモりー回路の
回路図と等価でありながら、終端までの配線長を短くす
ることができるので、配線インピーダンスが小さく、信
号の伝搬特性の劣化の無い内部メモりー回路を構成でき
る。
【0039】図9に抵抗モジュールの回路図を示す。図
9(a)は、メモリーモジュールのアドレスバス端子群
5−1A〜5−4A、データバス端子群5−1D1〜5
−4D1,5−1D2〜5−4D2、/WE信号、/O
E信号の端子群5−1E〜5−4E、/RAS信号の端
子、/CAS信号の端子群50にプルアップ抵抗R1、
プルダウン抵抗R2を各々電源端子と接地端子の間に接
続する抵抗モジュールの回路図であり、図9(b)は、
端子群50にプルアップ抵抗R1を電源端子の間に接続
する抵抗モジュールの回路図であり、また図9(c)
は、端子群50にプルダウン抵抗R2を接地端子の間に
接続する抵抗モジュールの回路図である。
9(a)は、メモリーモジュールのアドレスバス端子群
5−1A〜5−4A、データバス端子群5−1D1〜5
−4D1,5−1D2〜5−4D2、/WE信号、/O
E信号の端子群5−1E〜5−4E、/RAS信号の端
子、/CAS信号の端子群50にプルアップ抵抗R1、
プルダウン抵抗R2を各々電源端子と接地端子の間に接
続する抵抗モジュールの回路図であり、図9(b)は、
端子群50にプルアップ抵抗R1を電源端子の間に接続
する抵抗モジュールの回路図であり、また図9(c)
は、端子群50にプルダウン抵抗R2を接地端子の間に
接続する抵抗モジュールの回路図である。
【0040】この複数個の抵抗を基板に実装した抵抗モ
ジュールを多階層化メモリーモジュールの最上層に、さ
らに積層して配置することで、配線の終端に終端抵抗を
構成できるので、信号の反射がなくなり、タイムマージ
ンを小さく設定でき、ディジタルコンピュータの処理速
度をより高速化できる。
ジュールを多階層化メモリーモジュールの最上層に、さ
らに積層して配置することで、配線の終端に終端抵抗を
構成できるので、信号の反射がなくなり、タイムマージ
ンを小さく設定でき、ディジタルコンピュータの処理速
度をより高速化できる。
【0041】図10にバスラインを拡張したモジュール
を多階層化に接続する端子配列の説明図を示す。
を多階層化に接続する端子配列の説明図を示す。
【0042】多階層モジュール7を構成するモジュール
7−1,7−2,7−3,7−4は同一構造のモジュー
ルであり、各モジュールの端子列5−1−1、端子列5
−2−1、端子列5−3−1、端子列5−4−1は同じ
端子配列であり、同じく端子列5−1−2、端子列5−
2−2、端子列5−3−2、端子列5−4−2は同じ端
子配列であり、同じく端子列5−1−3、端子列5−2
−3、端子列5−3−3、端子列5−4−3は同じ端子
配列であり、同じく端子列5−1−4、端子列5−2−
4、端子列5−3−4、端子列5−4−4は同じ端子配
列である。
7−1,7−2,7−3,7−4は同一構造のモジュー
ルであり、各モジュールの端子列5−1−1、端子列5
−2−1、端子列5−3−1、端子列5−4−1は同じ
端子配列であり、同じく端子列5−1−2、端子列5−
2−2、端子列5−3−2、端子列5−4−2は同じ端
子配列であり、同じく端子列5−1−3、端子列5−2
−3、端子列5−3−3、端子列5−4−3は同じ端子
配列であり、同じく端子列5−1−4、端子列5−2−
4、端子列5−3−4、端子列5−4−4は同じ端子配
列である。
【0043】モジュール7−n(nは1〜4)の端子列
5−n−1〜5−n−4の端子配列は、電源端子、接地
端子、アドレスバス端子群5−n−1A〜5−n−4
A、データバス端子群5−n−1D1〜5−n−4D
2、/WE信号、/OE信号の端子群5−n−1E〜5
−n−4Eについては同じであるが、/RAS信号の端
子、/CAS信号の端子については4辺の端子列のいず
れも重複することなく配置されている。
5−n−1〜5−n−4の端子配列は、電源端子、接地
端子、アドレスバス端子群5−n−1A〜5−n−4
A、データバス端子群5−n−1D1〜5−n−4D
2、/WE信号、/OE信号の端子群5−n−1E〜5
−n−4Eについては同じであるが、/RAS信号の端
子、/CAS信号の端子については4辺の端子列のいず
れも重複することなく配置されている。
【0044】すなわち、端子列5−n−1の/RAS信
号および/CAS信号の端子位置は端子列5−n−2,
5−n−3,5−n−4においてはノンコネクト(N
C)であり、端子列5−n−2の/RAS信号および/
CAS信号の端子位置は端子列5−n−1,5−n−
3,5−n−4においてはノンコネクト(NC)であ
り、端子列5−n−3の/RAS信号および/CAS信
号の端子位置は端子列5−n−1,5−n−2,5−n
−4においてはノンコネクト(NC)であり、端子列5
−n−4の/RAS信号および/CAS信号の端子位置
は端子列5−n−1,5−n−2,5−n−3において
はノンコネクト(NC)である。
号および/CAS信号の端子位置は端子列5−n−2,
5−n−3,5−n−4においてはノンコネクト(N
C)であり、端子列5−n−2の/RAS信号および/
CAS信号の端子位置は端子列5−n−1,5−n−
3,5−n−4においてはノンコネクト(NC)であ
り、端子列5−n−3の/RAS信号および/CAS信
号の端子位置は端子列5−n−1,5−n−2,5−n
−4においてはノンコネクト(NC)であり、端子列5
−n−4の/RAS信号および/CAS信号の端子位置
は端子列5−n−1,5−n−2,5−n−3において
はノンコネクト(NC)である。
【0045】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、短い配線
長で内部メモリー回路が構成できるため、配線を伝搬中
の信号波形の変形を最小限に押さえられることができ
る。
長で内部メモリー回路が構成できるため、配線を伝搬中
の信号波形の変形を最小限に押さえられることができ
る。
【0046】また、多階層化メモリーモジュールに抵抗
モジュールを積層接続することにより、配線終端のイン
ピーダンスの不整合による信号の反射がなくなるので、
ディジタルコンピュータの基本性能である処理速度を上
げることができるものである。
モジュールを積層接続することにより、配線終端のイン
ピーダンスの不整合による信号の反射がなくなるので、
ディジタルコンピュータの基本性能である処理速度を上
げることができるものである。
【0047】さらに、メモリーICチップが大きくてバ
ンプを使ったフェースダウン・ボンディングや、ダイボ
ンディングとワイヤーボンディングによる実装で行う集
積回路装置よりも小さい基板サイズで実装でき小型・高
密度の集積回路装置が構成できる。
ンプを使ったフェースダウン・ボンディングや、ダイボ
ンディングとワイヤーボンディングによる実装で行う集
積回路装置よりも小さい基板サイズで実装でき小型・高
密度の集積回路装置が構成できる。
【図1】本発明の一実施例における集積回路装置のベア
チップをフィルムキャリアに実装した集積回路基板の表
面側の組み立て斜視図
チップをフィルムキャリアに実装した集積回路基板の表
面側の組み立て斜視図
【図2】同集積回路装置のベアチップをフィルムキャリ
アに実装した集積回路基板の表面側にチップコンデンサ
を実装した斜視図
アに実装した集積回路基板の表面側にチップコンデンサ
を実装した斜視図
【図3】同集積回路装置のベアチップをフィルムキャリ
アに実装した集積回路基板の表面側の組み立て斜視図
アに実装した集積回路基板の表面側の組み立て斜視図
【図4】同集積回路装置のベアチップをフィルムキャリ
アに実装した集積回路基板の裏面側にチップコンデンサ
を実装した斜視図
アに実装した集積回路基板の裏面側にチップコンデンサ
を実装した斜視図
【図5】同集積回路装置の斜視図
【図6】同集積回路装置の回路図
【図7】同集積回路装置の端子配列の説明図
【図8】同集積回路装置の要部のリードフレームの断面
図
図
【図9】同抵抗モジュールの回路図
【図10】同バスラインを拡張したモジュールを多階層
化に接続する端子配列の説明図
化に接続する端子配列の説明図
【図11】従来の内部メモリーの回路図
【図12】同内部メモリー回路をプリント基板にメモリ
ーICを半田付け実装して構成した状態を示す図
ーICを半田付け実装して構成した状態を示す図
1 集積回路基板 1b 端子パッド 1c アウターリードパッド 2 TABパッケージ 2a ベアチップ 2b フィルムキャリア 2c アウターリード 3 チップコンデンサ 4 リードフレーム 5 リード端子 6 支持枠
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 安保 武雄 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 古川 仁信 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 岡本 泉 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 竹田 和男 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 井田 秀二 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内
Claims (9)
- 【請求項1】 フィルムキャリア上にメモリーICのベ
アチップを有しかつ前記フィルムキャリアのどちらか一
方に前記ベアチップと電気的に接続されたアウターリー
ドとを備えたTABパッケージと、角型形状の基板と、
この基板のエッジ近辺の表面に配設した端子パッドと、
この端子パッドの前記基板実装面の中心側に配設しかつ
前記TABパッケージの前記アウターリードとを電気的
に接続したアウターリードパッドからなる集積回路装
置。 - 【請求項2】 基板上のアウターリードパッドの対向す
る位置に電気的に接続したTABパッケージのアウター
リードと、前記アウターリードパッドと直交するアウタ
ーリードパッドに前記TABパッケージに積み重ねて他
のTABパッケージのアウターリードを電気的に接続し
てなる請求項1記載の集積回路装置。 - 【請求項3】 基板の両面に端子パッドとアウターリー
ドパッドとを備え、前記アウターリードパッドに各々T
ABパッケージのアウターリードを接続してなる請求項
1記載の集積回路装置。 - 【請求項4】 基板は正n角形(n≧3)である請求項
1記載の集積回路装置。 - 【請求項5】 TABパッケージのベアチップは、基板
上に設けた相対するアウターリードパッドの距離の1/
2よりも短い長さである請求項1記載の集積回路装置。 - 【請求項6】 基板上に設けた各々のアウターリードパ
ッド間に面実装型コンデンサを設けてなる請求項1記載
の集積回路装置。 - 【請求項7】 基板を支持する支持枠と、この支持枠に
基板の端子パッドに電気的に接続するリード端子とから
なる請求項1記載の集積回路装置。 - 【請求項8】 TABパッケージアウターリードに電気
的に接続された端子のち少なくとも1つを各TABパッ
ケージ毎に引き出し位置をずらして配置した請求項7記
載の集積回路装置。 - 【請求項9】 支持枠に設けられたリード端子の特定の
端子が同一位置に配置されないように回転するとともに
積み重ねてなる請求項7記載の集積回路装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5284801A JPH07142673A (ja) | 1993-11-15 | 1993-11-15 | 集積回路装置 |
US08/222,487 US5490041A (en) | 1993-11-15 | 1994-04-04 | Semiconductor integrated circuit module and a semiconductor integrated circuit device stacking the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5284801A JPH07142673A (ja) | 1993-11-15 | 1993-11-15 | 集積回路装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07142673A true JPH07142673A (ja) | 1995-06-02 |
Family
ID=17683195
Family Applications (1)
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JP5284801A Pending JPH07142673A (ja) | 1993-11-15 | 1993-11-15 | 集積回路装置 |
Country Status (2)
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US (1) | US5490041A (ja) |
JP (1) | JPH07142673A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100270756B1 (ko) * | 1997-06-19 | 2000-11-01 | 다니구찌 이찌로오 | 반도체장치 |
US7064443B2 (en) | 2003-03-27 | 2006-06-20 | Seiko Epson Corporation | Semiconductor device having a plurality of stacked semiconductor chips with positions of chip-selecting terminals being different from each other |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5652462A (en) * | 1993-04-05 | 1997-07-29 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Multilevel semiconductor integrated circuit device |
KR0158765B1 (ko) * | 1994-09-21 | 1999-02-01 | 모리사다 요이치 | 반도체 집적회로 |
JP3589726B2 (ja) * | 1995-01-31 | 2004-11-17 | 株式会社ルネサスソリューションズ | エミュレータプローブ |
US6016256A (en) * | 1997-11-14 | 2000-01-18 | The Panda Project | Multi-chip module having interconnect dies |
US6049467A (en) * | 1998-08-31 | 2000-04-11 | Unisys Corporation | Stackable high density RAM modules |
US6849480B1 (en) | 1999-05-07 | 2005-02-01 | Seagate Technology Llc | Surface mount IC stacking method and device |
JP3514221B2 (ja) * | 2000-08-10 | 2004-03-31 | 株式会社デンソー | プリント配線基板 |
JP3839267B2 (ja) * | 2001-03-08 | 2006-11-01 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体装置及びそれを用いた通信端末装置 |
US7098541B2 (en) * | 2003-05-19 | 2006-08-29 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Interconnect method for directly connected stacked integrated circuits |
US6933209B2 (en) * | 2003-12-24 | 2005-08-23 | Super Talent Electronics Inc. | Stacking memory chips using flat lead-frame with breakaway insertion pins and pin-to-pin bridges |
JP4754235B2 (ja) * | 2005-02-21 | 2011-08-24 | Ntn株式会社 | 回転伝達装置 |
JP4237160B2 (ja) * | 2005-04-08 | 2009-03-11 | エルピーダメモリ株式会社 | 積層型半導体装置 |
US7258552B2 (en) * | 2005-07-05 | 2007-08-21 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Socket for holding a circuit board module |
US20080160800A1 (en) * | 2006-12-29 | 2008-07-03 | Wen Qi Dai | Pin with shape memory alloy |
JP4372189B2 (ja) | 2007-12-27 | 2009-11-25 | 株式会社東芝 | 情報処理装置及び不揮発性半導体メモリドライブ |
KR20090070406A (ko) * | 2007-12-27 | 2009-07-01 | 삼성전자주식회사 | 피씨비 스트립과 그의 어셈블리 장치와 방법 |
US8947887B2 (en) * | 2009-02-23 | 2015-02-03 | Freescale Semiconductor, Inc. | Package assembly and method of tuning a natural resonant frequency of a package |
JP5499696B2 (ja) * | 2009-12-25 | 2014-05-21 | 富士通セミコンダクター株式会社 | 半導体装置及び実装構造 |
US9093445B2 (en) | 2011-08-26 | 2015-07-28 | International Business Machines Corporation | Packaging identical chips in a stacked structure |
US10993323B2 (en) | 2019-01-14 | 2021-04-27 | Cody Elsing | Stackable printed circuit board |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3340439A (en) * | 1965-07-02 | 1967-09-05 | Amp Inc | Multi-contact connector |
DE3586893D1 (de) * | 1984-12-28 | 1993-01-21 | Micro Co Ltd | Stapelverfahren fuer gedruckte schaltungen. |
KR970003915B1 (ko) * | 1987-06-24 | 1997-03-22 | 미다 가쓰시게 | 반도체 기억장치 및 그것을 사용한 반도체 메모리 모듈 |
JPH0828393B2 (ja) * | 1987-12-25 | 1996-03-21 | 株式会社日立製作所 | 電子装置 |
EP0339154B1 (en) * | 1988-04-26 | 1994-11-17 | Citizen Watch Co. Ltd. | Memory card |
US4996583A (en) * | 1989-02-15 | 1991-02-26 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Stack type semiconductor package |
JP2737360B2 (ja) * | 1990-05-22 | 1998-04-08 | 松下電器産業株式会社 | 実装構造体 |
JPH04214695A (ja) * | 1990-12-13 | 1992-08-05 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
JPH0514427A (ja) * | 1991-07-05 | 1993-01-22 | Nec Corp | 光ヘテロダインfskデユアルフイルタ検波装置 |
EP0526992B1 (en) * | 1991-07-25 | 1996-05-01 | Ncr International Inc. | Multilayer carrier for mounting an integrated circuit and method of making the same |
TW212261B (en) * | 1992-03-09 | 1993-09-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Electronic circuit device and manufacturing method |
-
1993
- 1993-11-15 JP JP5284801A patent/JPH07142673A/ja active Pending
-
1994
- 1994-04-04 US US08/222,487 patent/US5490041A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100270756B1 (ko) * | 1997-06-19 | 2000-11-01 | 다니구찌 이찌로오 | 반도체장치 |
US6483189B1 (en) | 1997-06-19 | 2002-11-19 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor device |
US7064443B2 (en) | 2003-03-27 | 2006-06-20 | Seiko Epson Corporation | Semiconductor device having a plurality of stacked semiconductor chips with positions of chip-selecting terminals being different from each other |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5490041A (en) | 1996-02-06 |
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